JPH11106975A - 水酸化第4級アンモニウムの製造方法 - Google Patents
水酸化第4級アンモニウムの製造方法Info
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- JPH11106975A JPH11106975A JP27289097A JP27289097A JPH11106975A JP H11106975 A JPH11106975 A JP H11106975A JP 27289097 A JP27289097 A JP 27289097A JP 27289097 A JP27289097 A JP 27289097A JP H11106975 A JPH11106975 A JP H11106975A
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】長期間、安定的に水酸化第4級アンモニウム水
溶液を製造する方法を開発すること。 【解決手段】陽極と陰極との間に、陽極側から順に、1
枚以上の陽イオン交換膜、1枚以上の陰イオン交換膜、
1枚以上の陽イオン交換膜を配することにより、陽極が
存在する陽極室、陽極側が陽イオン交換膜で仕切られ陰
極側が陰イオン交換膜で仕切られた酸室、陽極側が陰イ
オン交換膜で仕切られ陰極側が陽イオン交換膜で仕切ら
れた原料室、陰極が存在する陰極室、並びに前記同種イ
オン交換膜を複数枚用いた場合に2枚の陽イオン交換膜
又は陰イオン交換膜によりそれぞれ仕切られた中間室を
有する電解槽を用い、原料室にハロゲン化第4級アンモ
ニウム水溶液を供給して電気分解を行い、陰極室に水酸
化第4級アンモニウムを生成させる水酸化第4級アンモ
ニウムの製造方法において、陽極室、酸室、及び該陽極
室と酸室との間に位置する中間室のうちの一室以上の室
液を、曝気処理等の遊離ハロゲン類の除去処理を施しな
がら循環供給させることを特徴とする水酸化第4級アン
モニウムの製造方法。
溶液を製造する方法を開発すること。 【解決手段】陽極と陰極との間に、陽極側から順に、1
枚以上の陽イオン交換膜、1枚以上の陰イオン交換膜、
1枚以上の陽イオン交換膜を配することにより、陽極が
存在する陽極室、陽極側が陽イオン交換膜で仕切られ陰
極側が陰イオン交換膜で仕切られた酸室、陽極側が陰イ
オン交換膜で仕切られ陰極側が陽イオン交換膜で仕切ら
れた原料室、陰極が存在する陰極室、並びに前記同種イ
オン交換膜を複数枚用いた場合に2枚の陽イオン交換膜
又は陰イオン交換膜によりそれぞれ仕切られた中間室を
有する電解槽を用い、原料室にハロゲン化第4級アンモ
ニウム水溶液を供給して電気分解を行い、陰極室に水酸
化第4級アンモニウムを生成させる水酸化第4級アンモ
ニウムの製造方法において、陽極室、酸室、及び該陽極
室と酸室との間に位置する中間室のうちの一室以上の室
液を、曝気処理等の遊離ハロゲン類の除去処理を施しな
がら循環供給させることを特徴とする水酸化第4級アン
モニウムの製造方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、水酸化第4級アン
モニウムの製造方法、詳しくは第4級アンモニウム塩を
イオン交換膜を介して電気分解し、高純度の水酸化第4
級アンモニウム水溶液を安定して製造する方法に関する
ものである。
モニウムの製造方法、詳しくは第4級アンモニウム塩を
イオン交換膜を介して電気分解し、高純度の水酸化第4
級アンモニウム水溶液を安定して製造する方法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】水酸化第4級アンモニウムは、相間移動
触媒をはじめとして、非水溶媒滴定における塩基の標準
液、有機系アルカリ剤等の有機の強塩基として有用であ
る。また、LSIの製造における半導体基板の洗浄、食
刻、ポジ型レジストの現像液に利用されている。
触媒をはじめとして、非水溶媒滴定における塩基の標準
液、有機系アルカリ剤等の有機の強塩基として有用であ
る。また、LSIの製造における半導体基板の洗浄、食
刻、ポジ型レジストの現像液に利用されている。
【0003】従来、水酸化第4級アンモニウムの製造
は、原料のハロゲン化第4級アンモニウムをイオン交換
膜を介して電気分解する方法が公知である。そのうち、
特開平1−108388号公報に記載されるような陰極
と陽極との間に、陽極側から順に、陽イオン交換膜、陰
イオン交換膜、陽イオン交換膜を配し、陽極が存在する
陽極室、陽極側が陽イオン交換膜で仕切られ陰極側が陰
イオン交換膜で仕切られた酸室、陽極側が陰イオン交換
膜で仕切られ陰極側が陽イオン交換膜で仕切られた原料
室、及び陰極が存在する陰極室が形成された電解槽を用
い、その原料室にハロゲン化第4級アンモニウム水溶液
を供給して電気分解を行う方法は、高純度の水酸化第4
級アンモニウムが水溶液として得られ、しかも上記陰イ
オン交換膜がある程度の期間の運転なら劣化せず使用で
き好適である。
は、原料のハロゲン化第4級アンモニウムをイオン交換
膜を介して電気分解する方法が公知である。そのうち、
特開平1−108388号公報に記載されるような陰極
と陽極との間に、陽極側から順に、陽イオン交換膜、陰
イオン交換膜、陽イオン交換膜を配し、陽極が存在する
陽極室、陽極側が陽イオン交換膜で仕切られ陰極側が陰
イオン交換膜で仕切られた酸室、陽極側が陰イオン交換
膜で仕切られ陰極側が陽イオン交換膜で仕切られた原料
室、及び陰極が存在する陰極室が形成された電解槽を用
い、その原料室にハロゲン化第4級アンモニウム水溶液
を供給して電気分解を行う方法は、高純度の水酸化第4
級アンモニウムが水溶液として得られ、しかも上記陰イ
オン交換膜がある程度の期間の運転なら劣化せず使用で
き好適である。
【0004】即ち、上記方法では、原料室に供給された
ハロゲン化第4級アンモニウムは、塩を構成する第4級
アンモニウムイオンと陰イオンに分解され、それぞれが
陽イオン交換膜または陰イオン交換膜を透過する結果、
前記電解槽における陰極室に水酸化第4級アンモニウム
が生成し、且つ酸室に酸が生成する。
ハロゲン化第4級アンモニウムは、塩を構成する第4級
アンモニウムイオンと陰イオンに分解され、それぞれが
陽イオン交換膜または陰イオン交換膜を透過する結果、
前記電解槽における陰極室に水酸化第4級アンモニウム
が生成し、且つ酸室に酸が生成する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記のような電気分解
による水酸化第4級アンモニウムの製造方法において、
陽極室には、該室が陽イオン交換膜により隣接する酸室
と仕切られているにも関わらず、酸室よりハロゲン化物
イオンが浸透してくる。そして、この浸透したハロゲン
化物イオンは、陽極室で酸化されてハロゲンや次亜ハロ
ゲン酸類の遊離ハロゲン類になり、該陽極室液に溶存す
る。そうして、この溶存した遊離ハロゲン類は、一部が
再び陽イオン交換膜を透過し、酸室に侵入する。しかし
て、遊離ハロゲン類は酸化性の強い物質であり、一方、
陰イオン交換膜は、一般的にこうした酸化性物質により
劣化し易い性状にある。従って、かかる製造方法でも、
室液を循環方式により供給すると、酸室内の遊離ハロゲ
ン類の濃度が高まり、運転が長期間に及ぶと該陰イオン
交換膜が除々に劣化する問題が発生する。
による水酸化第4級アンモニウムの製造方法において、
陽極室には、該室が陽イオン交換膜により隣接する酸室
と仕切られているにも関わらず、酸室よりハロゲン化物
イオンが浸透してくる。そして、この浸透したハロゲン
化物イオンは、陽極室で酸化されてハロゲンや次亜ハロ
ゲン酸類の遊離ハロゲン類になり、該陽極室液に溶存す
る。そうして、この溶存した遊離ハロゲン類は、一部が
再び陽イオン交換膜を透過し、酸室に侵入する。しかし
て、遊離ハロゲン類は酸化性の強い物質であり、一方、
陰イオン交換膜は、一般的にこうした酸化性物質により
劣化し易い性状にある。従って、かかる製造方法でも、
室液を循環方式により供給すると、酸室内の遊離ハロゲ
ン類の濃度が高まり、運転が長期間に及ぶと該陰イオン
交換膜が除々に劣化する問題が発生する。
【0006】このようにして陰イオン交換膜が劣化した
場合、陰極側の陽イオン交換膜を透過する陽イオン量
と、陰イオン交換膜を透過する陰イオン量のバランスが
とれなくなり、運転に異常を来す。従って、長期間にお
いて安定的に水酸化第4級アンモニウム水溶液を製造す
る方法を開発することが望まれていた。
場合、陰極側の陽イオン交換膜を透過する陽イオン量
と、陰イオン交換膜を透過する陰イオン量のバランスが
とれなくなり、運転に異常を来す。従って、長期間にお
いて安定的に水酸化第4級アンモニウム水溶液を製造す
る方法を開発することが望まれていた。
【0007】
【課題を解決する手段】本発明者らは上記した問題に鑑
み、鋭意研究を続けてきた。その結果、水酸化第4級ア
ンモニウム水溶液の製造において、陽極室や酸室の室液
に対して遊離ハロゲン類の除去処理を施すことにより、
上記の問題が解決されることを見いだし、本発明を完成
するに至った。
み、鋭意研究を続けてきた。その結果、水酸化第4級ア
ンモニウム水溶液の製造において、陽極室や酸室の室液
に対して遊離ハロゲン類の除去処理を施すことにより、
上記の問題が解決されることを見いだし、本発明を完成
するに至った。
【0008】即ち、本発明は、陽極と陰極との間に、陽
極側から順に、少なくとも1枚以上の陽イオン交換膜、
少なくとも1枚以上の陰イオン交換膜、少なくとも1枚
以上の陽イオン交換膜を配することにより、陽極が存在
する陽極室、陽極側が陽イオン交換膜で仕切られ陰極側
が陰イオン交換膜で仕切られた酸室、陽極側が陰イオン
交換膜で仕切られ陰極側が陽イオン交換膜で仕切られた
原料室、陰極が存在する陰極室、並びに前記同種イオン
交換膜を複数枚用いた場合に2枚の陽イオン交換膜また
は陰イオン交換膜によりそれぞれ仕切られた中間室を有
する電解槽を用い、原料室にハロゲン化第4級アンモニ
ウム水溶液を供給して電気分解を行い、陰極室に水酸化
第4級アンモニウムを生成させる水酸化第4級アンモニ
ウムの製造方法において、陽極室、酸室、および該陽極
室と酸室との間に複数枚の陽イオン交換膜を用いた場合
における該中間室から選ばれる少なくとも一室の室液
を、遊離ハロゲン類の除去処理を施しながら循環供給さ
せることを特徴とする水酸化第4級アンモニウムの製造
方法である。
極側から順に、少なくとも1枚以上の陽イオン交換膜、
少なくとも1枚以上の陰イオン交換膜、少なくとも1枚
以上の陽イオン交換膜を配することにより、陽極が存在
する陽極室、陽極側が陽イオン交換膜で仕切られ陰極側
が陰イオン交換膜で仕切られた酸室、陽極側が陰イオン
交換膜で仕切られ陰極側が陽イオン交換膜で仕切られた
原料室、陰極が存在する陰極室、並びに前記同種イオン
交換膜を複数枚用いた場合に2枚の陽イオン交換膜また
は陰イオン交換膜によりそれぞれ仕切られた中間室を有
する電解槽を用い、原料室にハロゲン化第4級アンモニ
ウム水溶液を供給して電気分解を行い、陰極室に水酸化
第4級アンモニウムを生成させる水酸化第4級アンモニ
ウムの製造方法において、陽極室、酸室、および該陽極
室と酸室との間に複数枚の陽イオン交換膜を用いた場合
における該中間室から選ばれる少なくとも一室の室液
を、遊離ハロゲン類の除去処理を施しながら循環供給さ
せることを特徴とする水酸化第4級アンモニウムの製造
方法である。
【0009】本発明の製造方法において使用する電解槽
は、中間室が存在しない場合を、図1の概略図に例示す
るように、陽極1と陰極2との間に、陽極側から順に、
陽イオン交換膜3、陰イオン交換膜4、陽イオン交換膜
5を配したもの等である。上記電解槽では、陽極側が陰
イオン交換膜4で仕切られ陰極側が陽イオン交換膜5で
仕切られた室がハロゲン化第4級アンモニウム水溶液を
供給する原料室8となり、陰極2が存在する陰極室9が
水酸化第4級アンモニウムの生成室になる。
は、中間室が存在しない場合を、図1の概略図に例示す
るように、陽極1と陰極2との間に、陽極側から順に、
陽イオン交換膜3、陰イオン交換膜4、陽イオン交換膜
5を配したもの等である。上記電解槽では、陽極側が陰
イオン交換膜4で仕切られ陰極側が陽イオン交換膜5で
仕切られた室がハロゲン化第4級アンモニウム水溶液を
供給する原料室8となり、陰極2が存在する陰極室9が
水酸化第4級アンモニウムの生成室になる。
【0010】また、陽極側が陽イオン交換膜3で仕切ら
れ陰極側が陰イオン交換膜4で仕切られた室は酸が生成
する酸室7になる。このように、原料室と陽極室との間
に酸室を形成させることにより、陽極液に溶解する遊離
ハロゲン類が直接的に、上記陰イオン交換膜4に接触す
ることが防止できるようになる。
れ陰極側が陰イオン交換膜4で仕切られた室は酸が生成
する酸室7になる。このように、原料室と陽極室との間
に酸室を形成させることにより、陽極液に溶解する遊離
ハロゲン類が直接的に、上記陰イオン交換膜4に接触す
ることが防止できるようになる。
【0011】上記電解槽において、陰極室9には、水酸
化第4級アンモニウム水溶液が、原料室8には、ハロゲ
ン化第4級アンモニウム水溶液が、酸室7には、ハロゲ
ン化第4級アンモニウムを構成する陰イオンと水素イオ
ンからなる酸水溶液(以後、酸室液と記載することがあ
る)が、陽極室6には、硫酸、硝酸、塩酸等の酸水溶液
(以後、陽極液と記載することがある)が供給される。
化第4級アンモニウム水溶液が、原料室8には、ハロゲ
ン化第4級アンモニウム水溶液が、酸室7には、ハロゲ
ン化第4級アンモニウムを構成する陰イオンと水素イオ
ンからなる酸水溶液(以後、酸室液と記載することがあ
る)が、陽極室6には、硫酸、硝酸、塩酸等の酸水溶液
(以後、陽極液と記載することがある)が供給される。
【0012】なお、本発明で使用する電解槽では、上記
基本的な室の構成の他に、陽極と酸室を構成する陽イオ
ン交換膜との間にさらに1枚以上の陽イオン交換膜を設
けたり、酸室を構成する陽イオン交換膜と原料室を構成
する陰イオン交換膜との間にさらに1枚以上の陰イオン
交換膜を設けたり、原料室を構成する陽イオン交換膜と
陰極との間にさらに1枚以上の陽イオン交換膜を設けた
りして、各中間室を形成させても良い。その場合、これ
ら中間室は、原料室液中のハロゲン化第4級アンモニウ
ムや陰極室液中の遊離ハロゲン類等が、原料室や陰極室
から拡散により各イオン交換膜を透過して隣接する他の
室へ透過することを防止する機能を発揮する。また、こ
うした態様において、陽極室と酸室との間に形成される
中間室には酸水溶液が供給され、酸室と原料室との間に
形成される中間室には酸水溶液が供給され、原料室と陰
極室との間に形成される中間室には水酸化第4級アンモ
ニウム水溶液が供給される。
基本的な室の構成の他に、陽極と酸室を構成する陽イオ
ン交換膜との間にさらに1枚以上の陽イオン交換膜を設
けたり、酸室を構成する陽イオン交換膜と原料室を構成
する陰イオン交換膜との間にさらに1枚以上の陰イオン
交換膜を設けたり、原料室を構成する陽イオン交換膜と
陰極との間にさらに1枚以上の陽イオン交換膜を設けた
りして、各中間室を形成させても良い。その場合、これ
ら中間室は、原料室液中のハロゲン化第4級アンモニウ
ムや陰極室液中の遊離ハロゲン類等が、原料室や陰極室
から拡散により各イオン交換膜を透過して隣接する他の
室へ透過することを防止する機能を発揮する。また、こ
うした態様において、陽極室と酸室との間に形成される
中間室には酸水溶液が供給され、酸室と原料室との間に
形成される中間室には酸水溶液が供給され、原料室と陰
極室との間に形成される中間室には水酸化第4級アンモ
ニウム水溶液が供給される。
【0013】本発明において、原料として供給するハロ
ゲン化第4級アンモニウムは、一般式〔R4N〕X(式
中、Rはそれぞれ一般に炭素数1から4のアルキル基、
ヒドロキシアルキル基、アリール基を示し、Xはフッ
素、塩素、臭素、ヨウ素から選ばれるハロゲンを示す)
にて表わされる有機塩である。具体的には例えばふっ化
テトラメチルアンモニウム、塩化テトラメチルアンモニ
ウム、臭化テトラメチルアンモニウム、よう化テトラメ
チルアンモニウム、ふっ化テトラエチルアンモニウム、
塩化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラエチルアン
モニウム、よう化テトラエチルアンモニウム、ふっ化テ
トラブチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウ
ム、臭化テトラブチルアンモニウム、よう化テトラブチ
ルアンモニウム等のハロゲン化テトラアルキルアンモニ
ウム類、ふっ化テトラフェニルアンモニウム、塩化テト
ラフェニルアンモニウム、臭化テトラフェニルアンモニ
ウム、よう化テトラフェニルアンモニウム等のハロゲン
化テトラアリールアンモニウム類、ふっ化テトラヒドロ
キシメチルアンモニウム、塩化テトラヒドロキシメチル
アンモニウム、臭化テトラヒドロキシメチルアンモニウ
ム、よう化テトラヒドロキシメチルアンモニウム、ふっ
化テトラヒドロキシエチルアンモニウム、塩化テトラヒ
ドロキシエチルアンモニウム、臭化テトラヒドロキシエ
チルアンモニウム、よう化テトラヒドロキシエチルアン
モニウム等のハロゲン化テトラヒドロキシアルキルアン
モニウム類、或いはハロゲン化トリアルキル・アリール
アンモニウム類等のハロゲン化アルキル・アリールアン
モニウム類、ハロゲン化トリヒドロキシアルキル・アリ
ールアンモニウム類等のハロゲン化ヒドロキシアルキル
・アリールアンモニウム類、ハロゲン化トリアルキル・
ヒドロキシアルキルアンモニウム類等のハロゲン化アル
キル・ヒドロキシアルキルアンモニウム類が一般に挙げ
られる。このうちハロゲン化テトラアルキルアンモニウ
ム類が一般に好適に用いられる。具体的には、塩化テト
ラメチルアンモニウムおよび塩化テトラエチルアンモニ
ウムを用いるのが特に好適である。
ゲン化第4級アンモニウムは、一般式〔R4N〕X(式
中、Rはそれぞれ一般に炭素数1から4のアルキル基、
ヒドロキシアルキル基、アリール基を示し、Xはフッ
素、塩素、臭素、ヨウ素から選ばれるハロゲンを示す)
にて表わされる有機塩である。具体的には例えばふっ化
テトラメチルアンモニウム、塩化テトラメチルアンモニ
ウム、臭化テトラメチルアンモニウム、よう化テトラメ
チルアンモニウム、ふっ化テトラエチルアンモニウム、
塩化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラエチルアン
モニウム、よう化テトラエチルアンモニウム、ふっ化テ
トラブチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウ
ム、臭化テトラブチルアンモニウム、よう化テトラブチ
ルアンモニウム等のハロゲン化テトラアルキルアンモニ
ウム類、ふっ化テトラフェニルアンモニウム、塩化テト
ラフェニルアンモニウム、臭化テトラフェニルアンモニ
ウム、よう化テトラフェニルアンモニウム等のハロゲン
化テトラアリールアンモニウム類、ふっ化テトラヒドロ
キシメチルアンモニウム、塩化テトラヒドロキシメチル
アンモニウム、臭化テトラヒドロキシメチルアンモニウ
ム、よう化テトラヒドロキシメチルアンモニウム、ふっ
化テトラヒドロキシエチルアンモニウム、塩化テトラヒ
ドロキシエチルアンモニウム、臭化テトラヒドロキシエ
チルアンモニウム、よう化テトラヒドロキシエチルアン
モニウム等のハロゲン化テトラヒドロキシアルキルアン
モニウム類、或いはハロゲン化トリアルキル・アリール
アンモニウム類等のハロゲン化アルキル・アリールアン
モニウム類、ハロゲン化トリヒドロキシアルキル・アリ
ールアンモニウム類等のハロゲン化ヒドロキシアルキル
・アリールアンモニウム類、ハロゲン化トリアルキル・
ヒドロキシアルキルアンモニウム類等のハロゲン化アル
キル・ヒドロキシアルキルアンモニウム類が一般に挙げ
られる。このうちハロゲン化テトラアルキルアンモニウ
ム類が一般に好適に用いられる。具体的には、塩化テト
ラメチルアンモニウムおよび塩化テトラエチルアンモニ
ウムを用いるのが特に好適である。
【0014】電解槽の原料室に供給するこれらハロゲン
化第4級アンモニウムの水溶液の濃度は、1〜4kmo
l/m3が一般的である。また、本発明で得られる水酸
化第4級アンモニウムとしては、一般式〔R4N〕OH
(式中、Rは上記と同一)で表される上記した原料のハ
ロゲン化第4級アンモニウムに対応する有機化合物であ
り、例えば水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テ
トラエチルアンモニウム等である。なお、電解槽の陰極
室に供給するこれら水酸化第4級アンモニウムの水溶液
の濃度は、1〜3kmol/m3が一般的である。
化第4級アンモニウムの水溶液の濃度は、1〜4kmo
l/m3が一般的である。また、本発明で得られる水酸
化第4級アンモニウムとしては、一般式〔R4N〕OH
(式中、Rは上記と同一)で表される上記した原料のハ
ロゲン化第4級アンモニウムに対応する有機化合物であ
り、例えば水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テ
トラエチルアンモニウム等である。なお、電解槽の陰極
室に供給するこれら水酸化第4級アンモニウムの水溶液
の濃度は、1〜3kmol/m3が一般的である。
【0015】本発明で用いられる酸室液は、一般式HX
(式中、Xは上記と同一)にて表される酸の水溶液であ
り、具体的には、ふっ酸、塩酸、臭酸、よう酸等のハロ
ゲン化水素水溶液が挙げられる。電解槽の酸室等に供給
するこれら酸水溶液の濃度は、0.1から1kmol/
m3が一般的である。
(式中、Xは上記と同一)にて表される酸の水溶液であ
り、具体的には、ふっ酸、塩酸、臭酸、よう酸等のハロ
ゲン化水素水溶液が挙げられる。電解槽の酸室等に供給
するこれら酸水溶液の濃度は、0.1から1kmol/
m3が一般的である。
【0016】本発明で用いられる陽極液は、硫酸、硝酸
等の酸の水溶液である。塩酸は、遊離塩素類の発生が激
しくなるため好ましくない。電解槽の陽極室等に供給す
るこれら酸水溶液の濃度は、0.1〜1kmol/m3
が一般的である。
等の酸の水溶液である。塩酸は、遊離塩素類の発生が激
しくなるため好ましくない。電解槽の陽極室等に供給す
るこれら酸水溶液の濃度は、0.1〜1kmol/m3
が一般的である。
【0017】上記電解槽では、それぞれの室から強制的
または自然に室液を排出させて、該排出された排出室液
は、各水溶液の濃度を前記説明した好適な範囲内にある
ようにコントロールしながら、少なくともその一部を再
度もとの室へ循環供給するのが、安定運転を維持する点
から好ましい。特に、本発明では、陽極室、酸室、およ
び該陽極室と酸室の間に位置する中間室から選ばれる少
なくとも一室の室液は、後述する如く循環供給すること
が必須である。ここで、循環供給は、排出された室液の
全てでも良いし、部分的であっても良い。
または自然に室液を排出させて、該排出された排出室液
は、各水溶液の濃度を前記説明した好適な範囲内にある
ようにコントロールしながら、少なくともその一部を再
度もとの室へ循環供給するのが、安定運転を維持する点
から好ましい。特に、本発明では、陽極室、酸室、およ
び該陽極室と酸室の間に位置する中間室から選ばれる少
なくとも一室の室液は、後述する如く循環供給すること
が必須である。ここで、循環供給は、排出された室液の
全てでも良いし、部分的であっても良い。
【0018】電解槽に用いられる陽イオン交換膜3は、
従来公知のものが何等制限なく使用され、例えばイオン
交換基としてスルホン酸基、カルボン酸基、リン酸基等
を有し、基体が炭化水素系、フルオロカーボン系、パー
フルオロカーボン系樹脂などである陽イオン交換膜が使
用される。
従来公知のものが何等制限なく使用され、例えばイオン
交換基としてスルホン酸基、カルボン酸基、リン酸基等
を有し、基体が炭化水素系、フルオロカーボン系、パー
フルオロカーボン系樹脂などである陽イオン交換膜が使
用される。
【0019】一方、陰イオン交換膜4は、従来公知のも
のが何等制限なく用いられ、例えば第4級アンモニウム
塩基、ホスホニウム塩基、スルホニウム塩基等の強塩基
性基を有する陰イオン交換膜のみでなく、第1級、第2
級、第3級アミノ基等の弱塩基性基を有する陰イオン交
換膜にも有効である。
のが何等制限なく用いられ、例えば第4級アンモニウム
塩基、ホスホニウム塩基、スルホニウム塩基等の強塩基
性基を有する陰イオン交換膜のみでなく、第1級、第2
級、第3級アミノ基等の弱塩基性基を有する陰イオン交
換膜にも有効である。
【0020】電気分解の運転条件としては、電流密度
0.1〜50kA/m2、各室液の温度20〜60℃で
行うのが好ましい。
0.1〜50kA/m2、各室液の温度20〜60℃で
行うのが好ましい。
【0021】以上の構造の電解槽を用いた水酸化第4級
アンモニウムの製造において、陽極室9では、前記した
とおり遊離ハロゲン類が生成し、陽極液に溶解する。そ
して、この遊離ハロゲン類は、陽イオン交換膜5により
酸室への移行が遮られるが、それでも小量ずつは拡散に
より該陽イオン交換膜5を透過する。また、陽極室6と
酸室7との間に中間室が設けられている場合は、この遊
離ハロゲン類の酸室への侵入はさらに抑制されるが、そ
れでも除々には透過してくる。従って、陽極室、酸室、
および該陽極室と酸室の間に位置する中間室から選ばれ
る少なくとも一室の室液を循環供給しながら運転を実施
すると、酸室内の遊離ハロゲン類の濃度が高まり、運転
が長期間に及ぶと陰イオン交換膜4の劣化が生じてく
る。
アンモニウムの製造において、陽極室9では、前記した
とおり遊離ハロゲン類が生成し、陽極液に溶解する。そ
して、この遊離ハロゲン類は、陽イオン交換膜5により
酸室への移行が遮られるが、それでも小量ずつは拡散に
より該陽イオン交換膜5を透過する。また、陽極室6と
酸室7との間に中間室が設けられている場合は、この遊
離ハロゲン類の酸室への侵入はさらに抑制されるが、そ
れでも除々には透過してくる。従って、陽極室、酸室、
および該陽極室と酸室の間に位置する中間室から選ばれ
る少なくとも一室の室液を循環供給しながら運転を実施
すると、酸室内の遊離ハロゲン類の濃度が高まり、運転
が長期間に及ぶと陰イオン交換膜4の劣化が生じてく
る。
【0022】これに対して本発明は、この水酸化第4級
アンモニウムの製造方法において、遊離ハロゲン類によ
る陰イオン交換膜の劣化を防止するため、上記循環供給
される、陽極室、酸室、および該陽極室と酸室の間に位
置する中間室から選ばれる少なくとも一室の室液に、該
遊離ハロゲン類の除去処理を施すことに最大の特徴を有
するものである。特に、循環供給される酸室の室液に、
遊離ハロゲン類の除去処理を施すのが効果的である。そ
れにより、陰イオン交換膜に接触する遊離ハロゲン類の
量が大幅に低減される。その結果、本発明では、陰イオ
ン交換膜を劣化させることなく長期間安定的に、水酸化
第4級アンモニウムを製造することが可能になる。
アンモニウムの製造方法において、遊離ハロゲン類によ
る陰イオン交換膜の劣化を防止するため、上記循環供給
される、陽極室、酸室、および該陽極室と酸室の間に位
置する中間室から選ばれる少なくとも一室の室液に、該
遊離ハロゲン類の除去処理を施すことに最大の特徴を有
するものである。特に、循環供給される酸室の室液に、
遊離ハロゲン類の除去処理を施すのが効果的である。そ
れにより、陰イオン交換膜に接触する遊離ハロゲン類の
量が大幅に低減される。その結果、本発明では、陰イオ
ン交換膜を劣化させることなく長期間安定的に、水酸化
第4級アンモニウムを製造することが可能になる。
【0023】ここで、本発明において、遊離ハロゲン類
とは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン類、及
び次亜フッ素酸、次亜塩素酸、次亜臭素酸、次亜ヨウ素
酸等の次亜ハロゲン酸類をいう。本発明では、酸室内の
これら遊離ハロゲン類の濃度が10ppm以下、好まし
くは1ppm以下、更には0.5ppm以下に保たれる
ように、上記遊離ハロゲン類の除去処理を行うのが好ま
しい。
とは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン類、及
び次亜フッ素酸、次亜塩素酸、次亜臭素酸、次亜ヨウ素
酸等の次亜ハロゲン酸類をいう。本発明では、酸室内の
これら遊離ハロゲン類の濃度が10ppm以下、好まし
くは1ppm以下、更には0.5ppm以下に保たれる
ように、上記遊離ハロゲン類の除去処理を行うのが好ま
しい。
【0024】循環供給される室液への遊離ハロゲン類の
除去処理は、可能であるならば電解槽の室内で実施して
も良いが、一般には、室液の循環供給路の途中で施され
る。例えば図1に示すように、循環供給路の途中に貯留
槽11を設けて、その中で実施するのが好ましい。
除去処理は、可能であるならば電解槽の室内で実施して
も良いが、一般には、室液の循環供給路の途中で施され
る。例えば図1に示すように、循環供給路の途中に貯留
槽11を設けて、その中で実施するのが好ましい。
【0025】酸化性物質の除去処理の具体的方法として
は、特に制限されるものではなく公知の如何なる方法に
より実施しても良い。好適には、曝気処理、液への還元
性物質の配合、吸着剤との接触等が挙げられる。
は、特に制限されるものではなく公知の如何なる方法に
より実施しても良い。好適には、曝気処理、液への還元
性物質の配合、吸着剤との接触等が挙げられる。
【0026】曝気処理は、処理液とこれと反応しない気
体とをよく接触させ、処理液に溶存する物質を除去する
公知の方法が適宜採用できる。好ましくは、循環供給路
の途中に設けた貯留槽において、上記気体をバブリング
させる方法や、これらの液面に気体を吹き付ける方法等
が挙げられる。
体とをよく接触させ、処理液に溶存する物質を除去する
公知の方法が適宜採用できる。好ましくは、循環供給路
の途中に設けた貯留槽において、上記気体をバブリング
させる方法や、これらの液面に気体を吹き付ける方法等
が挙げられる。
【0027】気体は、水および酸と反応せず、陽イオン
交換膜および陰イオン交換膜に悪影響を及ぼさない気体
であればいかなるものも使用できる。例えば、窒素、酸
素、空気、ヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノン等が
挙げられる。この際、気体は通常、処理液0.01m3
あたり毎時0.0001〜50Nm3の供給量で、連続
的または、間欠的に曝気させるのが好ましい。この範囲
において、曝気効果が十分に発揮され、また、気体供給
装置や廃ガス処理装置を過度に巨大化させずに操作を行
うことができる。効果の良好さや経済性の面からは、こ
の気体の供給量は、毎時0.01〜10Nm3が好まし
い。曝気処理を施す際の液温は、通常、0〜80℃とす
るのが好ましい。曝気処理の温度が0℃より低いと曝気
処理による遊離ハロゲン類の除去効率が低下する傾向が
あり、80℃より高いと電解槽の安定運転が難しくなる
傾向がある。電気分解の好適な温度である20〜60℃
がより好ましい。圧力は常圧、加圧、減圧のいずれでも
良いが、電気分解と同じ圧力で行うことが経済的に良
い。
交換膜および陰イオン交換膜に悪影響を及ぼさない気体
であればいかなるものも使用できる。例えば、窒素、酸
素、空気、ヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノン等が
挙げられる。この際、気体は通常、処理液0.01m3
あたり毎時0.0001〜50Nm3の供給量で、連続
的または、間欠的に曝気させるのが好ましい。この範囲
において、曝気効果が十分に発揮され、また、気体供給
装置や廃ガス処理装置を過度に巨大化させずに操作を行
うことができる。効果の良好さや経済性の面からは、こ
の気体の供給量は、毎時0.01〜10Nm3が好まし
い。曝気処理を施す際の液温は、通常、0〜80℃とす
るのが好ましい。曝気処理の温度が0℃より低いと曝気
処理による遊離ハロゲン類の除去効率が低下する傾向が
あり、80℃より高いと電解槽の安定運転が難しくなる
傾向がある。電気分解の好適な温度である20〜60℃
がより好ましい。圧力は常圧、加圧、減圧のいずれでも
良いが、電気分解と同じ圧力で行うことが経済的に良
い。
【0028】また、本発明において、還元性物質の配合
処理は、循環供給路の途中の配管内や貯留槽において、
循環液に該物質を配合することにより実施するのが好ま
しい。用いられる還元性物質としては、一般的な還元剤
が制限なく採用できる。例えば、チオ硫酸ナトリウム、
チオ硫酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、亜硫酸カリウ
ム、亜リン酸アンモニウム、亜リン酸水素アンモニウ
ム、亜リン酸ナトリウム、亜リン酸水素ナトリウム等の
低酸化酸素塩類、ギ酸、ホルムアルデヒド、アセトアル
デヒド等のアルデヒド類、ヒドロキシルアミンおよびヒ
ドラジン類等、エチレン、プロピレン等のオレフィン
類、ハイドロキノン、置換ハイドロキノン等のハイドロ
キノン類が挙げられる。好ましくは、金属イオンを含ま
ないものがあげられ、ギ酸、ホルムアルデヒド、アセト
アルデヒド等のアルデヒド類、ヒドロキシルアミンおよ
びヒドラジン類等、エチレン、プロピレン等のオレフィ
ン類、ハイドロキノン、置換ハイドロキノン等のハイド
ロキノン類が特に好ましい。
処理は、循環供給路の途中の配管内や貯留槽において、
循環液に該物質を配合することにより実施するのが好ま
しい。用いられる還元性物質としては、一般的な還元剤
が制限なく採用できる。例えば、チオ硫酸ナトリウム、
チオ硫酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、亜硫酸カリウ
ム、亜リン酸アンモニウム、亜リン酸水素アンモニウ
ム、亜リン酸ナトリウム、亜リン酸水素ナトリウム等の
低酸化酸素塩類、ギ酸、ホルムアルデヒド、アセトアル
デヒド等のアルデヒド類、ヒドロキシルアミンおよびヒ
ドラジン類等、エチレン、プロピレン等のオレフィン
類、ハイドロキノン、置換ハイドロキノン等のハイドロ
キノン類が挙げられる。好ましくは、金属イオンを含ま
ないものがあげられ、ギ酸、ホルムアルデヒド、アセト
アルデヒド等のアルデヒド類、ヒドロキシルアミンおよ
びヒドラジン類等、エチレン、プロピレン等のオレフィ
ン類、ハイドロキノン、置換ハイドロキノン等のハイド
ロキノン類が特に好ましい。
【0029】還元性物質の配合量は、溶存する遊離ハロ
ゲン類に対しモル比で0.01倍〜1000倍が効果的
であり、且つ経済的であり好ましい。本発明をより効率
的に実施するには、配合量は、遊離ハロゲン類に対しモ
ル比で0.1倍から100倍が好適である。こうした還
元性物質は、水で希釈して配合させても良い。還元性物
質が気体の場合は、曝気により配合する方法も有効であ
る。添加する際の温度は特に限定しないが、エネルギー
コストを考えると電解槽の運転温度にあわせることが好
ましい。
ゲン類に対しモル比で0.01倍〜1000倍が効果的
であり、且つ経済的であり好ましい。本発明をより効率
的に実施するには、配合量は、遊離ハロゲン類に対しモ
ル比で0.1倍から100倍が好適である。こうした還
元性物質は、水で希釈して配合させても良い。還元性物
質が気体の場合は、曝気により配合する方法も有効であ
る。添加する際の温度は特に限定しないが、エネルギー
コストを考えると電解槽の運転温度にあわせることが好
ましい。
【0030】さらに、本発明において、吸着剤との接触
処理は、循環供給路の途中において、循環液に吸着剤を
接触させることにより実施される。液に吸着剤を接触さ
せる方法は、一般的な固液の接触法が制限なく採用でき
る。例を挙げると、固定床法、流動床法などである。吸
着剤は、耐酸性を有する吸着剤が制限なく採用できる。
例えば、活性炭、モレキュラシーブ、粘土鉱物等が挙げ
られる。吸着剤の使用量は、使用する吸着剤の平衡吸着
量に依存するので一概には言えないが、遊離ハロゲン類
の吸着量が吸着剤の平衡吸着量を越えないような量を使
用することが一般的である。
処理は、循環供給路の途中において、循環液に吸着剤を
接触させることにより実施される。液に吸着剤を接触さ
せる方法は、一般的な固液の接触法が制限なく採用でき
る。例を挙げると、固定床法、流動床法などである。吸
着剤は、耐酸性を有する吸着剤が制限なく採用できる。
例えば、活性炭、モレキュラシーブ、粘土鉱物等が挙げ
られる。吸着剤の使用量は、使用する吸着剤の平衡吸着
量に依存するので一概には言えないが、遊離ハロゲン類
の吸着量が吸着剤の平衡吸着量を越えないような量を使
用することが一般的である。
【0031】
【発明の効果】本発明によれば、電気分解による水酸化
第4級アンモニウムの製造において、陰イオン交換膜の
劣化が大幅に防止できる。その結果、長期間、安定的に
水酸化第4級アンモニウムが製造できる。
第4級アンモニウムの製造において、陰イオン交換膜の
劣化が大幅に防止できる。その結果、長期間、安定的に
水酸化第4級アンモニウムが製造できる。
【0032】
【実施例】以下、本発明を更に詳細に説明するため実施
例を挙げるが、本発明はかかる実施例に限定されるもの
ではない。
例を挙げるが、本発明はかかる実施例に限定されるもの
ではない。
【0033】実施例1 チタン板に白金をメッキした陽極とSUS316の陰極
との間に、陽極より順に陽イオン交換膜(デュポン社
製、商品名ナフィオン324)、陰イオン交換膜(株式
会社トクヤマ製、商品名ネオセプタAM-2)、陽イオ
ン交換膜(デュポン社製、商品名ナフィオン901)を
設けて4室よりなる有効通電面積0.01m2の電解槽
を構成した。
との間に、陽極より順に陽イオン交換膜(デュポン社
製、商品名ナフィオン324)、陰イオン交換膜(株式
会社トクヤマ製、商品名ネオセプタAM-2)、陽イオ
ン交換膜(デュポン社製、商品名ナフィオン901)を
設けて4室よりなる有効通電面積0.01m2の電解槽
を構成した。
【0034】上記の電解槽を用いて、陽極室に0.3Km
ol/m3の硫酸を、酸室に0.3Kmol/m3の塩酸を、原料
室に2.5Kmol/m3の塩化テトラメチルアンモニウム水
溶液を、陰極室に2.3Kmol/m3の水酸化テトラメチル
アンモニウム水溶液を供給し、また、各々排出された液
は、再度それぞれの室に上記濃度に調整しながら循環供
給させた。この電解槽で、電流密度1.8KA/m2で連続
的に電気分解を実施した。
ol/m3の硫酸を、酸室に0.3Kmol/m3の塩酸を、原料
室に2.5Kmol/m3の塩化テトラメチルアンモニウム水
溶液を、陰極室に2.3Kmol/m3の水酸化テトラメチル
アンモニウム水溶液を供給し、また、各々排出された液
は、再度それぞれの室に上記濃度に調整しながら循環供
給させた。この電解槽で、電流密度1.8KA/m2で連続
的に電気分解を実施した。
【0035】この際、酸室を循環する室液(塩酸)の循
環路に容積0.01m3のポリプロピレン製タンクを設
け、このタンクに常に循環している塩酸が0.005m3
滞在するようにした。そして、このタンク中の貯留液に
窒素ガスを毎時0.06Nm3の流量でバブリングし
た。なお、各室液の循環は、0.15m3/Hの流量で
循環させた。
環路に容積0.01m3のポリプロピレン製タンクを設
け、このタンクに常に循環している塩酸が0.005m3
滞在するようにした。そして、このタンク中の貯留液に
窒素ガスを毎時0.06Nm3の流量でバブリングし
た。なお、各室液の循環は、0.15m3/Hの流量で
循環させた。
【0036】その間、陽極室の硫酸及び酸室の塩酸とに
ついて、経時的にサンプリングし、中和後、JIS K
-0101記載の残留塩素定量法により溶存塩素と次亜
塩素酸からなる遊離塩素の量を測定した。また、陰イオ
ン交換膜の電流効率も測定した。
ついて、経時的にサンプリングし、中和後、JIS K
-0101記載の残留塩素定量法により溶存塩素と次亜
塩素酸からなる遊離塩素の量を測定した。また、陰イオ
ン交換膜の電流効率も測定した。
【0037】運転開始後1週間目では、陽極室の硫酸中
に2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸室の塩酸
中には遊離塩素は0.1ppmしか観測されなかった。
また、陰イオン交換膜の電流効率は80%であった。そ
の後も、9ヶ月間の連続運転期間中、陽極室の硫酸中に
2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸室の塩酸中
の遊離塩素は0.1ppmしか観測されなかった。ま
た、陰イオン交換膜の電流効率は80%を維持した。
に2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸室の塩酸
中には遊離塩素は0.1ppmしか観測されなかった。
また、陰イオン交換膜の電流効率は80%であった。そ
の後も、9ヶ月間の連続運転期間中、陽極室の硫酸中に
2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸室の塩酸中
の遊離塩素は0.1ppmしか観測されなかった。ま
た、陰イオン交換膜の電流効率は80%を維持した。
【0038】比較例1 酸室の循環供給液に対し、窒素ガスでのバブリングを行
わないこと以外実施例1と同様の操作をおこなった。
わないこと以外実施例1と同様の操作をおこなった。
【0039】運転開始後1週間目では、陽極室の硫酸中
の遊離塩素は2000ppm、酸室の塩酸中の遊離塩素は
約20ppm観測された。また、陰イオン交換膜の電流効
率は80%であった。その後も、9ヶ月間の連続運転期
間中、酸室の塩酸中には遊離塩素が約20ppm観測され
た。そして、運転開始後9ヶ月目には陰イオン交換膜の
電流効率は70%に低下した。
の遊離塩素は2000ppm、酸室の塩酸中の遊離塩素は
約20ppm観測された。また、陰イオン交換膜の電流効
率は80%であった。その後も、9ヶ月間の連続運転期
間中、酸室の塩酸中には遊離塩素が約20ppm観測され
た。そして、運転開始後9ヶ月目には陰イオン交換膜の
電流効率は70%に低下した。
【0040】実施例2 実施例1において、酸室を循環する塩酸の循環路に容積
0.01m3のポリプロピレン製タンクを設けるかわり
に、陽極室を循環する硫酸の循環ラインに容積0.01
m3のポリプロピレン製タンクを設けること以外、実施例
1と同様の操作を行った。
0.01m3のポリプロピレン製タンクを設けるかわり
に、陽極室を循環する硫酸の循環ラインに容積0.01
m3のポリプロピレン製タンクを設けること以外、実施例
1と同様の操作を行った。
【0041】その結果、運転開始後1週間目では陽極室
の硫酸中に20ppmの遊離塩素は観測されたが、酸室の
塩酸中の遊離塩素は0.2ppmしか観測されなかっ
た。
の硫酸中に20ppmの遊離塩素は観測されたが、酸室の
塩酸中の遊離塩素は0.2ppmしか観測されなかっ
た。
【0042】また、陰イオン交換膜の電流効率は80%
であった。9ヶ月間の連続運転期間中、その後も、陽極
室の硫酸中に20ppmの遊離塩素は観測されたが、酸室
の塩酸中の遊離塩素は0.2ppmしか観測されなかっ
た。また、陰イオン交換膜の電流効率は80%を維持し
た。
であった。9ヶ月間の連続運転期間中、その後も、陽極
室の硫酸中に20ppmの遊離塩素は観測されたが、酸室
の塩酸中の遊離塩素は0.2ppmしか観測されなかっ
た。また、陰イオン交換膜の電流効率は80%を維持し
た。
【0043】実施例3 実施例1において、窒素ガスでのバブリングの量を毎時
1Nm3の流量で行うこと以外実施例1と同様の操作を
おこなった。
1Nm3の流量で行うこと以外実施例1と同様の操作を
おこなった。
【0044】その結果、運転開始後1週間目では陽極室
の硫酸中に2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸
室の塩酸中の遊離塩素は0.02ppmしか観測されな
かった。また、陰イオン交換膜の電流効率は79%であ
った。9ヶ月間の連続運転期間中、その後も、陽極室の
硫酸中に2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸室
の塩酸中の遊離塩素は0.02ppmしか観測されなか
った。また、陰イオン交換膜の電流効率は79%を維持
した。
の硫酸中に2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸
室の塩酸中の遊離塩素は0.02ppmしか観測されな
かった。また、陰イオン交換膜の電流効率は79%であ
った。9ヶ月間の連続運転期間中、その後も、陽極室の
硫酸中に2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸室
の塩酸中の遊離塩素は0.02ppmしか観測されなか
った。また、陰イオン交換膜の電流効率は79%を維持
した。
【0045】実施例4 実施例1において、窒素ガスでバブリングするかわり
に、0.001Kmol/m3のヒドロキシルアミン塩酸塩水
溶液を毎時0.003m3の流量でタンクに添加すること
以外、実施例1と同様の操作をおこなった。この際の、
タンクに添加されたヒドロキシルアミン塩酸塩の量は比
較例1で観測された遊離塩素量の5モル倍に相当した。
に、0.001Kmol/m3のヒドロキシルアミン塩酸塩水
溶液を毎時0.003m3の流量でタンクに添加すること
以外、実施例1と同様の操作をおこなった。この際の、
タンクに添加されたヒドロキシルアミン塩酸塩の量は比
較例1で観測された遊離塩素量の5モル倍に相当した。
【0046】その結果、運転開始後1週間目では陽極室
の硫酸中に2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸
室の塩酸中の遊離塩素は0.1ppmしか観測されなか
った。また、陰イオン交換膜の電流効率は80%であっ
た。9ヶ月間の連続運転期間中、その後も、陽極室の硫
酸中に2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸室の
塩酸中の遊離塩素は0.1ppmしか観測されなかっ
た。また、陰イオン交換膜の電流効率は80%を維持し
た。
の硫酸中に2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸
室の塩酸中の遊離塩素は0.1ppmしか観測されなか
った。また、陰イオン交換膜の電流効率は80%であっ
た。9ヶ月間の連続運転期間中、その後も、陽極室の硫
酸中に2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸室の
塩酸中の遊離塩素は0.1ppmしか観測されなかっ
た。また、陰イオン交換膜の電流効率は80%を維持し
た。
【0047】実施例5 実施例4において、ヒドロキシルアミン塩酸塩水溶液の
かわりに、0.001Kmol/m3の二塩酸ヒドラジン水溶
液水溶液を毎時0.005m3の流量でタンクに添加する
こと以外、実施例4と同様の操作をおこなった。
かわりに、0.001Kmol/m3の二塩酸ヒドラジン水溶
液水溶液を毎時0.005m3の流量でタンクに添加する
こと以外、実施例4と同様の操作をおこなった。
【0048】その結果、運転開始後1週間目では陽極室
の硫酸中に2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸
室の塩酸中の遊離塩素は0.1ppmしか観測されなか
った。また、陰イオン交換膜の電流効率は80%であっ
た。9ヶ月間の連続運転期間中、その後も、陽極室の硫
酸中に2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸室の
塩酸中の遊離塩素は0.1ppmしか観測されなかっ
た。また、陰イオン交換膜の電流効率は80%を維持し
た。
の硫酸中に2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸
室の塩酸中の遊離塩素は0.1ppmしか観測されなか
った。また、陰イオン交換膜の電流効率は80%であっ
た。9ヶ月間の連続運転期間中、その後も、陽極室の硫
酸中に2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸室の
塩酸中の遊離塩素は0.1ppmしか観測されなかっ
た。また、陰イオン交換膜の電流効率は80%を維持し
た。
【0049】実施例6 実施例4において、ヒドロキシルアミン塩酸塩水溶液の
流量を毎時0.03m3にすること以外、実施例4と同様
の操作をおこなった。この際の、タンクに添加されたヒ
ドロキシルアミン塩酸塩水溶液は比較例1で観測された
遊離塩素量の50モル倍に相当する。
流量を毎時0.03m3にすること以外、実施例4と同様
の操作をおこなった。この際の、タンクに添加されたヒ
ドロキシルアミン塩酸塩水溶液は比較例1で観測された
遊離塩素量の50モル倍に相当する。
【0050】その結果、運転開始後1週間目では陽極室
の硫酸中に2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸
室の塩酸中の遊離塩素は0.02ppmしか観測されな
かった。また、陰イオン交換膜の電流効率は80%であ
った。9ヶ月間の連続運転期間中、その後も、陽極室の
硫酸中に2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸室
の塩酸中の遊離塩素は0.02ppmしか観測されなか
った。また、陰イオン交換膜の電流効率は80%を維持
した。
の硫酸中に2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸
室の塩酸中の遊離塩素は0.02ppmしか観測されな
かった。また、陰イオン交換膜の電流効率は80%であ
った。9ヶ月間の連続運転期間中、その後も、陽極室の
硫酸中に2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸室
の塩酸中の遊離塩素は0.02ppmしか観測されなか
った。また、陰イオン交換膜の電流効率は80%を維持
した。
【0051】実施例7 実施例1において、窒素ガスでバブリングするかわり
に、循環供給路の途中に活性炭10kgを充填した充填
槽を設置し、1カ月ごとに10kgの新たな活性炭と交
換すること、以外実施例1と同様の操作を行った。
に、循環供給路の途中に活性炭10kgを充填した充填
槽を設置し、1カ月ごとに10kgの新たな活性炭と交
換すること、以外実施例1と同様の操作を行った。
【0052】その結果、運転開始後1週間目では陽極室
の硫酸中に2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸
室の塩酸中の遊離塩素は0.2ppmしか観測されなか
った。また、陰イオン交換膜の電流効率は79%であっ
た。9ヶ月間の連続運転期間中、その後も、陽極室の硫
酸中に2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸室の
塩酸中の遊離塩素は0.2ppmしか観測されなかっ
た。また、陰イオン交換膜の電流効率は79%を維持し
た。
の硫酸中に2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸
室の塩酸中の遊離塩素は0.2ppmしか観測されなか
った。また、陰イオン交換膜の電流効率は79%であっ
た。9ヶ月間の連続運転期間中、その後も、陽極室の硫
酸中に2000ppmの遊離塩素は観測されたが、酸室の
塩酸中の遊離塩素は0.2ppmしか観測されなかっ
た。また、陰イオン交換膜の電流効率は79%を維持し
た。
【図1】図1は、本発明で使用する代表的な電解槽の概
略図である。
略図である。
1;陰極 2;陽極 3;陽イオン交換膜 4;陰イオン交換膜 5;陽イオン交換膜 6;原料室 7;陰極室 8;酸室 9;陽極室 10;循環供給路 11;貯留槽 12;循環ポンプ
Claims (5)
- 【請求項1】陽極と陰極との間に、陽極側から順に、少
なくとも1枚以上の陽イオン交換膜、少なくとも1枚以
上の陰イオン交換膜、少なくとも1枚以上の陽イオン交
換膜を配することにより、陽極が存在する陽極室、陽極
側が陽イオン交換膜で仕切られ陰極側が陰イオン交換膜
で仕切られた酸室、陽極側が陰イオン交換膜で仕切られ
陰極側が陽イオン交換膜で仕切られた原料室、陰極が存
在する陰極室、並びに前記同種イオン交換膜を複数枚用
いた場合に2枚の陽イオン交換膜または陰イオン交換膜
によりそれぞれ仕切られた中間室を有する電解槽を用
い、原料室にハロゲン化第4級アンモニウム水溶液を供
給して電気分解を行い、陰極室に水酸化第4級アンモニ
ウムを生成させる水酸化第4級アンモニウムの製造方法
において、陽極室、酸室、および該陽極室と酸室との間
に位置する中間室から選ばれる少なくとも一室の室液
を、遊離ハロゲン類の除去処理を施しながら循環供給さ
せることを特徴とする水酸化第4級アンモニウムの製造
方法。 - 【請求項2】遊離ハロゲン類の除去処理が、曝気処理で
ある請求項1記載の水酸化第4級アンモニウム水溶液の
製造方法。 - 【請求項3】遊離ハロゲン類の除去処理が、還元性物質
の配合である請求項1記載の水酸化第4級アンモニウム
水溶液の製造方法。 - 【請求項4】遊離ハロゲン類の除去処理が、吸着剤との
接触である請求項1記載の水酸化第4級アンモニウム水
溶液の製造方法。 - 【請求項5】酸室中の遊離ハロゲン類の濃度を10pp
m以下に保つことを特徴とする請求項1乃至請求項4記
載の水酸化第4級アンモニウム水溶液の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27289097A JPH11106975A (ja) | 1997-10-06 | 1997-10-06 | 水酸化第4級アンモニウムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27289097A JPH11106975A (ja) | 1997-10-06 | 1997-10-06 | 水酸化第4級アンモニウムの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11106975A true JPH11106975A (ja) | 1999-04-20 |
Family
ID=17520191
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27289097A Pending JPH11106975A (ja) | 1997-10-06 | 1997-10-06 | 水酸化第4級アンモニウムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11106975A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102418115A (zh) * | 2011-11-14 | 2012-04-18 | 江阴安凯特电化学设备有限公司 | 一种多腔室电解槽 |
| CN120082901A (zh) * | 2025-03-19 | 2025-06-03 | 淄博格瑞水处理工程有限公司 | 氢碘酸制备装置及方法 |
-
1997
- 1997-10-06 JP JP27289097A patent/JPH11106975A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102418115A (zh) * | 2011-11-14 | 2012-04-18 | 江阴安凯特电化学设备有限公司 | 一种多腔室电解槽 |
| CN120082901A (zh) * | 2025-03-19 | 2025-06-03 | 淄博格瑞水处理工程有限公司 | 氢碘酸制备装置及方法 |
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