JPH1110825A - ネガ型画像記録材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レー
ザを用いて記録することにより、コンピューター等のデ
ジタルデータから直接製版可能であり、さらにレーザ露
光時の感度の高いネガ型平版印刷用版材に適するネガ型
画像記録材料を提供すること。 【解決手段】 下記（Ａ）〜（Ｅ）よりなることを特徴
とするネガ型画像記録材料である。 （Ａ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物、
（Ｂ）酸により架橋する架橋剤、（Ｃ）アルカリ可溶性
樹脂の少なくとも１種、（Ｄ）赤外線吸収剤、（Ｅ）酸
無水物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷用版材とし
て使用できる画像記録材料に関するものであり、特にコ
ンピュータ等のデジタル信号から赤外線レーザを用い直
接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷
用版材用のネガ型画像記録材料に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、コンピュータのデジタルデータか
ら直接製版するシステムとしては、電子写真法による
もの、青色または緑色を発光するレーザを用い露光す
る光重合系によるもの、銀塩を感光性樹脂上に積層し
たもの、銀塩拡散転写法によるもの等が提案されてい
る。しかしながらの電子写真法を用いるものは、帯
電、露光、現像等画像形成のプロセスが煩雑であり、装
置が複雑で大がかりなものになる。の光重合系による
ものでは、青色や緑色の光に対して高感度な版材である
ため、明室での取扱いが難しくなる。、の方法では
銀塩を使用するため現像等の処理が煩雑になる、さらに
当然ながら処理廃液中に銀が含まれる欠点がある。

【０００３】一方、近年におけるレーザの発展は目ざま
しく、特に波長７６０ｎｍから１２００ｎｍの赤外線を
放射する固体レーザ及び半導体レーザは、高出力かつ小
型のものが容易に入手できる様になっている。コンピュ
ータ等のデジタルデータから直接製版する際の記録光源
として、これらのレーザは非常に有用である。しかし、
実用上有用な多くの感光性記録材料は、感光波長が７６
０ｎｍ以下の可視光域であるため、これらの赤外線レー
ザでは画像記録できない。このため、赤外線レーザで記
録可能な材料が望まれている。

【０００４】このような赤外線レーザにて記録可能な画
像記録材料としては、特開平７−２０６２９号に記載さ
れている、オニウム塩、レゾール樹脂、ノボラック樹
脂、及び赤外線吸収剤よりなる記録材料がある。また、
特開平７−２７１０２９号には、ハロアルキル置換され
たｓ−トリアジン、レゾール樹脂、ノボラック樹脂、及
び赤外線吸収剤より成る記録材料が記載されている。し
かしながら、これらの画像記録材料を用いた版材では、
レーザ露光時の感度が必ずしも十分なものではなかっ
た。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザを用
いて記録することにより、コンピューター等のデジタル
データから直接製版可能であり、さらにレーザ露光時の
感度の高いネガ型平版印刷用版材に適するネガ型画像記
録材料を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、ネガ型画
像記録材料の構成成分に着目し、鋭意検討の結果、下記
（Ａ）〜（Ｅ）よりなることを特徴とするネガ型画像記
録材料を用いることにより、上記目的が達成できること
を見出し、本発明を完成するに至った。 （Ａ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物、
（Ｂ）酸により架橋する架橋剤、（Ｃ）アルカリ可溶性
樹脂の少なくとも１種、（Ｄ）赤外線吸収剤、（Ｅ）酸
無水物。

【０００７】本発明のネガ型画像記録材料においては、
赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザにより付
与されたエネルギーが、（Ｄ）赤外線吸収剤によって熱
エネルギーに変換され、その熱によって（Ａ）光又は熱
により分解して酸を発生する化合物が分解して酸を発生
し、この酸が、（Ｂ）酸により架橋する架橋剤と（Ｃ）
アルカリ可溶性樹脂との架橋反応を促進することにより
画像記録即ち記録材料の製版が行われるものであるが、
この系中に（Ｅ）酸無水物を存在させると、ネガ型画像
記録材料の感度が著しく向上するものである。そのメカ
ニズムは不明であるが、（Ｅ）酸無水物が、上記反応に
おいて触媒的な作用を果たしているものと考えられる。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下本発明の各構成成分などにつ
いて順次、詳細に説明するが、まず、本発明の特徴的な
成分である（Ｅ）酸無水物について述べる。

【０００９】［（Ｅ）酸無水物］本発明で用いることの
できる酸無水物としては、カルボン酸無水物、スルホン
酸無水物、カルボン酸とスルホン酸の混合酸無水物が挙
げられるが、画像記録材料の保存安定性が優れるという
理由から、カルボン酸無水物が好ましい。さらに感度が
高いという理由から、環状のカルボン酸無水物が特に好
ましい。本発明で用いることのできる酸無水物の具体例
としては、フタル酸無水物、２，３−ジメチルマレイン
酸無水物、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸無水
物、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸無水物、
３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物、４−ニトロフタル酸無水物、１，２，４，５
−ベンゼンテトラカルボン酸無水物、２，３−ピリジン
ジカルボン酸無水物、１，８−ナフタレンジカルボン酸
無水物、ホモフタル酸無水物等が挙げられる。酸無水物
の添加量としては、画像記録材料の全固形分に対して
０．５〜１０重量％の範囲が好ましく、さらに好ましく
は１〜６重量％の範囲である。酸無水物の添加量が少な
すぎると本発明の感度向上という効果が得られなくなる
ため好ましくなく、多すぎると画像形成後の画像部の膜
強度が低下するため好ましくない。

【００１０】本発明のネガ型画像記録材料の（Ｅ）成分
以外の構成成分について、以下に説明する。 ［（Ａ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物］
本発明において光又は熱により分解して酸を発生する化
合物（以下、適宜、酸発生剤と称する）とは、２００〜
５００ｎｍの波長の光照射又は１００℃以上の加熱によ
り酸を発生する化合物を指す。本発明において好適に用
いられる酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始
剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光
変色剤、あるいはマイクロレジスト等に使用されている
公知の酸発生剤等、公知の熱分解して酸を発生する化合
物、及びそれらの混合物を適宜に選択して使用すること
ができる。

【００１１】例えば、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅ
ｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７
（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙ
ｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）に記載のジアゾニウ
ム塩、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６
９，０５６号、同Ｒｅ２７，９９２号、特開平４−３６
５０４９号の明細書に記載のアンモニウム塩、Ｄ．Ｃ．
Ｎｅｃｋｅｒ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌ
ｅｓ，１７，２４６８（１９８４）、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ
ｅｔ ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ，Ｃ
ｕｒｉｎｇ ＡＳＩＡ，ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ
（１９８８）、米国特許第４，０６９，０５５号、同
４，０６９，０５６号に記載のホスホニウム塩、Ｊ．
Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌ
ｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｃ
ｈｅｍ．＆ Ｅｎｇ．Ｎｅｗｓ，Ｎｏｖ．２８，ｐ３１
（１９８８）、欧州特許第１０４、１４３号、米国特許
第３３９，０４９号、同第４１０，２０１号、特開平２
−１５０８４８号、特開平２−２９６５１４号に記載の
ヨードニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａ
ｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｊ．１７，７３（１９８５）、
Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ．Ｊ．Ｏｒｇ．
Ｃｈｅｍ．，４３，３０５５（１９７８）、Ｗ．Ｒ．Ｗ
ａｔｔ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，
Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，２２，１７８９
（１９８４）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａ
ｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ

【００１２】Ｂｕｌｌ．，１４，２７９（１９８５）、
Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍ
ｏｌｅｃｕｌｅｓ，１４（５），１１４１（１９８
１）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐ
ｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．
Ｅｄ．，１７，２８７７（１９７９）、欧州特許第３７
０，６９３号、同３９０，２１４号、同２３３，５６７
号、同２９７，４４３号、同２９７，４４２号、米国特
許第４，９３３，３７７号、同１６１，８１１号、同４
１０，２０１号、同３３９，０４９号、同４，７６０，
０１３号、同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８
２７号、独国特許第２，９０４，６２６号、同３，６０
４，５８０号、同３，６０４，５８１号に記載のスルホ
ニウム塩、

【００１３】Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，
Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７
（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａ
ｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載
のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔ ａｌ，Ｔｅ
ｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳ
ＩＡ，ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記
載のアルソニウム塩等のオニウム塩、米国特許第３，９
０５，８１５号、特公昭４６−４６０５号、特開昭４８
−３６２８１号、特開昭５５−３２０７０号、特開昭６
０−２３９７３６号、特開昭６１−１６９８３５号、特
開昭６１−１６９８３７号、特開昭６２−５８２４１
号、特開昭６２−２１２４０１号、特開昭６３−７０２
４３号、特開昭６３−２９８３３９号に記載の有機ハロ
ゲン化合物、Ｋ．Ｍｅｉｅｒ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｒａ
ｄ．Ｃｕｒｉｎｇ，１３（４），２６（１９８６），
Ｔ．Ｐ．Ｇｉｌｌ ｅｔ ａｌ，Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅ
ｍ．，１９，３００７（１９８０）、Ｄ．Ａｓｔｒｕ
ｃ，Ａｃｃ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．，１９（１２），３７
７（１８９６）、特開平２−１６１４４５号に記載の有
機金属／有機ハロゲン化物、Ｓ．Ｈａｙａｓｅ ｅｔ
ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，２５，７５３
（１９８７）、Ｅ．Ｒｅｉｃｈｍａｎｉｓ ｅｔ ａ
ｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，２３，１（１９８５）、Ｑ．Ｑ．Ｚ
ｈｕ ｅｔ ａｌ，Ｊ Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍ．，３６，
８５，３９，３１７（１９８７）、Ｂ．Ａｍｉｔｅｔ
ａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，（２４）
２２０５（１９７３），

【００１４】Ｄ．Ｈ．Ｒ．Ｂａｒｔｏｎ ｅｔ ａｌ，
Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．３５７１（１９６５）、Ｐ．
Ｍ．Ｃｏｌｌｉｎｓ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．，Ｐｅｒｋｉｎ Ｉ，１６９５（１９７５）、Ｍ．
Ｒｕｄｉｎｓｔｅｉｎ ｅｔ ａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄ
ｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，（１７），１４４５（１９７
５）、Ｊ．Ｗ．Ｗａｌｋｅｒ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ａｍ．
Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１０，７１７０（１９８８）、
Ｓ．Ｃ．Ｂｕｓｍａｎ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｉｍａｇｉｎ
ｇ Ｔｅｃｈｎｏｌ．，１１（４），１９１（１９８
５）、Ｈ．Ｍ．Ｈｏｕｌｉｈａｎ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃ
ｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２１，２００１（１９８
８）、Ｐ．Ｍ．Ｃｏｌｌｉｎｓ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｃｈ
ｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，５３２
（１９７２）、Ｓ．Ｈａｙａｓｅ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃ
ｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１８，１７９９（１９８
５）、Ｅ．Ｒｅｉｃｈｍａｎｉｓ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｅ
ｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ＳｏｌｉｄＳｔａｔ
ｅ Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．，１３０（６）、Ｆ．
Ｍ．Ｈｏｕｌｉｈａｎ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌ
ｅｃｕｌｅｓ，２１，２００１（１９８８）、欧州特許
第０２９０，７５０号、同０４６，０８３号、同１５
６，５３５号、同２７１，８５１号、同０，３８８，３
４３号、米国特許第３，９０１，７１０号、同４，１８
１，５３１号、特開昭６０−１９８５３８号、特開昭５
３−１３３０２２号に記載のｏ−ニトロベンジル型保護
基を有する光酸発生剤、Ｍ．Ｔｕｎｏｏｋａ ｅｔ ａ
ｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ Ｊａｐａ
ｎ，３８（８）、Ｇ．Ｂｅｒｎｅｒ ｅｔ ａｌ，Ｊ．
Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ，１３（４）、Ｗ．Ｊ．Ｍｉｊｓ
ｅｔ ａｌ，Ｃｏａｔｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌ．，５
５（６９７），４５（１９８３）、Ａｋｚｏ，Ｈ．Ａｄ
ａｃｈｉ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉ
ｎｔｓ，Ｊａｐａｎ，３７（３）、欧州特許第０１９
９，６７２号、同８４５１５号、同１９９，６７２号、
同０４４，１１５号、同０１０１，１２２号、米国特許
第４，６１８，５６４号、同４，３７１，６０５号、同
４，４３１，７７４号、特開昭６４−１８１４３号、特
開平２−２４５７５６号、特願平３−１４０１０９号に
記載のイミノスルフォネート等に代表される、光分解し
てスルホン酸を発生する化合物、特開昭６１−１６６５
４４号に記載のジスルホン化合物を挙げることができ
る。

【００１５】またこれらの酸を発生する基、あるいは化
合物をポリマーの主鎖又は側鎖に導入した化合物、例え
ば、Ｍ．Ｅ．Ｗｏｏｄｈｏｕｓｅ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ａ
ｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１０４，５５８６（１９８
２）、Ｓ．Ｐ．Ｐａｐｐａｓｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｉｍａｇ
ｉｎｇ Ｓｃｉ．，３０（５），２１８（１９８６）、
Ｓ．Ｋｏｎｄｏ ｅｔ ａｌ． Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃ
ｈｅｍ．，ＲａｐｉｄＣｏｍｍｕｎ．，９，６２５（１
９８８）、Ｙ．Ｙａｍａｄａ ｅｔ ａｌ，Ｍａｋｒｏ
ｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１５２，１５３，１６３（１９７
２）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ．Ｊ．Ｐ
ｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．
Ｅｄ．，１７，３８４５（１９７９）、米国特許第３，
８４９，１３７号、独国特許第３，９１４，４０７、特
開昭６３−２６６５３号、特開昭５５−１６４８２４
号、特開昭６２−６９２６３号、特開昭６３−１４６０
３７、特開昭６３−１６３４５２号、特開昭６２−１５
３８５３号、特開昭６３−１４６０２９号に記載の化合
物を用いることができる。

【００１６】更に、Ｖ．Ｎ．Ｒ．Ｐｉｌｌａｉ，Ｓｙｎ
ｔｈｅｓｉｓ，（１），１（１９８０）、Ａ．Ａｂａｄ
ｅｔ ａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，
（４７）４５５５（１９７１）、Ｄ．Ｈ．Ｒ．Ｂａｒｔ
ｏｎ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ，Ｓｏｃ，．（Ｃ），
３２９（１９７０）、米国特許第３，７７９，７７８
号、欧州特許第１２６，７１２号等に記載の光により酸
を発生する化合物も使用することができる。これらのう
ち本発明で特に好ましく用いられる酸発生剤としては、
下記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表される化合物が挙げられ
る。

【００１７】

【化１】

【００１８】（式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ⁴ 及びＲ⁵ は、同
じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい
炭素数２０個以下の炭化水素基を示す。Ｒ³ はハロゲン
原子、置換基を有していてもよい炭素数１０個以下の炭
化水素基叉は炭素数１０個以下のアルコキシ基を示す。
Ａｒ¹ 、Ａｒ² は、同じでも異なっていてもよく、置換
基を有していてもよい炭素数２０個以下のアリール基を
示す。Ｒ⁶ は置換基を有していてもよい炭素数２０個以
下の２価の炭化水素基を示す。ｎは０〜４の整数を示
す。）

【００１９】上記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）において、
Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ⁴ 及びＲ⁵ は、それぞれ独立に、置換基
を有していてもよい炭素数２０個以下の炭化水素基を示
し、好ましくは炭素数１〜１４の炭化水素基を示す。炭
化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−
プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−
ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル
基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、ウンデシル
基、ドデシル基等のアルキル基、アリル基、ビニル基、
１−メチルビニル基、２−フェニルビニル基等のアルケ
ニル基、ベンジル基等のアラルキル基、フェニル基、ト
リル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ドデシ
ルフェニル基、フェニルフェニル基、ナフチル基、アン
トラセニル基等のアリール基が挙げられる。これらの炭
化水素基は、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、ニト
ロ基、シアノ基、カルボキシ基等の置換基を有していて
もよい。置換基を有する炭化水素基の具体例としては、
トリフルオロメチル基、クロロエチル基、２−メトキシ
エチル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブ
ロモフェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル
基、フェノキシフェニル基、メトキシフェニルビニル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、カルボキシ
フェニル基、９，１０−ジメトキシアントラセニル基等
が挙げられる。

【００２０】Ｒ³ はハロゲン原子、置換基を有していて
もよい炭素数１０個以下の炭化水素基（例えば、アルキ
ル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基）叉は
炭素数１０個以下のアルコキシ基を示す。具体的には、
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素のハロゲン原子、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、アリ
ル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル
基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェ
ニル基、トリル基等の炭化水素基、２−メトキシエチル
基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル基等置
換基を有する炭化水素基、メトキシ基、エトキシ基等の
アルコキシ基が挙げられる。また、ｎが２以上の場合、
隣接する２個のＲ³ で互いに結合し縮環していてもよ
い。

【００２１】Ａｒ¹ 、Ａｒ² は同じであっても異なって
いてもよく、置換基を有していてもよい炭素数２０個以
下のアリール基、好ましくは炭素数６〜１４のアリール
基を示す。具体的には、フェニル基、トリル基、キシリ
ル基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフェニル基、
フェニルフェニル基、ナフチル基、フルオロフェニル
基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェ
ニル基、クロロナフチル基、メトキシフェニル基、フェ
ノキシフェニル基、エトキシナフチル基、ニトロフェニ
ル基、シアノフェニル基、カルボキシフェニル基、ニト
ロナフチル基、アントラセニル基等が挙げられる。Ｒ⁶
は置換基を有していてもよい炭素数２０個以下の２価の
炭化水素基（例えば、アルキレン基、アルケニレン基、
アラルキレン基、アリーレン基）を示す。具体的には、
エチニレン基、１，２−シクロヘキセニレン基、１，２
−フェニレン基、４−クロロ−１，２−フェニレン基、
４−ニトロ−１，２−フェニレン基、４−メチル−１，
２−フェニレン基、４ーメトキシ−１，２−フェニレン
基、４−カルボキシ−１，２−フェニレン基、１，８−
ナフタレニレン基等が挙げられる。ｎは０〜４の整数を
示す。ここで、ｎが０の場合は、Ｒ₃ がないこと、すな
わち、水素原子であることを示す。

【００２２】一般式化合物（Ｉ）〜（Ｖ）で表される化
合物の内、好ましいものを以下に挙げる。尚、これらの
化合物は、例えば特開平２−１０００５４号及び特開平
２−１０００５５号に記載の方法にて合成することがで
きる。

【００２３】

【化２】

【００２４】

【化３】

【００２５】

【化４】

【００２６】

【化５】

【００２７】

【化６】

【００２８】

【化７】

【００２９】

【化８】

【００３０】

【化９】

【００３１】

【化１０】

【００３２】

【化１１】

【００３３】

【化１２】

【００３４】また、（Ａ）光または熱により分解して酸
を発生する化合物として、ハロゲン化物やスルホン酸な
どを対イオンとするオニウム塩、好ましくは下記一般式
（VI）〜（VIII）で示されるヨードニウム塩、スルホニ
ウム塩、ジアゾニウム塩のいずれかの構造を有するもの
も、好適に挙げることができる。

【００３５】

【化１３】

【００３６】（式中、Ｘ^- は、ハロゲン化物イオン、Ｃ
ｌＯ₄ ^- 、ＰＦ₆ ^- 、ＳｂＦ₆ ^- 、ＢＦ₄ ^- 、又はＲ⁷
−ＳＯ₃ ^- が挙げられ、ここで、Ｒ⁷ は置換基を有して
いても良い炭素数２０以下の炭化水素基を示す。Ａ
ｒ³ 、Ａｒ⁴ はそれぞれ、置換基を有していても良い炭
素数２０以下のアリール基を示す。Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰は
置換基を有していても良い炭素数１８以下の炭化水素基
を示す。） 上記一般式において、Ｘ^- としては、Ｒ⁷ −ＳＯ₃ ^- が
特に好ましく用いられ、ここで、Ｒ⁷ としては置換基を
有していても良い炭素数２０以下の炭化水素基を示す。
Ｒ⁷ で表される炭化水素基の具体例としては、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、アリ
ル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル
基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、２−
エチルヘキシル基、ドデシル基等のアルキル基、ビニル
基、１−メチルビニル基、２−フェニルビニル基等のア
ルケニル基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル
基、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、
メシチル基、ドデシルフェニル基、フェニルフェニル
基、ナフチル基、アントラセニル基等のアリール基が挙
げられる。

【００３７】これらの炭化水素基は、例えばハロゲン原
子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリルオキシ基、ニ
トロ基、シアノ基、カルボニル基、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アニリノ基、アセトアミド基等
の置換基を有していても良い。置換基を有する炭化水素
基の具体例としては、トリフルオロメチル基、２−メト
キシエチル基、１０−カンファーニル基、フルオロフェ
ニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨード
フェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル
基、フェノキシフェニル基、ニトロフェニル基、シアノ
フェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシナフチル
基、ジメトキシアントラセニル基、ジエトキシアントラ
セニル基、アントラキノニル基、等が挙げられる。

【００３８】Ａｒ³ 、Ａｒ⁴ はそれぞれ、置換基を有し
ていても良い炭素数２０以下のアリール基を示し、具体
的には、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル
基、メシチル基、ドデシルフェニル基、フェニルフェニ
ル基、ナフチル基、アントラセニル基、フルオロフェニ
ル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフ
ェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル
基、フェノキシフェニル基、ニトロフェニル基、シアノ
フェニル基、カルボキシフェニル基、アニリノフェニル
基、アニリノカルボニルフェニル基、モルホリノフェニ
ル基、フェニルアゾフェニル基、メトキシナフチル基、
ヒドロキシナフチル基、ニトロナフチル基、アントラキ
ノニル基等が挙げられる。

【００３９】Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰はそれぞれ独立に、置換
基を有していても良い炭素数１８以下の炭化水素基を示
し、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｉ−プロピル基、アリル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ
−ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシ
ル基、ベンジル基、フェニル基、トリル基、ｔ−ブチル
フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、等の炭化
水素基、２−メトキシエチル基、フルオロフェニル基、
クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル
基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル基、フェ
ニルチオフェニル基、ヒドロキシナフチル基、メトキシ
ナフチル基、ベンゾイルメチル基、ナフトイルメチル
基、等置換基を有する炭化水素基が挙げられる。また、
Ｒ⁸ とＲ⁹ とが互いに結合し環を形成していても良い。

【００４０】一般式（VI）〜（VIII）で表されるオニウ
ム塩のカチオン部としては、ヨードニウムイオン、スル
ホニウムイオン、ジアゾニウムイオンが挙げられる。こ
れらのオニウム塩のカチオン部について、以下に具体的
な構造を示すが、これらに限定されるものではない。

【００４１】

【化１４】

【００４２】

【化１５】

【００４３】

【化１６】

【００４４】

【化１７】

【００４５】

【化１８】

【００４６】一方、これらのオニウム塩のカウンターア
ニオンのうち、特に良好に用いられるスルホネートイオ
ンの例としては、 １）メタンスルホネート、 ２）エタンスルホネート、 ３）１−プロパンスルホネート、 ４）２−プロパンスルホネート、 ５）ｎ−ブタンスルホネート、 ６）アリルスルホネート、 ７）１０−カンファースルホネート、 ８）トリフルオロメタンスルホネート、 ９）ペンタフルオロエタンスルホネート、 １０）ベンゼンスルホネート、 １１）ｐ−トルエンスルホネート、 １２）３−メトキシベンゼンスルホネート、 １３）４−メトキシベンゼンスルホネート、 １４）４−ヒドロキシベンゼンスルホネート、 １５）４−クロロベンゼンスルホネート、 １６）３−ニトロベンゼンスルホネート、 １７）４−ニトロベンゼンスルホネート、 １８）４−アセチルベンゼンスルホネート、 １９）ペンタフルオロベンゼンスルホネート、 ２０）４−ドデシルベンゼンスルホネート、 ２１）メシチレンスルホネート、 ２２）２、４、６−トリイソプロピルベンゼンスルホネ
ート、 ２３）２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−
５−スルホネート、 ２４）イソフタル酸ジメチル−５−スルホネート、 ２５）ジフェニルアミン−４−スルホネート、 ２６）１−ナフタレンスルホネート、 ２７）２−ナフタレンスルホネート、 ２８）２−ナフトール−６−スルホネート、 ２９）２−ナフトール−７−スルホネート、 ３０）アントラキノン−１−スルホネート、 ３１）アントラキノン−２−スルホネート、 ３２）９、１０−ジメトキシアントラセン−２−スルホ
ネート、 ３３）９、１０−ジエトキシアントラセン−２−スルホ
ネート、 ３４）キノリン−８−スルホネート、 ３５）８−ヒドロキシキノリン−５−スルホネート、 ３６）８−アニリノ−ナフタレン−１−スルホネート などが挙げられる。

【００４７】また、 ４１）ｍ−ベンゼンジスルホネート、 ４２）ベンズアルデヒド−２、４−ジスルホネート、 ４３）１、５−ナフタレンジスルホネート、 ４４）２、６−ナフタレンジスルホネート、 ４５）２、７−ナフタレンジスルホネート、 ４６）アントラキノン−１、５−ジスルホネート、 ４７）アントラキノン−１、８−ジスルホネート、 ４８）アントラキノン−２、６−ジスルホネート、 ４９）９、１０−ジメトキシアントラセン−２、６−ジ
スルホネート、 ５０）９、１０−ジエトキシアントラセン−２、６−ジ
スルホネート、 などのジスルホネート類とオニウム塩カチオン２当量と
の塩も用いることができる。

【００４８】本発明で良好に用いられるオニウム塩スル
ホネートは、対応するＣｌ^- 塩などを、スルホン酸また
はスルホン酸ナトリウムまたはカリウム塩と水中、ある
いはアルコールなどの親水性溶媒と水との混合溶媒中で
まぜあわせて塩交換を行うことにより、得ることができ
る。オニウム化合物の合成は既知の方法で行うことがで
き、たとえば丸善・新実験化学講座１４−Ｉ巻の２・３
章（ｐ．４４８）、１４−III 巻の８・１６章（ｐ．１
８３８）、同７・１４章（ｐ．１５６４）、Ｊ．Ｗ．Ｋ
ｎａｐｃｚｙｋ他、ジャーナル オブ アメリカン ケ
ミカルソサエティ（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）９
１巻、１４５（１９６９）、Ａ．Ｌ．Ｍａｙｃｏｋ他、
ジャーナルオブ オーガニック ケミストリィ（Ｊ．Ｏ
ｒｇ．Ｃｈｅｍ．）３５巻、２５３２（１９７０）、
Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ他、ポリマー ケミストリィ
エディション（Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．）１８
巻、２６７７（１９８０）、米国特許第２，８０７，６
４８号、同４，２４７，４７３号、特開昭５３−１０１
３３１号、特公平５−５３１６６号公報等に記載の方法
で合成することができる。本発明で酸発生剤として良好
に使用されるオニウム塩スルホネートの好ましい例を以
下に示す。

【００４９】

【化１９】

【００５０】

【化２０】

【００５１】

【化２１】

【００５２】

【化２２】

【００５３】

【化２３】

【００５４】

【化２４】

【００５５】

【化２５】

【００５６】

【化２６】

【００５７】

【化２７】

【００５８】

【化２８】

【００５９】

【化２９】

【００６０】

【化３０】

【００６１】これらの酸発生剤は、画像記録材料全固形
分に対し０．０１〜５０重量％、好ましくは０．１〜２
５重量％、より好ましくは０. ５〜２０重量％の割合で
画像記録材料中に添加される。添加量が０．０１重量％
未満の場合は、画像が得られず、また添加量が５０重量
％を超える場合は、印刷時に非画像部に汚れが発生する
ためいずれも好ましくない。これらの化合物は単独で使
用してもよく、また２種以上を組み合わせて使用しても
よい。

【００６２】［（Ｂ）酸により架橋する架橋剤］本発明
に用いることのできる酸により架橋する架橋剤（以下、
適宜、「酸架橋剤」又は単に「架橋剤」と称する）つい
て説明する。本発明に好ましく用いられる架橋剤として
は、以下のものが挙げられる。 （ｉ）アルコキシメチル基若しくはヒドロキシメチル基
で置換された芳香族化合物 （ii）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル
基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有する化合物 (iii) エポキシ化合物 これらについて詳細に説明する。 （ｉ）アルコキシメチル基若しくはヒドロキシメチル基
で置換された芳香族化合物としては、例えば、ヒドロキ
シメチル基、アセトキシメチル基、若しくはアルコキシ
メチル基でポリ置換されている芳香族化合物及び複素環
化合物が挙げられる。但し、レゾール樹脂として知られ
るフェノール類とアルデヒド類とを塩基性条件下で重縮
合させた樹脂状の化合物は含まない。レゾール樹脂は架
橋性に優れるものの、熱安定性が充分でなく、特に感光
性の材料に含有させて高温下に長期間保存した場合、均
一な現像が困難となり好ましくない。

【００６３】ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル
基でポリ置換された芳香族化合物及び複素環化合物のな
かでは、ヒドロキシ基に隣接する位置にヒドロキシメチ
ル基又はアルコキシメチル基を有する化合物を好ましい
例として挙げることができる。アルコキシメチル基の場
合はアルコキシメチル基が炭素数１８以下の化合物であ
ることが好ましい。特に好ましい例として下記一般式
（１）〜（４）で表される化合物を挙げることができ
る。

【００６４】

【化３１】

【００６５】

【化３２】

【００６６】前記各式中、Ｌ₁ 〜Ｌ₈ はそれぞれ独立に
メトキシメチル、エトキシメチル等のように炭素数十八
以下のアルコキシ基で置換されたヒドロキシメチル基又
はアルコキシメチル基を示す。これらは架橋効率が高
く、耐刷性を向上させることができる点で好ましい。上
記に例示された架橋性化合物は、単独で使用してもよ
く、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

【００６７】（ii）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アル
コキシメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有
する化合物としては、欧州特許公開（以下、ＥＰ−Ａと
記載する）第０，１３３，２１６号、西独特許第３，６
３４，６７１号、同第３，７１１，２６４号に開示され
た単量体及びオリゴマー−メラミン−ホルムアルデヒド
縮合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、ＥＰ−Ａ
第０，２１２，４８２号に開示されたアルコキシ置換化
合物等が挙げられる。さらに好ましい例としては、例え
ば、少なくとも２個の遊離Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ
−アルコキシメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル
基を有するメラミン−ホルムアルデヒド誘導体が挙げら
れ、中でもＮ−アルコキシメチル誘導体が特に好まし
い。

【００６８】(iii) エポキシ化合物としては、一つ以上
のエポキシ基を含む、モノマー、ダイマー、オリゴマ
ー、ポリマー状のエポキシ化合物を挙げることができ
る。例えば、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンと
の反応生成物、低分子量フェノール−ホルムアルデヒド
樹脂とエピクロルヒドリンとの反応生成物等が挙げられ
る。その他、米国特許第４，０２６，７０５号公報、英
国特許第１，５３９，１９２号公報に記載され、使用さ
れているエポキシ樹脂を挙げることができる。

【００６９】以上の（ｉ）〜(iii) の本発明に用いるこ
とのできる架橋剤は、画像記録材料全固形分に対し、５
〜８０重量％、好ましくは１０〜７５重量％、特に好ま
しくは２０〜７０重量％の範囲である。架橋剤の添加量
が５重量％未満であると得られる画像記録材料の感光層
の耐久性が悪化し、また、８０重量％を超えると保存時
の安定性の観点から好ましくない。

【００７０】（iv）本発明では、架橋剤として、下記一
般式（５）で表されるフェノール誘導体を使用すること
も好ましい。

【００７１】

【化３３】

【００７２】上記一般式（５）中、Ａｒ¹ は、置換基を
有していても良い芳香族炭化水素環を示す。原料の入手
性から、芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフ
タレン環またはアントラセン環が好ましい。また、好ま
しい置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１２個以下
の炭化水素基、炭素数１２個以下のアルコキシ基、炭素
数１２個以下のアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、
トリフルオロメチル基等が挙げられる。感度が高いとい
う理由で、Ａｒ¹ としては、置換基を有していないベン
ゼン環およびナフタレン環、または、ハロゲン原子、炭
素数６個以下の炭化水素基、炭素数６個以下のアルコキ
シ基、炭素数６個以下のアルキルチオ基、ニトロ基等を
置換基として有するベンゼン環およびナフタレン環が特
に好ましい。Ｒ¹ およびＲ² は、それぞれ同じでも異な
っていても良く、水素原子または炭素数１２個以下の炭
化水素基を示す。合成が容易であるという理由から、Ｒ
¹ およびＲ² は、水素原子またはメチル基であることが
特に好ましい。Ｒ³ は、水素原子または炭素数１２個以
下の炭化水素基を示す。感度が高いという理由で、Ｒ ³
は、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、シクロヘ
キシル基、ベンジル基等の炭素数７個以下の炭化水素基
であることが特に好ましい。ｍは、２〜４の整数を示
す。ｎは、１〜３の整数を示す。

【００７３】本発明において好適に用いられる上記一般
式（５）で表されるフェノール誘導体の具体例を以下に
示す（架橋剤［ＫＺ−１］〜［ＫＺ−８］）が、本発明
はこれに制限されるものではない。

【００７４】

【化３４】

【００７５】

【化３５】

【００７６】これらのフェノール誘導体は、従来公知の
方法により合成できる。例えば［ＫＺ−１］は、フェノ
ール、ホルムアルデヒドおよび、ジメチルアミンやモル
ホリン等の２級アミンを反応させ、トリ（ジアルキルア
ミノメチル）フェノールとし、次に無水酢酸と反応さ
せ、さらに炭酸カリウム等の弱アルカリ存在下、エタノ
ールと反応させることにより、下記反応式［１］に表す
如き経路で合成することができる。 反応式［１］

【００７７】

【化３６】

【００７８】さらに、別の方法によっても合成できる。
例えば［ＫＺ−１］は、フェノールとホルムアルデヒド
またはパラホルムアルデヒドを、ＫＯＨ等のアルカリ存
在下反応させ、２，４，６−トリヒドロキシメチルフェ
ノールとし、引き続き硫酸等の酸存在下、エタノールと
反応させることにより、下記反応式［２］に表す如き経
路でも合成することができる。 反応式［２］

【００７９】

【化３７】

【００８０】これらのフェノール誘導体は単独で使用し
てもよく、また２種類以上を組み合わせて使用してもよ
い。また、これらのフェノール誘導体を合成する際、フ
ェノール誘導体同士が縮合して２量体や３量体等の不純
物が副生成する場合があるが、これらの不純物を含有し
たまま用いても良い。なお、この場合でも、不純物は３
０％以下であることが好ましく、２０％以下であること
がさらに好ましい。

【００８１】本発明において、フェノール誘導体は全画
像記録材料固形分中、５〜７０重量％、好ましくは１０
〜５０重量％の添加量で用いられる。ここで、架橋剤と
してのフェノール誘導体の添加量が５重量％未満である
と画像記録した際の画像部の膜強度が悪化し、また、７
０重量％を越えると保存時の安定性の点で好ましくな
い。

【００８２】［（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂］本発明にお
いて使用されるアルカリ可溶性樹脂としては、ノボラッ
ク樹脂や側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマー
などが挙げられる。本発明においてアルカリ可溶性樹脂
として使用しうるノボラック樹脂は、フェノール類とア
ルデヒド類を酸性条件下で縮合させた樹脂である。好ま
しいノボラック樹脂としては、例えばフェノールとホル
ムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、ｍ−クレゾ
ールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、
ｐ−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラ
ック樹脂、ｏ−クレゾールとホルムアルデヒドから得ら
れるノボラック樹脂、オクチルフェノールとホルムアル
デヒドから得られるノボラック樹脂、ｍ−／ｐ−混合ク
レゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹
脂、フェノール／クレゾール（ｍ−，ｐ−，ｏ−または
ｍ−／ｐ−，ｍ−／ｏ−，ｏ−／ｐ−混合のいずれでも
よい）の混合物とホルムアルデヒドから得られるノボラ
ック樹脂などが挙げられる。これらのノボラック樹脂
は、重量平均分子量が８００〜２００，０００で、数平
均分子量が４００〜６０，０００のものが好ましい。

【００８３】また、本発明におけるアルカリ可溶性樹脂
としては、側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマ
ーも好ましく挙げることができる。このポリマーにおい
て、ヒドロキシアリール基とは−ＯＨ基が１個以上結合
したアリール基を示す。アリール基としては例えば、フ
ェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナント
レニル基等を挙げることができるが、入手の容易さ及び
物性の観点から、フェニル基あるいはナフチル基が好ま
しい。従って、ヒドロキシアリール基としては、ヒドロ
キシフェニル基、ジヒドロキシフェニル基、トリヒドロ
キシフェニル基、テトラヒドロキシフェニル基、ヒドロ
キシナフチル基、ジヒドロキシナフチル基等が好まし
い。これらのヒドロキシアリール基は、さらに、ハロゲ
ン原子、炭素数２０個以下の炭化水素基、炭素数２０個
以下のアルコキシ基及び炭素数２０個以下のアリールオ
キシ基等の置換基を有していてもよい。これらのヒドロ
キシアリール基は、ポリマーの側鎖としてペンダント状
にポリマー主鎖へ結合しているが、主鎖との間に連結基
を有していても良い。

【００８４】本発明において好適に用いられる、側鎖に
ヒドロキシアリール基を有するポリマーは、下記一般式
（IX）〜(XII) で表される構成単位の内いずれか１種を
含有するポリマーである。

【００８５】

【化３８】

【００８６】（式中、Ｒ¹¹は水素原子またはメチル基を
示す。Ｒ¹²およびＲ¹³は、同じでも異なっていてもよ
く、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１０個以下の炭化
水素基、炭素数１０個以下のアルコキシ基又は、炭素数
１０個以下のアリールオキシ基を示す。また、Ｒ¹²とＲ
¹³が結合して、縮環したベンゼン環やシクロヘキサン環
を形成していても良い。Ｒ¹⁴は、単結合または、炭素数
２０個以下の２価の炭化水素基を示す。Ｒ¹⁵は、単結合
または、炭素数２０個以下の２価の炭化水素基を示す。
Ｒ¹⁶は、単結合または、炭素数１０個以下の２価の炭化
水素基を示す。Ｘ1は、単結合、エーテル結合、チオエ
ーテル結合、エステル結合またはアミド結合を示す。ｐ
は１〜４の整数を示す。ｑ及びｒはそれぞれ０〜３の整
数を示す。）

【００８７】一般式（IX）〜(XII) で表される構成単位
のうち、本発明において好適に用いられる具体的な構成
単位の例を以下に挙げる。

【００８８】

【化３９】

【００８９】

【化４０】

【００９０】

【化４１】

【００９１】

【化４２】

【００９２】

【化４３】

【００９３】これらのポリマーは、従来公知の方法によ
り合成することができる。例えば、一般式（IX）で表さ
れる構成単位を有するポリマーは、ヒドロキシ基を酢酸
エステルあるいはｔ−ブチルエーテルとして保護され
た、対応するスチレン誘導体をラジカル重合もしくはア
ニオン重合しポリマーとした後、脱保護することにより
得られる。また、一般式（Ｘ）で表される構成単位を有
するポリマーは、特開昭６４−３２２５６号および同６
４−３５４３６号等に記載されている方法により合成す
ることができる。さらに、一般式（XI）で表される構成
単位を有するポリマーは、ヒドロキシ基を有するアミン
化合物と無水マレイン酸を反応させ、対応するモノマー
を得た後、ラジカル重合によりポリマーとすることによ
り得られる。また、一般式(XII) で表される構成単位を
有するポリマーは、クロロメチルスチレンやカルボキシ
スチレン等、合成上有用な官能基を持つスチレン類を原
料として一般(XII) に対応するモノマーへ誘導し、さら
にラジカル重合によりリマーとすることにより得られ
る。

【００９４】本発明では、一般式（IX）〜(XII) で表さ
れる構成単位のみから成るホモポリマーであっても良い
が、他の構成単位をも含む共重合体であっても良い。好
適に用いられる他の構成単位としては、例えば、アクリ
ル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルア
ミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチ
レン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリ
ル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノ
マーより導入される構成単位が挙げられる。

【００９５】用いることのできるアクリル酸エステル類
の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリ
レート、（ｎ−またはｉ−）プロピルアクリレート、
（ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−またはｔ−）ブチルアクリレー
ト、アミルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレ
ート、ドデシルアクリレート、クロロエチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シプロピルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルアク
リレート、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリ
レート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペ
ンタエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアク
リレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルア
クリレート、クロロベンジルアクリレート、２−（ｐ−
ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、フルフリル
アクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、
フェニルアクリレート、クロロフェニルアクリレート、
スルファモイルフェニルアクリレート等が挙げられる。

【００９６】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
（ｎ−またはｉ−）プロピルメタクリレート、（ｎ−、
ｉ−、ｓｅｃ−またはｔ−）ブチルメタクリレート、ア
ミルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレー
ト、ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒド
ロキシプロピルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチ
ルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ア
リルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタ
クリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレー
ト、グリシジルメタクリレート、メトキシベンジルメタ
クリレート、クロロベンジルメタクリレート、２−（ｐ
−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレート、フルフ
リルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリ
レート、フェニルメタクリレート、クロロフェニルメタ
クリレート、スルファモイルフェニルメタクリレート等
が挙げられる。

【００９７】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルア
クリルアミド、Ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ブチ
ルアクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリ
ルアミド、Ｎ−トリルアクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ヒド
ロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（スルファモイ
ルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニ
ル）アクリルアミド、Ｎ−（トリルスルホニル）アクリ
ルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチ
ル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチ
ル−Ｎ−メチルアクリルアミド等が挙げられる。

【００９８】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エ
チルメタクリルアミド、Ｎ−プロピルメタクリルアミ
ド、Ｎ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルメタク
リルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、
Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−トリルメタクリル
アミド、Ｎ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタクリルア
ミド、Ｎ−（スルファモイルフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（フェニルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（トリルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメ
タクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメ
タクリルアミド等が挙げられる。

【００９９】ビニルエステル類の具体例としては、ビニ
ルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート
等が挙げられる。スチレン類の具体例としては、スチレ
ン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルス
チレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘ
キシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロ
メチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシ
メチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレ
ン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレ
ン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシス
チレン等が挙げられる。

【０１００】これらのモノマーのうち特に好適に使用さ
れるのは、炭素数２０以下のアクリル酸エステル類、メ
タクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル
アミド類、ビニルエステル類、スチレン類及び、アクリ
ル酸、メタクリル酸、アクリロニトリルである。

【０１０１】これらを用いた共重合体中に含まれる一般
式（IX）〜(XII) で表される構成単位の割合は、５〜１
００重量％であることが好ましく、さらに好ましくは１
０〜１００重量％である。また、本発明で使用されるポ
リマーの分子量は好ましくは重量平均分子量で４０００
以上であり、更に好ましくは１万〜３０万の範囲であ
り、数平均分子量で好ましくは１０００以上であり、更
に好ましくは２０００〜２５万の範囲である。多分散度
（重量平均分子量／数平均分子量）は１以上が好まし
く、更に好ましくは１．１〜１０の範囲である。これら
のポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、
グラフトポリマー等いずれでも良いが、ランダムポリマ
ーであることが好ましい。

【０１０２】本発明で使用されるアルカリ可溶性樹脂は
１種類のみで使用してもよいし、あるいは２種類以上を
組み合わせて使用してもよい。アルカリ可溶性樹脂の添
加量は全画像記録材料固形分中、５〜９５重量％、好ま
しくは１０〜９５重量％、特に好ましくは２０〜９０重
量％で用いられる。アルカリ可溶性樹脂の添加量が５重
量％未満であると記録層の耐久性が悪化し、また、添加
量が９５重量％を超える場合は、画像形成されない。

【０１０３】［（Ｄ）赤外線吸収剤］本発明において使
用される赤外線吸収剤は、波長７６０ｎｍから１２００
ｎｍの赤外線を有効に吸収する染料または顔料である。
好ましくは、波長７６０ｎｍから１２００ｎｍに吸収極
大を有する染料または顔料である。染料としては、市販
の染料および文献（例えば「染料便覧」有機合成化学協
会編集、昭和４５年刊）に記載されている公知のものが
利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染
料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラ
キノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、
キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワ
リリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体など
の染料が挙げられる。好ましい染料としては例えば特開
昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、
特開昭５９−２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７
号等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７
３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８
−１９４５９５号等に記載されているメチン染料、特開
昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３
号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９
６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７
４４号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５
８−１１２７９２号等に記載されているスクワリリウム
色素、英国特許４３４，８７５号記載のシアニン染料等
を挙げることができる。

【０１０４】また、米国特許第５，１５６，９３８号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリールベ
ンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５
号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同
５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９
−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４
６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載
のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３
５１４号、同５−１９７０２号公報に開示されているピ
リリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料とし
て好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３
号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近
赤外吸収染料を挙げることができる。これらの染料のう
ち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリ
リウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体が
挙げられる。

【０１０５】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料およびカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便
覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７
年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６
年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年
刊）に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類と
しては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系
顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオ
キサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロ
ン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ま
しいものはカーボンブラックである。

【０１０６】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等）
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、
「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）およ
び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）
に記載されている。

【０１０７】顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範
囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲
にあることがさらに好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍ
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が０．０１μ
ｍ未満のときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点
で好ましくなく、また、１０μｍを超えると画像記録層
の均一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法とし
ては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分
散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、
サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミ
ル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミ
ル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加
圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載がある。

【０１０８】これらの染料もしくは顔料は、画像記録材
料全固形分に対し０．０１〜５０重量％、好ましくは
０．１〜１０重量％、染料の場合特に好ましくは０．５
〜１０重量％、顔料の場合特に好ましくは１．０〜１０
重量％の割合で画像記録材料中に添加することができ
る。顔料もしくは染料の添加量が０．０１重量％未満で
あると感度が低くなり、また５０重量％を超えると印刷
時非画像部に汚れが発生する。これらの染料もしくは顔
料は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を
設けそこへ添加してもよい。

【０１０９】［その他の成分］本発明では、前記５つの
成分が必須であるが、必要に応じてこれら以外に種々の
化合物を添加しても良い。例えば、可視光域に大きな吸
収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができ
る。具体的にはオイルイエロー＃１０１、オイルイエロ
ー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢ
Ｇ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイ
ルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラック
Ｔ−５０５（以上オリエント化学工業（株）製）、ビク
トリアピュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４
２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、
エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１４５１７０
Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレ
ンブルー（ＣＩ５２０１５）など、あるいは特開昭６２
−２９３２４７号公報に記載されている染料を挙げるこ
とができる。これらの染料は、画像形成後、画像部と非
画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好まし
い。尚、添加量は、画像記録材料全固形分に対し、０．
０１〜１０重量％の割合である。

【０１１０】また、本発明における画像記録材料中に
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭６２−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５１４
号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特
開昭５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３１４９
号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加す
ることができる。非イオン界面活性剤の具体例として
は、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパル
ミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノ
グリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル等が挙げられる。両性界面活性剤の具体例としては、
アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリア
ミノエチルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボ
キシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベ
タインやＮ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例え
ば、商品名アモーゲンＫ、第一工業（株）製）等が挙げ
られる。 上記非イオン界面活性剤および両性界面活性
剤の画像記録材料中に占める割合は、０．０５〜１５重
量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５重量％であ
る。

【０１１１】更に本発明の画像記録材料中には必要に応
じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられ
る。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブ
チル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸
ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジ
ル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン
酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸またはメタクリ
ル酸のオリゴマーおよびポリマー等が用いられる。これ
ら以外にも、エポキシ化合物、ビニルエーテル類等を添
加しても良い。

【０１１２】本発明の画像記録材料は、通常上記各成分
を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布することによ
り製造することができる。ここで使用する溶媒として
は、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチル
エチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メト
キシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテー
ト、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキ
シエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラ
メチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、
水等をあげることができるがこれに限定されるものでは
ない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用され
る。溶媒中の上記成分（添加剤を含む全固形分）の濃度
は、好ましくは１〜５０重量％である。また塗布、乾燥
後に得られる支持体上の塗布量（固形分）は、用途によ
って異なるが、平版印刷用版材についていえば一般的に
０．５〜５．０ｇ／ｍ² が好ましい。塗布する方法とし
ては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バ
ーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗
布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、
ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくな
るにつれて、見かけの感度は大になるが、画像記録膜の
皮膜特性は低下する。

【０１１３】本発明における画像記録層中には、塗布性
を良化するための界面活性剤、例えば特開昭６２−１７
０９５０号公報に記載されているようなフッ素系界面活
性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全画
像記録材料固形分中０．０１〜１重量％、さらに好まし
くは０．０５〜０．５重量％である。

【０１１４】本発明に使用される支持体としては、寸度
的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラスチック
（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例え
ば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等）、上記のごとき金属が
ラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチ
ックフィルム等が含まれる。本発明の支持体としては、
ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、
その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミ
ニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純
アルミニウム板およびアルミニウムを主成分とし、微量
の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミ
ネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよ
い。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、
鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビス
マス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の
含有量は高々１０重量％以下である。本発明において特
に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完
全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難である
ので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このよう
に本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特
定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアル
ミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用
いられるアルミニウム板の厚みはおよそ０．１ｍｍ〜
０．６ｍｍ程度、好ましくは０．１５ｍｍ〜０．４ｍ
ｍ、特に好ましくは０．２ｍｍ〜０．３ｍｍである。

【０１１５】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
および化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。また、電気化学的な粗面化法として
は塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行う
方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号に開示さ
れているように両者を組み合わせた方法も利用すること
ができる。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必
要に応じてアルカリエッチング処理および中和処理され
た後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるため
に陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化
処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形
成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、
リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いら
れる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適
宜決められる。

【０１１６】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が１〜８０重量％溶液、液温は５〜７０℃、電流
密度５〜６０Ａ／ｄｍ² 、電圧１〜１００Ｖ、電解時間
１０秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は１．０ｇ／ｍ² より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アル
ミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発
明に使用される親水化処理としては、米国特許第２，７
１４，０６６号、同第３，１８１，４６１号、第３，２
８０，７３４号および第３，９０２，７３４号に開示さ
れているようなアルカリ金属シリケート（例えばケイ酸
ナトリウム水溶液）法がある。この方法においては、支
持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるかまた
は電解処理される。他に特公昭３６−２２０６３号公報
に開示されているフッ化ジルコン酸カリウムおよび米国
特許第３，２７６，８６８号、同第４，１５３，４６１
号、同第４，６８９，２７２号に開示されているような
ポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられ
る。

【０１１７】本発明の画像記録材料は、必要に応じて支
持体上に下塗層を設けることができる。下塗層成分とし
ては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシ
メチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、２−
アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホ
ン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナ
フチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホス
ホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレンジホスホ
ン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェ
ニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸およびグ
リセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよい
フェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキ
ルホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸などの有機
ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸
類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロ
キシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、２種
以上混合して用いてもよい。有機下塗層の被覆量は、２
〜２００ｍｇ／ｍ² が適当である。

【０１１８】以上のようにして、本発明の画像記録材料
を用いた平版印刷用版材を作成することができる。この
平版印刷用版材は、波長７６０ｎｍから１２００ｎｍの
赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザにより画
像露光される。本発明においては、レーザ照射後すぐに
現像処理を行っても良いが、レーザ照射工程と現像工程
の間に加熱処理を行うことが好ましい。加熱処理の条件
は、８０℃〜１５０℃の範囲内で１０秒〜５分間行うこ
とが好ましい。この加熱処理により、レーザ照射時、記
録に必要なレーザエネルギーを減少させることができ
る。

【０１１９】必要に応じて加熱処理を行った後、本発明
の画像記録材料はアルカリ性水溶液にて現像される。本
発明の画像記録材料の現像液および補充液としては従来
より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例え
ば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、第２リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、
同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリ
ウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニ
ウム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機アルカリ
塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルア
ミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチル
アミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、
ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−
ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールア
ミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールア
ミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エ
チレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用い
られる。これらのアルカリ剤は単独もしくは２種以上を
組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤の中で特
に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸塩の成
分である酸化珪素ＳｉＯ₂ とアルカリ金属酸化物Ｍ₂ Ｏ
の比率と濃度によって現像性の調節が可能となるためで
あり、例えば、特開昭５４−６２００４号公報、特公昭
５７−７４２７号に記載されているようなアルカリ金属
ケイ酸塩が有効に用いられる。

【０１２０】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液（補充液）
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量の平版印刷用版材を処理
できることが知られている。本発明においてもこの補充
方式が好ましく適用される。現像液および補充液には現
像性の促進や抑制、現像カスの分散および印刷版画像部
の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活
性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤とし
ては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性
界面活性剤があげられる。更に現像液および補充液には
必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、
亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩
等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤
を加えることもできる。上記現像液および補充液を用い
て現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有
するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂
化液で後処理される。本発明の画像記録材料を印刷用版
材として使用する場合の後処理としては、これらの処理
を種々組み合わせて用いることができる。

【０１２１】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広
く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と
後処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理
液槽およびスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を
水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をス
プレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。
また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイ
ドロールなどによって印刷用版材を浸漬搬送させて処理
する方法も知られている。このような自動処理において
は、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補
充しながら処理することができる。また、実質的に未使
用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用
できる。

【０１２２】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭６１
−２５１８号、同５５−２８０６２号、特開昭６２−３
１８５９号、同６１−１５９６５５号の各公報に記載さ
れているような整面液で処理することが好ましい。その
方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂
綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たした
バット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コー
ターによる塗布などが適用される。また、塗布した後で
スキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量
を均一にすることは、より好ましい結果を与える。整面
液の塗布量は一般に０．０３〜０．８ｇ／ｍ² （乾燥重
量）が適当である。

【０１２３】整面液が塗布された平版印刷版は必要であ
れば乾燥された後、バーニングプロセッサー（たとえば
富士写真フイルム（株）より販売されているバーニング
プロセッサー：ＢＰ−１３００）などで高温に加熱され
る。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成してい
る成分の種類にもよるが、１００〜３００℃の範囲で１
〜２０分の範囲が好ましい。バーニング処理された平版
印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従
来より行なわれている処理を施こすことができるが水溶
性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合に
はガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略すること
ができる。この様な処理によって得られた平版印刷版は
オフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いら
れる。

【０１２４】

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。架橋剤［ＫＺ−９］の合成 １−［α−メチル−α−（４−ヒドロキシフェニル）エ
チル］―４―［α、α−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）エチル］ベンゼンを、水酸化カリウム水溶液中で、
ホルマリンと反応させた。反応溶液を硫酸で酸性とし晶
析させ、さらにメタノールから再結晶することにより、
下記構造の架橋剤［ＫＺ−１］を得た。逆相ＨＰＬＣに
より純度を測定したところ、９２％であった。

【０１２５】

【化４４】

【０１２６】架橋剤［ＫＺ−１０］の合成 ｏ−クレゾールを、水酸化カリウム水溶液中で、パラホ
ルムアルデヒドと反応させた。反応溶液を硫酸で酸性と
し晶析させ、さらにカラムクロマトグラフィーにより精
製し、下記構造の架橋剤［ＫＺ−２］を得た。逆相ＨＰ
ＬＣにより純度を測定したところ、９６％であった。

【０１２７】

【化４５】

【０１２８】バインダーポリマー［ＢＰ−１］の入手 丸善石油化学（株）製のポリ（ｐ−ヒドロキシスチレ
ン）、マルカ リンカーＭ Ｓ−４Ｐ（商品名）を入手
し、［ＢＰ−１］とした。

【０１２９】（実施例１〜４）厚さ０．３０ｍｍのアル
ミニウム板（材質１０５０）をトリクロロエチレン洗浄
して脱脂した後、ナイロンブラシと４００メッシュのパ
ミストン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、よく
水で洗浄した。この板を４５℃の２５％水酸化ナトリウ
ム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを行い水洗後、さ
らに２％ＨＮＯ ₃ に２０秒間浸漬して水洗した。この時
の砂目立て表面のエッチング量は約３ｇ／ｍ² であっ
た。次にこの板を７％Ｈ₂ ＳＯ₄ を電解液として電流密
度１５Ａ／ｄｍ² で３ｇ／ｍ² の直流陽極酸化皮膜を設
けた後、水洗乾燥した。次にこのアルミニウム板に下記
下塗り液を塗布し、８０℃で３０秒間乾燥した。乾燥後
の被覆量は１０ｍｇ／ｍ² であった。

【０１３０】 下塗り液 β−アラニン ０．１ ｇ フェニルホスホン酸 ０．０５ｇ メタノール ４０ ｇ 純水 ６０ ｇ

【０１３１】次に、下記溶液［Ｐ］を調製し、この溶液
を、上記の下塗り済みのアルミニウム板に塗布し、１０
０℃で１分間乾燥してネガ型平版印刷用版材［Ｐ−１］
〜［Ｐ−４］を得た。乾燥後の被覆量は１．５ｇ／ｍ²
であった。

【０１３２】 溶液［Ｐ］ 酸無水物 ０．０５ｇ 酸発生剤［ＳＨ−１］ ０．３ ｇ 架橋剤 ０．５ ｇ バインダーポリマー［ＢＰ−１］ １．５ ｇ 赤外線吸収剤［ＩＫ−１］ ０．０７ｇ ＡＩＺＥＮ ＳＰＩＬＯＮ ＢＬＵＥ Ｃ−ＲＨ ０．０３５ｇ （保土ヶ谷化学（株）製） メガファックＦ−１７７ ０．０１ｇ （大日本インキ化学工業（株）製、フッ素系界面活性剤） メチルエチルケトン １２ ｇ メチルアルコール １０ ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ８ ｇ

【０１３３】溶液［Ｐ−１］〜［Ｐ−４］に用いた酸無
水物、および架橋剤を表１に示す。また、酸発生剤［Ｓ
Ｈ−１］および赤外線吸収剤［ＩＫ−１］の構造を以下
に示す。

【０１３４】

【化４６】

【０１３５】得られたネガ型平版印刷用版材［Ｐ−１］
〜［Ｐ−４］を、波長８２０〜８５０ｎｍ程度の赤外線
を発する半導体レーザで走査露光した。露光後、パネル
ヒーターにて、１１０℃で３０秒間加熱処理した後、富
士写真フイルム（株）製現像液、ＤＰ−４（１：８の水
希釈液）にて現像した。この際得られた画像の線幅とレ
ーザ出力、光学系でのロスおよび走査速度を基に、記録
に必要なエネルギー量を算出した。結果を表１に示す。
いずれも２００ｍＪ／ｃｍ² 以下のエネルギー量で記録
可能であった。

【０１３６】

【表１】

【０１３７】（比較例１）実施例１で用いた溶液［Ｐ−
１］において、フタル酸無水物を使用しないこと以外
は、実施例１と同様にして、溶液［Ｑ−１］を調製し
た。この溶液を、実施例１で用いた下塗り済みのアルミ
ニウム板に塗布し、１００℃で１分間乾燥してネガ型平
版印刷用版材［Ｑ−１］を得た。乾燥後の重量は１．５
ｇ／ｍ² であった。得られた平版印刷用版材［Ｑ−１］
を、実施例１と同様に画像形成した。この際の記録に必
要なエネルギー量を算出したところ、２２０ｍＪ／ｃｍ
² のエネルギーが必要であった。

【０１３８】（比較例２）実施例１で用いた溶液［Ｐ−
１］において、フタル酸無水物の代わりにテレフタル酸
を使用したこと以外は、実施例１と同様にして、溶液
［Ｒ−１］を調製した。この溶液を、実施例１で用いた
下塗り済みのアルミニウム板に塗布し、１００℃で１分
間乾燥してネガ型平版印刷用版材［Ｒ−１］を得た。乾
燥後の重量は１．５ｇ／ｍ² であった。得られた平版印
刷用版材［Ｒ−１］を、実施例１と同様に画像形成し
た。この際の記録に必要なエネルギー量を算出したとこ
ろ、２４０ｍＪ／ｃｍ² のエネルギーが必要であった。

【０１３９】

【発明の効果】本発明のネガ型平版印刷用版材は、赤外
線を放射する固体レーザ及び半導体レーザを用いて記録
することにより、コンピューター等のデジタルデータか
ら直接製版可能であり、さらにレーザ露光時の感度が高
いという効果を奏する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０６ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０６ 7/033 7/033 7/038 7/038

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記（Ａ）〜（Ｅ）よりなることを特徴
   とするネガ型画像記録材料。 （Ａ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物、 （Ｂ）酸により架橋する架橋剤、 （Ｃ）アルカリ可溶性樹脂の少なくとも１種、 （Ｄ）赤外線吸収剤、 （Ｅ）酸無水物。