JPH11108976A - 誘電率計測装置 - Google Patents

誘電率計測装置

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JPH11108976A
JPH11108976A JP9275553A JP27555397A JPH11108976A JP H11108976 A JPH11108976 A JP H11108976A JP 9275553 A JP9275553 A JP 9275553A JP 27555397 A JP27555397 A JP 27555397A JP H11108976 A JPH11108976 A JP H11108976A
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dielectric constant
sample
voltage
change
probe
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JP9275553A
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Inventor
Nobuyuki Nakagiri
伸行 中桐
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 薄膜の局所的な強誘電体特性を評価する。 【解決手段】 試料1に信号電圧を印加した状態で、試
料1の膜厚の変化を、カンチレバー4の撓みとして、ビ
ーム光源5および光位置検出器6により検出し、信号電
圧の交流成分を参照信号として前記撓みをロックインア
ンプ10により同波検波し、かつ、探針4aと試料台2
との間の静電容量を静電容量センサー8で検出して、こ
れを信号電圧の交流成分を参照信号としてロックインア
ンプ10により同波検波し、ロックインアンプ9により
同波検波して得られた膜厚の変化分、および、ロックイ
ンアンプ10により同波検波された静電容量の変化分に
基づいて、誘電率に関する量を情報処理装置12により
求める。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、一方が探針である
電極間に被測定物を備え、電圧を印加する測定装置の一
種で、印加電圧を変化させたときの誘電率の変化の割合
である微分誘電率を示す物理量を計測するための誘電率
計測装置に係り、特に、薄膜の局所的な増分誘電率を示
す物理量を計測することに好適な誘電率計測装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年、高密度のランダム・アクセス・メ
モリーや、不揮発性ランダム・アクセス・メモリーなど
の半導体デバイスへの応用から、強誘電体薄膜が注目を
集めている。このような応用には、高い誘電率、高い残
留分極(remnant polarization)、および、低い抗電場
(coercive field)などが必要である。多くの強誘電体
のうち、これらの要求を満たす強誘電体として、例え
ば、Pb(ZrxTi1-x)O3 (PZT)が挙げられ
る。ところが、薄膜の膜厚が薄くなると、これらの特性
が得られなくなることが知られている。この原因は未だ
明確ではない。
【0003】この特性を明らかにするためには、強誘電
体薄膜の局所的な評価が必要である。この目的のため、
従来、走査型プローブ技術を用いた強誘電体薄膜の観察
が試みられている。その観察の方法は、次の3種類に分
類できる。
【0004】第1の種類に分類される方法は、原子間力
顕微鏡のカンチレバーの探針に及ぼされる静電気力を、
探針を試料表面を走査しつつ計測する方法である。この
方法によれば、強誘電体薄膜の表面に表れている分極電
荷の分布が求められ、これから、強誘電体薄膜の分域構
造(domain structure)、ポーリングの状態に関する知
見を得ることができる。
【0005】第2の種類に分類される方法は、原子間力
顕微鏡のカンチレバーの探針を試料表面に接触させた状
態で、探針と探針直下の強誘電体薄膜に電圧を印加し
て、膜厚の変化を局所的に計測する方法である。実際の
計測では、誘電体薄膜に電極を設け、これと探針との間
に交流電圧を印加して、膜厚の変化による探針の動きを
カンチレバーの撓み変化として検出している。
【0006】第3の種類に分類される方法は、前記第2
の種類に分類される方法と同様に、探針を試料表面に接
触させ、探針と強誘電体薄膜の下の電極との間に電圧を
印加した状態とした上で、探針と電極との間の静電容量
を局所的に計測する方法である。計測された静電容量あ
るいは静電容量の電圧依存をマッピングすることによ
り、試料表面における、強誘電体特性の2次元分布を得
ることができる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】前述したように、従来
の技術によって、分極電荷の分布、ならびに、印加電圧
の変化に伴う、膜厚の変化および静電容量の変化の情報
をそれぞれ得ることができ、得られたそれぞれの情報
は、強誘電体特性を評価するために利用されている。
【0008】ところが、強誘電体特性を評価するために
は、前述した誘電率、残留分極、抗電場に関する情報を
得ることが好ましい。本発明者らの検討によれば、この
ような、強誘電体特性を示す情報を得るために、電圧の
変化に対する誘電率の変化の割合を示す微分誘電率を示
す物理量を計測することが有効であると考えられる。
【0009】本発明は、薄膜の局所的な微分誘電率を示
す物理量を計測することができる誘電率計測装置を提供
することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明の一態様によれば、計測すべき試料の局所的
な微小領域で電圧の変化に対する誘電率の特性を計測す
る誘電率計測装置において、電極を有した試料台と、導
電性の探針が一端に設けられ、他端が固定されたカンチ
レバーと、前記試料台に設置された試料と前記探針とを
相対的に移動させる駆動機構と、前記探針および前記電
極間に印加する任意の波形の電圧を発生させる信号源
と、前記カンチレバーの変位を検出する変位検出部と、
前記探針および前記電極間の静電容量を検出し、前記信
号源から出力された電圧の変化に対する静電容量の変化
の割合を出力する第1の検出部と、前記変位検出部で検
出された信号のうち、前記信号源から出力された波形と
同周期で変化する波形成分を検出して、前記信号源から
出力された電圧の変化に対する前記カンチレバーの変位
の割合を出力する第2の検出部と、前記第1の検出部で
検出された信号と、前記第2の検出部で検出された信号
とから、前記試料の電圧に対する誘電率の変化を出力す
る演算部とを有することを特徴とする誘電率計測装置が
提供される。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態について説明する。
【0012】図1において、本実施の形態における誘電
率計測装置は、試料台2と、スキャナー3と、探針4a
が設けられたカンチレバー4と、ビーム光源5と、光位
置検出器6と、信号源7と、静電容量センサー8と、ロ
ックインアンプ9および10と、スキャナー制御装置1
1と、情報処理装置12と、表示装置13とを有して構
成される。
【0013】前記試料台2は、試料1を載置するための
ものである。試料台2は、導電性の材料で形成され、載
置される試料1と電気的に接続される。
【0014】前記スキャナー3は、試料台2に載置され
た試料1と探針4aとを相対的に移動させるためのもの
である。この移動は、試料1と探針4aとの距離を変化
させる方向、および、試料1の表面を走査する方向につ
いて行われる。試料1の表面を走査するための移動は、
例えば、試料1の表面に沿う面内で互いに直交する2方
向について行うことができる。
【0015】本実施の形態では、スキャナー3が、前記
試料台2を移動可能に支持するように構成される場合に
ついて説明するが、前記ホールダー4bを移動可能に支
持して、探針4aを移動させる構成としてもよい。
【0016】スキャナー3は、例えば、チューブ型ピエ
ゾ素子を用いたチューブ型スキャナーを用いて構成する
ことができる。これによって、試料1と探針4aとの距
離を変化させるz方向と、試料1の表面に沿う面内で互
いに直交するx方向およびy方向とについて移動するこ
とができるスキャナーを単純な構成で実現することがで
きる。
【0017】前記カンチレバー4は、探針4aが一方の
端に設けられ、他方の端がホールダー4bにより図示し
ていない支持体により支持されている。カンチレバー4
は、探針4aの先端からホールダー4bまで電気的な導
通が得られるように構成されている。導通を得るために
は、例えば、表面に導電性の物質をコートすることがで
きる。導電性の物質としては、例えば、金属、より具体
的には、ニッケルクロム(NiCr)などを用いること
ができる。
【0018】前記ビーム光源5および光位置検出器6
は、前記カンチレバー4の撓みを検出するためのもので
ある。ビーム光源5からカンチレバー4に照射されたビ
ーム光は、カンチレバー4の背面(探針4aが設けられ
た面とは反対側の面)において反射され、光位置検出器
6によりその位置が検出される。これによって、探針4
aに、試料1との間で相互作用が働くことによるカンチ
レバー4の撓みを検出することができる。
【0019】前記ビーム光源5は、ビーム状の光束を射
出できればよく、例えば、レーザー光源、コリメート光
学系を備えた光源などを用いて構成することができる。
【0020】前記光位置検出器6は、カンチレバー4に
おける反射光を受光し、その受光位置の変化を検出でき
ればよく、例えば、2分割ホトセンサーを用いて構成す
ることができる。
【0021】前記信号源7は、一方を前記試料台2に接
続されている。他方を、アース接続している。これによ
り、カンチレバー4を介して探針4aと、試料台2との
間に信号電圧を印加することができる。すなわち、試料
台2に載置されている試料1に電圧を印加して局所的に
電場を形成することができる。
【0022】信号源7は、所望の周波数、振幅電圧の交
流成分が、指定されたバイアス電圧に重畳された信号電
圧を出力し、探針4aと試料台2との間に印加すること
ができる。これら、周波数、振幅電圧、および、バイア
ス電圧の指定は、予め信号源7に設定しておくことによ
って成されてもよいし、外部、例えば、コンピューター
等の情報処理装置12で信号源を制御することでもよ
い。
【0023】次に、静電容量センサー8は、一方を信号
源7に、他方をホールダー4bに接続されている。この
静電容量センサー8では、カンチレバー4を介して探針
4aと、試料台2との間の静電容量を検出し、静電容量
の大きさに応じた信号を出力する。
【0024】次に、ロックインアンプ9は、静電容量セ
ンサー8から出力される静電容量に関する出力信号と、
信号源7からの試料台−探針間に印加される出力電圧と
が入力される。そして、ロックインアンプ9では、静電
容量センサー8からの出力信号から、信号源7からの出
力信号と同周期の信号成分を検波し、信号源7からの出
力信号の変化量に対する試料台−探針間の静電容量の変
化量を検出する。
【0025】また、ロックインアンプ10は、光位置検
出器6から出力されるカンチレバー4の変位に関する出
力信号と、信号源7からの出力電圧とが入力される。そ
して、ロックインアンプ10では、光位置検出器6から
出力される信号から、信号源7からの出力信号と同周期
の信号成分を検波し、信号源7からの出力電圧の変化量
に対する試料の変位量を検出する。
【0026】次に、スキャナー制御装置11は、光位置
検出器6からの出力信号を用いて、探針4aおよび試料
1の距離を制御するためのものである。すなわち、光位
置検出器6からの出力から、予め定められた閾値周波数
より低い周波数の成分の信号を検出する。これは、走査
時において試料表面に形状に起因して変化したカンチレ
バーの撓みを検出するためである。そして、検出された
信号は、常に一定の信号となるように、スキャナー3を
駆動して、探針4aおよび試料1の距離を帰還制御して
いる。前記光位置検出器6からの信号は、カンチレバー
4の撓み量を表しているから、カンチレバー4の撓みを
一定とするように、前記スキャナー3を制御することが
できる。
【0027】一般には、探針4aと試料台2との間に印
加される交流電圧の周波数に対して、走査速度に対する
試料表面の凹凸変化は、長い周期であるので、閾値周波
数は、信号源7が生成する信号電圧の交流成分の周波数
より低い周波数に定められている。
【0028】例えば、前述したように、光位置検出器6
として、2分割ホトディテクターが用いられる場合は、
カンチレバー4の撓み量に比例した電圧が出力されてい
るから、これが予め定められた一定値となるように、前
記探針4aおよび試料1の距離をスキャナー3によって
制御する。
【0029】情報処理装置12は、ロックインアンプ9
によって検出された印加電圧の変化に対する静電容量の
変化分、および、前記ロックインアンプ10によって検
出された印加電圧の変化に対するカンチレバー4の撓み
の変化分に基づいて、試料1の誘電率に関する情報を求
めるためのものである。このための演算処理については
後述する。
【0030】情報処理装置12は、さらに、スキャナー
制御装置11から、試料表面の垂直方向についてスキャ
ナー3に与えた制御量を、試料1の表面の起伏を表す情
報として出力することができる。
【0031】ところで、本装置は、前述の、印加電圧の
変化に対する静電容量の変化分、印加電圧の変化に対す
るカンチレバー4の撓みの変化分、および、走査時にお
けるカンチレバー4の撓みの変化を検出するに際し、こ
れらを相互に同期して検出することができる。この目的
のために、例えば、アナログ信号としてこれらの情報を
受け付け、標本化タイミングが互いに同期されたアナロ
グ−ディジタル変換器によってディジタル化されたデー
ターを受け付けることができる。このようなアナログ−
ディジタル変換器は、情報処理装置12におけるインタ
フェースとして設けられてもよいし、情報処理装置12
の前段に設けられるものであってもよい。
【0032】このように計測の同期をとることにより、
これらの情報が取得される同時性を保証することができ
る。従って、探針4aを試料1の表面を走査しつつ計測
を行う場合の、計測部位の局所性を保証することができ
る。すなわち、各情報が取得される位置を含む領域を局
所化することができる。従って、試料1の強誘電体特性
を評価するための物理量を、それぞれの局所化された領
域についてそれぞれ取得することができる。
【0033】また、この目的のためには、試料1の表面
の走査を複数回行い、これらの走査位置が再現されると
いう条件のもとで、前述の計測をそれぞれの走査におい
てそれぞれ行ってもよい。
【0034】表示装置13は、情報処理装置12におい
て処理された結果を表示するためのものである。表示装
置13は、例えば、CRTなどのVDU(visual displ
ay unit)を用いて構成することができる。さらに、表
示装置13は、情報処理装置12に対する操作を受け付
けるためのマンマシンインタフェースとしても用いるこ
とができる。
【0035】また、処理された結果を、紙、磁気ディス
クなどの記録媒体に出力するための出力装置を備えても
よい。
【0036】次に、図2を参照して、本発明を適用した
誘電率計測装置の作用について説明する。
【0037】図2に、第1の実施の形態における探針4
a(図1参照)の近傍を拡大して示す。図2において、
一方の面に電極1aが形成された強誘電体薄膜1が、試
料として試料台2に載置されている。また、強誘電体薄
膜1の他方の面に探針4aが接する状態で、カンチレバ
ー4が支持されている。
【0038】探針4aを面積Sの電極とみなすと、探針
4aと強誘電体薄膜1の下の電極1aとの間の静電容量
Cは、
【0039】
【数1】
【0040】と表される。ここで、zは、探針4aと電
極1aとの間の距離であり、aは、強誘電体薄膜1の誘
電率である。探針4aと電極1aとの間に信号電圧Vを
印加すると、aと、zとが変化する。従って、Cの全微
分をとると、
【0041】
【数2】
【0042】となる。すなわち、信号電圧Vを変化させ
たときに誘起される静電容量の変化は、誘電率の変化に
由来するものと、膜厚の変化に由来するものとが合わさ
った量であることが示される。
【0043】実際には、式(1)は単純化されている
が、基本的には、静電容量は誘電率と、探針−電極間の
距離との関数であり、任意の探針4aの形状に対して、
シミュレーションなどによって、近似的な関数を得るこ
とができる。式(2)において、(dC/dV)および
(∂z/∂V)が計測できれば、(∂a/∂V)が求め
られる。ここで、aは、誘電率εに関する量であること
から、(∂a/∂V)は、微分誘電率を示す物理量であ
り、誘電率、残留分極、抗電場に関する情報を得ること
ができる。従って、強誘電体薄膜における、同一の局所
的な部位について、(dC/dV)および(∂z/∂
V)を同時に計測することにより、局所的な強誘電体特
性を評価することができる。
【0044】なお、実際の計測においては、信号電圧の
変分、すなわち、履歴曲線の非線形性を無視するに十分
な程度に、交流成分の振幅を小さくとることにより、微
分とみなすことができる。
【0045】ここで、探針aと、電極1aとの間隔zが
既知であることから、信号電圧の変分は、強誘電体薄膜
1に形成される電場の変分に置き換えることができる。
従って、有限の電圧変分を与えて計測される誘電率を示
す量aの変分から、膜厚変化を考慮に入れてない微分誘
電率(∂ε/∂E)を示す量を得ることもできる。
【0046】さらに、(∂a/∂V)の計測を、信号電
圧の直流バイアス成分を変化させつつ行うことにより、
強誘電体薄膜1の履歴曲線を調べることができる。そし
て、この履歴曲線から、残留分極、抗電場などを求める
ことができる。
【0047】なお、以上の説明では、強誘電体薄膜を評
価する場合について説明したが、同様な計測を、反強誘
電体薄膜を対象として行って、反強誘電体薄膜の局所的
な性質の評価に適用してもよい。
【0048】(実施例)次に、図1を参照して、本発明
の実施例について説明する。
【0049】試料1は、シリコンウエハー上に白金を厚
さ200nmとなるように、スパッタリングで成膜して
電極1a(図2参照)とした後、強誘電体薄膜としてP
bTiO3膜をゾル−ゲル法で、厚さ100nmに作成
した。
【0050】この試料1は、金属製の試料台2に取り付
けた。これにより、電極1a(図2参照)と試料台2と
は電気的に接続された。
【0051】試料台2は、チューブ型スキャナーを用い
て構成したスキャナー3に取り付けた、これにより、試
料1をx、y、zの3方向に動かすことができる。
【0052】カンチレバー4は、先端に探針4aが形成
されたものを用い、他方の端をホールダー4bにより保
持した。カンチレバー4は、金属NiCrをコートし、
探針4aの先端からホールダー4bまで電気的導通を得
た。
【0053】カンチレバー4の探針4aと、試料1との
間に発生する相互作用によるカンチレバー4の撓みは、
ビーム光源5から射出されたビーム光の、カンチレバー
4による反射光を光位置検出器6でモニターした。ビー
ム光源には、レーザー光源を用い、光位置検出器6は、
2分割ホトディテクターを用いて構成した。
【0054】試料1には、試料台2を通して100kH
z、電圧振幅4Vの交流電圧を、信号源7により印加し
た。カンチレバー4の探針4aと、試料1の電極1a
(図2参照)との間の静電容量は、静電容量センサー8
により検出し、信号源7から信号電圧の交流成分を参照
信号として、ロックインアンプ9で同波検波して測定し
た。これにより、試料−探針間に印加された交流成分に
対する静電容量の変化、すなわち、(dC/dV)が得
られた。
【0055】カンチレバー4の撓み量は、光位置検出器
6からの出力を、ロックインアンプ10で同波検波して
測定した。この場合も、参照信号は、信号源7からの信
号電圧の交流成分とした。これにより、交流成分に対す
る膜厚の変化(∂z/∂V)が計測された。
【0056】また、光位置検出器6からの出力の直流成
分が一定になるように、スキャナー3をスキャナー制御
装置11で制御した。ここで、光位置検出器6として用
いた2分割ホトディテクターからは、カンチレバー4の
撓み量に比例した電圧が出力されているため、カンチレ
バー4の撓みが一定になるように制御することができ
た。
【0057】このカンチレバー4の撓み量の設定、スキ
ャナー3に与えた信号、ロックインアンプ9,10から
の信号は、情報処理装置12で集中して管理した。得ら
れたデーターについて、演算処理して(∂a/∂V)を
求めることができた。求めた(∂a/∂V)は、スキャ
ナー3に走査を支持した移動量とからマッピングし、強
誘電体薄膜1における2次元上の微分誘電率の分布を示
す情報を得ることができた。この分布は、CRTを用い
て構成した表示装置13によって表示した。
【0058】
【発明の効果】本発明によれば、強誘電体薄膜の局所的
な微分誘電率を示す物理量を計測することができる。
【0059】また、試料に印加する信号電圧の直流バイ
アス成分を変えつつ、各直流バイアスに対応する微分誘
電率に関する量を計測することにより、試料の履歴曲
線、誘電率、残留分極、抗電場に関する知見を得ること
ができる。
【0060】そして、このようにして得られた知見は、
薄膜の局所的な強誘電体特性を評価することに利用する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明を適用した誘電率計測装置の構成を示
すブロック図である。
【図2】 本発明を適用した誘電率計測装置の、探針近
傍における拡大断面図である。
【符号の説明】
1…試料、1a…電極、2…試料台、3…スキャナー、
4…カンチレバー、4a…探針、4b…ホールダー、5
…ビーム光源、6…光位置検出器、7…信号源、8…静
電容量センサー、9,10…ロックインアンプ、11…
スキャナー制御装置、12…情報処理装置、13…表示
装置。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 計測すべき試料の局所的な微小領域で電
    圧の変化に対する誘電率の特性を計測する誘電率計測装
    置において、 電極を有した試料台と、 導電性の探針が一端に設けられ、他端が固定されたカン
    チレバーと、 前記試料台に設置された試料と前記探針とを相対的に移
    動させる駆動機構と、 前記探針および前記電極間に印加する任意の波形の電圧
    を発生させる信号源と、 前記カンチレバーの変位を検出する変位検出部と、 前記探針および前記電極間の静電容量を検出し、前記信
    号源から出力された電圧の変化に対する静電容量の変化
    の割合を出力する第1の検出部と、 前記変位検出部で検出された信号のうち、前記信号源か
    ら出力された波形と同周期で変化する波形成分を検出し
    て、前記信号源から出力された電圧の変化に対する前記
    カンチレバーの変位の割合を出力する第2の検出部と、 前記第1の検出部で検出された信号と、前記第2の検出
    部で検出された信号とから、前記試料の電圧に対する誘
    電率の変化を出力する演算部とを有することを特徴とす
    る誘電率計測装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の誘電率計測装置におい
    て、 前記変位検出部によって検出された信号のうち、前記信
    号源から発せられた電圧の波形の周期とは異なる周期を
    有した波形を検出して、前記異なる波形の振幅が所定の
    値になるように前記移動機構を制御する駆動制御部と、 前記演算部から出力される前記試料の電圧に対する誘電
    率の変化と、前記駆動制御部から前記移動機構に出力さ
    れる制御信号とを同時に出力する信号処理部とを更に備
    えたことを特徴とする誘電率計測装置。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の誘電率計測装置におい
    て、 前記演算部は、さらに、前記駆動制御部により前記移動
    機構が制御された制御量を前記駆動制御部から受け付
    け、これに基づき前記試料台に載置されている試料の起
    伏形状を求めることを特徴とする誘電率計測装置。
  4. 【請求項4】 請求項3記載の誘電率計測装置におい
    て、 前記信号処理部は、前記演算部から出力される前記試料
    の電圧に対する誘電率の変化と、前記駆動制御部から前
    記移動機構に出力される制御信号と、前記移動機構が制
    御された制御量とを同時に出力することを特徴とする誘
    電率計測装置。
  5. 【請求項5】 請求項1から4記載の誘電率計測装置に
    おいて、 前記信号源は更に、前記探針と前記電極間に印加する直
    流バイアス電圧を発生させる直流電圧電源を備えている
    ことを特徴とする誘電率計測装置。
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