JPH11114364A - 低沸点溶剤含有ガスの処理方法 - Google Patents
低沸点溶剤含有ガスの処理方法Info
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- JPH11114364A JPH11114364A JP9297857A JP29785797A JPH11114364A JP H11114364 A JPH11114364 A JP H11114364A JP 9297857 A JP9297857 A JP 9297857A JP 29785797 A JP29785797 A JP 29785797A JP H11114364 A JPH11114364 A JP H11114364A
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Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 濃度変動が大きい低沸点溶剤含有ガスの吸着
を行うのに好適な、装置が過大とならない吸・脱着機構
により効率的な低沸点溶剤含有ガスの処理が行える処理
方法を提供する。 【解決手段】 （１）低沸点溶剤含有ガス発生源から排
出される濃度の変動する低沸点溶剤含有ガス（被処理ガ
ス１）を、一旦粒状活性炭及び粒状ゼオライトから選ば
れた吸着材を有する吸着ダム機構（吸着ユニット３）に
吸着させる。（２）該吸着ダム機構に吸着した低沸点溶
剤含有ガスを徐放脱着すると同時に該徐放脱着時に脱着
される低沸点溶剤含有ガスの濃度を平準化する。（３）
該平準化された濃度の低沸点溶剤含有ガスを捕捉・吸着
する吸・脱着機構に供給する。ガスの濃度を平準化する
方法は、吸着ダム機構を通過後の低沸点溶剤含有ガスの
濃度をガス濃度検知機構５で検知し、この検知結果を被
処理ガス１の温度調節機構２にフィードバックして吸着
ダム機構に供給される低沸点溶剤含有ガスを加熱又は冷
却することにより行う。
を行うのに好適な、装置が過大とならない吸・脱着機構
により効率的な低沸点溶剤含有ガスの処理が行える処理
方法を提供する。 【解決手段】 （１）低沸点溶剤含有ガス発生源から排
出される濃度の変動する低沸点溶剤含有ガス（被処理ガ
ス１）を、一旦粒状活性炭及び粒状ゼオライトから選ば
れた吸着材を有する吸着ダム機構（吸着ユニット３）に
吸着させる。（２）該吸着ダム機構に吸着した低沸点溶
剤含有ガスを徐放脱着すると同時に該徐放脱着時に脱着
される低沸点溶剤含有ガスの濃度を平準化する。（３）
該平準化された濃度の低沸点溶剤含有ガスを捕捉・吸着
する吸・脱着機構に供給する。ガスの濃度を平準化する
方法は、吸着ダム機構を通過後の低沸点溶剤含有ガスの
濃度をガス濃度検知機構５で検知し、この検知結果を被
処理ガス１の温度調節機構２にフィードバックして吸着
ダム機構に供給される低沸点溶剤含有ガスを加熱又は冷
却することにより行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、塩化メチレン、ト
リクレン等の低沸点ハロゲン化炭化水素ガス等の低沸点
溶剤含有ガスの捕捉・吸着に関するものである。
リクレン等の低沸点ハロゲン化炭化水素ガス等の低沸点
溶剤含有ガスの捕捉・吸着に関するものである。
【０００２】更に詳しくは、上記の低沸点溶剤含有ガス
の捕捉・吸着に当たり、低沸点溶剤含有ガス発生源とな
る装置からの一時的に大きく濃度が変動する低沸点溶剤
含有ガスを平準化して吸・脱着機構に供給し、低沸点溶
剤含有ガスを効率的に捕捉・吸着を行うための処理方法
に関するものである。
の捕捉・吸着に当たり、低沸点溶剤含有ガス発生源とな
る装置からの一時的に大きく濃度が変動する低沸点溶剤
含有ガスを平準化して吸・脱着機構に供給し、低沸点溶
剤含有ガスを効率的に捕捉・吸着を行うための処理方法
に関するものである。
【０００３】
【従来の技術】従来、低沸点有機溶剤、塩化メチレン、
トリクレン等の低沸点ハロゲン化炭化水素等の低沸点溶
剤は、樹脂溶解用、反応工程用、ドライクリーニング
用、各種の精密機器部品洗浄用、塗装用等の溶剤として
広く使用されている。これらの各種産業分野の処理装置
から排出される排ガス（以下、低沸点溶剤含有ガスとい
う）は大気中に放出されると環境汚染の問題が生ずるこ
とから、吸着材で捕捉・吸着し、更に脱着処理により吸
着材から脱着することが広く行われている。一方、脱着
処理を経た吸着材は再び吸着処理に供せられ、繰り返し
使用されている。
トリクレン等の低沸点ハロゲン化炭化水素等の低沸点溶
剤は、樹脂溶解用、反応工程用、ドライクリーニング
用、各種の精密機器部品洗浄用、塗装用等の溶剤として
広く使用されている。これらの各種産業分野の処理装置
から排出される排ガス（以下、低沸点溶剤含有ガスとい
う）は大気中に放出されると環境汚染の問題が生ずるこ
とから、吸着材で捕捉・吸着し、更に脱着処理により吸
着材から脱着することが広く行われている。一方、脱着
処理を経た吸着材は再び吸着処理に供せられ、繰り返し
使用されている。
【０００４】低沸点溶剤含有ガスを捕捉・吸着・脱着す
るための吸着材には、活性炭、ゼオライト等の吸着材が
使用されている。そのような活性炭には粒状活性炭、粉
末状活性炭、繊維状活性炭がある。
るための吸着材には、活性炭、ゼオライト等の吸着材が
使用されている。そのような活性炭には粒状活性炭、粉
末状活性炭、繊維状活性炭がある。
【０００５】繊維状活性炭（即ち、活性炭素繊維、略
語：ＡＣＦ）は、粒状活性炭及び粉末状活性炭に比較
し、現在の単価は３５〜７０倍と高いため、吸着材とし
てのコストは割高であるという欠点があるが、反面、吸
着速度が粒状活性炭及び粉末状活性炭に比べて速いた
め、吸・脱着処理効率に優れる。このため、吸・脱着処
理サイクルを短くすることができ、繊維状活性炭を吸着
材として使用する吸着材の層高を、粒状活性炭や粉末状
活性炭よりも１０分の１以下とすることができるため、
吸・脱着機構を小型に設計することができる利点があ
る。また、吸着材の層高を低くしても、低濃度の低沸点
溶剤含有ガスの吸・脱着に適用可能なため、低濃度の低
沸点溶剤含有ガスを処理するための吸着材に特に有効で
ある。
語：ＡＣＦ）は、粒状活性炭及び粉末状活性炭に比較
し、現在の単価は３５〜７０倍と高いため、吸着材とし
てのコストは割高であるという欠点があるが、反面、吸
着速度が粒状活性炭及び粉末状活性炭に比べて速いた
め、吸・脱着処理効率に優れる。このため、吸・脱着処
理サイクルを短くすることができ、繊維状活性炭を吸着
材として使用する吸着材の層高を、粒状活性炭や粉末状
活性炭よりも１０分の１以下とすることができるため、
吸・脱着機構を小型に設計することができる利点があ
る。また、吸着材の層高を低くしても、低濃度の低沸点
溶剤含有ガスの吸・脱着に適用可能なため、低濃度の低
沸点溶剤含有ガスを処理するための吸着材に特に有効で
ある。
【０００６】一方、粒状活性炭は、吸着速度が繊維状活
性炭よりも遅いため、吸着効率を上げるためには、通
常、吸・脱着機構には大量に（層高を高く・層の厚さを
厚く）充填されている。したがって、粒状活性炭は結果
的に大容量のガス吸着用に適することになるが、吸・脱
着サイクルを繰り返す使用法においては、吸着速度が繊
維状活性炭よりも遅いので、どうしても繊維状活性炭よ
りも吸・脱着効率が劣るという問題点を有している。こ
のような粒状活性炭の特性のため、吸・脱着サイクルを
長くして使用しなければならない。
性炭よりも遅いため、吸着効率を上げるためには、通
常、吸・脱着機構には大量に（層高を高く・層の厚さを
厚く）充填されている。したがって、粒状活性炭は結果
的に大容量のガス吸着用に適することになるが、吸・脱
着サイクルを繰り返す使用法においては、吸着速度が繊
維状活性炭よりも遅いので、どうしても繊維状活性炭よ
りも吸・脱着効率が劣るという問題点を有している。こ
のような粒状活性炭の特性のため、吸・脱着サイクルを
長くして使用しなければならない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】各種処理装置から排出
される低沸点溶剤含有ガスの濃度は、定常運転状態時の
低濃度で排出される場合と、乾燥初期や反応初期、移液
時、或いはフィルター交換時等の高濃度で一時的に排出
される場合の２種類の特徴的な濃度状態がある。例え
ば、定常運転状態時では、ガス濃度が２００ｐｐｍ程度
の低濃度であっても、移液時、或いはフィルター交換時
等には、一時的に数万ｐｐｍ程度の高濃度で排気される
場合がある。
される低沸点溶剤含有ガスの濃度は、定常運転状態時の
低濃度で排出される場合と、乾燥初期や反応初期、移液
時、或いはフィルター交換時等の高濃度で一時的に排出
される場合の２種類の特徴的な濃度状態がある。例え
ば、定常運転状態時では、ガス濃度が２００ｐｐｍ程度
の低濃度であっても、移液時、或いはフィルター交換時
等には、一時的に数万ｐｐｍ程度の高濃度で排気される
場合がある。
【０００８】図１はこのような濃度変動の大きい低沸点
溶剤含有ガスの排出時間に対する濃度変化のモデルチャ
ートを示したもので、具体例として錠剤のバッチ式乾燥
機からの排ガスのエタノール濃度について示したもので
ある。図１によれば、錠剤のバッチ式乾燥機から排出さ
れるガスは、乾燥初期にエタノール濃度が一時的に２０
００ｐｐｍの高濃度ガスとして排出され、その後は平均
１００ｐｐｍ前後の低濃度ガスとして排出されている。
溶剤含有ガスの排出時間に対する濃度変化のモデルチャ
ートを示したもので、具体例として錠剤のバッチ式乾燥
機からの排ガスのエタノール濃度について示したもので
ある。図１によれば、錠剤のバッチ式乾燥機から排出さ
れるガスは、乾燥初期にエタノール濃度が一時的に２０
００ｐｐｍの高濃度ガスとして排出され、その後は平均
１００ｐｐｍ前後の低濃度ガスとして排出されている。
【０００９】このような濃度変動がある低沸点溶剤含有
ガスを捕捉・吸着処理するのに使用する吸・脱着機構を
設計するにあたって、濃度変動に対応して低沸点溶剤含
有ガスを捕捉・吸着処理するためには次の及びの対
策手段が考えられる。
ガスを捕捉・吸着処理するのに使用する吸・脱着機構を
設計するにあたって、濃度変動に対応して低沸点溶剤含
有ガスを捕捉・吸着処理するためには次の及びの対
策手段が考えられる。
【００１０】低沸点溶剤含有ガスの発生源となる装置
からの高濃度ガス排出時に、捕捉・吸着処理する吸・脱
着機構から低沸点溶剤含有ガスがリークし、大気汚染の
原因となるのを防止するため、該高濃度ガスの濃度の最
大値に合わせて吸・脱着機構を設計する。
からの高濃度ガス排出時に、捕捉・吸着処理する吸・脱
着機構から低沸点溶剤含有ガスがリークし、大気汚染の
原因となるのを防止するため、該高濃度ガスの濃度の最
大値に合わせて吸・脱着機構を設計する。
【００１１】複数個の吸着ユニットを並列的に設置し
た吸・脱着機構を使用し、定常運転時には交互に切り替
えながら吸着と脱着を行い、一時的な高濃度ガス排出時
には複数台同時に使用する。
た吸・脱着機構を使用し、定常運転時には交互に切り替
えながら吸着と脱着を行い、一時的な高濃度ガス排出時
には複数台同時に使用する。
【００１２】前記の対策手段において、粒状活性炭を
吸着材として使用した吸・脱着機構の場合、粒状活性炭
は繊維状活性炭に比べて嵩密度は高いので、同一規模の
吸・脱着機構では吸着材の充填重量を多くすることがで
き、一時的な高濃度ガスの捕捉・吸着処理に適してい
る。しかしながら、前記したように粒状活性炭は吸着速
度が繊維状活性体よりも遅いので、定常運転時には吸・
脱着効率が劣るという問題がある。
吸着材として使用した吸・脱着機構の場合、粒状活性炭
は繊維状活性炭に比べて嵩密度は高いので、同一規模の
吸・脱着機構では吸着材の充填重量を多くすることがで
き、一時的な高濃度ガスの捕捉・吸着処理に適してい
る。しかしながら、前記したように粒状活性炭は吸着速
度が繊維状活性体よりも遅いので、定常運転時には吸・
脱着効率が劣るという問題がある。
【００１３】また、前記の対策手段において、繊維状
活性炭を積層した構造体や繊維状活性炭や粉末ゼオライ
トを吸着材として担持したペーパーハニカム構造体を使
用した吸・脱着機構の場合、低沸点溶剤含有ガスの濃度
変動に対し対応できる許容力が小さい。この原因は、こ
れらの吸着材が高価なことや吸・脱着速度が速いため
に、吸着材の充填量を少なくした設計になっているため
である。また、繊維状活性炭は粒状活性炭に比べ嵩密度
が低いため、もし、一時的に高濃度ガスを発生するよう
な濃度変動に対応可能な装置設計をすると、装置の規模
が過大となり、殆どの時間を占める低濃度ガスの捕捉・
吸着処理時には、装置の殆どが機能しないで遊休状態に
あることになるので、コスト高となり装置設計上好まし
くないという問題がある。
活性炭を積層した構造体や繊維状活性炭や粉末ゼオライ
トを吸着材として担持したペーパーハニカム構造体を使
用した吸・脱着機構の場合、低沸点溶剤含有ガスの濃度
変動に対し対応できる許容力が小さい。この原因は、こ
れらの吸着材が高価なことや吸・脱着速度が速いため
に、吸着材の充填量を少なくした設計になっているため
である。また、繊維状活性炭は粒状活性炭に比べ嵩密度
が低いため、もし、一時的に高濃度ガスを発生するよう
な濃度変動に対応可能な装置設計をすると、装置の規模
が過大となり、殆どの時間を占める低濃度ガスの捕捉・
吸着処理時には、装置の殆どが機能しないで遊休状態に
あることになるので、コスト高となり装置設計上好まし
くないという問題がある。
【００１４】前記の対策手段においても、前記の対
策手段と同様な、粒状活性炭を使用する場合の問題点、
或いは繊維状活性炭や粉末ゼオライトを使用する場合の
問題点がある。
策手段と同様な、粒状活性炭を使用する場合の問題点、
或いは繊維状活性炭や粉末ゼオライトを使用する場合の
問題点がある。
【００１５】従来、繊維状活性炭と粒状活性炭とを組み
合わせて配置し、排ガスに含まれる有害成分を吸着処理
するための装置が英国特許第１，４５６，２３１号に提
案されている。該装置を用いた有害成分の処理方法は、
粒状活性炭と織物状活性炭（即ち、繊維状活性炭）と
を、単に層状に直列に重ねてなる吸着材に対して、有害
成分を含むガスを通過させて吸着処理する方法である。
合わせて配置し、排ガスに含まれる有害成分を吸着処理
するための装置が英国特許第１，４５６，２３１号に提
案されている。該装置を用いた有害成分の処理方法は、
粒状活性炭と織物状活性炭（即ち、繊維状活性炭）と
を、単に層状に直列に重ねてなる吸着材に対して、有害
成分を含むガスを通過させて吸着処理する方法である。
【００１６】しかしながら、前記英国特許第１，４５
６，２３１号の方式では、織物状活性炭と粒状活性炭と
は積層一体化され、両吸着材は捕捉・吸着処理、或いは
脱着処理は同時に機能している。このような両吸着材が
同時に機能する方式では、繊維状活性炭の吸・脱着処理
効率に優れる利点が十分に生かされていないと同時に、
粒状活性炭の高濃度のガス吸着に適する利点が十分に生
かされていない。
６，２３１号の方式では、織物状活性炭と粒状活性炭と
は積層一体化され、両吸着材は捕捉・吸着処理、或いは
脱着処理は同時に機能している。このような両吸着材が
同時に機能する方式では、繊維状活性炭の吸・脱着処理
効率に優れる利点が十分に生かされていないと同時に、
粒状活性炭の高濃度のガス吸着に適する利点が十分に生
かされていない。
【００１７】そこで本発明は、これらの既存の方法に於
ける問題を解決し、濃度変動が大きい低沸点溶剤含有ガ
スの吸着を行うのに好適な処理方法を提供すること、よ
り詳しくは、装置が過大とならない吸・脱着機構により
効率的な低沸点溶剤含有ガスの処理が行える処理方法を
提供することを目的とする。
ける問題を解決し、濃度変動が大きい低沸点溶剤含有ガ
スの吸着を行うのに好適な処理方法を提供すること、よ
り詳しくは、装置が過大とならない吸・脱着機構により
効率的な低沸点溶剤含有ガスの処理が行える処理方法を
提供することを目的とする。
【００１８】
【課題を解決するための手段】前記した問題点を解決す
るため本発明の低沸点溶剤含有ガスの処理方法は、
（１）低沸点溶剤含有ガス発生源から排出される濃度の
変動する低沸点溶剤含有ガスを、一旦粒状活性炭及び粒
状ゼオライトから選ばれた吸着材を有する吸着ダム機構
に吸着させ、（２）該吸着ダム機構に吸着した低沸点溶
剤含有ガスを徐放脱着すると同時に該徐放脱着時に脱着
される低沸点溶剤含有ガスの濃度を平準化し、（３）該
平準化された濃度の低沸点溶剤含有ガスを捕捉・吸着す
る吸・脱着機構に供給することを特徴とする。
るため本発明の低沸点溶剤含有ガスの処理方法は、
（１）低沸点溶剤含有ガス発生源から排出される濃度の
変動する低沸点溶剤含有ガスを、一旦粒状活性炭及び粒
状ゼオライトから選ばれた吸着材を有する吸着ダム機構
に吸着させ、（２）該吸着ダム機構に吸着した低沸点溶
剤含有ガスを徐放脱着すると同時に該徐放脱着時に脱着
される低沸点溶剤含有ガスの濃度を平準化し、（３）該
平準化された濃度の低沸点溶剤含有ガスを捕捉・吸着す
る吸・脱着機構に供給することを特徴とする。
【００１９】本発明の低沸点溶剤含有ガスの処理方法
は、濃度が最大ピーク時の低沸点溶剤含有ガスが低沸点
溶剤含有ガス発生源から排出された場合に、最大ピーク
濃度の低沸点溶剤含有ガスを吸収することができる粒状
活性炭又は粒状ゼオライトを吸着材として含む吸着ダム
機構に低沸点溶剤含有ガスを「一時預け」状態とし、次
いで低沸点溶剤含有ガス発生源からの定常状態の低濃度
ガス排出時に「一時預け」状態から低沸点溶剤含有ガス
を順次徐放脱着して、吸・脱着機構に供給するガスの濃
度の平準化を図るものである。
は、濃度が最大ピーク時の低沸点溶剤含有ガスが低沸点
溶剤含有ガス発生源から排出された場合に、最大ピーク
濃度の低沸点溶剤含有ガスを吸収することができる粒状
活性炭又は粒状ゼオライトを吸着材として含む吸着ダム
機構に低沸点溶剤含有ガスを「一時預け」状態とし、次
いで低沸点溶剤含有ガス発生源からの定常状態の低濃度
ガス排出時に「一時預け」状態から低沸点溶剤含有ガス
を順次徐放脱着して、吸・脱着機構に供給するガスの濃
度の平準化を図るものである。
【００２０】本発明の低沸点溶剤含有ガスの処理方法に
使用される粒状活性炭又は粒状ゼオライトを吸着材とす
る吸着ダム機構は、該吸着ダム機構の下流側に配置され
る吸・脱着機構に供給する低沸点溶剤含有ガスの濃度を
平準化して調整するための「放出調整ダム」として機能
させるものである。
使用される粒状活性炭又は粒状ゼオライトを吸着材とす
る吸着ダム機構は、該吸着ダム機構の下流側に配置され
る吸・脱着機構に供給する低沸点溶剤含有ガスの濃度を
平準化して調整するための「放出調整ダム」として機能
させるものである。
【００２１】本発明の低沸点溶剤含有ガスの処理方法
は、吸・脱着機構に供給される被処理ガスの濃度の変動
を少なくし、吸・脱着機構の小型化が図れるという効果
がある。本発明によれば、吸・脱着機構の設計は、低沸
点溶剤含有ガス発生源となる装置からの排出ガスの濃度
のピーク時に合わせて設計する必要が無い。
は、吸・脱着機構に供給される被処理ガスの濃度の変動
を少なくし、吸・脱着機構の小型化が図れるという効果
がある。本発明によれば、吸・脱着機構の設計は、低沸
点溶剤含有ガス発生源となる装置からの排出ガスの濃度
のピーク時に合わせて設計する必要が無い。
【００２２】本発明の低沸点溶剤含有ガスの処理方法に
おいて、吸着ダム機構から脱着されるガスの濃度を平準
化する方法は、吸着ダム機構に供給される前の低沸点溶
剤含有ガスの温度を調節することにより行うことができ
る。
おいて、吸着ダム機構から脱着されるガスの濃度を平準
化する方法は、吸着ダム機構に供給される前の低沸点溶
剤含有ガスの温度を調節することにより行うことができ
る。
【００２３】本発明の低沸点溶剤含有ガスの処理方法に
おいて、吸着ダム機構から脱着されるガスの濃度を平準
化する方法は、吸着ダム機構を通過後の低沸点溶剤含有
ガスの濃度を検知し、この検知結果を吸着ダム機構の上
流側に配置されたガス温度調節機構にフィードバックし
て粒状活性炭又は粒状ゼオライトに供給される低沸点溶
剤含有ガスを加熱又は冷却することにより行うことがで
きる。
おいて、吸着ダム機構から脱着されるガスの濃度を平準
化する方法は、吸着ダム機構を通過後の低沸点溶剤含有
ガスの濃度を検知し、この検知結果を吸着ダム機構の上
流側に配置されたガス温度調節機構にフィードバックし
て粒状活性炭又は粒状ゼオライトに供給される低沸点溶
剤含有ガスを加熱又は冷却することにより行うことがで
きる。
【００２４】本発明の低沸点溶剤含有ガスの処理方法
は、吸着ダム機構及び吸・脱着機構は同時に吸・脱着機
能を発揮するのではなく、個別に発揮している点にも特
徴を有する。
は、吸着ダム機構及び吸・脱着機構は同時に吸・脱着機
能を発揮するのではなく、個別に発揮している点にも特
徴を有する。
【００２５】本発明の低沸点溶剤含有ガスの処理方法に
おいて使用される吸・脱着機構とは平準化された濃度の
低沸点溶剤含有ガスから溶剤を吸着回収する機構であ
り、吸・脱着機構に使用される吸着材の材質が、繊維状
活性炭、粉末状ゼオライト及び粉末状活性炭等の高機能
吸着材から選ばれたものであることが低沸点溶剤含有ガ
スを効率よく処理するのに好ましい。
おいて使用される吸・脱着機構とは平準化された濃度の
低沸点溶剤含有ガスから溶剤を吸着回収する機構であ
り、吸・脱着機構に使用される吸着材の材質が、繊維状
活性炭、粉末状ゼオライト及び粉末状活性炭等の高機能
吸着材から選ばれたものであることが低沸点溶剤含有ガ
スを効率よく処理するのに好ましい。
【００２６】吸・脱着機構は、その上流側に配置され、
粒状活性炭又は粒状ゼオライトを吸着材とした、低沸点
溶剤含有ガス発生源からのピーク濃度まで低沸点溶剤含
有ガスを吸着することができる吸着ダム機構とは区別さ
れる。吸・脱着機構の構造は、繊維状活性炭の積層構
造、又は粉末状ゼオライト或いは粉末状活性炭からなる
吸着材を担持したペーパーハニカム構造であることが低
沸点溶剤含有ガスを効率よく処理するのに好ましい。こ
のような吸着材の構造は、吸着と脱着とを交互に繰り返
し、効率的に溶剤の吸・脱着を行うのに適している。
粒状活性炭又は粒状ゼオライトを吸着材とした、低沸点
溶剤含有ガス発生源からのピーク濃度まで低沸点溶剤含
有ガスを吸着することができる吸着ダム機構とは区別さ
れる。吸・脱着機構の構造は、繊維状活性炭の積層構
造、又は粉末状ゼオライト或いは粉末状活性炭からなる
吸着材を担持したペーパーハニカム構造であることが低
沸点溶剤含有ガスを効率よく処理するのに好ましい。こ
のような吸着材の構造は、吸着と脱着とを交互に繰り返
し、効率的に溶剤の吸・脱着を行うのに適している。
【００２７】吸・脱着機構に使用される繊維状活性炭に
は、アクリロニトリル系繊維、フェノール系繊維、ピッ
チ系繊維、レーヨン系繊維等を原料として誘導された、
比表面積８００から２０００ｍ2 ／ｇの吸着能を有する
実質的に炭素からなる繊維が好適に使用できる。
は、アクリロニトリル系繊維、フェノール系繊維、ピッ
チ系繊維、レーヨン系繊維等を原料として誘導された、
比表面積８００から２０００ｍ2 ／ｇの吸着能を有する
実質的に炭素からなる繊維が好適に使用できる。
【００２８】吸着ダム機構或いは吸・脱着機構に使用さ
れる粉末状ゼオライトは、種々の方法により合成したゼ
オライトを粉末化したものを用いることができ、また、
粒状活性炭には、破砕炭、造粒炭、ビーズ炭を用いるこ
とができる。
れる粉末状ゼオライトは、種々の方法により合成したゼ
オライトを粉末化したものを用いることができ、また、
粒状活性炭には、破砕炭、造粒炭、ビーズ炭を用いるこ
とができる。
【００２９】本発明の低沸点溶剤含有ガスの処理方法に
おいて、処理の対象とされる低沸点溶剤含有ガスの好適
な例には、塩化メチレン、トリクレン、パークレン、ア
セトン、メチルエチルケトン等のケトン類、メタノール
・エタノール等のアルコール類等沸点が１５０℃程度以
下の低沸点溶剤を含むガスが挙げられる。
おいて、処理の対象とされる低沸点溶剤含有ガスの好適
な例には、塩化メチレン、トリクレン、パークレン、ア
セトン、メチルエチルケトン等のケトン類、メタノール
・エタノール等のアルコール類等沸点が１５０℃程度以
下の低沸点溶剤を含むガスが挙げられる。
【００３０】このような低沸点溶剤含有ガス発生源とな
る装置の例には、乾燥機、反応缶、クリーニング装置、
精密機器洗浄装置、自動塗装装置等が挙げられる。
る装置の例には、乾燥機、反応缶、クリーニング装置、
精密機器洗浄装置、自動塗装装置等が挙げられる。
【００３１】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の低沸点溶剤含有
ガスの処理方法を図２の処理工程のフローシートを例に
して説明する。
ガスの処理方法を図２の処理工程のフローシートを例に
して説明する。
【００３２】図２において、１は低沸点溶剤含有ガス発
生源から供給された被処理ガス、２は低沸点溶剤含有ガ
ス発生源となる装置と吸着ユニット３との間に配置され
た被処理ガス１の温度調節機構をそれぞれ示し、この被
処理ガス１の温度調節機構２の形式は特に制限はない。
３は粒状活性炭又は粒状ゼオライトが層状に充填された
吸着ユニット（吸着ダム機構）であり、定床式充填層で
ある。４は吸着ユニット３で平準化されたガスをそれぞ
れ示す。５は吸着ユニット３の下流側で且つ図示してい
ない吸・脱着機構の上流側に配置されたガス濃度検知機
構である。
生源から供給された被処理ガス、２は低沸点溶剤含有ガ
ス発生源となる装置と吸着ユニット３との間に配置され
た被処理ガス１の温度調節機構をそれぞれ示し、この被
処理ガス１の温度調節機構２の形式は特に制限はない。
３は粒状活性炭又は粒状ゼオライトが層状に充填された
吸着ユニット（吸着ダム機構）であり、定床式充填層で
ある。４は吸着ユニット３で平準化されたガスをそれぞ
れ示す。５は吸着ユニット３の下流側で且つ図示してい
ない吸・脱着機構の上流側に配置されたガス濃度検知機
構である。
【００３３】低沸点溶剤含有ガス発生源から供給された
被処理ガス１は、吸・脱着機構に供給される前に、まず
吸着ユニット３に供給される。次いで吸・脱着機構に供
給される。ガス濃度検知機構５と温度調節機構２とは連
携しており、ガス濃度検知機構５におけるガス濃度検知
の結果により、所定のガス濃度以下に低下したときに
は、温度調節機構２にフィードバックされ、吸着ユニッ
ト３に供給される低沸点溶剤含有ガスの温度が高くなる
ように連働して作用する。また、所定のガス濃度以上に
上昇したときには、温度を低くするように連働して作用
する。このような、ガス濃度検知機構５と温度調節機構
２との連働により、吸着ユニット３から徐放されるガス
４のガス濃度は常に平準化される。
被処理ガス１は、吸・脱着機構に供給される前に、まず
吸着ユニット３に供給される。次いで吸・脱着機構に供
給される。ガス濃度検知機構５と温度調節機構２とは連
携しており、ガス濃度検知機構５におけるガス濃度検知
の結果により、所定のガス濃度以下に低下したときに
は、温度調節機構２にフィードバックされ、吸着ユニッ
ト３に供給される低沸点溶剤含有ガスの温度が高くなる
ように連働して作用する。また、所定のガス濃度以上に
上昇したときには、温度を低くするように連働して作用
する。このような、ガス濃度検知機構５と温度調節機構
２との連働により、吸着ユニット３から徐放されるガス
４のガス濃度は常に平準化される。
【００３４】吸着ユニット３に吸着されている低沸点溶
剤含有ガスの徐放を行うための温度調節機構２は、上記
したガス濃度検知機構５との連働によるほか、低沸点溶
剤含有ガスの濃度の変動があらかじめ分かっている場合
は、それに合わせて、タイマー設定等により加温又は冷
却することにより、吸着・徐放を調節し、吸・脱着機構
に供給されるガス４の濃度を平準化することもできる。
この平準化されたガス４はついで、吸・脱着機構に供給
される。
剤含有ガスの徐放を行うための温度調節機構２は、上記
したガス濃度検知機構５との連働によるほか、低沸点溶
剤含有ガスの濃度の変動があらかじめ分かっている場合
は、それに合わせて、タイマー設定等により加温又は冷
却することにより、吸着・徐放を調節し、吸・脱着機構
に供給されるガス４の濃度を平準化することもできる。
この平準化されたガス４はついで、吸・脱着機構に供給
される。
【００３５】吸・脱着機構の能力は、低沸点溶剤含有ガ
スのピーク濃度と通常濃度の総排出量と吸着ユニット３
の吸着能力等とを勘案し決定される。この場合、最適条
件を選べは、吸・脱着機構の能力は、低沸点溶剤含有ガ
ス発生源からのピーク濃度の低沸点溶剤含有ガスを直接
吸着する場合に比べ遙かに小さい吸着能力で足りる。
スのピーク濃度と通常濃度の総排出量と吸着ユニット３
の吸着能力等とを勘案し決定される。この場合、最適条
件を選べは、吸・脱着機構の能力は、低沸点溶剤含有ガ
ス発生源からのピーク濃度の低沸点溶剤含有ガスを直接
吸着する場合に比べ遙かに小さい吸着能力で足りる。
【００３６】
【実施例】１６０分サイクルで濃度が変動する下記の塩
化メチレン（沸点４０．４℃）を含む排ガス（被処理ガ
ス、排ガス量：９ｍ2 ／ｍｉｎ、空塔線速度：２３．４
ｃｍ／ｓ）について、図２のフローシートに示す方法で
処理した。排ガスの温度調節には、ピーク濃度時を２４
℃、ミニマム濃度時を２８℃に調整した。吸着ユニット
に充填する吸着材には粒状活性炭層として、破砕炭（比
表面積約１０００ｍ2 ／ｇ、商品名：クラレコールＧＧ
４／８、クラレ（株）製）１８ｋｇを層高６００ｍｍで
使用した。その結果、排ガス中に含まれる塩化メチレン
のピーク濃度６，９００ｐｐｍ、ミニマム濃度１５０ｐ
ｐｍであったものが、本実施例の処理により、平準化さ
れた後のガス濃度変動は、ピーク濃度時で６５０ｐｐ
ｍ、ミニマム濃度時１５０ｐｐｍに調節されており、４
０サイクル処理しても一定していた。
化メチレン（沸点４０．４℃）を含む排ガス（被処理ガ
ス、排ガス量：９ｍ2 ／ｍｉｎ、空塔線速度：２３．４
ｃｍ／ｓ）について、図２のフローシートに示す方法で
処理した。排ガスの温度調節には、ピーク濃度時を２４
℃、ミニマム濃度時を２８℃に調整した。吸着ユニット
に充填する吸着材には粒状活性炭層として、破砕炭（比
表面積約１０００ｍ2 ／ｇ、商品名：クラレコールＧＧ
４／８、クラレ（株）製）１８ｋｇを層高６００ｍｍで
使用した。その結果、排ガス中に含まれる塩化メチレン
のピーク濃度６，９００ｐｐｍ、ミニマム濃度１５０ｐ
ｐｍであったものが、本実施例の処理により、平準化さ
れた後のガス濃度変動は、ピーク濃度時で６５０ｐｐ
ｍ、ミニマム濃度時１５０ｐｐｍに調節されており、４
０サイクル処理しても一定していた。
【００３７】図３は、新しい活性炭を充填した吸着ユニ
ットを使用して運転したときの吸着ユニットの入側のガ
ス濃度、出側のガス濃度、及び排ガスの温度についての
データを示し、縦軸にガス濃度、横軸に経過時間をとっ
たグラフである。図３のグラフからも理解されるよう
に、被処理ガス濃度が平準化された結果、吸・脱着機構
の設計は、平準化後のピーク濃度に合わせて設計でき
る。
ットを使用して運転したときの吸着ユニットの入側のガ
ス濃度、出側のガス濃度、及び排ガスの温度についての
データを示し、縦軸にガス濃度、横軸に経過時間をとっ
たグラフである。図３のグラフからも理解されるよう
に、被処理ガス濃度が平準化された結果、吸・脱着機構
の設計は、平準化後のピーク濃度に合わせて設計でき
る。
【００３８】〔比較例〕前記実施例と同じ粒状活性炭層
及び排ガスを使用し、排ガス温度のみ２４℃に固定した
以外は、前記実施例と同様にして処理を実施した。その
結果、ミニマム濃度は約１００ｐｐｍであり徐放効果は
なかった。また、ピーク濃度は、１サイクル目：６５０
ｐｐｍであったが、２サイクル目：３，０００ｐｐｍ、
３サイクル目：５，５００ｐｐｍと徐々に脱着が困難と
なり、平準化効果が得られなかった。図４に比較例の吸
着ユニットの入側のガス濃度、出側のガス濃度、及び排
ガスの温度についてのデータを縦軸にガス濃度、横軸に
経過時間をとったグラフとして示す。
及び排ガスを使用し、排ガス温度のみ２４℃に固定した
以外は、前記実施例と同様にして処理を実施した。その
結果、ミニマム濃度は約１００ｐｐｍであり徐放効果は
なかった。また、ピーク濃度は、１サイクル目：６５０
ｐｐｍであったが、２サイクル目：３，０００ｐｐｍ、
３サイクル目：５，５００ｐｐｍと徐々に脱着が困難と
なり、平準化効果が得られなかった。図４に比較例の吸
着ユニットの入側のガス濃度、出側のガス濃度、及び排
ガスの温度についてのデータを縦軸にガス濃度、横軸に
経過時間をとったグラフとして示す。
【００３９】
【発明の効果】本発明の低沸点溶剤含有ガスの処理方法
によれば、低沸点溶剤含有ガス発生源から一時的に高濃
度の低沸点溶剤含有ガス（被処理ガス）が排出されて
も、一旦は吸着ダム機構（粒状活性炭又は粒状ゼオライ
ト）に吸着され、ついでガス濃度が低下したときに、被
処理ガスを加温することにより吸着ダム機構に吸着して
いる成分を徐放しながら、次の吸・脱着機構に供給する
ので、吸・脱着機構に供給するための被処理ガスの濃度
の平準化が可能であり、処理装置の効率的設計が可能と
なる。
によれば、低沸点溶剤含有ガス発生源から一時的に高濃
度の低沸点溶剤含有ガス（被処理ガス）が排出されて
も、一旦は吸着ダム機構（粒状活性炭又は粒状ゼオライ
ト）に吸着され、ついでガス濃度が低下したときに、被
処理ガスを加温することにより吸着ダム機構に吸着して
いる成分を徐放しながら、次の吸・脱着機構に供給する
ので、吸・脱着機構に供給するための被処理ガスの濃度
の平準化が可能であり、処理装置の効率的設計が可能と
なる。
【図１】錠剤乾燥機から排出される排ガス中のエタノー
ル濃度と時間との関係を示す。
ル濃度と時間との関係を示す。
【図２】本発明の低沸点溶剤含有ガスの処理方法の処理
工程を示すフローシートである。
工程を示すフローシートである。
【図３】実施例における吸着ユニットの入側のガス濃
度、出側のガス濃度、及び排ガスの温度についてのデー
タを示し、縦軸にガス濃度、横軸に経過時間をとったグ
ラフである。
度、出側のガス濃度、及び排ガスの温度についてのデー
タを示し、縦軸にガス濃度、横軸に経過時間をとったグ
ラフである。
【図４】ガス温度を一定にしたときの、比較例における
吸着ユニットの入側のガス濃度、出側のガス濃度、及び
排ガスの温度についてのデータを縦軸にガス濃度、横軸
を経過時間をとったグラフとして示す。
吸着ユニットの入側のガス濃度、出側のガス濃度、及び
排ガスの温度についてのデータを縦軸にガス濃度、横軸
を経過時間をとったグラフとして示す。
１ 被処理ガス ２ 温度調節機構 ３ 吸着ユニット ４ ガス ５ ガス濃度検知機構
Claims (5)
- 【請求項１】 （１）低沸点溶剤含有ガス発生源から排
出される濃度の変動する低沸点溶剤含有ガスを、一旦粒
状活性炭及び粒状ゼオライトから選ばれた吸着材を有す
る吸着ダム機構に吸着させ、 （２）該吸着ダム機構に吸着した低沸点溶剤含有ガスを
徐放脱着すると同時に該徐放脱着時に脱着される低沸点
溶剤含有ガスの濃度を平準化し、 （３）該平準化された濃度の低沸点溶剤含有ガスを捕捉
・吸着する吸・脱着機構に供給することを特徴とする低
沸点溶剤含有ガスの処理方法。 - 【請求項２】 前記徐放脱着時に脱着される低沸点溶剤
含有ガスの濃度を平準化する方法は、吸着ダム機構に供
給される前の低沸点溶剤含有ガスの温度を調節すること
により行う請求項１記載の低沸点溶剤含有ガスの処理方
法。 - 【請求項３】 前記徐放脱着時に脱着される低沸点溶剤
含有ガスの濃度を平準化する方法は、吸着ダム機構を通
過後の低沸点溶剤含有ガスの濃度を検知し、この検知結
果を吸着ダム機構の上流側に配置されたガス温度調節機
構にフィードバックして粒状活性炭又は粒状ゼオライト
に供給されるガスを加熱又は冷却することにより行う請
求項１又は２記載の低沸点溶剤含有ガスの処理方法。 - 【請求項４】 前記吸・脱着機構の構造が、繊維状活性
炭の積層構造又は吸着材を担持したペーパーハニカム構
造であることを特徴とする請求項１記載の低沸点溶剤含
有ガスの処理方法。 - 【請求項５】 前記ペーパーハニカム構造に担持された
吸着材が、繊維状活性炭、粉末状ゼオライト及び粉末状
活性炭から選ばれたものである請求項４記載の低沸点溶
剤含有ガスの処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9297857A JPH11114364A (ja) | 1997-10-15 | 1997-10-15 | 低沸点溶剤含有ガスの処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9297857A JPH11114364A (ja) | 1997-10-15 | 1997-10-15 | 低沸点溶剤含有ガスの処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11114364A true JPH11114364A (ja) | 1999-04-27 |
Family
ID=17852054
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9297857A Pending JPH11114364A (ja) | 1997-10-15 | 1997-10-15 | 低沸点溶剤含有ガスの処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11114364A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007301480A (ja) * | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Hitachi Plant Technologies Ltd | Ｖｏｃガスの処理装置及び該装置を用いたｖｏｃガスの処理方法 |
| JP2010149086A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-08 | Tokyo Metropolitan Industrial Technology Research Institute | 揮発性有機化合物ガス含有空気の吸脱着装置及び吸脱着方法 |
| JP2013198845A (ja) * | 2012-03-23 | 2013-10-03 | Kyuchaku Gijutsu Kogyo Kk | 易吸着成分濃度の平滑化方法及び装置 |
| JP2018001107A (ja) * | 2016-07-04 | 2018-01-11 | 東洋紡株式会社 | 濃度平準装置、流体処理システム、および濃度平準方法 |
| CN119113704A (zh) * | 2024-10-31 | 2024-12-13 | 广东Tcl瑞峰环保科技有限公司 | 一种有机废气吸附与再生方法 |
-
1997
- 1997-10-15 JP JP9297857A patent/JPH11114364A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007301480A (ja) * | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Hitachi Plant Technologies Ltd | Ｖｏｃガスの処理装置及び該装置を用いたｖｏｃガスの処理方法 |
| JP2010149086A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-08 | Tokyo Metropolitan Industrial Technology Research Institute | 揮発性有機化合物ガス含有空気の吸脱着装置及び吸脱着方法 |
| JP2013198845A (ja) * | 2012-03-23 | 2013-10-03 | Kyuchaku Gijutsu Kogyo Kk | 易吸着成分濃度の平滑化方法及び装置 |
| JP2018001107A (ja) * | 2016-07-04 | 2018-01-11 | 東洋紡株式会社 | 濃度平準装置、流体処理システム、および濃度平準方法 |
| CN119113704A (zh) * | 2024-10-31 | 2024-12-13 | 广东Tcl瑞峰环保科技有限公司 | 一种有机废气吸附与再生方法 |
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|---|---|---|---|
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