JPH11114826A - 磁気記録媒体用ガラス基板の研磨装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁気記録媒体用ガラス基板の研磨加工におい
て表面に発生する傷を低減させることができる磁気記録
媒体用ガラス基板の研磨装置を得る。 【解決手段】 研磨剤を混入させた研磨液を用いて磁気
記録媒体用ガラス基板の研磨加工を行う両面研磨機１
と、研磨加工に使用された研磨液を両面研磨機１に再度
供給する研磨液循環装置２とから構成されている。研磨
液循環装置２は、研磨加工に使用された研磨液が流入す
る第一タンク２１と、この第一タンク２１と両面研磨機
１との間に配設された第二タンク２２とから構成され、
第一タンク２１においてガラス物質と研磨剤との沈降分
離を行った後、沈澱させた研磨剤のみが混入している研
磨液を第二タンク２２に流出させ、第二タンク２２から
研磨剤のみが混入している研磨液を両面研磨機１へ供給
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体用ガラ
ス基板の表面の研磨加工を行う磁気記録媒体用ガラス基
板の研磨装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体用基板としては、従来から
アルミニウム合金等の金属製の基板が用いられている
が、ガラスおよび結晶化ガラスはアルミニウム合金に比
べ機械的強度が高く機械加工性等も優れているため、近
時においては磁気記録媒体用基板として有望視されてい
る。

【０００３】磁気記録媒体用基板は、近年、情報記録容
量の高密度化の要求にともない、その表面の平滑性を向
上させることが要求されている。すなわち、磁気記録媒
体用基板によって形成された磁気ディスクを用いた磁気
ディスク装置は、パソコンの代表的な外部記録装置とし
て大容量化・小型化・低価格化が著しい。このような磁
気ディスク装置の進歩は、情報の記録・再生を行う磁気
ディスク、磁気ヘッドの高性能化、記録再生チャンネル
の高速化、サーボ回路の高速化・高精度化等、装置を構
成する個別部品・個別技術の高性能化によるものでもあ
るが、中でも記録・再生に直接関わる基幹部品である磁
気ディスク、磁気ヘッドの特性向上によるところが大き
い。

【０００４】磁気ディスクの高密度化特に線記録密度の
向上には、磁性膜の改良と共に磁気ヘッドの低浮上量化
の効果が大きい。最新の磁気ディスク装置では、５０〜
６０ｎｍ程度の浮上量が実現されようとしている。この
ような低浮上を実現するには、磁気ディスク表面は平坦
かつ平滑であることが要求され、この研磨仕上げには高
度な技術が要求される。

【０００５】このため、磁気記録媒体用基板の製作工程
においては、基板を仕上げる工程として研磨工程を設け
ている。ここで、一般にアルミニウム合金等の塑性変形
を伴う金属では研磨加工において加工ひずみ層が深くな
り、いわゆるバリや異常突起が研磨加工後に残りやす
い。しかし、ガラスの場合は塑性変形を伴わない脆性破
壊による研磨加工となるため、加工ひずみ層が浅く、し
かもバリや異常突起が発生しない。このため、ガラスは
表面平滑性を得やすい材料ということになる。

【０００６】ガラスが研磨される原理については、数多
くの研究が行われているが、まだ判然とした見解が確立
されておらず一般には以下に示す三つの考え方が並立し
ている。第一の説である微少切削説は、砥粒の破砕作用
で面の平坦化が進行しそれが超微視的に行われるため光
学的手段によっては面の凹凸が認められなくなるとする
説である。第二の説である流動説は、ポリシャと砥粒に
よりガラス面に瞬間的に高圧、高温の状態が生じ、その
結果粘性流動または塑性流動を起こして面の凹凸がなら
されるとする説である。また、第三の説である化学作用
説は、研磨において砥粒、ポリシャ、研磨液とガラスの
化学反応が起こって面の凹凸がならされるとする説であ
る。

【０００７】なお、これらの各説に最も密接な関係のあ
るガラス特性としては、第一説に対応するものはガラス
の硬さであり、第二説に対応するものはガラスの温度に
対する流れ易さ、即ち軟化点であり、第三説に対応する
ものは化学的耐久性が考えられる。

【０００８】そこで、磁気記録媒体用ガラス基板（以
下、「ガラス基板」と称する）の研磨工程においては、
ガラス基板をピットやスクラッチのない鏡面に仕上げる
ために、使用するガラスの特性を考慮し、上記の各説に
基づいて製作された種々の研磨装置が用いられている。
ここで、２.５、３.５インチなどの小型のガラス基板の
研磨を行う場合には、生産性の高い、シリコンウェハの
ポリッシングに使われている両面ラッピング方式のいわ
ゆる両面研磨機が広く用いられている。

【０００９】この両面研磨機は、ポリウレタン製研磨パ
ッドが固定された研磨工具をガラス基板の両面に密着さ
せるとともに、パッドとガラス基板研磨面との間に研磨
液を供給してパッドとガラス基板とを相対的に回転、摺
動させることによってガラス基板の両面を同時に研磨す
るものである。研磨加工されるガラス基板は、キャリア
ーによってそれぞれ保持されており、キャリアー自体は
両面研磨機中で遊星運動をするため、そこに保持された
ガラス基板の表面が研磨加工される。

【００１０】ガラスおよび結晶化ガラスの研磨は、一般
にポリウレタン製研磨パッドが固定された研磨工具で、
酸化セリウム（ＣｅＯ₂）を研磨剤として使用して行わ
れる。研磨除去量は硝種（ガラス硬軟等、ガラスの種
類）によって異なるが、酸化セリウム研磨剤は、硝種の
如何に拘らず傷をつけないで良好な研磨面を得ることが
できる。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】このように、酸化セリ
ウムが含有された研磨液を用いて、両面研磨加工を行う
と、被加工物であるガラス基板上に傷が発生するケース
が多々生じてしまう。この原因は研磨液にガラス基板の
小片が混入してしまうことにあり、この小片が加工され
るガラス基板の表面に傷をつけてしまう。

【００１２】両面研磨機に研磨液を供給するためには、
一台のタンクに溜めた研磨液を両面研磨機へと導き、研
磨加工に使用された研磨液は、再びタンクに戻るといっ
た研磨液の循環を行っているが、この研磨液に含有され
る異物についての調査結果を以下に示す。

【００１３】研磨工程で使用後の研磨液を５０ｃｃを採
取し、遠心分離機にかけ、沈殿物の約２ｃｃをシャーレ
に薄くのばした後に実体顕微鏡で観察を行った。沈殿物
を乾燥させると、酸化セリウムである肌色の物質の中
に、研磨により生成した磁気記録媒体用ガラス基板の酸
化珪素と思われるゲル状白色物質が観察できる。このこ
とより、研磨工程で使用された研磨液中には被加工物で
あるガラス基板の小片が混入していることがわかる。

【００１４】次に、図４に示すように、試験管に研磨液
のサンプルを１５ｃｃ入れて放置し、自然沈降させた。
研磨液のサンプルは、最上部にコロイド層、次に明確に
分離していないが肌色が下方にいく程濃くなる層である
ＣｅＯ₂混合層、最下部に肌色沈殿物（ＣｅＯ₂）層の三
層に分離した。ここで、最上層のコロイド物質は、乾燥
させると白色の硬い物質となった。この研磨液のサンプ
ルを試験管に２〜３日放置すると、研磨により生成した
ガラス変質物と研磨剤が簡単に沈降分離する。

【００１５】分離したガラス変質物は、コロイド状であ
る。これを乾燥させると、ガラス状の硬い塊となる。こ
のことから、両面研磨機に接続され、研磨液を供給、循
環させているタンクの上部（水面）には、容易に固化
し、硬い塊となるコロイド状のガラス物質が存在してい
ることがわかる。

【００１６】両面研磨機に供給される研磨液は、一台の
タンクに溜められたものを循環させているため、タンク
中の研磨液を攪拌していても、研磨液中にはコロイド状
のガラス物質が含有されている。そして、このコロイド
状のガラス物質が一旦乾燥してしまうと、ガラス状の硬
い塊となってしまう。このガラス状の硬い塊が研磨液に
混入したままガラス基板を研磨してしまうと、研磨加工
されたガラス基板の表面に傷が発生してしまう。

【００１７】このように、磁気記録媒体用ガラス基板に
傷が存在すると傷部分に情報が記録できないとう問題が
発生する。更に大きい傷の存在に至っては、ヘッドクラ
ッシュの問題も発生する恐れがある。また、ガラス基板
上に傷が存在すれば、その傷が原因で基板が割れてしま
う恐れもある。

【００１８】本発明は、このような問題に鑑みてなされ
たものであり、磁気記録媒体用ガラス基板の研磨加工に
おいて表面に発生する傷を低減させることができる磁気
記録媒体用ガラス基板の研磨装置を提供することを目的
としている。

【００１９】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに。本発明に係る磁気記録媒体用ガラス基板の研磨装
置は、研磨剤を混入させた研磨液を用いて磁気記録媒体
用ガラス基板の研磨加工を行う研磨機と、研磨加工に使
用された研磨液を研磨機に再度供給する研磨液循環手段
とから構成されている。研磨液循環手段は、研磨加工に
使用された研磨液を回収し、この研磨液中に混入したガ
ラス物質を除去して研磨機に再度供給する。

【００２０】研磨液循環手段においては、研磨液中に混
入したガラス物質を除去するために分離タンクを有して
いる。分離タンクは、研磨加に使用された研磨液を貯留
して、ガラス物質が混入した研磨液に対して研磨剤のみ
が混入している研磨液を沈降分離させる。その後、沈澱
させた研磨剤のみが混入している研磨液を研磨機に供給
可能な構成としている。

【００２１】このように構成された磁気記録媒体用ガラ
ス基板の研磨装置においては、研磨加工に伴って使用後
の研磨液中にガラス物質が混入するが、このガラス物質
は研磨剤よりも比重が軽い。このため、研磨加工に使用
した研磨液を放置しておくと研磨液中の研磨剤が沈澱す
るとともにガラス物質はコロイド状の上澄みとなる。従
って、分離タンクに回収した使用後の研磨液において上
澄み以外の部分を研磨機に供給させれば、ガラス物質が
混入していない研磨剤のみが混入している研磨液での磁
気記録媒体用ガラス基板の研磨加工を行うことができ
る。

【００２２】なお、本発明に係る磁気記録媒体用ガラス
基板の研磨装置においては、上記の分離タンクを、研磨
加工に使用された研磨液が最初に流入する第一タンク
と、この第一タンクと研磨機との間に配設された第二タ
ンクとから構成することが好ましい。そして、第一タン
クにおいてガラス物質と研磨剤との沈降分離を行った
後、沈澱させた研磨剤のみが混入している研磨液を第二
タンクに流出させ、第二タンクから研磨剤のみが混入し
ている研磨液を研磨機へ供給する。

【００２３】このような構成とすることにより、研磨剤
のみが混入している研磨液を第二タンクのみから研磨機
に供給させることができるため、第一タンクにおいてガ
ラス物質と研磨剤との沈降分離に必要な時間、使用後の
研磨液を放置しておくことができる。従って、連続して
ガラス物質が混入されていない研磨液の供給を行うこと
ができる。

【００２４】さらに、本発明に係る磁気記録媒体用ガラ
ス基板の研磨装置においては、第一タンクに第一タンク
攪拌手段を設けるとともに、第二タンクには第二タンク
攪拌手段を設けるように構成することが好ましい。第一
タンク攪拌手段は、第一タンク内のコロイド状の上澄み
となっているガラス物質は攪拌せずに、沈澱している研
磨剤のみが混入している研磨液だけを攪拌するように構
成されている。また、第二タンク攪拌手段は、第二タン
クに貯留されている研磨液全体の攪拌を行うように構成
されている。

【００２５】このような構成とすることにより、研磨液
中の研磨剤が固まってしまうことがなく、研磨剤のみが
混入している研磨液をスムーズに第一タンクから第二タ
ンクへ供給したり、第二タンクから研磨機に供給したり
することができる。なお、各攪拌手段としては、研磨液
中で攪拌用羽根を回転させて攪拌するように構成した
り、ポンプで空気を送り込んで攪拌させるように構成し
たりされる。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る磁気記録媒体
用ガラス基板の研磨装置の好ましい実施形態について説
明する。この研磨装置は、研磨剤を混入させた研磨液を
用いて磁気記録媒体用ガラス基板の研磨加工を行う研磨
機を有して構成され、さらには、研磨液を効率良く使用
するための研磨液循環装置（研磨液循環手段）を有して
構成されている。研磨機は、ワーク（磁気記録媒体用ガ
ラス基板）の両面を同時に加工可能な、市販のいわゆる
両面研磨機が用いられている。また、研磨液循環装置
は、磁気記録媒体用ガラス基板の傷発生の原因となる研
磨液中のガラス状の硬い塊の生成をなくすため、研磨液
循環装置により循環する研磨液中にコロイド状のガラス
物質が含有されないように構成している。

【００２７】すなわち、研磨加工に使用する両面研磨機
に接続されるタンクを、第一タンクおよび第二タンクか
らなる二つのタンクによって二槽式に構成し、研磨加工
に使用された研磨液は最初に第一タンクに流入させる。
次いで、ある程度の時間研磨液を第一タンク内で放置
し、ガラス物質が混入した研磨液に対して研磨剤のみが
混入している研磨液を沈降分離させる。

【００２８】なお、第一タンクにはタンクの底部近傍に
攪拌用羽根（第一タンク攪拌手段）が配設されており、
沈降分離して沈澱してきた研磨剤のみが混入している研
磨液だけを攪拌して研磨剤がタンクの底で固まることが
ないようにしている。

【００２９】その後、第一タンク内の研磨液の上澄み部
分であるコロイド状のガラス物質が含有されている部分
を採取することなく、第一タンク内の研磨液の上澄み以
外の部分である研磨剤のみが混入されている部分だけを
ポンプを用いてもう一方の第二タンクに導入する。第二
タンクにも攪拌用羽根（第二タンク攪拌手段）が設けら
れているが、この攪拌用羽根は第一タンクに設けられて
いる攪拌用羽根と異なり、第二タンク内の研磨液全体を
攪拌可能に構成されている。

【００３０】このため、第二タンク内に多量の研磨液を
貯留させて、少量づつ研磨液を両面研磨機に供給するよ
うに構成しても、第二タンク内で研磨液中の研磨剤が固
まってしまうことがない。このように、第二タンク内に
多量の研磨液を貯留させることができれば、連続して研
磨加工を行っても第一タンクにおいて研磨液を沈降分離
させる時間を確保することができる。そして、研磨液は
この第二タンクから両面研磨機へと再供給されて研磨加
工に使用された後、研磨後の研磨液は再度第一タンクに
戻されるという循環がなされる。

【００３１】なお、この研磨液循環装置においては、第
一タンク中に溜まる研磨液の上澄み部分は捨ててしまう
ように構成され、第二タンクに溜まる研磨液のみをポン
プによって研磨機の加工部分に供給するように構成され
ている。このため、第二タンク中にコロイド状のガラス
物質が混入することなく、傷発生の原因となるガラス状
の硬い塊を研磨液中から無くすことができる。

【００３２】

【実施例】次に、図１から図３を参照して本発明に係る
磁気記録媒体用ガラス基板の研磨装置の好ましい実施例
について説明する。この研磨装置は、市販の両面研磨機
（研磨機）１と、この両面研磨機１への研磨液１９の供
給およびガラス物質の回収を行う研磨液循環装置（研磨
液循環手段）２とから構成されている。

【００３３】両面研磨機１は、鋳鉄製の上定盤１３と下
定盤１４とにポリウレタン製の研磨パッド１８，１８を
それぞれ貼り付けて構成されている。そして、この研磨
パッド１８，１８が固定された上下定盤（研磨工具）１
３，１４の間に、磁気記録媒体用ガラス基板１２（以
下、「ガラス基板１２」と称する）を密着させるととも
に、ポリウレタン製の研磨パッド１８，１８とガラス基
板１２の研磨面との間に研磨剤である酸化セリウム（Ｃ
ｅＯ₂）を有する研磨液１９，１９を供給して回転、摺
動することにより、ガラス基板１２の両面を同時に研磨
する。

【００３４】具体的には、両面研磨機１のワークである
ガラス基板１２をキャリア１５により保持し、このキャ
リア１５を太陽歯車１６と、インターナル歯車１７に噛
合させ、ガラス基板１２を上定盤１３と下定盤１４とで
挟持するとともに押圧した状態でキャリア１５を回転さ
せることにより、研磨パッド１８，１８とガラス基板１
２とを相対回転させて研磨する。なお、研磨剤である研
磨砥粒としては、平均粒径が１.２μｍ、最大粒径が８.
４μｍの比較的粒径の細いものを使用している。

【００３５】次に、両面研磨機１への研磨液１９の供給
を行う研磨液循環装置２について説明する。この研磨液
循環装置２は、第一タンク２１と第二タンク２２とから
なる二槽式タンク（分離タンク）を有した構成となって
おり、研磨加工に使用された研磨液１９が最初に到達す
る第一タンク２１中に溜まる研磨液１９の上澄み部分を
採取することなく、第一タンク２１に貯留されている研
磨液１９の上澄み以外の部分をもう一方の第二タンク２
２に流入させるようになっている。そして、第二タンク
２２から研磨液１９が再度両面研磨機１へと供給され、
研磨液１９が前記の流れで循環されるような研磨液循環
機構を構成している。

【００３６】研磨液循環装置２においては、第一タンク
２１の研磨液流入孔と両面研磨機１の研磨液流出孔とは
第一パイプ２５によって繋がれており、第一タンク２１
の研磨液流出孔と第二タンク２２の研磨液流入孔とは第
二パイプ２６によって繋がれている。また、第二タンク
２２の研磨液流出孔と両面研磨機１の研磨液流入孔とは
第三パイプ２７によって繋がれている。なお、第一タン
ク２１および第二タンク２２には、それぞれ攪拌用羽根
２３，２４が配設されている。

【００３７】このように構成された研磨液循環装置２に
おいては、両面研磨機１において研磨加工に使用された
研磨液１９は、第一パイプ２５を通ってまず第一タンク
２１に流入する。流入した研磨液１９は第一タンク２１
において所定時間放置し、コロイド状のガラス物質が含
有された上澄み部分（ガラス物質が混入した研磨液）
と、この上澄み部分以外の部分（研磨剤のみが混入して
いる研磨液）とに沈降分離させる。

【００３８】第一タンク２１内の研磨液１９は、第一タ
ンク２１に装着してある攪拌用羽根２３の回転によって
攪拌されるが、第一タンク２１および攪拌用羽根２３に
おいては、第一タンク２１の形状並びに、羽根の形状お
よび回転条件を最適化することにより、第一タンク２１
に貯留されている研磨液１９の上澄み部分は攪拌せず
に、研磨液１９の上澄み部分以外の部分を攪拌すること
ができるようになっている。このため、攪拌されるべき
研磨液１９の上澄み部分以外の部分においては、研磨剤
のみが沈殿して固まることは防止されている。

【００３９】このように構成された第一タンク２１にお
いては、攪拌されていないコロイド状のガラス物質が含
有された上澄み部分は、磁気記録媒体用ガラス基板の研
磨装置の清掃、メンテナンス時に捨てる。そして、第一
タンク２１で攪拌された研磨液１９の上澄み以外の部分
は、第二パイプ２６を通って第二タンク２２に流入す
る。従って、この時点では第二タンク２２に貯留される
研磨液１９の中には、コロイド状のガラス物質は含有さ
れていない。

【００４０】第二タンク２２おいては、貯留されている
研磨液１９は攪拌用羽根２４を用いて均一に攪拌され
る。そして、攪拌された研磨液１９は第三パイプ２７を
通って両面研磨機１に戻され、ガラス基板１２の研磨加
工に用いられる。なお、第一タンク２１から第二タンク
２２への研磨液１９の流出および、第二タンク２２から
両面研磨機１への研磨液１９の供給は、図示しないポン
プを用いてなされる。

【００４１】上記のように構成された磁気記録媒体用ガ
ラス基板の研磨装置における研磨条件は、以下の通りで
ある。研磨液１９は、前記のように酸化セリウムを研磨
剤とした懸濁液である。研磨加工圧力は、３０〜１２０
ｇ／ｃｍ²、上下定盤１３，１４の回転数は、５〜４０
ＲＰＭ、研磨除去量は０.１〜１μｍ／ｍｉｎである。
この研磨加工によって作製したガラス基板１２の表面粗
さＲａは、１０×１０^-10ｍ以下となった。尚、このガ
ラス基板１２の表面粗さの測定には、接触型のディスク
専用の表面粗さ・微細形状測定装置（Tencor社製テンコ
ールＰ−１２）を用いた。

【００４２】そして、従来の一つのタンクから研磨液を
循環させて供給していた研磨装置を用いて研磨加工した
ガラス基板の研磨面の傷による不良率は、１.２％であ
ったのに対し、本発明に係る磁気記録媒体用ガラス基板
の研磨装置を用いて研磨加工したガラス基板の研磨面の
傷による不良率は、０.３％に改善された。

【００４３】なお、上記の実施例においては、研磨液循
環装置２においてコロイド状のガラス物質が含有された
上澄み部分と、この上澄み部分以外の部分とに分離させ
た後に、研磨液１９の上澄み部分以外の部分を両面研磨
機１に戻すために、研磨液循環手段として、第一タンク
２１および第二タンク２２を有した二槽式の研磨液循環
手段を用いた場合について説明したが、本発明はこのよ
うな構成に限られるものではない。例えば、タンクは一
台もしくは三台以上の複数台設けるように構成してもよ
く、また、攪拌用羽根２３，２４等も必ずしも必要なも
のではない。

【００４４】

【発明の効果】以上のように、本発明の磁気記録媒体用
ガラス基板の研磨装置は、研磨加工に使用した研磨液を
貯留してガラス物質が混入した研磨液に対して研磨剤の
みが混入している研磨液を沈降分離させ、研磨剤のみが
混入している研磨液を再度研磨機に供給するように構成
している。このため、研磨機に供給される研磨液からは
ガラス物質が除去されるため、研磨液において硬いガラ
スの塊が生成されることがない。

【００４５】従って、磁気記録媒体用ガラス基板の研磨
面に発生する傷を低減できるため、磁気記録媒体基板に
存在する傷の為に傷部分に情報が記録できないとうこと
が無くなる。更に、ヘッドクラッシュの要因となるよう
な大きい傷の発生を防止することができる。また、ガラ
ス基板上に発生した傷の為に基板が割れてしまうといっ
た問題も解決できるため、ガラス磁気記録媒体用基板の
機械的強度の向上を図ることができる。

【００４６】なお、上記の磁気記録媒体用ガラス基板の
研磨装置においては、分離タンクを第一タンクと第二タ
ンクとから構成し、第一タンクにおいてガラス物質と研
磨剤との沈降分離を行った後、沈澱させた研磨剤のみが
混入している研磨液を第二タンクに流出させ、第二タン
クから研磨剤のみが混入している研磨液を研磨機へ供給
するように構成することが好ましい。

【００４７】このような構成とすることにより、第一タ
ンクにおいてガラス物質の分離を確実に行うことができ
るため、第二タンクにおいて研磨液を放置してもガラス
の塊が生成されることがない。また、研磨機には第二タ
ンクのみから研磨液が供給されるため、長時間連続して
研磨加工を行っても分離が不十分な研磨液が研磨機に供
給されることがないため、ガラス物質の混入した研磨液
が研磨機に供給されることがない。

【００４８】さらに、上記の磁気記録媒体用ガラス基板
の研磨装置においては、第一タンクには研磨剤のみが混
入している研磨液だけを攪拌する第一タンク攪拌手段を
設けるとともに、第二タンクには研磨液全体を攪拌する
第二タンク攪拌手段を設けるように構成することが好ま
しい。このような構成とすることにより、研磨液中の研
磨剤が固まってしまうことがなく、研磨剤のみが混入し
ている研磨液をスムーズに第一タンクから第二タンクへ
供給したり、第二タンクから研磨機に供給したりするこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明に係る磁気記録媒体用ガラス基板の研
磨装置を示す正面図である。

【図２】 上記磁気記録媒体用ガラス基板の研磨装置に
用いられる両面研磨機の概念を示す正面図である。

【図３】 上記両面研磨機の概念を示す平面図である。

【図４】 磁気記録媒体用ガラス基板の研磨を行った研
磨液の自然沈降分離の状態を示す概念図である。

【符号の説明】

１ 両面研磨機（研磨機） ２ 研磨液循環装置（研磨液循環手段） １２ 磁気記録媒体用基板 １３ 上定盤 １４ 下定盤 １５ キャリア １６ 太陽歯車 １７ インターナル歯車 １９ 研磨液 ２１ 第一タンク ２２ 第二タンク ２３，２４ 攪拌羽根（攪拌手段）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 亀山 悟 神奈川県相模原市田名3330番地１ 株式会 社相模オプト内 (72)発明者 草野 辰一 神奈川県相模原市田名3330番地１ 株式会 社相模オプト内 (72)発明者 小澤 正治 東京都品川区二葉一丁目３番25号 株式会 社ニコン技術工房内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 研磨剤を混入させた研磨液を用いて磁気
   記録媒体用ガラス基板の研磨加工を行う研磨機と、 前記研磨加工に使用された研磨液を回収するとともに、
   前記研磨加工に使用された研磨液中に混入したガラス物
   質を除去して前記研磨機に再度供給する研磨液循環手段
   とからなる磁気記録媒体用ガラス基板の研磨装置であっ
   て、 前記研磨液循環手段が、 前記研磨加工に使用された研磨液を貯留して、前記ガラ
   ス物質が混入した研磨液に対して前記研磨剤のみが混入
   している研磨液を沈降分離させ、沈澱させた前記研磨剤
   のみが混入している研磨液を前記研磨機に供給可能な分
   離タンクを有していることを特徴とする磁気記録媒体用
   ガラス基板の研磨装置。
2. 【請求項２】 前記分離タンクが、前記研磨加工に使用
   された研磨液が流入する第一タンクと、この第一タンク
   と前記研磨機との間に配設された第二タンクとからな
   り、 前記第一タンクにおいて前記沈降分離を行った後、沈澱
   させた前記研磨剤のみが混入している研磨液を前記第二
   タンクに流出させ、この第二タンクから前記研磨剤のみ
   が混入している研磨液を前記研磨機へ供給することを特
   徴とした請求項１に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の
   研磨装置。
3. 【請求項３】 前記第一タンクに沈澱させた前記研磨剤
   のみが混入している研磨液を攪拌する第一タンク攪拌手
   段と、 前記第二タンクに貯留された前記研磨剤のみが混入して
   いる研磨液を攪拌する第二タンク攪拌手段とを有するこ
   とを特徴とする請求項２に記載の磁気記録媒体用ガラス
   基板の研磨装置。