JPH11115319A - 可逆性感熱記録材料 - Google Patents
可逆性感熱記録材料Info
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- JPH11115319A JPH11115319A JP9283784A JP28378497A JPH11115319A JP H11115319 A JPH11115319 A JP H11115319A JP 9283784 A JP9283784 A JP 9283784A JP 28378497 A JP28378497 A JP 28378497A JP H11115319 A JPH11115319 A JP H11115319A
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- Japan
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- thermosensitive recording
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 サーマルヘッドによる印字消去が可能な、可
逆性感熱記録材料を提供する。 【解決手段】 高分子樹脂母材と該高分子樹脂母材に分
散された有機低分子化合物を主成分とし、温度により透
明状態と不透明状態との可逆変化を生じる可逆性感熱記
録材料において、前記有機低分子化合物がチオエーテル
と脂肪族二塩基酸とを少なくとも含有することを特長と
する可逆性感熱記録材料。
逆性感熱記録材料を提供する。 【解決手段】 高分子樹脂母材と該高分子樹脂母材に分
散された有機低分子化合物を主成分とし、温度により透
明状態と不透明状態との可逆変化を生じる可逆性感熱記
録材料において、前記有機低分子化合物がチオエーテル
と脂肪族二塩基酸とを少なくとも含有することを特長と
する可逆性感熱記録材料。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は可視画像を繰り返し
表示、消去することができる熱可逆性感熱記録材料に関
する。
表示、消去することができる熱可逆性感熱記録材料に関
する。
【０００２】
【従来の技術】各種プリペイドカード等において、磁気
カードやＩＣカードが使用されているが、記録内容が直
接目視できないため、支払い金額や残額を簡単にチェッ
クできず、使用者に対する内容の保証がしずらかった。
カードやＩＣカードが使用されているが、記録内容が直
接目視できないため、支払い金額や残額を簡単にチェッ
クできず、使用者に対する内容の保証がしずらかった。
【０００３】そこで特開昭５５−１５４１９８号には、
記録媒体に目視可能な記録を行い、また当該記録を消去
することができる記録材料として、高分子樹脂母材中に
有機低分子化合物を混合分散させた熱可逆性感熱記録材
料が開示されている。
記録媒体に目視可能な記録を行い、また当該記録を消去
することができる記録材料として、高分子樹脂母材中に
有機低分子化合物を混合分散させた熱可逆性感熱記録材
料が開示されている。
【０００４】この材料は、特定のある濃度領域Ｔ１から
常温に冷却されると透明化し、Ｔ１よりも高い温度領域
Ｔ２から常温に冷却されると不透明化（白濁）する性質
を有するので、そのコントラストの違いを利用して目視
にて読み取れる可視画像を可逆的に印字、消去すること
ができる。
常温に冷却されると透明化し、Ｔ１よりも高い温度領域
Ｔ２から常温に冷却されると不透明化（白濁）する性質
を有するので、そのコントラストの違いを利用して目視
にて読み取れる可視画像を可逆的に印字、消去すること
ができる。
【０００５】現在、上記タイプの熱可逆性感熱記録材料
は、記録部全面を温度領域Ｔ１に設定された加熱スタン
プや加熱ロール等を用いて透明化し、その後サーマルヘ
ッドを用いて部分的に温度領域Ｔ２に処理することによ
って白濁化させ、透明地に白濁印字の可視画像を形成し
ている。すなわち、白濁化させて印字を行い、透明化さ
せて消去を行う。
は、記録部全面を温度領域Ｔ１に設定された加熱スタン
プや加熱ロール等を用いて透明化し、その後サーマルヘ
ッドを用いて部分的に温度領域Ｔ２に処理することによ
って白濁化させ、透明地に白濁印字の可視画像を形成し
ている。すなわち、白濁化させて印字を行い、透明化さ
せて消去を行う。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら装置の小
型化、低コスト化、処理速度向上の目的で、上記の透明
化（消去）方法において加熱スタンプや加熱ロール等を
用いることなく、印字用と兼用してサーマルヘッドで消
去を行う方式が望まれている。さらに消去（全面透明
化）した後に印字（部分白濁化）を行う２工程ではな
く、サーマルヘッドのドット毎にＴ１，Ｔ２に相当する
２水準の印加エネルギーを与え、前の印字を消去しなが
ら同時に新規の印字を行うオーバーライト方式も提案さ
れている。
型化、低コスト化、処理速度向上の目的で、上記の透明
化（消去）方法において加熱スタンプや加熱ロール等を
用いることなく、印字用と兼用してサーマルヘッドで消
去を行う方式が望まれている。さらに消去（全面透明
化）した後に印字（部分白濁化）を行う２工程ではな
く、サーマルヘッドのドット毎にＴ１，Ｔ２に相当する
２水準の印加エネルギーを与え、前の印字を消去しなが
ら同時に新規の印字を行うオーバーライト方式も提案さ
れている。
【０００７】ところが上記熱可逆性感熱記録材料は、通
常、透明化温度幅が狭い。このため、速い処理速度では
サーマルヘッドによる記録層厚み方向の温度分布が大き
いので、完全に消去することが困難である。本発明の目
的は、サーマルヘッドによる消去（透明化）性に優れた
可逆性感熱記録材料を提供ことにある。
常、透明化温度幅が狭い。このため、速い処理速度では
サーマルヘッドによる記録層厚み方向の温度分布が大き
いので、完全に消去することが困難である。本発明の目
的は、サーマルヘッドによる消去（透明化）性に優れた
可逆性感熱記録材料を提供ことにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、高分子
樹脂母材と該高分子樹脂母材に分散された有機低分子化
合物を主成分とし、温度により透明状態と不透明状態と
の可逆変化を生じる可逆性感熱記録材料において、前記
有機低分子化合物がチオエーテルと樹脂族二塩基酸とを
少なくとも含有する可逆性感熱記録材料である。前記チ
オエーテルは炭素数１０〜３０のアルキル基を有し、か
つ、前記脂肪族二塩基酸は炭素数４〜２６のアルキル基
を有することが好ましい。
樹脂母材と該高分子樹脂母材に分散された有機低分子化
合物を主成分とし、温度により透明状態と不透明状態と
の可逆変化を生じる可逆性感熱記録材料において、前記
有機低分子化合物がチオエーテルと樹脂族二塩基酸とを
少なくとも含有する可逆性感熱記録材料である。前記チ
オエーテルは炭素数１０〜３０のアルキル基を有し、か
つ、前記脂肪族二塩基酸は炭素数４〜２６のアルキル基
を有することが好ましい。
【０００９】
【発明の実施の形態】可逆性感熱記録層を備えたカード
を５０℃から１４０℃まで１℃間隔で加熱した後、それ
ぞれ室温に冷却して、各処理温度での記録層の反射濃度
が０．５以下かつ１．０以上を満たす温度範囲を透明化
温度範囲とし、本発明は透明化温度範囲を広げることに
より、サーマルヘッド適性を付与する。
を５０℃から１４０℃まで１℃間隔で加熱した後、それ
ぞれ室温に冷却して、各処理温度での記録層の反射濃度
が０．５以下かつ１．０以上を満たす温度範囲を透明化
温度範囲とし、本発明は透明化温度範囲を広げることに
より、サーマルヘッド適性を付与する。
【００１０】本発明で使用される脂肪族二塩基酸は温度
により透明状態と不透明状態との可逆変化を生じる特性
を有するものであれば、特に限定されることはないが、
後述するチオエーテルと共晶を形成しやすく融点（ｍ
ｐ）が比較的高い、下記化１に示される化合物が好んで
使用される。
により透明状態と不透明状態との可逆変化を生じる特性
を有するものであれば、特に限定されることはないが、
後述するチオエーテルと共晶を形成しやすく融点（ｍ
ｐ）が比較的高い、下記化１に示される化合物が好んで
使用される。
【００１１】
【化１】ＨＯＯＣ−（ＣＨ2 ）ｎ−ＣＯＯＨ 化１でｎは４〜２６が好ましい。ｎが４〜２６の範囲で
あれば、チオエーテルと共晶を形成しやすく、溶剤に対
する溶解度も適切であり製膜が容易である。
あれば、チオエーテルと共晶を形成しやすく、溶剤に対
する溶解度も適切であり製膜が容易である。
【００１２】具体的にはスベリン酸（ｍｐ：１４０
℃）、セバシン酸（ｍｐ：１３４℃）、ドデカン二酸
（ｍｐ：１２８℃）、テトラデカン二酸（ｍｐ：１２５
℃）、ヘキサデカン二酸（ｍｐ：１２５℃）、オクタデ
カン二酸（ｍｐ：１２５℃）、エイコサン二酸（ｍｐ：
１２０℃）が挙げられる。
℃）、セバシン酸（ｍｐ：１３４℃）、ドデカン二酸
（ｍｐ：１２８℃）、テトラデカン二酸（ｍｐ：１２５
℃）、ヘキサデカン二酸（ｍｐ：１２５℃）、オクタデ
カン二酸（ｍｐ：１２５℃）、エイコサン二酸（ｍｐ：
１２０℃）が挙げられる。
【００１３】また、本発明で使用されるチオエーテルは
透明化温度範囲を広げる特性を有すれば、特に限定され
ることはないが、脂肪族二塩基酸と共晶を形成しやすく
融点が比較的低い、下記化２で示される化合物が好んで
使用される。
透明化温度範囲を広げる特性を有すれば、特に限定され
ることはないが、脂肪族二塩基酸と共晶を形成しやすく
融点が比較的低い、下記化２で示される化合物が好んで
使用される。
【００１４】
【化２】Ｒ1 −Ｓ−Ｒ2 化２でＲ1 とＲ2 は炭素数１０〜３０のアルキル基が好
ましい。Ｒ1 とＲ2 は同じでも異なっていてもよい。炭
素数が１０〜３０の範囲では、サーマルヘッドの印字お
よび消去に十分に適した透明化温度範囲の広がりを持
ち、記録に要するエネルギーは適切であり記録層の劣化
が遅い。
ましい。Ｒ1 とＲ2 は同じでも異なっていてもよい。炭
素数が１０〜３０の範囲では、サーマルヘッドの印字お
よび消去に十分に適した透明化温度範囲の広がりを持
ち、記録に要するエネルギーは適切であり記録層の劣化
が遅い。
【００１５】化２で示される化合物として、具体的には
ジドデシルチオエーテル（ｍｐ：４１℃）、ジテトラデ
シルチオエーテル（ｍｐ：５０℃）、ジヘキサデシルチ
オエーテル（ｍｐ：６２℃）、ジオクタデシルチオエー
テル（ｍｐ：７０℃）等が挙げられる。
ジドデシルチオエーテル（ｍｐ：４１℃）、ジテトラデ
シルチオエーテル（ｍｐ：５０℃）、ジヘキサデシルチ
オエーテル（ｍｐ：６２℃）、ジオクタデシルチオエー
テル（ｍｐ：７０℃）等が挙げられる。
【００１６】脂肪族二塩基酸の添加量は重量比で、脂肪
族二塩基酸／高分子樹脂母材＝９８／２〜３０／７０が
望ましい。本範囲であれば、サーマルヘッドの印字およ
び消去に十分に適した透明化温度範囲の広がりを持ち、
白濁状態と透明状態とのコントラストも適性である。
族二塩基酸／高分子樹脂母材＝９８／２〜３０／７０が
望ましい。本範囲であれば、サーマルヘッドの印字およ
び消去に十分に適した透明化温度範囲の広がりを持ち、
白濁状態と透明状態とのコントラストも適性である。
【００１７】チオエーテルおよび脂肪族二塩基酸と高分
子樹脂母材とは重量比で、高分子樹脂母材／（チオエー
テル＋樹脂族二塩基酸）＝１００／１０〜１００／８０
が望ましい。本範囲であれば、白濁状態と透明状態との
コントラストが適性であり、製膜に優れる。
子樹脂母材とは重量比で、高分子樹脂母材／（チオエー
テル＋樹脂族二塩基酸）＝１００／１０〜１００／８０
が望ましい。本範囲であれば、白濁状態と透明状態との
コントラストが適性であり、製膜に優れる。
【００１８】本発明で用いられる高分子樹脂母材として
はポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、
塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−アルコール共重合体、他の酢酸ビニ
ル化合物、塩化ビニル系共重合体、ポリ塩化ビニリデ
ン、塩化ビニリデン系共重合体、ポリエステル、ポリア
ミド、ポリスチレン、ポリメチルメタアクリレートまた
はその共重合体等が挙げられる。
はポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、
塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−アルコール共重合体、他の酢酸ビニ
ル化合物、塩化ビニル系共重合体、ポリ塩化ビニリデ
ン、塩化ビニリデン系共重合体、ポリエステル、ポリア
ミド、ポリスチレン、ポリメチルメタアクリレートまた
はその共重合体等が挙げられる。
【００１９】また、保護膜としてはポリエチレンテレフ
タレート、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテル
ケトン、ポリサルフォン、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリアクリレート、ポリエーテルサルフォン、ポリ
カーボネート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミ
ド、アクリル樹脂等の耐熱性の高い樹脂が挙げられる。
さらに、反射層としてはアルミニウム、錫等の蒸着層あ
るいは箔またはアルミ脂等を混ぜた塗料等が挙げられ
る。
タレート、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテル
ケトン、ポリサルフォン、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリアクリレート、ポリエーテルサルフォン、ポリ
カーボネート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミ
ド、アクリル樹脂等の耐熱性の高い樹脂が挙げられる。
さらに、反射層としてはアルミニウム、錫等の蒸着層あ
るいは箔またはアルミ脂等を混ぜた塗料等が挙げられ
る。
【００２０】本発明に使用する感熱記録材を利用したカ
ードの一例としては、合成樹脂基材シートの表面に反射
層、記録層、保護層、可視記録表示窓を形成するための
印刷層を順次積層し、また裏面には磁気記録層、保護印
刷層を積層したカードが挙げられる。
ードの一例としては、合成樹脂基材シートの表面に反射
層、記録層、保護層、可視記録表示窓を形成するための
印刷層を順次積層し、また裏面には磁気記録層、保護印
刷層を積層したカードが挙げられる。
【００２１】
（実施例１）あらかじめ裏面に磁気塗料を層厚１０μｍ
に塗布した１８８μｍのポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）シートの表面にアルミ蒸着し、その上に記録
層として 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ２００重量部 ジドデシルチオエーテル（Ｒ1 ，Ｒ2 ＝Ｃ12Ｈ25） ７０ ドデカン二酸（ｎ＝１０） ３０ をテトラヒドロフランに溶解した液を、加熱乾燥して１
０μｍ厚になるように塗布した。有機低分子化合物とし
て、チオエーテルであるジドデシルチオエーテルと脂肪
族二塩基酸であるドデカン二酸とを用いている。
に塗布した１８８μｍのポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）シートの表面にアルミ蒸着し、その上に記録
層として 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ２００重量部 ジドデシルチオエーテル（Ｒ1 ，Ｒ2 ＝Ｃ12Ｈ25） ７０ ドデカン二酸（ｎ＝１０） ３０ をテトラヒドロフランに溶解した液を、加熱乾燥して１
０μｍ厚になるように塗布した。有機低分子化合物とし
て、チオエーテルであるジドデシルチオエーテルと脂肪
族二塩基酸であるドデカン二酸とを用いている。
【００２２】得られた記録層の上に保護層として２μｍ
厚のＰＥＴフィルムを貼付け、さらに、可視記録表示窓
を形成するために印刷を行う。裏面の磁気記録層の上に
保護層を設け、カード形状に打ち抜いた。
厚のＰＥＴフィルムを貼付け、さらに、可視記録表示窓
を形成するために印刷を行う。裏面の磁気記録層の上に
保護層を設け、カード形状に打ち抜いた。
【００２３】 （実施例２） 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ２００重量部 ジテトラデシルチオエーテル（Ｒ1 ，Ｒ2 ＝Ｃ14Ｈ29） ７０ ドデカン二酸 ３０ をテトラヒドロフランに溶解した液を用いた以外は、実
施例１と同様にした。
施例１と同様にした。
【００２４】 （実施例３） 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ２００重量部 ジヘキサデシルチオエーテル（Ｒ1 ，Ｒ2 ＝Ｃ16Ｈ33） ７０ ドデカン二酸 ３０ をテトラヒドロフランに溶解した液を用いた以外は、実
施例１と同様にした。
施例１と同様にした。
【００２５】 （実施例４） 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ２００重量部 ジヘキサデシルチオエーテル（Ｒ1 ，Ｒ2 ＝Ｃ16Ｈ33） ７０ エイコサン二酸（ｎ＝１８） ３０ をテトラヒドロフランに溶解した液を用いた以外は、実
施例１と同様にした。
施例１と同様にした。
【００２６】 （比較例１） 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ２００重量部 ドデカン二酸 ７０ をテトラヒドロフランに溶解した液を用いた以外は、実
施例１と同様にした。比較例１は有機低分子化合物とし
て脂肪族二塩基酸であるドデカン二酸を使用し、チオエ
ーテルを使用していない。
施例１と同様にした。比較例１は有機低分子化合物とし
て脂肪族二塩基酸であるドデカン二酸を使用し、チオエ
ーテルを使用していない。
【００２７】 （比較例２） 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ２００重量部 ベヘン酸 ７０ ドデカン二酸 ３０ をテトラヒドロフランに溶解した液を用いた以外は、実
施例１と同様にした。比較例２は有機低分子化合物とし
て、飽和高級脂肪酸であるベヘン酸と脂肪族二塩基酸で
あるドデカン二酸とを使用し、チオエーテルは使用して
いない。
施例１と同様にした。比較例２は有機低分子化合物とし
て、飽和高級脂肪酸であるベヘン酸と脂肪族二塩基酸で
あるドデカン二酸とを使用し、チオエーテルは使用して
いない。
【００２８】上述した実施例１〜４および比較例１，２
で得られた可逆性感熱記録層を備えたカードを５０℃か
ら１４０℃まで１℃間隔で加熱した後、それぞれ室温に
冷却して、各処理温度での記録層の反射濃度をマクベス
ＲＤ−９１４にて測定した。反射濃度が０．５以下を白
濁状態、１．０以上を透明状態とした場合に、前記条件
を満たす温度範囲（透明化温度範囲）を求めた。そし
て、表１に透明化温度範囲と、その幅（透明化温度幅）
と、透明化温度範囲での最大反射濃度（最大透明濃度）
および最大反射濃度（最大白濁濃度）を示した。
で得られた可逆性感熱記録層を備えたカードを５０℃か
ら１４０℃まで１℃間隔で加熱した後、それぞれ室温に
冷却して、各処理温度での記録層の反射濃度をマクベス
ＲＤ−９１４にて測定した。反射濃度が０．５以下を白
濁状態、１．０以上を透明状態とした場合に、前記条件
を満たす温度範囲（透明化温度範囲）を求めた。そし
て、表１に透明化温度範囲と、その幅（透明化温度幅）
と、透明化温度範囲での最大反射濃度（最大透明濃度）
および最大反射濃度（最大白濁濃度）を示した。
【００２９】
【表１】 表１より明らかなように、実施例１〜４は比較例１，２
より透明化温度幅が広がっており、サーマルヘッドによ
る印字消去適性が増していることがわかる。
より透明化温度幅が広がっており、サーマルヘッドによ
る印字消去適性が増していることがわかる。
【００３０】また、記録層を全面透明化した後、ドット
数が８ｄｏｔ／ｍｍ、走行速度が４０ｍｍ／ｓｅｃのサ
ーマルヘッドで印加パルス幅１ｍｓｅｃとして０．２５
ｍＪ／ｄｏｔのエネルギーを部分的に与えて印字を行っ
た。さらに、印加パルス幅１ｍｓｅｃで０．１２ｍＪ／
ｄｏｔの条件で消去を行った。実施例１〜４は印字消去
を繰返し行っても、記録層に画像を形成でき、さらに、
画像を消去することができた。一方、比較例１，２はサ
ーマルヘッドによって印字は可能だったが、消去ができ
なかった。
数が８ｄｏｔ／ｍｍ、走行速度が４０ｍｍ／ｓｅｃのサ
ーマルヘッドで印加パルス幅１ｍｓｅｃとして０．２５
ｍＪ／ｄｏｔのエネルギーを部分的に与えて印字を行っ
た。さらに、印加パルス幅１ｍｓｅｃで０．１２ｍＪ／
ｄｏｔの条件で消去を行った。実施例１〜４は印字消去
を繰返し行っても、記録層に画像を形成でき、さらに、
画像を消去することができた。一方、比較例１，２はサ
ーマルヘッドによって印字は可能だったが、消去ができ
なかった。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の可逆性感
熱記録材料はサーマルヘッドによる印字消去が可能であ
るため装置の小型化、低コスト化、処理速度の向上が可
能となる。
熱記録材料はサーマルヘッドによる印字消去が可能であ
るため装置の小型化、低コスト化、処理速度の向上が可
能となる。
Claims (2)
- 【請求項１】 高分子樹脂母材と該高分子樹脂母材に分
散された有機低分子化合物を主成分とし、温度により透
明状態と不透明状態との可逆変化を生じる可逆性感熱記
録材料において、前記有機低分子化合物がチオエーテル
と脂肪族二塩基酸とを少なくとも含有することを特徴と
する可逆性感熱記録材料。 - 【請求項２】 前記チオエーテルは炭素数１０〜３０の
アルキル基を有し、かつ、前記脂肪族二塩基酸は炭素数
４〜２６のアルキル基を有することを特徴とする請求項
１記載の可逆性感熱記録材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28378497A JP3695910B2 (ja) | 1997-10-16 | 1997-10-16 | 可逆性感熱記録材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28378497A JP3695910B2 (ja) | 1997-10-16 | 1997-10-16 | 可逆性感熱記録材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11115319A true JPH11115319A (ja) | 1999-04-27 |
| JP3695910B2 JP3695910B2 (ja) | 2005-09-14 |
Family
ID=17670097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28378497A Expired - Fee Related JP3695910B2 (ja) | 1997-10-16 | 1997-10-16 | 可逆性感熱記録材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3695910B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7049268B2 (en) | 2002-06-03 | 2006-05-23 | Ricoh Company, Ltd. | Heat reversible recording medium, heat reversible recording label, heat reversible recording member, image processor and image processing method |
-
1997
- 1997-10-16 JP JP28378497A patent/JP3695910B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7049268B2 (en) | 2002-06-03 | 2006-05-23 | Ricoh Company, Ltd. | Heat reversible recording medium, heat reversible recording label, heat reversible recording member, image processor and image processing method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3695910B2 (ja) | 2005-09-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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