JPH11121841A - レーザー用反射鏡 - Google Patents
レーザー用反射鏡Info
- Publication number
- JPH11121841A JPH11121841A JP28848697A JP28848697A JPH11121841A JP H11121841 A JPH11121841 A JP H11121841A JP 28848697 A JP28848697 A JP 28848697A JP 28848697 A JP28848697 A JP 28848697A JP H11121841 A JPH11121841 A JP H11121841A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- film
- index film
- laser
- reflectance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Lasers (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高反射帯域幅が大きく、入射光角度依存性の
小さい２００ｎｍ以下の波長で９５％以上の反射率を有
するレーザー用反射鏡を提供する。 【解決手段】 高屈折率膜材料群としてＡｌ2Ｏ3，Ｎｄ
Ｆ3，ＬａＦ3，ＧｄＦ3、ＨｏＦ3、低屈折率膜材料群と
してＳｉＯ2，ＭｇＦ2及びＡｌＦ3の中から選ばれた膜
材料を用いたレーザー用反射鏡において、レーザー中心
波長をλ0、光学膜厚をｄn＊λ0としたとき、高屈折率
膜の光学膜厚がｄn＊Ｈn（λ0／４光学膜厚は０．２５
Ｈn）で表され、低屈折率膜の光学膜厚がｄn＊Ｌn（λ0
／４光学膜厚は０．２５Ｌn）で表され、ａ回の交互多
層膜構成を１スタックとしてａn＊（ｄn＊Ｌn，ｄn＊Ｈ
n）で表すと、多層膜が ａ1＊（ｄ1＊Ｌ1，ｄ1＊Ｈ1）ａ2＊（ｄ2＊Ｌ2，ｄ2＊
Ｈ2）・・・ａn＊（ｄn＊Ｌn，ｄn＊Ｈn） で、各スタックの高屈折率膜と低屈折率膜の光学膜厚が
同じで、ｎが３以上の膜構成にする。
小さい２００ｎｍ以下の波長で９５％以上の反射率を有
するレーザー用反射鏡を提供する。 【解決手段】 高屈折率膜材料群としてＡｌ2Ｏ3，Ｎｄ
Ｆ3，ＬａＦ3，ＧｄＦ3、ＨｏＦ3、低屈折率膜材料群と
してＳｉＯ2，ＭｇＦ2及びＡｌＦ3の中から選ばれた膜
材料を用いたレーザー用反射鏡において、レーザー中心
波長をλ0、光学膜厚をｄn＊λ0としたとき、高屈折率
膜の光学膜厚がｄn＊Ｈn（λ0／４光学膜厚は０．２５
Ｈn）で表され、低屈折率膜の光学膜厚がｄn＊Ｌn（λ0
／４光学膜厚は０．２５Ｌn）で表され、ａ回の交互多
層膜構成を１スタックとしてａn＊（ｄn＊Ｌn，ｄn＊Ｈ
n）で表すと、多層膜が ａ1＊（ｄ1＊Ｌ1，ｄ1＊Ｈ1）ａ2＊（ｄ2＊Ｌ2，ｄ2＊
Ｈ2）・・・ａn＊（ｄn＊Ｌn，ｄn＊Ｈn） で、各スタックの高屈折率膜と低屈折率膜の光学膜厚が
同じで、ｎが３以上の膜構成にする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、２００ｎｍ以下の
紫外波長域で動作するレーザー用の光学系、特にＡｒＦ
エキシマレーザーを用いる光学系の高反射鏡に関するも
のであり、特に広帯域誘電体多層膜反射鏡に関するもの
である。
紫外波長域で動作するレーザー用の光学系、特にＡｒＦ
エキシマレーザーを用いる光学系の高反射鏡に関するも
のであり、特に広帯域誘電体多層膜反射鏡に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】誘電体多層膜反射鏡は、低屈折率膜と高
屈折率膜を使用波長の１／４光学膜厚で積層した構成を
基本としており、高反射帯域幅Δｇは、高屈折率膜の屈
折率をｎh、低屈折率膜の屈折率をｎlとすると、 Δｇ＝２／πｓｉｎ-1（ｎh−ｎl／ｎh＋ｎl） （１式） で表すことができ、高屈折率膜と低屈折率膜の屈折率差
が大きいほど少ない層数で、かつ高反射率帯域幅の大き
い反射鏡が製造できる。したがって、高反射鏡の製造
上、膜厚制御誤差等の製造誤差を考慮すると高反射帯域
幅をどれだけ大きくすることができるかに製造歩留まり
がおおきく影響を与えていた。
屈折率膜を使用波長の１／４光学膜厚で積層した構成を
基本としており、高反射帯域幅Δｇは、高屈折率膜の屈
折率をｎh、低屈折率膜の屈折率をｎlとすると、 Δｇ＝２／πｓｉｎ-1（ｎh−ｎl／ｎh＋ｎl） （１式） で表すことができ、高屈折率膜と低屈折率膜の屈折率差
が大きいほど少ない層数で、かつ高反射率帯域幅の大き
い反射鏡が製造できる。したがって、高反射鏡の製造
上、膜厚制御誤差等の製造誤差を考慮すると高反射帯域
幅をどれだけ大きくすることができるかに製造歩留まり
がおおきく影響を与えていた。
【０００３】また、広い波長範囲にわたって高反射率を
持つような反射鏡については、"Thin-Film Optical Fil
ters" 2nd edition. H. A. Macleod著，Macmillan出版
社のｐ１７２等に記述されているように、１／４波長に
ピークを持つ周期構造の多層膜スタックを多数積層し、
波長幅を広げる手法が公知である。
持つような反射鏡については、"Thin-Film Optical Fil
ters" 2nd edition. H. A. Macleod著，Macmillan出版
社のｐ１７２等に記述されているように、１／４波長に
ピークを持つ周期構造の多層膜スタックを多数積層し、
波長幅を広げる手法が公知である。
【０００４】また、特開昭６３−２０８８０１号公報の
ように高反射金属膜上に誘電体多層膜を積層し、少ない
層数で高反射帯域幅を広げようとする提案や、特開昭６
４−７６７８８号公報のように、多波長の各レーザーに
対応した各１／４波長光学膜厚の周期積層構成の多波長
レーザー用高反射鏡の提案がある。
ように高反射金属膜上に誘電体多層膜を積層し、少ない
層数で高反射帯域幅を広げようとする提案や、特開昭６
４−７６７８８号公報のように、多波長の各レーザーに
対応した各１／４波長光学膜厚の周期積層構成の多波長
レーザー用高反射鏡の提案がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
例では、波長２００ｎｍ以下のレーザー、例えばＡｒＦ
エキシマレーザー用の高反射鏡については使用可能な低
吸収膜材料に限りがあり、高屈折率膜と低屈折率膜の屈
折率差が小さく、上記（１式）から計算した場合、Ｋｒ
Ｆエキシマレーザー（波長２４８ｎｍ）と比較すると大
幅に高反射帯域幅が低下するという問題点があった。
例では、波長２００ｎｍ以下のレーザー、例えばＡｒＦ
エキシマレーザー用の高反射鏡については使用可能な低
吸収膜材料に限りがあり、高屈折率膜と低屈折率膜の屈
折率差が小さく、上記（１式）から計算した場合、Ｋｒ
Ｆエキシマレーザー（波長２４８ｎｍ）と比較すると大
幅に高反射帯域幅が低下するという問題点があった。
【０００６】したがって高反射鏡を製造する場合、高反
射帯域幅が小さいため製造誤差を極めて小さくしなけれ
ばならないという問題があった。
射帯域幅が小さいため製造誤差を極めて小さくしなけれ
ばならないという問題があった。
【０００７】また、レーザー光が広がりを持っているよ
うな光学系（例えば入射角４５度±１５度）においては
入射角範囲が大きくなると、中心入射角から入射光角度
がずれるにしたがって反射率が低下してしまうという問
題点があった。
うな光学系（例えば入射角４５度±１５度）においては
入射角範囲が大きくなると、中心入射角から入射光角度
がずれるにしたがって反射率が低下してしまうという問
題点があった。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、レーザ
ー波長範囲が２００ｎｍ以下であり、反射率９５％以上
であり、高屈折率膜材料群としてＡｌ2Ｏ3，ＮｄＦ3，
ＬａＦ3，ＧｄＦ3及びＨｏＦ3の中から選ばれ、低屈折
率膜材料群としてＳｉＯ2，ＭｇＦ2及びＡｌＦ3の中か
ら選ばれた膜材料を用いたレーザー用反射鏡において、
レーザー中心波長をλ0、光学膜厚をｄn＊λ0としたと
き、高屈折率材料群の中から選ばれた高屈折率膜の光学
膜厚がｄn＊Ｈn（λ0／４光学膜厚は０．２５Ｈn）で表
され、低屈折率材料群の中から選ばれた低屈折率膜の光
学膜厚がｄn＊Ｌn（λ0／４光学膜厚は０．２５Ｌn）で
表され、ａ回の交互多層膜構成を１スタックとしてａn
＊（ｄn＊Ｌn，ｄn＊Ｈ n）で表すとき、多層膜が ａ1＊（ｄ1＊Ｌ1，ｄ1＊Ｈ1）ａ2＊（ｄ2＊Ｌ2，ｄ2＊
Ｈ2）・・・ａn＊（ｄn＊Ｌn，ｄn＊Ｈn） で表され、各スタックにおける高屈折率膜と低屈折率膜
の光学膜厚が同じで、３つ以上のスタックの組み合わせ
で形成される膜構成にすることにより、少ない層数で高
反射帯域幅が大きく、かつ入射角依存の小さい高反射率
をもつ高反射鏡を提供することができる。
ー波長範囲が２００ｎｍ以下であり、反射率９５％以上
であり、高屈折率膜材料群としてＡｌ2Ｏ3，ＮｄＦ3，
ＬａＦ3，ＧｄＦ3及びＨｏＦ3の中から選ばれ、低屈折
率膜材料群としてＳｉＯ2，ＭｇＦ2及びＡｌＦ3の中か
ら選ばれた膜材料を用いたレーザー用反射鏡において、
レーザー中心波長をλ0、光学膜厚をｄn＊λ0としたと
き、高屈折率材料群の中から選ばれた高屈折率膜の光学
膜厚がｄn＊Ｈn（λ0／４光学膜厚は０．２５Ｈn）で表
され、低屈折率材料群の中から選ばれた低屈折率膜の光
学膜厚がｄn＊Ｌn（λ0／４光学膜厚は０．２５Ｌn）で
表され、ａ回の交互多層膜構成を１スタックとしてａn
＊（ｄn＊Ｌn，ｄn＊Ｈ n）で表すとき、多層膜が ａ1＊（ｄ1＊Ｌ1，ｄ1＊Ｈ1）ａ2＊（ｄ2＊Ｌ2，ｄ2＊
Ｈ2）・・・ａn＊（ｄn＊Ｌn，ｄn＊Ｈn） で表され、各スタックにおける高屈折率膜と低屈折率膜
の光学膜厚が同じで、３つ以上のスタックの組み合わせ
で形成される膜構成にすることにより、少ない層数で高
反射帯域幅が大きく、かつ入射角依存の小さい高反射率
をもつ高反射鏡を提供することができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】ＡｒＦエキシマレーザーを用いた
光学系において、光源から照射位置までの間にレーザー
光に角度の広がりがあり、入射角４５度±１５度で使用
する高反射鏡が必要であった。レーザー光の中心入射角
は４５度であり、４５度±１５度という広い入射角範囲
で入射角依存の少ない反射率を示す高反射鏡で、かつ製
造上の膜厚制御誤差を考慮すると高反射率帯域幅が１０
ｎｍ以上ある高反射鏡が必要である。
光学系において、光源から照射位置までの間にレーザー
光に角度の広がりがあり、入射角４５度±１５度で使用
する高反射鏡が必要であった。レーザー光の中心入射角
は４５度であり、４５度±１５度という広い入射角範囲
で入射角依存の少ない反射率を示す高反射鏡で、かつ製
造上の膜厚制御誤差を考慮すると高反射率帯域幅が１０
ｎｍ以上ある高反射鏡が必要である。
【００１０】本発明では、上記構成により、そのような
高反射率帯域幅が１０ｎｍ以上ある高反射鏡を提供する
ことができるものであり、その結果、高反射鏡を高い製
造歩留まりで提供できる。
高反射率帯域幅が１０ｎｍ以上ある高反射鏡を提供する
ことができるものであり、その結果、高反射鏡を高い製
造歩留まりで提供できる。
【００１１】本発明では、特に、高屈折率膜及び低屈折
率膜の膜厚をｄnとしたとき４５度−１５度の入射角で
膜厚の下限が決まり、４５度＋１５度の入射角で膜厚の
上限が決まり、 ０．２４＜ｄn≦０．３１ であるとその効果は大きい。
率膜の膜厚をｄnとしたとき４５度−１５度の入射角で
膜厚の下限が決まり、４５度＋１５度の入射角で膜厚の
上限が決まり、 ０．２４＜ｄn≦０．３１ であるとその効果は大きい。
【００１２】高屈折率膜材料としてＡｌ2Ｏ3、低屈折率
膜材料としてＳｉＯ2を用いる場合、スタック数をｎと
すると、ｎが６以上であり ０．２５≦ｄn≦０．３ であると良い。
膜材料としてＳｉＯ2を用いる場合、スタック数をｎと
すると、ｎが６以上であり ０．２５≦ｄn≦０．３ であると良い。
【００１３】高屈折率膜材料としてＡｌ2Ｏ3、低屈折率
膜材料としてＭｇＦ2を用いる場合、スタック数をｎと
すると、ｎが３以上であり ０．２６≦ｄn≦０．３ であると良い。
膜材料としてＭｇＦ2を用いる場合、スタック数をｎと
すると、ｎが３以上であり ０．２６≦ｄn≦０．３ であると良い。
【００１４】高屈折率膜材料としてＡｌ2Ｏ3、低屈折率
膜材料としてＡｌＦ3を用いる場合、スタック数をｎと
すると、ｎが３以上であり ０．２６≦ｄn≦０．３１ であると良い。
膜材料としてＡｌＦ3を用いる場合、スタック数をｎと
すると、ｎが３以上であり ０．２６≦ｄn≦０．３１ であると良い。
【００１５】高屈折率膜材料としてＬａＦ3，ＮｄＦ3，
ＧｄＦ3，ＨｏＦ3、低屈折率膜材料としてＭｇＦ2を用
いる場合、スタック数をｎとすると、ｎが６以上であり ０．２６≦ｄn≦０．３１ であると良い。
ＧｄＦ3，ＨｏＦ3、低屈折率膜材料としてＭｇＦ2を用
いる場合、スタック数をｎとすると、ｎが６以上であり ０．２６≦ｄn≦０．３１ であると良い。
【００１６】高屈折率膜材料としてＬａＦ3，ＮｄＦ3，
ＧｄＦ3，ＨｏＦ3、低屈折率膜材料としてＡｌＦ3を用
いる場合、スタック数をｎとすると、ｎが５以上であり ０．２６≦ｄn≦０．３１ であると良い。
ＧｄＦ3，ＨｏＦ3、低屈折率膜材料としてＡｌＦ3を用
いる場合、スタック数をｎとすると、ｎが５以上であり ０．２６≦ｄn≦０．３１ であると良い。
【００１７】本発明のレーザー用反射鏡は、適当な基
板、例えば、シリコン（Ｓｉ）、炭化珪素（ＳｉＣ）、
炭化珪素で被覆されたタングステン（Ｗ）、モリブデン
（Ｍｏ）、Ｗ−Ｍｏ合金、耐熱セラミックスなど基板上
に、公知の方法、例えば、真空蒸着法、分子イオンビー
ム蒸着法（ＭＢＥ）法、スパッタ法などにより、上記の
高屈折率膜と低屈折率膜とを交互に所定の光学膜厚とな
るように所望の層数積層し、１スタックの交互多層膜構
成を形成し、更にその上に順次、次のスタックを同様に
形成して、所定のスタック数となるように形成すること
で製造することができる。なお、各スタックは膜厚ｄn
が順次大から小へ、あるいは小から大へ変化するよう積
層すればよい。このような膜厚の増減は、交互多層膜を
構成する２材料の屈折率差で決まり、例えば、ＭｇＦ2
／Ａｌ2Ｏ3では０．０２ずつ、ＡｌＦ3／Ａｌ2Ｏ3では
０．０２〜０．０２５ずつ、ＭｇＦ2／ＬａＦ3では０．
０１ずつ、ＡｌＦ3／ＬａＦ3では０．０１〜０．０１５
ずつ、などのように一定の比で増減させればよい。又、
積層数ａとしては、１５〜４０、好ましくは１８〜３０
である。
板、例えば、シリコン（Ｓｉ）、炭化珪素（ＳｉＣ）、
炭化珪素で被覆されたタングステン（Ｗ）、モリブデン
（Ｍｏ）、Ｗ−Ｍｏ合金、耐熱セラミックスなど基板上
に、公知の方法、例えば、真空蒸着法、分子イオンビー
ム蒸着法（ＭＢＥ）法、スパッタ法などにより、上記の
高屈折率膜と低屈折率膜とを交互に所定の光学膜厚とな
るように所望の層数積層し、１スタックの交互多層膜構
成を形成し、更にその上に順次、次のスタックを同様に
形成して、所定のスタック数となるように形成すること
で製造することができる。なお、各スタックは膜厚ｄn
が順次大から小へ、あるいは小から大へ変化するよう積
層すればよい。このような膜厚の増減は、交互多層膜を
構成する２材料の屈折率差で決まり、例えば、ＭｇＦ2
／Ａｌ2Ｏ3では０．０２ずつ、ＡｌＦ3／Ａｌ2Ｏ3では
０．０２〜０．０２５ずつ、ＭｇＦ2／ＬａＦ3では０．
０１ずつ、ＡｌＦ3／ＬａＦ3では０．０１〜０．０１５
ずつ、などのように一定の比で増減させればよい。又、
積層数ａとしては、１５〜４０、好ましくは１８〜３０
である。
【００１８】
（実施例１）ＡｒＦエキシマレーザー用反射鏡をＡ１2
Ｏ3とＳｉＯ2を用いて製作した。
Ｏ3とＳｉＯ2を用いて製作した。
【００１９】膜構成は、レーザー波長をλ0、光学膜厚
をｄ1＊λ0、Ａｌ2Ｏ3膜をＡとしたとき、Ａ１2Ｏ3膜の
λ0／４光学膜厚は０．２５Ａ、ＳｉＯ2膜をＳとしたと
き、ＳｉＯ2膜のλ0／４光学膜厚は０．２５Ｓと表すこ
とができ、Ａｌ2Ｏ3とＳｉＯ 2のλ0／４光学膜厚のａ回
の交互多層膜構成をａ（０．２５Ａ，０．２５Ｓ）と表
すとすると、今回製作した広帯域高反射鏡膜構成はλ0
＝１９３ｎｍであり、２０（０．２５Ｓ，０．２５Ａ）
２０（０．２６Ｓ，０．２６Ａ）２０（０．２７Ｓ，
０．２７Ａ）２０（０．２８Ｓ，０．２８Ａ）２０
（０．２９Ｓ，０．２９Ａ）２０（０．３Ｓ，０．３
Ａ）であった。
をｄ1＊λ0、Ａｌ2Ｏ3膜をＡとしたとき、Ａ１2Ｏ3膜の
λ0／４光学膜厚は０．２５Ａ、ＳｉＯ2膜をＳとしたと
き、ＳｉＯ2膜のλ0／４光学膜厚は０．２５Ｓと表すこ
とができ、Ａｌ2Ｏ3とＳｉＯ 2のλ0／４光学膜厚のａ回
の交互多層膜構成をａ（０．２５Ａ，０．２５Ｓ）と表
すとすると、今回製作した広帯域高反射鏡膜構成はλ0
＝１９３ｎｍであり、２０（０．２５Ｓ，０．２５Ａ）
２０（０．２６Ｓ，０．２６Ａ）２０（０．２７Ｓ，
０．２７Ａ）２０（０．２８Ｓ，０．２８Ａ）２０
（０．２９Ｓ，０．２９Ａ）２０（０．３Ｓ，０．３
Ａ）であった。
【００２０】製作した反射鏡の入射角３０、４５、６０
度入射の反射率特性を測定した結果を図１に示す。
度入射の反射率特性を測定した結果を図１に示す。
【００２１】ａは３０度入射、ｂは４５度入射、ｃは６
０度入射で、反射率９７％以上の波長幅は１５ｎｍ程度
あり、製造誤差を考慮しても充分歩留まりのある膜であ
ることがわかる。この膜のＡｒＦレザー波長（１９３ｎ
ｍ）における反射率の入射角依存を測定した結果を図２
に示した。入射角０度（垂直入射）から６５度の広い入
射角範囲において９７％以上の反射率を示しており入射
角依存の小さい広帯域な反射鏡であることがわかる。
０度入射で、反射率９７％以上の波長幅は１５ｎｍ程度
あり、製造誤差を考慮しても充分歩留まりのある膜であ
ることがわかる。この膜のＡｒＦレザー波長（１９３ｎ
ｍ）における反射率の入射角依存を測定した結果を図２
に示した。入射角０度（垂直入射）から６５度の広い入
射角範囲において９７％以上の反射率を示しており入射
角依存の小さい広帯域な反射鏡であることがわかる。
【００２２】（比較例１）比較のため、λ0／４光学膜
厚の交互多層膜構成の５０（０．２５Ｓ，０．２５Ａ）
で、λ0＝２０９．６ｎｍの反射鏡を製作し、その反射
率のＡｒＦレザー波長（１９３ｎｍ）における入射角依
存を測定した結果を図３に示す。反射率９７％以上の入
射角は３４から５４度と狭いことがわかる。
厚の交互多層膜構成の５０（０．２５Ｓ，０．２５Ａ）
で、λ0＝２０９．６ｎｍの反射鏡を製作し、その反射
率のＡｒＦレザー波長（１９３ｎｍ）における入射角依
存を測定した結果を図３に示す。反射率９７％以上の入
射角は３４から５４度と狭いことがわかる。
【００２３】（実施例２）ＡｒＦエキシマレーザー用反
射鏡をＡ１2Ｏ3とＭｇＦ2を用いて製作した。入射角は
４５度であり、レーザー光に角度の広がりがあり４５度
±１５度で使用するものであった。
射鏡をＡ１2Ｏ3とＭｇＦ2を用いて製作した。入射角は
４５度であり、レーザー光に角度の広がりがあり４５度
±１５度で使用するものであった。
【００２４】膜構成は、Ａｌ2Ｏ3膜をＡ、ＭｇＦ2膜を
Ｍと表すと、今回製作した広帯域高反射鏡膜構成はλ0
＝１９３ｎｍとすると、２０（０．２６Ｍ，０．２６
Ａ）２０（０．２８Ｍ，０．２８Ａ）２０（０．３Ｍ，
０．３Ａ）であった。
Ｍと表すと、今回製作した広帯域高反射鏡膜構成はλ0
＝１９３ｎｍとすると、２０（０．２６Ｍ，０．２６
Ａ）２０（０．２８Ｍ，０．２８Ａ）２０（０．３Ｍ，
０．３Ａ）であった。
【００２５】製作した反射鏡の入射角３０、４５、６０
度入射の反射率特性を測定した結果を図４に示す。
度入射の反射率特性を測定した結果を図４に示す。
【００２６】ａは３０度入射、ｂは４５度入射、ｃは６
０度入射で、反射率９７％以上の波長幅は１７ｎｍ程度
あり、製造誤差を考慮しても充分歩留まりのある膜であ
ることがわかる。この膜のＡｒＦレザー波長（１９３ｎ
ｍ）における反射率の入射角依存を測定した結果を図５
に示した。入射角０度（垂直入射）から６０度の広い入
射角範囲において９９％以上の反射率を示しており入射
角依存の小さい広帯域な反射鏡であることがわかる。
０度入射で、反射率９７％以上の波長幅は１７ｎｍ程度
あり、製造誤差を考慮しても充分歩留まりのある膜であ
ることがわかる。この膜のＡｒＦレザー波長（１９３ｎ
ｍ）における反射率の入射角依存を測定した結果を図５
に示した。入射角０度（垂直入射）から６０度の広い入
射角範囲において９９％以上の反射率を示しており入射
角依存の小さい広帯域な反射鏡であることがわかる。
【００２７】（比較例２）比較のため、λ0／４光学膜
厚の交互多層膜構成の５０（０．２５Ｍ，０．２５Ａ）
で、λ0＝２１５ｎｍの反射鏡を製作し、その反射率の
ＡｒＦレザー波長（１９３ｎｍ）における入射角依存を
測定した結果を図６に示す。反射率９７％以上の入射角
は３３から５８度と狭いことがわかる。
厚の交互多層膜構成の５０（０．２５Ｍ，０．２５Ａ）
で、λ0＝２１５ｎｍの反射鏡を製作し、その反射率の
ＡｒＦレザー波長（１９３ｎｍ）における入射角依存を
測定した結果を図６に示す。反射率９７％以上の入射角
は３３から５８度と狭いことがわかる。
【００２８】（実施例３）ＡｒＦエキシマレーザー用反
射鏡をＡｌ2Ｏ3とＡｌＦ3を用いて製作した。入射角は
４５度であり、レーザー光に角度の広がりがあり４５度
±１５度で使用するものであった。
射鏡をＡｌ2Ｏ3とＡｌＦ3を用いて製作した。入射角は
４５度であり、レーザー光に角度の広がりがあり４５度
±１５度で使用するものであった。
【００２９】膜構成は、Ａ１2Ｏ3膜をＡ、Ａ１Ｆ3膜を
Ｆと表すと、今回製作した広帯域高反射鏡膜構成はλ0
＝１９３ｎｍとすると、１８（０．２６Ｆ，０．２６
Ａ）１８（０．２８５１Ｆ，０．２８Ａ）１８（０．３
１Ｆ，０．３Ａ）であった。
Ｆと表すと、今回製作した広帯域高反射鏡膜構成はλ0
＝１９３ｎｍとすると、１８（０．２６Ｆ，０．２６
Ａ）１８（０．２８５１Ｆ，０．２８Ａ）１８（０．３
１Ｆ，０．３Ａ）であった。
【００３０】製作した反射鏡の入射角３０、４５、６０
度入射の反射率特性を測定した結果を図７に示す。
度入射の反射率特性を測定した結果を図７に示す。
【００３１】ａは３０度入射、ｂは４５度入射、ｃは４
５度入射で、反射率９７％以上の波長幅は２２ｎｍ程度
あり、製造誤差を考慮しても充分歩留まりのある膜であ
ることがわかる。この膜のＡｒＦレザー波長（１９３ｎ
ｍ）における反射率の入射角依存を測定した結果を図８
に示した。入射角０度（垂直入射）から６８度の広い入
射角範囲において９７％以上の反射率を示しており入射
角依存の小さい広帯域な反射鏡であることがわかる。
５度入射で、反射率９７％以上の波長幅は２２ｎｍ程度
あり、製造誤差を考慮しても充分歩留まりのある膜であ
ることがわかる。この膜のＡｒＦレザー波長（１９３ｎ
ｍ）における反射率の入射角依存を測定した結果を図８
に示した。入射角０度（垂直入射）から６８度の広い入
射角範囲において９７％以上の反射率を示しており入射
角依存の小さい広帯域な反射鏡であることがわかる。
【００３２】（比較例３）比較のため、λ0／４光学膜
厚の交互多層膜構成の５０（０．２５Ｆ，０．２５Ａ）
で、λ0＝２１７ｎｍの反射鏡を製作し、その反射率の
ＡｒＦレザー波長（１９３ｎｍ）における入射角依存を
測定した結果を図９に示す。反射率９７％以上の入射角
は３１から５８度と狭いことがわかる。
厚の交互多層膜構成の５０（０．２５Ｆ，０．２５Ａ）
で、λ0＝２１７ｎｍの反射鏡を製作し、その反射率の
ＡｒＦレザー波長（１９３ｎｍ）における入射角依存を
測定した結果を図９に示す。反射率９７％以上の入射角
は３１から５８度と狭いことがわかる。
【００３３】（実施例４）ＡｒＦエキシマレーザー用反
射鏡をＬａＦ3とＭｇＦ2を用いて製作した。入射角は４
５度であり、レーザー光に角度の広がりがあり４５度±
１５度で使用するものであった。
射鏡をＬａＦ3とＭｇＦ2を用いて製作した。入射角は４
５度であり、レーザー光に角度の広がりがあり４５度±
１５度で使用するものであった。
【００３４】膜構成は、ＬａＦ3膜をＬ、ＭｇＦ2膜をＭ
と表すと、今回製作した広帯域高反射鏡膜構成はλ0＝
１９３ｎｍとすると、３０（０．２６Ｍ，０．２６Ｌ）
３０（０．２７Ｍ，０．２７Ｌ）３０（０．２８Ｍ，
０．２８Ｌ）３０（０．２９Ｍ，０．２９Ｌ）３０
（０．３Ｍ，０．３Ｌ）３０（０．３１Ｍ，０．３１
Ｌ）であった。
と表すと、今回製作した広帯域高反射鏡膜構成はλ0＝
１９３ｎｍとすると、３０（０．２６Ｍ，０．２６Ｌ）
３０（０．２７Ｍ，０．２７Ｌ）３０（０．２８Ｍ，
０．２８Ｌ）３０（０．２９Ｍ，０．２９Ｌ）３０
（０．３Ｍ，０．３Ｌ）３０（０．３１Ｍ，０．３１
Ｌ）であった。
【００３５】製作した反射鏡の入射角３０、４５、６０
度入射の反射率特性を測定した結果を図１０に示す。
度入射の反射率特性を測定した結果を図１０に示す。
【００３６】ａは３０度入射、ｂは４５度入射、ｃは６
０度入射で、反射率９５％以上の波長幅は１２ｎｍ程度
あり、製造誤差を考慮しても充分歩留まりのある膜であ
ることがわかる。この膜のＡｒＦレザー波長（１９３ｎ
ｍ）における反対率の入射角依存を測定した結果を図１
１に示した。入射角１２度（垂直入射）から６３度の広
い入射角範囲において９８％以上の反射率を示しており
入射角依存の小さい広帯域な反射鏡であることがわか
る。
０度入射で、反射率９５％以上の波長幅は１２ｎｍ程度
あり、製造誤差を考慮しても充分歩留まりのある膜であ
ることがわかる。この膜のＡｒＦレザー波長（１９３ｎ
ｍ）における反対率の入射角依存を測定した結果を図１
１に示した。入射角１２度（垂直入射）から６３度の広
い入射角範囲において９８％以上の反射率を示しており
入射角依存の小さい広帯域な反射鏡であることがわか
る。
【００３７】また、ＬａＦ3の代わりにＮｄＦ3，ＧｄＦ
3，ＨｏＦ3を高屈折率材料として用いた場合もほほ同様
の膜が得られた。
3，ＨｏＦ3を高屈折率材料として用いた場合もほほ同様
の膜が得られた。
【００３８】（比較例４）比較のため、λ0／４光学膜
厚の交互多層膜構成の５０（０．２５Ｍ，０．２５Ｌ）
で、λ0＝２１８ｎｍの反射鏡を製作し、その反射率の
ＡｒＦレザー波長（１９３ｎｍ）における入射角依存を
測定した結果を図１２に示す。反射率９８％以上の入射
角は３８から５１度と狭いことがわかる。
厚の交互多層膜構成の５０（０．２５Ｍ，０．２５Ｌ）
で、λ0＝２１８ｎｍの反射鏡を製作し、その反射率の
ＡｒＦレザー波長（１９３ｎｍ）における入射角依存を
測定した結果を図１２に示す。反射率９８％以上の入射
角は３８から５１度と狭いことがわかる。
【００３９】（実施例５）ＡｒＦエキシマレーザー用反
射鏡をＬａＦ3とＡｌＦ3を用いて製作した。入射角は４
５度であり、レーザー光に角度の広がりがあり４５度±
１５度で使用するものであった。
射鏡をＬａＦ3とＡｌＦ3を用いて製作した。入射角は４
５度であり、レーザー光に角度の広がりがあり４５度±
１５度で使用するものであった。
【００４０】膜構成は、ＬａＦ3膜をＬ、ＡｌＦ3膜をＦ
と表すと、今回製作した広帯域高反射鏡膜構成はλ0＝
１９３ｎｍとすると、２５（０．２６Ｆ，０．２６Ｌ）
２５（０．２７５Ｆ，０．２７５Ｌ）２５（０．２９
Ｆ，０．２９Ｌ）２５（０．３Ｆ，０．３Ｌ）２５
（０．３１Ｆ，０．３１Ｌ）であった。
と表すと、今回製作した広帯域高反射鏡膜構成はλ0＝
１９３ｎｍとすると、２５（０．２６Ｆ，０．２６Ｌ）
２５（０．２７５Ｆ，０．２７５Ｌ）２５（０．２９
Ｆ，０．２９Ｌ）２５（０．３Ｆ，０．３Ｌ）２５
（０．３１Ｆ，０．３１Ｌ）であった。
【００４１】製作した反射鏡の入射角３０、４５、６０
度入射の反射率特性を測定した結果を図１３に示す。
度入射の反射率特性を測定した結果を図１３に示す。
【００４２】ａは３０度入射、ｂは４５度入射、ｃは６
０度入射で、反射率９７％以上の波長幅は１３ｎｍ程度
あり、製造誤差を考慮しても充分歩留まりのある膜であ
ることがわかる。この膜のＡｒＦレザー波長（１９３ｎ
ｍ）における反射率の入射角依存を測定した結果を図１
４に示した。入射角０度（垂直入射）から６１度の広い
入射角範囲において９８％以上の反射率を示しており入
射角依存の小さい広帯域な反射鏡であることがわかる。
０度入射で、反射率９７％以上の波長幅は１３ｎｍ程度
あり、製造誤差を考慮しても充分歩留まりのある膜であ
ることがわかる。この膜のＡｒＦレザー波長（１９３ｎ
ｍ）における反射率の入射角依存を測定した結果を図１
４に示した。入射角０度（垂直入射）から６１度の広い
入射角範囲において９８％以上の反射率を示しており入
射角依存の小さい広帯域な反射鏡であることがわかる。
【００４３】また、ＬａＦ3の代わりにＮｄＦ3，ＧｄＦ
3，ＨｏＦ3を高屈折率材料として用いた場合もほほ同様
の膜が得られた。
3，ＨｏＦ3を高屈折率材料として用いた場合もほほ同様
の膜が得られた。
【００４４】（比較例５）比較のため、λ0／４光学膜
厚の交互多層膜構成の５０（０．２５Ｆ，０．２５Ｌ）
で、λ0＝２２０ｎｍの反射鏡を製作し、その反射率の
ＡｒＦレザー波長（１９３ｎｍ）における入射角依存を
測定した結果を図１５に示す。反射率９８％以上の入射
角は３８から５３度と狭いことがわかる。
厚の交互多層膜構成の５０（０．２５Ｆ，０．２５Ｌ）
で、λ0＝２２０ｎｍの反射鏡を製作し、その反射率の
ＡｒＦレザー波長（１９３ｎｍ）における入射角依存を
測定した結果を図１５に示す。反射率９８％以上の入射
角は３８から５３度と狭いことがわかる。
【００４５】
【発明の効果】以上説明したように、レーザー波長範囲
が２００ｎｍ以下であり、反射率９５％以上であり、高
屈折率膜材料群としてＡｌ2Ｏ3，ＮｄＦ3，ＬａＦ3，Ｇ
ｄＦ3及びＨｏＦ3の中から選ばれ、低屈折率膜材料群と
してＳｉＯ2，ＭｇＦ2及びＡｌＦ3の中から選ばれた膜
材料を用いたレーザー用反射鏡において、レーザー中心
波長をλ0、光学膜厚をｄn＊λ0としたとき、高屈折率
材料群の中から選ばれた高屈折率膜の光学膜厚がｄn＊
Ｈn（λ0／４光学膜厚は０．２５Ｈn）で表され、低屈
折率材料群の中から選ばれた低屈折率膜の光学膜厚がｄ
n＊Ｌn（λ0／４光学膜厚は０．２５Ｌn）で表され、ａ
回の交互多層膜構成を１スタックとしてａn＊（ｄn＊Ｌ
n，ｄn＊Ｈ n）で表すとき、多層膜が ａ1＊（ｄ1＊Ｌ1，ｄ1＊Ｈ1）ａ2＊（ｄ2＊Ｌ2，ｄ2＊
Ｈ2）・・・ａn＊（ｄn＊Ｌn，ｄn＊Ｈn） で表され、各スタックにおける高屈折率膜と低屈折率膜
の光学膜厚が同じで、３つ以上のスタックの組み合わせ
で形成される膜構成にすることにより、少ない層数で高
反射帯域幅が大きく、かつ入射角依存の小さい高反射率
をもつ高反射鏡を提供することができた。また高反射帯
域幅が広いため、製造上の膜厚制御性の誤差を考慮して
も充分に歩留まりのある高反射鏡を提供することができ
た。
が２００ｎｍ以下であり、反射率９５％以上であり、高
屈折率膜材料群としてＡｌ2Ｏ3，ＮｄＦ3，ＬａＦ3，Ｇ
ｄＦ3及びＨｏＦ3の中から選ばれ、低屈折率膜材料群と
してＳｉＯ2，ＭｇＦ2及びＡｌＦ3の中から選ばれた膜
材料を用いたレーザー用反射鏡において、レーザー中心
波長をλ0、光学膜厚をｄn＊λ0としたとき、高屈折率
材料群の中から選ばれた高屈折率膜の光学膜厚がｄn＊
Ｈn（λ0／４光学膜厚は０．２５Ｈn）で表され、低屈
折率材料群の中から選ばれた低屈折率膜の光学膜厚がｄ
n＊Ｌn（λ0／４光学膜厚は０．２５Ｌn）で表され、ａ
回の交互多層膜構成を１スタックとしてａn＊（ｄn＊Ｌ
n，ｄn＊Ｈ n）で表すとき、多層膜が ａ1＊（ｄ1＊Ｌ1，ｄ1＊Ｈ1）ａ2＊（ｄ2＊Ｌ2，ｄ2＊
Ｈ2）・・・ａn＊（ｄn＊Ｌn，ｄn＊Ｈn） で表され、各スタックにおける高屈折率膜と低屈折率膜
の光学膜厚が同じで、３つ以上のスタックの組み合わせ
で形成される膜構成にすることにより、少ない層数で高
反射帯域幅が大きく、かつ入射角依存の小さい高反射率
をもつ高反射鏡を提供することができた。また高反射帯
域幅が広いため、製造上の膜厚制御性の誤差を考慮して
も充分に歩留まりのある高反射鏡を提供することができ
た。
【図１】実施例１で作製した膜構成の高反射鏡の入射角
３０、４５、６０度の反射率測定結果を表す図である。
３０、４５、６０度の反射率測定結果を表す図である。
【図２】実施例１で作製した膜構成の高反射鏡の波長１
９３ｎｍにおける入射角と反射率の関係を測定した結果
を表す図である。
９３ｎｍにおける入射角と反射率の関係を測定した結果
を表す図である。
【図３】比較例１で作製した膜構成の高反射鏡の波長１
９３ｎｍにおける入射角と反射率の関係を測定した結果
を表す図である。
９３ｎｍにおける入射角と反射率の関係を測定した結果
を表す図である。
【図４】実施例２で作製した膜構成の高反射鏡の入射角
３０、４５、６０度の反射率測定結果を表す図である。
３０、４５、６０度の反射率測定結果を表す図である。
【図５】実施例２で作製した膜構成の高反射鏡の波長１
９３ｎｍにおける入射角と反射率の関係を測定した結果
を表す図である。
９３ｎｍにおける入射角と反射率の関係を測定した結果
を表す図である。
【図６】比較例２で作製した膜構成の高反射鏡の波長１
９３ｎｍにおける入射角と反射率の関係を測定した結果
を表す図である。
９３ｎｍにおける入射角と反射率の関係を測定した結果
を表す図である。
【図７】実施例３で作製した膜構成の高反射鏡の入射角
３０、４５、６０度の反射率測定結果を表す図である。
３０、４５、６０度の反射率測定結果を表す図である。
【図８】実施例３で作製した膜構成の高反射鏡の波長１
９３ｎｍにおける入射角と反射率の関係を測定した結果
を表す図である。
９３ｎｍにおける入射角と反射率の関係を測定した結果
を表す図である。
【図９】比較例３で作製した膜構成の高反射鏡の波長１
９３ｎｍにおける入射角と反射率の関係を測定した結果
を表す図である。
９３ｎｍにおける入射角と反射率の関係を測定した結果
を表す図である。
【図１０】実施例４で作製した膜構成の高反射鏡の入射
角３０、４５、６０度の反射率測定結果を表す図であ
る。
角３０、４５、６０度の反射率測定結果を表す図であ
る。
【図１１】実施例４で作製した膜構成の高反射鏡の波長
１９３ｎｍにおける入射角と反射率の関係を測定した結
果を表す図である。
１９３ｎｍにおける入射角と反射率の関係を測定した結
果を表す図である。
【図１２】比較例４で作製した膜構成の高反射鏡の波長
１９３ｎｍにおける入射角と反射率の関係を測定した結
果を表す図である。
１９３ｎｍにおける入射角と反射率の関係を測定した結
果を表す図である。
【図１３】実施例５で作製した膜構成の高反射鏡の入射
角３０、４５、６０度の反射率測定結果を表す図であ
る。
角３０、４５、６０度の反射率測定結果を表す図であ
る。
【図１４】実施例５で作製した膜構成の高反射鏡の波長
１９３ｎｍにおける入射角と反射率の関係を測定した結
果を表す図である。
１９３ｎｍにおける入射角と反射率の関係を測定した結
果を表す図である。
【図１５】比較例５で作製した膜構成の高反射鏡の波長
１９３ｎｍにおける入射角と反射率の関係を測定した結
果を表す図である。
１９３ｎｍにおける入射角と反射率の関係を測定した結
果を表す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 金沢 秀宏 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 枇榔 竜二 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内
Claims (7)
- 【請求項１】 レーザー波長範囲が２００ｎｍ以下であ
り、反射率９５％以上であり、高屈折率膜材料群として
Ａｌ2Ｏ3，ＮｄＦ3，ＬａＦ3，ＧｄＦ3及びＨｏＦ3の中
から選ばれ、低屈折率膜材料群としてＳｉＯ2，ＭｇＦ2
及びＡｌＦ3の中から選ばれた膜材料を用いたレーザー
用反射鏡において、レーザー中心波長をλ0、光学膜厚
をｄn＊λ0としたとき、高屈折率材料群の中から選ばれ
た高屈折率膜の光学膜厚がｄn＊Ｈn（λ0／４光学膜厚
は０．２５Ｈn）で表され、低屈折率材料群の中から選
ばれた低屈折率膜の光学膜厚がｄn＊Ｌn（λ0／４光学
膜厚は０．２５Ｌn）で表され、ａ回の交互多層膜構成
を１スタックとしてａn＊（ｄn＊Ｌn，ｄn＊Ｈn）で表
すとき、多層膜が ａ1＊（ｄ1＊Ｌ1，ｄ1＊Ｈ1）ａ2＊（ｄ2＊Ｌ2，ｄ2＊
Ｈ2）・・・ａn＊（ｄn＊Ｌn，ｄn＊Ｈn） で表され、各スタックにおける高屈折率膜と低屈折率膜
の光学膜厚が同じで、３つ以上のスタックの組み合わせ
で形成される膜構成であることを特徴とするレーザー用
反射鏡。 - 【請求項２】 請求項１において、高屈折率膜及び低屈
折率膜の膜厚をｄnとしたとき ０．２４＜ｄn≦０．３１ であることを特徴とするレーザー用反射鏡。 - 【請求項３】 請求項１又は２において、高屈折率膜材
料としてＡｌ2Ｏ3、低屈折率膜材料としてＳｉＯ2を用
いる場合、スタック数をｎとすると、ｎが６以上であり ０．２５≦ｄn≦０．３ であることを特徴とするレーザー用反射鏡。 - 【請求項４】 請求項１又は２において、高屈折率膜材
料としてＡｌ2Ｏ3、低屈折率膜材料としてＭｇＦ2を用
いる場合、スタック数をｎとすると、ｎが３以上であり ０．２６≦ｄn≦０．３ であることを特徴とするレーザー用反射鏡。 - 【請求項５】 請求項１又は２において、高屈折率膜材
料としてＡｌ2Ｏ3、低屈折率膜材料としてＡｌＦ3を用
いる場合、スタック数をｎとすると、ｎが３以上であり ０．２６≦ｄn≦０．３１ であることを特徴とするレーザー用反射鏡。 - 【請求項６】 請求項１又は２において、高屈折率膜材
料としてＬａＦ3，ＮｄＦ3，ＧｄＦ3又はＨｏＦ3、低屈
折率膜材料としてＭｇＦ2を用いる場合、スタック数を
ｎとすると、ｎが６以上であり ０．２６≦ｄn≦０．３１ であることを特徴とするレーザー用反射鏡。 - 【請求項７】 請求項１又は２において、高屈折率膜材
料としてＬａＦ3，ＮｄＦ3，ＧｄＦ3又はＨｏＦ3、低屈
折率膜材料としてＡｌＦ3を用いる場合、スタック数を
ｎとすると、ｎが５以上であり ０．２６≦ｄn≦０．３１ であることを特徴とするレーザー用反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28848697A JPH11121841A (ja) | 1997-10-21 | 1997-10-21 | レーザー用反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28848697A JPH11121841A (ja) | 1997-10-21 | 1997-10-21 | レーザー用反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11121841A true JPH11121841A (ja) | 1999-04-30 |
Family
ID=17730844
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28848697A Pending JPH11121841A (ja) | 1997-10-21 | 1997-10-21 | レーザー用反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11121841A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010196168A (ja) * | 2009-02-26 | 2010-09-09 | Corning Inc | １９３ｎｍでの広角高反射ミラー |
| CN112543881A (zh) * | 2018-09-03 | 2021-03-23 | Jsr株式会社 | 光学滤波器 |
-
1997
- 1997-10-21 JP JP28848697A patent/JPH11121841A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010196168A (ja) * | 2009-02-26 | 2010-09-09 | Corning Inc | １９３ｎｍでの広角高反射ミラー |
| CN112543881A (zh) * | 2018-09-03 | 2021-03-23 | Jsr株式会社 | 光学滤波器 |
| CN112543881B (zh) * | 2018-09-03 | 2022-12-27 | Jsr株式会社 | 光学滤波器 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6310905B1 (en) | Mirror for an ultraviolet laser and method | |
| JP2627864B2 (ja) | 選択された周波数の光を反射するためのミラーおよびそれを形成するための方法 | |
| US7006292B2 (en) | Multi-cavity optical filter | |
| US7319560B2 (en) | Partitioned-cavity tunable fabry-perot filter | |
| JPH0238924B2 (ja) | ||
| JPH11153711A (ja) | 多層薄膜帯域フィルター | |
| US5394501A (en) | Optical coating for reflecting visible and longer wavelength radiation having grazing incidence angle | |
| US5022726A (en) | Magnesium film reflectors | |
| JPH0716038B2 (ja) | 気体レーザー | |
| JPH02287301A (ja) | 入射角非依存性高反射率誘電体多層膜反射鏡 | |
| JPH11121841A (ja) | レーザー用反射鏡 | |
| JP3402907B2 (ja) | レーザ用反射鏡 | |
| JPS62226047A (ja) | 多層膜反射鏡 | |
| JPS61219004A (ja) | 多層膜反射鏡 | |
| JP2019174695A (ja) | 多層反射膜及びその製造方法 | |
| JPS63266397A (ja) | Ｘ線反射鏡 | |
| JP2009156863A (ja) | Ｘ線用光学素子 | |
| JPH0784105A (ja) | 反射膜 | |
| JPH0915407A (ja) | 反射光学素子 | |
| JPH01286476A (ja) | 狭い波長帯域で平坦な分光特性を有するレーザーミラー | |
| JP2814595B2 (ja) | 多層膜反射鏡 | |
| JP3397533B2 (ja) | 無偏光反射鏡 | |
| JP3344022B2 (ja) | 光学装置及び光ピックアップ | |
| AU636009C (en) | Magnesium film reflectors | |
| JPS6067905A (ja) | アルゴンイオンレ−ザ用反射鏡 |