JPH11121930A - Method for manufacturing multilayer printed wiring board - Google Patents
Method for manufacturing multilayer printed wiring boardInfo
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- JPH11121930A JPH11121930A JP28225097A JP28225097A JPH11121930A JP H11121930 A JPH11121930 A JP H11121930A JP 28225097 A JP28225097 A JP 28225097A JP 28225097 A JP28225097 A JP 28225097A JP H11121930 A JPH11121930 A JP H11121930A
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- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 配線密度が高く、接続信頼性の高い層間接続
構造を有する多層印刷配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 絶縁性基板21の上に端子22aを有す
る導体層22を形成し、該導体層22を覆って絶縁層2
3を形成する。絶縁層23の上にランド24aを有する
導体層24を形成し、該導体層24を覆って感光性樹脂
層25を形成する。感光性樹脂層25にフォトリソグラ
フィ法によって挿通孔26aを形成し、ランド24aの
一部分およびランド24aによって囲まれた絶縁層23
を露出する。露出したランド24aをマスクとして露出
した絶縁層23にレーザ光を照射し、除去して挿通孔2
6bを形成する。挿通孔26a,26bによってビアホ
ール用挿通孔26が構成される。感光性樹脂層25の上
に端子を有する導体層を形成し、同時に挿通孔26の表
面を覆う導体を形成する。
(57) [Problem] To provide a method for manufacturing a multilayer printed wiring board having an interlayer connection structure with high wiring density and high connection reliability. SOLUTION: A conductor layer 22 having a terminal 22a is formed on an insulating substrate 21, and the insulating layer 2 is covered by the conductor layer 22.
Form 3 A conductor layer having a land is formed on the insulating layer, and a photosensitive resin layer is formed to cover the conductor layer. An insertion hole 26a is formed in the photosensitive resin layer 25 by photolithography, and a portion of the land 24a and the insulating layer 23 surrounded by the land 24a are formed.
To expose. The exposed insulating layer 23 is irradiated with laser light by using the exposed land 24a as a mask to remove the
6b is formed. The insertion holes 26a and 26b form the insertion holes 26 for via holes. A conductor layer having terminals is formed on the photosensitive resin layer 25, and at the same time, a conductor covering the surface of the insertion hole 26 is formed.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、いわゆるビルドア
ップ法による多層印刷配線板の製造方法に関し、特に異
なる導体層同士を相互に接続する層間接続構造、いわゆ
るビアホールを有する多層印刷配線板の製造方法に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a multilayer printed wiring board by a so-called build-up method, and more particularly to a method of manufacturing a multilayer printed wiring board having a so-called via hole, which connects different conductor layers to each other. About.
【0002】[0002]
【従来の技術】図6および図7は、従来技術であるビル
ドアップ法による多層印刷配線板の製造方法を説明する
ための印刷配線板10a〜10gを段階的に示す断面図
である。まず、図6(A)に示されるように、絶縁性樹
脂から成る絶縁性基板1の表裏両面に導体層2がそれぞ
れ形成され、印刷配線板10aが作成される。導体層2
は、エッチング法などによって形成された導体パターン
から成る。導体層2は、異なる導体層同士を相互に接続
するための端子2aを有する。2. Description of the Related Art FIGS. 6 and 7 are sectional views showing stepwise printed wiring boards 10a to 10g for explaining a method of manufacturing a multilayer printed wiring board by a build-up method as a conventional technique. First, as shown in FIG. 6A, conductor layers 2 are formed on both front and back surfaces of an insulating substrate 1 made of an insulating resin, and a printed wiring board 10a is formed. Conductor layer 2
Consists of a conductor pattern formed by an etching method or the like. The conductor layer 2 has terminals 2a for connecting different conductor layers to each other.
【0003】次に、図6(B)に示されるように、絶縁
性基板1の両面に前記導体層2を覆って絶縁性樹脂から
成る絶縁層3がそれぞれ形成され、印刷配線板10bが
作成される。絶縁層3は、スクリーン印刷による全面印
刷法およびフィルム状の半硬化樹脂や接着剤などを塗布
した樹脂フィルムの貼付け法などによって形成される。
絶縁性樹脂としては、アクリル系、エポキシ系およびポ
リイミド系樹脂など、配線板材料として従来から使用さ
れている材料が用いられる。[0006] Next, as shown in FIG. 6 (B), insulating layers 3 made of an insulating resin are formed on both surfaces of the insulating substrate 1 so as to cover the conductor layer 2, thereby forming a printed wiring board 10 b. Is done. The insulating layer 3 is formed by a full-screen printing method using screen printing, a method of attaching a resin film coated with a film-like semi-cured resin or an adhesive, or the like.
As the insulating resin, a material conventionally used as a wiring board material such as an acrylic resin, an epoxy resin, or a polyimide resin is used.
【0004】次に、図6(C)に示されるように、絶縁
層3の所定の領域にビアホール用の挿通孔4が形成さ
れ、印刷配線板10cが作成される。挿通孔4によっ
て、前記端子2aの一部分が露出する。挿通孔4は、レ
ーザ光を照射することによって形成される。用いられる
レーザ光は絶縁性樹脂材料によって使分けられるが、た
とえば一般的な炭酸ガスレーザやYAG(イットリウム
アルミニウム ガーネット)レーザが用いられる。[0006] Next, as shown in FIG. 6 (C), through holes 4 for via holes are formed in predetermined regions of the insulating layer 3, and a printed wiring board 10 c is formed. A part of the terminal 2a is exposed by the insertion hole 4. The insertion hole 4 is formed by irradiating a laser beam. The laser beam to be used is selected depending on the insulating resin material. For example, a general carbon dioxide laser or a YAG (yttrium aluminum garnet) laser is used.
【0005】次に、図6(D)に示されるように、露出
している絶縁層3および端子2aを覆う印刷配線板10
cの表裏面に導体5がそれぞれ形成され、印刷配線板1
0dが作成される。導体5は、メッキ法で形成される。
用いられる導体材料としては、銅が挙げられる。[0005] Next, as shown in FIG. 6 (D), the printed wiring board 10 covering the exposed insulating layer 3 and the terminal 2 a.
c, conductors 5 are respectively formed on the front and back surfaces of the printed wiring board 1.
0d is created. The conductor 5 is formed by a plating method.
Copper is used as a conductor material to be used.
【0006】次に、図7(A)に示されるように、導体
5をエッチング法によって選択的に腐食して導体パター
ンから成る導体層6が形成され、印刷配線板10eが作
成される。形成された導体層6は、異なる導体層同士を
相互に接続するための端子であるランド6aを有する。
また、導体層6と同時に、端子2aおよびランド6aを
接続する接続用導体6bが前記挿通孔4の表面を覆って
形成され、このようにして導体層2,6同士を相互に接
続するビアホールが形成される。Next, as shown in FIG. 7A, the conductor 5 is selectively corroded by an etching method to form a conductor layer 6 composed of a conductor pattern, and a printed wiring board 10e is formed. The formed conductor layer 6 has a land 6a which is a terminal for connecting different conductor layers to each other.
At the same time as the conductor layer 6, a connection conductor 6b for connecting the terminal 2a and the land 6a is formed so as to cover the surface of the insertion hole 4, and thus a via hole for connecting the conductor layers 2 and 6 to each other is formed. It is formed.
【0007】次に、図7(B)に示されるように、絶縁
層3の上に導体層6を覆って絶縁層7が形成され、印刷
配線板10fが作成される。絶縁層7は絶縁層3と同様
にして形成される。Next, as shown in FIG. 7B, an insulating layer 7 is formed on the insulating layer 3 so as to cover the conductor layer 6, and a printed wiring board 10f is formed. The insulating layer 7 is formed in the same manner as the insulating layer 3.
【0008】次に、図7(C)に示されるように、導体
層9が形成され、印刷配線板10gが作成される。導体
層9は、導体層6と同様にして形成される。また、上述
したのと同様に、絶縁層7に形成された挿通孔8を用い
たビアホールによって、導体層6の端子6cと導体層9
のランド9aとが接続用導体9bによって相互に接続さ
れる。Next, as shown in FIG. 7C, a conductor layer 9 is formed, and a printed wiring board 10g is formed. The conductor layer 9 is formed in the same manner as the conductor layer 6. Further, similarly to the above, the terminal 6c of the conductor layer 6 and the conductor layer 9 are formed by the via hole using the insertion hole 8 formed in the insulating layer 7.
Are connected to each other by the connecting conductor 9b.
【0009】このような絶縁層3,7および導体層6,
9の形成工程を繰返し、最後に最外層のソルダレジスト
やシルク印刷を行って多層印刷配線板が完成する。な
お、図7(A)〜図7(C)では絶縁性基板1の一方表
面のみを図示しているが、他方表面も同様にして形成さ
れるものである。Such insulating layers 3 and 7 and conductor layers 6
9 is repeated, and finally, the outermost layer is subjected to solder resist or silk printing to complete a multilayer printed wiring board. Although FIGS. 7A to 7C show only one surface of the insulating substrate 1, the other surface is formed in the same manner.
【0010】挿通孔4,8を上述したようなレーザ光照
射によって形成する例が、たとえば特開平9−1864
60号公報に開示されている。また、挿通孔4,8は、
上述したようなレーザ光照射によって形成する他、フォ
トリソグラフィ法や物理的に研磨する方法によって形成
することが可能である。フォトリソグラフィ法では、層
間絶縁層を感光性樹脂で形成し、該樹脂に選択的に光照
射し、未硬化の樹脂を除去することによって挿通孔が形
成され、物理的研磨法では、層間絶縁層をサンドブラス
ト法などによって研磨することによって挿通孔が形成さ
れる。An example in which the insertion holes 4 and 8 are formed by irradiating a laser beam as described above is disclosed in, for example, JP-A-9-1864.
No. 60 is disclosed. Also, the insertion holes 4 and 8 are
In addition to the above-described formation by laser light irradiation, it can be formed by a photolithography method or a physical polishing method. In the photolithography method, an interlayer insulating layer is formed of a photosensitive resin, the resin is selectively irradiated with light, and an uncured resin is removed to form an insertion hole. In the physical polishing method, an interlayer insulating layer is formed. Is polished by sandblasting or the like to form an insertion hole.
【0011】フォトリソグラフィ法は、1回の処理で多
数の挿通孔が形成でき、処理速度が速く、製造コストが
安価であり量産性に優れるが、挿通孔の直径が比較的大
きくなり、配線の高密度化に劣る。物理的研磨法につい
ても同様である。一方、レーザ光照射法は、直径の小さ
な挿通孔の形成に適しており、配線の高密度化が可能で
あるが、1つずつ挿通孔を形成するので処理速度が遅
く、製造コストが高くなり、量産性に劣る。現状では、
フォトリソグラフィ法が比較的多く用いられている。In the photolithography method, a large number of insertion holes can be formed in one process, the processing speed is high, the manufacturing cost is low, and the mass productivity is excellent. Poor density. The same applies to the physical polishing method. On the other hand, the laser beam irradiation method is suitable for forming an insertion hole having a small diameter and enables high-density wiring. However, since the insertion holes are formed one by one, the processing speed is low and the manufacturing cost is high. Inferior in mass productivity. In the present circumstances,
Photolithography is used relatively frequently.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】図6および図7の製造
方法では、1層毎に挿通孔を形成するので、下層に形成
された挿通孔の履歴が上層に影響し、印刷配線板表面に
凹所が形成される。この凹所は、上層の導体層の形成に
悪影響を及ぼし、導体層をパターニングするための感光
性樹脂を安定的に形成することを阻害する。したがっ
て、ビアホール上へ導体パターンを形成することや各層
の同一箇所にビアホールを重ねて形成することができ
ず、上層の導体層やビアホールを下層のビアホールを避
けて形成しなければならなくなり、配線密度が低下す
る。In the manufacturing method shown in FIGS. 6 and 7, since the insertion holes are formed for each layer, the history of the insertion holes formed in the lower layer affects the upper layer, and the surface of the printed wiring board has A recess is formed. This recess has an adverse effect on the formation of the upper conductor layer, and hinders the stable formation of a photosensitive resin for patterning the conductor layer. Therefore, it is not possible to form a conductor pattern on a via hole or to form a via hole at the same position in each layer, and it is necessary to form an upper conductor layer and a via hole avoiding a lower via hole, and to increase the wiring density. Decrease.
【0013】また、レーザ光照射法によれば、2層以上
の絶縁層に一括してビアホール用の挿通孔を形成するこ
とが可能であるが、接続信頼性の高いビアホールを形成
するためには各導体層のパターンを高精度に位置決めし
て形成し、さらに上層の絶縁層によって隠れた下層の絶
縁層のランド内を上層の絶縁層を通して正確にレーザ光
照射しなければならない。導体パターンの位置決め精度
が劣ると、接続信頼性が低下する。たとえば図8を参照
して3つの導体層を相互に接続する場合、ランド6aを
端子2aに対して正確に位置決めして形成し、絶縁層7
によって隠れたランド6a内の絶縁層3に正確にレーザ
光を照射しなければならない。また、高い接続信頼性を
得るためには、ランド6aの側面が確実に露出するよう
に絶縁層7を除去する必要がある。しかし、レーザ光の
照射方向とほぼ平行なランド6aの側面には絶縁性樹脂
が残存し易く、ランド側面を確実に露出させることは容
易ではない。また、ランドの高さは僅か十数μmであ
り、除去時に発生したごみやメッキ不良などの種々の要
因によって、接続不良が発生し易い。Further, according to the laser beam irradiation method, it is possible to collectively form a through hole for a via hole in two or more insulating layers. The pattern of each conductor layer must be accurately positioned and formed, and the laser beam must be accurately irradiated through the upper insulating layer in the land of the lower insulating layer hidden by the upper insulating layer. If the positioning accuracy of the conductor pattern is inferior, the connection reliability decreases. For example, referring to FIG. 8, when connecting three conductor layers to each other, lands 6a are formed by accurately positioning lands 6a with respect to terminals 2a.
It is necessary to accurately irradiate the insulating layer 3 in the hidden land 6a with the laser light. Further, in order to obtain high connection reliability, it is necessary to remove the insulating layer 7 so that the side surface of the land 6a is surely exposed. However, the insulating resin tends to remain on the side surface of the land 6a substantially parallel to the irradiation direction of the laser beam, and it is not easy to reliably expose the side surface of the land. In addition, the height of the land is only a few tens of μm, and connection failure is likely to occur due to various factors such as dust generated during removal and plating failure.
【0014】また、レーザ光照射法、フォトリソグラフ
ィ法および物理的研磨法のうちのいずれかの方法を用い
て異なる直径の挿通孔を形成する場合、量産性または配
線密度の面で最適ではない。さらに、いずれの方法を用
いた場合であっても、挿通孔に絶縁性樹脂が残存する
と、メッキ不良が発生し、接続信頼性が低下する。Further, when the through holes having different diameters are formed by using any one of a laser beam irradiation method, a photolithography method and a physical polishing method, it is not optimal in terms of mass productivity or wiring density. Further, regardless of which method is used, if the insulating resin remains in the insertion hole, plating failure occurs, and connection reliability decreases.
【0015】本発明の目的は、配線密度が高く、接続信
頼性の高い層間接続構造を有する多層印刷配線板の製造
方法を提供することである。An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a multilayer printed wiring board having an interlayer connection structure having high wiring density and high connection reliability.
【0016】[0016]
【課題を解決するための手段】本発明は、複数の導体層
が絶縁層を介して積層され、異なる導体層同士を該導体
層間の絶縁層を貫通する挿通孔を用いて電気的に接続す
る層間接続構造を有する多層印刷配線板の製造方法にお
いて、前記絶縁層は感光性樹脂から成り、前記挿通孔の
直径に応じてレーザ光照射法およびフォトリソグラフィ
法のうちのいずれか一方を選択的に用いて、絶縁層に挿
通孔を形成する工程を含むことを特徴とする多層印刷配
線板の製造方法である。According to the present invention, a plurality of conductor layers are laminated via an insulating layer, and different conductor layers are electrically connected to each other by using insertion holes penetrating the insulating layer between the conductor layers. In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board having an interlayer connection structure, the insulating layer is made of a photosensitive resin, and selectively one of a laser beam irradiation method and a photolithography method according to the diameter of the insertion hole. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising a step of forming an insertion hole in an insulating layer using the same.
【0017】本発明に従えば、層間接続構造のための感
光性樹脂から成る絶縁層に形成される挿通孔が、その直
径に応じた方法によって形成される。したがって、レー
ザ光照射法を用いることによって配線密度を高くするこ
とができ、またフォトリソグラフィ法を用いることによ
って量産性を高くすることができる。According to the present invention, the insertion hole formed in the insulating layer made of a photosensitive resin for the interlayer connection structure is formed by a method according to the diameter. Therefore, the wiring density can be increased by using the laser light irradiation method, and the mass productivity can be increased by using the photolithography method.
【0018】また本発明は、前記挿通孔の直径が0.1
5mm以下のときにレーザ光照射法を用い、0.15m
mを超えるときにフォトリソグラフィ法を用いることを
特徴とする。Further, according to the present invention, the diameter of the insertion hole is 0.1
0.15 m
When m is exceeded, a photolithography method is used.
【0019】本発明に従えば、挿通孔の直径に応じて上
述のように各方法が使い分けられる。したがって、配線
密度の高い多層印刷配線板を優れた量産性で製造するこ
とができる。According to the present invention, each method is properly used as described above according to the diameter of the insertion hole. Therefore, a multilayer printed wiring board having a high wiring density can be manufactured with excellent mass productivity.
【0020】また本発明は、複数の積層された導体層を
有し、異なる導体層同士を電気的に接続する層間接続構
造を有する多層印刷配線板の製造方法において、絶縁性
基板上に導体層を形成する工程と、前記絶縁性基板上に
導体層を覆う絶縁層を形成する工程と、前記絶縁層上に
ランドを有する導体層を形成する工程と、前記絶縁層上
にランドを覆う感光性樹脂層を形成する工程と、前記ラ
ンドおよび該ランドによって囲まれた絶縁層が露出する
ように前記感光性樹脂層をフォトリソグラフィ法によっ
て除去して挿通孔を形成する工程と、露出したランドに
よって囲まれた絶縁層を、レーザ光を照射することによ
って除去して挿通孔を形成する工程と、を含むことを特
徴とする多層印刷配線板の製造方法である。The present invention also relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board having a plurality of laminated conductor layers and an interlayer connection structure for electrically connecting different conductor layers to each other. Forming a conductive layer having a land on the insulating layer; forming a conductive layer having a land on the insulating layer; and forming a photosensitive layer covering the land on the insulating layer. Forming a resin layer; removing the photosensitive resin layer by photolithography so as to expose the land and an insulating layer surrounded by the land to form an insertion hole; And removing the insulating layer by irradiating a laser beam to form an insertion hole.
【0021】本発明に従えば、絶縁性基板上に導体層を
形成し、前記導体層を覆う絶縁層を介してランドを有す
る導体層を形成し、前記ランドを覆う感光性樹脂層を形
成し、前記ランドおよび該ランドによって囲まれた絶縁
層が露出するように前記感光性樹脂層をフォトリソグラ
フィ法によって除去し、露出した絶縁層をレーザ光を照
射することによって除去し、このようにフォトリソグラ
フィ法およびレーザ光照射法を用いて層間接続構造のた
めの挿通孔を作成することができる。According to the present invention, a conductor layer is formed on an insulating substrate, a conductor layer having a land is formed via an insulating layer covering the conductor layer, and a photosensitive resin layer covering the land is formed. Removing the photosensitive resin layer by a photolithography method so that the lands and an insulating layer surrounded by the lands are exposed, and removing the exposed insulating layers by irradiating a laser beam; A through hole for an interlayer connection structure can be formed by using a method and a laser beam irradiation method.
【0022】また本発明は、レーザ光照射によって絶縁
層を除去する工程では、露出したランドをレーザ光の位
置決め用に用いることを特徴とする。Further, the present invention is characterized in that, in the step of removing the insulating layer by irradiating the laser beam, the exposed land is used for positioning the laser beam.
【0023】本発明によれば、フォトリソグラフィ法に
よって絶縁層とともに露出したランドをレーザ光の照射
位置を決定するために用いることができ、これによって
照射位置を正確かつ容易に決定することができる。挿通
孔を正確な位置に形成できるので、接続信頼性の高い層
間接続構造を提供することができる。According to the present invention, the land exposed together with the insulating layer by the photolithography method can be used for determining the irradiation position of the laser beam, and thereby the irradiation position can be accurately and easily determined. Since the insertion hole can be formed at an accurate position, an interlayer connection structure with high connection reliability can be provided.
【0024】また本発明は、レーザ光照射によって絶縁
層を除去する工程では、露出したランドをマスクとして
レーザ光を照射することを特徴とする。Further, the invention is characterized in that in the step of removing the insulating layer by laser light irradiation, the exposed land is used as a mask to irradiate laser light.
【0025】本発明に従えば、フォトリソグラフィ法に
よって絶縁層とともに露出したランドをマスクとして用
いてレーザ光を正確な位置に照射することができる。こ
のようにして挿通孔を正確な位置に形成できるので、接
続信頼性の高い層間接続構造を提供することができる。According to the present invention, it is possible to irradiate a laser beam to an accurate position by using a land exposed together with an insulating layer by photolithography as a mask. Since the insertion hole can be formed at an accurate position in this manner, an interlayer connection structure with high connection reliability can be provided.
【0026】また本発明は、レーザ光照射によって絶縁
層を除去する工程では、露出したランドの表面にもレー
ザ光を照射することを特徴とする。Further, in the present invention, in the step of removing the insulating layer by laser light irradiation, the exposed land surface is also irradiated with laser light.
【0027】本発明に従えば、フォトリソグラフィ法に
よって絶縁層とともに露出したランドの表面にもレーザ
光が照射され、これによってランド表面に残存するフォ
トリソグラフィ法によって除去しきれなかった感光性樹
脂を確実に除去することができる。したがって、接続信
頼性の高い層間接続構造を提供することができる。According to the present invention, the surface of the land exposed together with the insulating layer by the photolithography method is also irradiated with the laser beam, whereby the photosensitive resin remaining on the land surface and not completely removed by the photolithography method can be surely removed. Can be removed. Therefore, an interlayer connection structure with high connection reliability can be provided.
【0028】また本発明は、レーザ光照射によって絶縁
層を除去した後に、露出している感光性樹脂層上に導体
層を形成し、同時にフォトリソグラフィ法およびレーザ
光照射法によって形成された前記挿通孔の側面に導体を
形成する工程を含むことを特徴とする。Further, according to the present invention, after the insulating layer is removed by laser light irradiation, a conductor layer is formed on the exposed photosensitive resin layer, and at the same time, the insertion layer formed by photolithography and laser light irradiation is used. Forming a conductor on a side surface of the hole.
【0029】本発明に従えば、層間接続構造のための挿
通孔を形成した後、感光性樹脂層上に導体層が形成され
る。また同時に、前記挿通孔の側面に導体が形成され、
前記ランドを介して異なる導体層同士が互いに接続され
る。ランドの側面だけでなく、その表面にも導体が形成
されるので、導体層同士を確実に接続することができ
る。According to the present invention, after forming an insertion hole for an interlayer connection structure, a conductor layer is formed on the photosensitive resin layer. At the same time, a conductor is formed on the side surface of the insertion hole,
Different conductor layers are connected to each other via the lands. Since the conductor is formed not only on the side surface of the land but also on the surface thereof, the conductor layers can be reliably connected to each other.
【0030】また本発明は、露出している感光性樹脂層
上の導体層および挿通孔側面の導体は、メッキ法によっ
て形成されることを特徴とする。Further, the present invention is characterized in that the conductor layer on the exposed photosensitive resin layer and the conductor on the side surface of the insertion hole are formed by plating.
【0031】本発明に従えば、挿通孔形成後の感光性樹
脂層上の導体層および挿通孔側面の導体は、メッキ法に
よって同時に形成することができる。したがって、これ
らの部材を比較的容易に形成することができる。According to the present invention, the conductor layer on the photosensitive resin layer after the formation of the insertion hole and the conductor on the side surface of the insertion hole can be simultaneously formed by plating. Therefore, these members can be formed relatively easily.
【0032】また本発明は、前記ランドを有する導体層
を形成する工程を複数含み、各層のランドによって囲ま
れた絶縁層の直径が上層に向かって大きくなっているこ
とを特徴とする。Further, the present invention includes a plurality of steps of forming the conductor layer having the lands, wherein the diameter of the insulating layer surrounded by the lands of each layer increases toward the upper layer.
【0033】本発明に従えば、ランドを有する導体層が
複数形成されたとき、一般に、積層して形成される導体
層において、最下層に対する位置ずれは上層に行く程大
きくなる。本発明では、各層のランドによって囲まれた
絶縁層の直径が上層に向かって大きく選ばれるので、上
記位置ずれを許容でき、したがって接続信頼性の高い多
層印刷配線板を提供することができる。According to the present invention, when a plurality of conductor layers having lands are formed, generally, in a conductor layer formed by lamination, the positional deviation from the lowermost layer becomes larger toward the upper layer. According to the present invention, since the diameter of the insulating layer surrounded by the lands of each layer is selected to be larger toward the upper layer, the above-described positional shift can be tolerated, and thus a multilayer printed wiring board having high connection reliability can be provided.
【0034】[0034]
【発明の実施の形態】図1および図3は、本発明の第1
実施形態であるビルドアップ法による多層印刷配線板の
製造方法を説明するための印刷配線板29a〜29fを
段階的に示す断面図である。また図2は、印刷配線板2
9bを示す斜視図である。本実施形態では、通称、「2
+2+2」タイプと呼ばれる多層印刷配線板について説
明する。該多層印刷配線板は、両面に導体層が形成され
た印刷配線板29aに対して、さらにその両側にビルド
アップ法によってそれぞれ2層ずつの導体層を形成した
合計6層の導体層を有する。なお、図1(B)〜図1
(E)および図3では絶縁性基板21の一方表面のみを
図示しているが、他方表面も同様にして形成されるもの
である。1 and 3 show a first embodiment of the present invention.
It is sectional drawing which shows stepwise the printed wiring board 29a-29f for demonstrating the manufacturing method of the multilayer printed wiring board by the build-up method which is embodiment. FIG. 2 shows the printed wiring board 2.
It is a perspective view which shows 9b. In the present embodiment, the common name is “2”.
A multilayer printed wiring board called the “+ 2 + 2” type will be described. The multilayer printed wiring board has a total of six conductive layers in which two conductive layers are formed on both sides of a printed wiring board 29a having conductive layers formed on both sides by a build-up method. 1 (B) to FIG.
(E) and FIG. 3 show only one surface of the insulating substrate 21, but the other surface is formed in the same manner.
【0035】まず、図1(A)に示されるように、絶縁
性樹脂から成る絶縁性基板21の表裏両面に導体層22
がそれぞれ形成され、印刷配線板29aが作成される。
導体層22は、エッチング法などによって形成された導
体パターンから成り、異なる導体層同士を相互に接続す
るための端子22aを有する。First, as shown in FIG. 1A, a conductive layer 22 is formed on both front and back surfaces of an insulating substrate 21 made of insulating resin.
Are formed, and the printed wiring board 29a is created.
The conductor layer 22 is made of a conductor pattern formed by an etching method or the like, and has terminals 22a for connecting different conductor layers to each other.
【0036】次に、図1(B)に示されるように、絶縁
性基板21の上に前記導体層22を覆って絶縁層23が
形成される。絶縁層23は、スクリーン印刷による全面
印刷法またはフィルム状の半硬化樹脂や接着剤などを塗
布した樹脂フィルムの貼付け法などによって形成され
る。用いられる絶縁性樹脂としては、アクリル系、エポ
キシ系およびポリイミド系樹脂など、配線板材料として
従来から使用されている材料が用いられる。さらに、絶
縁層23の上に導体層24が形成され、印刷配線板29
bが作成される。導体層24は、メッキ法によって形成
された銅などの導体をエッチング法などによってパター
ンニングして作成された導体パターンから成り、異なる
導体層同士を相互に接続するためのランド24aを有す
る。ランド24aは、図2に示されるように所定のラン
ド幅を有する環状の導体であり、該ランド24aによっ
て囲まれた絶縁層23の直径Wは、予め定められる長さ
に設定される。直径Wは、後述するレーザ光照射時のマ
スクとして必要な長さで、かつ高い層間接続の信頼性を
保持するのに必要な長さに選ばれる。Next, as shown in FIG. 1B, an insulating layer 23 is formed on the insulating substrate 21 so as to cover the conductor layer 22. The insulating layer 23 is formed by a full-screen printing method using screen printing or a method of attaching a resin film coated with a film-like semi-cured resin or an adhesive. As the insulating resin to be used, a material conventionally used as a wiring board material such as an acrylic resin, an epoxy resin, or a polyimide resin is used. Further, the conductor layer 24 is formed on the insulating layer 23 and the printed wiring board 29
b is created. The conductor layer 24 is made of a conductor pattern formed by patterning a conductor such as copper formed by a plating method by an etching method or the like, and has a land 24a for connecting different conductor layers to each other. The land 24a is an annular conductor having a predetermined land width as shown in FIG. 2, and the diameter W of the insulating layer 23 surrounded by the land 24a is set to a predetermined length. The diameter W is selected to be a length necessary as a mask when irradiating a laser beam to be described later and a length necessary to maintain high reliability of interlayer connection.
【0037】次に、図1(C)に示されるように、絶縁
層23上に導体層24を覆って感光性樹脂層25が形成
され、印刷配線板29cが作成される。Next, as shown in FIG. 1C, a photosensitive resin layer 25 is formed on the insulating layer 23 so as to cover the conductor layer 24, and a printed wiring board 29c is formed.
【0038】次に、図1(D)に示されるように、感光
性樹脂層25の所定の領域に挿通孔26aが形成され、
印刷配線板29dが作成される。挿通孔26aによっ
て、前記ランド24aの内方側の一部分およびランド2
4aによって囲まれた絶縁層23がそれぞれ露出する。
挿通孔26aは、既知のフォトリソグラフィ法によって
形成される。具体的には、感光性樹脂層25の上に挿通
孔26aのパターンを有するマスクが配置され、該マス
クを介して光が照射される。感光性樹脂層25は、用い
る材料の形態によって光照射された領域が不溶化または
可溶化し、現像することによって所定領域の樹脂を除去
することができる。このようにして挿通孔26aが形成
される。Next, as shown in FIG. 1D, an insertion hole 26a is formed in a predetermined area of the photosensitive resin layer 25,
The printed wiring board 29d is created. A part of the land 24a on the inner side and the land 2 are formed by the insertion hole 26a.
The insulating layers 23 surrounded by 4a are respectively exposed.
The insertion hole 26a is formed by a known photolithography method. Specifically, a mask having a pattern of the insertion holes 26a is arranged on the photosensitive resin layer 25, and light is irradiated through the mask. The photosensitive resin layer 25 can insolubilize or solubilize the light-irradiated region depending on the form of the material to be used, and remove the resin in a predetermined region by developing. Thus, the insertion hole 26a is formed.
【0039】次に、感光性樹脂を硬化させた後、図1
(E)に示されるように、露出した絶縁層23にレーザ
光が照射され、該絶縁層23が除去されて挿通孔26b
が形成され、印刷配線板29eが作成される。このと
き、露出したランド24aはレーザ光の照射位置を決定
するために用いられる。特に、露出したランド24aを
マスクとしてレーザ光が照射される。したがって、レー
ザ光の照射位置を正確かつ容易に決定することができ、
端子22aの一部分を確実に露出させることができる。
また、露出したランド24aの表面にもレーザ光を照射
することが好ましく、これによってランド24a表面に
残存する絶縁性樹脂を確実に除去することができる。挿
通孔26a,26bによって、ビアホール用の挿通孔2
6が構成される。用いられるレーザ光は絶縁性樹脂材料
によって使分けられるが、たとえば一般的な炭酸ガスレ
ーザやYAGレーザが用いられる。Next, after the photosensitive resin is cured, FIG.
As shown in (E), the exposed insulating layer 23 is irradiated with a laser beam, and the insulating layer 23 is removed.
Is formed, and the printed wiring board 29e is created. At this time, the exposed land 24a is used for determining the irradiation position of the laser beam. In particular, laser light is irradiated using the exposed land 24a as a mask. Therefore, the irradiation position of the laser beam can be accurately and easily determined,
Part of the terminal 22a can be reliably exposed.
Further, it is preferable to irradiate the exposed surface of the land 24a with a laser beam, whereby the insulating resin remaining on the surface of the land 24a can be surely removed. The insertion holes 26a and 26b allow the insertion holes 2 for via holes to be formed.
6 are configured. The laser beam used is selected depending on the insulating resin material. For example, a general carbon dioxide laser or a YAG laser is used.
【0040】次に、露出している感光性樹脂層25、ラ
ンド24a、絶縁層23および端子22a、すなわち印
刷配線板29eの表面にメッキ法によって銅などから成
る導体が形成され、該導体がエッチング法によって選択
的に腐食されて、図3に示されるように導体パターンか
らなる導体層27が形成され、印刷配線板29fが作成
される。形成された導体層27は、異なる導体層同士を
相互に接続するための端子27aを有する。また、導体
層27と同時に、端子22a,27aとランド24aと
を相互に接続する接続用導体27bが前記挿通孔26の
表面を覆って形成され、これによってビアホールが形成
される。最後に最外層のソルダレジストやシルク印刷を
行って多層印刷配線板が完成する。Next, a conductor made of copper or the like is formed on the exposed surface of the photosensitive resin layer 25, the land 24a, the insulating layer 23, and the terminal 22a, that is, the surface of the printed wiring board 29e by plating, and the conductor is etched. As shown in FIG. 3, the conductor layer 27 is formed of a conductor pattern by selective etching, and a printed wiring board 29f is formed. The formed conductor layer 27 has terminals 27a for connecting different conductor layers to each other. At the same time as the conductor layer 27, a connection conductor 27b for interconnecting the terminals 22a, 27a and the lands 24a is formed so as to cover the surface of the insertion hole 26, thereby forming a via hole. Finally, the outermost layer is subjected to solder resist or silk printing to complete a multilayer printed wiring board.
【0041】以上のように第1実施形態によれば、絶縁
性基板21上に接続用端子22aを有する導体層22を
形成し、前記導体層22を覆う絶縁層23を介してラン
ド24aを有する導体層24を形成し、前記ランド24
aを覆う感光性樹脂層25を形成し、前記ランド24a
および該ランド24aによって囲まれた絶縁層23が露
出するように前記感光性樹脂層25をフォトリソグラフ
ィ法によって除去し、露出した絶縁層23をレーザ光を
照射することによって除去し、このようにしてビアホー
ルのための挿通孔26を作成することができる。さら
に、感光性樹脂層25の上に導体層27が形成され、同
時に接続用導体27bが形成される。As described above, according to the first embodiment, the conductor layer 22 having the connection terminals 22 a is formed on the insulating substrate 21, and the land 24 a is provided via the insulating layer 23 covering the conductor layer 22. A conductor layer 24 is formed, and the land 24 is formed.
a is formed to cover the land 24a.
The photosensitive resin layer 25 is removed by photolithography so that the insulating layer 23 surrounded by the land 24a is exposed, and the exposed insulating layer 23 is removed by irradiating a laser beam. An insertion hole 26 for a via hole can be created. Further, the conductor layer 27 is formed on the photosensitive resin layer 25, and at the same time, the connection conductor 27b is formed.
【0042】このような製造方法によれば、ビアホール
用の挿通孔26が絶縁層23および感光性樹脂層25を
形成した後に一括して作成でき、下層に形成された挿通
孔の履歴が上層に悪影響を及ぼして印刷配線板表面に凹
所が形成されることはない。したがって、導体層をパタ
ーニングするための感光性樹脂を安定的に形成でき、ビ
アホール上へ導体パターンを形成することや各層の同一
箇所にビアホールを重ねて形成することが可能となり、
配線密度を高めることができる。According to such a manufacturing method, the insertion holes 26 for the via holes can be formed collectively after the formation of the insulating layer 23 and the photosensitive resin layer 25, and the history of the insertion holes formed in the lower layer is recorded in the upper layer. The recess is not formed on the surface of the printed wiring board due to adverse effects. Therefore, a photosensitive resin for patterning the conductor layer can be formed stably, and a conductor pattern can be formed on the via hole and a via hole can be formed in the same place of each layer by overlapping.
The wiring density can be increased.
【0043】また、露出したランド24aをレーザ光の
位置決め用に用いて挿通孔26bのためのレーザ光照射
位置を正確かつ容易に決定することができる。特に、露
出したランド24aをマスクとして用いてレーザ光を照
射して、端子22aを確実に露出することができる。こ
のようにして挿通孔26を正確な位置に形成でき、した
がって接続信頼性の高いビアホールを形成することがで
きる。Further, by using the exposed land 24a for positioning the laser beam, the laser beam irradiation position for the insertion hole 26b can be accurately and easily determined. In particular, the terminal 22a can be reliably exposed by irradiating a laser beam using the exposed land 24a as a mask. In this manner, the insertion hole 26 can be formed at an accurate position, and thus a via hole with high connection reliability can be formed.
【0044】また、露出したランド24aの表面にもレ
ーザ光が照射され、これによってランド24a表面に残
存する感光性樹脂を確実に除去することができる。した
がって、接続信頼性の高いビアホールを形成することが
できる。The exposed surface of the land 24a is also irradiated with a laser beam, whereby the photosensitive resin remaining on the surface of the land 24a can be reliably removed. Therefore, a via hole with high connection reliability can be formed.
【0045】また、感光性樹脂層25の上の導体層27
と接続用導体27bとはメッキ法によって同時に形成さ
れる。したがって、これらの部材を容易にかつ短時間に
形成することができる。The conductor layer 27 on the photosensitive resin layer 25
And the connection conductor 27b are formed simultaneously by plating. Therefore, these members can be formed easily and in a short time.
【0046】なお、本実施形態では「2+2+2」タイ
プの多層印刷配線板の例について説明したが、本発明は
2以上の導体層を相互に接続するビアホールを形成する
際に、相互に接続される導体層のうちの最外層から2層
目の導体層が有するランドをフォトリソグラフィ法によ
って露出し、該ランドによって囲まれた絶縁層をレーザ
光照射法によって除去するものであれば、どのような構
造の多層印刷配線板に適用してもよく、本実施形態と同
様の効果が得られるものである。In this embodiment, the example of the multilayer printed wiring board of the "2 + 2 + 2" type has been described. However, the present invention is connected to each other when forming a via hole for connecting two or more conductor layers to each other. Any structure as long as the lands of the second conductor layer from the outermost layer of the conductor layers are exposed by photolithography and the insulating layer surrounded by the lands is removed by laser light irradiation. May be applied to the multi-layer printed wiring board, and the same effects as those of the present embodiment can be obtained.
【0047】また、本実施形態では、端子22a,27
aおよびランド24aをすべて接続するビアホールの例
について説明したが、端子22aとランド24aとを、
またはランド24aと端子27aとを接続するビアホー
ルの例も本発明の範囲に属するものである。In this embodiment, the terminals 22a, 27
Although the example of the via hole connecting all of the land 22a and the land 24a has been described, the terminal 22a and the land 24a are
Alternatively, an example of a via hole connecting the land 24a and the terminal 27a also belongs to the scope of the present invention.
【0048】図4は、本発明の第2実施形態であるビル
ドアップ法による多層印刷配線板の製造方法を説明する
ための印刷配線板33a〜33cを段階的に示す断面図
である。本実施形態では、「1+2+1」タイプと呼ば
れる多層印刷配線板について説明するが、その構造はこ
れに限定されるものではない。該多層印刷配線板は、両
面に導体層が形成された印刷配線板に対して、さらにそ
の両側にビルドアップ法によってそれぞれ1層ずつの導
体層を形成した合計4層の導体層を有する。なお、第1
実施形態の印刷配線板29fと同様の部材には同じ参照
符号を付して示す。FIG. 4 is a sectional view showing stepwise printed wiring boards 33a to 33c for explaining a method of manufacturing a multilayer printed wiring board by a build-up method according to a second embodiment of the present invention. In the present embodiment, a multilayer printed wiring board called a “1 + 2 + 1” type will be described, but the structure is not limited to this. The multilayer printed wiring board has a total of four conductive layers in which one conductive layer is formed on each side by a build-up method on both sides of a printed wiring board having conductive layers formed on both sides. The first
Members similar to those of the printed wiring board 29f of the embodiment are denoted by the same reference numerals.
【0049】まず、図4(A)に示されるように、絶縁
性基板21の表裏両面に導体層22がそれぞれ形成され
る。導体パターンから成る導体層22は、異なる導体層
同士を相互に接続するための端子22a,22bを有す
る。さらに、絶縁性基板21の上に前記導体層22を覆
って感光性樹脂層30が形成され、印刷配線板33aが
作成される。First, as shown in FIG. 4A, a conductor layer 22 is formed on each of the front and back surfaces of an insulating substrate 21. The conductor layer 22 made of a conductor pattern has terminals 22a and 22b for connecting different conductor layers to each other. Further, a photosensitive resin layer 30 is formed on the insulating substrate 21 so as to cover the conductor layer 22, and a printed wiring board 33a is formed.
【0050】次に、図4(B)に示されるように感光性
樹脂層30の所定の領域に比較的大きい直径の挿通孔3
1がフォトリソグラフィ法によって形成され、印刷配線
板33bが作成される。挿通孔31によって前記端子2
2aの一部分が露出する。Next, as shown in FIG. 4B, a relatively large diameter insertion hole 3 is formed in a predetermined area of the photosensitive resin layer 30.
1 is formed by the photolithography method, and the printed wiring board 33b is created. The terminal 2 is inserted through the insertion hole 31.
Part of 2a is exposed.
【0051】次に、感光性樹脂を硬化させた後、図4
(C)に示されるように、感光性樹脂層30の所定の領
域に比較的小さい直径の挿通孔32がレーザ光を照射す
ることによって形成され、印刷配線板33cが作成され
る。挿通孔32によって、前記端子22bの一部分が露
出する。Next, after the photosensitive resin is cured, FIG.
As shown in FIG. 2C, a relatively small diameter insertion hole 32 is formed in a predetermined area of the photosensitive resin layer 30 by irradiating a laser beam, and a printed wiring board 33c is formed. A part of the terminal 22b is exposed by the insertion hole 32.
【0052】次に、露出している感光性樹脂層30およ
び端子22a,22bにメッキ法によって銅などの導体
が形成され、該導体がエッチング法によって選択的に腐
食されて導体パターンからなる導体層が形成される。該
導体層は、異なる導体層同士を相互に接続するための端
子であって、前記端子22a,22bと接続される端子
を有する。また、該導体層と同時に、端子同士を互いに
接続する接続用導体が前記挿通孔31,32の表面を覆
って形成され、これによってビアホールが形成される。
最後に最外層のソルダレジストやシルク印刷を行って多
層印刷配線板が完成する。Next, a conductor such as copper is formed on the exposed photosensitive resin layer 30 and the terminals 22a and 22b by plating, and the conductor is selectively corroded by etching to form a conductor layer comprising a conductor pattern. Is formed. The conductor layer is a terminal for connecting different conductor layers to each other, and has terminals connected to the terminals 22a and 22b. At the same time as the conductor layer, connection conductors for connecting the terminals to each other are formed to cover the surfaces of the insertion holes 31 and 32, thereby forming via holes.
Finally, the outermost layer is subjected to solder resist or silk printing to complete a multilayer printed wiring board.
【0053】以上のように第2実施形態によれば、ビア
ホールのための異なる直径の挿通孔31,32を有する
場合、該挿通孔31,32が、その直径に応じたフォト
リソグラフィ法およびレーザ光照射法のうちのいずれか
一方の方法によって形成される。特に、挿通孔の直径が
0.15mm以下のときにレーザ光照射法を用い、0.
15mmを超えるときにフォトリソグラフィー法を用い
ることが好ましい。したがって、不用意に挿通孔の直径
が大きくなることがなくなり、配線密度を高くすること
ができる。このような製造方法によれば、配線密度の高
い多層印刷配線板を短い時間で大量に製造することがで
き、製造コストを低減することができる。As described above, according to the second embodiment, when the insertion holes 31 and 32 having different diameters for the via holes are provided, the insertion holes 31 and 32 are formed by the photolithography method and the laser beam according to the diameter. It is formed by any one of irradiation methods. In particular, when the diameter of the insertion hole is 0.15 mm or less, the laser beam irradiation method is used.
When it exceeds 15 mm, it is preferable to use a photolithography method. Therefore, the diameter of the insertion hole is not carelessly increased, and the wiring density can be increased. According to such a manufacturing method, a multilayer printed wiring board having a high wiring density can be manufactured in a large amount in a short time, and the manufacturing cost can be reduced.
【0054】なお、挿通孔形成のための方法を使い分け
る直径は上述した値に限るものではなく、配線板の仕様
や穴径分布などによって適宜選択される。The diameter for selectively using the method for forming the through-hole is not limited to the above-mentioned value, but is appropriately selected depending on the specifications of the wiring board and the hole diameter distribution.
【0055】図5は、本発明の第3実施形態であるビル
ドアップ法による多層印刷配線板の製造方法を説明する
ための印刷配線板37を示す断面図である。本実施形態
では、「3+2+3」タイプと呼ばれる多層印刷配線板
について説明するがその構造がこれに限定されるもので
はない。該多層印刷配線板は、両面に導体層が形成され
た印刷配線板に対して、さらにその両側にビルドアップ
法によってそれぞれ3層ずつの導体層を形成した合計8
層の導体層を有する。なお、図5では絶縁性基板21の
一方表面のみを図示しているが、他方表面も同様にして
形成されるものである。また、第1実施形態の印刷配線
板29fと同様の部材には同じ参照符号を付して示す。FIG. 5 is a sectional view showing a printed wiring board 37 for explaining a method of manufacturing a multilayer printed wiring board by a build-up method according to a third embodiment of the present invention. In the present embodiment, a multilayer printed wiring board called “3 + 2 + 3” type will be described, but the structure is not limited to this. The multilayer printed wiring board has a total of 8 printed conductor boards each having a conductor layer formed on both sides, and three conductor layers each formed on both sides thereof by a build-up method.
And a conductor layer. Although only one surface of the insulating substrate 21 is shown in FIG. 5, the other surface is formed in the same manner. The same members as those of the printed wiring board 29f of the first embodiment are denoted by the same reference numerals.
【0056】まず、絶縁性基板21の上に導体層22が
形成される。導体パターンから成る導体層22は、異な
る導体層同士を相互に接続するための端子22aを有す
る。さらに、絶縁性基板21の上に前記導体層22を覆
って絶縁層23が形成される。次に、絶縁層23の上に
導体層24が形成される。導体パターンから成る導体層
24は、異なる導体層同士を相互に接続するためのラン
ド24aを有する。ランド24aによって囲まれた絶縁
層23の直径は、予め定められる長さW1を有する。さ
らに、絶縁層23の上に前記導体層24を覆って絶縁層
34が形成される。次に、絶縁層34の上に導体層27
が形成される。導体パターンから成る導体層27は、異
なる導体層同士を相互に接続するためのランド27cを
有する。ランド27cによって囲まれた絶縁層34の直
径は、予め定められる長さW2(>W1)を有する。さ
らに、絶縁層34の上に前記導体層27を覆って感光性
樹脂層35が形成される。First, a conductor layer 22 is formed on an insulating substrate 21. The conductor layer 22 made of a conductor pattern has terminals 22a for connecting different conductor layers to each other. Further, an insulating layer 23 is formed on the insulating substrate 21 so as to cover the conductor layer 22. Next, the conductor layer 24 is formed on the insulating layer 23. The conductor layer 24 made of a conductor pattern has lands 24a for connecting different conductor layers to each other. The diameter of the insulating layer 23 surrounded by the land 24a has a predetermined length W1. Further, an insulating layer 34 is formed on the insulating layer 23 so as to cover the conductor layer 24. Next, the conductor layer 27 is formed on the insulating layer 34.
Is formed. The conductor layer 27 made of a conductor pattern has lands 27c for connecting different conductor layers to each other. The diameter of the insulating layer 34 surrounded by the land 27c has a predetermined length W2 (> W1). Further, a photosensitive resin layer 35 is formed on the insulating layer 34 so as to cover the conductor layer 27.
【0057】次に、感光性樹脂層35の所定の領域にフ
ォトリソグラフィ法によって挿通孔36が形成され、印
刷配線板37が作成される。挿通孔36によって、前記
ランド27aの一部分およびランド27cによって囲ま
れた絶縁層34が露出する。次に、感光性樹脂を硬化さ
せた後、露出した絶縁層34の所定の領域にレーザ光を
照射することによって挿通孔が形成される。該挿通孔に
よって、少なくとも前記端子22aの一部分が露出す
る。また、ランド24aの一部分も露出させることが可
能である。また、端子22aの一部分も露出させること
が可能である。Next, an insertion hole 36 is formed in a predetermined region of the photosensitive resin layer 35 by photolithography, and a printed wiring board 37 is formed. The insulating layer 34 surrounded by a part of the land 27a and the land 27c is exposed by the insertion hole 36. Next, after the photosensitive resin is cured, a predetermined region of the exposed insulating layer 34 is irradiated with laser light to form an insertion hole. At least a part of the terminal 22a is exposed by the insertion hole. Also, a part of the land 24a can be exposed. Also, a part of the terminal 22a can be exposed.
【0058】次に、露出している感光性樹脂層35、ラ
ンド27c,24a、絶縁層34,23および端子22
aにメッキ法によって銅などの導体が形成され、該導体
がエッチング法によって選択的に腐食されて、導体パタ
ーンからなる導体層が形成される。該導体層は、異なる
導体層同士を相互に接続するための端子であって、前記
端子22a、ランド24a,27cと接続される端子を
有する。また、該導体層と同時に、端子同士を互いに接
続する接続用導体が前記挿通孔36の表面を覆って形成
され、これによってビアホールが形成される。最後に最
外層のソルダレジストやシルク印刷を行って多層印刷配
線板が完成する。Next, the exposed photosensitive resin layer 35, lands 27c and 24a, insulating layers 34 and 23, and terminal 22
A conductor such as copper is formed on a by a plating method, and the conductor is selectively corroded by an etching method to form a conductor layer composed of a conductor pattern. The conductor layer is a terminal for connecting different conductor layers to each other, and has terminals connected to the terminal 22a and the lands 24a and 27c. At the same time as the conductor layer, a connection conductor for connecting the terminals to each other is formed to cover the surface of the insertion hole 36, thereby forming a via hole. Finally, the outermost layer is subjected to solder resist or silk printing to complete a multilayer printed wiring board.
【0059】ランドを有する導体層が複数形成されたと
き、一般に、積層して形成される導体層において、最下
層に対する位置ずれは上層に行く程大きくなる。第3実
施形態によれば、各導体層24,27のランド24a,
27cによって囲まれた絶縁層23,34の直径W1,
W2が上層に向かって大きく選ばれる。すなわち、W2
>W1に選ばれるので、上記位置ずれを許容することが
できる。したがって、層間接続の信頼性の高い多層印刷
配線板を作成することができる。When a plurality of conductor layers having lands are formed, generally, in a conductor layer formed by lamination, the positional shift with respect to the lowermost layer becomes larger toward the upper layer. According to the third embodiment, the lands 24a of the conductor layers 24 and 27,
27c, the diameters W1,
W2 is largely selected toward the upper layer. That is, W2
> W1, the above-described positional deviation can be allowed. Therefore, a multilayer printed wiring board with high reliability of interlayer connection can be produced.
【0060】なお、第1実施形態に第2実施形態を組合
せて実施してもよく、また第3実施形態を組合せて実施
してもかまわない。さらに第1〜第3実施形態をすべて
組合せて実施してもかまわない。The first embodiment may be combined with the second embodiment, or the third embodiment may be combined. Further, all of the first to third embodiments may be implemented in combination.
【0061】[0061]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、層間接続
構造のための挿通孔を、その直径に応じてレーザ光照射
法およびフォトリソグラフィ法のうちのいずれかによっ
て形成するようにしたので、配線密度の高い多層印刷配
線板を優れた量産性で製造することができる。As described above, according to the present invention, the insertion hole for the interlayer connection structure is formed by one of the laser beam irradiation method and the photolithography method according to the diameter. In addition, a multilayer printed wiring board having a high wiring density can be manufactured with excellent mass productivity.
【0062】また本発明によれば、挿通孔の直径が0.
15mm以下のときにレーザ光照射法を用い、それを超
えるときにフォトリソグラフィ法を用いて、配線密度の
高い多層印刷配線板を高い量産性で作成することができ
る。Further, according to the present invention, the diameter of the insertion hole is equal to 0.
A multilayer printed wiring board having a high wiring density can be manufactured with high mass productivity by using a laser beam irradiation method when the thickness is 15 mm or less and using a photolithography method when exceeding 15 mm.
【0063】また本発明によれば、感光性樹脂層をフォ
トリソグラフィ法によって除去してランドおよび該ラン
ドによって囲まれた絶縁層を露出させ、該絶縁層をレー
ザ光を照射することによって除去し、このようにして層
間接続構造のための挿通孔を作成することができる。According to the present invention, the photosensitive resin layer is removed by photolithography to expose the land and the insulating layer surrounded by the land, and the insulating layer is removed by irradiating a laser beam. In this way, an insertion hole for an interlayer connection structure can be created.
【0064】また本発明によれば、フォトリソグラフィ
法によって絶縁層とともに露出したランドをレーザ光の
位置決め用に用いて照射位置を正確かつ容易に決定する
ことができる。このようにして形成された挿通孔によっ
て、信頼性の高い層間接続構造が実現できる。Further, according to the present invention, the irradiation position can be accurately and easily determined by using the land exposed together with the insulating layer by the photolithography method for positioning the laser beam. With the insertion hole formed in this way, a highly reliable interlayer connection structure can be realized.
【0065】また本発明によれば、フォトリソグラフィ
法によって絶縁層とともに露出したランドをマスクとし
て用いてレーザ光を正確な位置に照射することができ
る。このようにして形成された挿通孔によって、信頼性
の高い層間接続構造が実現できる。Further, according to the present invention, it is possible to irradiate a laser beam to a precise position using a land exposed together with an insulating layer by photolithography as a mask. With the insertion hole formed in this way, a highly reliable interlayer connection structure can be realized.
【0066】また本発明によれば、フォトリソグラフィ
法によって絶縁層とともに露出したランドの表面にもレ
ーザ光が照射され、これによってランド表面に残存する
絶縁層を確実に除去することができる。このようにして
形成された挿通孔によって、信頼性の高い層間接続構造
が実現できる。Further, according to the present invention, the surface of the land exposed together with the insulating layer by the photolithography method is irradiated with the laser beam, whereby the insulating layer remaining on the land surface can be surely removed. With the insertion hole formed in this way, a highly reliable interlayer connection structure can be realized.
【0067】また本発明によれば、層間接続構造のため
の挿通孔を形成した後、感光性樹脂層上に導体層が形成
され、同時に挿通孔の側面に導体が形成される。該導体
によって異なる導体層同士を接続することができる。こ
のようにして、接続信頼性の高い層間接続構造を有する
多層印刷配線板を作成できる。Further, according to the present invention, after forming the insertion hole for the interlayer connection structure, the conductor layer is formed on the photosensitive resin layer, and at the same time, the conductor is formed on the side surface of the insertion hole. Different conductor layers can be connected to each other by the conductor. Thus, a multilayer printed wiring board having an interlayer connection structure with high connection reliability can be produced.
【0068】また本発明によれば、前記導体層および導
体をメッキ法によって同時に形成することができる。し
たがって、これらの部材を比較的容易に形成することが
できる。According to the present invention, the conductor layer and the conductor can be simultaneously formed by plating. Therefore, these members can be formed relatively easily.
【0069】また本発明によれば、ランドを有する導体
層が複数形成されたときであっても、各層のランドによ
って囲まれた絶縁層の直径が上層へ向かって大きく選ば
れるので、接続信頼性の高い多層印刷配線板を作成する
ことができる。Further, according to the present invention, even when a plurality of conductor layers having lands are formed, the diameter of the insulating layer surrounded by the lands of each layer is selected to be larger toward the upper layer. , A multilayer printed wiring board with high performance can be produced.
【図1】本発明の第1実施形態である多層印刷配線板の
製造方法を説明するための印刷配線板29a〜29eを
段階的に示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing stepwise printed wiring boards 29a to 29e for describing a method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の第1実施形態である多層印刷配線板の
製造方法を説明するための印刷配線板29bを示す斜視
図である。FIG. 2 is a perspective view showing a printed wiring board 29b for describing a method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.
【図3】本発明の第1実施形態である多層印刷配線板の
製造方法を説明するための印刷配線板29fを示す断面
図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a printed wiring board 29f for describing a method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.
【図4】本発明の第2実施形態である多層印刷配線板の
製造方法を説明するための印刷配線板33a〜33cを
段階的に示す断面図である。FIG. 4 is a sectional view showing stepwise printed wiring boards 33a to 33c for describing a method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to a second embodiment of the present invention.
【図5】本発明の第3実施形態である多層印刷配線板の
製造方法を説明するための印刷配線板37を示す断面図
である。FIG. 5 is a sectional view showing a printed wiring board 37 for describing a method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to a third embodiment of the present invention.
【図6】従来技術である多層印刷配線板の製造方法を説
明するための印刷配線板10a〜10dを段階的に示す
断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing stepwise printed wiring boards 10a to 10d for describing a conventional method for manufacturing a multilayer printed wiring board.
【図7】従来技術である多層印刷配線板の製造方法を説
明するための印刷配線板10e〜10gを段階的に示す
断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing stepwise printed wiring boards 10e to 10g for describing a conventional method for manufacturing a multilayer printed wiring board.
【図8】3つの導体層を互いに接続する場合の印刷配線
板を示す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view showing a printed wiring board when three conductor layers are connected to each other.
21 絶縁性基板 22,24,27 導体層 22a,22b,27a 端子 23,34 絶縁層 24a,27c ランド 25,30,35 感光性樹脂層 26,26a,26b,31,32,36 挿通孔 27b 接続用導体 29a〜29f,33a〜33c,37 印刷配線板 21 Insulating substrate 22, 24, 27 Conductive layer 22a, 22b, 27a Terminal 23, 34 Insulating layer 24a, 27c Land 25, 30, 35 Photosensitive resin layer 26, 26a, 26b, 31, 32, 36 Insertion hole 27b Connection Conductors 29a-29f, 33a-33c, 37 Printed wiring board
Claims (9)
れ、異なる導体層同士を該導体層間の絶縁層を貫通する
挿通孔を用いて電気的に接続する層間接続構造を有する
多層印刷配線板の製造方法において、 前記絶縁層は感光性樹脂から成り、 前記挿通孔の直径に応じてレーザ光照射法およびフォト
リソグラフィ法のうちのいずれか一方を選択的に用い
て、絶縁層に挿通孔を形成する工程を含むことを特徴と
する多層印刷配線板の製造方法。1. A multilayer printed wiring having an interlayer connection structure in which a plurality of conductor layers are stacked via an insulating layer, and different conductor layers are electrically connected to each other using insertion holes penetrating the insulating layer between the conductor layers. In the method of manufacturing a plate, the insulating layer is made of a photosensitive resin, and selectively uses one of a laser beam irradiation method and a photolithography method according to the diameter of the insertion hole, and the insertion hole is formed in the insulating layer. Forming a multilayer printed wiring board.
ときにレーザ光照射法を用い、0.15mmを超えると
きにフォトリソグラフィ法を用いることを特徴とする請
求項1記載の多層印刷配線板の製造方法。2. The multilayer printed wiring according to claim 1, wherein a laser beam irradiation method is used when the diameter of the insertion hole is 0.15 mm or less, and a photolithography method is used when the diameter exceeds 0.15 mm. Plate manufacturing method.
導体層同士を電気的に接続する層間接続構造を有する多
層印刷配線板の製造方法において、 絶縁性基板上に導体層を形成する工程と、 前記絶縁性基板上に導体層を覆う絶縁層を形成する工程
と、 前記絶縁層上にランドを有する導体層を形成する工程
と、 前記絶縁層上にランドを覆う感光性樹脂層を形成する工
程と、 前記ランドおよび該ランドによって囲まれた絶縁層が露
出するように前記感光性樹脂層をフォトリソグラフィ法
によって除去して挿通孔を形成する工程と、 露出したランドによって囲まれた絶縁層を、レーザ光を
照射することによって除去して挿通孔を形成する工程
と、を含むことを特徴とする多層印刷配線板の製造方
法。3. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board having a plurality of stacked conductor layers and an interlayer connection structure for electrically connecting different conductor layers to each other, wherein the conductor layer is formed on an insulating substrate. A step of forming an insulating layer covering the conductor layer on the insulating substrate; a step of forming a conductor layer having a land on the insulating layer; and a photosensitive resin layer covering the land on the insulating layer. Forming, forming a through hole by removing the photosensitive resin layer by photolithography so that the land and the insulating layer surrounded by the land are exposed; and forming an insulating hole surrounded by the exposed land. Removing the layer by irradiating a laser beam to form an insertion hole.
工程では、露出したランドをレーザ光の位置決め用に用
いることを特徴とする請求項3記載の多層印刷配線板の
製造方法。4. The method according to claim 3, wherein in the step of removing the insulating layer by irradiating the laser beam, the exposed land is used for positioning the laser beam.
工程では、露出したランドをマスクとしてレーザ光を照
射することを特徴とする請求項3記載の多層印刷配線板
の製造方法。5. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 3, wherein in the step of removing the insulating layer by laser beam irradiation, the exposed land is used as a mask to irradiate the laser beam.
工程では、露出したランドの表面にもレーザ光を照射す
ることを特徴とする請求項3記載の多層印刷配線板の製
造方法。6. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 3, wherein in the step of removing the insulating layer by laser light irradiation, the exposed land surface is also irradiated with laser light.
後に、露出している感光性樹脂層上に導体層を形成し、
同時にフォトリソグラフィ法およびレーザ光照射法によ
って形成された前記挿通孔の側面に導体を形成する工程
を含むことを特徴とする請求項3記載の多層印刷配線板
の製造方法。7. After the insulating layer is removed by irradiating a laser beam, a conductor layer is formed on the exposed photosensitive resin layer,
4. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 3, further comprising a step of simultaneously forming a conductor on a side surface of said insertion hole formed by a photolithography method and a laser beam irradiation method.
よび挿通孔側面の導体は、メッキ法によって形成される
ことを特徴とする請求項7記載の多層印刷配線板の製造
方法。8. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 7, wherein the conductor layer on the exposed photosensitive resin layer and the conductor on the side surface of the insertion hole are formed by plating.
程を複数含み、各層のランドによって囲まれた絶縁層の
直径が上層に向かって大きくなっていることを特徴とす
る請求項3記載の多層印刷配線板の製造方法。9. The multilayer according to claim 3, comprising a plurality of steps of forming the conductor layer having the lands, wherein the diameter of the insulating layer surrounded by the lands of each layer increases toward the upper layer. Manufacturing method of printed wiring board.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28225097A JPH11121930A (en) | 1997-10-15 | 1997-10-15 | Method for manufacturing multilayer printed wiring board |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28225097A JPH11121930A (en) | 1997-10-15 | 1997-10-15 | Method for manufacturing multilayer printed wiring board |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11121930A true JPH11121930A (en) | 1999-04-30 |
Family
ID=17650009
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28225097A Pending JPH11121930A (en) | 1997-10-15 | 1997-10-15 | Method for manufacturing multilayer printed wiring board |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11121930A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7067078B2 (en) | 2001-11-14 | 2006-06-27 | Sumito Heavy Industries, Ltd. | Injection molding machine having an accumulator and a control method for the injection molding machine |
| EP1545175A3 (en) * | 2003-12-18 | 2007-05-30 | Endicott Interconnect Technologies, Inc. | Method of providing printed circuit board with conductive holes and board resulting therefrom |
| US20140200285A1 (en) * | 2011-11-18 | 2014-07-17 | Asahi Glass Company, Limited | Curable composition, coating composition, cured film, laser processing method and process for producing multilayer wiring structure |
| CN114080088A (en) * | 2020-08-10 | 2022-02-22 | 鹏鼎控股(深圳)股份有限公司 | Circuit board and preparation method thereof |
-
1997
- 1997-10-15 JP JP28225097A patent/JPH11121930A/en active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7067078B2 (en) | 2001-11-14 | 2006-06-27 | Sumito Heavy Industries, Ltd. | Injection molding machine having an accumulator and a control method for the injection molding machine |
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| CN114080088A (en) * | 2020-08-10 | 2022-02-22 | 鹏鼎控股(深圳)股份有限公司 | Circuit board and preparation method thereof |
| CN114080088B (en) * | 2020-08-10 | 2024-05-31 | 鹏鼎控股(深圳)股份有限公司 | Circuit board and preparation method thereof |
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