JPH11125510A - 干渉計及び干渉計におけるアライメント方法 - Google Patents

干渉計及び干渉計におけるアライメント方法

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JPH11125510A
JPH11125510A JP9288821A JP28882197A JPH11125510A JP H11125510 A JPH11125510 A JP H11125510A JP 9288821 A JP9288821 A JP 9288821A JP 28882197 A JP28882197 A JP 28882197A JP H11125510 A JPH11125510 A JP H11125510A
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JP
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light
lens
test
interferometer
alignment
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JP9288821A
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Kazuhide Yamazaki
和秀 山崎
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 被検面の位置及び傾きが大きくズレていた
り、被検面が曲率半径の大きな凹面である場合において
も、容易に被検レンズのアライメントが可能な干渉計を
提供する。 【解決手段】 測定光を射出するレーザ光源101を備
えた干渉計本体111と、レーザ光源101からの測定
光の一部を反射して参照光を生成する参照レンズ112
と、参照レンズ112を透過した測定光を反射して被検
光を生成する被検レンズ115とを備え、参照光と被検
光との干渉による干渉縞を生成して被検レンズ115の
面形状等を測定する干渉計において、参照レンズ112
と被検レンズ115との間に穴136aを有するスクリ
ーン136を配置し、参照レンズ112の光軸に被検レ
ンズ115の曲率中心を合致させ被検光を前記穴136
aに通過させるようにして被検レンズ115のアライメ
ントを行うものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光を用いて
被測定物の面形状等を測定する干渉計及び干渉計におけ
るアライメント方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、レンズ等の形状を測定する測
定機として干渉計が実用化されており、例えば、特開平
8−128804号公報に開示された図5に示すような
干渉計が知られている。
【0003】図5に示す干渉計の構成において、例えば
波長が633nmのHe−Neレーザ光源211から射
出された可干渉光は、レンズ212を通過して発散光束
となり、偏光ビームスプリッタ213に入射する。偏光
ビームスプリッタ213を透過した光束は、1/4波長
板214を透過し、コリメータレンズ215により平行
光となり、参照レンズ216に入射する。
【0004】参照レンズ216に入射した光束は、その
一部が参照レンズ216の参照面216aで反射され、
残りの光束は参照レンズ216を透過して被検レンズ2
17に到達する。
【0005】前記参照面216aで反射された光束は、
参照光束として上記光路を逆行し、コリメータレンズ2
15、1/4波長板214を透過して偏光ビームスプリ
ッタ213に入射する。この入射した光束は、偏光ビー
ムスプリッタ213の偏光反射面213aで光路が曲げ
られ、コリメータレンズ215の焦点位置215aに設
置されたスクリーン218上に集光されて、参照光の光
点218aが結像される。
【0006】一方、被検レンズ217に達した光束は、
被検レンズ217の被検面217aで反射されて被検光
束として光路を逆行し、上述した場合と同様に偏光ビー
ムスプリッタ213の偏光反射面213aで光路が曲げ
られ、コリメータレンズ215の焦点位置215aに設
置されたスクリーン218上に集光されて、被検光束の
光点が結像される。
【0007】しかし、例えば前記被検面217bの曲率
半径の中心と、コリメータレンズ215の光軸とが一致
していない場合、即ち、図5に破線で示す被検面217
bのように曲率半径の中心の位置がコリメータレンズ2
15の光軸上からズレているような場合、前記被検光束
の光点は、参照光の光点218aの位置とは離れた図5
に示すような位置に被検光束の光点218bとして結像
される。
【0008】従って、干渉縞を観察する際には、参照面
216aの曲率中心及び被検面217aの曲率中心がコ
リメータレンズ215の光軸に略合致していないと、即
ち、例えば被検面217aの曲率中心が、被検面217
bの曲率中心のようにコリメータレンズ215の光軸と
合致する位置に設置されていない場合には、干渉縞の間
隔が極端に小さくなり、干渉縞が観察できなくなる。
【0009】つまり、被検面217bで反射した被検光
束の光路Bを、参照面216aで反射した反射光束の光
路Aに合致するように調整する必要がある。また、被検
面217aが光軸に対して大きく傾いている場合、被検
面217aからの反射光量が少なくなるので、光点や干
渉縞が見にくくなる。
【0010】このため、前記光点218a及び光点21
8bをアライメント用光学系219、CCD素子221
で観察しながら、コリメータレンズ215の光軸に一致
するように、参照面216a及び被検面217bの傾き
や位置の調整(以下、この調整を「アライメント」とい
う)を行う。
【0011】アライメント光学系219でアライメント
を行った後、干渉縞観察時にはアライメント光学系21
9のみを干渉縞観察光学系220に切り換える。これに
より、干渉縞が観察でき、被検面217bの形状が分か
る。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】上述したように従来に
おいては、前記スクリーン218上に集光した被検光束
の光点を観察しながら、被検面217bのアライメント
を行っていたが、この場合、コリメータレンズ215の
光軸に対し、被検面217bの傾き及び曲率中心の位置
ズレ量が大きいと、スクリーン218上の光点218b
が暗くなって観察できなくなったり、さらには、被検光
束の光点218bがスクリーン218から外れて観察不
能となり、被検面217bの傾き及び位置ズレの方向が
不明となって被検レンズ217の配置状態が分からずア
ライメントが困難になるという課題がある。
【0013】一般的に、被検面217aの曲率半径が大
きくなると、被検面217aのNA(開口数)は小さく
なる。このため、被検面217aの曲率半径が大きくな
ると、被検面217aで反射される被検光束の光量が少
なくなり、被検光束の光点が暗くなる。ここで、被検面
217aが凸面であるときには、参照面216aと被検
面217aの距離が近いので、被検面217aの位置ズ
レを目視にて認識しやすい。
【0014】被検面217aが凹面であるときには、参
照面216aとの距離が遠くなり、被検面217aの位
置ズレが認識しにくい。即ち、被検面217aが凹面で
曲率半径が大きいほど、アライメントが難しくなる。
【0015】本発明は、上記従来の課題に鑑みてなされ
たもので、被検面の位置及び傾きが大きくズレていた
り、被検面が曲率半径の大きな凹面である場合において
も、容易に被検レンズの配置状態の確認や被検レンズの
アライメントが可能な干渉計及び干渉計のアライメント
方法を提供することを目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
測定光を射出する光源を備えた干渉計本体と、この光源
からの測定光の一部を反射して参照光を生成する参照レ
ンズとを備え、参照レンズを透過した測定光が被検レン
ズで反射して生成される被検光と前記参照光との干渉に
よる干渉縞を生成して、被検レンズの面形状等を測定す
る干渉計において、前記干渉計本体から射出され被検レ
ンズに照射される測定光の光軸と一致した細い光線を干
渉計本体から射出することを特徴とするものである。
【0017】この発明によれば、干渉計に取り付けられ
る被検レンズに対して、測定光の光軸と一致した細い光
線を照射すると、被検レンズの被検面の曲率中心が前記
測定光の光軸上にある場合には、その反射光は干渉計本
体内のスクリーン上で輝点として容易に確認可能とな
る。従って、前記細い光線によって被検レンズの配置状
態が概略のアライメント状態にあることが確認される。
【0018】請求項2記載の発明は、測定光を射出する
光源を備えた干渉計本体と、この光源からの測定光の一
部を反射して参照光を生成する参照レンズとを備え、参
照レンズを透過した測定光が被検レンズで反射して生成
される被検光と前記参照光との干渉による干渉縞を生成
して、被検レンズの面形状等を測定する干渉計におい
て、前記参照レンズと被検レンズとの間に、前記参照レ
ンズの光軸と合致した状態での測定光を通過可能にする
穴を有し、前記被検光の光軸が前記参照レンズの光軸か
らズレたときに該被検光を視認可能にするアライメント
補助手段を着脱自在に設けたことを特徴とするものであ
る。
【0019】この発明によれば、参照レンズと、被検レ
ンズとの間に、この被検レンズの光軸が参照レンズの光
軸とズレた状態に応じた被検光を視認可能なアライメン
ト補助手段を設けたので、前記被検レンズのアライメン
トを行う際に、アライメント補助手段により被検レンズ
からの被検光を視認しつつこの被検レンズの配置を調整
することができ、前記被検レンズの被検面の位置及び傾
きが大きくズレていたり、被検面が曲率半径の大きな凹
面である場合においても、簡略な操作で容易にこの被検
レンズのアライメントを実行することが可能となる。
【0020】請求項3記載の発明は、測定光を射出する
光源を備えた干渉計本体と、この光源からの測定光の一
部を反射して参照光を生成する参照レンズとを備え、参
照レンズを透過した測定光が被検レンズで反射して生成
される被検光と前記参照光との干渉による干渉縞を生成
して、被検レンズの面形状等を測定する干渉計におい
て、前記干渉計本体により光軸が測定光の光軸と一致す
る細い可視光を射出させるとともに、前記参照レンズと
被検レンズとの間に、前記参照レンズの光軸と合致した
状態での前記被検レンズからの前記可視光の反射光が通
過可能な穴を有するアライメント補助手段を備えたこと
を特徴とするものである。
【0021】この発明によれば、参照レンズと、被検レ
ンズとの間に、参照レンズの光軸と合致した状態での細
い可視光が通過可能な穴を有するアライメント補助手段
を設けたので、被検レンズの配置が適切でない場合には
このアライメント補助手段上に、細い可視光が被検レン
ズにより反射されて照射されることになり、従ってこの
細い可視光の反射光が前記穴を通過するように被検レン
ズの配置を調整することで、被検レンズの被検面の位置
及び傾きが大きくズレていたり、被検面が曲率半径の大
きな凹面である場合においても、この被検レンズのアラ
イメントを作業性良く実行することが可能となる。
【0022】請求項4記載の発明は、干渉計本体から測
定光の一部を参照レンズにより反射して得られる参照光
と、参照レンズを透過した測定光を被検レンズにより反
射して得られる被検光との干渉による干渉縞を生成して
被検レンズの面形状等を測定する干渉計におけるアライ
メント方法において、前記参照レンズと被検レンズとの
間に細い光が通過可能な穴を有するスクリーンを配置
し、前記干渉計本体から、細い可視光を前記参照レンズ
の光軸と合致した状態で前記スクリーンの穴を経て被検
レンズに向けて射出し、被検レンズによる細い可視光の
反射光の前記スクリーンの穴に対する透過の有無を利用
して前記被検レンズのアライメントを行うようにしたこ
とを特徴とするものである。
【0023】この発明に係るアライメント方法によれ
ば、前記参照レンズと被検レンズとの間に配置した細い
光が通過可能な穴を有するスクリーンを配置し、被検レ
ンズによる細い可視光の反射光の前記スクリーンの穴に
対する透過の有無を利用して被検レンズのアライメント
を行うものである。従って、前記被検レンズの配置が適
切でない場合には、前記スクリーン上に被検レンズから
の細い可視光の反射光が照射されることになり、これに
より、請求項3記載の発明の場合と同様、被検レンズか
らの細い可視光の反射光が前記穴を通過するように被検
レンズの配置を調整することで、被検レンズの被検面の
位置及び傾きが大きくズレていたり、被検面が曲率半径
の大きな凹面である場合においても、この被検レンズの
アライメントを作業性良く実行することが可能なアライ
メント方法を提供できる。
【0024】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を詳細
に説明する。
【0025】図1に本発明の実施の形態の干渉計の概念
図を示す。この干渉計は、測定対象である被検レンズ4
の被検面4aの形状を測定するための測定光を射出する
レーザ光源を備えた干渉計本体1と、この干渉計本体1
から射出される測定光の光路中に配置された参照レンズ
2と、同じく干渉計本体1から射出される測定光の光路
中に配置された後述する細い光線3が通過する穴5aを
有するアライメント補助手段としてのスクリーン5とを
備えている。
【0026】更に、前記干渉計本体1からは、測定光の
光軸と一致する可視光である細い光線3が射出可能とな
っている。
【0027】また、前記スクリーン5は、干渉計本体1
の外部から目視可能なように、前記参照レンズ2と前記
干渉計に取り付けられる被検レンズ4との間に配置され
ている。尚、前記測定光は可視光でも不可視光のいずれ
でもよい。
【0028】上述した図1に示す干渉計において、干渉
計本体1から射出された測定光は、参照レンズ2の参照
面2aで一部が反射し、干渉計本体1内に逆行する。ま
た、参照レンズ2を透過した測定光は、被検レンズ4の
被検面4aに向けて射出される。
【0029】ここで、測定光に対する被検面4aの概略
位置を調整するときは、干渉計本体1から測定光の光軸
と一致させた細い光線3を射出させ、スクリーン5の穴
5aを通過させる。この穴5aを通過した細い光線は、
被検面4aで反射して反射光となるが、被検面4aの曲
率中心が略前記光軸上にある場合には、反射光は穴5a
を通るのでスクリーン5上での照射による輝点がないか
ら、被検レンズ4の配置状態が概略アライメント状態に
あることが確認されるものの、被検面4aの曲率中心が
光軸からズレている場合には、前記穴5aを通らずに、
穴5aの囲りのスクリーン5上に照射される。
【0030】従って、被検レンズ4の配置を概略アライ
メント状態にすべく、被検面4aの中心に細い光線3が
来るように、即ち、被検面4aからの反射光がスクリー
ンの穴5aを通るように、被検レンズ4を光軸に対して
傾けたり、垂直方向に動かしたりしながら被検面4aの
概略のアライメントを目視にて行う。尚、細い光線3の
被検面4aからの反射光がスクリーン5に照射されるか
否かを目視していることから、スクリーン5の配置位置
は参照レンズ2と被検レンズ4との間にあればその確認
作業は可能である。
【0031】前記被検レンズ4の被検面4aが、曲率半
径の大きな球面や平面あるいは平面に近い形状をしてい
る場合には、被検面4aからの反射光がスクリーン5の
穴5aを通過し干渉計本体1に逆行するように調整する
ことで、即ち、被検面4aで反射し、スクリーン5に照
射される反射光を視認しつつ被検面4aの概略の傾きや
曲率中心の位置を調整することで、被検面4aの概略の
アライメントを目視にて容易に実行できる。
【0032】また、図1において、前記測定光が可視光
の場合、前記被検面4aの曲率中心が光軸からズレてい
る場合には、前記被検面4aで反射される可視の測定光
束が前記穴5aを通らずにこの穴5aの回りのスクリー
ン5上にも照射されることになり、従って、細い光線3
の目視による調整と同様に、前記被検面4aで反射され
る可視の測定光束の中心が穴5aの中心を通るように視
認することで、前記被検面4aの概略のアライメントを
目視にて実行できる。
【0033】以上の操作により、被検面4aからの測定
光束が参照レンズ2を通り、干渉計本体1に戻るように
設定できる。これにより、被検面4aの正確なアライメ
ントが容易となる。アライメントの際に、スクリーン5
によって測定光が遮蔽される場合には、スクリーン5を
参照レンズ2と被検レンズ4との間から取り外し、干渉
縞測定の妨げにならないようにする。前記細い光線3
は、測定光が可視光の場合は該測定光の一部を用いるこ
とができ、また、測定光が不可視光の場合はこの測定光
の光源とは別体の可視光用光源を干渉計本体1内に配置
して可視光を得るようにする。尚、測定光が不可視光の
場合は、スクリーン5として、モニター画面に接続さ
れ、かつ、中央に穴を有する受光素子を用い、この受光
素子の面に対する被検面4aからの測定光束による照射
の有無を前記モニター画面にて視認するように構成すれ
ば、測定光が不可視光の場合においても、前記細い光線
3の目視による調整と同様に実行できる。
【0034】[実施の形態1] (構成)図2に本発明の実施の形態1を示す。図2に示
すように、本実施の形態1の干渉計本体111の側面に
は、図示しない鏡筒内に装着された参照面112aを有
する参照レンズ112が取り付けられている。
【0035】また、干渉計本体111には、レーザ光を
射出するレーザ光源101(例えば、可視光レーザ用の
He−Neレーザ光源)と、レーザ光の径を広げる凹レ
ンズ、凸レンズの組み合わせからなるビームエキスパン
ダ102と、ビームエキスパンダ102を通過したレー
ザ光を一度集光点で集光させた後に発散光にするレンズ
103と、このレンズ103により集光されるレーザ光
の集光点の位置に配置されたピンホール104と、発散
光となったレーザ光を曲げるミラー105及びミラー1
07と、ミラー105及びミラー107の間に配置され
たビームスプリッタ106と、ミラー107で反射した
レーザ光を平行光にするコリメータレンズ108と、ビ
ームスプリッタ106からの反射光の光路上に配置され
たCCDカメラ110と、前記コリメータレンズ108
の焦点位置に配置されたスクリーン109a及びスクリ
ーン109aの像をCCDカメラ110に結像させるレ
ンズ109bからなるアライメント光学系109とを有
している。
【0036】また、図示していないが、前記参照レンズ
112の参照面112aと、被検レンズ115の被検面
115aとの各反射光による干渉縞をCCDカメラ11
0に結像させる干渉縞観察光学系が、アライメント光学
系109と並設して切り換え可能に配置されている。
【0037】更に、干渉計本体111には、可視光の細
い光線を射出するアライメント光源(例えばHe−Ne
レーザ光源)113と、アライメント光源113からの
光線(以下、「アライメント光線」という)をコリメー
タレンズ108の光軸と一致させるようにして参照レン
ズ112及び被検レンズ115側に反射するハーフミラ
ー114とが配置されている。
【0038】また、参照レンズ112を透過したレーザ
光が通過する穴136aを有するスクリーン136が、
参照レンズ112を透過するレーザ光の集光位置に配置
されている。
【0039】このスクリーン136は、干渉計本体11
1の外部であって、コリメータレンズ108の光軸上の
目視可能な位置に配置されている。このスクリーン13
6は、参照レンズ112によって集光位置が定まるの
で、参照レンズ112の鏡枠と一体に構成してもよい
が、別体にしてX、Y、Z方向に位置調整可能な支持部
材にて位置調整可能に構成してもよい。前記被検レンズ
115は、スクリーン136の前方に図示しない鏡枠及
びX、Y、Z、θ方向に位置調整可能な周知の移動テー
ブル上に鏡筒を介して配置されている。
【0040】(作用)上述した構成の干渉計において、
第1に参照レンズ112の干渉計本体111に対するア
ライメントを行う。この場合、アライメント光源113
をオフとし、被検レンズ115は干渉計から取り外す。
【0041】この状態において、レーザ光源101から
射出されたレーザ光は、ビームエキスパンダ102によ
りその径が拡大され、レンズ103により集光された後
発散光となる。このとき、ピンホール104によりレー
ザ光のうちのノイズ光はカットされる。ピンホール10
4を透過したレーザ光は、ミラー105により曲げら
れ、ビームスプリッタ106及びハーフミラー114を
透過し、ミラー107により更に進行方向を曲げられ、
コリメータレンズ108により平行光となって、干渉計
本体111より射出される。
【0042】干渉計本体111から射出されたレーザ光
は、参照レンズ112の参照面112aにより一部が反
射され、この反射光は光路を逆行し、干渉計本体111
に入射し参照光となる。この参照光は、コリメータレン
ズ108により収束光となり、ミラー107により曲げ
られ、ハーフミラー114を透過し、ビームスプリッタ
106により反射され、アライメント光学系109のス
クリーン109a上に集光する。このときの集光点をC
CDカメラ110により観察し、集光点が干渉計本体1
11の光軸と一致するように、参照レンズ112の参照
面112aのアライメントを行う。
【0043】このとき、前述のように被検レンズ115
は干渉計に取り付けられていないので、被検面115a
からの反射がない状態で参照レンズ112のアライメン
トが実行される。
【0044】次に、被検レンズ115に対するアライメ
ントを行う。この場合、測定光のレーザ光源101はオ
フとし、被検レンズ115を干渉計に取り付け、被検レ
ンズ115の被検面115aのアライメントを行う際
に、アライメント光源113を点灯させる。
【0045】アライメント光源113から射出された可
視光であるアライメント光線は、ハーフミラー114に
より反射され、ミラー107により曲げられコリメータ
レンズ108、参照レンズ112及びスクリーン136
の穴136aを透過して、被検レンズ115で反射す
る。
【0046】このとき、被検面115aに位置ズレや傾
きが少なければ、その反射光はスクリーン136の穴1
36aを通過し、逆行して前記ハーフミラー114及び
ビームスプリッタ106を介してアライメント光学系1
09のスクリーン109a上に細い光線として全てのア
ライメント光線が到達した光点(輝点)を形成するの
で、これにより、被検面115aの概略のアライメント
を更に行わなくてもよいことが確認されることになり、
スクリーン136による補助を必要としなくなる。しか
しながら、被検面115aに位置ズレや傾きがあれば、
その反射光はアライメント光線として図2で矢印で示す
ようにスクリーン136上に照射される。この状態を観
察することで被検面115aのアライメントが必要なこ
とが目視にて判明する。このアライメント光線に対し、
被検面115aの曲率中心及び傾きが目視にて概略一致
するように、即ち、アライメント光線の反射光がスクリ
ーン136の穴136aを通過するように被検レンズ1
15の位置を調整する。これにより、被検面115aの
概略のアライメントが完了する。その後、アライメント
光源113をオフする。
【0047】次に、レーザ光源101をオンにすると、
レーザ光源101から射出され、参照面112aを透過
した測定光が被検面115aで反射され、参照レンズ1
12を透過し、干渉計本体111に戻り、被検光束とな
る。この被検光束は、参照光と同様にアライメント光学
系109のスクリーン109a上に集光する。この集光
点をCCDカメラ110により観察し、干渉計本体11
1の光軸と一致するように、被検面115aの正確なア
ライメントを行う。尚、被検面115aの正確なアライ
メントは、アライメント光源113をオンの状態のまま
でも行うことができる。
【0048】前記参照面112aと被検面115aの各
々のアライメントが完了したら、アライメント光学系1
09を、図示しない干渉縞観察光学系に切り換え、干渉
縞を観察し被検面115aの形状を測定する。
【0049】(効果)本実施の形態1によれば、従来よ
りある干渉計に、アライメント光源113及びハーフミ
ラー114、スクリーン136を追加した構成とするだ
けで、上述した通り被検面115aの正確、かつ、簡略
な作業によるアライメントが可能となる。
【0050】本実施の形態1では、レーザ光源101と
して可視光レーザのHe−Neレーザ光源を用いたが、
被検レンズ115のアライメントの際にはレーザ光源1
01からのレーザ光を用いないので、これに限らず、不
可視光レーザのCO2 レーザ光源を用いても実施でき
る。
【0051】[実施の形態2] (構成)図3に本発明の実施の形態2を示す。本実施の
形態2の干渉計は、図2に示す実施の形態1の干渉計と
基本的には同様な構成であるが、本実施の形態2の干渉
計は、図3に示すように、干渉計本体120における可
視光のレーザを照射するレーザ光源(例えばHe−Ne
レーザ光源)101の前方にレーザ光源101からのレ
ーザ光の径を広げる発散光学系121を設けたことが特
徴である。
【0052】この発散光学系121は、レーザ光源10
1から射出されたレーザ光の光路に対して挿脱可能に配
置されている。また、発散光学系121は、レーザ光の
径を広げる凹レンズ、凸レンズの組み合わせからなるビ
ームエキスパンダ102と、ビームエキスパンダ102
を通過したレーザ光を一度集光点で集光させた後に発散
光にするレンズ103と、このレンズ103により集光
されるレーザ光の集光点の位置に配置されたピンホール
104とを具備している。
【0053】そして、この実施の形態2の干渉計におい
ては、実施の形態1におけるアライメント光源113を
省略した構成としている。この他の構成は、実施の形態
1と同様に構成されており、その詳細な説明は省略す
る。
【0054】(作用)上述した実施の形態2の干渉計に
おいて、前記コリメータレンズ108の光軸に対して傾
き及び曲率中心の位置ズレ量が大きい被検レンズ115
の被検面115aをアライメントする場合について説明
する。この場合には、前記発散光学系121をレーザ光
源101からのレーザ光が入射しない位置まで離脱させ
る。
【0055】即ち、レーザ光源101の光軸上から外れ
た位置に発散光学系121を退避させる。これにより、
レーザ光源101からのレーザ光は、細いビーム光のま
まミラー105により光路が曲げられ、ビームスプリッ
タ106を透過し、ミラー107で曲げられ、コリメー
タレンズ108及び参照レンズ112を透過し、干渉計
本体120から射出されて、スクリーン136の穴13
6aを通過する。
【0056】この細い可視光であるレーザ光をアライメ
ント光線として、被検面115aで反射させ、被検面1
15aに位置ズレや傾きがあればその反射光がスクリー
ン136の穴136aを通過するように、被検レンズ1
15の位置や傾きを調整して被検面115aの概略のア
ライメントを行う。
【0057】次に、前記発散光学系121を、レーザ光
源101から射出されたレーザ光の光路に臨む所定の位
置に挿入し、コリメータレンズ108の光軸に対して傾
き及び曲率中心の位置ズレが極めて小さくなっている状
態にて、従来の干渉計と同様にしてアライメントを行
う。
【0058】これにより、参照レンズ112の参照面1
12a及び被検レンズ115の被検面115aの正確な
アライメントが可能となる。そして、アライメント終了
後、干渉縞観察光学系に切り換えることにより、被検面
115aの形状を測定することができる。
【0059】(効果)本実施の形態2によれば、従来の
干渉計に新たな光学部品を付加することなく、簡略なア
ライメントが可能になるという利点がある。
【0060】[実施の形態3] (構成)図4に本発明の実施の形態3を示す。図4に示
す干渉計は、図2に示す実施の形態1の干渉計と基本的
な構成は同様であるが、前記ビームエキスパンダ102
の前段に、レーザ光源101から射出されたレーザ光を
2つに分けるビームスプリッタ131を配置するととも
に、このビームスプリッタ131を透過したレーザ光を
ビームエキスパンダ102の方向へ反射させるミラー1
32を配置したこと、前記ピンホール104とビームス
プリッタ106との間にミラー134を配置するととも
に、前記ビームスプリッタ131で分かれた光をミラー
134側に反射するミラー133を備えたことが特徴で
ある。
【0061】前記ミラー134は、回転軸135を支軸
として回転可能となっており、ミラー133で反射され
た細いビーム光をビームスプリッタ106の方向へ反射
させる位置134aと、ピンホール104を透過した発
散光がビームスプリッタ106へ入射する位置134b
とに移動可能としている。この他の構成は、実施の形態
1と同様であり、その詳細な説明は省略する。
【0062】(作用)上述した構成の干渉計において、
被検レンズ115の被検面115aをアライメントする
ときは、ミラー134を回転軸135を支軸として回
し、位置134aにする。これにより、レーザ光源10
1を射出し、ビームスプリッタ131で反射したレーザ
光は、細いビーム光のままミラー133及びミラー13
4で反射し、ビームスプリッタ106を透過し、ミラー
107で反射し、コリメータレンズ108及び参照レン
ズ112を透過し、干渉計本体130から射出される。
【0063】この細いレーザ光によって、被検面115
aに位置ズレや傾きがあれば被検レンズ115からの反
射光がスクリーン136の穴136aを通過するように
調整して、被検面115aの概略のアライメントを行
う。
【0064】次に、ミラー134を回転軸135を支軸
として回転させて位置134bに移動する。これによ
り、レーザ光源101から射出され、ビームスプリッタ
131を透過したレーザ光は、ミラー132により曲げ
られ、ビームエキスパンダ102、集光レンズ103及
びピンホール104を透過して発散光となり、ビームス
プリッタ106の方向へ向かう。
【0065】このレーザ光により、参照面112a及び
被検面115aの正確なアライメントが可能となる。そ
して、アライメント終了後、干渉縞観察光学系に切り換
えることにより、被検面115aの形状を測定できる。
【0066】(作用)本実施の形態3によれば、移動さ
せる部材が、ミラー134のみであるため、移動機構の
簡略化を図ることができる利点がある。尚、前記実施の
形態1、2及び3を説明する図2、図3及び図4には、
ビームスプリッタとコリメータレンズトの間に1/4波
長板の図示及びその説明をしていないが、従来例と同様
にこれらを配置してよいことはもちろんである。
【0067】以上説明した本発明によれば、以下の構成
を付記することができる。 (1)測定光を射出する光源を備えた干渉計本体と、こ
の光源からの測定光の一部を反射して参照光を生成する
参照レンズとを備え、参照レンズを透過した測定光が被
検レンズで反射して生成される被検光と前記参照光との
干渉による干渉縞を生成して被検レンズの面形状等を測
定する干渉計において、前記参照レンズと被検レンズと
の間に配置され、前記被検レンズの曲率中心が参照レン
ズの光軸と合致した状態での前記被検レンズからの被検
光が通過可能な穴を有するスクリーンを設けたことを特
徴とする干渉計。この構成によれば、前記被検レンズの
配置が適切でない場合にはスクリーン上に被検レンズか
らの被検光が照射されることになり、従って、この被検
光が前記穴を通過するように被検レンズの配置を調整す
ることで、被検レンズの被検面の位置及び傾きが大きく
ズレていたり、被検面が曲率半径の大きな凹面である場
合においても、この被検レンズのアライメントを作業性
良く実行することが可能となる。
【0068】(2)測定光を射出する光源を備えた干渉
計本体と、この光源からの測定光の一部を反射して参照
光を生成する参照レンズとを備え、参照レンズを透過し
た測定光が被検レンズで反射して生成される被検光と前
記参照光との干渉による干渉縞を生成して被検レンズの
面形状等を測定する干渉計において、前記参照レンズと
被検レンズとの間に配置された前記被検レンズの曲率中
心が参照レンズの光軸と合致した状態での前記被検レン
ズからの被検光が通過可能な穴を有するスクリーンと、
前記レーザ光源からの測定光と同軸で干渉計本体から可
視光の細い光線を射出するアライメント光源とを有する
ことを特徴とする干渉計。この構成によれば、前記アラ
イメント光源を利用して付記1の場合と同様な作用、効
果を発揮させることができるとともに、前記測定光を射
出するレーザ光源として不可視光を射出する光源を採用
することができる。
【0069】(3)測定光を射出する光源を備えた干渉
計本体と、この光源からの測定光の一部を反射して参照
光を生成する参照レンズとを備え、参照レンズを透過し
た測定光が被検レンズで反射して生成される被検光と前
記参照光との干渉による干渉縞を生成して被検レンズの
面形状等を測定する干渉計において、前記参照レンズと
被検レンズとの間に配置された前記被検レンズの曲率中
心が参照レンズの光軸と合致した状態での前記被検レン
ズからの被検光が通過可能な穴を有するスクリーンと、
前記レーザ光源からの測定光と同軸で干渉計本体からで
可視光の細い光線を射出するアライメント光源と、前記
参照光を集光するアライメント光学系と、このアライメ
ント光学系により集光した参照光を観察するCCDカメ
ラとを有し、前記アライメント光源からの細い光線を被
検レンズにより反射した被検光の前記スクリーンへの照
射光を視認しつつ被検レンズのアライメントを行い、前
記レーザ光源から射出され、参照レンズで反射してアラ
イメント光学系により集光した参照光をCCDカメラに
より、観察しつつ参照レンズのアライメントを行うこと
を特徴とする干渉計。この構成によれば、参照レンズ及
び被検レンズ双方のアライメントを作業性良く実行でき
る。
【0070】(4) 測定光を射出する光源を備えた干
渉計本体と、この光源からの測定光の一部を反射して参
照光を生成する参照レンズとを備え、参照レンズを透過
した測定光が被検レンズで反射して生成される被検光と
前記参照光との干渉による干渉縞を生成して被検レンズ
の面形状等を測定する干渉計において、前記参照レンズ
と被検レンズとの間に配置された前記被検レンズの曲率
中心が参照レンズの光軸と合致した状態での前記被検レ
ンズからの被検光が通過可能な穴を有するスクリーン
と、前記レーザ光源からの測定光と同軸で干渉計本体か
らで可視光の細い光線を射出するアライメント光源と、
前記参照光を集光するアライメント光学系と、このアラ
イメント光学系により集光した参照光を観察するCCD
カメラとを有し、前記アライメント光源からの細い光線
を被検レンズにより反射した被検光の前記スクリーンへ
の照射光を視認しつつ被検レンズのアライメントを行
い、前記レーザ光源から射出され、被検レンズで反射し
てアライメント光学系により集光した第2の被検光をC
CDカメラにより、観察しつつ被検レンズのアライメン
トを再度行うことを特徴とする干渉計。この構成によれ
ば、参照レンズに対して被検レンズの概略及び正確なア
ライメントを作業性良く実行できる。
【0071】(5) 測定光を射出する光源を備えた干
渉計本体と、この光源からの測定光の一部を反射して参
照光を生成する参照レンズとを備え、参照レンズを透過
した測定光が被検レンズで反射して生成される被検光と
前記参照光との干渉による干渉縞を生成して、被検レン
ズの面形状等を測定する干渉計において、前記干渉計本
体により光軸が測定光の光軸と一致する細い可視光を射
出させるとともに、前記参照レンズと被検レンズとの間
に、前記参照レンズと前記被検レンズとの間に配置した
前記被検レンズの配置状態に応じた被検光を視認可能な
アライメント補助手段を備えたことを特徴とする干渉
計。この構成によれば、前記参照レンズと、被検レンズ
との間に、被検レンズの配置状態に応じた被検光を視認
可能なアライメント補助手段を設けたので、前記被検レ
ンズのアライメントを行う際に、アライメント補助手段
により被検レンズからの被検光を視認しつつこの被検レ
ンズの配置を調整することができ、前記被検レンズの被
検面の位置及び傾きが大きくズレていたり、被検面が曲
率半径の大きな凹面である場合においても、この被検レ
ンズのアライメントを作業性良く実行することが可能と
なる。
【0072】
【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、被検レン
ズの被検面の曲率中心が、被検面の測定光の略光軸上に
あるか否かの確認が容易に可能な干渉計を提供すること
ができる。
【0073】請求項2記載の発明によれば、被検レンズ
のアライメントを行う際に、アライメント補助手段によ
り被検レンズからの被検光を視認しつつこの被検レンズ
の配置を調整することができ、被検レンズの被検面の位
置及び傾きが大きくズレていたり、被検面が曲率半径の
大きな凹面である場合においても、簡略な操作で容易に
この被検レンズのアライメントを実行することが可能な
干渉計を提供することができる。
【0074】請求項3記載の発明によれば、被検光が前
記穴を通過するように被検レンズの配置を調整すること
により、被検レンズの被検面の位置及び傾きが大きくズ
レていたり、被検面が曲率半径の大きな凹面である場合
においても、この被検レンズのアライメントを作業性良
く実行することが可能な干渉計を提供することができ
る。
【0075】請求項4記載の発明によれば、干渉計にお
ける被検レンズの被検面の位置及び傾きが大きくズレて
いたり、被検面が曲率半径の大きな凹面である場合にお
いても、この被検レンズのアライメント作業を作業性良
く実行することが可能なアライメント方法を提供するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態の干渉計を示す概略構成図
である。
【図2】本発明の実施の形態1の干渉計の光学系の概略
構成図である。
【図3】本発明の実施の形態2の干渉計の光学系の概略
構成図である。
【図4】本発明の実施の形態3の干渉計の光学系の概略
構成図である。
【図5】従来の干渉計の光学系の概略構成図である。
【符号の説明】
1 干渉計本体 2 参照レンズ 2a 参照面 3 光線 4 被検レンズ 4a 被検面 5 スクリーン 5a 穴 101 レーザ光源 102 ビームエキスパンダ 103 レンズ 104 ピンホール 105 ミラー 106 ビームスプリッタ 107 ミラー 108 コリメータレンズ 109 アライメント光学系 110 CCDカメラ 111 干渉計本体 112 参照レンズ 113 アライメント光源 115 被検レンズ 136 スクリーン 136a 穴

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 測定光を射出する光源を備えた干渉計本
    体と、この光源からの測定光の一部を反射して参照光を
    生成する参照レンズとを備え、参照レンズを透過した測
    定光が被検レンズで反射して生成される被検光と前記参
    照光との干渉による干渉縞を生成して被検レンズの面形
    状等を測定する干渉計において、 前記干渉計本体から射出され被検レンズに照射される測
    定光の光軸と一致した細い光線を干渉計本体から射出す
    ることを特徴とする干渉計。
  2. 【請求項2】 測定光を射出する光源を備えた干渉計本
    体と、この光源からの測定光の一部を反射して参照光を
    生成する参照レンズとを備え、参照レンズを透過した測
    定光が被検レンズで反射して生成される被検光と前記参
    照光との干渉による干渉縞を生成して被検レンズの面形
    状等を測定する干渉計において、 前記参照レンズと被検レンズとの間に、前記参照レンズ
    の光軸と合致した状態での測定光を通過可能にする穴を
    有し、前記被検光の光軸が前記参照レンズの光軸からズ
    レたときに該被検光を視認可能にするアライメント補助
    手段を着脱自在に設けたことを特徴とする干渉計。
  3. 【請求項3】 測定光を射出する光源を備えた干渉計本
    体と、この光源からの測定光の一部を反射して参照光を
    生成する参照レンズとを備え、参照レンズを透過した測
    定光が被検レンズで反射して生成される被検光と前記参
    照光との干渉による干渉縞を生成して被検レンズの画形
    状等を測定する干渉計において、 前記干渉計本体により光軸が測定光の光軸と一致する細
    い可視光を射出させるとともに、前記参照レンズと被検
    レンズとの間に、前記参照レンズの光軸と合致した状態
    での前記被検レンズからの前記可視光の反射光が通過可
    能な穴を有するアライメント補助手段を備えたことを特
    徴とする干渉計。
  4. 【請求項4】干渉計本体から測定光の一部を参照レンズ
    により反射して得られる参照光と、参照レンズを透過し
    た測定光を被検レンズにより反射して得られる被検光と
    の干渉による干渉縞を生成して被検レンズの面形状等を
    測定する干渉計におけるアライメント方法において、 前記参照レンズと被検レンズとの間に細い光が通過可能
    な穴を有するスクリーンを配置し、 前記干渉計本体から、細い可視光を前記参照レンズの光
    軸と合致した状態で前記スクリーンの穴を経て被検レン
    ズに向けて射出し、 被検レンズによる細い可視光の前記スクリーンの穴に対
    する透過の有無を利用して前記被検レンズのアライメン
    トを行うようにしたこと、 を特徴とする干渉計におけるアライメント方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015503754A (ja) * 2012-01-11 2015-02-02 コー・ヤング・テクノロジー・インコーポレーテッド 非対称偏光を用いた干渉計及びそれを用いた光学装置
JP2016017749A (ja) * 2014-07-04 2016-02-01 三菱電機株式会社 干渉計測装置系の調整システムおよびその調整方法
JP2022520837A (ja) * 2019-02-14 2022-04-01 プレシテック ゲーエムベーハー ウント ツェーオー カーゲー 加工物をレーザビームによって加工するためのレーザ加工システムとレーザ加工システムを制御する方法
CN115014194A (zh) * 2022-07-21 2022-09-06 北京易兴元石化科技有限公司 一种用于消除阿贝误差的光路共轴检查装置

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