JPH11126571A - 対物レンズ装置 - Google Patents

対物レンズ装置

Info

Publication number
JPH11126571A
JPH11126571A JP10233056A JP23305698A JPH11126571A JP H11126571 A JPH11126571 A JP H11126571A JP 10233056 A JP10233056 A JP 10233056A JP 23305698 A JP23305698 A JP 23305698A JP H11126571 A JPH11126571 A JP H11126571A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
magnetic
electrode
objective lens
electric field
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP10233056A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4130500B2 (ja
Inventor
Juergen Dr Frosien
フロジエン ユルゲン
Stefan Dr Lanio
ラニオ シュテファン
Gerald Dr Schoenecker
シェーネッカー ゲラルド
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Advantest Corp
Original Assignee
Advantest Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Advantest Corp filed Critical Advantest Corp
Publication of JPH11126571A publication Critical patent/JPH11126571A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4130500B2 publication Critical patent/JP4130500B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
    • H01J37/10—Lenses
    • H01J37/145—Combinations of electrostatic and magnetic lenses

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 低収差係数を達成することができるように既
知の対物レンズ装置を改良すること目的とする。 【解決手段】 対物レンズ装置は、単極の磁気レンズと
互いに異なる電位が付与されることができる第１及び第
２の電極を有する電界レンズとを供え、粒子線、特に電
子線に影響を与える。電界レンズは粒子線の方向に関し
て単極の磁気レンズより後に配置されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は単極の磁気レンズと
互いに異なる電位が付与されることができる第１及び第
２の電極を有する電界レンズとを供え、粒子線、特に電
子線に影響を与えるための対物レンズ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】このような対物レンズ装置は、例えば、
電子線プロービング及び他の電子線装置の応用例、例え
ば、顕微鏡写真、検査、リソグラフィ等にて使用されて
いる。高分解能の対物レンズ装置は、特に低電圧領域に
て低収差係数を有するべきである。
【０００３】それ故、低収差係数及び良好な低電圧特性
を有する電気的及び磁気的複合ポールピース型対物レン
ズが当業者にて知られている。
【０００４】このような既知の対物レンズの改良例が欧
州特許ＥＰ−Ａ−０７９０６３４に開示されており、こ
の例では、磁気レンズは単極レンズによって形成され、
電界減速レンズがこの磁気レンズ内に配置されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、低収
差係数を達成することができるように既知の対物レンズ
装置を改良することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によると、この目
的は、特許請求の範囲の請求項１の特徴部によって達成
される。即ち、電界レンズは粒子線方向に単極の磁気レ
ンズの後に配置されている。
【０００７】更に、本発明の他の例は、特許請求の範囲
の従属項の内容にある。
【０００８】好ましい例では、電界レンズの２つの電極
は管状電極として構成されており、第１の電極は単極の
磁気レンズを通過し、第２の電極は第１の電極と同軸的
に配置されている。
【０００９】２つの電極の１つをスロット状構造にする
ことによって、電気的多極要素が簡単に形成され、それ
らは接続され、例えば、静電偏向器、スチグマチック結
像器又は他の補正器として使用されることができる。
【００１０】本発明の更なる例及び利点は、幾つかの例
及び図面を参照して以下に詳細に説明されよう。
【００１１】
【発明の実施の形態】図１に示すように、粒子線、特
に、電子線に影響を与えるための対物レンズ装置は単極
の磁気レンズ１と電界レンズ２からなり、この電界レン
ズ２は互いに異なる電位が付与されることができる第１
及び第２の電極２０、２１を有する。この磁気レンズ１
は第１及び第２のポールピース１ａ、１ｂと励起コイル
１ｃとを有する。
【００１２】２つの電極２０、２１は管状電極として構
成され、第１の電極２０は単極の磁気レンズ１を通過
し、その下端２０ａはこの単極の磁気レンズ１より突出
している。
【００１３】第２の電極２１は第１の電極２０と同軸的
に配置され、第１の電極２０と部分的に重なり合い、直
径が第１の電極２０より大きい。電界レンズ２はレンズ
場２３を形成し、このレンズ場は第１の電極２０の下端
２０ａの領域及び第２の電極２１の隣接する内壁内に伝
播している。
【００１４】対物レンズは光軸３を有し、この光軸周り
に単極の磁気レンズ１及び電界レンズ２が回転対称的に
配置されている。粒子線は矢印４によって示されてい
る。
【００１５】図示の対物レンズの特徴は、電界レンズ２
が粒子線４の方向に単極の磁気レンズ１の後に配置され
ていることにある。磁場は単極の磁気レンズ１の下方に
形成され、電場は同様に単極レンズの下方に伝播するた
め、電場は磁場の内部又は下方にある。
【００１６】電界レンズ２は好ましくは粒子線４に対す
る減速レンズとして作動される。
【００１７】粒子線４に対する減速効果を構築するため
に、第１の電極２０には第１の電圧Ｕ１が供給され、第
２の電極２１には第２の電圧Ｕ２が供給される。第１の
電圧は例えば、２ｋＶであり、第２の電圧は０Ｖと±１
００Ｖの間であるが、より高い電圧が供給されることも
可能である。
【００１８】こうして、減速電場は１次粒子線が磁場に
よって集光されるまでは、１次粒子線に作用しない。そ
の結果、電界レンズにとって不可避的な収差係数を比較
的低く維持することができる。
【００１９】図２Ａに示した対物レンズは円錐形状の単
極の磁気レンズ１’を有し、この磁気レンズは電界レン
ズ２’に組み合わされている。
【００２０】このような対物レンズは大きな傾斜可能な
試験片ステージを供えた粒子線装置に特に好適である、
なぜなら試験片の傾斜に必要な空間が単極レンズの円錐
構造によって得られるからである。
【００２１】この電界レンズ２’の構造は図１の電界レ
ンズの構造とは次の点で異なる。第２の電極２１’は第
１の電極２０より小さな直径を有し、第１の電極２０内
に下方から突出している。レンズ場２３’はここを、即
ち、第２の電極２１’の突出端部と第１の電極２０の隣
接する壁の間を形成する。
【００２２】最後に図２Ｂに電界レンズ２”の第３の例
が示されている。この例では第１及び第２の電極２０、
２１”は同一の直径を有し、互いに隔置されている。こ
の例では、レンズ場２３”は第１及び第２の電極の間の
遷移領域に提供される。
【００２３】電界レンズ特性に影響を与えるために、電
界レンズ２、２’、２”の２つの電極２０及び２１、２
１’、２１”は、互いに他に対して光軸方向に変位可能
に配置されることができる。その結果、例えば、図１の
例では、２つの電極の下端２０ａ、２１ａの間の光軸３
方向の距離は可変であり、従って、試験片の設置位置に
おける電場の強さは最低限調節可能である。
【００２４】図３Ａ及び図３Ｂに示されている例では、
２つ電極２０、２１は、それぞれ異なる距離ｚ１、ｚ２
にて示されている。第１の電極２０は、図３Ａの例で
は、図３Ｂに示す例の場合より、より深く第２の電極２
１内に浸かっている。
【００２５】電界レンズの特性に影響を与えるための他
の例が図４に示されており、この例では、第２の電極２
１に開口５が設けられている。開口の径Ｄを異ならしめ
ることによって、電界レンズは特定の条件に適合するこ
とができる。
【００２６】図５の例では、電界レンズ２は、２つの電
極２０、２１以外に更に、第３の電極２２を供えてお
り、この第３の電極は管状電極として構成されている。
第３の電極２２は第２の電極２１周りに同軸的に配置さ
れ、その下端２２ａは第２の電極の下端２１ａより光軸
３方向に隔置されている。この第３の電極２２にも開口
５’が設けられている。
【００２７】図６Ａ及び図６Ｂに示す他の例では、２つ
の電極の１つが多極要素となるようにスロット化されて
いる。電極２１にはスロット２１ｂが設けられている。
図示の例では、スロット２１ｂの間に８個の電気的多極
要素２１ｃが形成されている。適当な電圧を付与するこ
とによってこれらの電気的多極要素２１ｃは接続され、
静電偏向器、スチグマチック結像器又は他の補正器とし
て使用されることができる。この場合、各電圧は、電圧
Ｕ２に対応した平均電圧が生成されるように、選択され
る。
【００２８】図７Ａ及び図７Ｂに示す例では、電極２１
には２つのスロット２１ｂが設けられ、それによって２
つの電気的多極要素２１ｃ、２１ｄが形成されている。
更に、コイル又は永久磁石を適当に配列することによっ
て形成された磁気的多極要素６ａ、６ｂが電極２１の外
側に配置されている。
【００２９】このような装置を使用すると、電気的／磁
気的直交双極横断場（ウィーンフィルタ）が生成され
る。これらの場は、次のように調節される。１次粒子線
４は影響されないが、しかしながら、試験片上に放出さ
れた２次及び後方散乱電子が偏向され、非同軸的インレ
ンズ又はプレレンズ検出器に供給され、この検出器は両
信号を一緒に又は適当な構成によって別個に検出するこ
とができる。
【００３０】図８Ａ及び図８Ｂに示す例では、４個の電
気的多極要素２１ｃ、２１ｄ、２１ｅ、２１ｆと４個の
磁気的多極要素６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄが設けられ、こ
れらの要素によって電気的／磁気的直交４極横断場が生
成されることができる。これらの横断場は次のように調
節される。１次粒子線４は影響されないが、しかしなが
ら、２次及び後方散乱電子が分割され、２つの非同軸的
インレンズ又はプレレンズ検出器に供給され、これらの
検出器は両信号を一緒に又は適当な構成によって別個に
検出することができる。本発明の範囲にて、より高い次
数の電気的／磁気的多極場が使用されてよい。
【００３１】上述の高分解能対物レンズ装置の特徴は、
特に低電圧領域における低収差係数にある。従って、こ
の対物レンズ装置は、図９に例として示されているよう
な電子線装置に使用されると特に都合がよい。この装置
は、基本的に電子線を発生するソース１０と対物レンズ
装置１２とを有する。更に詳細に図示されていない開口
に加えて、特にブランキング装置１３が設けられてい
る。
【００３２】対物レンズ装置１２は図１から図８Ｂの例
に従って構成されることができる。図示の例では、電子
線１１を試験片１５上に偏向させるために電界レンズの
領域に偏向装置１４が設けられている。
【００３３】２次電子用分光器を挿入することによっ
て、対物レンズは電子線探針器（プロービング）又は電
子線試験器に使用されると都合がよい。
【００３４】電極を管状電極として構成することによっ
て、電界レンズ２はスノーケルレンズとして設計される
ことができる。このレンズは小さな径であるため、特に
試験片の近傍にて大きな空間が得られ、この空間は試験
片の傾斜に使用されるばかりでなく、検出器及び他の装
置の装着に使用されることができる。
【００３５】試験片の位置における電場の強さは、２次
電子の抽出及びインレンズ又はプレレンズ検出器への移
送のために使用される。この電場の強さは、第１の電極
２０が第２の電極２１に浸かる深さを異ならしめること
によって又は第２の電極２１の下端における開口の寸法
を適当に選択することによって、所定の条件に従って調
節されることができる。
【００３６】図６Ａから図８Ｂの例のようなスロット化
された電極２１の構造によって、次のような可能性が得
られる。１次電子線の偏向又は補正のための又は２次電
子に影響を与えるためのビームに影響を与える要素は、
極めて空間節約的に、互いに容易に結合されることがで
きる。なぜなら、それは単に多極要素又は電極に印加す
る適当な電圧が付加的に必要となるだけだからである。
その結果、多機能要素は極めて容易に対物レンズに統合
され、これは従来の装置では空間が不足するため通常不
可能であった。
【００３７】以上、本発明の実施の形態について詳細に
説明してきたが、本発明は上述の例に限ることなく本発
明の要旨を逸脱することなく他の種々の構成が採り得る
ことは当業者にとって容易に理解されよう。
【００３８】
【発明の効果】本発明によると、低収差係数を達成する
ことができるように既知の対物レンズ装置を改良するこ
とができる利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による対物レンズ装置の第１の例の概略
を示す図である。
【図２】本発明による対物レンズ装置の第２及び第３の
例の概略を示す図である。
【図３】本発明による対物レンズ装置の電界レンズを異
なる態様にて配置した例を示す図である。
【図４】本発明による対物レンズ装置の電界レンズの第
２の例の概略図である。
【図５】本発明による対物レンズ装置の電界レンズの第
３の例の概略図である。
【図６】図６Ａは本発明による電気的多極要素を形成す
るスロット化された電極を供えた電界レンズの概略を示
す図であり、図６Ｂは図６Ａの電界レンズを下方から見
た図である。
【図７】図７Ａは本発明による電気的及び磁気的多極を
有する電界レンズの第１の例の概略を示す図であり、図
７Ｂは図７Ａの電界レンズを下方から見た図である。
【図８】図８Ａは本発明による電気的及び磁気的多極を
有する電界レンズの第２の例の概略を示す図であり、図
８Ｂは図８Ａの電界レンズを下方から見た図である。
【図９】本発明による粒子線装置の概略を示す図であ
る。
【符号の説明】
１，１’ 磁気レンズ ２，２’，２” 電界レンズ ３ 光軸 ４ 粒子線 ５，５’ 開口 １０ ソース １１ 電子線 １２ 対物レンズ装置 １３ ブランキング装置 １４ 偏向装置 １５ 試験片 ２０，２１，２１’，２１”，２２ 電極 ２３，２３’，２３” レンズ場

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 単極の磁気レンズ（１；１’）と互いに
    異なる電位が付与されることができる第１及び第２の電
    極（２０，２１）を有する電界レンズ（２）とを供え、
    粒子線、特に電子線に影響を与えるための対物レンズ装
    置において、 上記電界レンズ（２）は上記粒子線（４）の方向に上記
    単極の磁気レンズ（１；１’）より後に配置されている
    ことを特徴とする対物レンズ装置。
  2. 【請求項２】 上記第１の電極（２０）は管状電極とし
    て構成され、上記単極の磁気レンズ（１；１’）を通過
    しその下端（２０ａ）が上記単極の磁気レンズ（１；
    １’）より突出するように構成されていることを特徴と
    する請求項１記載の対物レンズ装置。
  3. 【請求項３】 上記第１及び第２の電極（２０、２１）
    は管状電極として構成されていることを特徴とする請求
    項１記載の対物レンズ装置。
  4. 【請求項４】 上記第１の電極（２０）は上記単極の磁
    気レンズ（１；１’）を通過し、上記第２の電極（２
    １）は上記第１の電極と共軸的に配置されていることを
    特徴とする請求項３記載の対物レンズ装置。
  5. 【請求項５】 上記単極の磁気レンズ（１；１’）と上
    記第１及び第２の電極（２０、２１）は光軸（３）周り
    に回転対称的に配置され、上記第１及び第２の電極（２
    ０、２１）は上記光軸（３）方向に互いに他に対して変
    位可能であることを特徴とする請求項１記載の対物レン
    ズ装置。
  6. 【請求項６】 上記第２の電極（２１）は上記単極の磁
    気レンズ（１；１’）より遠い方の下端（２１ａ）に開
    口（５；５’）を有することを特徴とする請求項３記載
    の対物レンズ装置。
  7. 【請求項７】 上記第１及び第２の電極（２０、２１）
    の一方の電極はスロット化構造を有し、電気的多極要素
    （２１ｃ−２１ｆ）が形成されていることを特徴とする
    請求項３記載の対物レンズ装置。
  8. 【請求項８】 上記電極（２１）のスロット化部分は静
    電偏向器として構成されていることを特徴とする請求項
    ７記載の対物レンズ装置。
  9. 【請求項９】 上記電極（２１）のスロット化部分はス
    チグマチック結像器として構成されていることを特徴と
    する請求項７記載の対物レンズ装置。
  10. 【請求項１０】 上記電気的多極（２１ｃ−２１ｆ）に
    対して磁気的多極（６ａ−６ｄ）が重畳されていること
    を特徴とする請求項７記載の対物レンズ装置。
  11. 【請求項１１】 上記電界レンズ（２）は上記粒子線に
    対して減速レンズとして機能することを特徴とする請求
    項１記載の対物レンズ装置。
  12. 【請求項１２】 電気的／磁気的直交双極横断場を形成
    するように上記電気的及び磁気的多極（２１ｃ、２１
    ｄ、６ａ、６ｂ）が配置されていることを特徴とする請
    求項１０記載の対物レンズ装置。
  13. 【請求項１３】 電気的／磁気的直交４極横断場を形成
    するように上記４つの電気的及び磁気的多極（２１ｃ、
    ２１ｄ、２１ｅ、２１ｆ、６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄ）が
    配置されていることを特徴とする請求項１０記載の対物
    レンズ装置。
JP23305698A 1997-09-29 1998-08-19 対物レンズ装置 Expired - Fee Related JP4130500B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP97116910A EP0910109B1 (de) 1997-09-29 1997-09-29 Objektivlinse
DE97116910:7 1997-09-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11126571A true JPH11126571A (ja) 1999-05-11
JP4130500B2 JP4130500B2 (ja) 2008-08-06

Family

ID=8227415

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23305698A Expired - Fee Related JP4130500B2 (ja) 1997-09-29 1998-08-19 対物レンズ装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6104034A (ja)
EP (1) EP0910109B1 (ja)
JP (1) JP4130500B2 (ja)
DE (1) DE59711915D1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003532256A (ja) * 2000-04-24 2003-10-28 フェイ カンパニ 走査電子顕微鏡の対物レンズを通した二次電子の捕集

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6051839A (en) * 1996-06-07 2000-04-18 Arch Development Corporation Magnetic lens apparatus for use in high-resolution scanning electron microscopes and lithographic processes
JP2992688B2 (ja) * 1998-05-19 1999-12-20 セイコーインスツルメンツ株式会社 複合荷電粒子ビーム装置
US6858843B1 (en) * 2002-06-21 2005-02-22 Kla-Tencor Technologies Corporation Immersion objective lens for e-beam inspection
DE10317894B9 (de) 2003-04-17 2007-03-22 Leo Elektronenmikroskopie Gmbh Fokussiersystem für geladene Teilchen, Elektronenmikroskopiesystem und Elektronenmikroskopieverfahren
DE102004037781A1 (de) 2004-08-03 2006-02-23 Carl Zeiss Nts Gmbh Elektronenstrahlgerät
JP2007012516A (ja) * 2005-07-01 2007-01-18 Jeol Ltd 荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子ビームを用いた試料情報検出方法
US7446320B1 (en) 2005-08-17 2008-11-04 Kla-Tencor Technologies Corproation Electronically-variable immersion electrostatic lens
EP2267753A3 (en) * 2005-11-28 2011-01-26 Carl Zeiss SMT AG Particle-optical component
US8698093B1 (en) 2007-01-19 2014-04-15 Kla-Tencor Corporation Objective lens with deflector plates immersed in electrostatic lens field
DE102007010873B4 (de) * 2007-03-06 2009-07-30 Carl Zeiss Nts Gmbh Objektivlinse
US8319192B2 (en) * 2010-08-24 2012-11-27 Hermes Microvision Inc. Charged particle apparatus
EP2629317B1 (en) * 2012-02-20 2015-01-28 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Charged particle beam device with dynamic focus and method of operating thereof
EP4022669A4 (en) * 2019-08-30 2023-10-11 Scienta Omicron AB ELECTROSTATIC LENS FOR CONTROLLING AN ELECTRON BEAM
KR102821024B1 (ko) * 2023-08-04 2025-06-18 한국표준과학연구원 대물 렌즈 및 이를 포함하는 하전 입자선 장치

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4789787A (en) * 1987-05-27 1988-12-06 Microbeam Inc. Wien filter design
US5663560A (en) * 1993-09-20 1997-09-02 Hitachi, Ltd. Method and apparatus for mass analysis of solution sample
US5644132A (en) * 1994-06-20 1997-07-01 Opan Technologies Ltd. System for high resolution imaging and measurement of topographic and material features on a specimen
US5614833A (en) * 1994-10-25 1997-03-25 International Business Machines Corporation Objective lens with large field deflection system and homogeneous large area secondary electron extraction field
US5780859A (en) * 1996-02-16 1998-07-14 Act Advanced Circuit Testing Gesellschaft Electrostatic-magnetic lens arrangement
DE19605855A1 (de) * 1996-02-16 1997-08-21 Act Advanced Circuit Testing Detektorobjektiv für Korpuskularstrahlgeräte
EP0821393B1 (en) * 1996-07-25 1999-06-16 ACT Advanced Circuit Testing Gesellschaft für Testsystementwicklung mbH Detector objective lens
US5942758A (en) * 1997-09-10 1999-08-24 Bruker Daltronics, Inc. Shielded lens

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003532256A (ja) * 2000-04-24 2003-10-28 フェイ カンパニ 走査電子顕微鏡の対物レンズを通した二次電子の捕集

Also Published As

Publication number Publication date
US6104034A (en) 2000-08-15
JP4130500B2 (ja) 2008-08-06
EP0910109B1 (de) 2004-09-15
DE59711915D1 (de) 2004-10-21
EP0910109A1 (de) 1999-04-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6614026B1 (en) Charged particle beam column
US4896036A (en) Detector objective for scanning microscopes
JP2701034B2 (ja) 粒子線測定装置のスペクトロメータ対物レンズ
JP4130500B2 (ja) 対物レンズ装置
US7034315B2 (en) Particle source with selectable beam current and energy spread
CN102468104B (zh) 带有集成静电能量过滤器的带电粒子源
JP2006510184A (ja) 多重軸複合レンズ、その複合レンズを用いたビーム系、およびその複合レンズの使用方法
JP4133602B2 (ja) 荷電粒子ビーム装置における収差補正方法および荷電粒子ビーム装置
JP2010519698A (ja) 高スループットｓｅｍツール
EP1057203B1 (en) Particle-optical apparatus involving detection of auger electrons
US6246058B1 (en) Correction device for correcting chromatic aberration in particle-optical apparatus
US7135677B2 (en) Beam guiding arrangement, imaging method, electron microscopy system and electron lithography system
WO1998012732A1 (en) Correction device for correcting chromatic aberration in particle-optical apparatus
US6617579B2 (en) Scanning electronic beam apparatus
JP3787091B2 (ja) 荷電粒子ビーム装置のためのカラム
JP3899317B2 (ja) 粒子ビーム装置のための偏向システム
JPH1064464A (ja) 検出器対物レンズ装置
US6107633A (en) Electron beam lens
JP4642966B2 (ja) 粒子線装置
US7605378B2 (en) Charged-particle beam system
JP2002134051A (ja) 電磁界重畳型レンズ及びこれを用いた電子線装置
JP2007505452A (ja) 荷電粒子ビーム系用の単段式荷電粒子ビームエネルギー幅低減系
US6624426B2 (en) Split magnetic lens for controlling a charged particle beam
JP3288239B2 (ja) 電子線装置
JP2004355822A (ja) 荷電粒子ビーム装置における収差補正方法および荷電粒子ビーム装置

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20010926

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20011010

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050601

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071017

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071023

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071213

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071213

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080212

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080401

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080513

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080522

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110530

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110530

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120530

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees