JPH1112677A - 極低マンガン合金の製造方法 - Google Patents
極低マンガン合金の製造方法Info
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- JPH1112677A JPH1112677A JP16645897A JP16645897A JPH1112677A JP H1112677 A JPH1112677 A JP H1112677A JP 16645897 A JP16645897 A JP 16645897A JP 16645897 A JP16645897 A JP 16645897A JP H1112677 A JPH1112677 A JP H1112677A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】マンガン含有量が０．０５重量％以下の合金
（ＳＵＳ３１６Ｌ）を安価に製造する。 【解決手段】マンガン含有量［Mn］が０．０６〜０．３
０重量％の消耗電極を用い、得るべき鋳塊の直径をＤ
（mm）、溶解中の真空度をＰ（Pa）としたとき、下記
式または式を満たす溶解速度Ｖ（kg／min ）で真空ア
ーク再溶解する。 0.06≦［Mn］≦0.15の場合 0.2 ≦Ｖ≦{0.0002・D/P・([Mn]-0.05)}+2.7 ・・・・ 0.15＜［Mn］≦0.30の場合 0.2 ≦Ｖ≦{(0.013・D/P)+16.7}(0.3-[Mn])+0.2 ・・・・
（ＳＵＳ３１６Ｌ）を安価に製造する。 【解決手段】マンガン含有量［Mn］が０．０６〜０．３
０重量％の消耗電極を用い、得るべき鋳塊の直径をＤ
（mm）、溶解中の真空度をＰ（Pa）としたとき、下記
式または式を満たす溶解速度Ｖ（kg／min ）で真空ア
ーク再溶解する。 0.06≦［Mn］≦0.15の場合 0.2 ≦Ｖ≦{0.0002・D/P・([Mn]-0.05)}+2.7 ・・・・ 0.15＜［Mn］≦0.30の場合 0.2 ≦Ｖ≦{(0.013・D/P)+16.7}(0.3-[Mn])+0.2 ・・・・
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、普通鋼、特殊鋼お
よびステンレス鋼に代表されるＦｅ基合金やＮｉ基合金
などの合金であり、合金中のマンガン含有量が０．０５
重量％以下であることが要求される極低マンガン合金の
製造方法に関する。
よびステンレス鋼に代表されるＦｅ基合金やＮｉ基合金
などの合金であり、合金中のマンガン含有量が０．０５
重量％以下であることが要求される極低マンガン合金の
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体や液晶の製造分野においては、近
年、高集積化がより一層進んでおり、例えば超ＬＳＩと
称されるデバイスの製造では、サブミクロン単位の微細
パターンの加工が必要とされている。しかし、上記のよ
うな超ＬＳＩの製造プロセスでは、微少な塵や微量の不
純物ガスが配線パターンに付着すると回路が短絡し、不
良品になる。
年、高集積化がより一層進んでおり、例えば超ＬＳＩと
称されるデバイスの製造では、サブミクロン単位の微細
パターンの加工が必要とされている。しかし、上記のよ
うな超ＬＳＩの製造プロセスでは、微少な塵や微量の不
純物ガスが配線パターンに付着すると回路が短絡し、不
良品になる。
【０００３】従って、使用される反応ガスには、高純度
で、しかもガス中に存在する微粒子（パーティクル）が
少ないものであることが要求される。このため、反応ガ
スの供給管路を構成する管材およびその付属部材には、
その内表面から放出されるパーティクルの発生が極力少
ないものであることが要求される。
で、しかもガス中に存在する微粒子（パーティクル）が
少ないものであることが要求される。このため、反応ガ
スの供給管路を構成する管材およびその付属部材には、
その内表面から放出されるパーティクルの発生が極力少
ないものであることが要求される。
【０００４】また、半導体製造用ガスとしては、窒素、
アルゴンなどの不活性ガス以外に、塩化水素や臭化水素
などの極めて腐食性の強いガスも数多く使用される。こ
のため、上記の管材やその付属部材用の材料には、耐食
性が良好で、腐食生成物である金属化合物などのパーテ
ィクルが材料表面から発生しないものであることが要求
される。
アルゴンなどの不活性ガス以外に、塩化水素や臭化水素
などの極めて腐食性の強いガスも数多く使用される。こ
のため、上記の管材やその付属部材用の材料には、耐食
性が良好で、腐食生成物である金属化合物などのパーテ
ィクルが材料表面から発生しないものであることが要求
される。
【０００５】上記の材料としては、通常、オーステナイ
ト系ステンレス鋼が使用され、なかでも不純物元素の含
有量を規制することによって非金属介在物量を低減し、
材料表面から放出されるパーティクルの発生を減少させ
るようにしたＳＵＳ３１６Ｌが主に使用されている。
ト系ステンレス鋼が使用され、なかでも不純物元素の含
有量を規制することによって非金属介在物量を低減し、
材料表面から放出されるパーティクルの発生を減少させ
るようにしたＳＵＳ３１６Ｌが主に使用されている。
【０００６】しかし、不純物元素のなかでもマンガン
は、蒸気圧が高いために管路製作に際しての溶接時に蒸
発し、溶接部の下流側管路内に堆積したり、パーティク
ルとして下流側に流れて汚染源となりやすい。
は、蒸気圧が高いために管路製作に際しての溶接時に蒸
発し、溶接部の下流側管路内に堆積したり、パーティク
ルとして下流側に流れて汚染源となりやすい。
【０００７】従って、従来にも増してマンガン含有量を
低減できると、下記の点で極めて優れた性能を有するこ
とになる。
低減できると、下記の点で極めて優れた性能を有するこ
とになる。
【０００８】(a) 溶接時におけるマンガンヒュームの発
生が減少するために、パーティクルの発生量が少なくな
る。 (b) 管内面に対するマンガンヒュームの付着量が少なく
なるために、耐食性が向上する。 (c) 美麗な溶接ビードが得られる。 (d) 材料自体の耐食性が向上する。
生が減少するために、パーティクルの発生量が少なくな
る。 (b) 管内面に対するマンガンヒュームの付着量が少なく
なるために、耐食性が向上する。 (c) 美麗な溶接ビードが得られる。 (d) 材料自体の耐食性が向上する。
【０００９】ところで、上記の管材やその付属部材の素
材となるＳＵＳ３１６Ｌに代表される合金は、従来か
ら、主として真空再溶解プロセスにより製造されてい
る。
材となるＳＵＳ３１６Ｌに代表される合金は、従来か
ら、主として真空再溶解プロセスにより製造されてい
る。
【００１０】すなわち、真空誘導溶解法による一次溶解
後、消耗電極式の真空アーク再溶解法や電子ビーム溶解
法による二次溶解を行って製造されている（例えば、特
開平７−９０４７２号公報参照）。
後、消耗電極式の真空アーク再溶解法や電子ビーム溶解
法による二次溶解を行って製造されている（例えば、特
開平７−９０４７２号公報参照）。
【００１１】しかし、上記の真空再溶解プロセスによっ
てマンガン含有量が０．０５重量％以下の合金を製造し
ようとする場合には、二次溶解の素材である消耗電極に
低マンガン材料、具体的にはマンガン含有量が少なくと
も０．０６重量％未満のものを用いる必要があった。
てマンガン含有量が０．０５重量％以下の合金を製造し
ようとする場合には、二次溶解の素材である消耗電極に
低マンガン材料、具体的にはマンガン含有量が少なくと
も０．０６重量％未満のものを用いる必要があった。
【００１２】その理由は、１回の二次真空溶解で所望の
鋳塊を製造するために、得るべき鋳塊のマンガン含有量
に併せてマンガン含有量が可級的に低い消耗電極を用い
るのであるが、この場合、通常の真空アーク再溶解では
マンガンがほとんど減少しないためである。
鋳塊を製造するために、得るべき鋳塊のマンガン含有量
に併せてマンガン含有量が可級的に低い消耗電極を用い
るのであるが、この場合、通常の真空アーク再溶解では
マンガンがほとんど減少しないためである。
【００１３】従って、上記の一次溶解において、マンガ
ン含有量が少なくとも０．０６重量％未満の低マンガン
材料を製造する必要があり、そのためには一次溶解に供
する原材料としてマンガン含有量の低い高品位な高価な
ものを用いる必要がある。また、高品位な原材料を用い
ない場合には、一次溶解時にコストのかかる特別な脱マ
ンガン処理を施す必要がある。このため、製品の製造コ
ストが著しく高くなるという問題があった。
ン含有量が少なくとも０．０６重量％未満の低マンガン
材料を製造する必要があり、そのためには一次溶解に供
する原材料としてマンガン含有量の低い高品位な高価な
ものを用いる必要がある。また、高品位な原材料を用い
ない場合には、一次溶解時にコストのかかる特別な脱マ
ンガン処理を施す必要がある。このため、製品の製造コ
ストが著しく高くなるという問題があった。
【００１４】なお、真空下での再溶解におけるマンガン
含有量の制御方法としては、溶解中の溶融合金からのマ
ンガン蒸発量を変化させるべく、真空度を制御する方法
がある（特公平７−０８１１７１号公報参照）。しか
し、その公報中には、マンガン含有量が０．０５重量％
以下という極低マンガン合金を低コストで製造するため
の具体的方法については、一切示されていない。
含有量の制御方法としては、溶解中の溶融合金からのマ
ンガン蒸発量を変化させるべく、真空度を制御する方法
がある（特公平７−０８１１７１号公報参照）。しか
し、その公報中には、マンガン含有量が０．０５重量％
以下という極低マンガン合金を低コストで製造するため
の具体的方法については、一切示されていない。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点を解決するためになされたもので、その課題は、一次
溶解においてマンガン含有量の低い高品位な原材料を用
いる必要がなく、しかもコストのかかる特別な脱マンガ
ン処理を施さずとも容易に製造することが可能なマンガ
ン含有量の比較的高い電極を用いて、マンガン含有量が
０．０５重量％以下の鋳塊を製造することができる極低
マンガン合金の製造方法を提供することにある。
点を解決するためになされたもので、その課題は、一次
溶解においてマンガン含有量の低い高品位な原材料を用
いる必要がなく、しかもコストのかかる特別な脱マンガ
ン処理を施さずとも容易に製造することが可能なマンガ
ン含有量の比較的高い電極を用いて、マンガン含有量が
０．０５重量％以下の鋳塊を製造することができる極低
マンガン合金の製造方法を提供することにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、次の極
低マンガン合金の製造方法にある。
低マンガン合金の製造方法にある。
【００１７】消耗電極式真空溶解法を用いて、マンガン
含有量が０．０５重量％以下の極低マンガン合金を製造
する方法であって、前記の消耗電極にマンガン含有量
［Mn］が０．０６〜０．３０重量％のものを用いるとと
もに、溶解炉の真空度を１０Ｐａ未満に設定したうえ
で、得るべき鋳塊の直径をＤ（ｍｍ）、溶解中の真空度
をＰ（Ｐａ）としたとき、下記式または式を満たす
溶解速度Ｖ（ｋｇ／ｍｉｎ）で再溶解することを特徴と
する極低マンガン合金の製造方法。
含有量が０．０５重量％以下の極低マンガン合金を製造
する方法であって、前記の消耗電極にマンガン含有量
［Mn］が０．０６〜０．３０重量％のものを用いるとと
もに、溶解炉の真空度を１０Ｐａ未満に設定したうえ
で、得るべき鋳塊の直径をＤ（ｍｍ）、溶解中の真空度
をＰ（Ｐａ）としたとき、下記式または式を満たす
溶解速度Ｖ（ｋｇ／ｍｉｎ）で再溶解することを特徴と
する極低マンガン合金の製造方法。
【００１８】０．０６≦［Mn］≦０．１５の場合
【００１９】
【数３】
【００２０】０．１５＜［Mn］≦０．３０の場合
【００２１】
【数４】
【００２２】上記の本発明では、マンガン含有量が０．
０５重量％以下の極低マンガン合金を安価に製造する方
法として、一次真空溶解においては安価な原材料を使用
して得られる比較的高いマンガン含有量［Mn］の消耗電
極を用い、二次溶解においてマンガンの蒸発をより積極
的に行わせる方法に着目した。
０５重量％以下の極低マンガン合金を安価に製造する方
法として、一次真空溶解においては安価な原材料を使用
して得られる比較的高いマンガン含有量［Mn］の消耗電
極を用い、二次溶解においてマンガンの蒸発をより積極
的に行わせる方法に着目した。
【００２３】具体的には、真空度Ｐ、用いる消耗電極の
マンガン含有量［Mn］および得るべき鋳塊の直径Ｄに応
じて消耗電極の溶解速度Ｖを調整することによって、二
次真空溶解中の溶融合金中からのマンガン蒸発を促進さ
せてマンガン含有量が０．０５重量％以下の極低マンガ
ン合金を得ることを特徴とする。
マンガン含有量［Mn］および得るべき鋳塊の直径Ｄに応
じて消耗電極の溶解速度Ｖを調整することによって、二
次真空溶解中の溶融合金中からのマンガン蒸発を促進さ
せてマンガン含有量が０．０５重量％以下の極低マンガ
ン合金を得ることを特徴とする。
【００２４】
【発明の実施の形態】まず、本発明方法で得るべき合金
について説明すると、その合金はマンガン含有量が０．
０５重量％以下の普通鋼、特殊鋼およびステンレス鋼に
代表されるＦｅ基合金やＮｉ基合金であり、マンガン以
外の成分含有量については特に規制されない。
について説明すると、その合金はマンガン含有量が０．
０５重量％以下の普通鋼、特殊鋼およびステンレス鋼に
代表されるＦｅ基合金やＮｉ基合金であり、マンガン以
外の成分含有量については特に規制されない。
【００２５】本発明方法の重要な特徴は、一次真空溶解
において安価な原材料を使用して得られたマンガン含有
量［Mn］の比較的高い消耗電極を二次真空再溶解する
際、溶解中の真空度Ｐ（Ｐａ）、得るべき鋳塊の直径Ｄ
（ｍｍ）および消耗電極のマンガン含有量［Mn］（重量
％）に応じて消耗電極の溶解速度Ｖ（ｋｇ／ｍｉｎ）を
調整することにより、溶融合金中からのマンガンの蒸発
を促進させて０．０５重量％以下のマンガン含有量を有
する鋳塊を得ることにある。
において安価な原材料を使用して得られたマンガン含有
量［Mn］の比較的高い消耗電極を二次真空再溶解する
際、溶解中の真空度Ｐ（Ｐａ）、得るべき鋳塊の直径Ｄ
（ｍｍ）および消耗電極のマンガン含有量［Mn］（重量
％）に応じて消耗電極の溶解速度Ｖ（ｋｇ／ｍｉｎ）を
調整することにより、溶融合金中からのマンガンの蒸発
を促進させて０．０５重量％以下のマンガン含有量を有
する鋳塊を得ることにある。
【００２６】この時、溶解炉の真空度は１０Ｐａ未満に
設定する一方、消耗電極にはマンガン含有量［Mn］が
０．０６〜０．３０重量％のものを用いる必要がある。
また、消耗電極の溶解速度Ｖ（ｋｇ／ｍｉｎ）は、その
マンガン含有量［Mn］に応じて上記の式または式を
満たす速度に設定する必要がある。
設定する一方、消耗電極にはマンガン含有量［Mn］が
０．０６〜０．３０重量％のものを用いる必要がある。
また、消耗電極の溶解速度Ｖ（ｋｇ／ｍｉｎ）は、その
マンガン含有量［Mn］に応じて上記の式または式を
満たす速度に設定する必要がある。
【００２７】ここで、溶解炉の真空度を１０Ｐａ未満に
設定しておく必要があるのは、次の理由による。
設定しておく必要があるのは、次の理由による。
【００２８】すなわち、マンガンは、蒸気圧の高い元素
であり、真空下において蒸発しやすい。そして、その蒸
発速度は、炉内の真空度とマンガン蒸気圧の差によって
異なり、その差が小さいほど、換言すれば炉の真空度が
低いほど遅くなり、真空度が１０Ｐａ以上ではその蒸発
速度が遅くなりすぎて溶解に長時間かかり、工業的でな
くなる。また、１０Ｐａ以上の真空度では、グロー放電
が生じる危険性があり、再溶解自体が困難になる。この
ため、本発明では、溶解炉の真空度を１０Ｐａ未満に設
定することとした。
であり、真空下において蒸発しやすい。そして、その蒸
発速度は、炉内の真空度とマンガン蒸気圧の差によって
異なり、その差が小さいほど、換言すれば炉の真空度が
低いほど遅くなり、真空度が１０Ｐａ以上ではその蒸発
速度が遅くなりすぎて溶解に長時間かかり、工業的でな
くなる。また、１０Ｐａ以上の真空度では、グロー放電
が生じる危険性があり、再溶解自体が困難になる。この
ため、本発明では、溶解炉の真空度を１０Ｐａ未満に設
定することとした。
【００２９】また、消耗電極にはマンガン含有量［Mn］
が０．０６〜０．３０重量％のものを用いる必要があ
り、その溶解速度Ｖは上記の式または式を満たす値
に設定する必要がある。これらは、以下に示す基礎実験
の結果による。
が０．０６〜０．３０重量％のものを用いる必要があ
り、その溶解速度Ｖは上記の式または式を満たす値
に設定する必要がある。これらは、以下に示す基礎実験
の結果による。
【００３０】真空アーク再溶解炉（ＶＡＲ炉）を用い
て、マンガン含有量［Mn］（重量％）が種々異なるＳＵ
Ｓ３１６Ｌ製の消耗電極を素材とし、直径Ｄが５００ｍ
ｍと８００ｍｍの鋳塊を得るに当たり、炉内の真空度Ｐ
を０．３Ｐａと１．０Ｐａに設定したうえで、消耗電極
の溶解速度Ｖ（ｋｇ／ｍｉｎ）を種々変えて二次真空ア
ーク溶解を行い、得られた鋳塊のマンガン含有量を調査
した。
て、マンガン含有量［Mn］（重量％）が種々異なるＳＵ
Ｓ３１６Ｌ製の消耗電極を素材とし、直径Ｄが５００ｍ
ｍと８００ｍｍの鋳塊を得るに当たり、炉内の真空度Ｐ
を０．３Ｐａと１．０Ｐａに設定したうえで、消耗電極
の溶解速度Ｖ（ｋｇ／ｍｉｎ）を種々変えて二次真空ア
ーク溶解を行い、得られた鋳塊のマンガン含有量を調査
した。
【００３１】図１〜図３は、その調査結果を示し、溶解
中の炉内真空度Ｐ、得るべき鋳塊の直径Ｄ、並びに消耗
電極のマンガン含有量［Mn］と溶解速度Ｖとが得られた
鋳塊のマンガン含有量に及ぼす影響を示す図である。そ
して、図中には、得られた鋳塊のマンガン含有量が０．
０５重量％以下であった場合を「○」印、０．０５重量
％超であった場合を「▲」印で示してある。
中の炉内真空度Ｐ、得るべき鋳塊の直径Ｄ、並びに消耗
電極のマンガン含有量［Mn］と溶解速度Ｖとが得られた
鋳塊のマンガン含有量に及ぼす影響を示す図である。そ
して、図中には、得られた鋳塊のマンガン含有量が０．
０５重量％以下であった場合を「○」印、０．０５重量
％超であった場合を「▲」印で示してある。
【００３２】図１〜図３から明らかなように、いずれの
場合も、マンガン含有量［Mn］が０．３０重量％以下の
消耗電極を用い、その溶解速度Ｖを自身のマンガン含有
量［Mn］に応じて定まる所定の値以下にして再溶解する
と、マンガン含有量が０．０５重量％以下の鋳塊が得ら
れることがわかる。
場合も、マンガン含有量［Mn］が０．３０重量％以下の
消耗電極を用い、その溶解速度Ｖを自身のマンガン含有
量［Mn］に応じて定まる所定の値以下にして再溶解する
と、マンガン含有量が０．０５重量％以下の鋳塊が得ら
れることがわかる。
【００３３】具体的に説明すると、図１〜図３に示す結
果をまとめて溶解中の炉内真空度Ｐおよび得るべき鋳塊
の直径Ｄをも考慮し、マンガン含有量が０．０５重量％
以下の鋳塊を得ることが可能な消耗電極の溶解速度Ｖの
上限値を式で表すと、その上限値は、消耗電極のマンガ
ン含有量［Mn］が０．０６〜０．１５重量％の場合、下
記式で表される値になる。また、消耗電極のマンガン
含有量［Mn］が０．１５重量％超０．３０重量％以下の
場合、その溶解速度Ｖの上限値は下記式で表される値
になる。
果をまとめて溶解中の炉内真空度Ｐおよび得るべき鋳塊
の直径Ｄをも考慮し、マンガン含有量が０．０５重量％
以下の鋳塊を得ることが可能な消耗電極の溶解速度Ｖの
上限値を式で表すと、その上限値は、消耗電極のマンガ
ン含有量［Mn］が０．０６〜０．１５重量％の場合、下
記式で表される値になる。また、消耗電極のマンガン
含有量［Mn］が０．１５重量％超０．３０重量％以下の
場合、その溶解速度Ｖの上限値は下記式で表される値
になる。
【００３４】
【数５】
【００３５】
【数６】
【００３６】なお、図１〜図３に示す実験結果によれ
ば、消耗電極のマンガン含有量［Mn］が０．０６重量％
の場合、真空度Ｐの値が小さくなるにつれて、溶解速度
Ｖの上限は無限大に近づくが、実際には、偏析などの鋳
塊品質を考慮すると、２０ｋｇ／ｍｉｎを超える溶解速
度Ｖでの溶解は避けるべきである。
ば、消耗電極のマンガン含有量［Mn］が０．０６重量％
の場合、真空度Ｐの値が小さくなるにつれて、溶解速度
Ｖの上限は無限大に近づくが、実際には、偏析などの鋳
塊品質を考慮すると、２０ｋｇ／ｍｉｎを超える溶解速
度Ｖでの溶解は避けるべきである。
【００３７】また、マンガンの蒸発促進には、より低い
溶解速度Ｖであることが望ましい。しかし、例えば、一
般的に工業的と見なされる５００ｋｇ以上の鋳塊を製造
するためには、溶解速度Ｖを０．２ｋｇ／ｍｉｎ未満に
したのでは４２時間以上かかり、実用的でない。
溶解速度Ｖであることが望ましい。しかし、例えば、一
般的に工業的と見なされる５００ｋｇ以上の鋳塊を製造
するためには、溶解速度Ｖを０．２ｋｇ／ｍｉｎ未満に
したのでは４２時間以上かかり、実用的でない。
【００３８】さらに、図１〜図３に示すように、消耗電
極のマンガン含有量［Mn］が０．３０重量％の場合に、
マンガン含有量が０．０５重量％以下の鋳塊を得ること
が可能な消耗電極の溶解速度Ｖの上限値は０．２ｋｇ／
ｍｉｎに漸近することがわかる。
極のマンガン含有量［Mn］が０．３０重量％の場合に、
マンガン含有量が０．０５重量％以下の鋳塊を得ること
が可能な消耗電極の溶解速度Ｖの上限値は０．２ｋｇ／
ｍｉｎに漸近することがわかる。
【００３９】一方、消耗電極のマンガン含有量［Mn］が
０．０５重量％以下の場合については、再溶解時のマン
ガンピックアップがないことから、その他の条件の如何
に係わらず鋳塊のマンガン含有量は０．０５重量％以下
になる。
０．０５重量％以下の場合については、再溶解時のマン
ガンピックアップがないことから、その他の条件の如何
に係わらず鋳塊のマンガン含有量は０．０５重量％以下
になる。
【００４０】以上のことから、本発明では、マンガン含
有量［Mn］が０．０６〜０．３０重量％の消耗電極を用
いるとともに、その溶解速度Ｖを上記の式または式
を満たす範囲内に定めることとした。
有量［Mn］が０．０６〜０．３０重量％の消耗電極を用
いるとともに、その溶解速度Ｖを上記の式または式
を満たす範囲内に定めることとした。
【００４１】
【実施例】真空アーク再溶解炉（ＶＡＲ炉）を用いて、
マンガン含有量［Mn］が種々異なる外径が１３０〜６９
０ｍｍのＳＵＳ３１６Ｌ製からなる２１種類の消耗電極
を素材とし、溶解中の真空度Ｐと消耗電極の溶解速度Ｖ
とを種々変えて種々異なる外径Ｄの鋳塊を製造した。
マンガン含有量［Mn］が種々異なる外径が１３０〜６９
０ｍｍのＳＵＳ３１６Ｌ製からなる２１種類の消耗電極
を素材とし、溶解中の真空度Ｐと消耗電極の溶解速度Ｖ
とを種々変えて種々異なる外径Ｄの鋳塊を製造した。
【００４２】そして、得られた鋳塊の長手方向中央部の
Ｄ／４位置から試験片を採取してマンガン含有量を調べ
た。その結果を、用いた消耗電極のマンガン含有量［M
n］、溶解中の真空度Ｐおよび消耗電極の溶解速度Ｖと
併せて表１に示した。
Ｄ／４位置から試験片を採取してマンガン含有量を調べ
た。その結果を、用いた消耗電極のマンガン含有量［M
n］、溶解中の真空度Ｐおよび消耗電極の溶解速度Ｖと
併せて表１に示した。
【００４３】
【表１】
【００４４】表１に示すように、本発明の方法に従って
製造して得られた本発明例の鋳塊（No. １〜１４）は、
いずれもマンガン含有量が０．０５重量％以下であっ
た。
製造して得られた本発明例の鋳塊（No. １〜１４）は、
いずれもマンガン含有量が０．０５重量％以下であっ
た。
【００４５】これに対し、消耗電極の溶解速度Ｖが本発
明で規定する範囲外の条件で製造して得られた比較例の
鋳塊（No. １５〜２１）は、いずれもマンガン含有量が
０．０６重量％以上であった。
明で規定する範囲外の条件で製造して得られた比較例の
鋳塊（No. １５〜２１）は、いずれもマンガン含有量が
０．０６重量％以上であった。
【００４６】
【発明の効果】本発明によれば、マンガン含有量が０．
０５重量％以下の極低マンガン合金を安定して製造する
ことができる。また、素材である消耗電極にマンガン含
有量の比較的高いものを用いることができ、製造コスト
の低減が図れる。
０５重量％以下の極低マンガン合金を安定して製造する
ことができる。また、素材である消耗電極にマンガン含
有量の比較的高いものを用いることができ、製造コスト
の低減が図れる。
【図１】溶解中の真空度が０．３Ｐａ、鋳塊の直径が５
００ｍｍの場合における消耗電極の溶解速度とマンガン
含有量とが鋳塊のマンガン含有量に及ぼす影響を示す図
である。
００ｍｍの場合における消耗電極の溶解速度とマンガン
含有量とが鋳塊のマンガン含有量に及ぼす影響を示す図
である。
【図２】溶解中の真空度が１Ｐａ、鋳塊の直径が５００
ｍｍの場合における消耗電極の溶解速度とマンガン含有
量とが鋳塊のマンガン含有量に及ぼす影響を示す図であ
る。
ｍｍの場合における消耗電極の溶解速度とマンガン含有
量とが鋳塊のマンガン含有量に及ぼす影響を示す図であ
る。
【図３】溶解中の真空度が１Ｐａ、鋳塊の直径が８００
ｍｍの場合における消耗電極の溶解速度とマンガン含有
量とが鋳塊のマンガン含有量に及ぼす影響を示す図であ
る。
ｍｍの場合における消耗電極の溶解速度とマンガン含有
量とが鋳塊のマンガン含有量に及ぼす影響を示す図であ
る。
Claims (1)
- 【請求項１】消耗電極式真空溶解法を用いて、マンガン
含有量が０．０５重量％以下の極低マンガン合金を製造
する方法であって、前記の消耗電極にマンガン含有量
［Mn］が０．０６〜０．３０重量％のものを用いるとと
もに、溶解炉の真空度を１０Ｐａ未満に設定したうえ
で、得るべき鋳塊の直径をＤ（ｍｍ）、溶解中の真空度
をＰ（Ｐａ）としたとき、下記式または式を満たす
溶解速度Ｖ（ｋｇ／ｍｉｎ）で再溶解することを特徴と
する極低マンガン合金の製造方法。 ０．０６≦［Mn］≦０．１５の場合 【数１】 ０．１５＜［Mn］≦０．３０の場合 【数２】
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|---|---|---|---|
| JP16645897A JP4000628B2 (ja) | 1997-06-24 | 1997-06-24 | 極低マンガン合金の製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16645897A JP4000628B2 (ja) | 1997-06-24 | 1997-06-24 | 極低マンガン合金の製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1112677A true JPH1112677A (ja) | 1999-01-19 |
| JP4000628B2 JP4000628B2 (ja) | 2007-10-31 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16645897A Expired - Fee Related JP4000628B2 (ja) | 1997-06-24 | 1997-06-24 | 極低マンガン合金の製造方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP4000628B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008272790A (ja) * | 2007-04-27 | 2008-11-13 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 真空アーク溶解法による鋳塊の製造方法 |
| CN112342455A (zh) * | 2020-10-28 | 2021-02-09 | 湖南华菱湘潭钢铁有限公司 | 一种工业纯铁的冶炼方法 |
-
1997
- 1997-06-24 JP JP16645897A patent/JP4000628B2/ja not_active Expired - Fee Related
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