JPH11128374A - 赤外線治療装置 - Google Patents

赤外線治療装置

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JPH11128374A
JPH11128374A JP29559197A JP29559197A JPH11128374A JP H11128374 A JPH11128374 A JP H11128374A JP 29559197 A JP29559197 A JP 29559197A JP 29559197 A JP29559197 A JP 29559197A JP H11128374 A JPH11128374 A JP H11128374A
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Japan
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infrared
sole
footrest
base
treatment
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JP29559197A
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Toshihiko Hazama
俊彦 間
Keiji Morozumi
慶治 両角
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 リラックスした状態で快適に足裏に対する遠
赤外線の治療効果を得ることができる赤外線治療装置を
提供すること。 【解決手段】 赤外線治療装置1は、赤外線を上方の足
裏に対して照射可能な赤外線照射部5と、この赤外線照
射部5を収納するほぼカップ状ベース部2と、このベー
ス部2の開口部7aおよび7bに形成された足載部3お
よび4を有している。ベース部2の底壁6cには、床面
との設置面が平坦な平坦面31と、下に向かって湾曲し
た湾曲面32が形成されている。この湾曲面32を介し
て足裏50の動きに追従して装置全体を旋回させること
ができる。従って、足裏50の動きの規制が解消され、
リラックスした状態で快適に足裏50に対する赤外線治
療を行うことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、赤外線治療に用い
られる赤外線治療装置に関し、特に、足裏を赤外線治療
するのに適した赤外線治療装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】足裏は身体の各部に関連したつぼが多く
点在する部位であり、この足裏に対する遠赤外線の温熱
効果が注目されている。足裏に対して遠赤外線を照射可
能な赤外線治療装置は、遠赤外線を照射可能な赤外線照
射部と、足裏を載置可能な足載部とを有し、足載部に載
せた足裏に対して、下方に設置された赤外線照射部から
遠赤外線を照射することによって、足裏に対する温熱効
果が得られるようになっている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】遠赤外線による温熱効
果は、患部に対して所定の時間継続して遠赤外線を照射
することにより十分な効果が得られることが知られてい
る。このため、ユーザは、患部を動かさないように同じ
姿勢を保ち続ける必要がある。しかし、足裏を赤外線治
療する場合に、足載部に載せた足裏を動かさないように
維持すると、各ユーザが一番楽な姿勢をとることが難し
くなり、赤外線治療の効果が低くなる。また、各ユーザ
が好きな体勢をとれないのでは、赤外線治療を受ける意
欲がなくなり、赤外線治療装置の使用頻度も低下するこ
とになる。
【0004】そこで、本発明においては、治療効果の高
い足裏をリラックスした状態で快適に赤外線治療を行う
ことのできる赤外線治療装置を提供することを目的とし
ている。また、ユーザの好みの体勢で快適に治療を行え
ると共に、足裏に対する赤外線の温熱効果を十分に得る
ことができる赤外線治療装置を提供することも本発明の
目的の一つである。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明では、足載部をつま先方向または踵方向の少
なくともいずれか一方に旋回可能とすることにより、足
載部に載せた足裏の動きに応じてその足載部が旋回する
ようにして、足裏を動かしながら赤外線治療を行えるよ
うにしている。すなわち、本発明の赤外線治療装置は、
足裏を搭載し、赤外線を照射可能な足載部を有し、この
足載部がつま先方向または踵方向の少なくとも一方に旋
回可能となっている。
【0006】本発明の赤外線治療装置では、足裏の動き
に伴って足裏部が旋回するので、ユーザは足裏を動かし
ながら赤外線治療を受けることができる。このため、足
裏の動きの制約を解消できるので、ユーザに負荷のない
楽な姿勢または好みの姿勢で足載部に足裏を載せること
ができる。従って、リラックスした状態で快適に赤外線
治療を受けることができる。
【0007】足載部を旋回可能とするためには、足載部
を透過して赤外線を照射可能な赤外線照射部を収納した
ベース部を設け、このベース部の底壁を少なくとも踵方
向に凸状に湾曲させれば良い。このようにして足載部を
旋回可能にすると、足裏の動きの伴って、足載部および
ベース部、すなわち、赤外線照射部および足載部を一体
に旋回させることができる。このため、足裏部に載置し
た足裏に対して、赤外線照射部から常に一定の方向から
赤外線を照射できると共に、赤外線照射部から足裏まで
の距離が一定に保つことができる。従って、足裏を動か
しも常に一定強度の赤外線を照射することができるの
で、治療中に足裏を動かせると共に遠赤外線による温熱
効果を十分に得ることができる。また、ベース部の底壁
の形状を凸にすることにより旋回できるようになってい
るので、複雑な機構が不要であり、本発明の赤外線治療
装置は、高い治療効果が得られると共に簡易な構成を実
現でき、さらに、低コストで提供できる。
【0008】また、足裏部を旋回可能とするために、ベ
ース部に対して足載部を旋回可能に支持するようにして
も良い。このように構成した場合には、足裏部のみが足
裏の動きに応じて旋回し、赤外線照射部を収納したベー
ス部は床面に確実に設置された状態となる。このため、
赤外線治療装置を床面に対して安定な状態に設置するこ
とができる。
【0009】遠赤外線による温熱効果と指圧による効果
を同時に得ることにより、さらに効果的な治療効果を得
ることができる。このためには、足載部に対して、ほぼ
鉛直方向に延びた複数の支持板によって赤外線が透過す
る複数のスリットを形成すると共に、複数の支持板によ
って足載側に凹凸を形成することが望ましい。このよう
に鉛直方向に延びた複数の支持板によって赤外線が透過
するスリットを形成すると、隣合う支持板の間から足裏
に向かって多量の赤外線を照射できる。このため、赤外
線治療するのに十分な量の赤外線を足裏に照射すること
ができ、足裏を効果的に赤外線治療することができる。
また、それぞれの支持板の足載側の部分の形状を波状や
鋸歯状にしておけば、足裏を載置する部分に凹凸が形成
され、足裏に対する指圧効果も得ることができる。ま
た、温熱効果と指圧による効果を同時に得るその他の方
法としては、例えば、足載部に複数の突起を設けると共
に突起に赤外線照射部からの赤外線が足裏に照射される
ように透過穴を設ける方法が考えられる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下に、図面を参照して本発明を
適用した赤外線治療装置を説明する。図1には赤外線治
療装置の斜視図を示してあり、図2および図3は、それ
ぞれ、赤外線治療装置の側面図および平面図である。ま
た、図4および図5に赤外線治療装置の内部の概略構成
を断面図を用いて示してある。
【0011】図1乃至図3に示すように、本例の赤外線
治療装置1は、床面に設置可能な湾曲した湾曲面32、
床面に対する設置面が平坦な平坦面31、およびほぼ垂
直な側面33を備えた半円柱で内部が空洞となり、上方
が開口となったカップ状のベース部2を有している。こ
のベース部2の上方の開口部に、足裏を搭載でき、搭載
した左右のそれぞれの足裏に対して赤外線を照射可能な
足載部3および4が形成され、足裏部3および4につま
先がY方向、踵がX方向となるように足裏を載せて赤外
線治療が行えるようになっている。本例の赤外線治療装
置1では、さらに、ベース部2は、その踵方向Xの底部
が湾曲してこの方向に旋回可能なので、ベース部2と足
載部3および4が一体となって踵方向Xに旋回可能とな
っている。また、ベース部2の内部には足載部3および
4を透過して赤外線を照射可能な赤外線照射部5が収納
されており、足載部3および4に載せた足裏に対して下
方から遠赤外線を中心とした赤外線を照射して、赤外線
による温熱効果が得られるようになっている。
【0012】図4および図5に詳しく示すように、ベー
ス部2は、平坦面31、湾曲面32および側面33を形
成するボトムカバー6と、このボトムカバー6の上部に
被せられ、足載部3および4の枠取りをするトップカバ
ー7から構成され、これらのカバーによって形成された
中空の内部に赤外線を照射可能な赤外線照射部5が収納
されている。この赤外線照射部5は、ボトムカバー6の
底壁6cから上方に向かって垂直に延びたリフレクタカ
ラー8によって所定の高さに支持されたリフレクター9
を備えている。このリフレクター9は足載部3および4
の下方に位置しており、上方に赤外線を反射するように
湾曲している。このリフレクター9の底面には足裏の形
状に対応した断面が楕円形状の2つの赤外線照射板10
および11が設けられており、赤外線照射板10および
11から放射された赤外線がリフレクター9によって上
方に位置する足裏に向かって照射されるようになってい
る。赤外線照射板10および11の形状は足裏の形状に
対応したものとなっており、足裏全体に対して万遍なく
一定強度に赤外線を照射できると共に赤外線照射板10
および11からの赤外線を効率良く足裏に照射できるよ
うになっている。
【0013】各赤外線照射板10および11は、加熱さ
れることにより遠赤外線を中心とした赤外線を放射可能
な赤外線放射材が含有された耐熱塗料が塗布された発熱
体である。これらの赤外線照射板10および11は、そ
れぞれ断熱材12および13を介してリフレクター9の
底面に固定され、各赤外線照射板10および11で発生
した熱が断熱材12および13によってベース部2に伝
達することを効果的に抑制あるいは防止することがで
き、ベース部2の外側が高温になるのを防いでいる。
【0014】また、リフレクター9の裏面側には、リフ
レクター9の裏面から下方に向かって垂直に延びたカラ
ー14を介してサーモスタット15が設置されている。
すなわち、リフレクター9の裏面と最も熱負荷が加わる
ボトムカバー6の底壁6cの中央部との間にサーモスタ
ット15を設置して、サーモスタット15の検出結果が
所定の温度以上になると、強制的に赤外線照射板10お
よび11への供給電力が停止されて、ベース部2の外側
の温度が高温にならないような機能となっている。
【0015】なお、2つの赤外線照射板10および11
は、個別運転可能であり、両方の足裏を治療する場合に
は、双方の赤外線照射板10および11をオン状態とし
て使用でき、片方の足裏のみを治療する場合には、一方
の赤外線照射板のみをオン状態として使用できるように
なっており、治療の形態に応じた赤外線治療ができるよ
うになっている。
【0016】図1および図3に示すように、本例の赤外
線治療装置1では、ベース部2のトップカバー7によっ
て枠取りされた2つの長方形をした開口部7aおよび7
bにそれぞれ足載部3および4が構成され、足載部3に
載置した足裏に対してはほぼ赤外線照射板10からの赤
外線が足裏部3を透過して照射され、足載部4に載置し
た足裏に対してはほぼ赤外線照射板11からの赤外線が
足裏部4を透過して照射される。
【0017】各足裏部3および4は複数の支持板20を
備え、複数の支持板20は、足裏を支持できる程度の強
度を有する材質で形成されている。また、それぞれの支
持板20は、長方形の板の一方の長辺部を波形に加工し
たものであり、その波形に加工された長辺部が足載側に
位置するようにトップカバー6の開口部7aおよび7b
に所定の間隔で取り付けられている。隣合う支持板20
の間の細長い隙間は、赤外線照射部5からの赤外線が透
過するためのスリット20aとなって、このスリット2
0aはユーザの足あるいはその一部がベース部5の内部
にあやまって入り込むことがなく、その一方で治療に際
して十分な赤外線を透過できる程度の開口率に設定され
ている。また、各支持板20によって足載部3および4
の足載側は凹凸になっている。さらに、それぞれの支持
板20の波形に加工された一方の長辺部は上方に向かっ
て若干アーチ状に形成されており、足載部3および4
は、全体して足裏の形状に対応した形状になって、土踏
まずの部分を含めて足裏全体が足載部3および4に支持
されているようになっている。このため、本例の赤外線
治療装置1では、足載部3および4の下方に位置する赤
外線照射部5からのスリット20aを介して効率良く足
裏全体に赤外線を照射できると共に、各支持板20によ
って足裏に対して指圧による刺激とほぼ同様な刺激を与
えることができる。
【0018】本例の赤外線治療装置1において、ベース
部2のボトムカバー6の底壁6cは、そのつま先方向Y
のほぼ半分の部分が床面に対し平坦となった平坦面31
となり、残りの踵方向Yの部分が湾曲面32となってい
る。このため、図6(A)に示すように、足載部3およ
び4に対して真上から足裏50を載せて治療を行ってい
る最中に、足裏50の踵51に力を加えると、湾曲面3
2を介して赤外線治療装置1の全体が足裏の動きに追従
して踵方向Xに旋回し、図6(B)に示すように、赤外
線治療装置1の全体が踵方向Xに傾斜した状態に保持さ
れる。逆に、図6(B)に示すように、赤外線治療装置
1を傾斜させた状態で治療を行っている最中に、足裏5
0のつま先52に力を加えると、湾曲面32を介して赤
外線治療装置1の全体が足裏50の動きに追従してつま
先方向Yに旋回する。この時、ベース部2の底壁6cに
は床面に対し平坦な平坦面31が形成されているので、
この平坦面31によってつま先方向Yは水平以上には旋
回せず、不自然な姿勢になるのを防止している。このた
め、赤外線治療装置1は、図6(A)に示すように、初
期の状態に保持される。
【0019】このように本例の赤外線治療装置1では、
足裏50の動きに追従して赤外線治療装置1の全体、す
なわち、足載部3および4と赤外線照射部2を収納した
ベース部2を一体に踵方向Xに旋回させることができる
ので、足裏50を動かしながらあるいは足裏50を適当
な角度にあげた状態で赤外線治療を行うことができる。
従って、ユーザは、足裏50が床面と水平になるような
定められた姿勢ではなく、自分が楽な姿勢でリラックス
した状態で快適に赤外線治療を受けることができる。ま
た、足載部3および4の足載側が複数の支持板20によ
って凹凸状にされているので、本例の赤外線治療装置1
を用いて赤外線治療を行うことにより、温熱効果および
指圧効果による相乗的な効果が期待できる。
【0020】また、本例の赤外線治療装置1において
は、足裏50の動きに追従して装置全体が旋回するの
で、赤外線照射部5と足裏50との距離を常に一定の保
つことができると共に、足裏50に対する赤外線の照射
方向も常に一定に保つことができる。すなわち、足裏5
0に照射される赤外線の強度を一定に保つことができる
ので、足裏50を動かしながら赤外線治療を受けても、
赤外線による温熱効果を充分に得ることができる。さら
に、本例の赤外線治療装置1においては、ベース部2の
ボトムカバー6の底壁6cの一部の形状を湾曲にするこ
とによって足載部3および4を旋回させるようにしてい
るので、複雑な旋回機構を構成する場合に比べて、足載
部3および4を足裏の動きに追従して旋回させることの
できる赤外線治療装置を簡易に構成でき、さらに、低コ
ストで提供できる。
【0021】本例の赤外線治療装置1においては、ベー
ス部2のボトムカバー6の底壁6cに湾曲面32の他に
床面に対する設置面が平坦な平坦面31を設けてあるの
で、つま先方向Yへの旋回が拘束され、足がつま先52
を下にして延びた足裏50が足載部3および4に密着し
にくく、不安定な状態にはならないようにしている。こ
のため、足載部3および4に足裏50をほぼ真上から載
せた場合の装置の姿勢を安定に保つことができる。この
点からも本例の赤外線治療装置1によれば、リラックス
した状態で快適に足裏に対する赤外線治療を行うことが
できる。
【0022】なお、図7に示すように、ベース部2の底
部6cの全体が湾曲面32とされた赤外線治療装置1a
であっても本発明の範囲を逸脱するものではなく、足裏
の角度を適当に設定してユーザに適したリラックスした
状態で赤外線治療を受けることができる。図7に示す赤
外線治療装置1aにおいて、赤外線治療装置1と共通す
る機能を有する部分には同符号を付して、その説明は省
略する。
【0023】本例の赤外線治療装置1aは、単独の足載
部3を有し、この足載部3は複数の支持板20を備えて
いる。本例では、複数の支持板20を網目状に組み合わ
せることにより、赤外線照射部5からの赤外線を透過す
るためのスリット20bはその断面が正方形となるよう
に形成されている。このようなスリット20bを備えた
足載部3においても、赤外線発生部5から放射された赤
外線を足裏に対して赤外線を効率良く照射できる高い開
口率を確保でき、赤外線発生部5から放射された赤外線
を効率良く利用できると共に足裏に対して多量の赤外線
を照射することができ、足裏に対する赤外線の温熱効果
を確実に得ることができる。また、本例においても、各
支持板20の足載側は、波形に加工されており、足裏を
局所的に押圧して、遠赤外線による温熱効果と共に指圧
による効果も同時に得ることができるようになってい
る。
【0024】以上に例示した赤外線治療装置1、1aは
共に装置全体、すなわち、足載部および赤外線照射部が
一体となって旋回する形態の赤外線治療装置であるが、
本発明の赤外線治療装置はベース部に対して足載部のみ
が旋回する形態であっても良い。図8に赤外線照射部に
対して足載部のみが旋回する形態の赤外線治療装置の側
面図を示してある。また、図9および図10にその赤外
線治療装置の内部の概略構成を断面図を用いて示してあ
る。なお、前述した赤外線治療装置1と共通する部分に
は同符号を付して、その説明は省略する。
【0025】これらの図に示すように、本例の赤外線治
療装置1bは、2つの独立した赤外線照射部5aおよび
5bを収納したベース部2aに対して2つの足載部3a
および4aがつま先方向Yおよび踵方向Xに一体となっ
て旋回する形態となっている。ベース部2aは床面に対
する設置面が平坦となったボトムカバー6aと足載部3
aおよび4aをつま先方向Yおよび踵方向Xに旋回可能
に支持するトップカバー7aから構成されている。この
ベース部2aの内部には、左右対称に配列されたリフレ
クター9aおよび9bが設置され、各リフレクター9a
および9bに断熱材12および13を介して赤外線照射
板10および11が取り付けられている。ベース部2a
のトップカバー7aには、上方に向かって左右対称に延
びる板状の支持部7bが形成されている。この支持部7
bの先端部が足載部3aおよび4aの枠取りをする底面
が湾曲で上方が開口となったカップ状のアッパーケース
27の側面につま先方向Yおよび踵方向Xに旋回可能に
連結され、この連結部分を結んだ直線Lを軸線として、
アッパーケース27がベース部2aに対してつま先方向
Yおよび踵方向Xに旋回可能となっている。
【0026】足載部3aおよび4aは、アッパーケース
27の上方の開口部に構成され、図1を参照に説明した
赤外線治療装置1と同様に、複数の支持板20によって
赤外線を透過するスリット20aが形成されていると共
に足載側に凹凸になるように形成されている。
【0027】このような本例の赤外線治療装置1bにお
いても、足載部3aおよび4aに載置した足裏の動きに
追従して足載部3aおよび4aをつま先方向Yおよび踵
方向Xに旋回させることができるので、足裏を動かしな
がら赤外線治療を行うことができる。このため、足裏を
動かしながら赤外線治療を行うことができ、リラックス
した状態で快適に赤外線治療を受けることができる。こ
れに加えて、本例の赤外線治療装置1bにおいては、足
載部3aおよび4aのみが旋回し、ベース部2aは床面
に設置されたままであるので、装置を床面に対して安定
した状態で設置できるという利点がある。
【0028】なお、本例の赤外線治療装置1bにおいて
も、足載部3aおよび4aの旋回範囲を制限することは
可能である。また、左右に分割された2つの足載部3a
および4aを設ける代わりに、単独の足載部を設けても
良い。
【0029】以上説明した赤外線治療装置1、1aおよ
び1bでは、いずれも独立した2枚の赤外線照射板を使
用しているが、大面積の1枚の赤外線照射板を使用して
も勿論良い。また、赤外線照射板およびリフレクターを
備えた形態を採用しているが、足載部の表面に遠赤外線
を照射可能なセラミック等を含む塗料を塗布し、足載部
自体から赤外線を照射するようにしても良い。さらに、
足載部に支持板によってスリットを形成する代わりに、
網目状の部材等を取り付けても良い。但し、複数の支持
板によって赤外線が透過するスリットを形成すると、隣
合う支持板の間が赤外線の透過口となるので、赤外線治
療するのに十分な量の赤外線を足裏に照射することがで
き、効果的な赤外線治療を行える。
【0030】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の赤外線治
療装置では、足裏を搭載し、その足裏に対して赤外線を
照射可能な足載部を、つま先方向または踵方向の少なく
ともいずれか一方に旋回可能にすることにより、足裏の
動きに追従して足裏部が旋回するようにしている。従っ
て、治療中に足裏を動かしながら赤外線治療を受けるこ
とができると共に足裏に対して赤外線照射部からの赤外
線を確実に照射することができる。従って、ユーザは、
治療中の足裏の動きの規制が解消されるので、リラック
スした状態で快適に赤外線治療を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を適用した赤外線治療装置の斜視図であ
る。
【図2】図1に示す赤外線治療装置の側面図である。
【図3】図1に示す赤外線治療装置の平面図である。
【図4】図1に示す赤外線治療装置の内部の概略断面構
成図である。
【図5】図4とは異なる部分における概略断面構成図で
ある。
【図6】図1に示す赤外線治療装置の使用状態を示す説
明図である。
【図7】図1に示す赤外線治療装置の変形例を示す図で
ある。
【図8】本発明を適用した赤外線治療装置の別の例を示
す側面図である。
【図9】図8に示す赤外線治療装置の内部の概略断面構
成図である。
【図10】図9とは異なる部分における概略断面構成図
である。
【符号の説明】
1、1a、1b 赤外線治療装置 2、2a ベース部 3、4、3a、4a 足載部 5、5a、5b 赤外線発生部 6、6a ボトムカバー 7、7a トップカバー 7b 支持部 9、9a、9b リフレクター 10、11 赤外線照射板 12、13 断熱材 20 支持板 20a、20b スリット 27 アッパーケース 31 平坦面 32 湾曲面 33 側面

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 足裏を搭載し、赤外線を照射可能な足載
    部を有し、この足載部がつま先方向または踵方向の少な
    くともいずれか一方に旋回可能であることを特徴とする
    赤外線治療装置。
  2. 【請求項2】 請求項1において、前記足載部を透過し
    て赤外線を照射可能な赤外線照射部を収納したベース部
    を有し、このベース部の底壁が少なくとも踵方向に凸状
    に湾曲していることを特徴とする赤外線治療装置。
  3. 【請求項3】 請求項1において、前記足載部を透過し
    て赤外線を照射可能な赤外線照射部を収納したベース部
    を有し、このベース部に対して前記足載部が旋回可能に
    支持されていることを特徴とする赤外線治療装置。
  4. 【請求項4】 請求項2または3において、前記足載部
    は、ほぼ鉛直方向に延びた複数の支持板によって赤外線
    が透過する複数のスリットが形成されていると共に、前
    記複数の支持板によって足載側が凹凸になっていること
    を特徴とする赤外線治療装置。
JP29559197A 1997-10-28 1997-10-28 赤外線治療装置 Pending JPH11128374A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020026933A (ko) * 2002-03-19 2002-04-12 나용균 발용 적외선 장치
WO2013027384A1 (ja) * 2011-08-22 2013-02-28 パナソニック株式会社 光治療装置

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