JPH11130754A - ピラゾール誘導体及びその合成法と利用法 - Google Patents
ピラゾール誘導体及びその合成法と利用法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】新規なビピラゾール化合物及びそのニッケル錯
体、及びそれらの容易な製造法の提供 【解決手段】式1(式中、R1 はH、C1-6 の、飽和又
は不飽和の脂肪族炭化水素残基;未置換の又は置換され
たフェニル基、2−ピリジル基、2−ピリミジル基、ベ
ンジル基又はシンナミル基を表わし;R2 は水素原子、
C1-4 アルキル基、(C1-4 アルコキシ)カルボニル
基、モノ又はジ(C1-4 アルキル)アミノカルボニル
基、(C1-4 アルキル)カルボニル基、未置換の又は置
換されたフェニルカルボニル基、C1-4 アルキルチオ
基、シアノ基又はニトロ基を表わし、Xは塩素原子、フ
ッ素原子、メチル基、フェニル基、メトキシ基又はフェ
ノキシ基を表わす。)で表されるビピラゾール化合物。
このビピラゾール化合物は、金属イオンを水溶液中で錯
化して溶媒抽出する金属抽出剤、医・農薬等の中間体及
び接触反応での触媒の配位子として有用である。 【化1】
体、及びそれらの容易な製造法の提供 【解決手段】式1(式中、R1 はH、C1-6 の、飽和又
は不飽和の脂肪族炭化水素残基;未置換の又は置換され
たフェニル基、2−ピリジル基、2−ピリミジル基、ベ
ンジル基又はシンナミル基を表わし;R2 は水素原子、
C1-4 アルキル基、(C1-4 アルコキシ)カルボニル
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換されたフェニルカルボニル基、C1-4 アルキルチオ
基、シアノ基又はニトロ基を表わし、Xは塩素原子、フ
ッ素原子、メチル基、フェニル基、メトキシ基又はフェ
ノキシ基を表わす。)で表されるビピラゾール化合物。
このビピラゾール化合物は、金属イオンを水溶液中で錯
化して溶媒抽出する金属抽出剤、医・農薬等の中間体及
び接触反応での触媒の配位子として有用である。 【化1】
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、金属イオンを水溶
液中で錯化して溶媒抽出する金属抽出剤、医・農薬等の
中間体、接触反応での触媒の配位子として有用なビピラ
ゾール化合物及びその製造法に関するものである。そし
てこのビピラゾール化合物の製造中間体である、ピラゾ
ール基が配位したニッケル錯体及びその製造法に関する
ものである。
液中で錯化して溶媒抽出する金属抽出剤、医・農薬等の
中間体、接触反応での触媒の配位子として有用なビピラ
ゾール化合物及びその製造法に関するものである。そし
てこのビピラゾール化合物の製造中間体である、ピラゾ
ール基が配位したニッケル錯体及びその製造法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】水溶液中で金属イオンに配位して金属イ
オンを溶媒抽出可能にする金属抽出剤としては、窒素、
燐、酸素、硫黄等を含む配位子化合物が数多く知られて
いる(例えば、特開平6−192753号公報)。ピラ
ゾ−ル誘導体もその一群であり、種々の金属錯体の配位
子化合物として広く用いられている(S.Trofie
menko,Chem.Rev.,1972,Vol.
72,497)。
オンを溶媒抽出可能にする金属抽出剤としては、窒素、
燐、酸素、硫黄等を含む配位子化合物が数多く知られて
いる(例えば、特開平6−192753号公報)。ピラ
ゾ−ル誘導体もその一群であり、種々の金属錯体の配位
子化合物として広く用いられている(S.Trofie
menko,Chem.Rev.,1972,Vol.
72,497)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】新しい配位子化合物を
合成し、金属イオン及び水溶液の状況に応じ最も適切な
金属配位剤を選択できるようにすることについては依然
として強い需要がある。
合成し、金属イオン及び水溶液の状況に応じ最も適切な
金属配位剤を選択できるようにすることについては依然
として強い需要がある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決すべく鋭意努力検討の結果、本発明の新規のビピラ
ゾール化合物が金属配位剤として有用であることを見い
だし、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は、式
1
解決すべく鋭意努力検討の結果、本発明の新規のビピラ
ゾール化合物が金属配位剤として有用であることを見い
だし、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は、式
1
【化10】 (式中、R1 は水素原子、炭素原子数1ないし6の、飽
和又は不飽和の直鎖、分枝又は環状の脂肪族炭化水素残
基;未置換の又はハロゲン原子、炭素原子数1ないし4
ののアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ
基、トリフルオロメチル基又はニトロ基により置換され
たフェニル基;2−ピリジル基、2−ピリミジル基、ベ
ンジル基又はシンナミル基を表わし;R2 は水素原子、
炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ない
し4のアルコキシカルボニル基、モノ又はジ−(炭素原
子数1ないし4のアルキル)アミノカルボニル基、炭素
原子数1ないし4のアルキルカルボニル基、未置換の又
はハロゲン原子、炭素原子数1ないし4ののアルキル
基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、トリフルオ
ロメチル基又はニトロ基により置換されたフェニルカル
ボニル基、炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基、シ
アノ基又はニトロ基を表わし、Xは塩素原子、フッ素原
子、メチル基、フェニル基、メトキシ基又はフェノキシ
基を表わす。)で表されるビピラゾール化合物;
和又は不飽和の直鎖、分枝又は環状の脂肪族炭化水素残
基;未置換の又はハロゲン原子、炭素原子数1ないし4
ののアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ
基、トリフルオロメチル基又はニトロ基により置換され
たフェニル基;2−ピリジル基、2−ピリミジル基、ベ
ンジル基又はシンナミル基を表わし;R2 は水素原子、
炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ない
し4のアルコキシカルボニル基、モノ又はジ−(炭素原
子数1ないし4のアルキル)アミノカルボニル基、炭素
原子数1ないし4のアルキルカルボニル基、未置換の又
はハロゲン原子、炭素原子数1ないし4ののアルキル
基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、トリフルオ
ロメチル基又はニトロ基により置換されたフェニルカル
ボニル基、炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基、シ
アノ基又はニトロ基を表わし、Xは塩素原子、フッ素原
子、メチル基、フェニル基、メトキシ基又はフェノキシ
基を表わす。)で表されるビピラゾール化合物;
【0005】式2
【化11】 (式中、R1 、R2 及びXは、上述と同じに定義され
る。)で表わされるニッケル錯体;
る。)で表わされるニッケル錯体;
【0006】式3
【化12】 (式中、R1、R2及びXは前記に同じであり、Yは塩素
原子、臭素原子又は沃素原子を表わす。)で表されるピ
ラゾ−ル化合物にニッケル化合物及び2,2’−ビピリ
ジンを反応させことにより、上述の式2で表わされるニ
ッケル錯体を合成後、その錯体を酸で分解することを特
徴とする上述の式1で表されるビピラゾール化合物の製
造法;
原子、臭素原子又は沃素原子を表わす。)で表されるピ
ラゾ−ル化合物にニッケル化合物及び2,2’−ビピリ
ジンを反応させことにより、上述の式2で表わされるニ
ッケル錯体を合成後、その錯体を酸で分解することを特
徴とする上述の式1で表されるビピラゾール化合物の製
造法;
【0007】上述の式3で表されるピラゾ−ル化合物と
ニッケル化合物及び2,2’−ビピリジンを反応させる
ことを特徴とする上述の式2で表わされるニッケル錯体
の製造法、および
ニッケル化合物及び2,2’−ビピリジンを反応させる
ことを特徴とする上述の式2で表わされるニッケル錯体
の製造法、および
【0008】上述の式2で表わされるニッケル錯体を、
酸で分解することを特徴とする上述の式1で表わされる
ビピラゾール化合物の製造法に関するものである。
酸で分解することを特徴とする上述の式1で表わされる
ビピラゾール化合物の製造法に関するものである。
【0009】
【発明の実施の形態】R1 及びR2 について説明する。
炭素原子数1ないし6の、飽和又は不飽和の直鎖、分枝
又は環状の脂肪族炭化水素残基としてのR1 の例として
は、メチル基、エチル基、i−プロピル基、シクロプロ
ピル基、n−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル
基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、アリル基、ク
ロチル基等が挙げられる。ハロゲン原子、炭素原子数1
ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコ
キシ基、トリフルオロメチル基又はニトロ基により置換
されたフェニル基としてのR1 の例としては、o−、m
−又はp−位がフッ素原子、塩素原子、メチル基、メト
キシ基、トリフルオロメチル基又はニトロ基等によって
置換されたフェニル基、例えばp−トリル基が挙げられ
る。炭素原子数1ないし4のアルキル基であるR2 の例
としては、メチル基、エチル基等が挙げられる。(炭素
原子数1ないし4のアルコキシ)カルボニル基であるR
2 の例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカル
ボニル基等が挙げられる。モノ又はジ−(炭素原子数1
ないし4のアルキル)アミノカルボニル基であるR2 の
例としては、モノメチルアミノカルボニル基、ジメチル
アミノカルボニル基等が挙げられる。(炭素原子数1な
いし4のアルキル)カルボニル基であるR2 の例として
は、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基等が挙げ
られる。ハロゲン原子、炭素原子数1ないし4ののアル
キル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、トリフ
ルオロメチル基又はニトロ基により置換されたフェニル
カルボニル基であるR2 の例としては、フェニルカルボ
ニル基、p−トリルカルボニル基等が挙げられる。炭素
原子数1ないし4のアルキルチオ基であるR2 の例とし
ては、メチルチオ基、エチルチオ等が挙げられる。
炭素原子数1ないし6の、飽和又は不飽和の直鎖、分枝
又は環状の脂肪族炭化水素残基としてのR1 の例として
は、メチル基、エチル基、i−プロピル基、シクロプロ
ピル基、n−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル
基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、アリル基、ク
ロチル基等が挙げられる。ハロゲン原子、炭素原子数1
ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコ
キシ基、トリフルオロメチル基又はニトロ基により置換
されたフェニル基としてのR1 の例としては、o−、m
−又はp−位がフッ素原子、塩素原子、メチル基、メト
キシ基、トリフルオロメチル基又はニトロ基等によって
置換されたフェニル基、例えばp−トリル基が挙げられ
る。炭素原子数1ないし4のアルキル基であるR2 の例
としては、メチル基、エチル基等が挙げられる。(炭素
原子数1ないし4のアルコキシ)カルボニル基であるR
2 の例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカル
ボニル基等が挙げられる。モノ又はジ−(炭素原子数1
ないし4のアルキル)アミノカルボニル基であるR2 の
例としては、モノメチルアミノカルボニル基、ジメチル
アミノカルボニル基等が挙げられる。(炭素原子数1な
いし4のアルキル)カルボニル基であるR2 の例として
は、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基等が挙げ
られる。ハロゲン原子、炭素原子数1ないし4ののアル
キル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、トリフ
ルオロメチル基又はニトロ基により置換されたフェニル
カルボニル基であるR2 の例としては、フェニルカルボ
ニル基、p−トリルカルボニル基等が挙げられる。炭素
原子数1ないし4のアルキルチオ基であるR2 の例とし
ては、メチルチオ基、エチルチオ等が挙げられる。
【0010】次に、式2のニッケル錯体の製造法につい
て説明する。ニッケル化合物の例は、 P.W.Jol
ly and G.Wilke著、「The Orga
nic Chemistry of Nickel」V
ol.I,Academic Press;New Y
ork(1974)に記載され、特にビス(1,5−シ
クロオクタジエン)ニッケル[Ni(cod)2]、ビ
ス(アセチルアセトナト)ニッケル[Ni(acac)
2]、テトラキス(トリフェニルホスフィン)ニッケル
[Ni(PPh3)4]、テトラカルボニルニッケル[N
i(CO)4]、ジカルボニルビス(トリフェニルホス
フィン)ニッケル[Ni(CO)2(PPh3)2]、エ
チレンビス(トリフェニルホスフィン)ニッケル[Ni
(C2H4)(PPh3)2]、(1,5,9−シクロドデ
カトリエン)ニッケル[Ni(C12H18)]、ビス(シ
クロペンタジエニル)ジ(μ−カルボニル)二ニッケル
[Ni(CO)2(C5H5)2]、(μ−二窒素)ビス
{ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)}ニッケル
[Ni2N2[P(C6H11)]3]、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ニッケル[Ni(C5H5)2]等が挙げら
れ、好ましくは、ビス(1,5−シクロオクタジエン)
ニッケルである。式3のピラゾ−ル化合物に対するとニ
ッケル化合物の量としては、0.5〜10倍モル量、好
ましくは、1〜3倍モル量が良い。
て説明する。ニッケル化合物の例は、 P.W.Jol
ly and G.Wilke著、「The Orga
nic Chemistry of Nickel」V
ol.I,Academic Press;New Y
ork(1974)に記載され、特にビス(1,5−シ
クロオクタジエン)ニッケル[Ni(cod)2]、ビ
ス(アセチルアセトナト)ニッケル[Ni(acac)
2]、テトラキス(トリフェニルホスフィン)ニッケル
[Ni(PPh3)4]、テトラカルボニルニッケル[N
i(CO)4]、ジカルボニルビス(トリフェニルホス
フィン)ニッケル[Ni(CO)2(PPh3)2]、エ
チレンビス(トリフェニルホスフィン)ニッケル[Ni
(C2H4)(PPh3)2]、(1,5,9−シクロドデ
カトリエン)ニッケル[Ni(C12H18)]、ビス(シ
クロペンタジエニル)ジ(μ−カルボニル)二ニッケル
[Ni(CO)2(C5H5)2]、(μ−二窒素)ビス
{ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)}ニッケル
[Ni2N2[P(C6H11)]3]、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ニッケル[Ni(C5H5)2]等が挙げら
れ、好ましくは、ビス(1,5−シクロオクタジエン)
ニッケルである。式3のピラゾ−ル化合物に対するとニ
ッケル化合物の量としては、0.5〜10倍モル量、好
ましくは、1〜3倍モル量が良い。
【0011】式3のピラゾ−ル化合物に対する2,2’
−ビピリジンの量は、0.5〜10倍モル量、好ましく
は、1〜3倍モル量である。なお、2,2’−ビピリジ
ンに換えて、低級アルキル基例えばメチル基、エチル基
又はイソプロピル基で置換された2,2’−ビピリジ
ン、例えば4,4’−又は6,6’−ジメチル−2,
2’−ビピリジンを使用することも可能である。この場
合、式2中の2,2’−ビピリジン基は上記のジアルキ
ル置換−2,2’−ビピリジンに換えられる。
−ビピリジンの量は、0.5〜10倍モル量、好ましく
は、1〜3倍モル量である。なお、2,2’−ビピリジ
ンに換えて、低級アルキル基例えばメチル基、エチル基
又はイソプロピル基で置換された2,2’−ビピリジ
ン、例えば4,4’−又は6,6’−ジメチル−2,
2’−ビピリジンを使用することも可能である。この場
合、式2中の2,2’−ビピリジン基は上記のジアルキ
ル置換−2,2’−ビピリジンに換えられる。
【0012】反応に使用される溶媒の例としては、非プ
ロトン極性溶媒例えば、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ア
セトニトリル等が挙げられ、好ましくは、N,N−ジメ
チルホルムアミドである。
ロトン極性溶媒例えば、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ア
セトニトリル等が挙げられ、好ましくは、N,N−ジメ
チルホルムアミドである。
【0013】反応は、上記の溶媒に上述のモル比量の式
3のピラゾール化合物、ニッケル化合物と2,2’−ビ
ピリジン化合物を添加し、攪拌により懸濁ないしは溶解
し、場合によっては加熱することにより実施される。反
応温度は、10〜100℃、好ましくは、40〜80℃
である。反応時間は、3〜48時間、好ましくは、12
〜36時間である。
3のピラゾール化合物、ニッケル化合物と2,2’−ビ
ピリジン化合物を添加し、攪拌により懸濁ないしは溶解
し、場合によっては加熱することにより実施される。反
応温度は、10〜100℃、好ましくは、40〜80℃
である。反応時間は、3〜48時間、好ましくは、12
〜36時間である。
【0014】分離法としては、例えば生成した固体を濾
過すれば良い。精製法としては、例えば、生成した固体
をアンモニア水、エチレンジアミン4酢酸水溶液及び水
で洗浄後、水溶性の溶媒例えばメタノール、エタノール
等のアルコールで洗浄し、普通は減圧下、乾燥すれば良
い。
過すれば良い。精製法としては、例えば、生成した固体
をアンモニア水、エチレンジアミン4酢酸水溶液及び水
で洗浄後、水溶性の溶媒例えばメタノール、エタノール
等のアルコールで洗浄し、普通は減圧下、乾燥すれば良
い。
【0015】このようにして得られたニッケル錯体は、
下記の実施例に示すX線解析により結晶構造を持つこと
が判明している。かくして、本発明は、下記の製造法に
も関する:上述の式3(式中、R1 はメチル基、R2 は
メトキシカルボニル基、Xは塩素原子、Yは塩素原子を
表わす。)で表されるピラゾ−ル化合物とニッケル化合
物及び2,2’−ビピリジンを反応させることを特徴と
する、X線解析の結果、ニッケル−窒素結合距離が1
9.47ナノメーター(1.947Å)、ニッケル−炭
素結合距離が約18.86ナメーター(1.886Å)
である化合物の製造法。上述の式3(式中、R1 はメチ
ル基、R2 はメトキシカルボニル基、Xは塩素原子、Y
は塩素原子を表わす。)で表されるピラゾ−ル化合物と
ニッケル化合物及び2,2’−ビピリジンを反応させ、
X線解析の結果、ニッケル−窒素結合距離が約19.4
7ナノメーター(1.947Å)、ニッケル−炭素結合
距離が約18.86ナメーター(1.886Å)である
化合物を得、次に該化合物を酸で分解することを特徴と
する、1H−NMR(90MHz,CDCl3,TMS)
の測定値がδ3.65(s,6H)及び3.72(s,
6H)である化合物の製造法。
下記の実施例に示すX線解析により結晶構造を持つこと
が判明している。かくして、本発明は、下記の製造法に
も関する:上述の式3(式中、R1 はメチル基、R2 は
メトキシカルボニル基、Xは塩素原子、Yは塩素原子を
表わす。)で表されるピラゾ−ル化合物とニッケル化合
物及び2,2’−ビピリジンを反応させることを特徴と
する、X線解析の結果、ニッケル−窒素結合距離が1
9.47ナノメーター(1.947Å)、ニッケル−炭
素結合距離が約18.86ナメーター(1.886Å)
である化合物の製造法。上述の式3(式中、R1 はメチ
ル基、R2 はメトキシカルボニル基、Xは塩素原子、Y
は塩素原子を表わす。)で表されるピラゾ−ル化合物と
ニッケル化合物及び2,2’−ビピリジンを反応させ、
X線解析の結果、ニッケル−窒素結合距離が約19.4
7ナノメーター(1.947Å)、ニッケル−炭素結合
距離が約18.86ナメーター(1.886Å)である
化合物を得、次に該化合物を酸で分解することを特徴と
する、1H−NMR(90MHz,CDCl3,TMS)
の測定値がδ3.65(s,6H)及び3.72(s,
6H)である化合物の製造法。
【0016】式2の酸により分解による式1のビピラゾ
ール化合物の製造法について説明する。使用する酸とし
ては、塩酸,硝酸等が挙げられる。その濃度としては、
5〜30重量%水溶液、好ましくは、10〜20重量%
水溶液が良い。ニッケル錯体に対する酸の量としては、
特に限定はないが、好ましくは、大過剰に用いれば良
い。酸分解温度としては、5〜50℃、好ましくは、1
0〜30℃が良い。酸分解時間としては、0.1〜5時
間、好ましくは、0.5〜2時間が良い。式2の錯塩の
酸による分解のための溶媒としては、普通水が挙げられ
る。
ール化合物の製造法について説明する。使用する酸とし
ては、塩酸,硝酸等が挙げられる。その濃度としては、
5〜30重量%水溶液、好ましくは、10〜20重量%
水溶液が良い。ニッケル錯体に対する酸の量としては、
特に限定はないが、好ましくは、大過剰に用いれば良
い。酸分解温度としては、5〜50℃、好ましくは、1
0〜30℃が良い。酸分解時間としては、0.1〜5時
間、好ましくは、0.5〜2時間が良い。式2の錯塩の
酸による分解のための溶媒としては、普通水が挙げられ
る。
【0017】生成した式1のビピラゾールの単離は、酸
で分解した反応液中に固体として生成した上記ビピラゾ
ールを濾過、水で洗浄後、所望により減圧下、乾燥する
ことにより行われる。
で分解した反応液中に固体として生成した上記ビピラゾ
ールを濾過、水で洗浄後、所望により減圧下、乾燥する
ことにより行われる。
【0018】
【実施例】以下、実施例及び参考例を挙げて本発明を更
に詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。実施例1 25mlのシュレンク管に、ビス(1,5−シクロオクタ
ジエン)ニッケル0.825g(3ミリモル)を秤量
し、ジメチルホルムアミド10ml及び2,2’−ビピリ
ジン0.469g(3ミリモル)を加え、攪拌し溶解さ
せた。この溶液に、3,5−ジクロロ−4−メトキシカ
ルボニル−1−メチルピラゾ−ル0.481g(2ミリ
モル)を加え、60℃で24時間攪拌した。生成した沈
殿を分離し、希アンモニア水で3回、エチレンジアミン
4酢酸水溶液(pH3及び9)で各3回、水で1回、更
にメタノ−ルで2回洗浄後、乾燥し式2(式中、R1 =
メチル基、R2 =メトキシカルボニル基、X=塩素原
子)の黄色粉末のニッケル錯体0.294gを得た。
に詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。実施例1 25mlのシュレンク管に、ビス(1,5−シクロオクタ
ジエン)ニッケル0.825g(3ミリモル)を秤量
し、ジメチルホルムアミド10ml及び2,2’−ビピリ
ジン0.469g(3ミリモル)を加え、攪拌し溶解さ
せた。この溶液に、3,5−ジクロロ−4−メトキシカ
ルボニル−1−メチルピラゾ−ル0.481g(2ミリ
モル)を加え、60℃で24時間攪拌した。生成した沈
殿を分離し、希アンモニア水で3回、エチレンジアミン
4酢酸水溶液(pH3及び9)で各3回、水で1回、更
にメタノ−ルで2回洗浄後、乾燥し式2(式中、R1 =
メチル基、R2 =メトキシカルボニル基、X=塩素原
子)の黄色粉末のニッケル錯体0.294gを得た。
【0019】以下に物性及び分析値を示す。 融点:〜300℃
【表1】 元素分析値 C H N Cl 実測値(%) 47.0 3.6 15.0 12.6 計算値(%) 46.5 3.4 14.9 12.3 マススペクトルによる分子量決定 実測値 560.0及び561にピ−ク 計算値 5601 H-NMR(90MHz,CDCl3,TMS):δ3.71(s,6H),3.93(s,6H),7.
91(m,4H),7.95(m,4H)
91(m,4H),7.95(m,4H)
【0020】有機溶媒に対する溶解性及び溶液の色調を
表1に示す。
表1に示す。
【表2】 表 1 ──────────────────────────────── 溶 媒 溶解性 色調 ──────────────────────────────── ジメチルホルムアミド + N−メチルピロリドン + ジメチルスルホキサイド + ギ 酸 ++ 黄色 ──────────────────────────────── 注)+ :目視による観察により数%溶解することを示す。 ++:目視による観察により数10%溶解することを示す。 又、アセトン、クロロベンゼン、クロロホルム、トルエ
ン、テトラヒドロフラン、メタノ−ル、n−ヘキサン、
ベンゼン、アセトニトリルには不溶であった。
ン、テトラヒドロフラン、メタノ−ル、n−ヘキサン、
ベンゼン、アセトニトリルには不溶であった。
【0021】「Rigaku AFC−5R」を用いた
X線解析の結果を示す。測定した結晶は、クロロホルム
/ヘキサンから再結晶した単斜晶系結晶であった。各原
子の結合関係を図1に示す。格子定数と他の定数を下記
する:
X線解析の結果を示す。測定した結晶は、クロロホルム
/ヘキサンから再結晶した単斜晶系結晶であった。各原
子の結合関係を図1に示す。格子定数と他の定数を下記
する:
【表3】a=11.712(5)Å b=13.896(5)Å c=14.875(8)Å β=96.70(4)Å V=2404(1)Å3 計算密度=1.553gcm3 F(000)=1152.R=4.3%,Rw=3.3
% 選択した結合距離と角度:結合距離、Ni−C(1.8
86Å)、NiN(1.947Å);角度、C(1)−
Ni(1)−C(1)87.8°、N(3)−Ni
(1)−N(3)82.6°、N(3)−Ni(1)−
C(1)95.3°。
% 選択した結合距離と角度:結合距離、Ni−C(1.8
86Å)、NiN(1.947Å);角度、C(1)−
Ni(1)−C(1)87.8°、N(3)−Ni
(1)−N(3)82.6°、N(3)−Ni(1)−
C(1)95.3°。
【0022】結合距離:Ni−C(1.886Å)、N
iN(1.947Å)は、高い電子受容性C6 F5 基を
持つ同類のbpy−Ni(II)であるNi(C6 F5 )
2 (bpy)(参照:Yamamoto,T;Abl
a,M.J.Organomet.Chem.,199
7,535,209)の結合距離(各々、1.905と
1.937Å)と対比できるものである。この錯体は、
単離されたシス−ビス(ヘテロアリール)ニッケル(I
I)錯体としては初めての例である。
iN(1.947Å)は、高い電子受容性C6 F5 基を
持つ同類のbpy−Ni(II)であるNi(C6 F5 )
2 (bpy)(参照:Yamamoto,T;Abl
a,M.J.Organomet.Chem.,199
7,535,209)の結合距離(各々、1.905と
1.937Å)と対比できるものである。この錯体は、
単離されたシス−ビス(ヘテロアリール)ニッケル(I
I)錯体としては初めての例である。
【0023】実施例2 実施例1で得られた式2(式中、R1 =メチル基、R2
=メトキシカルボニル基、X=塩素原子)のニッケル錯
体0.28g(0.5ミリモル)を、大過剰の18重量
%塩酸水溶液中15〜20℃で、1時間攪拌し、生成し
た固体を水で洗浄後、クロロホルムで抽出し、クロロホ
ルム層を水洗後、乾燥し、式1(式中、R1 =メチル
基、R2 =メトキシカルボニル基、X=塩素原子)のビ
ピラゾール化合物0.17gの白色粉末を得た。以下に
物性及び分析値を示す。 融点:181.0〜181.9℃
=メトキシカルボニル基、X=塩素原子)のニッケル錯
体0.28g(0.5ミリモル)を、大過剰の18重量
%塩酸水溶液中15〜20℃で、1時間攪拌し、生成し
た固体を水で洗浄後、クロロホルムで抽出し、クロロホ
ルム層を水洗後、乾燥し、式1(式中、R1 =メチル
基、R2 =メトキシカルボニル基、X=塩素原子)のビ
ピラゾール化合物0.17gの白色粉末を得た。以下に
物性及び分析値を示す。 融点:181.0〜181.9℃
【0024】
【表4】 元素分析値 C H N Cl 実測値(%) 41.2 3.5 16.5 19.9 計算値(%) 41.5 3.5 16.1 20.4 高分解能マススペクトルによる分子量決定 実測値 346.0175 計算値 346.02361 H-NMR(90MHz,CDCl3,TMS):δ3.65(s,6H),3.72(s,6H)
【0025】実施例3 25mlのシュレンク管に、ビス(1,5−シクロオクタ
ジエン)ニッケル0.825g(3ミリモル)を秤量
し、ジメチルホルムアミド10ml及び2,2’−ビピリ
ジン0.469g(3ミリモル)を加え、攪拌し溶解さ
せた。この溶液に、3,5−ジクロロ−1,4−ジメチ
ルピラゾ−ル0.330g(2ミリモル)を加え、60
℃で24時間攪拌した。生成した沈殿を分離し、希アン
モニア水で3回、エチレンジアミン4酢酸水溶液(pH
3及び9)で各3回、水で1回洗浄し、クロロホルム/
n−ヘキサン混合溶液から4回再沈殿させ、乾燥して赤
色粉末の式2(式中、R1及びR2=メチル基、X=塩素
原子)のニッケル錯体0.390gを得た。以下に物性
及び分析値を示す。融点:〜300℃
ジエン)ニッケル0.825g(3ミリモル)を秤量
し、ジメチルホルムアミド10ml及び2,2’−ビピリ
ジン0.469g(3ミリモル)を加え、攪拌し溶解さ
せた。この溶液に、3,5−ジクロロ−1,4−ジメチ
ルピラゾ−ル0.330g(2ミリモル)を加え、60
℃で24時間攪拌した。生成した沈殿を分離し、希アン
モニア水で3回、エチレンジアミン4酢酸水溶液(pH
3及び9)で各3回、水で1回洗浄し、クロロホルム/
n−ヘキサン混合溶液から4回再沈殿させ、乾燥して赤
色粉末の式2(式中、R1及びR2=メチル基、X=塩素
原子)のニッケル錯体0.390gを得た。以下に物性
及び分析値を示す。融点:〜300℃
【0026】
【表5】 元素分析値 C H N Cl 実測値(%) 50.0 4.2 17.7 14.1 計算値(%) 50.3 4.1 17.5 14.6 マススペクトルによる分子量決定 実測値 473.0及び475.0にピ−ク 計算値 4741 H-NMR(90MHz,CDCl3,TMS):δ2.21(s,6H),3.89(s,6H),7.
55(m,4H),8.00(m,4H) 有機溶媒に対する溶解性及び溶液の色調を表2に示す。
55(m,4H),8.00(m,4H) 有機溶媒に対する溶解性及び溶液の色調を表2に示す。
【0027】
【表6】 表 2 ──────────────────────────────── 溶 媒 溶解性 色調 ──────────────────────────────── アセトン + クロロホルム ++ 赤色 テトラヒドロフラン ++ 赤色 ジメチルホルムアミド ++ 赤色 メタノール ++ 赤色 N−メチルピロリドン ++ 赤色 ジメチルスルホキシド ++ 赤色 ギ 酸 ++ 黄色 アセトニトリル ++ 赤色 ──────────────────────────────── 注)+ :目視による観察により数%溶解することを示す。 ++:目視による観察により数10%溶解することを示す。 又、クロロベンゼン、トルエン、n−ヘキサン、ベンゼ
ンには不溶であった。
ンには不溶であった。
【0028】実施例4 実施例3の式2(式中、R1 及びR2 =メチル基、X=
塩素原子)のニッケル錯体0.24g(0.5ミリモ
ル)を、大過剰の18重量%塩酸水溶液中、15〜20
℃で、1時間攪拌し、生成した固体を水で洗浄後、クロ
ロホルムで抽出し、クロロホルム層を水洗後、乾燥し、
式1(式中、R1及びR2 =メチル基、X=塩素原子)
のビピラゾール化合物0.07gの白色粉末を得た。以
下に物性及び分析値を示す。 融点:87.1〜88.0℃ 高分解能マススペクトルによる分子量決定 実測値 258.0367 計算値 258.04391 H-NMR(90MHz,CDCl3,TMS):δ1.83(s,6H),3.59(s,6H)
塩素原子)のニッケル錯体0.24g(0.5ミリモ
ル)を、大過剰の18重量%塩酸水溶液中、15〜20
℃で、1時間攪拌し、生成した固体を水で洗浄後、クロ
ロホルムで抽出し、クロロホルム層を水洗後、乾燥し、
式1(式中、R1及びR2 =メチル基、X=塩素原子)
のビピラゾール化合物0.07gの白色粉末を得た。以
下に物性及び分析値を示す。 融点:87.1〜88.0℃ 高分解能マススペクトルによる分子量決定 実測値 258.0367 計算値 258.04391 H-NMR(90MHz,CDCl3,TMS):δ1.83(s,6H),3.59(s,6H)
【0029】
【発明の効果】本発明に従えば、新規なビピラゾール化
合物及びニッケル錯体を容易に製造することができる。
合物及びニッケル錯体を容易に製造することができる。
【図1】図1は、実施例1により得られた式2(式中、
R1 =メチル基、R2 =メトキシカルボニル基、X=塩
素原子)のニッケル錯体の各原子の結合関係を示すX線
解析図である。
R1 =メチル基、R2 =メトキシカルボニル基、X=塩
素原子)のニッケル錯体の各原子の結合関係を示すX線
解析図である。
Claims (11)
- 【請求項1】 式1 【化1】 (式中、R1 は水素原子、炭素原子数1ないし6の、飽
和又は不飽和の直鎖、分枝又は環状の脂肪族炭化水素残
基;未置換の又はハロゲン原子、炭素原子数1ないし4
ののアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ
基、トリフルオロメチル基又はニトロ基により置換され
たフェニル基;2−ピリジル基、2−ピリミジル基、ベ
ンジル基又はシンナミル基を表わし;R2 は水素原子、
炭素原子数1ないし4のアルキル基、(炭素原子数1な
いし4のアルコキシ)カルボニル基、モノ又はジ−(炭
素原子数1ないし4のアルキル)アミノカルボニル基、
(炭素原子数1ないし4のアルキル)カルボニル基、未
置換の又はハロゲン原子、炭素原子数1ないし4ののア
ルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、トリ
フルオロメチル基又はニトロ基により置換されたフェニ
ルカルボニル基、炭素原子数1ないし4のアルキルチオ
基、シアノ基又はニトロ基を表わし、Xは塩素原子、フ
ッ素原子、メチル基、フェニル基、メトキシ基又はフェ
ノキシ基を表わす。)で表されるビピラゾール化合物。 - 【請求項2】 R1 が水素原子、メチル基、エチル基、
i−プロピル基、シクロプロピル基、n−プロピル基、
n−ブチル基、t−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロ
ヘキシル基、アリル基、クロチル基、フェニル基、2−
ピリジル基、2−ピリミジル基、ベンジル基、シンナミ
ル基から選ばれる基であり、R2 は水素原子、メチル
基、エチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボ
ニル基、モノメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミ
ノカルボニル基、メチルカルボニル基、フェニルカルボ
ニル基、メチルチオ基、シアノ基、ニトロ基から選ばれ
る基である請求項1記載のビピラゾール化合物。 - 【請求項3】 R1 がメチル基、R2 がメチル基又はメ
トキシカルボニル基、Xが塩素原子である請求項2記載
のビピラゾール化合物。 - 【請求項4】 式2 【化2】 (式中、R1 、R2 とXは請求項1に記載の式1のR1
R2 とXと同じに定義される。)で表わされるニッケル
錯体。 - 【請求項5】 R1 がメチル基、R2 がメチル基又はメ
トキシカルボニル基、Xが塩素原子である請求項4記載
のニッケル錯体。 - 【請求項6】 式3 【化3】 (式中、R1 、R2 とXは請求項1に記載の式1中と同
じに定義され;Yは塩素原子、臭素原子又は沃素原子を
表わす。)で表されるピラゾ−ル化合物とニッケル化合
物及び2,2’−ビピリジンを反応させ、式2 【化4】 (式中、R1 、R2 及びXは、上記と同じに定義され
る。)で表わされるニッケル錯体を合成後、当該化合物
を酸で分解することを特徴とする、式1 【化5】 (式中、R1 、R2 及びXは、上記に同じに定義され
る。)で表されるビピラゾール化合物の製造法。 - 【請求項7】 R1 がメチル基、R2 がメチル基又はメ
トキシカルボニル基、Xが塩素原子、Yは塩素原子、ニ
ッケル化合物がビス(1,5−シクロオクタジエン)ニ
ッケルである請求項6記載のビピラゾール化合物の製造
法。 - 【請求項8】 式3 【化6】 (式中、R1 、R2 、YとXは、請求項6記載の式3中
と同じに定義される。)で表されるピラゾ−ル化合物と
ニッケル化合物及び2,2’−ビピリジンを反応させる
ことを特徴とする、式2 【化7】 (式中、R1 、R2 及びXは、上記と同じに定義され
る。)で表わされるニッケル錯体の製造法。 - 【請求項9】 R1 がメチル基、R2 がメチル基又はメ
トキシカルボニル基、Xが塩素原子、Yは塩素原子、ニ
ッケル化合物がビス(1,5−シクロオクタジエン)ニ
ッケルである請求項8記載のニッケル錯体の製造法。 - 【請求項10】 式2 【化8】 (式中、R1 、R2 とXは請求項2記載の式2中と同じ
に定義される。)で表わされるニッケル錯体を、酸で分
解することを特徴とする、式1 【化9】 (式中、R1 、R2 及びXは、上記と同じに定義され
る。)で表わされるビピラゾール化合物の製造法。 - 【請求項11】 R1 がメチル基、R2 がメチル基又は
メトキシカルボニル基、Xが塩素原子である請求項10
記載のビピラゾール化合物の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31136697A JPH11130754A (ja) | 1997-10-27 | 1997-10-27 | ピラゾール誘導体及びその合成法と利用法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31136697A JPH11130754A (ja) | 1997-10-27 | 1997-10-27 | ピラゾール誘導体及びその合成法と利用法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11130754A true JPH11130754A (ja) | 1999-05-18 |
Family
ID=18016314
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31136697A Pending JPH11130754A (ja) | 1997-10-27 | 1997-10-27 | ピラゾール誘導体及びその合成法と利用法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11130754A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010189348A (ja) * | 2009-02-19 | 2010-09-02 | Univ Of Miyazaki | アルキルピラゾールによる金属イオンの選択的回収 |
-
1997
- 1997-10-27 JP JP31136697A patent/JPH11130754A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010189348A (ja) * | 2009-02-19 | 2010-09-02 | Univ Of Miyazaki | アルキルピラゾールによる金属イオンの選択的回収 |
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