JPH11132668A - 竪型のガス/個体反応炉のためのガス分与器 - Google Patents

竪型のガス/個体反応炉のためのガス分与器

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JPH11132668A
JPH11132668A JP10250353A JP25035398A JPH11132668A JP H11132668 A JPH11132668 A JP H11132668A JP 10250353 A JP10250353 A JP 10250353A JP 25035398 A JP25035398 A JP 25035398A JP H11132668 A JPH11132668 A JP H11132668A
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JP
Japan
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gas
fluidized bed
bed reactor
opening
bolt
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JP10250353A
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Joel B Christian
ジョウエル・ビー・クリスチャン
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Osram Sylvania Inc
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    • F26B3/02—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by convection, i.e. heat being conveyed from a heat source to the materials or objects to be dried by a gas or vapour, e.g. air
    • F26B3/06—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by convection, i.e. heat being conveyed from a heat source to the materials or objects to be dried by a gas or vapour, e.g. air the gas or vapour flowing through the materials or objects to be dried
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来技術における欠点が排除され、流動化チ
ャンバの中身を除去することなく調節することが可能で
あり、詰まりや損耗を生じにくいガス分与器を提供する
こと。 【解決手段】 プレナムチャンバ14内の加圧ガスは開
口20を通過して流動化チャンバ10に入る。開口20
は実質的に四角形の断面を有し、プレート26を貫いて
パンチングあるいは穿孔される。粒子状個体11はプレ
ート26の上方面22と接触し、プレートの下方面23
はプレナムチャンバ14内の加圧ガスと接触する。ステ
ップボルトアセンブリ30は、開口20を通るガス流量
を調節するために使用される一方で、粒状材料がプレナ
ムチャンバ14内に落下するのを防止する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、流動層反応炉に関
し、詳しくは、流動層反応炉で使用するガス分与プレー
トに関する。
【0002】
【従来の技術】流動層反応炉は一般に米国特許第4、0
68、389号に記載される。流動層は、一般的には粒
子状個体にガスを流動させることにより生成される。ガ
スの運動量が粒状物の重量に打ち勝つに十分なものとな
ると粒状物が浮動し始め、粒状物の塊が液体として挙動
するようになる。流動化のためのガスは不活性であり、
あるいは反応体として機能し得、その場合、反応体はガ
スとの反応を促進させるために加熱される。ガス分与器
プレートは流動層反応炉の鍵となる部品であり、粒子状
個体を収納する流動化チャンバ内にガスを分散し且つこ
の流動化チャンバへのガスの流入を調節する。流動化チ
ャンバにガスを一様に分散させることは、流動層全体の
流動化を維持し流動層内での均一な反応を促進する上で
重要である。
【0003】竪型のガス/個体反応炉内のガス分与器
は、一般に、水平プレートから成り立ち、この水平プレ
ートが、粒子状個体を収納する流動化チャンバの台座部
分と、加圧ガスを収納するプレナムチャンバの天井部分
とを構成する。分与器プレートは反応炉の壁と同一長さ
伸延し、プレナムチャンバ内の加圧ガスを流動化チャン
バに流入させるようにするための、対称的に離間された
複数の開口を有する。これらの開口は、セラミック或い
は金属の多孔質フリット、泡キャップ、あるいは単なる
小孔の形態のものであり得るが、こうした型式の形状に
は色々な不具合がある。例えば、多孔質フリットは小さ
い粒状物による詰まりを生じ、泡キャップは堅牢性に乏
しく、耐火金属を流動化する場合には摩耗しやすく、穴
あきのプレートでは粒状物がプレナムチャンバ内に落下
してしまう。米国特許第4、068、389号はこうし
た問題を、ねじ溝付きの支柱をねじ込むためのねじ溝付
きの大口径の開口を使用することにより解決しようとし
たものであるが、微細な粒状物がこのねじ溝に引っ掛か
り、ガス流れと支柱の結合とを妨害する。この問題は二
硫化モリブデンのような潤滑材を流動化する場合に顕著
なものとなる。更には、ガス流れを調節するべく支柱を
調整するためには、流動化チャンバを空にすることによ
り支柱へのアクセスを得る必要がある。機械的攪拌器を
使用して個体を混合する場合には、支柱のねじ溝に関す
る攪拌器及び粉末の回転方向に依存して支柱が緩められ
あるいは締め付けられることでガスの分散状態が変化す
る、という新たな問題も生じる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来技術における欠点
を排除することであり、流動化チャンバの中身を除去す
ることなく調節することのできるガス分与器を提供する
ことであり、詰まりや損耗を生じにくいガス分与器を提
供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の1様相に従え
ば、竪型のガス/個体流動層反応炉のためのガス分与器
が提供され、この竪型のガス/個体流動層反応炉が、粒
子状個体を流動化するための流動化チャンバと、加圧ガ
スを受けるためのプレナムチャンバとを有し、前記ガス
分与器が、少なくとも1つの、貫通する開口を有するプ
レートと、流動化チャンバと接触する上方面及びプレナ
ムチャンバと接触する下方面とを有し、前記プレート
が、流動化チャンバとプレナムチャンバとの間で水平に
配置される。
【0006】また、開口内には軸線方向に位置決めする
ことのできるボルトアセンブリが配置される。ボルトア
センブリはボルトと締め具とを含み、ボルトは、ヘッド
と、ねじ溝付きのシャフトと、保持用の肩部とを有し、
前記ヘッドは流動化チャンバ内に突入され、また開口を
閉鎖するに十分な幅を有している。保持用の肩部はヘッ
ドに近接し、シャフトから軸線方向外側に伸延し、シャ
フトはプレナムチャンバ内に突入される。締め具はねじ
溝付きのシャフトと結合され、プレートの下方面と係合
する。各開口は保持用の肩部と接触してボルトが軸線方
向に回転しないようにするための相補面を有し、各相補
面は保持用の肩部から離間されそれにより、その間部分
にガスが流れ且つボルトアセンブリを軸線方向に移動さ
せられるようになっている。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明によれば、ガス分与プレー
ト内の開口内に位置付けられ、軸線方向に位置決め可能
なボルトの形態を有するガス調節手段を具備するガス分
与器プレートが提供される。各ボルトのヘッドは流動化
チャンバ内に突入して開口を塞ぎ、粒状物が開口から侵
入するのを防止する。ボルトの反対側の端部はガス分与
器プレートの下側を伸延してプレナムチャンバに入る。
この、ボルトの反対側の端部には、ボルトを開口内部に
保持するための締め具が装着される。ボルトを軸線方向
に回転させずに締め具を締め付けあるいは緩めること
で、開口を通るガスの流量を調節するための手段が設け
られる。好ましいボルトアセンブリは、標準型のステッ
プボルト及びナットからなる。プレナムチャンバを貫
く、締め具を調節するためのアクセスが提供される。こ
うした丈夫な構成により、本発明は耐火金属のような研
磨性のある材料を流動化するために使用することが可能
であり、詰まりや摩損を生じにくく、しかも、流動化チ
ャンバを空にしなくとも調節が自在である。
【0008】図1には、竪型のガス/個体流動層反応炉
5(以下、単に流動層反応炉5とも称する)内のガス分
与器2の1実施例が例示される。流動層反応炉5はガス
分離器2により2つのチャンバに分割される。ガス分与
器2の上方には、流動化の間、粒子状個体11を収納す
る流動化チャンバ10が配置される。流動化チャンバ1
0は、粒子状個体11の混合を助成するための攪拌器3
をも含んでいる。ガス分与器2の下方には、加圧ガスを
受けるためのプレナムチャンバ14が配置される。プレ
ナムチャンバ14は、加圧ガス源に接続された少なくと
も1つのポート16と、ステップボルトアセンブリ30
の調節を可能とするためのアクセスパネル18とを有す
る。ガス分与器2は流動化チャンバ10とプレナムチャ
ンバ14との間に水平に配置される。
【0009】プレナムチャンバ14内の加圧ガスは開口
20を通過して流動化チャンバ10に入る。開口20は
実質的に四角形の断面を有し、プレート26を貫いてパ
ンチングあるいは穿孔される。粒子状個体11はプレー
ト26の上方面22と接触し、プレートの下方面23は
プレナムチャンバ14内の加圧ガスと接触する。プレー
ト26は、流動化チャンバの内圧及び温度下での、流動
化チャンバ内の粒子状個体の重量を支持するために十分
な強度を有する構造のものとされる。ステップボルトア
センブリ30は、開口20を通るガス流量を調節するた
めに使用される一方で、粒状材料がプレナムチャンバ1
4内に落下するのを防止する。開口20を通るガス流量
を調節することにより、流動化チャンバ10内の粒子状
個体11の流動化の度合いが影響を受ける。
【0010】図2には、ガス分与器の開口20の1つの
拡大断面図が示され、ステップボルトアセンブリ30が
示される。ステップボルトアセンブリ30は開口20内
で軸線方向に位置決め自在でありそれにより、開口を通
過するガス流量をより多くあるいはより少なくすること
ができる。ガス流れの調節は、ナット37を締め付ける
か或いは緩めることにより実施される。ステップボルト
34は、開口20内で、丸み付けされたそのヘッド36
がプレート26の上方面22と接触し且つねじ溝付きの
端部46がプレート26の下方面23を越えて伸延する
ように配向される。ステップボルト34の、ヘッド36
に近い保持用の肩部43は実質的に四角形の断面を有
し、シャフト41から軸線方向外側に伸延する。保持用
の肩部43は開口20の相補面48と係合し、ステップ
ボルト34の軸線方向回転を阻止する。
【0011】保持用の肩部43と開口20との相互作用
及び相互関係は、ガス分与器の部分平面図である図3A
及び図3Bに良く示されている。図3Aでは、開口20
の相補面48a、48b、48c及び48dがステップ
ボルト34の保持用の肩部43から離間して位置付けら
れ、それらの間部分へのガス流れを許容している。開口
20の幅は、開口内部でステップボルトが軸線方向に移
動することができる程に十分な大きさであるがしかし、
ステップボルトが45度を超えて軸線方向に回転する程
度には大きくないものとすべきである。ヘッド36の直
径は、このヘッド36が開口20を完全に塞ぎ、粒状材
料が開口20を通してプレナムチャンバに落下するのを
防止するに十分な大きさのものとすべきである。図3B
では、ステップボルト34は矢印53の方向に若干回転
された状態で示される。保持用の肩部43は開口20
と、51a、51b、51c、51dの位置で相補面4
8a、48b、48c、48dと接触し、ステップボル
ト34がそれ以上回転するのを防止する。保持用の肩部
及び開口の断面は本実施例では四角形であるが、ステッ
プボルトが回転しないようにするための非円形の断面を
有するその他の実施例を使用することができる。
【0012】図2を再度参照するに、ステップボルトア
センブリ30は締着位置で示されている。ヘッド36の
合致面39はプレート26の上方面22と接触し、ナッ
ト37はプレート26の下方面23と接触している。こ
の位置ではステップボルトアセンブリ30は軸線方向に
は移動しない。しかしながら、ヘッド36の合致面39
とプレートの上方面との間に形成されるシール及び、ナ
ット37とプレート26の下方面23との間に形成され
るシールは何れもガス密閉性のものではない。かくし
て、プレナムチャンバ内の加圧ガスは尚、開口20を通
して流動化チャンバ内に流入することができる。
【0013】図4に示す実施例では、ナット37と、プ
レート26の下方面23との間には流動層反応炉5の運
転中にステップボルト34が緩まないようにするための
錠止ワッシャ60(ここではさらばね形式のものとして
示される)が介挿される。錠止ワッシャ60には開口2
0を通るガス流量調整を助成する働きも有る。その他の
錠止ワッシャ構成を使用することが可能である。例え
ば、“星”型の錠止ワッシャをプレート26の上方及び
あるいは下方に使用することにより、ステップボルト3
4が緩むのを防止する一方で、同時にガス調節を助成さ
せることができる。
【0014】図5ではステップボルトアセンブリ30は
緩められ、開口20内で軸線方向に移動することができ
る状態とされている。図5に示されるように、プレナム
チャンバからの高圧ガス71が開口20を通過し、ヘッ
ド36の合致面39により、プレート26の上方面22
に沿って水平方向に送られる。この高圧ガスが合致面3
9に加える力により、ステップボルト34はプレート2
6の上方面22から上昇して離れる。ナット37が、ス
テップボルト37が開口20から飛び出すのを防止す
る。ナット37は、ステップボルト34の保持用の肩部
43の少なくとも一部分が開口20内に止まりそれによ
り、ガスの圧力が減少したときにステップボルト34が
正しい位置に座着するように調節される。ナット27
は、運転中の緩みあるいは締め付けが防止されるよう、
単一の錠止ナットであり、あるいは相互に締着した2つ
のナットからなるものであっても良い。以上、本発明を
実施例を参照して説明したが、本発明の内で種々の変更
をなし得ることを理解されたい。
【0015】
【発明の効果】従来技術における欠点が排除され、流動
化チャンバの中身を除去することなく調節することが可
能であり、詰まりや損耗を生じにくいガス分与器が提供
される。
【図面の簡単な説明】
【図1】竪型のガス/個体流動層反応炉におけるガス分
与器の断面例示図である。
【図2】ボルトアセンブリを締着位置とした状態での、
ガス分与器の部分断面図である。
【図3】Aは開口内でのボルトアセンブリの位置を示す
ガス分与器の部分平面図であり、Bはボルトが若干回転
した状態での、図3Aと類似の部分平面図である。
【図4】別のボルトアセンブリ形状を表す、ガス分与器
の部分断面図である。
【図5】緩めた位置でのボルトアセンブリを表す、ガス
分与器の部分断面図である。
【符号の説明】
2 ガス分与器 3 攪拌器 5 竪型のガス/個体流動層反応炉 10 流動化チャンバ 11 粒子状個体 14 プレナムチャンバ 18 アクセスパネル 20 開口 22 上方面 23 下方面 26 プレート 30 ステップボルトアセンブリ 34 ステップボルト 36 ヘッド 41 シャフト 43 保持用の肩部 48 相補面 60 錠止ワッシャ

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 竪型のガス/個体流動層反応炉のための
    ガス分与器であって、前記流動層反応炉が、粒子状個体
    を流動化するための流動化チャンバと、加圧ガスを受け
    るためのプレナムチャンバとを有し、前記ガス分与器
    が、少なくとも1つの開口が貫通してなるプレートと、
    前記流動化チャンバと接触する上方面と、前記プレナム
    チャンバと接触する下方面とを含み、前記プレートが前
    記流動化チャンバとプレナムチャンバとの間に水平に配
    置され、 軸線方向に位置決め自在のボルトアセンブリが各開口に
    位置付けられ、該ボルトアセンブリがボルト及び締め具
    を含み、前記ボルトがヘッドと、ねじ溝付きのシャフト
    と、保持用の肩部とを有し、前記ヘッドが前記流動化チ
    ャンバ内に突入され且つ前記開口を塞ぐに十分な幅を有
    し、前記保持用の肩部が前記ヘッドに近接し且つ前記シ
    ャフトから軸線方向外側に伸延され、前記ねじ溝付きの
    シャフトが前記プレナムチャンバ内に突入され、前記締
    め具が、前記プレートの下方面と係合するために前記ね
    じ溝付きのシャフトと結合され、 各開口が、前記保持用の肩部と接触することにより前記
    ボルトの軸線方向回転を阻止するための相補面を有し、
    該相補面が、前記保持用の肩部から離間されそれによ
    り、その間部分へのガス流れを許容し且つ前記ボルトア
    センブリの軸線方向移動を可能としてなる、 竪型のガス/個体流動層反応炉のためのガス分与器。
  2. 【請求項2】 ボルトアセンブリのヘッドが丸み付けさ
    れている請求項1の竪型のガス/個体流動層反応炉のた
    めのガス分与器。
  3. 【請求項3】 保持用の肩部と開口とが実質的に四角形
    の断面を有している請求項1の竪型のガス/個体流動層
    反応炉のためのガス分与器。
  4. 【請求項4】 締め具とプレートの下方面との間に配置
    された錠止ワッシャを更に含んでいる請求項1の竪型の
    ガス/個体流動層反応炉のためのガス分与器。
  5. 【請求項5】 ボルトのヘッドとプレートの上方面との
    間に配置された第2の錠止ワッシャを更に含んでいる請
    求項1の竪型のガス/個体流動層反応炉のためのガス分
    与器。
  6. 【請求項6】 プレナムチャンバが、ボルトアセンブリ
    の調節を可能とするためのアクセスパネルを有している
    請求項1の竪型のガス/個体流動層反応炉のためのガス
    分与器。
  7. 【請求項7】 ボルトアセンブリがステップボルト及び
    ナットを含んでいる請求項3の竪型のガス/個体流動層
    反応炉のためのガス分与器。
JP10250353A 1997-08-22 1998-08-21 竪型のガス/個体反応炉のためのガス分与器 Withdrawn JPH11132668A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/916381 1997-08-22
US08/916,381 US5806206A (en) 1997-08-22 1997-08-22 Gas distributor for vertical gas/solid reactors

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Publication Number Publication Date
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ID=25437176

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JP10250353A Withdrawn JPH11132668A (ja) 1997-08-22 1998-08-21 竪型のガス/個体反応炉のためのガス分与器

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JP (1) JPH11132668A (ja)
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