JPH11133528A - 投射型表示装置 - Google Patents

投射型表示装置

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JPH11133528A
JPH11133528A JP9295914A JP29591497A JPH11133528A JP H11133528 A JPH11133528 A JP H11133528A JP 9295914 A JP9295914 A JP 9295914A JP 29591497 A JP29591497 A JP 29591497A JP H11133528 A JPH11133528 A JP H11133528A
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JP
Japan
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light
optical system
color
value
beam splitter
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Withdrawn
Application number
JP9295914A
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English (en)
Inventor
Kiyoshi Numazaki
潔 沼崎
Yuji Mabe
雄二 間辺
Tetsuo Hattori
徹夫 服部
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Priority to US09/735,538 priority patent/US6464360B2/en
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 液体浸漬型の偏光ビームスプリッターを使用
せず、透光性材料ブロックにおける種々の熱応力、外部
応力の影響に対して光学的に安定な性能を確保でき画質
の劣化の少ない投射型表示装置を提供する。 【解決手段】 R光、G光及びB光の各々を入射させ色
合成して射出する複数のプリズム部材から構成される色
合成光学系の複数のプリズム部材3,13は光弾性定数
の絶対値が最小値となる波長がB光波長領域またはG光
波長領域に存在する部材を用いて構成されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、空間光変調素子
(ライトバルブ)を使用した投射装置に関し、特に応力
の影響に対して光学的に安定な性能を確保し、投射像の
画質劣化を効果的に押さえた投射型表示装置に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】従来から投射型表示装置に用いられるる
空間光変調素子(ライトバルブ)として偏光を利用して
空間的に変調する位相差変調型(偏光変調型)の空間光
変調素子が知られてる。この位相差変調型の空間光変調
素子として液晶層を用いて構成されたものが実用化され
ている。
【0003】このような位相差変調型の空間光変調素子
を用いた従来の投射型表示装置では偏光子及び検光子と
なる偏光ビームスプリッタが用いられる。従来の投射型
表示装置においては、偏光ビームスプリッタに入射され
た光源を射出した光が当該偏光ビームスプリッタにより
透過するP偏光と反射するS偏光とに偏光分離される。
通常は反射されたS偏光が各R光、G光ならびにB光の
各色光に色分解光学系を用いて色分解され、各色光毎に
配置された空間光変調素子に対して照射される。そし
て、この空間光変調素子の液晶素子によって変調され、
かつ当該素子の反射層によって反射された光は再び色合
成を達成されて前記偏光ビームスプリッタに戻り、当該
偏光ビームスプリッタによって検光される。すなわち、
前述の各空間光変調素子に入射した各色光のS偏光は変
調されてP偏光となり、当該P偏光のみが偏光ビームス
プリッタを透過することにより検光が達成される。この
検光されたP偏光が投射光学系によってスクリーン上に
投射される。
【0004】光変調素子を用いた投射型表示装置として
例えばヒューズエアクラフト社の米国特許第4,68
7,301号に開示された装置が知られている。この装
置においては偏光ビームスプリッタならびに色分解光学
系はそれぞれ屈折率が調節された液体中に偏光分離用コ
ーティングならびに色分解ダイクロイック膜が施された
部材が浸漬された偏光ビームスプリッタならびに色分解
光学系の構成となっている。当該偏光ビームスプリッタ
に入射した光源光はP偏光とS偏光とに偏光分離され、
このうちのS偏光成分は前記色分解光学系に入射されて
当該光学系を射出し、射出面近傍に配置された各色光用
光空間変調素子に入射される。
【0005】各色光用ライトバルブを反射した各色光は
再度分解光学系に入射して色合成を達成され、当該合成
光が再度偏光ビームスプリッタに入射、検光されて当該
偏光ビームスプリッタを射出した検光光が投射レンズに
入射されてスクリーン上に投射される構成となってい
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記液
体浸漬型偏光ビームスプリッタならびに同型三色分解合
成光学系を採用した投射型表示装置には以下のような課
題がある。第1に、上記液体浸漬型偏光ビームスプリッ
タならびに同型色分解合成光学系に使用される液体の屈
折率は液温に依存して変化する割合が非常に大きい。す
なわち、通常のガラスのそれに対して2桁程度変化率が
大きいのである。
【0007】通常は温度で20度C〜60度C程度変化
する環境に配置されることが十分考えられるが、その温
度変化に係る屈折率差は無視できないものとなり、さら
に分散も変化するために投射像において色ズレならびに
色ムラの原因となる。第2に、上記液浸漬型偏光ビーム
スプリッタならびに液温が当該液体全体に渡って均一で
ない場合、上述の液体の屈折率の温度特性により、当該
液体の屈折率の均一性が損なわれ、当該液体中に屈折率
分布のムラが生じてしまう。実際にはい液温が全体に渡
って均一に変化することはないために投射画像の均一性
が損なわれる大きな原因となる。
【0008】第3に、上記液体浸漬型偏光ビームスプリ
ッタならびに同型色分解ならびに合成光学系において
は、上記液体の不均一な温度変化に伴い、上述の液体の
屈折率とともに該液体の密度の均一性も損なわれ、結果
として当該液体中に対流が生じる。この対流は、上述の
液体の不均一な屈折率分布の時間変動をもたらすので、
当該対流の発生は投射型表示装置における画質の不均一
性が時間とともに変動する原因となる。
【0009】第4に、上記液体浸漬型偏光ビームスプリ
ッタならびに同型色分解合成光学系においては、液温の
変化に係り上記液体の体積も変化する。仕様温度は上記
40度Cの幅であるが、投射型表示装置の輸送ならびに
倉庫等での保存を考えると−10度C〜80度Cほどの
温度範囲を考慮する必要があり、当該装置の構造上液体
の体積の変化を吸収する機構を設ける必要がある。
【0010】第5に、上記液体浸漬型偏光ビームスプリ
ッタならびに色分解合成光学系の液体中にゴミが存在す
る場合、当該ゴミが数十〜数百倍に拡大されて投射画像
中に写ってしまう。従って、当該液体中にゴミがあって
はならないが、そのためには上記液体浸漬型偏光ビーム
スプリッタならびに同型色分解合成光学系の組立にはク
リーンルームが必要となる上に、当該液体中のゴミ、異
物を除去する作業が必要となる。
【0011】第6に、上記液体浸漬型偏光ビームスプリ
ッタならびに色分解合成光学系の液体中に気泡が存在す
ると前述のゴミと同様に当該気泡が投射された画面に現
れてしまうので、これもあらかじめ取り除いておく必要
がある。第7に、上記液体浸漬型偏光ビームスプリッタ
ならびに同型色分解合成光学系においては必然的に液体
を使用するために当該液体を収容する容器にOリングを
配置する等の液漏れ防止対策を施す必要がある。
【0012】以上のように、液体浸漬型偏光ビームスプ
リッタならびに同型色分解合成光学系は液体を使用する
というその構造から課題も多く、これを採用した投射型
表示装置においては、必然的に製作に手間がかかり、コ
ストアップにつながる。特に、温度変化による屈折率の
変化は本質的に避けがたい問題である。一方、上記の液
体の代わりに透光性材料ブロックにより構成された偏光
ビームスプリッタならびに色分解合成光学系を採用する
方法も考えられる。
【0013】しかし、従来のガラスによって偏光ビーム
スプリッタならびに色分解合成光学系を構成した場合に
は主種の原因によってガラスの光学的異方性が複屈折を
誘発し、当該偏光ビームスプリッタならびに当該色分解
光学系の偏光特性を乱してしまい、投射画像の画質劣化
を十分に抑制することができなかった。ここで種々の原
因とは、主に、透光性材料の加工工程例えば切断、接
合、表面上への成膜や、当該透光性材料を光学系に組み
込む操作例えば治具による保持、接着等の際に生じる外
部応力、透光性材料の光吸収による内部発熱、あるいは
外部の周辺機器の発熱により生じる応力等である。
【0014】本発明は以上の問題を解決すべくなされた
ものであり、透光性材料ブロックで構成された偏光ビー
ムスプリッタならびに同ブロックで構成された色分解合
成光学系を採用し、さらに上述の液体浸漬型偏光ビーム
スプリッタならびに同型色分解合成光学系採用に伴う主
種の問題を除去するとともに、しかも、当該透光性材料
ブロックにおける種々の熱応力、外部応力の影響にたい
して光学的に安定な性能を有し、画質劣化の少ない投射
像を有する投射型表示装置を提供することを目的とす
る。
【0015】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の本発明の第1の態様は、R光、G光及びB光の各々を
入射させ色合成して射出する複数のプリズム部材から構
成される色合成光学系と、前記色合成光学系から射出さ
れた合成光を偏光分離し検光する偏光ビームスプリッタ
と、前記検光光を投射する投射レンズとを備えた投射型
表示装置において、前記色合成光学系を構成する複数の
プリズム部材は光弾性定数の絶対値が最小値となる波長
がB光波長領域またはG光波長領域に存在する部材を用
いて構成されている(請求項1に対応)。
【0016】本発明の第2の態様は、R光、G光及びB
光の各々を入射させ色合成して射出する複数のプリズム
部材から構成される色合成光学系と、前記色合成光学系
から射出された合成光を偏光分離し検光する偏光ビーム
スプリッタと、前記検光光を投射する投射レンズとを備
えた投射型表示装置において、前記色合成光学系及び前
記偏光ビームスプリッタを構成するプリズム部材は、光
弾性定数の絶対値が最小値となる波長がB光波長領域ま
たはG光波長領域に存在する部材を用いて構成されてい
る(請求項2に対応)。
【0017】本発明の第3の態様は、R光、G光及びB
光の各々を入射させ色合成して射出する複数のプリズム
部材から構成される色合成光学系と、前記色合成光学系
から射出された合成光を偏光分離し検光する偏光ビーム
スプリッタと、前記検光光を投射する投射レンズとを備
えた投射型表示装置において、前記色合成光学系を構成
する複数のプリズム部材は、R光波長領域における各波
長に対する光弾性定数の絶対値の平均的な値である第1
の値、G光波長領域における各波長に対する光弾性定数
の絶対値の平均的な値である第2の値、及び、B光波長
領域における各波長にたいする光弾性定数の絶対値の平
均的な値である第3の値のうち、前記第2の値または前
記第3の値が他の値に比べて最も小さい透光性材料から
なる部材を用いて構成されている(請求項3に対応)。
【0018】本発明の第4の態様は、R光、G光及びB
光の各々を入射させ色合成して射出する複数のプリズム
部材から構成される色合成光学系と、前記色合成光学系
から射出された合成光を偏光分離し検光する偏光ビーム
スプリッタと、前記検光光を投射する投射レンズとを備
えた投射型表示装置において、前記色合成光学系を構成
する複数のプリズム部材および前記偏光ビームスプリッ
タを構成するプリズムは、R光波長領域における各波長
に対する光弾性定数の絶対値の平均的な値である第1の
値、G光波長領域における各波長に対する光弾性定数の
絶対値の平均的な値である第2の値、及び、B光波長領
域における各波長にたいする光弾性定数の絶対値の平均
的な値である第3の値のうち、前記第2の値または前記
第3の値が他の値に比べて最も小さい透光性材料からな
る部材を用いて構成されている(請求項4に対応)。
【0019】本発明の第5の態様は、光源からの光を偏
光分離する偏光ビームスプリッタと、前記偏光ビームス
プリッタを射出する一方の偏光光をR光、G光ならびに
B光に色分解する色分解光学系と、前記色分解光学系に
よって色分解された各色光を変調して射出しる各色光毎
に配置されたライトバルブと、前記各色光のライトバル
ブから射出された光を色合成する合成光学系と、前記合
成光学系にて合成された光を検光して変調光を取り出す
検光光学系と、前記検光光学系にて検光された検光光を
投射する投射光学系とを備え、前記偏光分離光学系と前
記検光光学系は同一の偏光ビームスプリッタで共用さ
れ、前記色分解光学系と前記合成光学系とが同一の複数
のプリズム部材から構成されれ、かつ前記複数のプリズ
ム部材は光弾性定数の絶対値が最小となる波長がB光波
長領域またはG光波長領域に存在する透光性材料を用い
て構成されている(請求項5に対応)。
【0020】本発明の第6の態様は、光源からの光を偏
光分離する偏光ビームスプリッタと、前記偏光ビームス
プリッタを射出する一方の偏光光をR光、G光ならびに
B光に色分解する色分解光学系と、前記色分解光学系に
よって色分解された各色光を変調して射出する各色光毎
に配置されたライトバルブと、前記各色光のライトバル
ブから射出された光を色合成する合成光学系と、前記合
成光学系にて合成された光を検光して変調光を取り出す
検光光学系と、前記検光光学系にて検光された検光光を
投射する投射光学系とを備え、前記偏光分離光学系と前
記検光光学系は同一の偏光ビームスプリッタで共用さ
れ、前記色分解光学系と前記合成光学系及び偏光ビーム
スプリッタとが同一の複数のプリズム部材から構成さ
れ、かつ前記複数のプリズム部材は光弾性定数の絶対値
が最小となる波長がB光波長領域またはG光波長領域に
存在する透光性材料を用いて構成されている(請求項6
に対応)。
【0021】本発明の第7の態様は、光源からの光を偏
光分離する偏光ビームスプリッタと、前記偏光ビームス
プリッタを射出する一方の偏光光をR光、G光ならびに
B光に色分解する色分解光学系と、前記色分解光学系に
よって色分解された各色光を変調して射出する各色光毎
に配置するライトバルブと、前記各色光のライトバルブ
から射出された光を色合成する合成光学系と、前記合成
光学系にて合成された光を検光して変調光を取り出す検
光光学系と、前記検光光学系にて検光された検光光を投
射する投射光学系とを備え、前記偏光分離光学系と前記
検光光学系は同一の偏光ビームスプリッタで共用され、
前記色分解光学系と前記合成光学系とが同一の複数のプ
リズム部材から構成され、かつ前記複数のプリズム部材
は、R光波長領域における各波長に対する光弾性定数の
絶対値の平均的な値である第1の値、G光波長領域にお
ける各波長に対する光弾性定数の絶対値の平均的な値で
ある第2の値、及び、B光波長領域における各波長にた
いする光弾性定数の絶対値の平均的な値である第3の値
のうち、前記第2の値または前記第3の値が他の値に比
べて最も小さい透光性材料からなる部材を用いて構成さ
れている(請求項7に対応)。
【0022】本発明の第8の態様は、光源からの光を偏
光分離する偏光ビームスプリッタと、前記偏光ビームス
プリッタを射出する一方の偏光光をR光、G光ならびに
B光に色分解する色分解光学系と、前記色分解光学系に
よって色分解された各色光を変調して射出する各色光毎
に配置するライトバルブと、 前記各色光のライトバル
ブから射出された光を色合成する合成光学系と、前記合
成光学系にて合成された光を検光して変調光を取り出す
検光光学系と、前記検光光学系にて検光された検光光を
投射する投射光学系とを備え、前記偏光分離光学系と前
記検光光学系は同一の偏光ビームスプリッタで共用さ
れ、前記色分解光学系と前記色合成光学系及び前記偏光
ビームスプリッタは同一の複数のプリズム部材から構成
され、かつ前記複数のプリズム部材は、R光波長領域に
おける各波長に対する光弾性定数の絶対値の平均的な値
である第1の値、G光波長領域における各波長に対する
光弾性定数の絶対値の平均的な値である第2の値、及
び、B光波長領域における各波長にたいする光弾性定数
の絶対値の平均的な値である第3の値のうち、前記第2
の値または前記第3の値が他の値に比べて最も小さい透
光性材料からなる部材を用いて構成されている(請求項
8に対応)。
【0023】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態に係る
投射型表示装置について図面を参照し説明する。 (第1の実施の形態)まず、本発明の第1の実施の形態
に係る投射型表示装置について図1〜図3を参照して説
明する。
【0024】図1は、本実施の形態に係る投射型表示装
置の概略構成を示した構成図である。 ランプと当該ラ
ンプの背部に配置された楕円鏡等の凹面鏡とから構成さ
れる光源1と、当該光源1から射出された光源光は図示
しない赤外線カットフィルターおよびに紫外線カットフ
ィルターを経由し、更に図示しない整形光学系によって
略平行光束によって進行して、偏光ビームスプリッタ2
に入射され、当該偏光ビームスプリッタの偏光分離部2
Pによって当該偏光分離部によって反射されるS偏光と
透過するP偏光とに偏光分離される。
【0025】偏光ビームスプリッタを透過して射出され
るP偏光はプリズム部材3−1、プリズム部材3−2な
らびにプリズム部材3−3から構成される色分解合成プ
リズム3に入射される。このプリズム3はいわゆるフィ
リップスタイプの色分解合成プリズムである。上記色分
解合成プリズム3を構成するプリズム部材3−1とプリ
ズム部材3−2間には空隙が存在し、さらにプリズム部
材3−1のプリズム部材3−2の相対面にはB光反射ダ
イクロイック膜3Bが形成されている。
【0026】さらにプリズム部材3−2とプリズム部材
3−3とはG光反射ダイクロイック膜3Gを挟んで接着
されている。以上の構成により、当該プリズム3に入射
したP偏光のうちのB光は前記B光反射ダイクロイック
膜によって反射されて進行し、さらに前記入射面にて全
反射を受けて進行し、当該プリズム部材3−1射出面か
ら射出され、当該射出面近傍に配置されたB光用空間光
変調素子4Bに入射される。
【0027】またプリズム部材3−1を透過して進行し
たR光、G光の混合光は前記空隙を透過して進行し、プ
リズム部材3−2に入射して進行し、前述のプリズム部
材3−2とプリズム部材3−3の接着部分に形成された
G光反射ダイクロイック膜3Gによって、当該膜に反射
されるG光と、そのまま進行するR光とに色分離され
る。
【0028】ダイクロイック膜3Gによって反射された
G光は、そのまま進行して前記空隙を構成するプリズム
3−2の面にて全反射を受けて当該プリズム部材中を進
行し、射出面から射出され、当該射出面近傍に配置され
たG光用空間光変調素子4に入射される。ダイクロイッ
ク膜3Gを透過したR光はプリズム部材3−3中を進行
して射出面から射出され、R光用空間光変調素子4Rに
入射される。ここで空間光変調素子4B、4G、4Rに
ついて説明する。本実施の形態においては空間光変調素
子として光書き込み式反射型液晶ライトバルブを用い
た。
【0029】光書き込み式反射型ライトバルブの構造な
らびに機能について説明する。図面には記載されていな
いが、このライトバルブは入射光側から順に透明ガラス
基板、ITO透明電極膜、液晶配向層、TN液晶層、液
晶配向層、誘電体反射ミラー層、遮光層、水素化非晶質
シリコン層等からなる光導電体層、ITO透明電極層、
および透明ガラス基板とから構成されている。
【0030】すなわち、前記入射光入射側と反対側から
書き込み光が書き込み光が入射すると、当該箇所の前記
光導電体層はそのインピーダンスが減り、前記両ITO
電極間には常時交流電圧が印加されて当該素子を駆動さ
せていることにより、印加電圧が前記液晶層に印加さ
れ、液晶分子は電界方向に配列することになり1/4波
長板としての機能を有することとなる。一方、書き込み
光がない場合は、当該箇所の前記光導電体層は高インピ
ーダンスを有しているために両ITO電極間に印加され
た電圧は有効に前記液晶層に印加されないために、液晶
層中の液晶分子は液晶配向層に倣って捻れ構造を有して
いる。以上の機能を有しているために、書き込み光が存
在していない箇所においては、入射した読み出し光(直
線偏光)がP偏光である場合は、前記液晶層を通過して
円偏光に変換されて前記ミラー層にに入射、反射され、
さらに前記液晶層を通過して、前記入射P偏光と振動方
向は90度変換されたS偏光として当該空間光変調素子
を射出する。
【0031】書き込み光が入射しない箇所においては、
入射偏光(P偏光)は液晶分子のねじれ後続に従って旋
光し、反射層に入射、反射されて再度液晶分子の捻れ構
造に従って進行して入射光と同じ偏光方向(P偏光)に
て射出される。以上が光り書き込み式反射型ライトバル
ブ(空間光変調素子)の構造ならびにその機能であっ
て、投射したい変調光を入射光と異なる偏光光にて射出
させることができるのである。
【0032】なお、本発明にて用いることができる空間
光変調素子(ライトバルブ)は上記の光書き込み式の反
射型ライトバルブに限定されるものでなく、例えば電気
書き込み式の反射型ライトバルブを空間光変調素子とし
て使用することができる。この電気書き込み式の場合に
は各画素毎にTFT等のスイッチング素子によるスイッ
チングを選択的に行い、上記光書き込み式と同様に選択
された箇所の画素にのみに入射した偏光の方向を変えて
射出される機能を有する。なお、この電気書き込み式反
射型素子の場合には書き込み光学系は不要となり、装置
の小型化に寄与することができる。図1の構成図に戻っ
て、B光用空間光変調素子4B、G光用空間光変調素子
ならびにR光用空間光変調素子4Rに入射された各色光
のP偏光光は当該空間光変調素子は光書き込み式であれ
ば入射光の存在する箇所、電気書き込み式であればスイ
ッチング選択された画素の部分に入射したP偏光が上記
の機能において記載に様にS偏光に変換され、選択され
ず変換されなかったS偏光との混合光として各色光ライ
トバルブ4B、4G、4Rをそれぞれ射出される。R光
用空間光変調素子4Rを射出したG光はプリズム部材3
−3、同部材3−2、同部材3−1を透過してプリズム
3を射出し、偏光ビームスプリッタ2に入射される。
【0033】G光用空間光変調素子4Gを射出したG光
は、プリズム部材3−2に入射、同部材とプリズム部材
3−1の空隙を構成する斜面にて全反射を受けて進行
し、ダイクロイック膜3Gにて反射され、前記空隙を通
過し、プリズム部材3−1に入射、そのまま進行して、
プリズム3を射出される。B光用空間光変調素子4Bを
射出した光は当該部材斜面にて全反射を受け、ダイクロ
イック膜3Bにて反射されて進行し、当該プリズム3を
射出する。
【0034】以上のより各空間光変調素子を射出した各
色光はプリズム部材3−1、同部材3−2ならびに同部
材3−3から構成されたプリズム3によって色合成が達
成され、変調光(S偏光)と非変調光(P偏光)の混合
光としてプリズム3を射出し、偏光ビームスプリッタ2
に入射される。偏光ビームスプリッタ2に入射した前記
混合光は偏光ビームスプリッタ2の偏光分離部2Pによ
って当該偏光分離部を反射して射出するS偏光(変調
光)と透過して射出するP偏光(非変調光)とに偏光分
離(検光)される。
【0035】検光されたS偏光は投射レンズ5に入射さ
れてカラー投射像として図示しないスクリーン上に投射
され、当該偏光ビームスプリッタを透過するP偏光は廃
棄される。本実施の形態においては、前記偏光ビームス
プリッタ2ならびにプリズム2を構成するプリズム部材
3−1、同部材3−2ならびに同部材3−3の各々は光
弾性定数の絶対値が最小値となる波長がB光領域または
G光領域に存在する透光性部材からなる部材から構成さ
れることを特徴とする。
【0036】また、前述の偏光ビームスプリッタ2なら
びにプリズム部材3−1〜3−3部材の各々はR光波長
領域における各波長にたいする光弾性定数の絶対値の平
均的な値である第1の値、G光領域における各波長に対
する光弾性定数の絶対値の平均的な値である第2の値、
及びB光領域における各波長に対する光弾性定数の絶対
値の平均的な値である第3の値のうちの第2の値または
第3の値が他の値に比べて最も小さい透光性材料からな
る部材を用いて構成されてもよい。
【0037】以下に、この透光性材料について説明す
る。一般に、ガラスのような等方等質材料に力を加えて
応力を生じさせると、この透光性材料に光学的な異方性
が生じ、ある種の結晶体と同じ様に複屈折性を持つよう
になる。このような現象は、光弾性効果と呼ばれてい
る。応力が生じたときの透光性材料の屈折率の主屈折率
軸は主応力軸に一致する。一般に、主屈折率をn1,n
2,n3、主応力をσ1,σ2,σ3(それぞれ添え字
が共通な物は同一方向にある)とすると、これらの間に
は次式の関係式が成立する。
【0038】
【数1】 n1=n0+C1σ1+ C2(σ2+ σ3)・・・(1)
【0039】
【数2】 n2=n0+C1σ2+ C2(σ3+ σ1)・・・(2)
【0040】
【数3】 n3=n0+C1σ3+ C2(σ1+ σ2)・・・(3) ここで、C1、C2は光の波長及び透光性材料の物質に
固有の定数である。なお、n0は無応力時の屈折率であ
る。このような透光性材料に光を入射させた場合、その
方向がσ3と同一な方向となるように座標をとれば、入
射光はそれぞれσ1、σ2方向のすなわち互いに振動面
が直交する2つの直線偏光成分に分かれる。当該透光性
材料から光が出射される際には、各主応力方向の屈折率
(n1、n2)が異なるために、これら2つの直線偏光
成分の間には次式で表される様な光路差(位相差)ΔΦ
が生じる。
【0041】
【数4】 ΔΦ=(2π/λ)×(n1−n2)×l =(2π/λ)×(C1−C2)×(σ2−σ1)×l =(2π/λ)×C×(σ2−σ1)×l ・・・(4) ここで、λは光の波長、lは透光性材料の光透過厚であ
る。C=(C1−C2)は光弾性定数と呼ばれ、応力に
よって生じる複屈折の大きさを示す係数(単位応力当た
りの複屈折量)である。
【0042】本発明者らは、偏光ビームスプリッタなら
びにプリズム構成部材用の透光性部材として種々の組成
ガラスを作製し、直線偏光の種々の単色光を用いて、当
該試料に σ2=σ3=0となる方向に既知の応力をか
掛けた状態で当該試料の複屈折を測定し、上述の数1〜
数4から当該試料の光弾性定数Cを算出した。作製した
ガラスの組成の範囲は、酸化物換算の重量%で以下に示
した。 SiO2 17.0〜 29.0% LiO2+NaO+K2O 0.5〜 5.0% PbO 70.0〜 75.0% AsO3+Sb23 0〜 3.0% 各成分の組成範囲をこのように設定した理由は次のとお
りである。上記組成成分のうちのPbO(酸化鉛)はP
bOを含有する組成系のガラスにおいては、光弾性定数
Cの値がPbOの含有量に大きく依存することを利用
し、光弾性定数Cの値を制御するために用いられたもの
である。PbOの含有量により光弾性定数Cの値が変化
するのは鉛イオンの配位状態がその含有量の増加ととも
に変化するためと考えられる。
【0043】SiO2は、このガラスの光学用ガラス形
成酸化物であり、17重量%以上の含有が望ましい。た
だし、当該SiO2の含有率は上記PbOの含有率を上
記%としたことにより29重量%がその上限となる。L
iO2+Na2O+K2O といったアルカリ金属成分は、
ガラスの熔解温度及びガラス転移温度を下げ、ガラスの
失透にたいする安定性を高める効果を有するために、
0.5重量%以上含有されることが望ましい。ただし、
その含有量が5重量%を越えことは当該ガラスの化学的
耐久性が損なわれるために好ましくない。
【0044】脱泡剤として使用すべきAsO3、Sb2
3あるいは(AsO3+Sb23)は必要に応じてガラス
原料中に混入させることが可能であるが、その含有量が
3重量%を越えることは当該ガラスの耐失透性、分光透
光性を損なうので好ましくない。前述に記載のようにし
て行った測定結果の一部を表1にしめす。表1には、各
ガラス試料No1〜No8の組成と、当該ガラス試料の
光弾性定数Cの絶対値が最小になる(すなわち、実質的
にゼロになる)波長とを示している。
【0045】
【表1】
【0046】なお、ここで製造したガラスは、表1に示
す各成分に対応する原料として酸化物、フッ化物、水酸
化物、炭酸塩、硝酸塩などを用意し、それらを所定の割
合に秤量、混合して調合原料とし、900℃〜1300
℃に加熱しして電気炉中で熔解、清澄、撹拌を行って均
質化した後に、予熱された金型に鋳込み、徐冷すること
により製造した物である。そして、光弾性定数Cの測定
サンプルとしてのガラス試料No1〜No8は、このよ
うにして製造した各組成のガラスを研削、研磨した物で
ある。
【0047】表1に示す測定結果、すなわち、光弾性定
数Cの絶対値が最小になる光の波長測定結果から、上述
の組成範囲のガラスでは、当該ガラスの組成中のPbO
含有量と光弾性定数の絶対値が最小になる波長との間に
図2に示す相関関係があることが判明した。ただし、図
2中の曲線はPbOの含有量を71重量%〜75重量%
の間で、3次多項式にてフィッティングしたものであ
る。これにより、図2中の範囲の組成ではPbO含有量
を制御することにより、光弾性定数Cの絶対値が最小値
となる光の波長を制御することができることが判明し
た。図2から、例えば、B光波長領域380nm〜50
0nmにおいて光弾性定数Cの絶対値を最小値とするた
めには、PbO含有量を71.0重量%〜73.7重量
%にすればよいことが理解できる。
【0048】一方、本発明者らは、3種類の硝材からプ
リズムを作製し、これらプリズムより偏光ビームスプリ
ッタを作製して、このプリズム部材としての透光性材料
部材は入射光の波長に対し、光弾性定数の絶対値が1.
5×10-8cm2/N以下であることが望ましいとの結
論を得た。すなわち、前記3種類の透光性部材から作製
したプリズムから作製した偏光ビームスプリッタとして
は (1)前述した組成範囲内の組成を有し、前述した工程
により製造したガラスであって、所定波長の緑色単色光
に対する光弾性定数の絶対値が0.01×10-8cm2
/N以下であるガラスからなる部材を用いて構成された
もの。 (2)前記緑色単色光にたいする光弾性定数の絶対値が
1.33×10-8cm2/Nのガラスからなる部材を用
いて構成されたもの。 (3)前記緑色単色光に対する光弾性定数Cが2.0×
10-8cm2/Nのガラスからなる部材を用いて構成さ
れたもの、を用意した。そして、各偏光ビームスプリッ
タにS偏光を入射させ、前記当該偏光ビームスプリッタ
にて反射して出射した光をミラーにて反射させて再度当
該偏光ビームスプリッタに入射させ、前記偏光ビームス
プリッタを透過した光をスクリーン上に投射させ、スク
リーン上における照度ムラを評価した。
【0049】この結果、前記(1)の場合には照度ムラ
は非常に少なく、前記(2)の場合には照度ムラは観測
されるものの実用には耐える程度のムラであり、前記
(3)の場合には顕著なムラが観測され実用には耐えな
かった。これから、偏光ビームスプリッタを構成する透
光性材料としてのプリズム部材として光弾性定数Cとし
てその絶対値が1.5×10-8cm2/N以下(すなわ
ち、弾性定数Cが−1.5×10-8cm2/N以上で+
1.5×10-8cm2/N以下)の透光性材料を使用す
れば従来の透光性材料(例えばBK7であってその光弾
性定数Cの値は2.78×10-8cm2/N)に比して
十分に光学的に安定な性能を有する偏光ビームスプリッ
タを作製でき、かつ投射像の画質劣化を押さえることが
できるがわかった。
【0050】さらに、偏光ビームスプリッタを構成する
透光性材料から構成されたプリズム部材のみでなく、同
様に三角プリズムを複数使用して作製する色分解合成プ
リズムに関しても上記と同様なことが言え、そのプリズ
ムを構成する透光性部材に関してもその光弾性定数Cの
値が同値であれば良いことが同様に言える。図3には、
前述した測定の結果得られた表1の試料No1〜No7
の光弾性定数Cの波長依存性を示す曲線を示す。これら
の曲線は、各試料について得られた測定点をもとに3次
多項式にフィッティングした。
【0051】図3から、以下のことが判明した。すなわ
ち、光弾性定数Cは、波長の関数として右上がりであっ
て上に凸の形状を有しており、長波長側にいくほど光弾
性定数の大きくなる変化率は小さくなることである。図
3から理解できるように、試料No2〜No5のように
B光波長領域において光弾性定数の絶対値が最小になる
ようにガラスを構成すれば、前記の特性からB光波長領
域(380nm〜500nm)は勿論のこと、G光波長
領域(500nm〜600nm)、R光波長領域(60
0nm〜700nm)においても、前記光弾性定数Cの
値を1.5×10-8cm2/N以下に抑えることができ
るばかりでなく、B光吸収により発生する熱による複屈
折の発生は極力少なくすることができる。このことは、
ガラス材料の光吸収が大きい短波長側、すなわち、B光
波長領域における光弾性定数がCが最小になるように設
計することにより、光吸収によって発生する熱の影響に
よる複屈折の発生が少なくできるのである。
【0052】さらに、G光波長領域およびR光波長領域
においてはもともと光吸収に係る熱発生は少ない上に、
GおよびR光両波長領域においては光弾性定数の絶対値
は1.5×10-8cm2/N以下であるために十分に複
屈折の発生を抑えることができる。また、図3から理解
できるように、B光波長領域において光弾性定数Cの絶
対値が最小になる試料No2〜No5程ではないが、試
料No1およびNo6の場合であっても、B、G、R光
波長域のそれぞれの波長域においても光弾性定数Cは
1.5×10-8cm2/N以下である上に、B光波長域
における光弾性定数Cの値の絶対値もさほど大きくな
く、B光吸収による発生する熱による複屈折の発生は十
分に小さくなる。一方、No7の場合は、B光波長域、
G光波長域、R光波長域のいずれにおいても光弾性定数
Cの絶対値が1.5×10-8cm2/N以下であるもの
の、B光波長域における光弾性定数の絶対値の絶対値は
かなり大きくなってしまい。B光吸収により発生する熱
によって発生する複屈折がかなり大きくなってしまい、
本発明においては許容できない。
【0053】次に、R,G,B各波長領域における光弾
性定数Cの絶対値の平均値により、各試料を比較してみ
る。この時、各波長領域の平均値は次のように定義し
た。第1の値は、波長の関数である光弾性定数Cの絶対
値がゼロの水平ラインと、波長が600nmの垂直ライ
ンと、波長が700nmの垂直ラインと、光弾性定数を
示す曲線とにより囲まれた部分の面積に相当を、その波
長幅100nmで除算した値である。
【0054】第2の値は、図3において、光弾性定数C
がゼロの水平ラインと、波長が500nmの垂直ライン
と、波長が600nmの垂直ラインと、光弾性定数Cを
示す曲線とにより囲まれた面積に相当を、その波長幅1
00nmで除算した値である。第3の値は、図3におい
て、光弾性定数Cがゼロの水平ラインと、波長が380
nmの垂直ラインと、波長が500nmの垂直ライン、
光弾性定数Cを示す曲線とにより囲まれた面積に相当を
波長幅120nmで除算した値である。および、G光波
長領域における各波長に対する光弾性定数Cの絶対値の
平均的な値である第2の値、および、B光波長領域にお
ける各波長に対する光弾性定数Cの絶対値の平均的な値
である第3の値のうち、まず、試料No1〜No4の場
合、B光波長域に関する前記第3の値が最も小さくなっ
ている。
【0055】試料No5,No6の場合には、前記第
1、第2及び第3の値のうち、G光波長域に関する前記
第2の値が最も小さくなっている。試料No7の場合に
は前記第1、第2および第3の値の内のR光波長領域に
関する第1の値が最も小さくなっている。したがって、
前記第1、第2および第3の値のうちG光波長領域の前
記第2の値またはB光波長領域の第3の値が他の値に比
して一番小さい透光性材料を用いることができることが
わかる。この場合、R光波長領域の光弾性定数Cが1.
5×10-8cm2/N以下であれば、図3に示す特性が
右上がりであるので、B光波長領域の光弾性定数Cの値
は十分に小さくなる。
【0056】以上の説明のように、前記試料No1〜N
o6が本実施の形態において偏光ビームスプリッタ2な
らびにプリズム3のプリズム部材3−1〜3−3を構成
する透光性部材として用いることができる透光性材料の
例である。なお、図2から理解できるように、B光波長
領域において光弾性定数の絶対値が最小になるようにす
るためには、前述のように組成範囲においてPbOの含
有量を71〜73.7重量%にすればよく、そのような
組成範囲の透光性材料が本実施の形態に係る偏光ビーム
スプリッタならびにプりズムを構成する透光性材料の例
である。
【0057】また、本実施の形態においては、偏光ビー
ムスプリッタに入射した光源光のうちの当該偏光ビーム
スプリッタの偏光分離部によって反射されたS偏光は廃
棄し、透過するP偏光光を色分解光学系に導く構成とし
たが、反射されるS偏光を色分解光学系に導入する構成
としても良いことは言うまでもない。この構成を採用す
れば、各空間光変調素子に入射される各色光はS偏光と
なり、変調光がP偏光となる。このために、色合成され
た光の内の偏光ビームスプリッタに入射されて検光され
た変調光はP偏光となり、偏光ビームスプリッタの透過
光側に投射レンズを配置する構成となる。
【0058】以上本実施の形態によれば、従来例におけ
る液体浸漬型の偏光ビームスプリッタならびに色分解合
成光学系の有する種々の問題を除去することができ、製
造が容易になる等の効果を奏することができる。さら
に、本実施の形態によれば、偏光ビームスプリッタ2な
らびに色分解合成光学系のプリズム3を構成する透光性
プリズム光学部材として前述の透光性部材を使用するた
めに、種々の外部応力ならびに、光吸収によって発生す
る熱応力も含めた熱応力によって発生する複屈折を最小
に抑え、色ムラ等の画質の劣化を抑えることができると
いう、大きな効果を奏することができる。 (第2の実施の形態)次に、本発明の第2の実施の形態
に係る投射型表示装置について、図4を参照して説明す
る。
【0059】図4は本実施の形態に係る投射型表示装置
の概略構成を示す構成図である。前実施の形態において
色分解合成光学系を構成していたのはいわゆるフィリッ
プス型のプリズムであって3個のプリズム部材の所定に
位置にダイクロイック膜を形成して、組み合わせた構成
のプリズムであったが、本実施の形態に係る投射型表示
装置においては、色分解合成光学系を構成するにはクロ
スダイクロイックプリズムである。
【0060】ランプならびに楕円鏡等の凹面鏡から構成
される光源11から射出された光源光は図示しない形成
光学系になって略平行光束に変換され、当該光束は偏光
分離部12Pを有する偏光ビームスプリッタに入射さ
れ、当該偏光分離部によって反射されて廃棄されるS偏
光と、透過するP偏光とに偏光分離される。偏光ビーム
スプリッタを射出したP偏光光束は前記の色分解合成光
学系を構成するクロスダイクロイックプリズム13に入
射される。
【0061】クロスダイクロイックプリズム13は略同
じ形状の透光性部材からなる直角2等辺三角形状のプリ
ズムを所定斜面にダイクロイック膜を形成し、直角部を
合わせる構成にて接着剤にて貼り合わせることにより作
製したプリズムであって、R光反射ダイクロイック膜な
らびにB光反射ダイクロイック膜13BがX型に配置す
るように構成されている。
【0062】入射面から入射した光源光のP偏光成分は
当該クロスダイクロイックプリズム13に入射してその
まま透過して進行し当該プリズムを射出するG光と入射
光軸に対して直交し、互いに逆方向に進行する光軸方向
のR光とB光とに色分解される。色分離された各色光の
クロスダイクロイックプリズム13射出面近傍には、各
色毎に空間光変調素子である反射型ライトバルブ14
R、14B、14Bがそれぞれ配置される。
【0063】ここで使用する空間光変調素子は前実施の
形態にて使用した空間光変調素子と同じ光書き込み式ま
たは電気書き込み式反射型ライトバルブである。各色信
号による変調光はS偏光光として射出されるために、こ
れら変調光と非変調光であるP偏光との混合光はそれぞ
れの入射面から再度前記クロスダイクロイックプリズム
に入射され、前述のダイクロイック膜によって反射、透
過作用を経て色合成が達成され、前記光源光であるP偏
光入射面から射出される。
【0064】前記合成光は偏光ビームスプリッタ12に
入射され、当該偏光ビームスプリッタの偏光分離部によ
って検光作用を受け、変調光であるS偏光を反射させて
射出させ、投射レンズによってスクリーン上に投射す
る。一方、非変調光であるP偏光は当該偏光ビームスプ
リッタを透過し、光源方向に進行して廃棄される。本発
明に実施の形態においても、偏光ビームスプリッタ12
ならびにクロスダイクロイクプリズム13を構成する透
光性部材としてのプリズム部材には前実施の形態にて使
用した透光性材料を使用した。従って、本実施の形態に
よっても、前記第1の実施の形態にて記載と同様の利点
が得られ、同様な効果を奏することができる。
【0065】
【本発明の効果】以上述べたように、複数の空間光変調
素子を射出した光を色合成用、偏光分離用光学系を構成
する透光性材料であるプリズム部材を経由してから偏光
分離作用を用いて検光作用を実施する構成の投射型表示
装置において、前記色合成用、偏光分離用光学系を構成
する透光性部材として本実施形態にて記載のガラス材料
を使用することにより、前記液体浸漬型偏光ビームスプ
リッタならびに色分解合成光学系を使用することに伴う
問題点を除去できる他に種々の熱応力、外部応力の影響
にたいして光学的に安定な性能を確保でき画質劣化の少
ない投射型表示装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態による投射型表示装
置を示す構成図。
【図2】偏光ビームスプリッタならびに色分離合成光学
系に使用する透光性部材のガラス組成のPbO含有量と
当該ガラスの光弾性定数の絶対値を最小にする波長との
関係を示す図。
【図3】ガラス試料の光弾性定数の波長依存性を示す
図。
【図4】本発明の第2の実施の形態による投射型表示装
置を示す構成図。
【符号の説明】
1、11 光源 2、12 偏光ビームスプリッタ 2P、12P 偏光ビームスプリッタの偏光分離部 3、13 色分解合成光学系 3B、3G、13B、13R ダイクロイック膜 4R、14R、4G、14G、4B、14B 空間光変
調素子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G09F 9/00 360 G09F 9/00 360D

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 R光、G光及びB光の各々を入射させ色
    合成して射出する複数のプリズム部材から構成される色
    合成光学系と、前記色合成光学系から射出された合成光
    を偏光分離し検光する偏光ビームスプリッタと、前記検
    光光を投射する投射レンズとを備えた投射型表示装置に
    おいて、 前記色合成光学系を構成する複数のプリズム部材は光弾
    性定数の絶対値が最小値となる波長がB光波長領域また
    はG光波長領域に存在する部材を用いて構成されたこと
    を特徴とする投射型表示装置。
  2. 【請求項2】 R光、G光及びB光の各々を入射させ色
    合成して射出する複数のプリズム部材から構成される色
    合成光学系と、前記色合成光学系から射出された合成光
    を偏光分離し検光する偏光ビームスプリッタと、前記検
    光光を投射する投射レンズとを備えた投射型表示装置に
    おいて、 前記色合成光学系及び前記偏光ビームスプリッタを構成
    するプリズム部材は、光弾性定数の絶対値が最小値とな
    る波長がB光波長領域またはG光波長領域に存在する部
    材を用いて構成されたことを特徴とする投射型表示装
    置。
  3. 【請求項3】 R光、G光及びB光の各々を入射させ色
    合成して射出する複数のプリズム部材から構成される色
    合成光学系と、前記色合成光学系から射出された合成光
    を偏光分離し検光する偏光ビームスプリッタと、前記検
    光光を投射する投射レンズとを備えた投射型表示装置に
    おいて、 前記色合成光学系を構成する複数のプリズム部材は、R
    光波長領域における各波長に対する光弾性定数の絶対値
    の平均的な値である第1の値、G光波長領域における各
    波長に対する光弾性定数の絶対値の平均的な値である第
    2の値、及び、B光波長領域における各波長にたいする
    光弾性定数の絶対値の平均的な値である第3の値のう
    ち、前記第2の値または前記第3の値が他の値に比べて
    最も小さい透光性材料からなる部材を用いて構成された
    ることを特徴とする投射型表示装置。
  4. 【請求項4】 R光、G光及びB光の各々を入射させ色
    合成して射出する複数のプリズム部材から構成される色
    合成光学系と、前記色合成光学系から射出された合成光
    を偏光分離し検光する偏光ビームスプリッタと、前記検
    光光を投射する投射レンズとを備えた投射型表示装置に
    おいて、 前記色合成光学系を構成する複数のプリズム部材および
    前記偏光ビームスプリッタを構成するプリズムは、R光
    波長領域における各波長に対する光弾性定数の絶対値の
    平均的な値である第1の値、G光波長領域における各波
    長に対する光弾性定数の絶対値の平均的な値である第2
    の値、及び、B光波長領域における各波長にたいする光
    弾性定数の絶対値の平均的な値である第3の値のうち、
    前記第2の値または前記第3の値が他の値に比べて最も
    小さい透光性材料からなる部材を用いて構成されたるこ
    とを特徴とする投射型表示装置。
  5. 【請求項5】 光源からの光を偏光分離する偏光ビーム
    スプリッタと、 前記偏光ビームスプリッタを射出する一方の偏光光をR
    光、G光ならびにB光に色分解する色分解光学系と、 前記色分解光学系によって色分解された各色光を変調し
    て射出しる各色光毎に配置されたライトバルブと、 前記各色光のライトバルブから射出された光を色合成す
    る合成光学系と、 前記合成光学系にて合成された光を検光して変調光を取
    り出す検光光学系と、 前記検光光学系にて検光された検光光を投射する投射光
    学系とを備え、 前記偏光分離光学系と前記検光光学系は同一の偏光ビー
    ムスプリッタで共用され、 前記色分解光学系と前記合成光学系とが同一の複数のプ
    リズム部材から構成され、かつ前記複数のプリズム部材
    は光弾性定数の絶対値が最小となる波長がB光波長領域
    またはG光波長領域に存在する透光性材料を用いて構成
    されたことを特徴とする投射型表示装置。
  6. 【請求項6】 光源からの光を偏光分離する偏光ビーム
    スプリッタと、 前記偏光ビームスプリッタを射出する一方の偏光光をR
    光、G光ならびにB光に色分解する色分解光学系と、 前記色分解光学系によって色分解された各色光を変調し
    て射出する各色光毎に配置されたライトバルブと、 前記各色光のライトバルブから射出された光を色合成す
    る合成光学系と、 前記合成光学系にて合成された光を検光して変調光を取
    り出す検光光学系と、 前記検光光学系にて検光された検光光を投射する投射光
    学系とを備え、 前記偏光分離光学系と前記検光光学系は同一の偏光ビー
    ムスプリッタで共用され、 前記色分解光学系と前記合成光学系及び偏光ビームスプ
    リッタとが同一の複数のプリズム部材から構成され、か
    つ前記複数のプリズム部材は光弾性定数の絶対値が最小
    となる波長がB光波長領域またはG光波長領域に存在す
    る透光性材料を用いて構成されたことを特徴とする投射
    型表示装置。
  7. 【請求項7】 光源からの光を偏光分離する偏光ビーム
    スプリッタと、 前記偏光ビームスプリッタを射出する一方の偏光光をR
    光、G光ならびにB光に色分解する色分解光学系と、 前記色分解光学系によって色分解された各色光を変調し
    て射出する各色光毎に配置するライトバルブと、 前記各色光のライトバルブから射出された光を色合成す
    る合成光学系と、 前記合成光学系にて合成された光を検光して変調光を取
    り出す検光光学系と、 前記検光光学系にて検光された検光光を投射する投射光
    学系とを備え、 前記偏光分離光学系と前記検光光学系は同一の偏光ビー
    ムスプリッタで共用され、前記色分解光学系と前記合成
    光学系とが同一の複数のプリズム部材から構成され、か
    つ前記複数のプリズム部材は、R光波長領域における各
    波長に対する光弾性定数の絶対値の平均的な値である第
    1の値、G光波長領域における各波長に対する光弾性定
    数の絶対値の平均的な値である第2の値、及び、B光波
    長領域における各波長にたいする光弾性定数の絶対値の
    平均的な値である第3の値のうち、前記第2の値または
    前記第3の値が他の値に比べて最も小さい透光性材料か
    らなる部材を用いて構成されたることを特徴とする投射
    型表示装置。
  8. 【請求項8】 光源からの光を偏光分離する偏光ビーム
    スプリッタと、 前記偏光ビームスプリッタを射出する一方の偏光光をR
    光、G光ならびにB光に色分解する色分解光学系と、 前記色分解光学系によって色分解された各色光を変調し
    て射出する各色光毎に配置するライトバルブと、 前記各色光のライトバルブから射出された光を色合成す
    る合成光学系と、 前記合成光学系にて合成された光を検光して変調光を取
    り出す検光光学系と、 前記検光光学系にて検光された検光光を投射する投射光
    学系とを備え、 前記偏光分離光学系と前記検光光学系は同一の偏光ビー
    ムスプリッタで共用され、前記色分解光学系と前記色合
    成光学系及び前記偏光ビームスプリッタは同一の複数の
    プリズム部材から構成され、かつ前記複数のプリズム部
    材は、R光波長領域における各波長に対する光弾性定数
    の絶対値の平均的な値である第1の値、G光波長領域に
    おける各波長に対する光弾性定数の絶対値の平均的な値
    である第2の値、及び、B光波長領域における各波長に
    たいする光弾性定数の絶対値の平均的な値である第3の
    値のうち、前記第2の値または前記第3の値が他の値に
    比べて最も小さい透光性材料からなる部材を用いて構成
    されたることを特徴とする投射型表示装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001290120A (ja) * 2000-04-07 2001-10-19 Sony Corp 投射型液晶表示装置
JP2011107724A (ja) * 2000-01-28 2011-06-02 Seiko Epson Corp 光反射型偏光子及びこれを用いたプロジェクタ
JP2012068228A (ja) * 2010-07-30 2012-04-05 Canon Inc 物体の表面プロファイルを測定する方法及び装置

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