JPH11134701A - 光ディスク装置 - Google Patents
光ディスク装置Info
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- JPH11134701A JPH11134701A JP10238581A JP23858198A JPH11134701A JP H11134701 A JPH11134701 A JP H11134701A JP 10238581 A JP10238581 A JP 10238581A JP 23858198 A JP23858198 A JP 23858198A JP H11134701 A JPH11134701 A JP H11134701A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ワーキングディスタンスや開口数を変更せず
に、物理的な限界を越えた薄型の光ディスク装置を提供
する。 【解決手段】 半導体レーザー等の放射光源１を出射
し、コリメートレンズ２により平行光に変換された光３
は、プリズム４の表面４Ａに入射角φ(表面４Ａの法線
４ａに対する入射光３のなす角)で入射し、屈折角ψ(法
線４ａに対する屈折光５ａのなす角)で屈折する光５ａ
となる。この屈折光５ａはプリズム４の面４Ｂに入射し
てこの面を全反射し、反射光５ｂはプリズム４の面４Ｃ
に入射してこの面を反射し、反射光５ｃは再びプリズム
４の面４Ｂに入射してこの面を透過する。この透過光６
は対物レンズ７により収束光８となり、光ディスク基材
９の表面９Ｂを透過して信号面９Ａ上に集光する。
に、物理的な限界を越えた薄型の光ディスク装置を提供
する。 【解決手段】 半導体レーザー等の放射光源１を出射
し、コリメートレンズ２により平行光に変換された光３
は、プリズム４の表面４Ａに入射角φ(表面４Ａの法線
４ａに対する入射光３のなす角)で入射し、屈折角ψ(法
線４ａに対する屈折光５ａのなす角)で屈折する光５ａ
となる。この屈折光５ａはプリズム４の面４Ｂに入射し
てこの面を全反射し、反射光５ｂはプリズム４の面４Ｃ
に入射してこの面を反射し、反射光５ｃは再びプリズム
４の面４Ｂに入射してこの面を透過する。この透過光６
は対物レンズ７により収束光８となり、光ディスク基材
９の表面９Ｂを透過して信号面９Ａ上に集光する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光ディスクに信号を
記録、または光ディスクの信号を再生するために使われ
る光ディスク装置に関するものである。
記録、または光ディスクの信号を再生するために使われ
る光ディスク装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の技術を、図８に基づいて説明す
る。図８は従来例における光ディスク装置の断面構成を
示しており、半導体レーザー等の放射光源１を出射する
レーザー光はコリメートレンズ２によりｚ軸に沿った平
行光に変換され、この光３は立ち上げミラー１０の反射
面１０Ａに入射して反射光６となり、光６は対物レンズ
７により収束光８となり、光ディスク基材９の表面９Ｂ
を透過して信号面９Ａ上に集光する。この収束光８によ
り信号面９Ａ上に信号を記録、または信号面上の信号を
再生できる。
る。図８は従来例における光ディスク装置の断面構成を
示しており、半導体レーザー等の放射光源１を出射する
レーザー光はコリメートレンズ２によりｚ軸に沿った平
行光に変換され、この光３は立ち上げミラー１０の反射
面１０Ａに入射して反射光６となり、光６は対物レンズ
７により収束光８となり、光ディスク基材９の表面９Ｂ
を透過して信号面９Ａ上に集光する。この収束光８によ
り信号面９Ａ上に信号を記録、または信号面上の信号を
再生できる。
【０００３】この光ディスク装置において、その厚さｔ
（光ディスク基材下面９Ｂから立ち上げミラー１０の底
面までの距離）はｔ１＋ｔ２で決まる。ｔ１は対物レン
ズ７の厚さに上下の可動幅を加えた値、ｔ２は立ち上げ
前のビーム径ｄに立ち上げミラー１０の下面先端部の欠
け幅余裕分（ミラー１０の下部において加工の面精度が
保証されずレーザー光３の反射に寄与しない領域の厚
さ）を含めた値である。立ち上げ前のビーム径ｄは、対
物レンズ７の位置調整誤差の余裕も考慮して（ｚ軸が光
ディスクの径方向にある場合は対物レンズ７のトラッキ
ング時の最大可動幅も考慮して）、対物レンズ７の口径
より大きい値となる。口径は２×ＮＡ×ｆで与えられ、
ここでＮＡ、ｆは対物レンズの開口数、焦点距離であ
る。ＮＡはＤＶＤの場合で０．６が採用されており、光
ディスク装置の解像力がＮＡの二乗に比例することか
ら、この採用値より小さくすることはできない。また、
ｆも対物レンズ７が基材表面９Ｂとぶつからないように
するために少なくとも１．３ｍｍ以上のワーキングディ
スタンス（基材表面９Ｂと対物レンズ表面との最短距
離）が必要なことから、一般にはＤＶＤで２．４ｍｍ以
上の大きさになる。従って、ＤＶＤでは少なくとも２×
ＮＡ×ｆ＝２．８８ｍｍの口径が必要で、０．４ｍｍの
調整余裕をみてビーム径ｄは３．３ｍｍ程度の大きさと
なり、これに立ち上げミラーの欠け幅余裕０．３ｍｍを
加えて、ｔ２＝３．６ｍｍとなる。さらに、ｆ＝２．４
ｍｍの場合、設計的にｔ１＝４．０ｍｍとなり、光ディ
スク装置の厚さはｔ＝７．６ｍｍとなる。
（光ディスク基材下面９Ｂから立ち上げミラー１０の底
面までの距離）はｔ１＋ｔ２で決まる。ｔ１は対物レン
ズ７の厚さに上下の可動幅を加えた値、ｔ２は立ち上げ
前のビーム径ｄに立ち上げミラー１０の下面先端部の欠
け幅余裕分（ミラー１０の下部において加工の面精度が
保証されずレーザー光３の反射に寄与しない領域の厚
さ）を含めた値である。立ち上げ前のビーム径ｄは、対
物レンズ７の位置調整誤差の余裕も考慮して（ｚ軸が光
ディスクの径方向にある場合は対物レンズ７のトラッキ
ング時の最大可動幅も考慮して）、対物レンズ７の口径
より大きい値となる。口径は２×ＮＡ×ｆで与えられ、
ここでＮＡ、ｆは対物レンズの開口数、焦点距離であ
る。ＮＡはＤＶＤの場合で０．６が採用されており、光
ディスク装置の解像力がＮＡの二乗に比例することか
ら、この採用値より小さくすることはできない。また、
ｆも対物レンズ７が基材表面９Ｂとぶつからないように
するために少なくとも１．３ｍｍ以上のワーキングディ
スタンス（基材表面９Ｂと対物レンズ表面との最短距
離）が必要なことから、一般にはＤＶＤで２．４ｍｍ以
上の大きさになる。従って、ＤＶＤでは少なくとも２×
ＮＡ×ｆ＝２．８８ｍｍの口径が必要で、０．４ｍｍの
調整余裕をみてビーム径ｄは３．３ｍｍ程度の大きさと
なり、これに立ち上げミラーの欠け幅余裕０．３ｍｍを
加えて、ｔ２＝３．６ｍｍとなる。さらに、ｆ＝２．４
ｍｍの場合、設計的にｔ１＝４．０ｍｍとなり、光ディ
スク装置の厚さはｔ＝７．６ｍｍとなる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の光デ
ィスク装置において、ワーキングディスタンスや開口数
を変更しない限り、光ディスク装置の厚さｔを７．６ｍ
ｍ未満にすることは物理的に不可能であるという問題点
があった。
ィスク装置において、ワーキングディスタンスや開口数
を変更しない限り、光ディスク装置の厚さｔを７．６ｍ
ｍ未満にすることは物理的に不可能であるという問題点
があった。
【０００５】本発明はかかる問題点に鑑み、ワーキング
ディスタンスや開口数を変更せずに、物理的な限界を越
えた薄型の光ディスク装置を提供することを目的とす
る。
ディスタンスや開口数を変更せずに、物理的な限界を越
えた薄型の光ディスク装置を提供することを目的とす
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため、以下の手段を用いる。
するため、以下の手段を用いる。
【０００７】すなわち、本発明の光ディスク装置は、放
射光源と、コリメートレンズと、少なくともＡ面、Ｂ
面、Ｃ面の３つの研磨された平面を持つプリズムと、対
物レンズからなり、前記放射光源を出射する光は前記コ
リメートレンズにより集光され、前記プリズムのＡ面に
入射してこれを屈折し（入射角φ、屈折角ψ）、前記Ｂ
面に入射してこれを反射し、前記Ｃ面に入射してこれを
反射し、再度前記Ｂ面に入射してこれを透過し、前記対
物レンズを経て光ディスク信号面上に収束することを特
徴とする。
射光源と、コリメートレンズと、少なくともＡ面、Ｂ
面、Ｃ面の３つの研磨された平面を持つプリズムと、対
物レンズからなり、前記放射光源を出射する光は前記コ
リメートレンズにより集光され、前記プリズムのＡ面に
入射してこれを屈折し（入射角φ、屈折角ψ）、前記Ｂ
面に入射してこれを反射し、前記Ｃ面に入射してこれを
反射し、再度前記Ｂ面に入射してこれを透過し、前記対
物レンズを経て光ディスク信号面上に収束することを特
徴とする。
【０００８】また、本発明の光ディスク装置は、放射光
源と、コリメートレンズと、少なくともＡ面、Ｂ面、Ｃ
面の３つの研磨された平面を持つプリズムと、対物レン
ズからなり、前記放射光源を出射する光は前記コリメー
トレンズにより集光され、前記プリズムのＡ面に入射し
てこれを屈折し（入射角φ、屈折角ψ）、前記Ｂ面に入
射してこれを反射し、前記Ｃ面に入射してこれを反射
し、再度前記Ｂ面に入射してこれを屈折し（入射角
φ′、屈折角ψ′）、前記対物レンズを経て光ディスク
信号面上に収束することを特徴とする。
源と、コリメートレンズと、少なくともＡ面、Ｂ面、Ｃ
面の３つの研磨された平面を持つプリズムと、対物レン
ズからなり、前記放射光源を出射する光は前記コリメー
トレンズにより集光され、前記プリズムのＡ面に入射し
てこれを屈折し（入射角φ、屈折角ψ）、前記Ｂ面に入
射してこれを反射し、前記Ｃ面に入射してこれを反射
し、再度前記Ｂ面に入射してこれを屈折し（入射角
φ′、屈折角ψ′）、前記対物レンズを経て光ディスク
信号面上に収束することを特徴とする。
【０００９】また、本発明の光ディスク装置は、放射光
源と、コリメートレンズと、少なくともα面、β面、γ
面の３つの研磨された平面を持つ第一のプリズムと、少
なくともＡ面、Ｂ面、Ｃ面の３つの研磨された平面を持
つ第二のプリズムと、対物レンズからなり、前記第一の
プリズムと第二のプリズムは同一の屈折率を有し、それ
らはγ面とＡ面の間で接合されており、前記放射光源を
出射する光は前記コリメートレンズにより集光され、前
記第一のプリズムのα面に入射してこれを屈折し（入射
角φ、屈折角ψ）、前記β面に入射してこれを反射し、
γ面すなわち第二のプリズムのＡ面に入射してこれを透
過し、前記Ｂ面に入射してこれを反射し、前記Ｃ面に入
射してこれを反射し、再度前記Ｂ面に入射してこれを屈
折し（入射角φ”、屈折角ψ”）、前記対物レンズを経
て光ディスク信号面上に収束することを特徴とする。
源と、コリメートレンズと、少なくともα面、β面、γ
面の３つの研磨された平面を持つ第一のプリズムと、少
なくともＡ面、Ｂ面、Ｃ面の３つの研磨された平面を持
つ第二のプリズムと、対物レンズからなり、前記第一の
プリズムと第二のプリズムは同一の屈折率を有し、それ
らはγ面とＡ面の間で接合されており、前記放射光源を
出射する光は前記コリメートレンズにより集光され、前
記第一のプリズムのα面に入射してこれを屈折し（入射
角φ、屈折角ψ）、前記β面に入射してこれを反射し、
γ面すなわち第二のプリズムのＡ面に入射してこれを透
過し、前記Ｂ面に入射してこれを反射し、前記Ｃ面に入
射してこれを反射し、再度前記Ｂ面に入射してこれを屈
折し（入射角φ”、屈折角ψ”）、前記対物レンズを経
て光ディスク信号面上に収束することを特徴とする。
【００１０】また、本発明の光ディスク装置は、放射光
源と、コリメートレンズと、少なくともα面、β面、γ
面の３つの研磨された平面を持つ第一のプリズムと、少
なくともＡ面、Ｂ面、Ｃ面の３つの研磨された平面を持
つ第二のプリズムと、対物レンズからなり、前記第一の
プリズムと第二のプリズムは互いに異なる屈折率を有
し、それらはγ面とＡ面の間で接合されており、前記放
射光源を出射する光は前記コリメートレンズにより集光
され、前記第一のプリズムのα面に入射してこれを屈折
し（入射角φ、屈折角ψ）、前記β面に入射してこれを
反射し、γ面すなわち第二のプリズムのＡ面に入射して
これを屈折し（入射角φ′、屈折角ψ′）、前記Ｂ面に
入射してこれを反射し、前記Ｃ面に入射してこれを反射
し、再度前記Ｂ面に入射してこれを屈折し（入射角
φ”、屈折角ψ”）、前記対物レンズを経て光ディスク
信号面上に収束することを特徴とする。
源と、コリメートレンズと、少なくともα面、β面、γ
面の３つの研磨された平面を持つ第一のプリズムと、少
なくともＡ面、Ｂ面、Ｃ面の３つの研磨された平面を持
つ第二のプリズムと、対物レンズからなり、前記第一の
プリズムと第二のプリズムは互いに異なる屈折率を有
し、それらはγ面とＡ面の間で接合されており、前記放
射光源を出射する光は前記コリメートレンズにより集光
され、前記第一のプリズムのα面に入射してこれを屈折
し（入射角φ、屈折角ψ）、前記β面に入射してこれを
反射し、γ面すなわち第二のプリズムのＡ面に入射して
これを屈折し（入射角φ′、屈折角ψ′）、前記Ｂ面に
入射してこれを反射し、前記Ｃ面に入射してこれを反射
し、再度前記Ｂ面に入射してこれを屈折し（入射角
φ”、屈折角ψ”）、前記対物レンズを経て光ディスク
信号面上に収束することを特徴とする。
【００１１】さらに、本発明の光ディスク装置は、放射
光源と、コリメートレンズと、少なくともα面、β面の
２つの研磨された平面を持つ第一のプリズムと、少なく
ともＡ面、Ｂ面、Ｃ面の３つの研磨された平面を持つ第
二のプリズムと、対物レンズからなり、前記第一のプリ
ズムと第二のプリズムは互いに異なる屈折率を有し、そ
れらはβ面とＡ面の間で接合されており、前記放射光源
を出射する光は前記コリメートレンズにより集光され、
前記第一のプリズムのα面に入射してこれを屈折し（入
射角φ、屈折角ψ）、β面すなわち第二のプリズムのＡ
面に入射してこれを屈折し（入射角φ′、屈折角
ψ′）、前記Ｂ面に入射してこれを反射し、前記Ｃ面に
入射してこれを反射し、再度前記Ｂ面に入射してこれを
屈折し（入射角φ”、屈折角ψ”）、前記対物レンズを
経て光ディスク信号面上に収束することを特徴とする。
光源と、コリメートレンズと、少なくともα面、β面の
２つの研磨された平面を持つ第一のプリズムと、少なく
ともＡ面、Ｂ面、Ｃ面の３つの研磨された平面を持つ第
二のプリズムと、対物レンズからなり、前記第一のプリ
ズムと第二のプリズムは互いに異なる屈折率を有し、そ
れらはβ面とＡ面の間で接合されており、前記放射光源
を出射する光は前記コリメートレンズにより集光され、
前記第一のプリズムのα面に入射してこれを屈折し（入
射角φ、屈折角ψ）、β面すなわち第二のプリズムのＡ
面に入射してこれを屈折し（入射角φ′、屈折角
ψ′）、前記Ｂ面に入射してこれを反射し、前記Ｃ面に
入射してこれを反射し、再度前記Ｂ面に入射してこれを
屈折し（入射角φ”、屈折角ψ”）、前記対物レンズを
経て光ディスク信号面上に収束することを特徴とする。
【００１２】本発明は、上記の構成により、プリズムの
Ａ面または第１のプリズムのα面を屈折する光が薄いプ
リズムの内部で反射を繰り返して対物レンズに導かれる
ので、対物レンズの真下の領域を薄くでき、光ディスク
装置の厚さを物理的な限界を越えて薄くできる。
Ａ面または第１のプリズムのα面を屈折する光が薄いプ
リズムの内部で反射を繰り返して対物レンズに導かれる
ので、対物レンズの真下の領域を薄くでき、光ディスク
装置の厚さを物理的な限界を越えて薄くできる。
【００１３】さらに、入射面での屈折を出射面での屈折
が打ち消す関係を持たせれば、光学的にはコリメートレ
ンズと対物レンズとの間に平行平板を配置した関係にす
ることができるので、波長変化による出射光軸の変化が
なく、平行光以外の光をプリズムに入射しても、放射光
源とコリメートレンズの間に平行平板を傾斜して挟む
か、コリメートレンズを光軸に対して傾斜させる等の方
法で収差を容易に補正できる。
が打ち消す関係を持たせれば、光学的にはコリメートレ
ンズと対物レンズとの間に平行平板を配置した関係にす
ることができるので、波長変化による出射光軸の変化が
なく、平行光以外の光をプリズムに入射しても、放射光
源とコリメートレンズの間に平行平板を傾斜して挟む
か、コリメートレンズを光軸に対して傾斜させる等の方
法で収差を容易に補正できる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図１〜図７に示す
実施の形態に基づいて詳細に説明する。
実施の形態に基づいて詳細に説明する。
【００１５】（第１実施形態）図１は本発明の第１実施
形態における光ディスク装置の概略構成図であり、プリ
ズム４は４Ａ，４Ｂ，４Ｃの３つの紙面に直交した研磨
面で構成されている。
形態における光ディスク装置の概略構成図であり、プリ
ズム４は４Ａ，４Ｂ，４Ｃの３つの紙面に直交した研磨
面で構成されている。
【００１６】図１において半導体レーザー等の放射光源
１を出射し、コリメートレンズ２により平行光に変換さ
れた光３は、屈折率ｎの硝材で形成されるプリズム４の
表面４Ａに入射角φ(表面４Ａの法線４ａに対する入射
光３のなす角)で入射し、屈折角ψ(法線４ａに対する屈
折光５ａのなす角)で屈折する光５ａとなる。この屈折
光５ａはプリズム４の面４Ｂに入射してこの面を全反射
し、反射光５ｂはプリズム４の面４Ｃに入射してこの面
を反射し、反射光５ｃは再びプリズム４の面４Ｂに入射
してこの面を透過する。この透過光６は対物レンズ７に
より収束光８となり、光ディスク基材９の表面９Ｂを透
過して信号面９Ａ上に集光する。この収束光８により信
号面９Ａ上に信号を記録、または信号面上の信号を再生
できる。
１を出射し、コリメートレンズ２により平行光に変換さ
れた光３は、屈折率ｎの硝材で形成されるプリズム４の
表面４Ａに入射角φ(表面４Ａの法線４ａに対する入射
光３のなす角)で入射し、屈折角ψ(法線４ａに対する屈
折光５ａのなす角)で屈折する光５ａとなる。この屈折
光５ａはプリズム４の面４Ｂに入射してこの面を全反射
し、反射光５ｂはプリズム４の面４Ｃに入射してこの面
を反射し、反射光５ｃは再びプリズム４の面４Ｂに入射
してこの面を透過する。この透過光６は対物レンズ７に
より収束光８となり、光ディスク基材９の表面９Ｂを透
過して信号面９Ａ上に集光する。この収束光８により信
号面９Ａ上に信号を記録、または信号面上の信号を再生
できる。
【００１７】ここで面４Ｂが光３と平行で、かつ光５ｃ
と直交し、面４Ａが光５ｂと平行である場合を例にと
る。面４Ｂが光３と平行であることから、面４Ａと面４
Ｂのなす角はπ／２−φであり、面４Ｂが光５ｃと直交
することから、面４Ｃと面４Ｂのなす角β＝π／４−
（φ−ψ）／２となる。また、面４Ａが光５ｂと平行で
あることから、
と直交し、面４Ａが光５ｂと平行である場合を例にと
る。面４Ｂが光３と平行であることから、面４Ａと面４
Ｂのなす角はπ／２−φであり、面４Ｂが光５ｃと直交
することから、面４Ｃと面４Ｂのなす角β＝π／４−
（φ−ψ）／２となる。また、面４Ａが光５ｂと平行で
あることから、
【００１８】
【数１】φ−ψ＝π／２−φ ・・・（式１）
【００１９】が成り立つ。一方、面４Ａでのスネルの法
則により
則により
【００２０】
【数２】sinφ＝ｎ×ｓｉｎψ ・・・（式２）
【００２１】が成り立つ。一方、面４Ａでの屈折による
ビーム拡大率は次式に従う。
ビーム拡大率は次式に従う。
【００２２】
【数３】ｍ＝cosψ／cosφ ・・・（式３）
【００２３】ｎ＝１．５とすると（式１）、（式２）よ
りφ＝６３．３度、ψ＝３６．５度、β＝３１．６度、
（式３）よりｍ＝１．７９となる。従ってプリズム出射
後の光６のビーム径ｄは入射前の光３のビーム径ｄ１の
１．７９倍となる。ｄ＝３．３ｍｍとするとｄ１＝１．
８４ｍｍとなる。プリズム４の厚さｔ２は(ｄ＋0.3）×
tanβの値（０．３の値はプリズム上右端の欠け幅余裕
分）にプリズム最下部の欠け幅（０．３ｍｍ）を加え
て、ｔ２＝２．５ｍｍである。従って、ｔ１＝４．０ｍ
ｍとすると、光ディスク装置の厚さｔ＝６．５ｍｍとな
り、同一条件の従来例に比べて１．１ｍｍも薄くでき
る。
りφ＝６３．３度、ψ＝３６．５度、β＝３１．６度、
（式３）よりｍ＝１．７９となる。従ってプリズム出射
後の光６のビーム径ｄは入射前の光３のビーム径ｄ１の
１．７９倍となる。ｄ＝３．３ｍｍとするとｄ１＝１．
８４ｍｍとなる。プリズム４の厚さｔ２は(ｄ＋0.3）×
tanβの値（０．３の値はプリズム上右端の欠け幅余裕
分）にプリズム最下部の欠け幅（０．３ｍｍ）を加え
て、ｔ２＝２．５ｍｍである。従って、ｔ１＝４．０ｍ
ｍとすると、光ディスク装置の厚さｔ＝６．５ｍｍとな
り、同一条件の従来例に比べて１．１ｍｍも薄くでき
る。
【００２４】この第１実施形態は光が薄いプリズムの内
部で反射を繰り返す中で垂直に立ち上げられて対物レン
ズに導かれるだけでなく、半導体レーザー１から出射す
る楕円状の広がりの光を円形状に近い広がりに整形でき
る長所も合わせ持つ。
部で反射を繰り返す中で垂直に立ち上げられて対物レン
ズに導かれるだけでなく、半導体レーザー１から出射す
る楕円状の広がりの光を円形状に近い広がりに整形でき
る長所も合わせ持つ。
【００２５】本実施形態のように、面４Ａでの入射光３
と面４Ｂでの透過光６とを直交させることにより、放射
光源１とプリズム４との距離が長くなった場合であって
も、放射光源１とコリメートレンズ２を含めた光ディス
ク装置全体の厚みが上記ｔより厚くなることがなく、薄
型の光ディスク装置とすることができる。
と面４Ｂでの透過光６とを直交させることにより、放射
光源１とプリズム４との距離が長くなった場合であって
も、放射光源１とコリメートレンズ２を含めた光ディス
ク装置全体の厚みが上記ｔより厚くなることがなく、薄
型の光ディスク装置とすることができる。
【００２６】なお、本実施形態では面４Ａ，４Ｂ，４Ｃ
が紙面に直交するとして説明したが、他の位置関係にあ
ってもよい。また、面４Ｂが光３と平行で、かつ光５ｃ
と直交し、面４Ａが光５ｂと平行である場合を例にとっ
て説明したが、他の条件下でも同様の効果が得られる。
その例を以下に示す。
が紙面に直交するとして説明したが、他の位置関係にあ
ってもよい。また、面４Ｂが光３と平行で、かつ光５ｃ
と直交し、面４Ａが光５ｂと平行である場合を例にとっ
て説明したが、他の条件下でも同様の効果が得られる。
その例を以下に示す。
【００２７】（第２実施形態）図２は本発明の第２実施
形態における光ディスク装置の概略構成図である。図２
において、放射光源１及びコリメートレンズ２等の構成
要素は第１実施形態と同じなので省略しており、プリズ
ム４は基本的には紙面に垂直な４Ａ，４Ｂ，４Ｃの３つ
の研磨面で構成され、その他の面は単なる切り出し面で
研磨は必要としない。
形態における光ディスク装置の概略構成図である。図２
において、放射光源１及びコリメートレンズ２等の構成
要素は第１実施形態と同じなので省略しており、プリズ
ム４は基本的には紙面に垂直な４Ａ，４Ｂ，４Ｃの３つ
の研磨面で構成され、その他の面は単なる切り出し面で
研磨は必要としない。
【００２８】半導体レーザー等の放射光源１を出射し、
コリメートレンズ２により紙面上のｚ軸に沿った平行光
に変換された光３は、プリズム４の表面４Ａ（ｚ軸に対
する傾斜角γ）に入射角φ(表面４Ａの法線４ａに対す
る入射光３のなす角、φ＝γ−π／２)で入射し、屈折
角ψ(法線４ａに対する屈折光５ａのなす角)で屈折する
光５ａとなる。この屈折光５ａは面４Ｂ（ｚ軸に対する
傾斜角α）に入射してこの面を全反射し、反射光５ｂは
面４Ｃ（ｚ軸に対する傾斜角β）に入射してこの面を反
射し、反射光５ｃは再び面４Ｂに入射角φ′(表面４Ｂ
の法線４ｂに対する入射光５ｃのなす角)で入射し、屈
折角ψ′(法線４ｂに対する屈折光６のなす角)で屈折す
る光６となる。この透過屈折光６は対物レンズ７を透過
して収束光８となり、光ディスク基材９の表面９Ｂを透
過して信号面９Ａ上に集光する。この収束光８により信
号面９Ａ上に信号を記録、または信号面上の信号を再生
できる。
コリメートレンズ２により紙面上のｚ軸に沿った平行光
に変換された光３は、プリズム４の表面４Ａ（ｚ軸に対
する傾斜角γ）に入射角φ(表面４Ａの法線４ａに対す
る入射光３のなす角、φ＝γ−π／２)で入射し、屈折
角ψ(法線４ａに対する屈折光５ａのなす角)で屈折する
光５ａとなる。この屈折光５ａは面４Ｂ（ｚ軸に対する
傾斜角α）に入射してこの面を全反射し、反射光５ｂは
面４Ｃ（ｚ軸に対する傾斜角β）に入射してこの面を反
射し、反射光５ｃは再び面４Ｂに入射角φ′(表面４Ｂ
の法線４ｂに対する入射光５ｃのなす角)で入射し、屈
折角ψ′(法線４ｂに対する屈折光６のなす角)で屈折す
る光６となる。この透過屈折光６は対物レンズ７を透過
して収束光８となり、光ディスク基材９の表面９Ｂを透
過して信号面９Ａ上に集光する。この収束光８により信
号面９Ａ上に信号を記録、または信号面上の信号を再生
できる。
【００２９】ここでプリズムの屈折率＝１．５、α＝２
４度、β＝１２度、γ＝１１９度とすると、各屈折面で
のスネルの式と反射面の反射式を連立させて解いた結果
としてほぼψ′＝αが成り立つので、光６を光３、すな
わちｚ軸に対して直交させることができる。光６のビー
ム径ｄ＝３．３ｍｍとすると、プリズム４の対物レンズ
の真下での厚さｔ２は０．３ｍｍのプリズムの欠け幅を
分を考慮して、ｔ２＝２．０ｍｍ程度である。従って、
ｔ１＝４．０ｍｍとすると、光ディスク装置の厚さｔ＝
６．０ｍｍとなり、同一条件の従来例に比べて１．６ｍ
ｍも薄くできる。
４度、β＝１２度、γ＝１１９度とすると、各屈折面で
のスネルの式と反射面の反射式を連立させて解いた結果
としてほぼψ′＝αが成り立つので、光６を光３、すな
わちｚ軸に対して直交させることができる。光６のビー
ム径ｄ＝３．３ｍｍとすると、プリズム４の対物レンズ
の真下での厚さｔ２は０．３ｍｍのプリズムの欠け幅を
分を考慮して、ｔ２＝２．０ｍｍ程度である。従って、
ｔ１＝４．０ｍｍとすると、光ディスク装置の厚さｔ＝
６．０ｍｍとなり、同一条件の従来例に比べて１．６ｍ
ｍも薄くできる。
【００３０】一般に対物レンズ７と干渉しない限り、デ
ィスク基材表面９Ｂからワーキングディスタンス分だけ
離れた位置までは自由に使用できる領域である。従来例
では光学系全体が対物レンズ７の下に構成されるため、
図８の領域１１に相当する部分が未活用領域となってい
たが、本実施形態ではこの領域を効果的に活用するもの
である。
ィスク基材表面９Ｂからワーキングディスタンス分だけ
離れた位置までは自由に使用できる領域である。従来例
では光学系全体が対物レンズ７の下に構成されるため、
図８の領域１１に相当する部分が未活用領域となってい
たが、本実施形態ではこの領域を効果的に活用するもの
である。
【００３１】ところで、本実施形態では面４Ａ，４Ｂ，
４Ｃが紙面に直交するとして説明したが、他の位置関係
にあってもよい。
４Ｃが紙面に直交するとして説明したが、他の位置関係
にあってもよい。
【００３２】本実施形態のように、面４Ａでの入射光３
と面４Ｂでの屈折光６とを直交させることにより、放射
光源１とプリズム４との距離が長くなった場合であって
も、放射光源１とコリメートレンズ２を含めた光ディス
ク装置全体の厚みが上記ｔより厚くなることがなく、薄
型の光ディスク装置とすることができる。
と面４Ｂでの屈折光６とを直交させることにより、放射
光源１とプリズム４との距離が長くなった場合であって
も、放射光源１とコリメートレンズ２を含めた光ディス
ク装置全体の厚みが上記ｔより厚くなることがなく、薄
型の光ディスク装置とすることができる。
【００３３】なお、本実施形態では、入射面４Ａでの屈
折と出射面４Ｂでの屈折が互いにキャンセルする関係に
なく、いわば楔状のプリズムを光が透過する関係にあ
り、光３の波長が変動すると硝材の屈折率が変わり、屈
折光６の伝搬方位が変わり、結果として収束光８が変位
し、サブミクロンの位置制御が要求される光ディスクシ
ステムの特性を損なうことになる。このことを考慮し
て、波長が変化しても屈折光６の伝搬方位が変わらない
例を次の第３実施形態に示す。
折と出射面４Ｂでの屈折が互いにキャンセルする関係に
なく、いわば楔状のプリズムを光が透過する関係にあ
り、光３の波長が変動すると硝材の屈折率が変わり、屈
折光６の伝搬方位が変わり、結果として収束光８が変位
し、サブミクロンの位置制御が要求される光ディスクシ
ステムの特性を損なうことになる。このことを考慮し
て、波長が変化しても屈折光６の伝搬方位が変わらない
例を次の第３実施形態に示す。
【００３４】（第３実施形態）第３図は本発明の第３実
施形態における光ディスク装置の概略構成図である。図
３において、放射光源１及びコリメートレンズ２等の構
成要素は第１実施形態と同じなので省略している。
施形態における光ディスク装置の概略構成図である。図
３において、放射光源１及びコリメートレンズ２等の構
成要素は第１実施形態と同じなので省略している。
【００３５】本実施形態は、上記第２実施形態のプリズ
ム４の表面４Ａに材質の異なった楔状のプリズム４’を
貼り合わせたもので、その他の構成は第２実施形態と同
一である。
ム４の表面４Ａに材質の異なった楔状のプリズム４’を
貼り合わせたもので、その他の構成は第２実施形態と同
一である。
【００３６】プリズム４’は基本的には紙面に垂直な
４'Ａ，４'Ｂの２つの研磨面（４'Ｂはプリズム４の表
面４Ａに貼り合わされている）で構成され、その他の面
は単なる切り出し面で研磨は必要としない。
４'Ａ，４'Ｂの２つの研磨面（４'Ｂはプリズム４の表
面４Ａに貼り合わされている）で構成され、その他の面
は単なる切り出し面で研磨は必要としない。
【００３７】半導体レーザー等の放射光源１を出射し、
コリメートレンズ２により紙面上のｚ軸に沿った平行光
に変換された光３は、プリズム４’の表面４'Ａ（ｚ軸
に対する傾斜角δ）に入射角φ(表面４'Ａの法線４'ａ
に対する入射光３のなす角、φ＝δ−π／２)で入射
し、屈折角ψ(法線４'ａに対する屈折光５ａのなす角)
で屈折する光５ａとなる。この屈折光５ａはプリズム４
の表面４Ａ（ｚ軸に対する傾斜角γ）に入射し、これを
屈折する光５ｂとなる。この屈折光５ｂは面４Ｂ（ｚ軸
に対する傾斜角α）に入射してこの面を全反射し、反射
光５ｃは面４Ｃ（ｚ軸に対する傾斜角β）に入射してこ
の面を反射し、反射光５ｄは再び面４Ｂに入射角φ'(表
面４Ｂの法線４ｂに対する入射光５ｄのなす角)で入射
し、屈折角ψ'(法線４ｂに対する屈折光６のなす角)で
屈折する光６となる。この透過屈折光６は対物レンズ７
を透過して収束光８となり、光ディスク基材９の表面９
Ｂを透過して信号面９Ａ上に集光する。この収束光８に
より信号面９Ａ上に信号を記録、または信号面上の信号
を再生できる。
コリメートレンズ２により紙面上のｚ軸に沿った平行光
に変換された光３は、プリズム４’の表面４'Ａ（ｚ軸
に対する傾斜角δ）に入射角φ(表面４'Ａの法線４'ａ
に対する入射光３のなす角、φ＝δ−π／２)で入射
し、屈折角ψ(法線４'ａに対する屈折光５ａのなす角)
で屈折する光５ａとなる。この屈折光５ａはプリズム４
の表面４Ａ（ｚ軸に対する傾斜角γ）に入射し、これを
屈折する光５ｂとなる。この屈折光５ｂは面４Ｂ（ｚ軸
に対する傾斜角α）に入射してこの面を全反射し、反射
光５ｃは面４Ｃ（ｚ軸に対する傾斜角β）に入射してこ
の面を反射し、反射光５ｄは再び面４Ｂに入射角φ'(表
面４Ｂの法線４ｂに対する入射光５ｄのなす角)で入射
し、屈折角ψ'(法線４ｂに対する屈折光６のなす角)で
屈折する光６となる。この透過屈折光６は対物レンズ７
を透過して収束光８となり、光ディスク基材９の表面９
Ｂを透過して信号面９Ａ上に集光する。この収束光８に
より信号面９Ａ上に信号を記録、または信号面上の信号
を再生できる。
【００３８】ここでプリズム４の屈折率＝１．５、α＝
１５度、β＝２３度、γ＝１３０度、プリズム４'の屈
折率＝１．６、δ＝１２０度、プリズム４'の屈折率分
散／プリズム４の屈折率分散＝２．１とすると、波長変
化に伴う面４'Ａ、４Ｂでの屈折角変化が、面４Ａでの
屈折角変化でほぼキャンセルされ、全体としては屈折光
６の伝搬方位がほとんど変わらない。また本実施形態は
第２実施形態とほぼ同じ形状をなすので、第２実施形態
の特長である薄型化の効果も損なわれていない。
１５度、β＝２３度、γ＝１３０度、プリズム４'の屈
折率＝１．６、δ＝１２０度、プリズム４'の屈折率分
散／プリズム４の屈折率分散＝２．１とすると、波長変
化に伴う面４'Ａ、４Ｂでの屈折角変化が、面４Ａでの
屈折角変化でほぼキャンセルされ、全体としては屈折光
６の伝搬方位がほとんど変わらない。また本実施形態は
第２実施形態とほぼ同じ形状をなすので、第２実施形態
の特長である薄型化の効果も損なわれていない。
【００３９】なお、第２実施形態では、光３が平行光の
場合に限られる。また、第３実施形態の上記の条件で
は、同様に光３が平行光の場合に限られる。すなわち入
射面４Ａ（第２実施形態）又は４'Ａ（上記条件の第３
実施形態）での屈折と出射面４Ｂでの屈折が互いにキャ
ンセルする関係になく、いわば楔状のプリズムを光が透
過する関係にあり、光３が有限系（発散性、又は収束
性）の光ならば、大きな非点収差が発生することにな
る。このことを考慮して、有限系の光でも収差を抑えら
れる例を次の第４実施形態に示す。
場合に限られる。また、第３実施形態の上記の条件で
は、同様に光３が平行光の場合に限られる。すなわち入
射面４Ａ（第２実施形態）又は４'Ａ（上記条件の第３
実施形態）での屈折と出射面４Ｂでの屈折が互いにキャ
ンセルする関係になく、いわば楔状のプリズムを光が透
過する関係にあり、光３が有限系（発散性、又は収束
性）の光ならば、大きな非点収差が発生することにな
る。このことを考慮して、有限系の光でも収差を抑えら
れる例を次の第４実施形態に示す。
【００４０】（第４実施形態）図４は本発明の第４実施
形態における光ディスク装置の概略構成図である。図４
において、放射光源１及びコリメートレンズ２等の構成
要素は第１実施形態と同じなので省略しており、プリズ
ム４は基本的には紙面に垂直な４Ａ，４Ｂ，４Ｃの３つ
の研磨面で構成され、他の面は単なる切り出し面で研磨
は必要としない。
形態における光ディスク装置の概略構成図である。図４
において、放射光源１及びコリメートレンズ２等の構成
要素は第１実施形態と同じなので省略しており、プリズ
ム４は基本的には紙面に垂直な４Ａ，４Ｂ，４Ｃの３つ
の研磨面で構成され、他の面は単なる切り出し面で研磨
は必要としない。
【００４１】半導体レーザー等の放射光源１を出射し、
コリメートレンズ２によりｚ軸とθの角をなす平行光に
変換された光３は、プリズム４の表面４Ａ（ｚ軸に対す
る傾斜角γ）に入射角φ(表面４Ａの法線４ａに対する
入射光３のなす角)で入射し、屈折角ψ(法線４ａに対す
る屈折光５ａのなす角)で屈折する光５ａとなる。この
屈折光５ａはプリズム４の面４Ｂ（ｚ軸に対する傾斜角
α）に入射してこの面を全反射し、反射光５ｂはプリズ
ム４の面４Ｃ（ｚ軸に対する傾斜角β）に入射してこの
面を反射し、反射光５ｃは再びプリズム４の面４Ｂに入
射角φ′(表面４Ｂの法線４ｂに対する入射光５ｃのな
す角)で入射し、屈折角ψ′(法線４ｂに対する屈折光６
のなす角)で屈折する光６となる。この透過屈折光６は
対物レンズ７を透過して収束光８となり、光ディスク基
材９の表面９Ｂを透過して信号面９Ａ上に集光する。こ
の収束光８により信号面９Ａ上に信号を記録、または信
号面上の信号を再生できる。
コリメートレンズ２によりｚ軸とθの角をなす平行光に
変換された光３は、プリズム４の表面４Ａ（ｚ軸に対す
る傾斜角γ）に入射角φ(表面４Ａの法線４ａに対する
入射光３のなす角)で入射し、屈折角ψ(法線４ａに対す
る屈折光５ａのなす角)で屈折する光５ａとなる。この
屈折光５ａはプリズム４の面４Ｂ（ｚ軸に対する傾斜角
α）に入射してこの面を全反射し、反射光５ｂはプリズ
ム４の面４Ｃ（ｚ軸に対する傾斜角β）に入射してこの
面を反射し、反射光５ｃは再びプリズム４の面４Ｂに入
射角φ′(表面４Ｂの法線４ｂに対する入射光５ｃのな
す角)で入射し、屈折角ψ′(法線４ｂに対する屈折光６
のなす角)で屈折する光６となる。この透過屈折光６は
対物レンズ７を透過して収束光８となり、光ディスク基
材９の表面９Ｂを透過して信号面９Ａ上に集光する。こ
の収束光８により信号面９Ａ上に信号を記録、または信
号面上の信号を再生できる。
【００４２】ここでプリズムの屈折率＝１．５、θ＝１
４度、α＝２１度、β＝１８度、γ＝８３度とすると、
各屈折面でのスネルの式と反射面の反射式を連立させて
解いた結果として、ほぼψ′＝αが成り立ち、光６をｚ
軸に対して直交させることができる。光６のビーム径ｄ
＝３．３ｍｍとすると、プリズム４の対物レンズの真下
での厚さｔ２はプリズムの欠け幅余裕分（０．３ｍｍ）
を考慮して、ｔ２＝２．２ｍｍ程度である。従って、ｔ
１＝４．０ｍｍとすると、光ディスク装置の厚さｔ＝
６．２ｍｍとなり、同一条件の従来例に比べて１．４ｍ
ｍも薄くできる。
４度、α＝２１度、β＝１８度、γ＝８３度とすると、
各屈折面でのスネルの式と反射面の反射式を連立させて
解いた結果として、ほぼψ′＝αが成り立ち、光６をｚ
軸に対して直交させることができる。光６のビーム径ｄ
＝３．３ｍｍとすると、プリズム４の対物レンズの真下
での厚さｔ２はプリズムの欠け幅余裕分（０．３ｍｍ）
を考慮して、ｔ２＝２．２ｍｍ程度である。従って、ｔ
１＝４．０ｍｍとすると、光ディスク装置の厚さｔ＝
６．２ｍｍとなり、同一条件の従来例に比べて１．４ｍ
ｍも薄くできる。
【００４３】しかも、φ＝ψ′、φ′＝ψの関係が｜co
sψcosψ′−cosφcosφ′｜＜０．１の誤差範囲で成り
立ち、入射面４Ａでの屈折が屈折面内で右周り、出射面
４Ｂでの屈折が左周りの方向にある。すなわち、プリズ
ム内の反射回数が偶数回ある場合は屈折方向の不一致が
屈折力キャンセルの条件をみたすので、入射面４Ａでの
屈折と出射面４Ｂでの屈折が互いにキャンセルし、いわ
ば平行平板を光が透過する関係にある（以降、平行平板
の関係と呼ぶことにする）。従って、光３が有限系（発
散性、又は収束性）の光であっても、収差の発生は小さ
い。
sψcosψ′−cosφcosφ′｜＜０．１の誤差範囲で成り
立ち、入射面４Ａでの屈折が屈折面内で右周り、出射面
４Ｂでの屈折が左周りの方向にある。すなわち、プリズ
ム内の反射回数が偶数回ある場合は屈折方向の不一致が
屈折力キャンセルの条件をみたすので、入射面４Ａでの
屈折と出射面４Ｂでの屈折が互いにキャンセルし、いわ
ば平行平板を光が透過する関係にある（以降、平行平板
の関係と呼ぶことにする）。従って、光３が有限系（発
散性、又は収束性）の光であっても、収差の発生は小さ
い。
【００４４】ところで、本実施形態では面４Ａ，４Ｂ，
４Ｃが紙面に直交するとして説明したが、面４Ａ、４Ｂ
での各屈折面（入射光と屈折光を共に含む面）が平行で
あれば、他の位置関係にあってもよい。
４Ｃが紙面に直交するとして説明したが、面４Ａ、４Ｂ
での各屈折面（入射光と屈折光を共に含む面）が平行で
あれば、他の位置関係にあってもよい。
【００４５】なお本実施形態において、放射光源１、コ
リメートレンズ２をｔ＝６．２ｍｍの厚さ内に収めるに
は、θを小さく、できればゼロにできればよいが、θを
１０度以下にすると、薄く、かつ平行平板の関係を満足
させるという条件を両立できなくなる。このことを考慮
して、薄く、かつ平行平板の関係にありながら、θをゼ
ロに設定できる例を次の第５実施形態に示す。
リメートレンズ２をｔ＝６．２ｍｍの厚さ内に収めるに
は、θを小さく、できればゼロにできればよいが、θを
１０度以下にすると、薄く、かつ平行平板の関係を満足
させるという条件を両立できなくなる。このことを考慮
して、薄く、かつ平行平板の関係にありながら、θをゼ
ロに設定できる例を次の第５実施形態に示す。
【００４６】（第５実施形態）図５は本発明の第５実施
形態における光ディスク装置の正面図であり、図６はそ
の平面図（対物レンズ７、光ディスク基材９は省略して
ある）、図７は側面図（対物レンズ７、光ディスク基材
９は省略してある）である。図５〜図７において、放射
光源１及びコリメートレンズ２等の構成要素は第１実施
形態と同じなので省略している。
形態における光ディスク装置の正面図であり、図６はそ
の平面図（対物レンズ７、光ディスク基材９は省略して
ある）、図７は側面図（対物レンズ７、光ディスク基材
９は省略してある）である。図５〜図７において、放射
光源１及びコリメートレンズ２等の構成要素は第１実施
形態と同じなので省略している。
【００４７】プリズム４は基本的にはｙｚ面に直交する
４Ａ，４Ｂ，４Ｃの３つの研磨面で構成され、他の面は
単なる切り出し面で研磨は必要とせず、プリズム４′は
図７のξ軸（ｘｙ面にあってｙ軸とεの角をなす）に平
行な４′Ａ，４′Ｂ，４′Ｃの３つの研磨面で構成さ
れ、他の面は単なる切り出し面で研磨は必要としない。
プリズム４′とプリズム４は面４′Ｃと面４Ａとの間で
ＵＶ樹脂等を用いて接合されている。
４Ａ，４Ｂ，４Ｃの３つの研磨面で構成され、他の面は
単なる切り出し面で研磨は必要とせず、プリズム４′は
図７のξ軸（ｘｙ面にあってｙ軸とεの角をなす）に平
行な４′Ａ，４′Ｂ，４′Ｃの３つの研磨面で構成さ
れ、他の面は単なる切り出し面で研磨は必要としない。
プリズム４′とプリズム４は面４′Ｃと面４Ａとの間で
ＵＶ樹脂等を用いて接合されている。
【００４８】半導体レーザー等の放射光源１を出射し、
コリメートレンズ２によりｘ軸（ｙ軸、ｚ軸は直交座標
軸としてｘ軸に準じて定義）に沿った平行光に変換され
た光３は、プリズム４′の表面４′Ａ（図７においてｙ
軸に対する傾斜角ε、図６においてｘ軸に対する傾斜角
δ）に入射角φ(表面４′Ａの法線４′ａに対する入射
光３のなす角)で入射し、屈折角ψ(法線４′ａに対する
屈折光５′ａのなす角)で屈折する光５′ａとなる。こ
の屈折光５′ａは面４′Ｂ（図６においてｘ軸に対する
傾斜角γ）に入射してこの面を全反射し、反射光５′ｂ
は面４′Ｃ、すなわちプリズム４の面４Ａ（ｚ軸に対し
直交）に入射角φ′(表面４Ａの法線４ａに対する入射
光５′ｂのなす角)で入射し、屈折角ψ′(法線４ａに対
する屈折光５′ｃのなす角)で屈折する光５′ｃとなる
（プリズム４，４′が同じ硝材ならば、屈折せずに直進
透過する）。この屈折光５′ｃは面４Ｂ（ｚ軸に対する
傾斜角α）に入射してこの面を全反射し、反射光５′ｄ
は面４Ｃ（ｚ軸に対する傾斜角β）に入射してこの面を
反射し、反射光５′ｅは再び面４Ｂに入射角φ”(表面
４Ｂの法線４ｂに対する入射光５′ｅのなす角)で入射
し、屈折角ψ”(法線４ｂに対する屈折光６のなす角)で
屈折する光６となる。この透過屈折光６は対物レンズ７
を透過して収束光８となり、光ディスク基材９の表面９
Ｂを透過して信号面９Ａ上に集光する。この収束光８に
より信号面９Ａ上に信号を記録、または信号面上の信号
を再生できる。
コリメートレンズ２によりｘ軸（ｙ軸、ｚ軸は直交座標
軸としてｘ軸に準じて定義）に沿った平行光に変換され
た光３は、プリズム４′の表面４′Ａ（図７においてｙ
軸に対する傾斜角ε、図６においてｘ軸に対する傾斜角
δ）に入射角φ(表面４′Ａの法線４′ａに対する入射
光３のなす角)で入射し、屈折角ψ(法線４′ａに対する
屈折光５′ａのなす角)で屈折する光５′ａとなる。こ
の屈折光５′ａは面４′Ｂ（図６においてｘ軸に対する
傾斜角γ）に入射してこの面を全反射し、反射光５′ｂ
は面４′Ｃ、すなわちプリズム４の面４Ａ（ｚ軸に対し
直交）に入射角φ′(表面４Ａの法線４ａに対する入射
光５′ｂのなす角)で入射し、屈折角ψ′(法線４ａに対
する屈折光５′ｃのなす角)で屈折する光５′ｃとなる
（プリズム４，４′が同じ硝材ならば、屈折せずに直進
透過する）。この屈折光５′ｃは面４Ｂ（ｚ軸に対する
傾斜角α）に入射してこの面を全反射し、反射光５′ｄ
は面４Ｃ（ｚ軸に対する傾斜角β）に入射してこの面を
反射し、反射光５′ｅは再び面４Ｂに入射角φ”(表面
４Ｂの法線４ｂに対する入射光５′ｅのなす角)で入射
し、屈折角ψ”(法線４ｂに対する屈折光６のなす角)で
屈折する光６となる。この透過屈折光６は対物レンズ７
を透過して収束光８となり、光ディスク基材９の表面９
Ｂを透過して信号面９Ａ上に集光する。この収束光８に
より信号面９Ａ上に信号を記録、または信号面上の信号
を再生できる。
【００４９】ここで２つのプリズムの屈折率を共に１．
５、α＝１４．６度、β＝２３度、γ＝４５．１度、δ
＝９０度、ε＝１４．６度とすると、各屈折面でのスネ
ルの式と反射面の反射式を連立させて解いた結果とし
て、ほぼψ”＝αが成り立ち、光６をｘｚ面に対して直
交させることができる。光６のビーム径ｄ＝３．３ｍｍ
とすると、プリズム４の対物レンズの真下での厚さｔ２
はプリズムの欠け幅余裕分（０．３ｍｍ）を考慮して、
ｔ２＝２．２ｍｍ程度である。従って、ｔ１＝４．０ｍ
ｍとすると、光ディスク装置の厚さｔ＝６．２ｍｍとな
り、同一条件の従来例に比べて１．４ｍｍも薄くでき
る。
５、α＝１４．６度、β＝２３度、γ＝４５．１度、δ
＝９０度、ε＝１４．６度とすると、各屈折面でのスネ
ルの式と反射面の反射式を連立させて解いた結果とし
て、ほぼψ”＝αが成り立ち、光６をｘｚ面に対して直
交させることができる。光６のビーム径ｄ＝３．３ｍｍ
とすると、プリズム４の対物レンズの真下での厚さｔ２
はプリズムの欠け幅余裕分（０．３ｍｍ）を考慮して、
ｔ２＝２．２ｍｍ程度である。従って、ｔ１＝４．０ｍ
ｍとすると、光ディスク装置の厚さｔ＝６．２ｍｍとな
り、同一条件の従来例に比べて１．４ｍｍも薄くでき
る。
【００５０】しかも、φ＝ψ”、φ”＝ψの関係が｜co
sψcosψ”−cosφcosφ”｜＜０．１の誤差範囲で成り
立ち、入射面４’Ａでの屈折が屈折面内で左周り、出射
面４Ｂでの屈折が左周りの方向にある。すなわち、プリ
ズム内の反射回数が奇数回ある場合は屈折方向の一致が
屈折力キャンセルの条件であることから、入射面４′Ａ
での屈折と出射面４Ｂでの屈折が互いにキャンセルし、
いわば平行平板を光が透過する関係にある。従って、光
３が有限系（発散性、又は収束性）の光であっても、収
差の発生は小さい。
sψcosψ”−cosφcosφ”｜＜０．１の誤差範囲で成り
立ち、入射面４’Ａでの屈折が屈折面内で左周り、出射
面４Ｂでの屈折が左周りの方向にある。すなわち、プリ
ズム内の反射回数が奇数回ある場合は屈折方向の一致が
屈折力キャンセルの条件であることから、入射面４′Ａ
での屈折と出射面４Ｂでの屈折が互いにキャンセルし、
いわば平行平板を光が透過する関係にある。従って、光
３が有限系（発散性、又は収束性）の光であっても、収
差の発生は小さい。
【００５１】しかも、上記実施形態では、入射光軸が出
射光６と直交する面内にあり、放射光源１、コリメート
レンズ２を含めた全体の薄型化が実現できる。
射光６と直交する面内にあり、放射光源１、コリメート
レンズ２を含めた全体の薄型化が実現できる。
【００５２】２枚のプリズムを使うというデメリットは
あるが、それぞれのプリズムの研磨面は特定の一軸と平
行関係にあるので（プリズム４ではｘ軸、プリズム４′
では図７に示したξ軸）、棒状の硝材を３面研磨し、そ
れを切り出す（プリズム４では直角に切り出す、プリズ
ム４′ではπ／２−εの角で切り出す）ことで多数個取
りでき、加工費を安価に抑えることができる。
あるが、それぞれのプリズムの研磨面は特定の一軸と平
行関係にあるので（プリズム４ではｘ軸、プリズム４′
では図７に示したξ軸）、棒状の硝材を３面研磨し、そ
れを切り出す（プリズム４では直角に切り出す、プリズ
ム４′ではπ／２−εの角で切り出す）ことで多数個取
りでき、加工費を安価に抑えることができる。
【００５３】なお、本実施形態では面４′Ｃ、面４Ａが
ｚ軸に直交し、面４Ａ，４Ｂ，４Ｃが紙面に直交し、面
４′Ａ，４′Ｂ，４′Ｃがξ軸に平行であるとして説明
したが、面４Ａ、４Ｂでの屈折面（入射光軸と屈折光軸
を含む面）が平行で、面４′Ａでの屈折面の面４′Ｂに
対する対称面が面４Ｂ面での屈折面と平行であれば、他
の位置関係にあってもよい。また、光３をｘ軸に沿った
光線としたが、その方位を変えても同様の効果が得られ
る。
ｚ軸に直交し、面４Ａ，４Ｂ，４Ｃが紙面に直交し、面
４′Ａ，４′Ｂ，４′Ｃがξ軸に平行であるとして説明
したが、面４Ａ、４Ｂでの屈折面（入射光軸と屈折光軸
を含む面）が平行で、面４′Ａでの屈折面の面４′Ｂに
対する対称面が面４Ｂ面での屈折面と平行であれば、他
の位置関係にあってもよい。また、光３をｘ軸に沿った
光線としたが、その方位を変えても同様の効果が得られ
る。
【００５４】なお、本実施形態では２つのプリズムの屈
折率を等しくしたが、屈折率の異なる別々の硝材を用い
てもよく、この時、平行平板の条件φ＝ψ”かつφ”＝
ψはcosψcosψ′cosψ”＝cosφcosφ′cosφ”に変化
し、該関係式の誤差精度は｜cosψcosψ′cosψ”−cos
φcosφ′cosφ”｜＜０．１を満足する。
折率を等しくしたが、屈折率の異なる別々の硝材を用い
てもよく、この時、平行平板の条件φ＝ψ”かつφ”＝
ψはcosψcosψ′cosψ”＝cosφcosφ′cosφ”に変化
し、該関係式の誤差精度は｜cosψcosψ′cosψ”−cos
φcosφ′cosφ”｜＜０．１を満足する。
【００５５】また、プリズム４′のような３角プリズム
でなくとも、第３実施形態に示したように、２面の研磨
面を持つウェッヂプリズムをプリズム４に接合させ（接
合された全体のプリズム形状は図２〜図４と同等）、ウ
ェッヂプリズムの接合面での屈折が加わることにより、
平行平板の関係を持たせながら、入射光軸と出射光軸を
直交関係に設定することもできる。この時の平行平板の
条件もφ＝ψ”かつφ”＝ψからcosψcosψ′cosψ”
＝cosφcosφ′cosφ”に変化し、該関係式の誤差精度
は｜cosψcosψ′cosψ”−cosφcosφ′cosφ”｜＜
０．１を満足する。
でなくとも、第３実施形態に示したように、２面の研磨
面を持つウェッヂプリズムをプリズム４に接合させ（接
合された全体のプリズム形状は図２〜図４と同等）、ウ
ェッヂプリズムの接合面での屈折が加わることにより、
平行平板の関係を持たせながら、入射光軸と出射光軸を
直交関係に設定することもできる。この時の平行平板の
条件もφ＝ψ”かつφ”＝ψからcosψcosψ′cosψ”
＝cosφcosφ′cosφ”に変化し、該関係式の誤差精度
は｜cosψcosψ′cosψ”−cosφcosφ′cosφ”｜＜
０．１を満足する。
【００５６】なお平行平板の条件を満たさない場合、一
般には光源の波長変化による屈折率分散の影響で光軸が
傾くが、プリズム４′やウェッヂプリズムをプリズム４
に接合させる方式では、それぞれのプリズムに異なる硝
材を用いてこれらをうまく組み合わせることで、屈折率
分散の影響をキャンセルさせることができる。
般には光源の波長変化による屈折率分散の影響で光軸が
傾くが、プリズム４′やウェッヂプリズムをプリズム４
に接合させる方式では、それぞれのプリズムに異なる硝
材を用いてこれらをうまく組み合わせることで、屈折率
分散の影響をキャンセルさせることができる。
【００５７】なお、有限系の光の中に平行平板を配置す
る場合、一般に光軸に垂直に配置すると球面収差が、傾
けると非点収差が発生する。従って、第４、第５実施形
態でプリズムに平行平板の関係を持たせたといっても、
光はプリズムに垂直には入射しないので、非点収差が発
生する。しかしこの種の収差は補正できる性質のもの
で、例えば、光軸に対しコリメートレンズ２を傾ける
か、放射光源１とコリメートレンズ２の間に平行平板を
傾斜して配置することで、ほとんどの収差を除去でき
る。
る場合、一般に光軸に垂直に配置すると球面収差が、傾
けると非点収差が発生する。従って、第４、第５実施形
態でプリズムに平行平板の関係を持たせたといっても、
光はプリズムに垂直には入射しないので、非点収差が発
生する。しかしこの種の収差は補正できる性質のもの
で、例えば、光軸に対しコリメートレンズ２を傾ける
か、放射光源１とコリメートレンズ２の間に平行平板を
傾斜して配置することで、ほとんどの収差を除去でき
る。
【００５８】また第１から第５実施形態まで、面４Ｂで
の反射は全反射であり第５実施形態の４′Ｂ面でも全反
射であるが、面４Ｃでの反射は全反射ではないので反射
率を高めるには反射層の成膜が必要である。この時、プ
リズムに入射する光が円偏光で、プリズム透過後も円偏
光を保たせるためには、全反射で発生するＰ波、Ｓ波間
の位相差を面４Ｃでの反射で補正する必要がある。一般
に反射層に誘電体の多層膜を使うことでこの位相補正は
達成できる。
の反射は全反射であり第５実施形態の４′Ｂ面でも全反
射であるが、面４Ｃでの反射は全反射ではないので反射
率を高めるには反射層の成膜が必要である。この時、プ
リズムに入射する光が円偏光で、プリズム透過後も円偏
光を保たせるためには、全反射で発生するＰ波、Ｓ波間
の位相差を面４Ｃでの反射で補正する必要がある。一般
に反射層に誘電体の多層膜を使うことでこの位相補正は
達成できる。
【００５９】
【発明の効果】以上の本発明により、プリズムの入射面
を屈折する光が薄いプリズムの内部で反射を繰り返して
対物レンズに導かれるので、対物レンズの真下の領域を
薄くでき、物理的な限界を越えた薄い光ディスク装置を
提供できる。
を屈折する光が薄いプリズムの内部で反射を繰り返して
対物レンズに導かれるので、対物レンズの真下の領域を
薄くでき、物理的な限界を越えた薄い光ディスク装置を
提供できる。
【００６０】さらに、入射面での屈折を出射面での屈折
が打ち消す関係を持たせることで、光学的にはコリメー
トレンズと対物レンズとの間に平行平板を配置した関係
にすることができるので、平行光以外の光をプリズムに
入射しても、放射光源とコリメートレンズの間に平行平
板を傾斜して挟むか、コリメートレンズを光軸に対して
傾斜させる等の方法で収差を容易に補正でき、コリメー
タの位置調整が容易になる等の効果も合わせ持つ。
が打ち消す関係を持たせることで、光学的にはコリメー
トレンズと対物レンズとの間に平行平板を配置した関係
にすることができるので、平行光以外の光をプリズムに
入射しても、放射光源とコリメートレンズの間に平行平
板を傾斜して挟むか、コリメートレンズを光軸に対して
傾斜させる等の方法で収差を容易に補正でき、コリメー
タの位置調整が容易になる等の効果も合わせ持つ。
【図１】 本発明の第１実施形態における光ディスク装
置の構成を示した概略図である。
置の構成を示した概略図である。
【図２】 本発明の第２実施形態における光ディスク装
置の構成を示した概略図である。
置の構成を示した概略図である。
【図３】 本発明の第３実施形態における光ディスク装
置の構成を示した概略図である。
置の構成を示した概略図である。
【図４】 本発明の第４実施形態における光ディスク装
置の構成を示した概略図である。
置の構成を示した概略図である。
【図５】 本発明の第５実施形態における光ディスク装
置の構成の概略を示した正面図である。
置の構成の概略を示した正面図である。
【図６】 本発明の第５実施形態における光ディスク装
置の構成の概略を示した平面図である。
置の構成の概略を示した平面図である。
【図７】 本発明の第５実施形態における光ディスク装
置の構成の概略を示した側面図である。
置の構成の概略を示した側面図である。
【図８】 従来例における光ディスク装置の構成を示し
た概略図である。
た概略図である。
１ 放射光源 ２ コリメートレンズ ３ 入射光 ４，４′ プリズム ４Ａ，４Ｂ，４Ｃ プリズムの研磨面 ４′Ａ，４′Ｂ，４′Ｃ プリズムの研磨面 ５ａ 屈折光 ５ｂ 反射光 ５ｃ 反射光 ５′ａ 屈折光 ５′ｂ 反射光 ５′ｃ 屈折光 ５′ｄ 反射光 ５′ｅ 反射光 ６ 屈折光 ７ 対物レンズ ８ 収束光 ９ 光ディスク基材 ９Ａ 光ディスク信号面 ９Ｂ 光ディスク基材表面 １０ 立ち上げミラー １０Ａ 反射面
Claims (16)
- 【請求項１】 放射光源と、コリメートレンズと、少な
くともＡ面、Ｂ面、Ｃ面の３つの研磨された平面を持つ
プリズムと、対物レンズからなり、前記放射光源を出射
する光は前記コリメートレンズにより集光され、前記プ
リズムのＡ面に入射してこれを屈折し（入射角φ、屈折
角ψ）、前記Ｂ面に入射してこれを反射し、前記Ｃ面に
入射してこれを反射し、再度前記Ｂ面に入射してこれを
透過し、前記対物レンズを経て光ディスク信号面上に収
束することを特徴とする光ディスク装置。 - 【請求項２】 前記Ａ面での入射光軸と前記Ｂ面での透
過光軸が直交することを特徴とする請求項１に記載の光
ディスク装置。 - 【請求項３】 放射光源と、コリメートレンズと、少な
くともＡ面、Ｂ面、Ｃ面の３つの研磨された平面を持つ
プリズムと、対物レンズからなり、前記放射光源を出射
する光は前記コリメートレンズにより集光され、前記プ
リズムのＡ面に入射してこれを屈折し（入射角φ、屈折
角ψ）、前記Ｂ面に入射してこれを反射し、前記Ｃ面に
入射してこれを反射し、再度前記Ｂ面に入射してこれを
屈折し（入射角φ′、屈折角ψ′）、前記対物レンズを
経て光ディスク信号面上に収束することを特徴とする光
ディスク装置。 - 【請求項４】 前記入射角φ、屈折角ψ、及び入射角
φ′、屈折角ψ′の間にφ＝ψ′かつψ＝φ′の関係が
｜cosψcosψ′−cosφcosφ′｜＜０．１の誤差範囲で
成り立ち、前記Ａ面及びＢ面での各屈折面（入射光軸と
屈折光軸を含む面）が平行又は一致し、各屈折面に於け
る屈折方向が互いに反対になる（一方が右回りであれば
他方は左回りになる）ことを特徴とする請求項３に記載
の光ディスク装置。 - 【請求項５】 前記プリズムのＡ面への入射光が平行光
でなく、入射角φがゼロでない場合、前記放射光源と前
記コリメートレンズの間に平行平板を傾斜して挟むか、
前記コリメートレンズを光軸に対して傾斜させることを
特徴とする請求項４に記載の光ディスク装置。 - 【請求項６】 前記Ａ面での入射光軸と前記Ｂ面での屈
折光軸が直交することを特徴とする請求項３に記載の光
ディスク装置。 - 【請求項７】 放射光源と、コリメートレンズと、少な
くともα面、β面、γ面の３つの研磨された平面を持つ
第一のプリズムと、少なくともＡ面、Ｂ面、Ｃ面の３つ
の研磨された平面を持つ第二のプリズムと、対物レンズ
からなり、前記第一のプリズムと第二のプリズムは同一
の屈折率を有し、それらはγ面とＡ面の間で接合されて
おり、前記放射光源を出射する光は前記コリメートレン
ズにより集光され、前記第一のプリズムのα面に入射し
てこれを屈折し（入射角φ、屈折角ψ）、前記β面に入
射してこれを反射し、γ面すなわち第二のプリズムのＡ
面に入射してこれを透過し、前記Ｂ面に入射してこれを
反射し、前記Ｃ面に入射してこれを反射し、再度前記Ｂ
面に入射してこれを屈折し（入射角φ”、屈折角
ψ”）、前記対物レンズを経て光ディスク信号面上に収
束することを特徴とする光ディスク装置。 - 【請求項８】 前記入射角φ、屈折角ψ、及び入射角
φ”、屈折角ψ”の間にφ＝ψ”かつψ＝φ”の関係が
｜cosψcosψ”−cosφcosφ”｜＜０．１の誤差範囲で
成り立ち、前記α面での入射光軸が前記Ｂ面での屈折光
軸と直交する面内にあり、前記Ａ面（γ面）の透過光軸
がＢ面での屈折面（入射光軸と屈折光軸を含む面）内に
あり、α面での屈折面のβ面に対する対称面がＢ面での
屈折面と平行又は一致し、α面及びＢ面での各屈折面に
於ける屈折方向が互いに同じになる（ともに右回り、ま
たは左回りになる）ことを特徴とする請求項７に記載の
光ディスク装置。 - 【請求項９】 前記第１のプリズムのα面への入射光が
平行光でなく、入射角φがゼロでない場合、前記放射光
源と前記コリメートレンズの間に平行平板を傾斜して挟
むか、前記コリメートレンズを光軸に対して傾斜させる
ことを特徴とする請求項８に記載の光ディスク装置。 - 【請求項１０】 放射光源と、コリメートレンズと、少
なくともα面、β面、γ面の３つの研磨された平面を持
つ第一のプリズムと、少なくともＡ面、Ｂ面、Ｃ面の３
つの研磨された平面を持つ第二のプリズムと、対物レン
ズからなり、前記第一のプリズムと第二のプリズムは互
いに異なる屈折率を有し、それらはγ面とＡ面の間で接
合されており、前記放射光源を出射する光は前記コリメ
ートレンズにより集光され、前記第一のプリズムのα面
に入射してこれを屈折し（入射角φ、屈折角ψ）、前記
β面に入射してこれを反射し、γ面すなわち第二のプリ
ズムのＡ面に入射してこれを屈折し（入射角φ′、屈折
角ψ′）、前記Ｂ面に入射してこれを反射し、前記Ｃ面
に入射してこれを反射し、再度前記Ｂ面に入射してこれ
を屈折し（入射角φ”、屈折角ψ”）、前記対物レンズ
を経て光ディスク信号面上に収束することを特徴とする
光ディスク装置。 - 【請求項１１】 前記入射角φ、屈折角ψ、及び入射角
φ′、屈折角ψ′さらに入射角φ”、屈折角ψ”の間に
cosψcosψ′cosψ”＝cosφcosφ′cosφ”の関係が｜
cosψcosψ′cosψ”−cosφcosφ′cosφ”｜＜０．１
の誤差範囲で成り立ち、前記α面での入射光軸が前記Ｂ
面での屈折光軸と直交する面内にあり、前記Ａ面、Ｂ面
での屈折面（入射光軸と屈折光軸を含む面）が一致し、
α面での屈折面のβ面に対する対称面がＢ面での屈折面
と平行又は一致し、α面及びＢ面での各屈折面に於ける
屈折方向が互いに同じになる（ともに右回り、または左
回りになる）ことを特徴とする請求項１０に記載の光デ
ィスク装置。 - 【請求項１２】 前記第１のプリズムのα面への入射光
が平行光でなく、入射角φがゼロでない場合、前記放射
光源と前記コリメートレンズの間に平行平板を傾斜して
挟むか、前記コリメートレンズを光軸に対して傾斜させ
ることを特徴とする請求項１１に記載の光ディスク装
置。 - 【請求項１３】 放射光源と、コリメートレンズと、少
なくともα面、β面の２つの研磨された平面を持つ第一
のプリズムと、少なくともＡ面、Ｂ面、Ｃ面の３つの研
磨された平面を持つ第二のプリズムと、対物レンズから
なり、前記第一のプリズムと第二のプリズムは互いに異
なる屈折率を有し、それらはβ面とＡ面の間で接合され
ており、前記放射光源を出射する光は前記コリメートレ
ンズにより集光され、前記第一のプリズムのα面に入射
してこれを屈折し（入射角φ、屈折角ψ）、β面すなわ
ち第二のプリズムのＡ面に入射してこれを屈折し（入射
角φ′、屈折角ψ′）、前記Ｂ面に入射してこれを反射
し、前記Ｃ面に入射してこれを反射し、再度前記Ｂ面に
入射してこれを屈折し（入射角φ”、屈折角ψ”）、前
記対物レンズを経て光ディスク信号面上に収束すること
を特徴とする光ディスク装置。 - 【請求項１４】 前記入射角φ、屈折角ψ、及び入射角
φ′、屈折角ψ′さらに入射角φ”、屈折角ψ”の間に
cosψcosψ′cosψ”＝cosφcosφ′cosφ”の関係が｜
cosψcosψ′cosψ”−cosφcosφ′cosφ”｜＜０．１
の誤差範囲で成り立ち、前記α面、Ａ面、Ｂ面での各屈
折面（入射光軸と屈折光軸を含む面）が平行又は一致
し、α面、Ｂ面での各屈折面に於ける屈折方向が互いに
反対になる（一方が右回りであれば他方は左回りにな
る）ことを特徴とする請求項１３に記載の光ディスク装
置。 - 【請求項１５】 前記第１のプリズムのα面への入射光
が平行光でなく、入射角φがゼロでない場合、前記放射
光源と前記コリメートレンズの間に平行平板を傾斜して
挟むか、前記コリメートレンズを光軸に対して傾斜させ
ることを特徴とする請求項１４に記載の光ディスク装
置。 - 【請求項１６】 前記α面での入射光軸と前記Ｂ面での
屈折光軸が直交することを特徴とする請求項１３に記載
の光ディスク装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23858198A JP3542065B2 (ja) | 1997-08-29 | 1998-08-25 | 光ディスク装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23502397 | 1997-08-29 | ||
| JP9-235023 | 1997-08-29 | ||
| JP23858198A JP3542065B2 (ja) | 1997-08-29 | 1998-08-25 | 光ディスク装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11134701A true JPH11134701A (ja) | 1999-05-21 |
| JP3542065B2 JP3542065B2 (ja) | 2004-07-14 |
Family
ID=26531911
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23858198A Expired - Lifetime JP3542065B2 (ja) | 1997-08-29 | 1998-08-25 | 光ディスク装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3542065B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1256945A3 (en) * | 2001-05-12 | 2006-06-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Many-sided reflection prism and optical pickup |
| US7088664B2 (en) | 2001-04-30 | 2006-08-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Reflection type compound prism and optical pickup apparatus employing the same |
| KR100850701B1 (ko) * | 2001-05-12 | 2008-08-06 | 삼성전자주식회사 | 다면 반사프리즘 및 광픽업장치 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007220166A (ja) | 2006-02-14 | 2007-08-30 | Sony Corp | 光ピックアップ、光ディスク装置及び立上プリズム |
-
1998
- 1998-08-25 JP JP23858198A patent/JP3542065B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7088664B2 (en) | 2001-04-30 | 2006-08-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Reflection type compound prism and optical pickup apparatus employing the same |
| EP1256945A3 (en) * | 2001-05-12 | 2006-06-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Many-sided reflection prism and optical pickup |
| US7177260B2 (en) | 2001-05-12 | 2007-02-13 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical pickup including a many-sided reflection prism and method of using the optical pickup |
| KR100850701B1 (ko) * | 2001-05-12 | 2008-08-06 | 삼성전자주식회사 | 다면 반사프리즘 및 광픽업장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3542065B2 (ja) | 2004-07-14 |
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