JPH11142607A - 微小レンズ及び微小レンズアレイ並びにそれらの製造方法 - Google Patents
微小レンズ及び微小レンズアレイ並びにそれらの製造方法Info
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- JPH11142607A JPH11142607A JP9319067A JP31906797A JPH11142607A JP H11142607 A JPH11142607 A JP H11142607A JP 9319067 A JP9319067 A JP 9319067A JP 31906797 A JP31906797 A JP 31906797A JP H11142607 A JPH11142607 A JP H11142607A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 開口数が高いとともに形状精度の良い微小レ
ンズを大量に安定して製造する。 【解決手段】 少なくとも１つの凹部１ａが形成された
シリコン基板１を用意する。次に、微小レンズを構成す
るべき光学ガラス４を、基板１の凹部１ａが埋め込まれ
るように、基板１上の全面に成膜する。その後、基板１
上に形成された光学ガラス４のうち凹部１ａ以外の部分
に形成された光学ガラス４を除去する。最後に、基板１
１を選択的に溶出することにより、基板から半球状の光
学ガラス４、すなわち、微小レンズを分離する。
ンズを大量に安定して製造する。 【解決手段】 少なくとも１つの凹部１ａが形成された
シリコン基板１を用意する。次に、微小レンズを構成す
るべき光学ガラス４を、基板１の凹部１ａが埋め込まれ
るように、基板１上の全面に成膜する。その後、基板１
上に形成された光学ガラス４のうち凹部１ａ以外の部分
に形成された光学ガラス４を除去する。最後に、基板１
１を選択的に溶出することにより、基板から半球状の光
学ガラス４、すなわち、微小レンズを分離する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、微小レンズ及び微
小レンズアレイ並びにそれらの製造方法に関するもので
あり、特に光記録再生等に用いられる微小レンズに関す
る。
小レンズアレイ並びにそれらの製造方法に関するもので
あり、特に光記録再生等に用いられる微小レンズに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】現在、例えば光磁気記録やコンパクトデ
ィスクなどに使われている直径数ｍｍのレンズは、ガラ
スなどの材料を機械的に研磨したり、金型を用いてプレ
ス成形する方法で製造されている。
ィスクなどに使われている直径数ｍｍのレンズは、ガラ
スなどの材料を機械的に研磨したり、金型を用いてプレ
ス成形する方法で製造されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】近年、光記録の密度向
上等に伴い、更に小さな微小レンズが要求されるように
なってきた。
上等に伴い、更に小さな微小レンズが要求されるように
なってきた。
【０００４】しかしながら、前述した従来のレンズの製
造方法では、次のような問題が生じていた。すなわち、
機械的研磨による製造方法では、レンズの大きさや形状
精度更には量産性の点で限界があった。また、プレス成
形による製造方法では、レンズとなる材料の種類が制限
されてしまい、高屈折率材料を採用することが困難であ
ることから、レンズの開口数を高めることが困難であっ
た。
造方法では、次のような問題が生じていた。すなわち、
機械的研磨による製造方法では、レンズの大きさや形状
精度更には量産性の点で限界があった。また、プレス成
形による製造方法では、レンズとなる材料の種類が制限
されてしまい、高屈折率材料を採用することが困難であ
ることから、レンズの開口数を高めることが困難であっ
た。
【０００５】このような事情は、直径数ｍｍのレンズの
みならず、複数の直径数ｍｍのレンズが配列された微小
レンズアレイについても、同様であった。
みならず、複数の直径数ｍｍのレンズが配列された微小
レンズアレイについても、同様であった。
【０００６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、直径１ｍｍ以下の微小レンズ及び微小レンズ
アレイを大量に安定して製造することができる製造方法
を提供することを目的とする。
たもので、直径１ｍｍ以下の微小レンズ及び微小レンズ
アレイを大量に安定して製造することができる製造方法
を提供することを目的とする。
【０００７】また、本発明は、直径１ｍｍ以下の微小レ
ンズ及び微小レンズアレイを提供することを目的とす
る。
ンズ及び微小レンズアレイを提供することを目的とす
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明の第１の態様による微小レンズの製造方法
は、第１の材料からなる基板に少なくとも１つの凹部を
形成する段階と、前記少なくとも１つの凹部内に微小レ
ンズを構成すべき第２の材料を埋め込む段階と、前記第
２の材料を前記基板から分離する段階と、を備えたもの
である。
め、本発明の第１の態様による微小レンズの製造方法
は、第１の材料からなる基板に少なくとも１つの凹部を
形成する段階と、前記少なくとも１つの凹部内に微小レ
ンズを構成すべき第２の材料を埋め込む段階と、前記第
２の材料を前記基板から分離する段階と、を備えたもの
である。
【０００９】この第１の態様では、基板に凹部を形成
し、この凹部にレンズ材料（第２の材料）を埋め込み、
埋め込んだレンズ材料を基板から分離することによっ
て、微小レンズを製造する。したがって、第１の態様に
よれば、個々の段階において半導体製造技術を用いるこ
とができるようになり、大きさが極めて小さくしかも形
状精度の良い微小レンズを安定して製造することができ
る。また、レンズ材料の選択の自由度が高まるので、レ
ンズ材料として屈折率の高い材料を用いることができ、
したがって、高い開口数の微小レンズを製造することが
できる。さらに、前記凹部を基板に多数形成すれば、微
小レンズを大量に安定して得ることができる。
し、この凹部にレンズ材料（第２の材料）を埋め込み、
埋め込んだレンズ材料を基板から分離することによっ
て、微小レンズを製造する。したがって、第１の態様に
よれば、個々の段階において半導体製造技術を用いるこ
とができるようになり、大きさが極めて小さくしかも形
状精度の良い微小レンズを安定して製造することができ
る。また、レンズ材料の選択の自由度が高まるので、レ
ンズ材料として屈折率の高い材料を用いることができ、
したがって、高い開口数の微小レンズを製造することが
できる。さらに、前記凹部を基板に多数形成すれば、微
小レンズを大量に安定して得ることができる。
【００１０】本発明の第２の態様による微小レンズの製
造方法は、前記第１の態様による製造方法において、前
記少なくとも１つの凹部を形成する段階は、基板をエッ
チングすることにより当該基板上に前記少なくとも１つ
の凹部を形成する段階を含むものである。
造方法は、前記第１の態様による製造方法において、前
記少なくとも１つの凹部を形成する段階は、基板をエッ
チングすることにより当該基板上に前記少なくとも１つ
の凹部を形成する段階を含むものである。
【００１１】この第２の態様は、前記第１の態様の具体
例であり、凹部の形成にエッチングを採用した例であ
る。
例であり、凹部の形成にエッチングを採用した例であ
る。
【００１２】本発明の第３の態様による微小レンズの製
造方法は、前記第１の態様による製造方法において、前
記少なくとも１つの凹部を形成する段階は、基板上に耐
エッチング性を有する膜を形成する段階と、該膜に前記
基板の表面を露出させる開口を形成する段階と、前記開
口から前記基板を等方的にエッチングする段階と、当該
エッチングする段階の後に前記膜を除去する段階と、を
含むものである。
造方法は、前記第１の態様による製造方法において、前
記少なくとも１つの凹部を形成する段階は、基板上に耐
エッチング性を有する膜を形成する段階と、該膜に前記
基板の表面を露出させる開口を形成する段階と、前記開
口から前記基板を等方的にエッチングする段階と、当該
エッチングする段階の後に前記膜を除去する段階と、を
含むものである。
【００１３】この第３の態様は、前記第１の態様の具体
例であり、凹部の形成に等方的なエッチングを採用した
ものである。このように、等方的なエッチングを採用す
ると、極めて真円度の高い半球状の微小レンズを得るこ
とができる。
例であり、凹部の形成に等方的なエッチングを採用した
ものである。このように、等方的なエッチングを採用す
ると、極めて真円度の高い半球状の微小レンズを得るこ
とができる。
【００１４】本発明の第４の態様による微小レンズの製
造方法は、前記第１乃至第３のいずれかの態様による製
造方法において、前記第２の材料を埋め込む段階は、前
記第２の材料が前記少なくとも１つの凹部内に埋め込ま
れるように、前記第２の材料を前記基板上に形成する段
階と、前記基板上に形成された前記第２の材料のうち前
記凹部以外の部分に形成された第２の材料を除去する段
階と、を含むものである。
造方法は、前記第１乃至第３のいずれかの態様による製
造方法において、前記第２の材料を埋め込む段階は、前
記第２の材料が前記少なくとも１つの凹部内に埋め込ま
れるように、前記第２の材料を前記基板上に形成する段
階と、前記基板上に形成された前記第２の材料のうち前
記凹部以外の部分に形成された第２の材料を除去する段
階と、を含むものである。
【００１５】この第４の態様は、前記第１乃至第３の態
様の具体例であり、凹部が形成された基板上に形成した
レンズ材料（第２の材料）の凹部以外の部分を除去する
ようにしたものである。
様の具体例であり、凹部が形成された基板上に形成した
レンズ材料（第２の材料）の凹部以外の部分を除去する
ようにしたものである。
【００１６】本発明の第５の態様による微小レンズの製
造方法は、前記第１乃至第４のいずれかの態様による製
造方法において、前記少なくとも１つの凹部を形成する
段階の後であって、前記第２の材料を埋め込む段階の前
に、選択的に溶出可能な第３の材料からなる薄膜を、前
記少なくとも１つの凹部の内壁に沿うように前記基板上
に形成する段階を備え、前記分離する段階は前記薄膜を
選択的に溶出する段階を含むものである。
造方法は、前記第１乃至第４のいずれかの態様による製
造方法において、前記少なくとも１つの凹部を形成する
段階の後であって、前記第２の材料を埋め込む段階の前
に、選択的に溶出可能な第３の材料からなる薄膜を、前
記少なくとも１つの凹部の内壁に沿うように前記基板上
に形成する段階を備え、前記分離する段階は前記薄膜を
選択的に溶出する段階を含むものである。
【００１７】この第５の態様は、前記第１乃至第４の態
様の具体例であり、基板とレンズ材料（レンズ材料）と
の分離を、両者の間に予め薄膜を介在させ後に当該薄膜
を選択的に溶出することにより行う例である。前記薄膜
はいわば剥離層となっている。この第５の態様によれ
ば、レンズ材料の基板からの分離を容易に行うことがで
きる。
様の具体例であり、基板とレンズ材料（レンズ材料）と
の分離を、両者の間に予め薄膜を介在させ後に当該薄膜
を選択的に溶出することにより行う例である。前記薄膜
はいわば剥離層となっている。この第５の態様によれ
ば、レンズ材料の基板からの分離を容易に行うことがで
きる。
【００１８】本発明の第６の態様による微小レンズの製
造方法は、前記第１乃至第４のいずれかの態様による製
造方法において、前記分離する段階は、前記基板を選択
的に溶出する段階を含むものである。
造方法は、前記第１乃至第４のいずれかの態様による製
造方法において、前記分離する段階は、前記基板を選択
的に溶出する段階を含むものである。
【００１９】この第６の態様は、前記第１乃至第４の態
様の具体例であり、基板とレンズ材料（レンズ材料）と
の分離を、基板を選択的に溶出することにより行う例で
ある。この第６の態様によっても、レンズ材料の基板か
らの分離を容易に行うことができる。
様の具体例であり、基板とレンズ材料（レンズ材料）と
の分離を、基板を選択的に溶出することにより行う例で
ある。この第６の態様によっても、レンズ材料の基板か
らの分離を容易に行うことができる。
【００２０】なお、この第６の態様のように基板を溶出
する場合を除き、前記第１乃至第５の態様では、凹部を
有する基板を製造しておけば、当該基板を複数回利用す
ることができるので、製造コストが一層低減する。
する場合を除き、前記第１乃至第５の態様では、凹部を
有する基板を製造しておけば、当該基板を複数回利用す
ることができるので、製造コストが一層低減する。
【００２１】本発明の第７の態様による微小レンズの製
造方法は、第１の材料からなる基板に複数の凹部を形成
する段階と、前記複数の凹部を形成する段階の後に、選
択的に溶出可能な第３の材料からなる薄膜を、前記複数
の凹部の内壁に沿うように前記基板上に形成する段階
と、前記凹部以外の領域における一部の領域の前記薄膜
を除去して前記基板の表面を部分的に露出させる段階
と、前記基板の表面を部分的に露出させる前記段階の後
に、微小レンズを構成すべき第２の材料が前記複数の凹
部内に埋め込まれるように、前記基板上に前記第２の材
料を形成する段階と、前記第２の材料を形成する前記段
階の後に、前記薄膜を選択的に溶出する段階と、を備え
たものである。
造方法は、第１の材料からなる基板に複数の凹部を形成
する段階と、前記複数の凹部を形成する段階の後に、選
択的に溶出可能な第３の材料からなる薄膜を、前記複数
の凹部の内壁に沿うように前記基板上に形成する段階
と、前記凹部以外の領域における一部の領域の前記薄膜
を除去して前記基板の表面を部分的に露出させる段階
と、前記基板の表面を部分的に露出させる前記段階の後
に、微小レンズを構成すべき第２の材料が前記複数の凹
部内に埋め込まれるように、前記基板上に前記第２の材
料を形成する段階と、前記第２の材料を形成する前記段
階の後に、前記薄膜を選択的に溶出する段階と、を備え
たものである。
【００２２】この第７の態様によれば、基本的には前述
した各態様と同様であり、開口数が高いとともに形状精
度の良い微小レンズを安定して大量に製造することがで
きる。そして、この第７の態様では、剥離層として用い
られる薄膜の一部を除去した後にレンズ材料を基板上に
形成するので、当該薄膜の溶出後には、複数の微小レン
ズ部分は対向する基板の凹部の内壁から分離されるもの
の、複数の微小レンズ部分が基板に対して支持されたよ
うな構造体を得ることができる。したがって、前記第４
の態様のような場合には、剥離層として用いられる薄膜
の溶出後には複数の微小レンズが個々にバラバラになっ
てしまうのに対し、前記第７の態様では、薄膜の溶出後
にも複数の微小レンズがバラバラにならず、その持ち運
びや保管に便利である。なお、前記第７の態様では、微
小レンズの使用時には、例えば、前記構造体から個々の
微小レンズを例えばその連結部分において切断する等に
よって分離することができる。
した各態様と同様であり、開口数が高いとともに形状精
度の良い微小レンズを安定して大量に製造することがで
きる。そして、この第７の態様では、剥離層として用い
られる薄膜の一部を除去した後にレンズ材料を基板上に
形成するので、当該薄膜の溶出後には、複数の微小レン
ズ部分は対向する基板の凹部の内壁から分離されるもの
の、複数の微小レンズ部分が基板に対して支持されたよ
うな構造体を得ることができる。したがって、前記第４
の態様のような場合には、剥離層として用いられる薄膜
の溶出後には複数の微小レンズが個々にバラバラになっ
てしまうのに対し、前記第７の態様では、薄膜の溶出後
にも複数の微小レンズがバラバラにならず、その持ち運
びや保管に便利である。なお、前記第７の態様では、微
小レンズの使用時には、例えば、前記構造体から個々の
微小レンズを例えばその連結部分において切断する等に
よって分離することができる。
【００２３】本発明の第８の態様による微小レンズの製
造方法は、前記第７の態様による製造方法において、前
記第２の材料を形成する段階の後であって、前記薄膜を
溶出する前記段階の前に、前記第２の材料が、梁部分、
前記各凹部内の微小レンズ部分、及び、前記基板の表面
に直接接触した支持部分を構成するように、前記第２の
材料をパターニングする段階を備え、前記梁部分、前記
微小レンズ部分及び前記支持部分は一体に連続し、前記
微小レンズ部分と前記梁部分とは前記微小レンズ部分の
縁部において一体に連続したものである。
造方法は、前記第７の態様による製造方法において、前
記第２の材料を形成する段階の後であって、前記薄膜を
溶出する前記段階の前に、前記第２の材料が、梁部分、
前記各凹部内の微小レンズ部分、及び、前記基板の表面
に直接接触した支持部分を構成するように、前記第２の
材料をパターニングする段階を備え、前記梁部分、前記
微小レンズ部分及び前記支持部分は一体に連続し、前記
微小レンズ部分と前記梁部分とは前記微小レンズ部分の
縁部において一体に連続したものである。
【００２４】この第８の態様は、前記第７の態様の具体
例であり、レンズ材料（第２の材料）によって、一体に
連続した梁部分、微小レンズ部分が支持部分が形成さ
れ、微小レンズ部分と梁部分とは微小レンズ部分の縁部
において一体に連続しているので、微小レンズの光学的
に有効な部分に損傷を与えるようなおそれなく容易に、
前述したような構造体から個々の微小レンズを分離する
ことができる。
例であり、レンズ材料（第２の材料）によって、一体に
連続した梁部分、微小レンズ部分が支持部分が形成さ
れ、微小レンズ部分と梁部分とは微小レンズ部分の縁部
において一体に連続しているので、微小レンズの光学的
に有効な部分に損傷を与えるようなおそれなく容易に、
前述したような構造体から個々の微小レンズを分離する
ことができる。
【００２５】本発明の第９の態様による微小レンズの製
造方法は、前記第１乃至第８のいずれかの態様による製
造方法において、前記第１の材料がシリコンであるもの
である。
造方法は、前記第１乃至第８のいずれかの態様による製
造方法において、前記第１の材料がシリコンであるもの
である。
【００２６】この第９の態様は、基板材料の例としてシ
リコンを挙げたものである。もっとも、本発明で用いる
基板材料はこれに限定されるものではなく、適宜加工性
の良い材料を使用することができる。
リコンを挙げたものである。もっとも、本発明で用いる
基板材料はこれに限定されるものではなく、適宜加工性
の良い材料を使用することができる。
【００２７】本発明の第１０の態様による微小レンズの
製造方法は、前記第１乃至第９のいずれかの態様による
製造方法において、前記第２の材料が、ガラス、アモル
ファスシリコン、ダイヤモンド、樹脂、シリコン、二酸
化チタン、ガリウム砒素、アルミニウムガリウム砒素、
インジウム燐、ゲルマニウム、カドミウムテルル、イン
ジウム砒素、インジウムアンチモン、硫化鉛、炭化シリ
コン、ガリウム燐、硫化砒素、チタン酸ストロンチウ
ム、ルチル、硫化亜鉛、ニオブ酸リチウム、酸化ジルコ
ニウム、及び、窒化シリコンのうちのいずれかであるも
のである。
製造方法は、前記第１乃至第９のいずれかの態様による
製造方法において、前記第２の材料が、ガラス、アモル
ファスシリコン、ダイヤモンド、樹脂、シリコン、二酸
化チタン、ガリウム砒素、アルミニウムガリウム砒素、
インジウム燐、ゲルマニウム、カドミウムテルル、イン
ジウム砒素、インジウムアンチモン、硫化鉛、炭化シリ
コン、ガリウム燐、硫化砒素、チタン酸ストロンチウ
ム、ルチル、硫化亜鉛、ニオブ酸リチウム、酸化ジルコ
ニウム、及び、窒化シリコンのうちのいずれかであるも
のである。
【００２８】この第１０の態様はレンズ材料の例を挙げ
たものであるが、本発明で用いるレンズ材料はこれらの
例に限定されるものではない。
たものであるが、本発明で用いるレンズ材料はこれらの
例に限定されるものではない。
【００２９】本発明の第１１の態様による微小レンズ
は、前記第１乃至第１０のいずれかの態様による製造方
法によって製造されたものである。
は、前記第１乃至第１０のいずれかの態様による製造方
法によって製造されたものである。
【００３０】この第１１の態様による微小レンズは、前
記第１乃至第１０の態様によって製造されたものである
ので、開口数が高いとともに、形状精度が良く、しかも
安価となる。
記第１乃至第１０の態様によって製造されたものである
ので、開口数が高いとともに、形状精度が良く、しかも
安価となる。
【００３１】本発明の第１２の態様による微小レンズア
レイの製造方法は、第１の材料からなる基板に複数の凹
部を形成する段階と、前記複数の凹部内に微小レンズア
レイを構成すべき第２の材料を埋め込む段階と、前記第
２の材料を前記基板から分離する段階と、を備えたもの
である。
レイの製造方法は、第１の材料からなる基板に複数の凹
部を形成する段階と、前記複数の凹部内に微小レンズア
レイを構成すべき第２の材料を埋め込む段階と、前記第
２の材料を前記基板から分離する段階と、を備えたもの
である。
【００３２】この第１２の態様によれば、前記第１の態
様の場合と同様に、開口数が高いとともに形状精度の良
い微小レンズを有する微小レンズアレイを安定して製造
することができ、前記凹部を複数の微小レンズアレイの
分だけ形成すれば、微小レンズアレイを大量に安定して
得ることができる。
様の場合と同様に、開口数が高いとともに形状精度の良
い微小レンズを有する微小レンズアレイを安定して製造
することができ、前記凹部を複数の微小レンズアレイの
分だけ形成すれば、微小レンズアレイを大量に安定して
得ることができる。
【００３３】本発明の第１３の態様による微小レンズア
レイの製造方法は、前記第１２の態様による製造方法に
おいて、前記複数の凹部を形成する段階は、基板をエッ
チングすることにより当該基板上に前記複数の凹部を形
成する段階を含むものである。
レイの製造方法は、前記第１２の態様による製造方法に
おいて、前記複数の凹部を形成する段階は、基板をエッ
チングすることにより当該基板上に前記複数の凹部を形
成する段階を含むものである。
【００３４】この第１３の態様は、前記第１２の態様の
具体例であり、凹部の形成にエッチングを採用した例で
ある。
具体例であり、凹部の形成にエッチングを採用した例で
ある。
【００３５】本発明の第１４の態様による微小レンズア
レイの製造方法は、前記第１２の態様による製造方法に
おいて、前記複数の凹部を形成する段階は、前記基板上
に耐エッチング性を有する膜を形成する段階と、該膜に
前記基板の表面を露出させる開口を形成する段階と、前
記開口から前記基板を等方的にエッチングする段階と、
当該エッチングする段階の後に前記膜を除去する段階
と、を含むものである。
レイの製造方法は、前記第１２の態様による製造方法に
おいて、前記複数の凹部を形成する段階は、前記基板上
に耐エッチング性を有する膜を形成する段階と、該膜に
前記基板の表面を露出させる開口を形成する段階と、前
記開口から前記基板を等方的にエッチングする段階と、
当該エッチングする段階の後に前記膜を除去する段階
と、を含むものである。
【００３６】この第１４の態様は、前記第１２の態様の
具体例であり、凹部の形成に等方的なエッチングを採用
したものである。このように、等方的なエッチングを採
用すると、極めて真円度の高い半球状の微小レンズを有
する微小レンズアレイを得ることができる。
具体例であり、凹部の形成に等方的なエッチングを採用
したものである。このように、等方的なエッチングを採
用すると、極めて真円度の高い半球状の微小レンズを有
する微小レンズアレイを得ることができる。
【００３７】本発明の第１５の態様による微小レンズア
レイの製造方法は、前記第１２乃至第１４のいずれかの
態様による製造方法において、前記複数の凹部を形成す
る段階の後であって、前記第２の材料を埋め込む段階の
前に、選択的に溶出可能な第３の材料からなる薄膜を、
前記複数の凹部の内壁に沿うように前記基板上に形成す
る段階を備え、前記分離する段階は前記薄膜を選択的に
溶出する段階を含むものである。
レイの製造方法は、前記第１２乃至第１４のいずれかの
態様による製造方法において、前記複数の凹部を形成す
る段階の後であって、前記第２の材料を埋め込む段階の
前に、選択的に溶出可能な第３の材料からなる薄膜を、
前記複数の凹部の内壁に沿うように前記基板上に形成す
る段階を備え、前記分離する段階は前記薄膜を選択的に
溶出する段階を含むものである。
【００３８】この第１５の態様は、前記第１２乃至第１
４の態様の具体例であり、基板とレンズ材料（レンズア
レイ材料）との分離を、両者の間に予め薄膜を介在させ
後に当該薄膜を選択的に溶出することにより行う例であ
る。前記薄膜はいわば剥離層となっている。この第１５
の態様によれば、レンズ材料の基板からの分離を容易に
行うことができる。
４の態様の具体例であり、基板とレンズ材料（レンズア
レイ材料）との分離を、両者の間に予め薄膜を介在させ
後に当該薄膜を選択的に溶出することにより行う例であ
る。前記薄膜はいわば剥離層となっている。この第１５
の態様によれば、レンズ材料の基板からの分離を容易に
行うことができる。
【００３９】本発明の第１６の態様による微小レンズア
レイの製造方法は、前記第１２乃至第１４のいずれかの
態様による製造方法において、前記分離する段階は、前
記基板を選択的に溶出する段階を含むものである。
レイの製造方法は、前記第１２乃至第１４のいずれかの
態様による製造方法において、前記分離する段階は、前
記基板を選択的に溶出する段階を含むものである。
【００４０】この第１６の態様は、前記第１２乃至第１
４の態様の具体例であり、基板とレンズ材料（レンズア
レイ材料）との分離を、基板を選択的に溶出することに
より行う例である。この第１６の態様によっても、レン
ズ材料の基板からの分離を容易に行うことができる。
４の態様の具体例であり、基板とレンズ材料（レンズア
レイ材料）との分離を、基板を選択的に溶出することに
より行う例である。この第１６の態様によっても、レン
ズ材料の基板からの分離を容易に行うことができる。
【００４１】なお、この第１６の態様のように基板を溶
出する場合を除き、前記第１２乃至第１５の態様では、
凹部を有する基板を製造しておけば、当該基板を複数回
利用することができるので、製造コストが一層低減す
る。
出する場合を除き、前記第１２乃至第１５の態様では、
凹部を有する基板を製造しておけば、当該基板を複数回
利用することができるので、製造コストが一層低減す
る。
【００４２】本発明の第１７の態様による微小レンズア
レイの製造方法は、前記第１２乃至第１６のいずれかの
態様による製造方法において、前記第１の材料がシリコ
ン又はガリウム砒素であるものである。
レイの製造方法は、前記第１２乃至第１６のいずれかの
態様による製造方法において、前記第１の材料がシリコ
ン又はガリウム砒素であるものである。
【００４３】この第１７の態様は、基板材料の例として
シリコン及びガリウム砒素を挙げたものである。もっと
も、本発明で用いる基板材料はこれに限定されるもので
はなく、適宜加工性の良い材料を使用することができ
る。
シリコン及びガリウム砒素を挙げたものである。もっと
も、本発明で用いる基板材料はこれに限定されるもので
はなく、適宜加工性の良い材料を使用することができ
る。
【００４４】本発明の第１８の態様による微小レンズア
レイの製造方法は、前記第１２乃至第１７のいずれかの
態様による製造方法において、前記第２の材料が、ガラ
ス、アモルファスシリコン、ダイヤモンド、樹脂、シリ
コン、二酸化チタン、ガリウム砒素、アルミニウムガリ
ウム砒素、インジウム燐、ゲルマニウム、カドミウムテ
ルル、インジウム砒素、インジウムアンチモン、硫化
鉛、炭化シリコン、ガリウム燐、硫化砒素、チタン酸ス
トロンチウム、ルチル、硫化亜鉛、ニオブ酸リチウム、
酸化ジルコニウム、及び、窒化シリコンのうちのいずれ
かであるものである。
レイの製造方法は、前記第１２乃至第１７のいずれかの
態様による製造方法において、前記第２の材料が、ガラ
ス、アモルファスシリコン、ダイヤモンド、樹脂、シリ
コン、二酸化チタン、ガリウム砒素、アルミニウムガリ
ウム砒素、インジウム燐、ゲルマニウム、カドミウムテ
ルル、インジウム砒素、インジウムアンチモン、硫化
鉛、炭化シリコン、ガリウム燐、硫化砒素、チタン酸ス
トロンチウム、ルチル、硫化亜鉛、ニオブ酸リチウム、
酸化ジルコニウム、及び、窒化シリコンのうちのいずれ
かであるものである。
【００４５】この第１８の態様はレンズアレイ材料の例
を挙げたものであるが、本発明で用いるレンズアレイ材
料はこれらの例に限定されるものではない。
を挙げたものであるが、本発明で用いるレンズアレイ材
料はこれらの例に限定されるものではない。
【００４６】本発明の第１９の態様による微小レンズア
レイは、前記第１２乃至第１８のいずれかの態様による
製造方法によって製造されたものである。
レイは、前記第１２乃至第１８のいずれかの態様による
製造方法によって製造されたものである。
【００４７】この第１９の態様による微小レンズアレイ
は、前記第１２乃至第１８の態様によって製造されたも
のであるので、開口数が高いとともに形状精度の良い微
小レンズを持つことができ、しかも安価となる。
は、前記第１２乃至第１８の態様によって製造されたも
のであるので、開口数が高いとともに形状精度の良い微
小レンズを持つことができ、しかも安価となる。
【００４８】
【発明の実施の形態】以下、本発明による微小レンズ及
び微小レンズアレイ並びにそれらの製造方法について、
図面を参照して説明する。
び微小レンズアレイ並びにそれらの製造方法について、
図面を参照して説明する。
【００４９】（第１の実施の形態）まず、本発明の第１
の実施の形態による微小レンズの製造方法について、図
１及び図２を参照して説明する。
の実施の形態による微小レンズの製造方法について、図
１及び図２を参照して説明する。
【００５０】図１は本実施の形態による微小レンズの製
造方法の工程を示す概略図、図２は図１に示す工程に引
き続く工程を示す概略図である。図１及び図２におい
て、左側は概略断面図を示し、右側は概略上面図を示
し、左右に並んだ図は同一工程を示している。
造方法の工程を示す概略図、図２は図１に示す工程に引
き続く工程を示す概略図である。図１及び図２におい
て、左側は概略断面図を示し、右側は概略上面図を示
し、左右に並んだ図は同一工程を示している。
【００５１】第１の材料としてのシリコン（Ｓｉ）から
なる基板１を用いる。まず、Ｓｉ基板１上に、後述する
Ｓｉ基板１の等方的なエッチングに対して耐エッチング
性を有する膜としてのクロム（Ｃｒ）膜２を蒸着により
形成する。次に、フォトリソグラフィーとエッチング法
とにより、Ｃｒ膜２に円形の開口２ａを形成し、この開
口２ａからＳｉ基板１の表面を露出させる（図１（ａ）
（ｂ））。
なる基板１を用いる。まず、Ｓｉ基板１上に、後述する
Ｓｉ基板１の等方的なエッチングに対して耐エッチング
性を有する膜としてのクロム（Ｃｒ）膜２を蒸着により
形成する。次に、フォトリソグラフィーとエッチング法
とにより、Ｃｒ膜２に円形の開口２ａを形成し、この開
口２ａからＳｉ基板１の表面を露出させる（図１（ａ）
（ｂ））。
【００５２】次に、フッ酸−硝酸系のエッチング液によ
り、開口２ａからＳｉ基板１を等方的にエッチングし、
Ｓｉ基板１上に半球状の凹部１ａを形成する（図１
（ｃ）（ｄ））。この時、Ｃｒ膜２の開口２ａの円形パ
ターンが真円に極めて近く、フッ酸−硝酸系のエッチン
グ液の組成と温度を適当にコントロールしておけば、エ
ッチングによる凹部１ａを極めて精度の高い半球状（真
球度０．２μｍ程度）とすることができる。勿論、凹部
１ａの内壁は、球面であり曲面である。
り、開口２ａからＳｉ基板１を等方的にエッチングし、
Ｓｉ基板１上に半球状の凹部１ａを形成する（図１
（ｃ）（ｄ））。この時、Ｃｒ膜２の開口２ａの円形パ
ターンが真円に極めて近く、フッ酸−硝酸系のエッチン
グ液の組成と温度を適当にコントロールしておけば、エ
ッチングによる凹部１ａを極めて精度の高い半球状（真
球度０．２μｍ程度）とすることができる。勿論、凹部
１ａの内壁は、球面であり曲面である。
【００５３】その後、Ｃｒ膜２を除去する（図１（ｅ）
（ｆ））。
（ｆ））。
【００５４】本実施の形態では、以上の工程が、図１
（ｅ）（ｆ）に示す凹部１ａが形成された基板１を用意
する段階を構成している。なお、本実施の形態では、一
旦、図１（ｅ）（ｆ）に示す基板１を作成してしまえ
ば、微小レンズの製造に際して何回も利用することがで
きる。
（ｅ）（ｆ）に示す凹部１ａが形成された基板１を用意
する段階を構成している。なお、本実施の形態では、一
旦、図１（ｅ）（ｆ）に示す基板１を作成してしまえ
ば、微小レンズの製造に際して何回も利用することがで
きる。
【００５５】その後、選択的に溶出可能な第３の材料と
しての燐酸珪素ガラス（Phospo Silicate Glass：ＰＳ
Ｇ）３を、減圧化学気相成長法（ＬＰＣＶＤ法）によ
り、図１（ｃ）（ｄ）に示す状態の基板１の上面全面に
１μｍ程度以下に薄く成膜する（図１（ｇ）（ｈ））。
すなわち、ＰＳＧ薄膜３を、凹部１ａの内壁に沿うよう
に基板１上に全面に形成する。
しての燐酸珪素ガラス（Phospo Silicate Glass：ＰＳ
Ｇ）３を、減圧化学気相成長法（ＬＰＣＶＤ法）によ
り、図１（ｃ）（ｄ）に示す状態の基板１の上面全面に
１μｍ程度以下に薄く成膜する（図１（ｇ）（ｈ））。
すなわち、ＰＳＧ薄膜３を、凹部１ａの内壁に沿うよう
に基板１上に全面に形成する。
【００５６】次に、第２の材料（レンズ材料）としての
例えばコーニング社の７０５９−Ｇｌａｓｓなどの光学
ガラス４を、スパッタリング法により、基板１の凹部１
ａが埋め込まれるように、図１（ｇ）（ｈ）に示す状態
の基板１上の全面に成膜する（図２（ａ）（ｂ））。
例えばコーニング社の７０５９−Ｇｌａｓｓなどの光学
ガラス４を、スパッタリング法により、基板１の凹部１
ａが埋め込まれるように、図１（ｇ）（ｈ）に示す状態
の基板１上の全面に成膜する（図２（ａ）（ｂ））。
【００５７】その後、基板１上に形成された光学ガラス
４のうち凹部１ａ以外の部分に形成された光学ガラス４
を、ＲＩＥ（反応性イオンエッチング）等の方法により
除去する（図２（ｃ）（ｄ））。なお、Ｓｉ基板１の凹
部１ａの部分とそれ以外の部分の光学ガラス４の膜厚が
異なる場合は、ポリッシングにより凹部１ａ以外の部分
のガラス４を取り除くか、ポリッシングにより平坦化し
た後にＲＩＥエッチングを行う。
４のうち凹部１ａ以外の部分に形成された光学ガラス４
を、ＲＩＥ（反応性イオンエッチング）等の方法により
除去する（図２（ｃ）（ｄ））。なお、Ｓｉ基板１の凹
部１ａの部分とそれ以外の部分の光学ガラス４の膜厚が
異なる場合は、ポリッシングにより凹部１ａ以外の部分
のガラス４を取り除くか、ポリッシングにより平坦化し
た後にＲＩＥエッチングを行う。
【００５８】最後に、図２（ｃ）（ｄ）に示す状態の基
板をフッ酸溶液中に浸してＰＳＧ薄膜３を選択的に溶出
する（図２（ｅ）（ｆ））。なお、ＰＳＧはフッ酸溶液
に素速く溶解する。これにより、半球状のガラス４はＳ
ｉ基板１から分離され、当該半球状のガラス４からなる
微小レンズ５が完成する。
板をフッ酸溶液中に浸してＰＳＧ薄膜３を選択的に溶出
する（図２（ｅ）（ｆ））。なお、ＰＳＧはフッ酸溶液
に素速く溶解する。これにより、半球状のガラス４はＳ
ｉ基板１から分離され、当該半球状のガラス４からなる
微小レンズ５が完成する。
【００５９】この製造方法では、Ｃｒ膜２の円形の開口
２ａの大きさと基板１をエッチングする際のエッチング
時間とにより、半球状の凹部１ａの大きさ（したがっ
て、微小レンズ５の大きさ）を任意に決めることがで
き、例えば、直径１ｍｍ程度から直径数μｍ程度までの
微小レンズ５を製造することが可能である。
２ａの大きさと基板１をエッチングする際のエッチング
時間とにより、半球状の凹部１ａの大きさ（したがっ
て、微小レンズ５の大きさ）を任意に決めることがで
き、例えば、直径１ｍｍ程度から直径数μｍ程度までの
微小レンズ５を製造することが可能である。
【００６０】なお、図１に示す例では、基板１に凹部１
ａを一つだけ形成しているが、凹部１ａを縦横に列状に
形成し、一度に大量の微小レンズ５を作製することも、
勿論可能である。
ａを一つだけ形成しているが、凹部１ａを縦横に列状に
形成し、一度に大量の微小レンズ５を作製することも、
勿論可能である。
【００６１】本実施の形態によれば、前述したようにし
て微小レンズ５を製造しており、個々の段階において半
導体製造技術が用いられており、大きさが極めて小さく
しかも形状精度の良い微小レンズ５を安定して製造する
ことができる。また、レンズ材料（前記光学ガラス４に
相当する材料）の選択の自由度が高まるので、レンズ材
料として屈折率の高い材料を用いることができ、したが
って、高い開口数の微小レンズ５を製造することができ
る。さらに、前記凹部１ａを基板１に多数形成すれば、
微小レンズ５を大量に安定して得ることができる。
て微小レンズ５を製造しており、個々の段階において半
導体製造技術が用いられており、大きさが極めて小さく
しかも形状精度の良い微小レンズ５を安定して製造する
ことができる。また、レンズ材料（前記光学ガラス４に
相当する材料）の選択の自由度が高まるので、レンズ材
料として屈折率の高い材料を用いることができ、したが
って、高い開口数の微小レンズ５を製造することができ
る。さらに、前記凹部１ａを基板１に多数形成すれば、
微小レンズ５を大量に安定して得ることができる。
【００６２】（第２の実施の形態）次に、本発明の第２
の実施の形態による微小レンズの製造方法について、図
３を参照して説明する。
の実施の形態による微小レンズの製造方法について、図
３を参照して説明する。
【００６３】図３は、本実施の形態による微小レンズの
製造方法の工程を示す概略図である。図３において、左
側は概略断面図を示し、右側は概略上面図を示し、左右
に並んだ図は同一工程を示している。図３において、図
１及び図２中の要素と同一又は対応する要素には同一符
号を付し、その重複する説明は省略する。
製造方法の工程を示す概略図である。図３において、左
側は概略断面図を示し、右側は概略上面図を示し、左右
に並んだ図は同一工程を示している。図３において、図
１及び図２中の要素と同一又は対応する要素には同一符
号を付し、その重複する説明は省略する。
【００６４】本実施の形態では、まず、前記第１の実施
の形態に関して前述した図１（ａ）〜図１（ｆ）に示す
工程と同一の工程を経て、図３（ａ）（ｂ）に示す状態
（図１（ｅ）（ｆ）に示す状態と同じ）となる。
の形態に関して前述した図１（ａ）〜図１（ｆ）に示す
工程と同一の工程を経て、図３（ａ）（ｂ）に示す状態
（図１（ｅ）（ｆ）に示す状態と同じ）となる。
【００６５】次に、前記ＰＳＧ薄膜３を形成することな
く、第２の材料（レンズ材料）としての例えばコーニン
グ社の７０５９−Ｇｌａｓｓなどの光学ガラス４を、ス
パッタリング法により、基板１の凹部１ａが埋め込まれ
るように、図３（ａ）（ｂ）に示す状態の基板１上の全
面に成膜する（図３（ｃ）（ｄ））。
く、第２の材料（レンズ材料）としての例えばコーニン
グ社の７０５９−Ｇｌａｓｓなどの光学ガラス４を、ス
パッタリング法により、基板１の凹部１ａが埋め込まれ
るように、図３（ａ）（ｂ）に示す状態の基板１上の全
面に成膜する（図３（ｃ）（ｄ））。
【００６６】その後、基板１上に形成された光学ガラス
４のうち凹部１ａ以外の部分に形成された光学ガラス４
を、ＲＩＥ（反応性イオンエッチング）等の方法により
除去する（図３（ｅ）（ｆ））。なお、Ｓｉ基板１の凹
部１ａの部分とそれ以外の部分の光学ガラス４の膜厚が
異なる場合は、ポリッシングにより凹部１ａ以外の部分
のガラス４を取り除くか、ポリッシングにより平坦化し
た後にＲＩＥエッチングを行う。
４のうち凹部１ａ以外の部分に形成された光学ガラス４
を、ＲＩＥ（反応性イオンエッチング）等の方法により
除去する（図３（ｅ）（ｆ））。なお、Ｓｉ基板１の凹
部１ａの部分とそれ以外の部分の光学ガラス４の膜厚が
異なる場合は、ポリッシングにより凹部１ａ以外の部分
のガラス４を取り除くか、ポリッシングにより平坦化し
た後にＲＩＥエッチングを行う。
【００６７】最後に、図３（ｅ）（ｆ）に示す状態の基
板を水酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液に浸してＳｉ基板
１を選択的に溶出する（図３（ｇ）（ｈ））。なお、シ
リコンは前記ガラス４に比べて水酸化カリウム水溶液に
はるかに急速に溶解する。これにより、半球状のガラス
４はＳｉ基板１から分離され、当該半球状のガラス４か
らなる微小レンズ５が完成する。
板を水酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液に浸してＳｉ基板
１を選択的に溶出する（図３（ｇ）（ｈ））。なお、シ
リコンは前記ガラス４に比べて水酸化カリウム水溶液に
はるかに急速に溶解する。これにより、半球状のガラス
４はＳｉ基板１から分離され、当該半球状のガラス４か
らなる微小レンズ５が完成する。
【００６８】本実施の形態によっても、前記第１の実施
の形態と同様の利点が得られる。
の形態と同様の利点が得られる。
【００６９】（第３の実施の形態）次に、本発明の第３
の実施の形態による微小レンズの製造方法について、図
４及び図５を参照して説明する。
の実施の形態による微小レンズの製造方法について、図
４及び図５を参照して説明する。
【００７０】図４は本実施の形態による微小レンズの製
造方法の工程を示す概略図、図５は図４に示す工程に引
き続く工程を示す概略図である。図４（ａ）（ｃ）及び
図５（ａ）（ｃ）は概略断面図、図４（ｂ）（ｄ）及び
図５（ｂ）（ｄ）は概略上面図を示している。図４
（ａ）と図４（ｂ）、図４（ｃ）と図４（ｄ）、図５
（ａ）と図５（ｂ）、図５（ｃ）と図５（ｄ）は、それ
ぞれ同一工程を示している。なお、図５（ａ）は図５
（ｂ）中のＸ１−Ｘ１’線に沿った断面を示し、図５
（ｃ）は図５（ｄ）中のＸ２−Ｘ２’線に沿った断面を
示している。図４及び図５において、図１及び図２中の
要素と同一又は対応する要素には同一符号を付し、その
重複する説明は省略する。
造方法の工程を示す概略図、図５は図４に示す工程に引
き続く工程を示す概略図である。図４（ａ）（ｃ）及び
図５（ａ）（ｃ）は概略断面図、図４（ｂ）（ｄ）及び
図５（ｂ）（ｄ）は概略上面図を示している。図４
（ａ）と図４（ｂ）、図４（ｃ）と図４（ｄ）、図５
（ａ）と図５（ｂ）、図５（ｃ）と図５（ｄ）は、それ
ぞれ同一工程を示している。なお、図５（ａ）は図５
（ｂ）中のＸ１−Ｘ１’線に沿った断面を示し、図５
（ｃ）は図５（ｄ）中のＸ２−Ｘ２’線に沿った断面を
示している。図４及び図５において、図１及び図２中の
要素と同一又は対応する要素には同一符号を付し、その
重複する説明は省略する。
【００７１】本実施の形態では、まず、前記第１の実施
の形態に関して前述した図１（ａ）〜図１（ｈ）に示す
工程と同様の工程を経て、図１（ｇ）（ｈ）に示す状態
と同様の状態となる。ただし、本実施の形態では、開口
２ａを多数列状に形成し、Ｓｉ基板１上に凹部１ａを多
数列状に形成する。
の形態に関して前述した図１（ａ）〜図１（ｈ）に示す
工程と同様の工程を経て、図１（ｇ）（ｈ）に示す状態
と同様の状態となる。ただし、本実施の形態では、開口
２ａを多数列状に形成し、Ｓｉ基板１上に凹部１ａを多
数列状に形成する。
【００７２】次に、この状態の基板１に対して、フォト
リソグラフィーとエッチング法を用いて基板１上に成膜
したＰＳＧ薄膜２をパターニングし、基板１の周辺部分
（例えば、基板１の領域を各々が複数の開口２ａを含む
複数のブロックに分けて考えたとき、当該各ブロックの
周辺部分でもよい）のみＳｉ基板１の表面を露出させる
（図４（ａ）（ｂ））。すなわち、凹部１ａ以外の領域
における一部の領域のＰＳＧ薄膜２を除去して基板１の
表面を露出させる。
リソグラフィーとエッチング法を用いて基板１上に成膜
したＰＳＧ薄膜２をパターニングし、基板１の周辺部分
（例えば、基板１の領域を各々が複数の開口２ａを含む
複数のブロックに分けて考えたとき、当該各ブロックの
周辺部分でもよい）のみＳｉ基板１の表面を露出させる
（図４（ａ）（ｂ））。すなわち、凹部１ａ以外の領域
における一部の領域のＰＳＧ薄膜２を除去して基板１の
表面を露出させる。
【００７３】次に、第２の材料（レンズ材料）としての
チタン酸ストロンチウム（以下、ＳｒＴｉＯ3）１４
を、スパッタリング法を用いて、基板１の凹部１ａが埋
め込まれるように、図４（ａ）（ｂ）に示す状態の基板
１上の全面に堆積する（図４（ｃ）（ｄ））。図４
（ｃ）（ｄ）に示すように、堆積したＳｒＴｉＯ3膜１
４は、図４（ａ）（ｂ）でＳｉ基板１の表面が露出した
部分のみＳｉと接触している。
チタン酸ストロンチウム（以下、ＳｒＴｉＯ3）１４
を、スパッタリング法を用いて、基板１の凹部１ａが埋
め込まれるように、図４（ａ）（ｂ）に示す状態の基板
１上の全面に堆積する（図４（ｃ）（ｄ））。図４
（ｃ）（ｄ）に示すように、堆積したＳｒＴｉＯ3膜１
４は、図４（ａ）（ｂ）でＳｉ基板１の表面が露出した
部分のみＳｉと接触している。
【００７４】次に、ＳｒＴｉＯ3膜１４を、フォトリソ
グラフィーとＲＩＥ等のエッチングにより、図５（ａ）
（ｂ）に示すようにパターニングする。すなわち、Ｓｒ
ＴｉＯ3膜１４が、梁部分１４ａ、各凹部１ａ内の微小
レンズ部分１４ｂ、及び、基板１の表面に直接に接触し
た支持部分１４ｃを構成するように、ＳｒＴｉＯ3膜１
４をパターニングする。各部分１４ａ，１４ｂ，１４ｃ
は一体に連続して繋がっている。特に、凹部１ａの部分
に埋め込まれた半球状のＳｒＴｉＯ3（微小レンズ部分
１４ａ）と、同じＳｒＴｉＯ3の矩形の梁部分１４ｂと
は、微小レンズ部分１４ａの縁部において一体に連続し
て繋がっている。
グラフィーとＲＩＥ等のエッチングにより、図５（ａ）
（ｂ）に示すようにパターニングする。すなわち、Ｓｒ
ＴｉＯ3膜１４が、梁部分１４ａ、各凹部１ａ内の微小
レンズ部分１４ｂ、及び、基板１の表面に直接に接触し
た支持部分１４ｃを構成するように、ＳｒＴｉＯ3膜１
４をパターニングする。各部分１４ａ，１４ｂ，１４ｃ
は一体に連続して繋がっている。特に、凹部１ａの部分
に埋め込まれた半球状のＳｒＴｉＯ3（微小レンズ部分
１４ａ）と、同じＳｒＴｉＯ3の矩形の梁部分１４ｂと
は、微小レンズ部分１４ａの縁部において一体に連続し
て繋がっている。
【００７５】その後、図５（ａ）（ｂ）に示す状態の基
板をフッ酸溶液中に浸してＰＳＧ薄膜３を選択的に溶出
する（図５（ｃ）（ｄ））。なお、ＰＳＧはフッ酸溶液
に素速く溶解する。この状態の図５（ｃ）（ｄ）に示す
構造体では、複数の微小レンズ部分１４ｂは対向する基
板１の凹部１ａの内壁から分離されるものの、複数の微
小レンズ部分１４ｂが基板１に対して支持されたような
構造体となっている。したがって、前記第１及び第２の
実施の形態では、ＰＳＧ薄膜３の溶出後には複数の微小
レンズ５が個々にバラバラになってしまうのに対し、本
実施の形態では、ＰＳＧ薄膜３の溶出後にも複数の微小
レンズ（微小レンズ部分１４ｂ）がバラバラにならず、
その持ち運びや保管に便利である。
板をフッ酸溶液中に浸してＰＳＧ薄膜３を選択的に溶出
する（図５（ｃ）（ｄ））。なお、ＰＳＧはフッ酸溶液
に素速く溶解する。この状態の図５（ｃ）（ｄ）に示す
構造体では、複数の微小レンズ部分１４ｂは対向する基
板１の凹部１ａの内壁から分離されるものの、複数の微
小レンズ部分１４ｂが基板１に対して支持されたような
構造体となっている。したがって、前記第１及び第２の
実施の形態では、ＰＳＧ薄膜３の溶出後には複数の微小
レンズ５が個々にバラバラになってしまうのに対し、本
実施の形態では、ＰＳＧ薄膜３の溶出後にも複数の微小
レンズ（微小レンズ部分１４ｂ）がバラバラにならず、
その持ち運びや保管に便利である。
【００７６】微小レンズ１４ｂの使用時には、図５
（ｃ）（ｄ）に示す構造体から、個々の微小レンズ１４
ｂを分離する。
（ｃ）（ｄ）に示す構造体から、個々の微小レンズ１４
ｂを分離する。
【００７７】次に、図５（ｃ）（ｄ）に示す構造体か
ら、個々の微小レンズ１４ｂを分離する方法の一例につ
いて、図６を参照して説明する。図６は、この方法の各
段階を示す概略断面図である。
ら、個々の微小レンズ１４ｂを分離する方法の一例につ
いて、図６を参照して説明する。図６は、この方法の各
段階を示す概略断面図である。
【００７８】まず、図５（ｃ）（ｄ）に示す構造体の両
面に、紫外線硬化型等の粘着テープ２１，２２を張り付
ける（図６（ａ））。
面に、紫外線硬化型等の粘着テープ２１，２２を張り付
ける（図６（ａ））。
【００７９】図６（ａ）に示す状態の構造体をダイシン
グ装置にセットし、図６（ａ）中の点線に沿ってダイシ
ングにより切断し、基板１周辺部分を切り落とす。これ
により、微小レンズ１４ｂを含むＳｒＴｉＯ3膜１４は
Ｓｉ基板１から分離される（図６（ｂ））。
グ装置にセットし、図６（ａ）中の点線に沿ってダイシ
ングにより切断し、基板１周辺部分を切り落とす。これ
により、微小レンズ１４ｂを含むＳｒＴｉＯ3膜１４は
Ｓｉ基板１から分離される（図６（ｂ））。
【００８０】次に、微小レンズ１４ｂを含むＳｒＴｉＯ
3層１４の梁部分１４ａの微小レンズ１４ｂとの連結部
分をダイシングにより切断し（すなわち、図６（ｃ）中
の点線に沿って切断し）、１つ１つの微小レンズ４ｂが
分離できる（図６（ｄ））。
3層１４の梁部分１４ａの微小レンズ１４ｂとの連結部
分をダイシングにより切断し（すなわち、図６（ｃ）中
の点線に沿って切断し）、１つ１つの微小レンズ４ｂが
分離できる（図６（ｄ））。
【００８１】本実施の形態によれば、前述した第１の実
施の形態と同様の利点が得られる他、前述したように持
ち運びや保管に便利である。
施の形態と同様の利点が得られる他、前述したように持
ち運びや保管に便利である。
【００８２】（第４の実施の形態）次に、本実施の形態
の第４の実施の形態による微小レンズアレイの製造方法
について、図７及び図８を参照して説明する。
の第４の実施の形態による微小レンズアレイの製造方法
について、図７及び図８を参照して説明する。
【００８３】図７は本実施の形態による微小レンズアレ
イの製造方法の工程を示す概略図、図８は図７に示す工
程に引き続く工程を示す概略図である。図７（ａ）
（ｃ）及び図８は概略断面図、図７（ｂ）（ｄ）は概略
上面図を示している。図７（ａ）と図７（ｂ）、図７
（ｃ）と図７（ｄ）は、それぞれ同一工程を示してい
る。図７及び図８において、図１及び図２中の要素と同
一又は対応する要素には同一符号を付し、その重複する
説明は省略する。
イの製造方法の工程を示す概略図、図８は図７に示す工
程に引き続く工程を示す概略図である。図７（ａ）
（ｃ）及び図８は概略断面図、図７（ｂ）（ｄ）は概略
上面図を示している。図７（ａ）と図７（ｂ）、図７
（ｃ）と図７（ｄ）は、それぞれ同一工程を示してい
る。図７及び図８において、図１及び図２中の要素と同
一又は対応する要素には同一符号を付し、その重複する
説明は省略する。
【００８４】本実施の形態では、まず、前記第１の実施
の形態に関して前述した図１（ａ）〜図１（ｈ）に示す
工程と同様の工程を経て、図１（ｇ）（ｈ）に示す状態
と同様の図７（ａ）（ｂ）に示す状態となる。ただし、
本実施の形態では、開口２ａを多数列状に形成し、Ｓｉ
基板１上に凹部１ａを多数列状に形成する。
の形態に関して前述した図１（ａ）〜図１（ｈ）に示す
工程と同様の工程を経て、図１（ｇ）（ｈ）に示す状態
と同様の図７（ａ）（ｂ）に示す状態となる。ただし、
本実施の形態では、開口２ａを多数列状に形成し、Ｓｉ
基板１上に凹部１ａを多数列状に形成する。
【００８５】次に、第２の材料（レンズアレイ材料）と
しての例えばコーニング社の７０５９−Ｇｌａｓｓなど
の光学ガラス４を、スパッタリング法により、基板１の
凹部１ａが埋め込まれるように、かつ所望の厚さとなる
ように、図７（ａ）（ｂ）に示す状態の基板１上の全面
に成膜する。その後、微小レンズアレイの所望の外形形
状に合わせて、光学ガラス４をＲＩＥ等の方法によりパ
ターニングする（図７（ｃ）（ｄ））。
しての例えばコーニング社の７０５９−Ｇｌａｓｓなど
の光学ガラス４を、スパッタリング法により、基板１の
凹部１ａが埋め込まれるように、かつ所望の厚さとなる
ように、図７（ａ）（ｂ）に示す状態の基板１上の全面
に成膜する。その後、微小レンズアレイの所望の外形形
状に合わせて、光学ガラス４をＲＩＥ等の方法によりパ
ターニングする（図７（ｃ）（ｄ））。
【００８６】最後に、図７（ｃ）（ｄ）に示す状態の基
板をフッ酸溶液中に浸してＰＳＧ薄膜３を選択的に溶出
する（図８）。なお、ＰＳＧはフッ酸溶液に素速く溶解
する。これにより、半球状部分を複数含むガラス４はＳ
ｉ基板１から分離され、当該半球状部分を複数含むガラ
ス４からなる微小レンズアレイ２５が完成する。
板をフッ酸溶液中に浸してＰＳＧ薄膜３を選択的に溶出
する（図８）。なお、ＰＳＧはフッ酸溶液に素速く溶解
する。これにより、半球状部分を複数含むガラス４はＳ
ｉ基板１から分離され、当該半球状部分を複数含むガラ
ス４からなる微小レンズアレイ２５が完成する。
【００８７】本実施の形態によれば、前述した第１の実
施の形態と同様に、開口数が高いとともに形状精度の良
い微小レンズを有する微小レンズアレイ２５を安定して
製造することができ、前記凹部１ａを複数の微小レンズ
アレイの分だけ形成すれば、微小レンズアレイを大量に
安定して得ることができる。
施の形態と同様に、開口数が高いとともに形状精度の良
い微小レンズを有する微小レンズアレイ２５を安定して
製造することができ、前記凹部１ａを複数の微小レンズ
アレイの分だけ形成すれば、微小レンズアレイを大量に
安定して得ることができる。
【００８８】（第５の実施の形態）次に、本実施の形態
の第５の実施の形態による微小レンズアレイの製造方法
について、図９を参照して説明する。
の第５の実施の形態による微小レンズアレイの製造方法
について、図９を参照して説明する。
【００８９】図９は本実施の形態による微小レンズアレ
イの製造方法の工程を示す概略断面図である。図８にお
いて、図１及び図２中の要素と同一又は対応する要素に
は同一符号を付し、その重複する説明は省略する。
イの製造方法の工程を示す概略断面図である。図８にお
いて、図１及び図２中の要素と同一又は対応する要素に
は同一符号を付し、その重複する説明は省略する。
【００９０】本実施の形態では、まず、前記第１の実施
の形態に関して前述した図１（ａ）〜図１（ｆ）に示す
工程と同様の工程を経て、図１（ｅ）（ｆ）に示す状態
と同様の図９（ａ）に示す状態となる。ただし、本実施
の形態では、開口２ａを多数列状に形成し、Ｓｉ基板１
上に凹部１ａを多数列状に形成する。
の形態に関して前述した図１（ａ）〜図１（ｆ）に示す
工程と同様の工程を経て、図１（ｅ）（ｆ）に示す状態
と同様の図９（ａ）に示す状態となる。ただし、本実施
の形態では、開口２ａを多数列状に形成し、Ｓｉ基板１
上に凹部１ａを多数列状に形成する。
【００９１】次に、前記ＰＳＧ薄膜３を形成することな
く、第２の材料（レンズアレイ材料）としての例えばコ
ーニング社の７０５９−Ｇｌａｓｓなどの光学ガラス４
を、スパッタリング法により、基板１の凹部１ａが埋め
込まれるように、かつ所望の厚さとなるように、図９
（ａ）に示す状態の基板１上の全面に成膜する。その
後、微小レンズアレイの所望の外形形状に合わせて、光
学ガラス４をＲＩＥ等の方法によりパターニングする
（図９（ｂ））。
く、第２の材料（レンズアレイ材料）としての例えばコ
ーニング社の７０５９−Ｇｌａｓｓなどの光学ガラス４
を、スパッタリング法により、基板１の凹部１ａが埋め
込まれるように、かつ所望の厚さとなるように、図９
（ａ）に示す状態の基板１上の全面に成膜する。その
後、微小レンズアレイの所望の外形形状に合わせて、光
学ガラス４をＲＩＥ等の方法によりパターニングする
（図９（ｂ））。
【００９２】最後に、図９（ｂ）に示す状態の基板を水
酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液に浸してＳｉ基板１を選
択的に溶出する（図９（ｃ））。なお、シリコンは前記
ガラス４に比べて水酸化カリウム水溶液にはるかに急速
に溶解する。これにより、半球状部分を複数含むガラス
４はＳｉ基板１から分離され、当該半球状部分を複数含
むガラス４からなる微小レンズアレイ２５が完成する。
酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液に浸してＳｉ基板１を選
択的に溶出する（図９（ｃ））。なお、シリコンは前記
ガラス４に比べて水酸化カリウム水溶液にはるかに急速
に溶解する。これにより、半球状部分を複数含むガラス
４はＳｉ基板１から分離され、当該半球状部分を複数含
むガラス４からなる微小レンズアレイ２５が完成する。
【００９３】本実施の形態によれば、前述した第１の実
施の形態と同様に、開口数が高いとともに形状精度の良
い微小レンズを有する微小レンズアレイ２５を安定して
製造することができ、前記凹部１ａを複数の微小レンズ
アレイの分だけ形成すれば、微小レンズアレイを大量に
安定して得ることができる。
施の形態と同様に、開口数が高いとともに形状精度の良
い微小レンズを有する微小レンズアレイ２５を安定して
製造することができ、前記凹部１ａを複数の微小レンズ
アレイの分だけ形成すれば、微小レンズアレイを大量に
安定して得ることができる。
【００９４】以上、本実施の形態の各実施の形態につい
て説明したが、本実施の形態はこれらの実施の形態に限
定されるものではない。
て説明したが、本実施の形態はこれらの実施の形態に限
定されるものではない。
【００９５】例えば、前述した実施の形態では、微小レ
ンズ及び微小レンズアレイを形成する材料として、ガラ
ス及びアモルファスシリコンを取り上げたが、これに限
定されるものでなく、例えば、ダイヤモンド、樹脂、シ
リコン、二酸化チタン、ガリウム砒素、アルミニウムガ
リウム砒素、インジウム燐、ゲルマニウム、カドミウム
テルル、インジウム砒素、インジウムアンチモン、硫化
鉛、炭化シリコン、ガリウム燐、硫化砒素、チタン酸ス
トロンチウム、ルチル、硫化亜鉛、ニオブ酸リチウム、
酸化ジルコニウム、及び、窒化シリコンのいずれかであ
ってもよく、目的に応じ多様な材料を選択することがで
きる。
ンズ及び微小レンズアレイを形成する材料として、ガラ
ス及びアモルファスシリコンを取り上げたが、これに限
定されるものでなく、例えば、ダイヤモンド、樹脂、シ
リコン、二酸化チタン、ガリウム砒素、アルミニウムガ
リウム砒素、インジウム燐、ゲルマニウム、カドミウム
テルル、インジウム砒素、インジウムアンチモン、硫化
鉛、炭化シリコン、ガリウム燐、硫化砒素、チタン酸ス
トロンチウム、ルチル、硫化亜鉛、ニオブ酸リチウム、
酸化ジルコニウム、及び、窒化シリコンのいずれかであ
ってもよく、目的に応じ多様な材料を選択することがで
きる。
【００９６】また、前述した実施の形態では、凹部１ａ
を形成した基板１の材料としてシリコンを用いたが、こ
れも加工性の良いものであれば、他の材料でも全くかま
わない。
を形成した基板１の材料としてシリコンを用いたが、こ
れも加工性の良いものであれば、他の材料でも全くかま
わない。
【００９７】さらに、前述した実施の形態では、基板と
微小レンズ等とを分離のために最後に溶出される薄膜膜
３の材料として、ＰＳＧが用いられていたが、これも選
択的に溶出可能なものであれば、他の材料であっても全
くかまわない。
微小レンズ等とを分離のために最後に溶出される薄膜膜
３の材料として、ＰＳＧが用いられていたが、これも選
択的に溶出可能なものであれば、他の材料であっても全
くかまわない。
【００９８】以上のようにして形成された微小レンズ及
び微小レンズアレイは、光記録再生装置に組み込まれる
ことにより、高密度記録再生を可能にする。特に、直径
１ｍｍ以下の微小レンズを固体浸レンズ（Solid Immers
ion Lens）及びそれに付随する対物レンズに用いること
が有効である。
び微小レンズアレイは、光記録再生装置に組み込まれる
ことにより、高密度記録再生を可能にする。特に、直径
１ｍｍ以下の微小レンズを固体浸レンズ（Solid Immers
ion Lens）及びそれに付随する対物レンズに用いること
が有効である。
【００９９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
直径１ｍｍ以下の微小レンズ及び微小レンズアレイを大
量に安定して製造することができる。
直径１ｍｍ以下の微小レンズ及び微小レンズアレイを大
量に安定して製造することができる。
【０１００】また、本発明によれば、直径１ｍｍ以下の
微小レンズ及び微小レンズアレイを提供することができ
る。
微小レンズ及び微小レンズアレイを提供することができ
る。
【図１】本発明の第１の実施の形態による微小レンズの
製造方法の工程を示す概略図である。
製造方法の工程を示す概略図である。
【図２】図１に示す工程に引き続く工程を示す概略図で
ある。
ある。
【図３】本発明の第２の実施の形態による微小レンズの
製造方法の工程を示す概略図である。
製造方法の工程を示す概略図である。
【図４】本発明の第３の実施の形態による微小レンズの
製造方法の工程を示す概略図である。
製造方法の工程を示す概略図である。
【図５】図４に示す工程に引き続く工程を示す概略図で
ある。
ある。
【図６】図５中の構造体から個々の微小レンズを分離す
る方法の各段階を示す概略断面図である。
る方法の各段階を示す概略断面図である。
【図７】本発明の第４の実施の形態による微小レンズア
レイの製造方法の工程を示す概略図である。
レイの製造方法の工程を示す概略図である。
【図８】図７に示す工程に引き続く工程を示す概略断面
図である。
図である。
【図９】本発明の第５の実施の形態による微小レンズア
レイの製造方法の工程を示す概略断面図である。
レイの製造方法の工程を示す概略断面図である。
１ シリコン基板 ２ クロム膜 ３ 燐酸珪素ガラス ４ 光学ガラス ５ 微小レンズ １４ アモルファスシリコン １４ａ 梁部分 １４ｂ 微小レンズ部分（微小レンズ） １４ｃ 支持部分 ２５ 微小レンズアレイ ２１，２２ 紫外線硬化型粘着テープ
Claims (19)
- 【請求項１】 第１の材料からなる基板に少なくとも１
つの凹部を形成する段階と、 前記少なくとも１つの凹部内に微小レンズを構成すべき
第２の材料を埋め込む段階と、 前記第２の材料を前記基板から分離する段階と、 を備えたことを特徴とする微小レンズの製造方法。 - 【請求項２】 前記少なくとも１つの凹部を形成する段
階は、基板をエッチングすることにより当該基板上に前
記少なくとも１つの凹部を形成する段階を含むことを特
徴とする請求項１記載の微小レンズの製造方法。 - 【請求項３】 前記少なくとも１つの凹部を形成する段
階は、基板上に耐エッチング性を有する膜を形成する段
階と、該膜に前記基板の表面を露出させる開口を形成す
る段階と、前記開口から前記基板を等方的にエッチング
する段階と、当該エッチングする段階の後に前記膜を除
去する段階と、を含むことを特徴とする請求項１記載の
微小レンズの製造方法。 - 【請求項４】 前記第２の材料を埋め込む段階は、前記
第２の材料が前記少なくとも１つの凹部内に埋め込まれ
るように、前記第２の材料を前記基板上に形成する段階
と、前記基板上に形成された前記第２の材料のうち前記
凹部以外の部分に形成された第２の材料を除去する段階
と、を含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか
に記載の微小レンズの製造方法。 - 【請求項５】 前記少なくとも１つの凹部を形成する段
階の後であって、前記第２の材料を埋め込む段階の前
に、選択的に溶出可能な第３の材料からなる薄膜を、前
記少なくとも１つの凹部の内壁に沿うように前記基板上
に形成する段階を備え、 前記分離する段階は前記薄膜を選択的に溶出する段階を
含むことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載
の微小レンズの製造方法。 - 【請求項６】 前記分離する段階は、前記基板を選択的
に溶出する段階を含むことを特徴とする請求項１乃至４
のいずれかに記載の微小レンズの製造方法。 - 【請求項７】 第１の材料からなる基板に複数の凹部を
形成する段階と、 前記複数の凹部を形成する段階の後に、選択的に溶出可
能な第３の材料からなる薄膜を、前記複数の凹部の内壁
に沿うように前記基板上に形成する段階と、 前記凹部以外の領域における一部の領域の前記薄膜を除
去して前記基板の表面を部分的に露出させる段階と、 前記基板の表面を部分的に露出させる前記段階の後に、
微小レンズを構成すべき第２の材料が前記複数の凹部内
に埋め込まれるように、前記基板上に前記第２の材料を
形成する段階と、 前記第２の材料を形成する前記段階の後に、前記薄膜を
選択的に溶出する段階と、 を備えたことを特徴とする微小レンズの製造方法。 - 【請求項８】 前記第２の材料を形成する段階の後であ
って、前記薄膜を溶出する前記段階の前に、前記第２の
材料が、梁部分、前記各凹部内の微小レンズ部分、及
び、前記基板の表面に直接接触した支持部分を構成する
ように、前記第２の材料をパターニングする段階を備
え、 前記梁部分、前記微小レンズ部分及び前記支持部分は一
体に連続し、前記微小レンズ部分と前記梁部分とは前記
微小レンズ部分の縁部において一体に連続したことを特
徴とする請求項７記載の微小レンズの製造方法。 - 【請求項９】 前記第１の材料がシリコンであることを
特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の微小レン
ズの製造方法。 - 【請求項１０】 前記第２の材料が、ガラス、アモルフ
ァスシリコン、ダイヤモンド、樹脂、シリコン、二酸化
チタン、ガリウム砒素、アルミニウムガリウム砒素、イ
ンジウム燐、ゲルマニウム、カドミウムテルル、インジ
ウム砒素、インジウムアンチモン、硫化鉛、炭化シリコ
ン、ガリウム燐、硫化砒素、チタン酸ストロンチウム、
ルチル、硫化亜鉛、ニオブ酸リチウム、酸化ジルコニウ
ム、及び、窒化シリコンのうちのいずれかであることを
特徴とする請求項１乃至９のいずれかに記載の微小レン
ズの製造方法。 - 【請求項１１】 前記第１乃至第１０のいずれかに記載
の製造方法によって製造されたことを特徴とする微小レ
ンズ。 - 【請求項１２】 第１の材料からなる基板に複数の凹部
を形成する段階と、 前記複数の凹部内に微小レンズアレイを構成すべき第２
の材料を埋め込む段階と、 前記第２の材料を前記基板から分離する段階と、 を備えたことを特徴とする微小レンズアレイの製造方
法。 - 【請求項１３】 前記複数の凹部を形成する段階は、基
板をエッチングすることにより当該基板上に前記複数の
凹部を形成する段階を含むことを特徴とする請求項１２
記載の微小レンズアレイの製造方法。 - 【請求項１４】 前記複数の凹部を形成する段階は、基
板上に耐エッチング性を有する膜を形成する段階と、該
膜に前記基板の表面を露出させる開口を形成する段階
と、前記開口から前記基板を等方的にエッチングする段
階と、当該エッチングする段階の後に前記膜を除去する
段階と、を含むことを特徴とする請求項１２記載の微小
レンズアレイの製造方法。 - 【請求項１５】 前記複数の凹部を形成する段階の後で
あって、前記第２の材料を埋め込む段階の前に、選択的
に溶出可能な第３の材料からなる薄膜を、前記複数の凹
部の内壁に沿うように前記基板上に形成する段階を備
え、 前記分離する段階は前記薄膜を選択的に溶出する段階を
含むことを特徴とする請求項１２乃至１４のいずれかに
記載の微小レンズアレイの製造方法。 - 【請求項１６】 前記分離する段階は、前記基板を選択
的に溶出する段階を含むことを特徴とする請求項１２乃
至１４のいずれかに記載の微小レンズアレイの製造方
法。 - 【請求項１７】 前記第１の材料がシリコン又はガリウ
ム砒素であることを特徴とする請求項１２乃至１６のい
ずれかに記載の微小レンズアレイの製造方法。 - 【請求項１８】 前記第２の材料が、ガラス、アモルフ
ァスシリコン、ダイヤモンド、樹脂、シリコン、二酸化
チタン、ガリウム砒素、アルミニウムガリウム砒素、イ
ンジウム燐、ゲルマニウム、カドミウムテルル、インジ
ウム砒素、インジウムアンチモン、硫化鉛、炭化シリコ
ン、ガリウム燐、硫化砒素、チタン酸ストロンチウム、
ルチル、硫化亜鉛、ニオブ酸リチウム、酸化ジルコニウ
ム、及び、窒化シリコンのうちのいずれかであることを
特徴とする請求項１２乃至１７のいずれかに記載の微小
レンズアレイの製造方法。 - 【請求項１９】 前記第１２乃至第１８のいずれかに記
載の製造方法によって製造されたことを特徴とする微小
レンズアレイ。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31906797A JP4164888B2 (ja) | 1997-11-05 | 1997-11-05 | 微小レンズ及び微小レンズアレイの製造方法 |
| PCT/JP1998/004987 WO1999023648A1 (en) | 1997-11-05 | 1998-11-05 | Optical head, optical recorder, microlens and manufacture of microlens |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31906797A JP4164888B2 (ja) | 1997-11-05 | 1997-11-05 | 微小レンズ及び微小レンズアレイの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11142607A true JPH11142607A (ja) | 1999-05-28 |
| JP4164888B2 JP4164888B2 (ja) | 2008-10-15 |
Family
ID=18106139
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31906797A Expired - Fee Related JP4164888B2 (ja) | 1997-11-05 | 1997-11-05 | 微小レンズ及び微小レンズアレイの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4164888B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6790373B2 (en) * | 2001-04-26 | 2004-09-14 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Microlens, its forming method and optical module |
| JP2007065126A (ja) * | 2005-08-30 | 2007-03-15 | Hitachi Maxell Ltd | マイクロレンズアレイ基板及びマイクロレンズアレイ基板の製造方法 |
| CN100399060C (zh) * | 2005-05-09 | 2008-07-02 | 精工爱普生株式会社 | 微透镜基板及其制造方法、及其应用 |
| JP2009251173A (ja) * | 2008-04-03 | 2009-10-29 | Konica Minolta Holdings Inc | レンズアレイシート |
-
1997
- 1997-11-05 JP JP31906797A patent/JP4164888B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6790373B2 (en) * | 2001-04-26 | 2004-09-14 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Microlens, its forming method and optical module |
| CN100399060C (zh) * | 2005-05-09 | 2008-07-02 | 精工爱普生株式会社 | 微透镜基板及其制造方法、及其应用 |
| JP2007065126A (ja) * | 2005-08-30 | 2007-03-15 | Hitachi Maxell Ltd | マイクロレンズアレイ基板及びマイクロレンズアレイ基板の製造方法 |
| JP2009251173A (ja) * | 2008-04-03 | 2009-10-29 | Konica Minolta Holdings Inc | レンズアレイシート |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4164888B2 (ja) | 2008-10-15 |
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