JPH11144318A - 光学的情報記録媒体 - Google Patents
光学的情報記録媒体Info
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- JPH11144318A JPH11144318A JP9321962A JP32196297A JPH11144318A JP H11144318 A JPH11144318 A JP H11144318A JP 9321962 A JP9321962 A JP 9321962A JP 32196297 A JP32196297 A JP 32196297A JP H11144318 A JPH11144318 A JP H11144318A
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- Japan
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- recording
- area
- optical
- recording medium
- birefringence
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高密度な光記録部を有し、記録領域にセキュ
リティーの高いプロテクト領域を有する光学的情報記録
媒体を提供する。 【解決手段】 透明基板4を介して光記録部材に光記録
が行われる光学的情報記録媒体において、光記録領域1
0上の透明基板4の複屈折が大きい領域11と小さい領
域12が形成されている光学的情報記録媒体。
リティーの高いプロテクト領域を有する光学的情報記録
媒体を提供する。 【解決手段】 透明基板4を介して光記録部材に光記録
が行われる光学的情報記録媒体において、光記録領域1
0上の透明基板4の複屈折が大きい領域11と小さい領
域12が形成されている光学的情報記録媒体。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学的情報記録媒
体に関するものである。
体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】多種多様で多量の情報を効率よく扱う手
段として、記録密度が高く、且つ非接触で記録再生が可
能なために、寿命が長い等の優れた利点を持つ理由か
ら、光ディスク、光テープ、光カード等の光学的情報記
録媒体及び情報記録再生装置が多く提案されている。そ
のなかで、携帯性に優れ、大きさに比べて情報の記録容
量が大容量である光カードについても最近盛んに研究、
開発されている。
段として、記録密度が高く、且つ非接触で記録再生が可
能なために、寿命が長い等の優れた利点を持つ理由か
ら、光ディスク、光テープ、光カード等の光学的情報記
録媒体及び情報記録再生装置が多く提案されている。そ
のなかで、携帯性に優れ、大きさに比べて情報の記録容
量が大容量である光カードについても最近盛んに研究、
開発されている。
【0003】記録可能な媒体への情報の記録は、記録情
報に従って変調され微小スポット状に絞られた光ビーム
で情報トラックを操作することにより行われ、光学的に
検出可能な情報ビット列として情報が記録される。
報に従って変調され微小スポット状に絞られた光ビーム
で情報トラックを操作することにより行われ、光学的に
検出可能な情報ビット列として情報が記録される。
【0004】図3は、従来の光学的情報記録媒体の構造
を示す概略図であり、図3(a)は概略平面図、図3
(b)はC−C’線断面図である。従来知られている光
学的情報記録媒体の構造は、図3(b)のように、一方
の外側の面にハードコート層2を、他方の内側の面にプ
リピット及びプリグルーブからなるプリフォーマットパ
ターン3を有する透明基板4と、該プリフォーマットパ
ターン3の上に形成された記録層5と、該記録層5の上
に接着剤層6を介して設けた裏基板7とからなり、該裏
基板7の外側には可視情報を含む印刷層8を設けて構成
されている。
を示す概略図であり、図3(a)は概略平面図、図3
(b)はC−C’線断面図である。従来知られている光
学的情報記録媒体の構造は、図3(b)のように、一方
の外側の面にハードコート層2を、他方の内側の面にプ
リピット及びプリグルーブからなるプリフォーマットパ
ターン3を有する透明基板4と、該プリフォーマットパ
ターン3の上に形成された記録層5と、該記録層5の上
に接着剤層6を介して設けた裏基板7とからなり、該裏
基板7の外側には可視情報を含む印刷層8を設けて構成
されている。
【0005】この光学的情報記録媒体の透明基板側から
前述の光ビームを入射し、透明基板を透過し記録層に収
束された光ビームで記録が行われる。また、記録媒体か
らの情報の再生は、該媒体に記録が行われない低パワー
の光ビームスポットで情報トラックの情報ビット列を走
査し、該記録媒体からの反射光を検出することにより行
われる。
前述の光ビームを入射し、透明基板を透過し記録層に収
束された光ビームで記録が行われる。また、記録媒体か
らの情報の再生は、該媒体に記録が行われない低パワー
の光ビームスポットで情報トラックの情報ビット列を走
査し、該記録媒体からの反射光を検出することにより行
われる。
【0006】図4は、本発明の光学的情報記録媒体を記
録再生するための従来知られている記録再生装置の光学
系のブロック図である。光学的情報を記録再生するため
方法を図4に示す記録再生装置の光学系を用いて説明す
る。
録再生するための従来知られている記録再生装置の光学
系のブロック図である。光学的情報を記録再生するため
方法を図4に示す記録再生装置の光学系を用いて説明す
る。
【0007】先ず、記録再生の方式として、第1の方法
を以下に説明する。図4(a)において21は光源の半
導体レーザであり、この例では記録媒体のトラックに垂
直の方向に偏向している830nmの波長の光を発す
る。また、22はコリメータレンズ、23はビームスプ
リッター、24は1/4波長板、25は対物レンズ、2
6は光学的情報記録媒体、27は光検出器である。
を以下に説明する。図4(a)において21は光源の半
導体レーザであり、この例では記録媒体のトラックに垂
直の方向に偏向している830nmの波長の光を発す
る。また、22はコリメータレンズ、23はビームスプ
リッター、24は1/4波長板、25は対物レンズ、2
6は光学的情報記録媒体、27は光検出器である。
【0008】ビームスプリッターに偏光ビームスプリッ
ターを使用した場合には、光学的情報記録媒体に記録、
再生を行う半導体レーザ21から発せられた光ビーム
は、発散光束となってコリメータレンズ22に入射す
る。そして、該レンズにより平行光ビームとされ、偏向
ビームスプリッタ23にP偏光光束として入射する。偏
光ビームスプリッタは入射したP偏光をほぼ100%透
過する。その光束は1/4波長板24を透過すると円偏
光に変換され、対物レンズ25によって光学的情報記録
媒体26上に収束される。光ビームが記録パワーの場合
には、収束された光スポットが記録媒体に熱による変
形、結晶構造の変化を生じさせ記録ピットを形成する。
ターを使用した場合には、光学的情報記録媒体に記録、
再生を行う半導体レーザ21から発せられた光ビーム
は、発散光束となってコリメータレンズ22に入射す
る。そして、該レンズにより平行光ビームとされ、偏向
ビームスプリッタ23にP偏光光束として入射する。偏
光ビームスプリッタは入射したP偏光をほぼ100%透
過する。その光束は1/4波長板24を透過すると円偏
光に変換され、対物レンズ25によって光学的情報記録
媒体26上に収束される。光ビームが記録パワーの場合
には、収束された光スポットが記録媒体に熱による変
形、結晶構造の変化を生じさせ記録ピットを形成する。
【0009】光学的情報記録媒体26上に形成された光
ビームスポットからの反射光は、再び対物レンズ25を
通り平行光束とされ、1/4波長板を透過することによ
り入射時とは偏光方向が90°回転した光ビームに変換
される。そして、偏光ビームスプリッタにはS偏光ビー
ムとして入射し、光検出器に導かれる。(以上、NPB
S方式)
ビームスポットからの反射光は、再び対物レンズ25を
通り平行光束とされ、1/4波長板を透過することによ
り入射時とは偏光方向が90°回転した光ビームに変換
される。そして、偏光ビームスプリッタにはS偏光ビー
ムとして入射し、光検出器に導かれる。(以上、NPB
S方式)
【0010】さらに第2の方法を以下に説明する。図4
(b)において、ビームスプリッターに非偏光ビームス
プリッターを使用した場合には、1/4波長板は不必要
である。光学的情報記録媒体に記録、再生を行う半導体
レーザー21から発せられた光ビームは、発散光束とな
ってコリメータレンズ22に入射する。そして、該レン
ズにより平行光ビームとされ、ビームスプリッタ23に
直線偏光光束として入射する。非偏光ビームスプリッタ
は入射した直線偏光を約50%透過する。その光束は対
物レンズ25によって光学的情報記録媒体26上に収束
される。光ビームが記録パワーの場合には、収束された
光スポットが記録媒体に熱よる変形、結晶構造の変化を
生じさせ記録ピットを形成する。
(b)において、ビームスプリッターに非偏光ビームス
プリッターを使用した場合には、1/4波長板は不必要
である。光学的情報記録媒体に記録、再生を行う半導体
レーザー21から発せられた光ビームは、発散光束とな
ってコリメータレンズ22に入射する。そして、該レン
ズにより平行光ビームとされ、ビームスプリッタ23に
直線偏光光束として入射する。非偏光ビームスプリッタ
は入射した直線偏光を約50%透過する。その光束は対
物レンズ25によって光学的情報記録媒体26上に収束
される。光ビームが記録パワーの場合には、収束された
光スポットが記録媒体に熱よる変形、結晶構造の変化を
生じさせ記録ピットを形成する。
【0011】光学的情報記録媒体26上に形成された光
ビームスポットからの反射光は、再び対物レンズ25を
通り平行光束とされ、非偏光ビームスプリッタにより5
0%は半導体レーザーにもどり、50%は光検出器に導
かれる。(以上、PBS方式)
ビームスポットからの反射光は、再び対物レンズ25を
通り平行光束とされ、非偏光ビームスプリッタにより5
0%は半導体レーザーにもどり、50%は光検出器に導
かれる。(以上、PBS方式)
【0012】PBS方式の欠点として、光学的情報記録
媒体の透明基板の複屈折が大きい場合には、基板に入射
された円偏光が楕円偏光となり、反射された楕円偏光は
P偏光成分を持つためS偏光成分が小さくなり、光検出
器に到達する光量が小さくなってしまうという欠点があ
るが、透明基板の複屈折が小さい場合には、反射した光
量のほとんどが光検出器側に行き、半導体レーザヘの戻
り光がないためレーザ発信回路が簡単にできる。
媒体の透明基板の複屈折が大きい場合には、基板に入射
された円偏光が楕円偏光となり、反射された楕円偏光は
P偏光成分を持つためS偏光成分が小さくなり、光検出
器に到達する光量が小さくなってしまうという欠点があ
るが、透明基板の複屈折が小さい場合には、反射した光
量のほとんどが光検出器側に行き、半導体レーザヘの戻
り光がないためレーザ発信回路が簡単にできる。
【0013】NPBS方式の欠点としては、透明基板の
複屈折の大小に関わらず、反射された光は50%の割合
でビームスプリッターを通り検出器に到達するが、残り
の光は半導体レーザーに戻ってしまう。戻り光が半導体
レーザに入射されると、半導体レーザ内でのレーザの発
信が不安定になり、記録再生光の光量が変化する。その
ためPBS方式を用いる場合には、半導体レーザの発信
を安定化させるために特殊な電気回路、例えば、高周波
重畳回路等を必要とし、記録再生装置が高価になること
が欠点であった。
複屈折の大小に関わらず、反射された光は50%の割合
でビームスプリッターを通り検出器に到達するが、残り
の光は半導体レーザーに戻ってしまう。戻り光が半導体
レーザに入射されると、半導体レーザ内でのレーザの発
信が不安定になり、記録再生光の光量が変化する。その
ためPBS方式を用いる場合には、半導体レーザの発信
を安定化させるために特殊な電気回路、例えば、高周波
重畳回路等を必要とし、記録再生装置が高価になること
が欠点であった。
【0014】そのため、一般的な記録再生方法として
は、光学的情報記録媒体の複屈折を小さくし、PBS方
式の光学系を使用した記録再生方法が採用されている。
は、光学的情報記録媒体の複屈折を小さくし、PBS方
式の光学系を使用した記録再生方法が採用されている。
【0015】ところでこのような情報記録媒体に記録し
た情報の中で、他者に知られたくない情報はソフト上で
プロテクトを行い、その領域をアクセスできないように
している。通常はパスワードを入力するとプロテクトを
解除して情報を読みとることができるようになってい
る。
た情報の中で、他者に知られたくない情報はソフト上で
プロテクトを行い、その領域をアクセスできないように
している。通常はパスワードを入力するとプロテクトを
解除して情報を読みとることができるようになってい
る。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
パスワードによるプロテクトの解除は、パスワードを知
られると容易に情報を読み出すことができるため、セキ
ュリティーの面では不十分であるという問題点があっ
た。
パスワードによるプロテクトの解除は、パスワードを知
られると容易に情報を読み出すことができるため、セキ
ュリティーの面では不十分であるという問題点があっ
た。
【0017】本発明は、上記のような従来の欠点に鑑み
てなされたものであり、高密度な光記録部を有し、光学
的情報記録媒体の記録領域にセキュリティーの高いプロ
テクト領域を有する光学的情報記録媒体を提供すること
を目的とするものである。
てなされたものであり、高密度な光記録部を有し、光学
的情報記録媒体の記録領域にセキュリティーの高いプロ
テクト領域を有する光学的情報記録媒体を提供すること
を目的とするものである。
【0018】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、透明基
板を介して光記録部材に光記録が行われる光学的情報記
録媒体において、光記録領域上の透明基板の複屈折が大
きい領域と小さい領域が形成されていることを特徴とす
る光学的情報記録媒体である。
板を介して光記録部材に光記録が行われる光学的情報記
録媒体において、光記録領域上の透明基板の複屈折が大
きい領域と小さい領域が形成されていることを特徴とす
る光学的情報記録媒体である。
【0019】本発明において、前記光記録領域上の透明
基板の複屈折の大きい領域の複屈折がリターデーション
で換算して120nm以上であり、複屈折の小さい領域
の複屈折がリターデーションで換算して60nm以下で
あるのが好ましい。
基板の複屈折の大きい領域の複屈折がリターデーション
で換算して120nm以上であり、複屈折の小さい領域
の複屈折がリターデーションで換算して60nm以下で
あるのが好ましい。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は、透明基板を介して光記録部材に光記録が行わ
れる光学的情報記録媒体において、光記録領域上の透明
基板の複屈折が、大きい領域と小さい領域が形成された
ことを特徴とする。
本発明は、透明基板を介して光記録部材に光記録が行わ
れる光学的情報記録媒体において、光記録領域上の透明
基板の複屈折が、大きい領域と小さい領域が形成された
ことを特徴とする。
【0021】図1は、本発明の光学的情報記録媒体の一
例を示す概略図であり、図1(a)は概略平面図、図1
(b)はA−A’線断面図である。同図において、1は
情報記録媒体、2は透明基板の傷防止のためのハードコ
ート層、3は基板に形成されたプリフォーマットパター
ン、4は記録層形成のための支持基板である透明基板、
5は半導体レーザー等の光で情報を書き込むことができ
る記録層、6は基板4と裏基板7を接着する接着剤層、
7は基板4上に形成された記録層を保護する役目も兼ね
備えた裏基板、8は可視情報を含む印刷層、11は基板
4に形成された複屈折の大きい特性を持つプロテクト領
域、12は基板4に形成された複屈折の小さい特性を持
つ記録再生領域である。
例を示す概略図であり、図1(a)は概略平面図、図1
(b)はA−A’線断面図である。同図において、1は
情報記録媒体、2は透明基板の傷防止のためのハードコ
ート層、3は基板に形成されたプリフォーマットパター
ン、4は記録層形成のための支持基板である透明基板、
5は半導体レーザー等の光で情報を書き込むことができ
る記録層、6は基板4と裏基板7を接着する接着剤層、
7は基板4上に形成された記録層を保護する役目も兼ね
備えた裏基板、8は可視情報を含む印刷層、11は基板
4に形成された複屈折の大きい特性を持つプロテクト領
域、12は基板4に形成された複屈折の小さい特性を持
つ記録再生領域である。
【0022】本発明の光学的情報記録媒体の構成は、図
1に示すように、一方の外側の面にハードコート層2
を、他方の内側の面にプリピット及びプリグルーブから
なるプリフォーマットパターン3を有する透明基板4の
プリフォーマットパターン3の上に記録層5が形成さ
れ、該記録層5の上に接着剤層6を介して裏基板7が設
けられ、該裏基板7の外側には可視情報を含む印刷層8
を設けられている。また、記録層5を含む光記録領域1
0の透明基板4は、複屈折の大きい領域11と小さい領
域12が形成されている。
1に示すように、一方の外側の面にハードコート層2
を、他方の内側の面にプリピット及びプリグルーブから
なるプリフォーマットパターン3を有する透明基板4の
プリフォーマットパターン3の上に記録層5が形成さ
れ、該記録層5の上に接着剤層6を介して裏基板7が設
けられ、該裏基板7の外側には可視情報を含む印刷層8
を設けられている。また、記録層5を含む光記録領域1
0の透明基板4は、複屈折の大きい領域11と小さい領
域12が形成されている。
【0023】この光学的情報記録媒体の透明基板側から
前述の光ビームを入射し、透明基板を透過し記録層に収
束された光ビームで記録が行われる。
前述の光ビームを入射し、透明基板を透過し記録層に収
束された光ビームで記録が行われる。
【0024】上記構成の光学的情報記録媒体は、複屈折
の小さい領域における記録再生は、従来、一般的に使用
されているPBS方式の記録再生装置で読み書きが可能
であるが、複屈折の大きい領域では上記装置では情報の
記録再生が不可能となり、プロテクト領域として機能す
る。
の小さい領域における記録再生は、従来、一般的に使用
されているPBS方式の記録再生装置で読み書きが可能
であるが、複屈折の大きい領域では上記装置では情報の
記録再生が不可能となり、プロテクト領域として機能す
る。
【0025】一方でその複屈折の大きいプロテクト領域
は、特殊な回路を持つNPBS方式の記録再生装置を用
いることにより、情報の記録再生が可能となる。以上の
ように、記録領域上にプロテクト領域を形成することに
よりセキュリティの高い光学的情報記録媒体を得ること
ができる。
は、特殊な回路を持つNPBS方式の記録再生装置を用
いることにより、情報の記録再生が可能となる。以上の
ように、記録領域上にプロテクト領域を形成することに
よりセキュリティの高い光学的情報記録媒体を得ること
ができる。
【0026】本発明においては、上記光記録領域10上
の透明基板4の複屈折が、大きい領域11と小さい領域
12が形成された光学的情報記録媒体において、複屈折
の大きい領域の複屈折が、リターデーションで換算して
120nm以上であり、複屈折の小さい領域の複屈折が
リターデーションで換算して60nm以下であることを
特徴とする。
の透明基板4の複屈折が、大きい領域11と小さい領域
12が形成された光学的情報記録媒体において、複屈折
の大きい領域の複屈折が、リターデーションで換算して
120nm以上であり、複屈折の小さい領域の複屈折が
リターデーションで換算して60nm以下であることを
特徴とする。
【0027】PBS方式によると、カードの透明基板に
リターデーションがあると光記録再生用レーザー光が、
光記録層に反射され光検出器にもどる際に光量が減少す
る。光学的情報記録媒体の記録再生装置の記録再生可能
である検出器の光量変化としては、通常、設定値の20
%程度である。上記光量減少とリターデーションの関係
を計算すると、図5の曲線となる。図5より光量変化2
0%に相当するリターデーションは120nmであるこ
とがわかり、120nm以上のリターデーションの場合
には、記録再生が不可能となる。また、リターデーショ
ンが60nm以下の場合の光量変化は、図5に示される
ように、5%以下であるため、他の要因で多少複屈折が
増えても十分マージンを持ち記録再生が可能となる。
リターデーションがあると光記録再生用レーザー光が、
光記録層に反射され光検出器にもどる際に光量が減少す
る。光学的情報記録媒体の記録再生装置の記録再生可能
である検出器の光量変化としては、通常、設定値の20
%程度である。上記光量減少とリターデーションの関係
を計算すると、図5の曲線となる。図5より光量変化2
0%に相当するリターデーションは120nmであるこ
とがわかり、120nm以上のリターデーションの場合
には、記録再生が不可能となる。また、リターデーショ
ンが60nm以下の場合の光量変化は、図5に示される
ように、5%以下であるため、他の要因で多少複屈折が
増えても十分マージンを持ち記録再生が可能となる。
【0028】次に、本発明の光学的情報記録媒体につい
て説明する。本発明に用いられる透明基板4の材料とし
ては、平滑性に優れ、記録再生に使用するレザー光の透
過率が高く、光学的な歪みが少ない材料が好ましい。通
常、プラスチックシートやフィルムが用いられ、例えば
アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネー
ト系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ビニル系樹脂、ポリイ
ミド系樹脂、ポリアセタール系樹脂等が用いられ、特に
レーザー光透過率が良好で、かつ光弾性係数が比較的大
きいため、製造時に複屈折の大小の形成が容易であるポ
リカーボネート系樹脂が好ましい。
て説明する。本発明に用いられる透明基板4の材料とし
ては、平滑性に優れ、記録再生に使用するレザー光の透
過率が高く、光学的な歪みが少ない材料が好ましい。通
常、プラスチックシートやフィルムが用いられ、例えば
アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネー
ト系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ビニル系樹脂、ポリイ
ミド系樹脂、ポリアセタール系樹脂等が用いられ、特に
レーザー光透過率が良好で、かつ光弾性係数が比較的大
きいため、製造時に複屈折の大小の形成が容易であるポ
リカーボネート系樹脂が好ましい。
【0029】透明基板の製造方法としては、一般的に射
出成形、押し出し成形により基板の形状に成形する方法
が知られている。また、その基板に複屈折の異なる領域
を形成する方法としては、溶融樹脂を基板状に成形する
過程において樹脂の固化する際に、樹脂に応力が残った
状態で固化させることで複屈折の大きい領域を形成する
ことができる。例えば、射出成形の場合には、型の中に
樹脂の流れの悪い部分を形成すると溶融樹脂の硬化の際
に残留応力が生じ、複屈折が大きくなる。また押し出し
成形の場合には、溶融樹脂を基板成形用のロールに挟み
込む際に、ロールの一部に圧力が大きくなるように、成
形すればよい。例えば、Tダイのリップの開度が、基板
の複屈折を大きくしたい部分で開度を大きくする。また
は、成形ロールに段差を設け、複屈折の大きくなる部分
のロール段差が高い方に設定することで、低い方より圧
力が加えられ、残留応力が生じ複屈折の大きい部分を得
ることができる。
出成形、押し出し成形により基板の形状に成形する方法
が知られている。また、その基板に複屈折の異なる領域
を形成する方法としては、溶融樹脂を基板状に成形する
過程において樹脂の固化する際に、樹脂に応力が残った
状態で固化させることで複屈折の大きい領域を形成する
ことができる。例えば、射出成形の場合には、型の中に
樹脂の流れの悪い部分を形成すると溶融樹脂の硬化の際
に残留応力が生じ、複屈折が大きくなる。また押し出し
成形の場合には、溶融樹脂を基板成形用のロールに挟み
込む際に、ロールの一部に圧力が大きくなるように、成
形すればよい。例えば、Tダイのリップの開度が、基板
の複屈折を大きくしたい部分で開度を大きくする。また
は、成形ロールに段差を設け、複屈折の大きくなる部分
のロール段差が高い方に設定することで、低い方より圧
力が加えられ、残留応力が生じ複屈折の大きい部分を得
ることができる。
【0030】また本発明に用いられる記録層5は、光、
例えばレーザー光により情報の記録が可能な従来より公
知の記録層を用いることができ、例えば金属、金属化合
物、及び有機色素を含む記録層を用いることができる。
有機色素を含む記録層を用いれば、可視光の透過率が高
いため好ましい。ここで記録層に用いられる有機色素と
しては例えば、ポリメチン系色素、アントジキノン誘導
体、シアニン系色素、メロシアニン系色素、ナフトキノ
ン系色素、ジオキサジン化合物、トリフェノジチアジン
化合物、フェナンスレン誘導体、フタロシアニン系色
素、ピリリウム系色素、クロコニウム系色素、アゾ色
素、アズレン類等が挙げられる。有機色素としては特
に、ポリメチン系色素を用いることにより、記録感度が
高く耐久性の良い特性が得られ、コーティングにより製
造することができるため、安価な情報記録媒体が製造で
きる。
例えばレーザー光により情報の記録が可能な従来より公
知の記録層を用いることができ、例えば金属、金属化合
物、及び有機色素を含む記録層を用いることができる。
有機色素を含む記録層を用いれば、可視光の透過率が高
いため好ましい。ここで記録層に用いられる有機色素と
しては例えば、ポリメチン系色素、アントジキノン誘導
体、シアニン系色素、メロシアニン系色素、ナフトキノ
ン系色素、ジオキサジン化合物、トリフェノジチアジン
化合物、フェナンスレン誘導体、フタロシアニン系色
素、ピリリウム系色素、クロコニウム系色素、アゾ色
素、アズレン類等が挙げられる。有機色素としては特
に、ポリメチン系色素を用いることにより、記録感度が
高く耐久性の良い特性が得られ、コーティングにより製
造することができるため、安価な情報記録媒体が製造で
きる。
【0031】また本発明で用いられる接着剤層6は、光
記録材料に悪影響を及ぼさない接着剤であれば用いるこ
とができ、例えば酢酸ビニル、エチレン、アクリル酸、
アクリルアミド等のビニルモノマーの重合体及び/又は
共重合体、ポリアミド、ポリエステル、エポキシ等の熱
可塑性接着剤、アミノ樹脂(ウレア樹脂、メラミン樹
脂)、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、
熱硬化性ビニル樹脂等の熱硬化性接着剤、天然ゴム、ニ
トリルゴム、クロロゴム、シリコーンゴム等のゴム系接
着剤が挙げられる。特にホットメルト型接着剤、例えば
エチレン−酢酸ビニル共重合体やエチレン−アクリル酸
共重合体は製造工程が簡略化でき好ましい。
記録材料に悪影響を及ぼさない接着剤であれば用いるこ
とができ、例えば酢酸ビニル、エチレン、アクリル酸、
アクリルアミド等のビニルモノマーの重合体及び/又は
共重合体、ポリアミド、ポリエステル、エポキシ等の熱
可塑性接着剤、アミノ樹脂(ウレア樹脂、メラミン樹
脂)、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、
熱硬化性ビニル樹脂等の熱硬化性接着剤、天然ゴム、ニ
トリルゴム、クロロゴム、シリコーンゴム等のゴム系接
着剤が挙げられる。特にホットメルト型接着剤、例えば
エチレン−酢酸ビニル共重合体やエチレン−アクリル酸
共重合体は製造工程が簡略化でき好ましい。
【0032】また本発明に用いられる裏基板7として
は、平滑性に優れ、可視光の透過性があれば使用できる
が、耐久性を考慮すると基板4と同じ材料もしくは熱膨
張係数等の物性値が近い材料が好ましい。
は、平滑性に優れ、可視光の透過性があれば使用できる
が、耐久性を考慮すると基板4と同じ材料もしくは熱膨
張係数等の物性値が近い材料が好ましい。
【0033】この裏基板の接着剤層側と逆の面には可視
情報からなる印刷層8が形成されている。印刷層の構成
は、例えば単層の抜き印刷等の可視情報部材のみで構成
されても良いし、透明部又は半透明部と可視情報部で構
成された単層又は多層の構成でも良い。この可視情報部
は顔料を混合した印刷インキ等で構成できる。可視情報
部を形成する方法は、オフセット印刷及びスクリーン印
刷等の印刷方法が好適である。
情報からなる印刷層8が形成されている。印刷層の構成
は、例えば単層の抜き印刷等の可視情報部材のみで構成
されても良いし、透明部又は半透明部と可視情報部で構
成された単層又は多層の構成でも良い。この可視情報部
は顔料を混合した印刷インキ等で構成できる。可視情報
部を形成する方法は、オフセット印刷及びスクリーン印
刷等の印刷方法が好適である。
【0034】
【実施例】以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に
説明する。
説明する。
【0035】実施例1 図1に示す構成を有する光学的情報記録媒体を製造する
方法を以下に述べる。光学的情報記録媒体として、本実
施例では光カードを例にとり説明する。まず、透明基板
4を押し出し成形で作製するためのスタンパーを作製し
た。
方法を以下に述べる。光学的情報記録媒体として、本実
施例では光カードを例にとり説明する。まず、透明基板
4を押し出し成形で作製するためのスタンパーを作製し
た。
【0036】鏡面を有する、たて340×よこ340m
m、厚さ10mmのガラス基板上にフォトレジスト(商
品名:AZ−1370;ヘキストジャパン社製)を厚さ
3000Åにスピナーで塗布し、90℃、30分の条件
でプリベークを行った。
m、厚さ10mmのガラス基板上にフォトレジスト(商
品名:AZ−1370;ヘキストジャパン社製)を厚さ
3000Åにスピナーで塗布し、90℃、30分の条件
でプリベークを行った。
【0037】次に、レーザー露光装置(商品名:ミラー
プロジェクションアライナーMPA−1500;キヤノ
ン社製)を用いて、たて54.0×よこ85.6mmの
光カードのプリフォーマットパターンを露光し、現像液
(商品名:Az312MIF;ヘキストジャパン製)で
現像することにより、光カード用のプリフォーマットパ
ターンを有するガラス原盤を作製した。
プロジェクションアライナーMPA−1500;キヤノ
ン社製)を用いて、たて54.0×よこ85.6mmの
光カードのプリフォーマットパターンを露光し、現像液
(商品名:Az312MIF;ヘキストジャパン製)で
現像することにより、光カード用のプリフォーマットパ
ターンを有するガラス原盤を作製した。
【0038】この原盤の上に、スパッタ装置により厚さ
2000Åのニッケル膜を形成し、電鋳用の導電化膜を
形成した。
2000Åのニッケル膜を形成し、電鋳用の導電化膜を
形成した。
【0039】次に、導電化膜上に電鋳法により厚さ20
0μmのニッケル膜を形成した。ここで使用した電鋳液
は、以下の組成のものを用いた。 スルファミル酸ニッケル・4水塩 500g/L [Ni(NH2 SO3 )2 ・4H2 O] ほう酸[H3 BO3 ] 35〜38g ビット防止剤 2.5m1/1
0μmのニッケル膜を形成した。ここで使用した電鋳液
は、以下の組成のものを用いた。 スルファミル酸ニッケル・4水塩 500g/L [Ni(NH2 SO3 )2 ・4H2 O] ほう酸[H3 BO3 ] 35〜38g ビット防止剤 2.5m1/1
【0040】次に、導電化膜と金属膜を一体として同時
にガラス原盤より剥離し、表面に付着しているフォトレ
ジストを除去し、プリフォーマットパターンを有する、
300×300mmの大きさのスタンパーを得た。これ
を、所定の寸法精度で200×200mmの大きさにY
AGレーザー(JK701;ルモニクス社製)で切断
し、スタンパーを得た。さらに、成形ロールにネジ止め
するための部材を、YAGレーザー(JK701;ルモ
ニクス社製)でスタンパーに溶接した。このスタンパー
をロールにネジ止めで固定し成形ロールを構成した。
にガラス原盤より剥離し、表面に付着しているフォトレ
ジストを除去し、プリフォーマットパターンを有する、
300×300mmの大きさのスタンパーを得た。これ
を、所定の寸法精度で200×200mmの大きさにY
AGレーザー(JK701;ルモニクス社製)で切断
し、スタンパーを得た。さらに、成形ロールにネジ止め
するための部材を、YAGレーザー(JK701;ルモ
ニクス社製)でスタンパーに溶接した。このスタンパー
をロールにネジ止めで固定し成形ロールを構成した。
【0041】光カードの透明基板の複屈折を大きくする
部分11に相当する、押し出し機のTダイのリップ部分
を他の部分に比べ20μm開いたTダイを用意した。
部分11に相当する、押し出し機のTダイのリップ部分
を他の部分に比べ20μm開いたTダイを用意した。
【0042】以上のように構成された成形ロールとTダ
イを用い、ポリカーボネート樹脂を押出成形機で光カー
ド基板を下記の条件で押出成形により作製した。 (押出成形条件) 押出機温度 280℃、 ダイス温度 30
0℃ 成形ロール温度 150℃、 成形ロール速度 4m
/min 成形ロール圧力 8kg/cm
イを用い、ポリカーボネート樹脂を押出成形機で光カー
ド基板を下記の条件で押出成形により作製した。 (押出成形条件) 押出機温度 280℃、 ダイス温度 30
0℃ 成形ロール温度 150℃、 成形ロール速度 4m
/min 成形ロール圧力 8kg/cm
【0043】その結果、基板の光記録を行うためのプリ
フォーマットパターン中のTダイの開度が大きい部分が
ダブルパスによるリターデーションが150nmの領域
となり、小さい部分が30nmの領域である基板を作製
することができた。
フォーマットパターン中のTダイの開度が大きい部分が
ダブルパスによるリターデーションが150nmの領域
となり、小さい部分が30nmの領域である基板を作製
することができた。
【0044】得られた透明基板上に、光記録材料として
厚さ約900Åのポリメチン系有機色素をスピンコータ
ーで形成した。次に可視情報をスクリーン印刷した厚さ
0.3mmのポリ塩化ビニル保護基板を上記光記録材料
と接するように、エチレン−酢酸ビニル共重合体系接着
剤を介して、熱ローラーにより圧着し張り合わせた。次
に、炭酸ガスレーザーで光カードサイズに切断した光カ
ードを作製した。
厚さ約900Åのポリメチン系有機色素をスピンコータ
ーで形成した。次に可視情報をスクリーン印刷した厚さ
0.3mmのポリ塩化ビニル保護基板を上記光記録材料
と接するように、エチレン−酢酸ビニル共重合体系接着
剤を介して、熱ローラーにより圧着し張り合わせた。次
に、炭酸ガスレーザーで光カードサイズに切断した光カ
ードを作製した。
【0045】上記光カードを、PBS系を使用した記録
再生装置で記録再生を行ったところ、リターデーション
が30nmの領域(非プロテクト領域)では問題なく記
録再生が可能であったが、150nmの領域(プロテク
ト領域)では、記録再生が不可能であった。
再生装置で記録再生を行ったところ、リターデーション
が30nmの領域(非プロテクト領域)では問題なく記
録再生が可能であったが、150nmの領域(プロテク
ト領域)では、記録再生が不可能であった。
【0046】さらに、NPBS系を使用した記録再生装
置で記録再生を行ったところ、リターデーションが30
nmの領域(非プロテクト領域)と150nmの領域
(プロテクト領域)の両方の領域で問題なく記録再生が
可能であった。
置で記録再生を行ったところ、リターデーションが30
nmの領域(非プロテクト領域)と150nmの領域
(プロテクト領域)の両方の領域で問題なく記録再生が
可能であった。
【0047】実施例2 図2は、本発明の光学的情報記録媒体の他の例を示す概
略図であり、図2(a)は概略平面図、図2(b)はB
−B’線断面図である。同図において、符号は図1と同
じものを示す。
略図であり、図2(a)は概略平面図、図2(b)はB
−B’線断面図である。同図において、符号は図1と同
じものを示す。
【0048】上記構成を有する光学的情報記録媒体を製
造する方法を以下に述べる。まず、透明基板4を押し出
し成形で作製するためのスタンパーを作製した。
造する方法を以下に述べる。まず、透明基板4を押し出
し成形で作製するためのスタンパーを作製した。
【0049】鏡面を有する、たて340×よこ340m
m、厚さ10mmのガラス基板上のプロテクト領域にフ
ォトポリマーをスピナーを用い20μmの厚みで形成し
た。プロテクト領域以外はガラス基板をマスクしてフォ
トポリマーが付着しないようにした。次に、そのフォト
ポリマーをUV照射装置で硬化させ、部分的に20μm
の厚みのフォトポリマーが形成されたガラス基板が得ら
れた。次にフォトレジスト(商品名:AZ−1370;
ヘキストジャパン社製)を厚さ3000Åにスピナーで
塗布し、90℃、30分の条件でプリベークを行った。
m、厚さ10mmのガラス基板上のプロテクト領域にフ
ォトポリマーをスピナーを用い20μmの厚みで形成し
た。プロテクト領域以外はガラス基板をマスクしてフォ
トポリマーが付着しないようにした。次に、そのフォト
ポリマーをUV照射装置で硬化させ、部分的に20μm
の厚みのフォトポリマーが形成されたガラス基板が得ら
れた。次にフォトレジスト(商品名:AZ−1370;
ヘキストジャパン社製)を厚さ3000Åにスピナーで
塗布し、90℃、30分の条件でプリベークを行った。
【0050】次に、レーザー露光装置(商品名:ミラー
プロジェクションアライナーMPA−1500;キヤノ
ン社製)を用いて、たて54.0×よこ85.6mmの
光カードのプリフォーマットパターンを露光し、現像液
(商品名:Az312MIF;ヘキストジャパン社製)
で現像することにより、プロテクト領域の高さが高い段
差のある光カード用のプリフォーマットパターンを有す
るガラス原盤を作製した。
プロジェクションアライナーMPA−1500;キヤノ
ン社製)を用いて、たて54.0×よこ85.6mmの
光カードのプリフォーマットパターンを露光し、現像液
(商品名:Az312MIF;ヘキストジャパン社製)
で現像することにより、プロテクト領域の高さが高い段
差のある光カード用のプリフォーマットパターンを有す
るガラス原盤を作製した。
【0051】この原盤の上に、スパッタ装置により厚さ
2000Åのニッケル膜を形成し、電鋳用の導電化膜を
形成した。
2000Åのニッケル膜を形成し、電鋳用の導電化膜を
形成した。
【0052】次に、導電化膜上に電鋳法により厚さ20
0μmのニッケル膜を形成した。ここで使用した電鋳液
は、以下の組成のものを用いた。 スルファミル酸ニッケル・4水塩 500g/L [Ni(NH2 SO3 )2 ・4H2 O] ほう酸[H3 BO3 ] 35〜38g ビット防止剤 2.5m1/1
0μmのニッケル膜を形成した。ここで使用した電鋳液
は、以下の組成のものを用いた。 スルファミル酸ニッケル・4水塩 500g/L [Ni(NH2 SO3 )2 ・4H2 O] ほう酸[H3 BO3 ] 35〜38g ビット防止剤 2.5m1/1
【0053】次に、導電化膜と金属膜を一体として同時
にガラス原盤より剥離し、表面に付着しているフォトレ
ジストを除去し、プリフォーマットパターンを有する3
00×300mmの大きさのスタンパーを得た。これ
を、所定の寸法精度で200×200mmの大きさにY
AGレーザー(JK701;ルモニクス社製)で切断
し、スタンパーを得た。さらに成形ロールにネジ止めす
るための部材を、YAGレーザー(JK701;ルモニ
クス社製)でスタンパーに溶接した。このスタンパーを
ロールにネジ止めで固定し成形ロールを構成した。
にガラス原盤より剥離し、表面に付着しているフォトレ
ジストを除去し、プリフォーマットパターンを有する3
00×300mmの大きさのスタンパーを得た。これ
を、所定の寸法精度で200×200mmの大きさにY
AGレーザー(JK701;ルモニクス社製)で切断
し、スタンパーを得た。さらに成形ロールにネジ止めす
るための部材を、YAGレーザー(JK701;ルモニ
クス社製)でスタンパーに溶接した。このスタンパーを
ロールにネジ止めで固定し成形ロールを構成した。
【0054】以上のように構成された成形ロールを用
い、ポリカーボネート樹脂を押出成形機で光カード基板
を下記の条件で押出成形により作製した。この場合のT
ダイは通常のリップ開度のものを使用した。 (押出成形条件) 押出機温度 280℃、 ダイス温度 30
0℃ 成形ロール温度 150℃、 成形ロール速度 4m
/min 成形ロール圧力 8kg/cm
い、ポリカーボネート樹脂を押出成形機で光カード基板
を下記の条件で押出成形により作製した。この場合のT
ダイは通常のリップ開度のものを使用した。 (押出成形条件) 押出機温度 280℃、 ダイス温度 30
0℃ 成形ロール温度 150℃、 成形ロール速度 4m
/min 成形ロール圧力 8kg/cm
【0055】その結果、基板の光記録を行うためのプリ
フォーマットパターンでスタンパーの段差の凸部に当た
る部分がダブルパスによるリターデーションが150n
mの領域となり、小さい部分が30nmの領域である基
板を作製することができた。
フォーマットパターンでスタンパーの段差の凸部に当た
る部分がダブルパスによるリターデーションが150n
mの領域となり、小さい部分が30nmの領域である基
板を作製することができた。
【0056】得られた透明基板上に、光記録材料として
厚さ約900Åのポリメチン系有機色素をスピンコータ
ーで形成した。次に可視情報をスクリーン印刷した厚さ
0.3mmのポリ塩化ビニル保護基板を上記光記録材料
と接するように、エチレン−酢酸ビニル共重合体系接着
剤を介して、熱ローラーにより圧着し張り合わせた。次
に、炭酸ガスレーザーで光カードサイズに切断した光カ
ードを作製した。
厚さ約900Åのポリメチン系有機色素をスピンコータ
ーで形成した。次に可視情報をスクリーン印刷した厚さ
0.3mmのポリ塩化ビニル保護基板を上記光記録材料
と接するように、エチレン−酢酸ビニル共重合体系接着
剤を介して、熱ローラーにより圧着し張り合わせた。次
に、炭酸ガスレーザーで光カードサイズに切断した光カ
ードを作製した。
【0057】上記光カードを、PBS系を使用した記録
再生装置で記録再生を行ったところ、リターデーション
が30nmの領域(非プロテクト領域)では問題なく記
録再生が可能であったが、150nmの領域(プロテク
ト領域)では、記録再生が不可能であった。
再生装置で記録再生を行ったところ、リターデーション
が30nmの領域(非プロテクト領域)では問題なく記
録再生が可能であったが、150nmの領域(プロテク
ト領域)では、記録再生が不可能であった。
【0058】さらに、NPBS系を使用した記録再生装
置で記録再生を行ったところ、リターデーションが30
nmの領域(非プロテクト領域)と150nmの領域
(プロテクト領域)の両方の領域で問題なく記録再生が
可能であった。
置で記録再生を行ったところ、リターデーションが30
nmの領域(非プロテクト領域)と150nmの領域
(プロテクト領域)の両方の領域で問題なく記録再生が
可能であった。
【0059】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の光学的情
報記録媒体は、記録領域が複屈折の異なる領域が存在
し、複屈折の小さい領域における記録再生は、従来、一
般的に使用されているPBS方式の記録再生装置で読み
書きが可能であるが、複屈折の大きい領域では上記装置
では情報の記録再生が不可能となり、プロテクト領域と
して機能する。一方でそのプロテクト領域は、特殊な回
路を必要とする高価なNPBS方式の記録再生装置を用
いることにより情報の記録再生が可能となる。以上のよ
うに、記録領域上にプロテクト領域を形成することによ
りセキュリティの高い光学的情報記録媒体を得ることが
できる。
報記録媒体は、記録領域が複屈折の異なる領域が存在
し、複屈折の小さい領域における記録再生は、従来、一
般的に使用されているPBS方式の記録再生装置で読み
書きが可能であるが、複屈折の大きい領域では上記装置
では情報の記録再生が不可能となり、プロテクト領域と
して機能する。一方でそのプロテクト領域は、特殊な回
路を必要とする高価なNPBS方式の記録再生装置を用
いることにより情報の記録再生が可能となる。以上のよ
うに、記録領域上にプロテクト領域を形成することによ
りセキュリティの高い光学的情報記録媒体を得ることが
できる。
【図1】本発明の光学的情報記録媒体の一例を示す概略
図である。
図である。
【図2】本発明の光学的情報記録媒体の他の例を示す概
略図である。
略図である。
【図3】従来の光学的情報記録媒体の構造を示す概略図
である。
である。
【図4】本発明の光学的情報記録媒体を記録再生するた
めの従来知られている記録再生装置の光学系のブロック
図である。
めの従来知られている記録再生装置の光学系のブロック
図である。
【図5】光量変化とリターデーションの関係を示すグラ
フである。
フである。
1 光学的情報記録媒体 2 ハードコート層 3 プリフォーマットパターン 4 透明基板 5 記録層 6 接着剤層 7 裏基板 8 印刷層 10 光記録領域 11 複屈折の大きい領域 12 複屈折の小さい領域
Claims (2)
- 【請求項1】 透明基板を介して光記録部材に光記録が
行われる光学的情報記録媒体において、光記録領域上の
透明基板の複屈折が大きい領域と小さい領域が形成され
ていることを特徴とする光学的情報記録媒体。 - 【請求項2】 前記光記録領域上の透明基板の複屈折の
大きい領域の複屈折がリターデーションで換算して12
0nm以上であり、複屈折の小さい領域の複屈折がリタ
ーデーションで換算して60nm以下である請求項1に
記載の光学的情報記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9321962A JPH11144318A (ja) | 1997-11-10 | 1997-11-10 | 光学的情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9321962A JPH11144318A (ja) | 1997-11-10 | 1997-11-10 | 光学的情報記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11144318A true JPH11144318A (ja) | 1999-05-28 |
Family
ID=18138381
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9321962A Pending JPH11144318A (ja) | 1997-11-10 | 1997-11-10 | 光学的情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11144318A (ja) |
-
1997
- 1997-11-10 JP JP9321962A patent/JPH11144318A/ja active Pending
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