JPH11144623A

JPH11144623A - プラズマディスプレイ用基板およびその製造方法

Info

Publication number: JPH11144623A
Application number: JP9302880A
Authority: JP
Inventors: Tetsuo Uchida; 哲夫内田; Yoshiki Masaki; 孝樹正木; Yuichiro Iguchi; 雄一朗井口
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1997-11-05
Filing date: 1997-11-05
Publication date: 1999-05-28

Abstract

(57)【要約】【課題】表示品位が優れた高精細のプラズマディスプレ
イを提供する。【解決手段】ガラス基板上に形成した電極層の上に、誘
電体層Ａを形成したプラズマディスプレイ用基板であっ
て、その上に形成された誘電体層Ｂがフィラーを含有
し、該誘電体層Ａのハンター表色系Ｌａｂ値のうちａ値
が−３〜１０、ｂ値が−５〜１０であり、該誘電体層Ｂ
がＬａｂ値のうちＬ値が５０以上であることを特徴とす
るプラズマディスプレイ用基板。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル（プラズマディスプレイともいう、以下ＰＤ
Ｐと略す）基板およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
は液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、かつ大
型化が容易であることから、ＯＡ機器および広報表示装
置などの分野に用いられている。また、高品位テレビジ
ョンの分野などへの応用が非常に期待されている。この
ような用途の拡大にともなって、微細で多数の表示セル
を有するカラーＰＤＰが注目されている。

【０００３】ＰＤＰは前面板と背面板をはり合わせて構
成されている。前面板ではガラス基板の裏面にＩＴＯや
酸化錫からなる透明電極が形成されている。透明電極は
帯状に複数本形成されている。この隣り合う透明電極間
に通常１０ｋＨｚ〜数１０ｋＨｚのパルス状交流電圧を
印加し表示用の放電を得るが、透明電極のシート抵抗は
数１０Ω／ｃｍ²と高いため、電極抵抗が数１０ｋΩ程
度になり、印加電圧パルスが十分に立ち上がらずに駆動
が困難になる。そこで通常は、透明電極上に金属製のバ
ス電極を形成して抵抗値を下げる。

【０００４】次に、これら電極を透明誘電体層によって
被覆する。透明誘電体層は低融点ガラスを用いる。その
後、保護層として、ＭｇＯを電子ビーム蒸着法により形
成する。前面板に形成される誘電体は、放電のための電
荷を蓄積するためのコンデンサーとしての役割を有して
いる。

【０００５】一方背面板は、ガラス基板上に表示データ
を書き込むデータ電極を感光性銀ペーストを用いて作製
し、白色の誘電体層で被覆する。その上に、白色あるい
は黒色の隔壁を形成し、スクリーン印刷によって、赤、
緑、青の各色に発光する蛍光体を塗布後、乾燥、焼成を
行って蛍光体層を形成する。赤色蛍光体粉末としては
（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ₃：Ｅｕ、緑色蛍光体粉末としては
（Ｚｎ，Ｍｎ）２ＳｉＯ、青色蛍光体粉末としては（Ｂ
ａ，Ｅｕ）ＭｇＡｌ₁₀Ｏ₇のものが一般的に用いられ
る。

【０００６】前面板と背面板をマトリックス駆動が可能
となるように合わせて、封着した後、排気、Ｈｅ、Ｎ
ｅ、Ｘｅの混合ガスを封入し、駆動回路を実装してＰＤ
Ｐを作製する。

【０００７】隣り合う透明電極の間にパルス状の交流電
圧を印加するとガス放電が生じ、プラズマが形成され
る。ここで生じた紫外線が蛍光体を励起して可視光を発
光し前面板を通して表示発光を得る。放電を生じる透明
電極は走査電極と維持電極からなっている。実際のパネ
ル駆動において、放電電極である透明電極には維持放電
パルスが印加されており、放電を生じさせる時には、背
面板上のデータ電極との間に電圧を印加して対向放電を
生じさせ、この放電が維持パルスによって放電電極間で
維持される。

【０００８】誘電体中のアルカリ金属イオンの影響によ
る誘電体層や隔壁層の黄変色の問題があげられる。例え
ば誘電体に含まれるＬｉ、Ｎａ、Ｋなどの金属が電極に
用いる銀、基板表面の錫等の金属イオンとのイオン交換
反応により誘電体が変色し、ＰＤＰとした場合、表示品
位が極端に低下するという問題があった。

【０００９】特開昭６１−２２０２４０号公報では、銀
電極上に低融点ガラスの誘電体で被覆したガス放電パネ
ルが提案されているが、ガラス組成については記載され
ていない。特開昭６２−６４０２０号公報では、低誘電
体ガラスよりも高融点な絶縁材料を７〜１５重量％含有
した誘電体層が提案されている。

【００１０】特開平３−１５２８３０号公報では、誘電
体ガラス組成として、ＰｂＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂、Ｐ
ｂＯ−Ｂ₂Ｏ₃、ＺｎＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系ガラス
を用いてスクリーン印刷、感光性ガラスペーストの誘電
体が提案されている。特開平７−３３５１３４号公報で
は、元素周期律表のIIａ族およびIII ａ族から選ばれる
酸化物からなる誘電体組成物が、また特開平６−２６７
４２９号公報では、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓ
ｃ、Ｙ、Ｔｈおよびランタニド元素から選ばれる少なく
とも一種を含む酸化物結晶の誘電体組成物が提案されて
いる。特開平４−３６９２３号公報では、導電体上に設
けた誘電体をフォトグラフィ法により部分的に除去する
技術が提案されているが、誘電体層の化学組成や色につ
いて記載したものでない。特開平７−１０５８５５号公
報では、軟化点の異なる２種類の誘電体ガラスが提案さ
れているが、誘電体層の色について記載されていない。

【００１１】しかしながら、上記のいずれの従来の公報
においても誘電体層の着色や黄変色を解消するには充分
でなかった。

【００１２】また、特開平６−１５０８２８号公報、特
開平６−１５０８３１号公報、特開平６−１５０８３２
号公報では、感光性ペースト法により隔壁を形成する場
合、隔壁端部の跳ね上がり・盛り上がり現象を防止する
ために隔壁層の屈伏点を変えたガラス組成にすることや
アンダーガラスの構造を設けたことが知られている。し
かしながら、これらの方法では背面板においても跳ね上
がりは低減できるが、隔壁はがれや倒れ・断線を解消す
るには充分でなかった。特に、隔壁を感光性ペースト法
で形成した場合には、隔壁上部と下部の重合硬化の差に
起因する剥がれが生じやすく、隔壁層のアンダーガラス
層として、誘電体層を形成することは、歩留まり向上の
ために有効である。また、このＰＤＰを高精細化するた
めには隔壁間のピッチを小さくする必要がある。

【００１３】上記のＰＤＰを作製する場合に、基板が加
工時に反りや割れが生じることによって、歩留まりが低
下するという課題があった。特に、基板のほぼ全面に形
成する誘電体に起因する基板反りや基板割れが生じやす
い。

【００１４】また、誘電体中のアルカリイオン等の影
響、具体的には電極に用いる銀、基板中に含まれる錫等
の金属イオンとのイオン交換反応により誘電体が変色
し、ＰＤＰとした場合、表示品位が極端に低下するとい
う問題があった。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、さらに表示品
位が優れた高精細のＰＤＰを提供することが求められて
いる。本発明は、表示品位の高いＰＤＰを得るためのＰ
ＤＰ用基板および、表示品位が優れた高精細のＰＤＰを
歩留まりよく製造できるようになる製造方法を提供する
ことを目的とする。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、基板上
に形成した電極層の上に誘電体層Ａを形成した基板であ
って、その上に形成された誘電体層Ｂがフィラーを含有
し、該誘電体層Ａのハンター表色系Ｌａｂのうちａ値が
−３〜１０、ｂ値が−５〜１０であり、該誘電体層Ｂが
Ｌａｂ値のうちＬ値が５０以上であることを特徴とする
プラズマディスプレイ用基板によって達成される。

【００１７】また、本発明の目的は、電極が形成された
基板上に、誘電体層Ａ用ペーストを塗布後、焼成して誘
電体層Ａを形成した後、無機材料と有機成分からなり、
無機材料中にガラスを５０〜９０重量％、フィラーを１
０〜５０重量％含有する誘電体層Ｂ用ペーストを塗布し
て塗布膜を形成し、次いで、無機材料と感光性有機成分
からなる隔壁用ペーストを塗布して、フォトリソグラフ
ィ法により隔壁パターンを形成した後、前記誘電体層Ｂ
用塗布膜と隔壁パターンを同時に焼成することを特徴と
するプラズマディスプレイ基板の製造方法によって達成
される。

【００１８】

【発明の実施の形態】本発明のＰＤＰ用基板に用いるガ
ラス基板としては、ソーダガラス基板や高歪み点ガラス
（例えば、旭硝子社製のＰＤ−２００）などのＰＤＰ用
耐熱ガラス基板を用いることができる。このガラス基板
上に、電極を形成する場合、電極材質としては銀を８０
重量％以上、好ましくは９５重量％以上含む電極を用い
ることが抵抗値・ガラス基板との接着強度を上げる点か
ら好ましい。また電極中に１〜５重量％のガラスフリッ
ト成分を含有させることにより、基板ガラスとの接着性
に優れた電極層を得ることができる。この電極を形成す
る方法としては、スクリーン印刷法や感光性導電ペース
ト法が用いられる。感光性ペースト法では平均粒子径１
〜４μｍの銀粉末、平均粒子径０．５〜１．５μｍのガ
ラスフリットを感光性有機成分と混練して得られる感光
性銀ペーストをガラス基板上に塗布、乾燥後、露光、現
像、焼成の工程を経ることにより形成することができ
る。

【００１９】本発明では電極を形成したガラス基板上
に、無機材料からなる誘電体層を形成する。誘電体層
は、少なくとも２層以上の多層構造とするのが好まし
い。２層以上の誘電体層において、電極のすぐ上に形成
される誘電体層Ａは、電極の厚みによって生ずる表面凹
凸を平坦化するために必要である。また、表面凹凸は３
μｍ以下が好ましい。３μｍ以下であれば誘電体層を焼
成後に生ずる亀裂の発生を解消することができる。誘電
体層Ａ上に形成する誘電体層Ｂは、隔壁パターンと同時
に焼成される。誘電体層Ｂと隔壁パターンを同時に焼成
しない場合、すなわち隔壁パターンを誘電体層Ａ上で単
独に焼成すると隔壁パターンが焼成収縮によって隔壁剥
がれ、断線、蛇行が発生するようになり好ましくない。
誘電体層Ｂのない誘電体層Ａ上で焼成すると、焼成過程
で隔壁と基板との密着強度が低いため正常な隔壁が得ら
れない。誘電体層Ａは、誘電体体層の平坦化を高める上
で、２層以上が好ましい。誘電体層全体の厚みは６〜２
５μｍ、より好ましくは１０〜２０μｍであることが均
一で緻密な誘電体層を形成するのに好ましい。誘電体層
は２層以上の多層構造であっても良い。厚みが２５μｍ
を越えると、焼成の際、脱媒が困難でありクラックが生
じやすく、またガラス基板にかかる応力が大きいために
基板が反る等の問題が生じる。また、６μｍ未満では平
坦性があって、均一かつ緻密な誘電体層を形成するのが
困難である。さらに、絶縁耐圧が低下するため好ましく
ない。

【００２０】また、誘電体層Ａは、その上に誘電体層Ｂ
あるいは隔壁を形成する前に一度焼成することが好まし
い。誘電体Ａを焼成し、電極の凹凸を平坦化した基板上
に誘電体層Ｂおよび隔壁を形成させ、これらを同時に焼
成することで、剥がれ、断線、亀裂のない良好な隔壁が
得られる。

【００２１】本発明の誘電体層ＡおよびＢの無機材料に
含有するガラスの誘電率は、７〜１３のものを用いるこ
とができるが、７〜１０が好ましい。誘電率７未満の材
料は誘電体層の厚みを増やす必要があり、その結果、駆
動電圧が上昇するため好ましくない。また、１３を越え
ると誘電体層の厚みを薄くする必要があり、薄くすると
緻密な膜が得られにくいため好ましくない。

【００２２】本発明の誘電体層は、５０〜４００℃の範
囲の熱膨張係数α₅₀〜₄₀₀の値が７０〜８５×１０^-7／
Ｋであることが好ましく、より好ましくは７２〜８３×
１０^-7／Ｋであるガラスを主成分とすることが、基板ガ
ラスの熱膨張係数と整合し、焼成の際にガラス基板にか
かる応力を減らすので好ましい。８５×１０^-7／Ｋを越
えると、誘電体層の形成面側に基板が反るような応力が
かかり、７０×１０^-7／Ｋ未満では誘電体層のない面側
に基板が反るような応力がかかる。このため、基板の加
熱、冷却を繰り返すと割れる場合がある。また、前面基
板との封着の際、基板の反りのために両基板が平行にな
らず封着できない場合もある。

【００２３】本発明の誘電体層ＡおよびＢに用いるガラ
スあるいは無機材料は、ガラスを主成分とする。主成分
とは、全成分中に５０重量％以上、好ましくは７０重量
％以上含まれる成分をいう。

【００２４】本発明のＰＤＰ用基板の前記反り量はガラ
ス基板の曲率半径の逆数によって規定することができ
る。すなわち、反り量は曲率半径に反比例するので、１
／Ｒで定量化でき、ここで反り量の正負の値は基板の反
る方向を表す。ガラス基板の曲率半径は、種々の方法で
測定できるが、表面粗さ計を用いガラス基板面のうねり
を測定する方法がもっとも簡便である。表面粗さ計（東
京精密社製：サーフコム１５００Ａなど）によって掃引
し、うねりを測定できる。得られたうねり曲線の最大偏
差Ｈ、測定長さＬから次式を用いて反り量１／Ｒを算出
できる。１／Ｒ〓８Ｈ／Ｌ２

【００２５】基板に反りが生じている場合、前面板と背
面板の封着の際、隔壁頭部と前面板表面との間に隙間が
生じることで、各セル間で誤放電が生じたり、封着時に
基板が破損したりする。これらの問題が生じないために
は、反り量の絶対値を３×１０^-3ｍ^-1以下にすることが
好ましい。すなわち、基板の反り量を −３×１０^-3ｍ^-1≦１／Ｒ≦３×１０^-3ｍ^-1（Ｒは基板
の曲率半径を表す）の範囲内にすることが好ましい。

【００２６】本発明では、誘電体層中に含まれるアルカ
リ金属を実質的に含有しないことにより焼成時の基板の
反りやパネル封着時の割れを防止することができる。熱
膨張係数が基板ガラスと整合させても、誘電体中にアル
カリ金属、例えば、Ｎａ（ナトリウム）、Ｌｉ（リチウ
ム）、Ｋ（カリウム）等の含有量が０．５重量％を超え
る場合は、焼成時にガラス基板や電極中のガラス成分と
イオン交換が起こる。このため、基板ガラスの表面部分
や誘電体ガラスの熱膨張係数が変化し、基板ガラスの熱
膨張係数と一致しなくなり、基板に引っ張り応力が生
じ、割れの原因となる。

【００２７】このイオン交換による誘電体層と基板ガラ
スとの不一致は、特に誘電体中にリチウム、ナトリウ
ム、カリウムを含有する場合に生じやすく、誘電体中に
含まれるこれら金属の含有量を０．１重量％以下にする
ことが好ましい。

【００２８】本発明の誘電体層は、電極の上に形成され
るため、誘電体層を構成するガラス成分中の特に、アル
カリイオンは銀イオンとイオン交換を生じ、銀イオンが
誘電体焼成時に還元される。さらにはコロイド化し誘電
体が着色するという問題が起こる。この誘電体の着色を
抑制する方法として、(1) 誘電体ガラスと銀とのイオン
交換を抑制する、または(2) イオン交換によって銀イオ
ンが誘電体中に移動した場合に、誘電体層中での銀イオ
ンの還元を抑制する方法が好ましく適用される。

【００２９】ここで、誘電体ガラスと銀とのイオン交換
を抑制する方法として、誘電体ガラスのアルカリ金属を
実質的に含まないことである。実質的に含まないとは、
含んだ場合でも０．５重量％以下、好ましくは０．１重
量以下である。また、イオン交換後、誘電体中での銀イ
オンの還元、コロイド化を抑制するには、誘電体ガラス
中に酸化剤的役割を有する金属、例えば鉛、セリウム、
マンガンなどの元素を５〜３０重量％含有させる方法が
好ましく適用される。

【００３０】本発明の誘電体層ＡおよびＢのガラスに
は、酸化ビスマスを２０〜７０重量％含むガラスを用い
ることによって軟化点、熱膨張係数のコントロールが容
易になる。特に、酸化ビスマスを２０〜７０重量％含有
するガラスを用いることは、ペーストの安定性などの利
点がある。酸化ビスマスの添加量は７０重量％を越える
とガラスの耐熱温度が低くなり過ぎてガラス基板上への
焼き付けが難しくなる。具体的なガラス組成の例として
は、酸化物換算表記で以下のものが挙げられるが、本発
明は、このガラス組成に限定されるものではない。

【００３１】誘電体層の形成に用いるガラス成分の組成
として酸化物表記で、酸化ビスマス２０〜７０重量％酸化珪素３〜３０重量％酸化ホウ素１０〜３０重量％酸化亜鉛１０〜４０重量％酸化ジルコニウム３〜１０重量％からなるものを８０重量％以上含有することが好まし
い。この範囲であると５５０〜６００℃でガラス基板上
に焼き付けることができるガラス粉末が得られる。

【００３２】ＰＤＰ背面板用基板を構成する各部材の中
で、誘電体層の色調がＰＤＰの表示品位に極めて大きな
影響を与える。本発明においては、誘電体層の色調を良
好に保ち、表示品位の高いＰＤＰを得るために、誘電体
層を２層以上で構成し、電極層の上に誘電体層Ａを形成
し、その上に誘電体層Ｂを形成する。

【００３３】本発明の誘電体層Ａは、電極の直上に形成
されるため、特にイオン交換による着色を生じやすい。
誘電体層中のアルカリイオンと電極（銀、錫等）あるい
は基板に含まれる金属（錫等）との反応が原因で誘電体
が着色する。例えば銀とのイオン交換反応が起こる場合
には黄味が強くなる傾向にあり、また錫との反応が起こ
った場合には赤味が強くなる傾向にある。いずれもＰＤ
Ｐとした場合、表示品位が低下する。

【００３４】本発明においては、誘電体層Ａの着色を極
力抑え、焼成後の誘電体層Ａの色調を、ハンター表色系
Ｌａｂ値で表した場合、ａ値が−３〜１０、ｂ値が−５
〜１０の範囲にする必要がある。ａ値は赤味を表す指数
であり、ａ値が前記範囲未満では緑味が強くなり、また
前記範囲を超えると赤味が強くなる。またｂ値は黄味を
表す指数であり、ｂ値が前記範囲未満では青味が強くな
り、前記範囲を超えると黄味が強くなる。ａ、ｂ値が本
発明の範囲外である場合、ＰＤＰとした場合に表示品位
が極端に低下する。

【００３５】本発明でいうハンター表色系は、例えばス
ガ試験器（株）製ＳＭカラーコンピューターによって測
定でき、使用する光源によって反射、透過の２種類があ
り、本発明ではどちらのＬａｂ値を用いてもよいが、Ｐ
ＤＰとしたときの見た目の品位を数値化（定量化）する
という意味から反射モードで得られた値を用いることが
より好ましい。

【００３６】本発明の誘電体層Ａ上には誘電体層Ｂが形
成される。本発明の誘電体層Ｂは、白色フィラーを含有
させることが必要であり、具体的には前記ハンター表色
系の白さ、すなわち反射を表す指数であるＬ値が５０以
上とする必要がある。このＬ値を５０以上とすることで
誘電体層の反射率が向上し、ＰＤＰとした場合高い輝度
の画像が得られる。誘電体層ＢのＬ値を５０以上とする
ことで、ＰＤＰ背面板用基板とした場合、高い反射率を
得ることができ、ＰＤＰとして高輝度のものが得られ
る。Ｌ値が５０未満であると、ＰＤＰの表示が暗くなっ
たり、くすんだようになり、表示品位が低下する。

【００３７】すなわち、本発明においては、誘電体層を
２層以上で構成し、電極層の上に形成する誘電体層Ａ
を、ａ値が−３〜１０、ｂ値が−５〜１０の範囲になる
ように形成し、かつ、その上に形成する誘電体層Ｂにフ
ィラーを含有させてＬ値を５０以上とすることで、表示
品位の高いＰＤＰを得ることができるものである。

【００３８】誘電体層Ｂは、ガラス転移点４５０〜５５
０℃、軟化点５００〜６００℃であるガラスを５０〜９
０重量％、フィラーを１０〜５０重量％含有することが
好ましい。フィラーとしては、チタニア、アルミナ、チ
タン酸バリウム、ジルコニアからなる群から選ばれた少
なくとも一種である白色セラミックスが用いられる。フ
ィラーを上記範囲に含有することによって誘電体層の反
射率を向上させ、高輝度のプラズマディスプレイが得ら
れる。

【００３９】また、本発明の誘電体層Ａも、誘電体層Ｂ
と同じようにガラス転移点４５０〜５５０℃、軟化点５
００〜６００℃であるガラスを５０〜９０重量％、フィ
ラーを１０〜５０重量％含有する無機材料を用いること
が好ましい。フィラーとしては、酸化チタン、アルミ
ナ、チタン酸バリウム、ジルコニアからなる群から選ば
れた少なくとも一種である白色セラミックスが用いられ
る。フィラーを上記範囲に含有することによって誘電体
層Ａの反射率をより向上させ、高輝度のプラズマディス
プレイが得られる。

【００４０】本発明の誘電体層Ａは、ガラスあるいは無
機材料からなる無機微粒子と有機バインダーからなる誘
電体層Ａ用ペーストをガラス基板上に塗布または積層
し、焼成することによって形成できる。誘電体層Ａ用ペ
ーストに用いる無機粉末の量は、無機粉末と有機成分の
和に対して７０〜９５重量％であるのが好ましい。７０
重量％未満では、誘電体層の緻密性や表面の平坦性が低
下し、９５重量％を越えるとペースト粘度が上昇し、塗
布時の厚みムラが大きくなる。

【００４１】本発明の場合、ガラス基板の変形を抑制す
るために、誘電体層Ａ用ペーストで形成した塗布膜は、
５５０〜６００℃で焼成することが好ましい。このた
め、誘電体層Ａ用ペーストに用いる無機材料粉末として
は、ガラス転移温度（Ｔｇ）４５０〜５５０℃、軟化点
（Ｔｓ）５００〜６００℃のガラス粉末を６０重量％以
上含有することが好ましい。ガラス転移温度、軟化点が
それぞれ、４５０、５００℃よりも低い場合は、後のパ
ネル作製工程中に、ガラスが溶融して誘電体厚みの均一
性や形状保持性が低下する。また、ガラス転移温度、軟
化点がそれぞれ５００、６００℃よりも高い場合は、ガ
ラス基板上での焼成が不十分になり、緻密な誘電体膜が
得られず、膜の剥離や欠落を生じやすくなる。

【００４２】誘電体ペーストに用いる粉末の粒子径は、
Ｄ１０（１０体積％粒子径）０．４〜２μｍ、Ｄ５０
（５０体積％粒子径）１〜３μｍ、Ｄ９０（９０体積％
粒子径）３〜８μｍ、最大粒子サイズ１０μｍ以下の粒
度分布を有する粉末を用いるのが好ましい。より好まし
くは、Ｄ９０は３〜５μｍ、最大粒子サイズ５μｍ以下
が好ましい。粒度分布がこの範囲にあると、焼成後の誘
電体表面が平坦になり、緻密なガラスの層となり、隔壁
の剥がれ・断線・蛇行を防ぐことができる。

【００４３】前記誘電体層Ａは、電極厚みの１．０〜
５．０倍が好ましく、さらには１．１〜３．０倍である
ことが好ましい。誘電体層Ａの厚みが前記範囲未満では
電極の凹凸に沿って亀裂が発生しやすくなり、また前記
範囲を越えると誘電体層が厚くなりすぎ、アドレス動作
電圧が上昇したりするため好ましくない。

【００４４】本発明のＰＤＰ基板を構成する誘電体層Ｂ
上に、隔壁パターンを形成し、誘電体層と隔壁パターン
を同時に焼成することによって、剥がれや倒れのない均
一な隔壁層を形成することができる。誘電体層Ｂは、無
機材料粉末と感光性有機成分からなる感光性誘電体ペー
ストＢを焼成後の誘電体層Ａ上に塗布し、塗布膜を形成
する。感光性誘電体ペーストＢに用いる無機材料粉末
は、ガラス転移点４５０〜５５０℃、軟化点５００〜６
００℃であるガラス粉末を５０〜９５重量％、フィラー
を５〜５０重量％含有する粉末が用いられる。

【００４５】感光性誘電体ペーストＢは、後述する隔壁
形成用の感光性ペーストに用いる感光性有機化合物と同
じものを用いるのが好ましい。それにより誘電体塗布膜
と隔壁パターンを同時に焼成する場合に、焼成収縮率を
近付けられるので好ましい。感光性誘電体ペーストを用
いて誘電体層Ａ上に形成した塗布膜の全面に露光し、誘
電体層Ｂを形成する。塗布方法は、スクリーン印刷、ロ
ールコータ、ダイコータ、ブレードコータ等の方法を用
いることができる。塗布厚みは、塗布回数、ペーストの
粘度を選ぶことによって調整できるが、５〜１５μｍで
ある。

【００４６】誘電体層Ｂを形成する場合に、塗布膜を全
面露光する場合と現像液に不溶の塗布膜の両方が用いら
れる。感光性誘電体Ｂペーストを塗布した後、ペースト
中の溶媒を除去するため、乾燥を行う。次に、感光性誘
電体層ペースト中に、紫外線光もしくは熱重合性の成分
が含まれる場合は、露光または加熱により硬化し、隔壁
パターン形成の際の現像液に不溶となり、浸食を防ぐ。
加熱によって硬化し、現像液に不溶性となる感光性樹脂
は、側鎖にカルボキシル基等の酸性基を有する不飽和カ
ルボン酸、具体的な例としては、アクリル酸、メタアク
リル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル
酸、ビニル酢酸、またはこれらの酸無水物などがあげら
れる。これらのポリマーもしくはオリゴマーの酸価（Ａ
Ｖ）が２０〜７０、さらには３０〜６０の範囲が好まし
い。この範囲にあると未露光部の現像液に対する不溶性
が増加し好ましい。

【００４７】塗布した後、露光装置を用いて露光を行
う。露光装置としては、ステッパー露光機、プロキシミ
ティ露光機等を用いることができる。露光ギャップは３
０〜１００μｍ開けて露光するのが好ましい。適当な露
光ギャップがないと、フォトマスクと塗布面が接触し、
均一な露光が行われないため好ましくない。

【００４８】この際使用される活性光源は、紫外線が好
ましく、その光源としてはたとえば高圧水銀灯、超高圧
水銀灯、などが使用できる。これらのなかでも超高圧水
銀灯が好適である。露光条件は塗布厚みによって異なる
が、５〜５０ｍＷ／ｃｍ²の出力の超高圧水銀灯を用い
て０．５〜１０分間露光を行う。

【００４９】次に、形成した誘電体層Ｂ上に隔壁パター
ンを形成する。この場合、直接感光性ペーストを全面塗
布、もしくは部分的に塗布した後、露光・現像してパタ
ーニングする方法がある。また、ポリエステルなどのポ
リマー製フィルムの上に感光性ペーストを塗布し、露光
・現像してパターニングしたものを誘電体層上に転写す
る方法がある。塗布方法としては、スクリーン印刷、ロ
ールコータ、ダイコータ、ブレードコータ等の方法を用
いることができる。塗布厚みは、塗布回数、ペーストの
粘度を選ぶことによって調整できる。

【００５０】本発明の隔壁パターンを形成する方法とし
ては、特に限定されるものではなく、感光性ペースト
法、スクリーン印刷法、サンドブラスト法などが適用さ
れる。この中で、感光性ペースト法（フォトリソ法）も
好ましく適用される。隔壁を無機粉末と感光性有機成分
からなる感光性ペーストを用いて形成することは、ＰＤ
Ｐの高精細化および作製工程の低減に有効である。

【００５１】感光性ペースト法によって形成した隔壁パ
ターンは、厚み方向に光硬化の不均一による歪み応力が
生じやすいため、焼成の際に剥がれが生じやすい。隔壁
剥がれが生じると剥がれた箇所で色の混色が起こり、ま
た剥がれた隔壁がパネル上に残り、画素を潰してしまい
歩留まりが低下する。これを抑制するために、隔壁パタ
ーンを未焼成の誘電体層Ｂ上で形成し、該隔壁パターン
と誘電体層Ｂとを同時に焼成することにより、はがれが
抑制され、歩留まりが向上する。

【００５２】感光性ペースト法は、主としてガラス粉末
からなる無機成分と感光性を持つ有機成分からなる感光
性ペーストをガラス基板上に塗布し、露光・現像により
隔壁パターンを形成し、その後焼成して隔壁を得る方法
である。塗布する方法として、ドクターブレード法、ス
リットダイコート法、スクリーン印刷法の他に感光性ペ
ーストをフィルム上に塗布した感光性シート（グリーン
テープ）をガラス基板上に転写する方法を用いることも
できる。

【００５３】隔壁に用いる無機成分は、ガラス転移点、
軟化点の低いガラス基板上にパターン形成するため、隔
壁用材料として、ガラス転移点が４３０〜５００℃、軟
化点が４７０〜５８０℃のガラス材料を用いることが好
ましい。ガラス転移点、軟化点がそれぞれ５００、５８
０°Ｃを越えると、５６０〜６００°Ｃの焼成で、緻密
な隔壁が得られないため高温で焼成しなければならず、
焼成の際に基板に歪みが生じる。また、ガラス転移点、
軟化点が４３０、４７０°Ｃより低い材料では、焼成後
の隔壁形状の保持性が低下し、形状不良の原因となる。

【００５４】平均屈折率１．５〜１．７のガラス粉末を
用いることにより、ペースト中のガラス粉末の屈折率を
有機成分の屈折率と近付けて、ペースト中の光散乱を抑
制し、塗布・露光回数を減らすことができる。

【００５５】ガラス基板上に焼き付け可能な軟化点を有
し、平均屈折率を１．５〜１．７のガラスを得るために
は、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウムのう
ち少なくとも１種類を２〜１０重量％含むガラス微粒子
を用いることが簡便な方法である。これらの酸化物を合
計で２〜１０重量％含有するガラスを用いることによっ
て、軟化点、熱膨張係数のコントロールが容易になるだ
けでなく、ガラスの平均屈折率を低くし、有機物との屈
折率差を小さくすることが容易になる。２％より小さい
時は、軟化点の制御が難しくなる。２０％より大きい場
合は、ペーストの安定性が低下する。しかし、隔壁材料
にアルカリ金属を含有する場合、誘電体層にアルカリ金
属やその酸化物を含有すると、隔壁層／誘電体層／ガラ
ス基板の３層間でイオン交換反応が生じて、基板のそり
や割れ、また、銀電極との反応による基板の黄着色の問
題が生じる。

【００５６】この問題に対して本発明は、前述したよう
に電極上の誘電体層Ａおよび隔壁に近い誘電体層Ｂにア
ルカリ金属を実質的に含まない材料が好ましい。これに
よって黄色化、反り、割れを大幅に抑制できる。

【００５７】隔壁材料の組成として、酸化珪素はガラス
中に１０〜３０重量％の範囲で配合することが好まし
い。酸化珪素の配合量が１０重量％未満の場合はガラス
層の緻密性、強度や安定性が低下し、また熱膨張係数が
所望の値から外れ、ガラス基板とのミスマッチが起こり
やすい。また３０重量％以下にすることによって、軟化
点が低くなり、ガラス基板への焼き付けが可能になるな
どの利点がある。

【００５８】さらに酸化ホウ素はガラス中に、２０〜４
０重量％の範囲で配合することによって、電気絶縁性、
強度、熱膨張係数、絶縁層の緻密性などの電気、機械お
よび熱的特性を向上することができる。４０重量％を越
えるとガラスの安定性が低下する。

【００５９】また、ガラス微粒子中に、酸化アルミニウ
ム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化ジルコニウム
など、特に酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化亜鉛
を添加することにより、軟化点、熱膨張係数、屈折率を
制御できるが、その含有量は４０重量％以下が好まし
い。

【００６０】酸化リチウムを含むガラス組成としては、
酸化物換算表記で酸化リチウム２〜１０重量％酸化珪素１０〜３０重量％酸化ホウ素２０〜４０重量％酸化バリウム２〜１５重量％酸化アルミニウム１０〜２５重量％の組成を含むことが好ましい。

【００６１】また、上記組成で、酸化リチウムの代わり
に、酸化ナトリウム、酸化カリウムを用いても良いが、
ペーストの安定性の点で、酸化リチウムが好ましい。

【００６２】本発明の感光性ペースト法に用いるペース
ト中のガラス粉末量は、ガラス粉末と有機成分の和に対
して６５〜８５重量％であるのが好ましい。６５重量％
より小さいと、焼成時の収縮率が大きくなり、隔壁の断
線、剥がれの原因となるため、好ましくない。またパタ
ーン太り、現像時の残膜の発生が起こりやすい。８５重
量％より大きいと、感光性成分が少ないことにより、パ
ターンの形成性が悪くなる。

【００６３】本発明の隔壁材料に軟化点が６５０〜８５
０℃であるフィラーを１０〜５０重量％含ませてもよ
い。これにより、感光性ペースト法において、パターン
形成後の焼成時の収縮率が小さくなり、焼成前高さを低
くすることができるのでパターン形成が容易になる。ま
た、フィラー添加により焼成時の形状保持性が向上する
ため矩形形状のパターンが得られる。フィラーとして
は、軟化点が６００〜１２００℃、さらに好ましくは６
５０〜８００°である。高融点ガラス粉末としては、酸
化珪素、酸化アルミニウムを１５重量％以上含有する高
融点ガラス粉末が好ましく、これらの含有量合計がガラ
ス粉末中５０重量％以上であることが、必要な熱特性を
持たせるためには有効である。１例としては、以下の組
成を含有するガラス粉末を用いることが好ましい。

【００６４】酸化珪素：２５〜５０重量％酸化ホウ素：５〜２０重量％酸化アルミニウム：２５〜５０重量％酸化バリウム：２〜１０重量％高融点ガラス粉末をフィラーとして用いる際、母ガラス
（低融点ガラス）との屈折率差が大きいと有機成分との
整合が困難になり、パターン形成性が悪くなる。その
場合、低融点ガラス粉末の平均屈折率Ｎ１、高融点ガラ
ス粉末の平均屈折率Ｎ２が、次の範囲にあることによっ
て、有機成分との屈折率整合が容易になる。

【００６５】−０．０５≦Ｎ１−Ｎ２≦０．０５用いるフィラーの粒子径としては、平均粒子径１〜６μ
ｍのものが好ましい。また、Ｄ１０（１０体積％粒子
径）０．４〜２μｍ、Ｄ５０（５０体積％粒子径）：１
〜３μｍ、Ｄ９０（９０体積％粒子径）：３〜８μｍ、
最大粒子サイズ：１０μｍ以下の粒度分布のものを使用
することがパターン形成を行う上で好ましい。

【００６６】さらに好ましくはＤ９０は３〜５μｍ、最
大粒子サイズ５μｍ以下が好ましい。Ｄ９０が３〜５μ
ｍ以下の微細な粉末であることが、焼成収縮率を低くす
ることができ、かつ気孔率が低い隔壁を作製する上で好
ましい。また、隔壁上部の長手方向の凹凸を２μｍ以下
にすることができるので好ましい。

【００６７】誘電体層用ペーストおよび隔壁ペーストに
用いる有機成分には、一般的な有機バインダー、可塑
剤、溶媒などを添加できる。有機バインダーの具体的な
例としては、ポリビニルアルコール、セルロース系ポリ
マー、シリコンポリマー、ポリエチレン、ポリビニルピ
ロリドン、ポリスチレン、ポリアミド、高分子量ポリエ
ーテル、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル
重合体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステ
ル−メタクリル酸エステル共重合体、α−メチルスチレ
ン重合体、ブチルメタクリレート樹脂などがあげられ
る。また、ペーストの粘度を調整する際には溶媒とし
て、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロ
ソルブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、
シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアル
コール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラ
ン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトン、ブ
ロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジ
クロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸など
やこれらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が
用いられる。

【００６８】また、ペースト中に可塑剤を含むこともで
きる。可塑剤の具体的な例としては、ジブチルフタレー
ト、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコール、
グリセリンなどがあげられる。

【００６９】誘電体層Ａ用ペーストおよび隔壁ペースト
に感光性を付与することにより、パターン加工が容易に
なることや溶媒や現像液に対する溶解性を制御できる利
点がある。ペースト中に、感光性モノマー、感光性オリ
ゴマー、感光性ポリマーのうち少なくとも１種類から選
ばれる感光性成分を含有し、さらに必要に応じて、光重
合開始剤、紫外線吸収剤、増感剤、増感助剤、重合禁止
剤などの添加剤成分を加えることで感光性が付与され
る。この場合、ペーストをガラス基板上に塗布後に、乾
燥を行った後、露光して光硬化できる。また、パターン
露光後に不要部分を現像して取り除き、パターン形成す
ることができる。

【００７０】感光性成分としては、光不溶化型のものと
光可溶化型のものがあり、光不溶化型のものとして、
（Ａ）分子内に不飽和基などを１つ以上有する官能性の
モノマー、オリゴマー、ポリマーを含有するもの（Ｂ）
芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機ハロゲ
ン化合物などの感光性化合物を含有するもの（Ｃ）ジア
ゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物などいわゆる
ジアゾ樹脂といわれるもの等がある。

【００７１】また、光可溶型のものとしては、（Ｄ）ジ
アゾ化合物の無機塩や有機酸とのコンプレックス、キノ
ンジアゾ類を含有するもの（Ｅ）キノンジアゾ類を適当
なポリマーバインダーと結合させた、例えばフェノー
ル、ノボラック樹脂のナフトキノン−１，２−ジアジド
−５−スルフォン酸エステル等がある。

【００７２】本発明において用いる感光性成分は、上記
のすべてのものを用いることができる。感光性ペースト
として、無機微粒子と混合して簡便に用いることができ
る感光性成分は、（Ａ）のものが好ましい。

【００７３】感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽
和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、メ
チルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピル
アクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチル
アクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、イソブチ
ルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−
ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、ベンジル
アクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシ
トリエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシル
アクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシ
クロペンテニルアクリレート、２−エチルヘキシルアク
リレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアク
リレート、ヘプタデカフロロデシルアクリレート、２−
ヒドロキシエチルアクリレート、イソボニルアクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソデシル
アクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルア
クリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキ
シエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレ
ングリコールアクリレート、オクタフロロペンチルアク
リレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリル
アクリレート、トリフロロエチルアクリレート、アリル
化シクロヘキシルジアクリレート、１，４−ブタンジオ
ールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジア
クリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエ
チレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコ
ールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、
ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレ
ート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、
グリセロールジアクリレート、メトキシ化シクロヘキシ
ルジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレ
ート、プロピレングリコールジアクリレート、ポリプロ
ピレングリコールジアクリレート、トリグリセロールジ
アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、アクリルアミド、アミノエチルアクリレート、フェ
ニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ベ
ンジルアクリレート、１−ナフチルアクリレート、２−
ナフチルアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレー
ト、ビスフェノールＡ−エチレンオキサイド付加物のジ
アクリレート、ビスフェノールＡ−プロピレンオキサイ
ド付加物のジアクリレート、チオフェノールアクリレー
ト、ベンジルメルカプタンアクリレート等のアクリレー
ト、また、これらの芳香環の水素原子のうち、１〜５個
を塩素または臭素原子に置換したモノマー、もしくは、
スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、
ｍ−メチルスチレン、塩素化スチレン、臭素化スチレ
ン、α−メチルスチレン、塩素化α−メチルスチレン、
臭素化α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ヒ
ドロキシメチルスチレン、カルボキシメチルスチレン、
ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバ
ゾール、および、上記化合物の分子内のアクリレートを
一部もしくはすべてをメタクリレートに変えたもの、γ
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビ
ニル−２−ピロリドンなどが挙げられる。本発明ではこ
れらを１種または２種以上使用することができる。

【００７４】これら以外に、不飽和カルボン酸等の不飽
和酸を加えることによって、パターン露光後の現像性を
付与することができる。不飽和カルボン酸の具体的な例
としては、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、
クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、また
はこれらの酸無水物などがあげられる。

【００７５】これらモノマーの含有率は、ガラス粉末と
感光性成分の和に対して、５〜３０重量％が好ましい。
これ以外の範囲では、パターンの形成性の悪化、硬化後
の硬度不足が発生するため好ましくない。

【００７６】バインダーとしては、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合
体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル−
メタクリル酸エステル共重合体、α−メチルスチレン重
合体、ブチルメタクリレート樹脂などが挙げられる。

【００７７】また、前述の炭素−炭素二重結合を有する
化合物のうち少なくとも１種類を重合して得られたオリ
ゴマーやポリマーを用いることができる。重合する際
に、これら光反応性モノマーの含有率が、１０重量％以
上、さらに好ましくは３５重量％以上になるように、他
の感光性のモノマーと共重合することができる。

【００７８】共重合するモノマーとしては、不飽和カル
ボン酸等の不飽和酸を共重合することによって、隔壁パ
ターンを形成する場合の現像性を向上することができ
る。不飽和カルボン酸の具体的な例としては、アクリル
酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイ
ン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれらの酸無水物
などがあげられる。こうして得られた側鎖にカルボキシ
ル基等の酸性基を有するポリマーもしくはオリゴマーの
酸価（ＡＶ）は３０〜１５０、さらには７０〜１２０の
範囲が好ましい。酸価が３０未満であると、未露光部の
現像液に対する溶解性が低下するため好ましくない。ま
た、酸価が１５０を越えると未露光部の現像液に対する
溶解性が非常に早くなり、現像許容幅が狭くなる。この
ため、現像液濃度を薄くすると生産性が低下するように
なり好ましくない。

【００７９】以上示した、ポリマーもしくはオリゴマー
に対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させ
ることによって、感光性を持つ感光性ポリマーや感光性
オリゴマーとして用いることができる。好ましい光反応
性基は、エチレン性不飽和基を有するものである。エチ
レン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリ
ル基、メタクリル基などがあげられる。このような側鎖
をオリゴマーやポリマーに付加させる方法は、ポリマー
中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカルボキシル基
に対して、グリシジル基やイソシアネート基を有するエ
チレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタク
リル酸クロライドまたはアリルクロライドを付加反応さ
せて作る方法がある。

【００８０】グリシジル基を有するエチレン性不飽和化
合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グ
リシジル、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル
酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロト
ン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエ
ーテルなどがあげられる。

【００８１】イソシアネート基を有するエチレン性不飽
和化合物としては、（メタ）アクリロイルイソシアネー
ト、（メタ）アクリロイルエチルイソシアネート等があ
る。また、グリシジル基やイソシアネート基を有するエ
チレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタク
リル酸クロライドまたはアリルクロライドは、ポリマー
中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカルボキシル基
に対して０．０５〜１モル当量付加させることが好まし
い。

【００８２】感光性ペースト中の感光性ポリマー、感光
性オリゴマーおよびバインダーからなるポリマー成分の
量としては、パターン形成性、焼成後の収縮率の点で優
れていることから、ガラス粉末と感光性成分の和に対し
て、５〜３０重量％であることが好ましい。この範囲外
では、パターン形成が不可能もしくは、パターンの太り
がでるため好ましくない。

【００８３】光重合開始剤の具体的な例として、イルガ
キュア３６９、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香
酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェ
ノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノ
ン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル
−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フ
ルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，
２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフ
ェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノ
ン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサ
ントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキ
サントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチル
チオキサントン、ベンジルジメチルケタノール、ベンジ
ルメトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾイン
メチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラ
キノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルア
ントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロ
ン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンア
ントロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６
−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、
２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチル
シクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン
−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェ
ニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニ
ル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン
−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェ
ニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベ
ンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−
［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−
１−プロパノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キ
ノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリ
ドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニ
ルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリ
フェニルホスフィン、カンファーキノン、四臭素化炭
素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾインお
よびエオシン、メチレンブルーなどの光還元性の色素と
アスコルビン酸、トリエタノールアミンなどの還元剤の
組み合わせなどがあげられる。本発明ではこれらを１種
または２種以上使用することができる。

【００８４】光重合開始剤は、感光性成分に対し、０．
０５〜２０重量％の範囲で添加され、より好ましくは、
０．１〜１５重量％である。重合開始剤の量が少なすぎ
ると、光感度が不良となり、光重合開始剤の量が多すぎ
れば、露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれがあ
る。

【００８５】紫外線吸収剤を添加することも有効であ
る。紫外線吸収効果の高い化合物を添加することによっ
て高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外
線吸収剤としては有機系染料からなるもの、中でも３５
０〜４５０ｎｍの波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する有
機系染料や紫外線吸収剤が好ましく用いられる。具体的
には、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系
染料、キノリン系染料、アミノケトン系染料、アントラ
キノン系、ベンゾフェノン系、ジフェニルシアノアクリ
レート系、トリアジン系、ｐ−アミノ安息香酸系染料、
ベーシックブルー、２−エチルヘキシル−２−シアノ−
３、３−ジフェニルアクリレートなどが使用できる。有
機系染料は吸光剤として添加した場合にも、焼成後の絶
縁膜中に残存しないで吸光剤による絶縁膜特性の低下を
少なくできるので好ましい。これらの中でもアゾ系、ベ
ンゾフェノン系染料、ベーシックブルー、２−エチルヘ
キシル−２−シアノ−３および３−ジフェニルアクリレ
ートが好ましい。

【００８６】有機染料の添加量はガラス粉末に対して
０．０５〜１重量部が好ましい。０．０５重量％以下で
は紫外線吸光剤の添加効果が減少し、１重量％を越える
と焼成後の絶縁膜特性が低下するので好ましくない。よ
り好ましくは０．０５〜０．１２重量％である。

【００８７】有機染料からなる紫外線吸光剤の添加方法
の一例を上げると、有機染料を予め有機溶媒に溶解した
溶液を作製し、それをペースト作製時に混練する方法以
外に、該有機溶媒中にガラス微粒子を混合後、乾燥する
方法があげられる。この方法によってガラス微粒子の個
々の粒子表面に有機の膜をコートしたいわゆるカプセル
状の微粒子が作製できる。

【００８８】増感剤は、感度を向上させるために添加さ
れる。増感剤の具体例としては、２，４−ジエチルチオ
キサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビ
ス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、
２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）シクロヘ
キサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザ
ル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、
４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、
４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビ
ス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシ
ンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリ
デンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビ
ニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−
ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニ
ル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、
３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリ
ン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ
−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノール
アミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミ
ノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソア
ミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾー
ル、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラ
ゾールなどがあげられる。本発明ではこれらを１種また
は２種以上使用することができる。なお、増感剤の中に
は光重合開始剤としても使用できるものがある。増感剤
を本発明の感光性ペーストに添加する場合、その添加量
は感光性成分に対して通常０．０５〜１０重量％、より
好ましくは０．１〜１０重量％である。増感剤の量が少
なすぎれば光感度を向上させる効果が発揮されず、増感
剤の量が多すぎれば露光部の残存率が小さくなりすぎる
おそれがある。

【００８９】重合禁止剤は、隔壁パターン形成性向上、
保存時の熱安定性を向上させるために添加される。重合
禁止剤の具体的な例としては、ヒドロキノン、ヒドロキ
ノンのモノエステル化物、ヒドロキノンモノメチルエー
テル、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジ
ン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチル
アミン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノー
ル、クロラニール、ピロガロールなどが挙げられる。重
合禁止剤を添加する場合、その添加量は、感光性ペース
ト中に、通常、０．５〜１０重量％である。

【００９０】可塑剤の具体的な例としては、ジブチルフ
タレート、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコ
ール、グリセリンなどがあげられる。

【００９１】感光性ペーストの粘度を調整したい場合、
有機溶媒を加えてもよい。このとき使用される有機溶媒
としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチ
ルセロソルブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセ
トン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチ
ルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロ
フラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクト
ン、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼ
ン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香
酸などやこれらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混
合物が用いられる。また、誘電体層用ペースト中にラ
ジカル重合性モノマーおよびラジカル重合開始剤を添加
することによって、熱重合性のペーストを得ることがで
きる。ペーストを塗布後に加熱して架橋構造を得ること
ができる。この場合は、ラジカル重合性モノマーの具体
的な例としては、エチレン、スチレン、ブタジエン、塩
化ビニル、酢酸ビニル、アクリル酸、アクリル酸メチ
ル、メチルビニルケトン、アクリルアミド、アクリロニ
トリル等がある。ラジカル開始剤としては、過酸化ベン
ゾイル、過酸化ラウロイル、過硫酸カリウム、アゾビス
イソブチロニトリル、過酸化ベンゾイル−ジメチルアニ
リン等があげられる。

【００９２】次に、本発明のＰＤＰ用基板の作製工程の
例を述べる。ただし、本発明は、これに限定されるもの
ではない。

【００９３】本発明のＰＤＰ用基板に用いるペースト
は、上記の無機および有機の各種成分を所定の組成とな
るように調合した後、３本ローラーや混練機で均質に混
合分散し作製する。

【００９４】次に、本発明の第二の発明であるＰＤＰ基
板の製造方法について述べる。本発明のＰＤＰ基板の製
造方法は、まずガラス基板上に形成した電極の凹凸を減
らすため、誘電体層Ａが形成される。誘電体層Ａは、基
板上に誘電体層Ａ用ペーストを塗布または積層し、該ペ
ーストを所望の乾燥条件により乾燥、焼成することによ
り形成される。本発明では、前記誘電体層Ａ上に誘電体
層Ｂを塗布し、形成後、さらにその塗布膜上に隔壁用ペ
ーストにより隔壁パターンを形成させ、誘電体層Ｂと隔
壁パターンを同時に焼成するものである。

【００９５】本発明で前記隔壁パターンは、感光性ペー
スト法により形成することが好ましい。ここでいう感光
性ペースト法とは、いわゆるフォトリソ法であり、前記
誘電体Ｂ上に前述した感光性の隔壁用ペーストを塗布ま
たは積層し、乾燥後所望のパターンのフォトマスクを介
して紫外線などの硬化エネルギー線を露光し、未硬化部
分を現像液により溶解除去することによってパターンを
得る方法である。

【００９６】感光性ペースト法によって形成した隔壁パ
ターンは、厚み方向に光硬化の不均一による歪み応力が
生じやすいため、焼成の際に剥がれが生じやすい。隔壁
の剥がれが生じると剥がれた箇所で色の混色が起こり、
また剥がれた隔壁がパネル上に残り画素をつぶしてしま
い歩留まりが低下する。これを抑制するために、隔壁パ
ターンを未焼成の誘電体層Ｂ上で形成し、該隔壁パター
ンとを同時に焼成することにより、はがれが抑制され、
歩留まりが向上する。

【００９７】本発明のＰＤＰ用基板の製造方法に用いる
ペーストは、上記の無機および有機の各種成分を所定の
組成となるように調合した後、３本ローラや混練機で均
質に混合分散し作製する。

【００９８】ペーストの粘度は無機微粒子、増粘剤、有
機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの添加割合によっ
て適宜調整されるが、その範囲は２０００〜２０万ｃｐ
ｓ（センチ・ポイズ）である。例えばガラス基板への塗
布をスクリーン印刷法以外にスピンコート法で行う場合
は、２００〜５０００ｃｐｓが好ましい。スクリーン印
刷法で１回塗布して膜厚１０〜２０μｍを得るには、４
０００〜２０万ｃｐｓが好ましい。電極を形成したガラ
ス基板の上に、誘電体層Ａ用ペーストを５〜２０μｍの
厚みで塗布する。

【００９９】ここでペーストを基板上に塗布する場合、
基板と塗布膜との密着性を高めるために基板の表面処理
を行うことができる。表面処理液としてはシランカップ
リング剤、例えばビニルトリクロロシラン、ビニルトリ
メトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、トリス−
（２−メトキシエトキシ）ビニルシラン、γ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタクリロキ
シプロピル）トリメトキシシラン、γ（２−アミノエチ
ル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ランなどあるいは有機金属例えば有機チタン、有機アル
ミニウム、有機ジルコニウムなどである。シランカップ
リング剤あるいは有機金属を有機溶媒、例えばエチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル、メチルアルコール、エチルアルコー
ル、プロピルアルコール、ブチルアルコールなどで０．
１〜５％の濃度に希釈したものを用いる。次にこの表面
処理液をスピナーなどで基板上に均一に塗布した後に８
０〜１４０℃で１０〜６０分間乾燥することによって表
面処理ができる。

【０１００】誘電体層Ａ用ペーストの塗布の後、ペース
ト中の溶媒を除去するため乾燥を行う。次に、誘電体層
用ペースト中に、光もしくは熱重合性の成分が含まれる
際は、光または加熱により硬化し、隔壁パターン形成の
際の現像液による浸食を防ぐ。形成した誘電体層Ｂ上
に隔壁パターンを塗布する。この場合、直接感光性ペー
ストを全面塗布、もしくは部分的に塗布した後パターニ
ングする方法と、ポリマー製フィルムの上に感光性ペー
ストを塗布、パターニングしたものを緩衝層上に転写す
る方法がある。塗布方法としては、スクリーン印刷、バ
ーコーター、ロールコーター、ダイコーター、ブレード
コーター等の方法を用いることができる。塗布厚みは、
塗布回数、ペーストの粘度を選ぶことによって調整でき
る。

【０１０１】塗布した後、露光装置を用いて露光を行
う。露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるよう
に、フォトマスクを用いてマスク露光する方法が一般的
である。用いるマスクは、感光性有機成分の種類によっ
て、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。ま
た、フォトマスクを用いずに、赤色や青色のレーザー光
などで直接描画する方法を用いても良い。

【０１０２】露光装置としては、ステッパー露光機、プ
ロキシミティ露光機等を用いることができる。また、大
面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基板上に感
光性ペーストを塗布した後に、搬送しながら露光を行う
ことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積
を露光することができる。

【０１０３】この際使用される活性光源は、たとえば、
可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー
光などが挙げられるが、これらの中で紫外線が好まし
く、その光源としては例えば低圧水銀灯、高圧水銀灯、
超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用でき
る。これらの中でも超高圧水銀灯が好適である。露光条
件は塗布厚みによって異なるが、１〜５０ｍＷ／ｃｍ²
の出力の超高圧水銀灯を用いて０．５〜２０分間露光を
行う。

【０１０４】露光後、感光部分と非感光部分の現像液に
対する溶解度差を利用して、現像を行うが、この場合、
浸漬法、シャワー法、スプレー法で行う。

【０１０５】用いる現像液は、感光性ペースト中の有機
成分が溶解可能である有機溶媒を使用できる。また該有
機溶媒にその溶解力が失われない範囲で水を添加しても
よい。感光性ペースト中にカルボキシル基等の酸性基を
持つ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像でき
る。アルカリ水溶液として水酸化ナトリウムや炭酸ナト
リウム、水酸化カルシウム水溶液などのような金属アル
カリ水溶液を使用できるが、有機アルカリ水溶液を用い
た方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいので好まし
い。

【０１０６】有機アルカリとしては、アミン化合物を用
いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニ
ウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウム
ヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノール
アミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は通常
０．０１〜３重量％、より好ましくは０．０５〜０．５
重量％である。アルカリ濃度が低すぎると可溶部が除去
されず、アルカリ濃度が高すぎると、パターン部を剥離
させ、また非可溶部を腐食させるおそれがあり好ましく
ない。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行う
ことが工程管理上好ましい。

【０１０７】次に炉にて焼成を行う。焼成雰囲気や、温
度はペーストや基板の種類によって異なるが、空気中等
の酸化雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式
の焼成炉やベルト式もしくはローラーハース式の連続型
焼成炉を用いることができる。ガラス基板上にパターン
加工する場合は、５４０〜６００℃の温度で１０〜６０
分間保持して焼成を行う。また、以上の塗布や露光、現
像、焼成の各工程中に、乾燥、予備反応の目的で、５０
〜３００℃加熱工程を導入しても良い。

【０１０８】次に、赤、青、緑の各色を発光する蛍光体
ペーストをスクリーン印刷でパターン印刷する場合が多
く、このような場合フルカラー表示可能なＰＤＰ用の背
面基板を作製することができる。

【０１０９】本発明におけるガラス材質の光線透過率お
よび屈折率測定は、感光性ペースト法で露光する光の波
長で測定することが効果を確認する上で正確である。特
に、３５０〜６５０ｎｍの範囲の波長の光で測定するこ
とが好ましい。さらには、ｉ線（３６５ｎｍ）もしくは
ｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率測定が好ましい。光線透
過率は分光光度計、屈折率測定方法としては、エリプソ
法やＶブロック法、ベッケ法を用いることができる。

【０１１０】本発明の誘電体ペースト中に有機染料や紫
外線吸収剤を添加することによって、隔壁をパターン加
工する際に露光した場合の誘電体表面からの反射・散乱
によるパターン不良を抑制することができる。つまり、
誘電体用ペーストのｇ線における全光線透過率Ｔ１と隔
壁用感光性ペーストの全光線透過率Ｔ２の間に、Ｔ１＜
Ｔ２の関係が成り立つ場合には、隔壁パターンが良好に
形成できる。用いる有機染料や紫外線吸収剤としては、
前述の化合物を用いることができる。

【０１１１】

【実施例】以下に、本発明を実施例を用いて具体的に説
明するが、本発明はこれに限定はされるものではない。

【０１１２】実施例１［電極層作製］３００ｍｍ角のガラス基板（旭硝子社製
ＰＤ−２００）上に、感光性銀ペーストを用いて、ピッ
チ１５０μｍ、線幅４０μｍのストライプ状電極パター
ンを形成させ、５９０°Ｃで１５分間焼成することによ
り、厚み５μｍの電極層を得た。この電極層の焼成後の
銀、フリット含有量は、それぞれ９７重量％、３重量％
であった。

【０１１３】［誘電体ペースト作製］（１）誘電体用ペースト１セルロース系ポリマーのターピネオール溶液と、アルカ
リ金属を含まない下記の特性・組成のガラス粉末Ａを５
０重量％、ポリマー２０重量％、ターピネオール２０重
量％からなる誘電体層ペースト１（誘電体Ａペースト）
を得た。

【０１１４】ガラス粉末Ａ：組成Ｂｉ₂Ｏ₃：３８％、ＳｉＯ₂：７％、Ｂ
₂Ｏ₃：１９％、ＢａＯ：１２％、Ａｌ₂Ｏ₃：３％、
ＺｎＯ：２１％。平均粒径３．４μｍの非球状粉末。
Ｔｇ４７６℃、Ｔｓ５２５℃。熱膨張係数７７×
１０^-7／°Ｋ。ｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率１．７
５。

【０１１５】（２）誘電体用ペースト２下記に示す各溶媒およびポリマー１をそれぞれ４０％溶
液となるように混合し、攪拌しながら６０℃まで加熱
し、すべてのポリマーを均質に溶解させた。

【０１１６】ポリマー１：４０％のメタアクリル酸（Ｍ
ＡＡ）、３０％のメチルメタアクリレート（ＭＭＡ）お
よび３０％のスチレン（Ｓｔ）からなる共重合体のカル
ボキシル基に対して０．４当量のグリシジルメタアクリ
レート（ＧＭＡ）を付加反応させた重量平均分子量４３
０００、酸価９５の感光性ポリマー。

【０１１７】ついで溶液を室温まで冷却し、以下に示す
有機成分を構成する各成分を下に示す割合で加えて溶解
させ有機成分を得た。その後、この溶液を４００メッシ
ュのフィルターを用いて濾過し、有機ビヒクルを作製し
た。

【０１１８】有機染料：スダン：アゾ系有機染料（分子式Ｃ₂₄Ｈ₂₀Ｎ₄Ｏ）０．５ｇモノマー：ＴＭＰＴＡ（トリメチロールプロパントリアクリレート）１５０ｇポリマー：１５０ｇ光開始剤：チバガイギー社製イルガキュアー３６９３０ｇ増感剤：２，４−ジエチルチオキサントン３０ｇ増感助剤：ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル２０ｇ可塑剤：ジブチルフタレート（ＤＢＰ）５０ｇ溶媒：γ−ブチロラクトン３００ｇ上記ポリマー溶液に前記組成のガラス粉末Ａ６０ｇ、フ
ィラーとして酸化チタン（石原産業製、ＴＲ−５０）を
６ｇからなる誘電体用ペースト２（誘電体Ｂペースト）
を得た。

【０１１９】［誘電体層作製］前記電極層上に、誘電体
用ペースト１を、スクリーン印刷により印刷し、８０℃
で３０分間乾燥することで、厚み２０μｍの塗布膜を形
成した。次いで該塗布膜を、５７０℃、１５分間で焼成
することにより厚み１２μｍの誘電体層Ａを得た。この
誘電体Ａのハンター表色系Ｌａｂ値のうち、ａ値および
ｂ値をスガ試験器製ＳＭカラーコンピューターにより測
定し、その結果を表１に記した。

【０１２０】次に、誘電体用ペースト２をスクリーン印
刷により印刷し、８０℃で２０分間乾燥することによ
り、厚み１２μｍの塗布膜を得た。次いで該塗布膜を４
Ｊ／ｃｍ²の露光量で前面露光し、誘電体層Ｂ用塗布膜
を得た。なお、評価用サンプルとして下記隔壁焼成と同
一の条件で誘電体層Ｂを焼成し、このときのハンター表
色系Ｌ値を測定し、結果を表１に記した。

【０１２１】［隔壁用ペースト作製］下記に示す各溶媒
およびポリマー１をそれぞれ４０％溶液となるように混
合し、攪拌しながら６０℃まで加熱し、すべてのポリマ
ーを均質に溶解させた。

【０１２２】ポリマー１：４０％のメタアクリル酸（Ｍ
ＡＡ）、３０％のメチルメタアクリレート（ＭＭＡ）お
よび３０％のスチレン（Ｓｔ）からなる共重合体のカル
ボキシル基に対して０．４当量のグリシジルメタアクリ
レート（ＧＭＡ）を付加反応させた重量平均分子量４３
０００、酸価９５の感光性ポリマー。

【０１２３】ついで溶液を室温まで冷却し、以下に示す
有機成分を構成する各成分を下に示す割合で加えて溶解
させ有機成分を得た。その後、この溶液を４００メッシ
ュのフィルターを用いて濾過し、有機ビヒクルを作製し
た。

【０１２４】有機染料：スダン：アゾ系有機染料（分子式Ｃ₂₄Ｈ₂₀Ｎ₄Ｏ）０．５ｇモノマー：ＴＭＰＴＡ（トリメチロールプロパントリアクリレート）１５０ｇポリマー：１５０ｇ光開始剤：チバガイギー社製イルガキュアー３６９３０ｇ増感剤：２，４−ジエチルチオキサントン３０ｇ増感助剤：ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル２０ｇ可塑剤：ジブチルフタレート（ＤＢＰ）５０ｇ溶媒：γ−ブチロラクトン３００ｇ上記で得られた有機ビヒクル４０ｇに下記に示すガラス
粉末Ｃを６０ｇ添加し、３本ロールで混練することによ
り隔壁用感光性ペーストを製造した。ガラス粉末は、あ
らかじめアトラクターにて微粉末にしたものを用いた。

【０１２５】ガラス粉末Ｃ：組成Ｌ_i2Ｏ：９％、ＳｉＯ₂：２０％、Ｂ₂Ｏ₃：３
１％、ＢａＯ：４％、Ａｌ₂Ｏ₃：２４％、ＺｎＯ：２
％、ＭｇＯ：６％、ＣａＯ：４％。平均粒径２．６μ
ｍの非球状粉末。Ｔｇ（ガラス転移点）４８０℃、Ｔｓ
（軟化点）５２０℃。熱膨張係数７９×１０^-7／°
Ｋ。ｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率１．５８。

【０１２６】［隔壁層形成］前記電極／誘電体層Ａおよ
び誘電体層Ｂ用塗布膜が形成された基板上に、前記隔壁
用ペーストを３５０μｍ厚み（乾燥後厚み：１８０μ
ｍ）になるように塗布した後、８０℃で４０分乾燥後、
ピッチ１５０μｍ、線幅２０μｍのストライプ状のネガ
マスクを介して、上面から５０ｍＷ／ｃｍ²出力の超高
圧水銀灯でマスク紫外線露光した。露光量は１．５Ｊ／
ｃｍ²であった。

【０１２７】次に、３０℃に保持したモノエタノールア
ミンの０．２重量％の水溶液を８５秒間シャワーするこ
とにより現像し、その後シャワースプレーを用いて水洗
浄し、光硬化していないスペース部分を除去してストラ
イプ状の隔壁パターンを形成した。このガラス基板を、
空気中で５７０℃で３０分間焼成を行い、誘電体層Ｂお
よび隔壁を同時に形成し、プラズマディスプレイ用基板
を得た。

【０１２８】表１に誘電体層Ａ、Ｂおよび隔壁の焼成後
の厚み、隔壁形成状態を目視および光学顕微鏡により観
察した結果と、プラズマディスプレイ用基板のハンター
表色系測定結果を示した。

【０１２９】実施例２前記実施例１の誘電体用ペースト１に、酸化チタン（石
原産業製ＴＲ−５０）を５重量部添加した他は、同一手
法によりプラズマディスプレイ用基板を得た。結果を表
１に示す。

【０１３０】実施例３、４前記誘電体層Ａの厚みを変更（７μｍ：実施例３、１７
μｍ：実施例４）した他は同一手法によりプラズマディ
スプレイ用基板を得た。結果を表１に示す。

【０１３１】比較例１実施例１の誘電体ペースト２中の酸化チタン添加量を
０．６重量部に変更した他は同一手法によりプラズマデ
ィスプレイ用基板を得た。結果を表１に示す。

【０１３２】比較例２実施例１の誘電体用ペースト２中のガラス粉末中の酸化
チタンを除いた他は同一手法によりＰＤＰ用基板を得
た。結果を表１に示す。

【０１３３】比較例３実施例１の誘電体ペースト１用ガラスを下記組成のガラ
ス粉末Ｂ（アルカリ金属含有）に変更したほかは同一手
法によりＰＤＰ用基板を得た。結果を表１に示す。

【０１３４】ガラス粉末Ｂ：組成Ｂ_i2Ｏ₃：３８％、ＳｉＯ₂：７％、Ｂ₂Ｏ₃：
１９％、ＢａＯ：１２％、Ａｌ₂Ｏ₃：３％、ＺｎＯ：
１８％、Ｎａ₂Ｏ：３％。平均粒径３．４μｍの非球状
粉末。Ｔｇ４７６℃、Ｔｓ５２５℃。熱膨張係数
７６×１０^-7／°Ｋ。ｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率
１．７０。

【０１３５】

【表１】

【０１３６】表１に示す通り、本発明の実施例により得
たプラズマディスプレイ用基板は、白色性、外観品位の
高いものであるのに対し、比較例により得られたもの
は、白色性が低い（ハンター表色系Ｌ値が低い）、黄色
化している（ハンター表色系ｂ値が高い）などの問題が
あるものであった。

【０１３７】

【発明の効果】本発明のプラズマディスプレイパネル背
面板用基板は、表示品位が優れたＰＤＰを提供すること
ができる。さらに本発明のプラズマディスプレイパネル
の製造方法は、焼成の際の隔壁の剥がれが生じないた
め、高精細のＰＤＰを歩留まりよく製造できるようにな
る。これらのことにより、表示品位が優れた高精細のプ
ラズマディスプレイを提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＨ０１Ｊ 9/20 Ｈ０１Ｊ 9/20 Ａ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に形成した電極層の上に誘電体層Ａ
を形成した基板であって、その上に形成された誘電体層
Ｂがフィラーを含有し、該誘電体層Ａのハンター表色系
Ｌａｂのうちａ値が−３〜１０、ｂ値が−５〜１０であ
り、該誘電体層ＢがＬａｂ値のうちＬ値が５０以上であ
ることを特徴とするプラズマディスプレイ用基板。
【請求項２】前記誘電体層Ａが、ガラス転移点４５０〜
５００℃、軟化点５００〜５５０℃のガラスを主成分と
することを特徴とする請求項１に記載のプラズマディス
プレイ用基板。
【請求項３】前記誘電体層Ａに用いるガラスが酸化ビス
マスを２０〜７０重量％含むガラスであることを特徴と
する請求項２に記載のプラズマディスプレイ用基板。
【請求項４】前記誘電体層Ａがガラス転移点４５０〜５
５０℃、軟化点５００〜６００℃であるガラスを５０〜
９５重量％、フィラーを５〜５０重量％含有することを
特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ用基
板。
【請求項５】前記誘電体層Ｂが、ガラス転移点４５０〜
５５０℃、軟化点５００〜６００℃であるガラスを５０
〜９０重量％、フィラーを１０〜５０重量％含有するこ
とを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ
用基板。
【請求項６】前記誘電体層Ｂに用いるガラスが酸化ビス
マスを２０〜７０重量％含むことを特徴とする請求項５
に記載のプラズマディスプレイ用基板
【請求項７】フィラーが、酸化チタン、アルミナ、チタ
ン酸バリウム、ジルコニアからなる群から選ばれた少な
くとも一種であることを特徴とする請求項４または５に
記載のプラズマディスプレイ用基板。
【請求項８】前記誘電体層Ａおよび／または前記誘電体
層Ｂがアルカリ金属を実質的に含有しない無機材料であ
ることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプ
レイ用基板。
【請求項９】前記誘電体層Ｂ上に隔壁パターンを形成し
たことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプ
レイ用基板。
【請求項１０】請求項１〜９のいずれかに記載のプラズ
マディスプレイ用基板を用いることを特徴とするプラズ
マディスプレイ。
【請求項１１】電極が形成された基板上に、誘電体層Ａ
用ペーストを塗布後、焼成して誘電体層Ａを形成した
後、無機材料と有機成分からなり、無機材料中にガラス
を５０〜９０重量％、フィラーを１０〜５０重量％含有
する誘電体層Ｂ用ペーストを塗布して塗布膜を形成し、
次いで、無機材料と感光性有機成分からなる隔壁用ペー
ストを塗布して、フォトリソグラフィ法により隔壁パタ
ーンを形成した後、前記誘電体層Ｂ用塗布膜と隔壁パタ
ーンを同時に焼成することを特徴とするプラズマディス
プレイ基板の製造方法。
【請求項１２】前記誘電体層Ａ用ペーストおよび前記誘
電体層Ｂ用ペーストがアルカリ金属を実質的に含まない
無機材料と有機成分からなる誘電体ペーストであること
を特徴とする請求項１１に記載のプラズマディスプレイ
基板の製造方法。
【請求項１３】前記誘電体層Ｂ用ペーストが感光性誘電
体ペーストであることを特徴とする請求項１１または１
２に記載のプラズマディスプレイ基板の製造方法。
【請求項１４】前記隔壁用ペーストが、無機材料として
屈折率１．５〜１．８のガラス微粒子を含むことを特徴
とする請求項１１に記載のプラズマディスプレイ基板の
製造方法。
【請求項１５】前記隔壁ペーストに含む無機材料が、下
記組成を含むガラス微粒子材料からなることを特徴とす
る請求項１４に記載のプラズマディスプレイ基板の製造
方法。酸化リチウム２〜１０重量％酸化珪素１０〜３０重量％酸化ホウ素２０〜４０重量％酸化バリウム２〜１５重量％酸化アルミニウム１０〜２５重量％