JPH11146911A - シャント弁 - Google Patents

シャント弁

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JPH11146911A
JPH11146911A JP10199471A JP19947198A JPH11146911A JP H11146911 A JPH11146911 A JP H11146911A JP 10199471 A JP10199471 A JP 10199471A JP 19947198 A JP19947198 A JP 19947198A JP H11146911 A JPH11146911 A JP H11146911A
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    • A61M27/002—Implant devices for drainage of body fluids from one part of the body to another
    • A61M27/006—Cerebrospinal drainage; Accessories therefor, e.g. valves

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 一旦体内に埋め込めばその回転が抑制され安
定に留置され、外部からシャント弁内を流れる液体の流
れを外部から有効に調節することができるシャント弁を
提供する。 【解決手段】 髄液（ＣＳＦ）シャント弁は、弁ハウジ
ングとその弁ハウジングの幅より大体広い幅を有する略
平らな安定化部材を備える。そのシャント弁は、過剰Ｃ
ＳＦを脳から排出するように患者の頭皮の下に外科手術
で埋め込むようになっている。その安定化部材は患者の
頭蓋骨上に載置され、その安定化部材の長手軸周囲にシ
ャント弁が回らないようにするために有効である。シャ
ント弁は、その圧力で液体がシャント弁を流れる閾値圧
力を調節するための、ハウジング内に配置された圧力調
節機構を備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はシャント弁に関し、
特に水頭症用のプログラム可能シャント弁に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】様々
なタイプのカテーテルが、患者の体の異なった部位（領
域）から液体を排出するのに使用される。そのようなカ
テーテルの一つの用途が、患者の脳室に髄液（ＣＳＦ:
cerebrospinal fluid）が溜まる状態である水頭症の治
療である。ＣＳＦは心室系で生成され、静脈系で通常吸
収される。しかしながら、ＣＳＦが吸収されなければ、
ＣＳＦの量が増大して頭蓋内圧を高める。この過剰ＣＳ
Ｆにより、硬膜外圧および硬膜内圧が異常に高くなるこ
とがある。未処置のままの水頭症は、硬膜下血腫、脳組
織の圧縮、血液流の不全等の危険な症状を招くことがあ
る。
【０００３】様々なドレナージカテーテル（排液カテー
テル）あるいはシャントシステムは過剰ＣＳＦを除去
し、その液体を腹膜のような体の別の部分に排出するた
めに開発されている。過剰液体を排出することによって
高い硬膜内圧が軽減される。
【０００４】液体シャントシステムは、そのシステムを
介して液体の流量を制御あるいは調節するための弁機構
を備えるのが一般的である。例示されるシャントシステ
ムは脳室カテーテルとの間で液体が連通した弁機構を備
える。脳室カテーテルは脳室内に挿入され、腹膜カテー
テルは液体排出のための腹膜領域内に挿入される。典型
的なシャントシステムは米国特許第４，３３２，２５５
号、第４，３８７，７１５号、第４，５５１，１２８
号、第３，８８６，９４８号に記載されており、その全
てを本明細書に参考として含める。
【０００５】図１は患者の頭蓋骨１５の穴１４を通して
挿入した脳室カテーテル１２を有する従来技術シャント
システムを示している。脳室カテーテル１２は脳組織１
６を通して送り込まれ、過剰ＣＳＦが存在する脳室１８
に入る。カテーテル１２はシャント弁２０の入口端に連
結され、ドレナージカテーテル２２はシャント弁２０の
出口端に連結されている。シャント弁２０は患者の頭皮
（図示せず）の下に埋め込まれのが通常である。シャン
トシステムは、過剰ＣＳＦを脳室から体の別の部分、例
えば右心房、腹膜腔または体の他の位置に排液するよう
に動作する。
【０００６】シャントシステムは通常、液体圧力がシャ
ント弁の閾値圧力に達した時にのみ液体流を許容する。
液体の流量は弁機構での圧力に比例する。従って、圧力
が閾値圧力よりもわずかに高い場合は、流量は比較的小
さい。圧力が増大すると、それに伴ってシャントシステ
ムを通る流量が増大する。圧力が閾値圧力よりかなり高
くなると、シャントシステムの最大流量に達する。液体
流は通常、装置の全てのヒステリシスを受けて、頭骸内
圧が閾値圧力より低いレベルに低下するまで続く。
【０００７】シャントシステムを通じて液体流を許容す
る閾値圧力は、調節しなければならないことが多い。例
えば、外科医は初めは比較的低い閾値圧力を選択して液
体流を発生させる。時が経つにつれ、初めの閾値圧力は
理想的でないことがある。例えば、その閾値圧力は過剰
の液体流をもたらし、望ましくない過剰ドレナージ条件
（非常に多量の液体が脳室から排液される。）を生み出
す。そのような場合は閾値圧力を増大して、過剰頭骸内
圧力と過剰ドレナージの両条件を避けるべく均衡（バラ
ンス）した流量を許容する必要性が生じる。
【０００８】水頭症シャントシステムは外科的に埋め込
まれるため、閾値圧力を調節するためにはそのシステム
を外科手術により取り出して調節し、次に外科手術で再
度埋め込む必要があることが多い。弁が正確に調節され
ない場合、あるいは患者の頭骸内圧力が時間の経過につ
れて変化する場合には、弁を再度調節、すなわち、外科
的に取り出して再度埋め込まなければならない。
【０００９】その装置を取り出すことなく閾値圧力を調
節できる従来技術弁の一つが米国特許第４，６１５，６
９１号、第４，７７２，２５７号に記載されており、そ
の双方を本明細書に参考として含める。これらの特許
は、プログラミング装置により外部から調節可能な髄液
シャント弁を開示している。髄液シャント弁は、ロータ
（回転子）要素とステータ（固定子）要素とを有するス
テッピングモータを備える。ステータ要素は、ロータに
対して形成され配置された磁気的に軟質かつ透過性の材
料からなっている。外部のプログラミング装置が磁場を
印加し、それによりロータが中心軸の周りを回転して閾
値圧力を調節する。
【００１０】プログラミング装置は、埋め込まれたシャ
ント弁で生じる患者の頭皮の隆起部を収容するための溝
を有する表面がある。このプログラミング装置は中心軸
の周りに配置された略同一面にある複数の電磁石を有す
る。シャント弁を調節するためには、先ずそのプログラ
ミング装置を、頭皮突起部がプログラミング装置の溝内
に入るように、患者の頭に対して配置する。手術者（作
業者）は、適切な圧力調節を可能にするために、シャン
ト弁の溝内での軸方向位置を確認する。弁の正確なプロ
グラミングが行われるように、電磁石の中心軸とロータ
ーを略同軸にする必要がある。いったん適正な位置を達
成したら、プログラミング装置の電磁石を励磁して磁場
を印加して、ステッパーモータを作動させ弁機構の所定
の閾値圧力を選択する。
【００１１】しかしながら、手術者がロータ要素あるい
はステータ要素を見ることができないので、複数の軸を
適正にアラインメント（軸合わせ）するのは困難であ
る。この困難性は、電磁石に対してこれらの要素のサイ
ズが小さいことによって更に大きくなる。外部プログラ
ミング装置はある程度の軸のミスアラインメント（軸合
わせ不良）は許容できるが、ミスアラインメントの程度
が増大するにつれて装置の信頼性が低下する。
【００１２】ミスアラインメント（軸合わせ不良）は患
者の頭皮下のシャント弁の回転によっても生じることが
ある。外部プログラミング装置はシャントシステムの上
面に隣接して置かなければならないが、シャントシステ
ムが回転し、あるいは転がると、シャントシステムのミ
スアラインメントが発生し、外部からの調節が困難ない
しは不可能になる。
【００１３】シャント弁は角が丸くなった略方形ハウジ
ングに配置されるのが普通である。シャント弁は、高さ
と幅に関して略単位量のアスペクト比を有し、それによ
り幾分弁が転がり易くなっている。シャント弁は略円形
のシリコーンハウジング内にも収容することができる
が、弁の転がり（回転）にさらに寄与し、回転不安定性
をさらに生ずる。従って、シャント弁およびステッパー
モータのロータは、プログラム可能位置（ここではロー
タ軸は弁が位置する頭蓋骨の一部分に垂直である。）か
ら容易に移動し得る。十分な衝撃等のある一定条件下で
は、弁が４５°以上回転し、そのために、プログラミン
グ装置が役に立たなくなり、圧力調節を行なうために弁
を外科手術で取り出すことが必要となる。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明は、患者の体の一
部分から別の部分へ液体を排液するのに有用な、外科手
術により埋込み可能なシャントシステムを提供するもの
である。一つの実施形態では、本装置は過剰な髄液（Ｃ
ＳＦ）を排液（ドレーン）するために頭蓋骨内に埋込み
可能なシャントシステムである。この装置は主にＣＳＦ
シャント弁として説明され図示されるが、本装置が他の
タイプの埋込み可能弁システムにも同様に使用できるこ
とが理解される。
【００１５】本発明に係るシャント弁は、上部と底部お
よびハウジング幅を規定する側壁を有するハウジングを
備えている。このハウジングは、この装置を液体流が通
ることができるようにする入口開口と出口開口を備えて
いる。液体の流量を調節することができる弁要素あるい
はそれと同様の機構がハウジング内に配置されている。
弁要素は、その圧力を超えたら液体が弁を通じて流れる
ことができる閾値圧力を外部から調節できるようになっ
ているのが好ましい。一つの実施形態では、弁要素は、
外部からの刺激、特に磁場を印加する外部プログラミン
グ装置によって作動することができるステッパーモータ
を有する。このプログラミング装置により、弁の閾値圧
力を使用者が調節することができる。その閾値圧力を越
えると液体が弁を通じて流れ、シャントシステムによる
髄液（ＣＳＦ）を排液と可能になる。但し、弁要素に対
するプログラミング装置の相対的な位置は、そのプログ
ラミング装置がステッパーモータを作動させる向きに磁
場を印加することができるものでなければなければなら
ない。
【００１６】本発明のシャント弁システムはさらに、ハ
ウジングの底部と一体の、あるいはハウジングの底部に
取り付けられた安定化部材を備えている。この安定化部
材は患者の頭蓋骨の上に、あるいはその頭蓋骨近くに配
置するために適合した略平らな底面を有する。安定化部
材の略平らな底面はハウジングの幅を越えて延出して、
回転安定性を増大させ、頭蓋骨に対する本装置の回転
（転がり）を防止する。安定化部材は、頭蓋骨に対する
シャント弁の回転防止に役立ち、それにより外科手術で
取り出すことなく、外部プログラミング装置がシャント
弁の閾値圧力を効果的に調節できるようにする。本発明
は添付図面に基づいて行なわれた以下の詳細な説明から
十分に理解されよう。
【００１７】
【発明の実施の形態】図２（Ａ）〜図２（Ｂ）および図
３（Ａ）〜図３（Ｂ）は、従来技術に係る外部プログラ
ム可能シャント弁システム５０および閾値圧力を調節す
るための外部プログラミング装置（プログラマ）５２を
示す。その閾値圧力で、液体がプログラミング装置５２
を通じて流れ始める。シャント弁システム５０は患者の
頭皮の下に外科手術で埋め込まれるのが普通である。プ
ログラマ５２は、閾値圧力を選択するための制御装置５
４と、埋め込まれたシャント弁により生じた頭皮隆起部
の上方に配置されるプログラミング要素５６を備えてい
る。シャント弁５０は、プログラミング要素５６により
印加された磁場によって作動し、シャント弁の閾値圧力
を調節するステッパーモータ５８を備える。
【００１８】シャント弁５０は、入口開口６４と出口開
口６６とを備えたチャンバー６２を構成する弁本体６０
を有している。入口開口６４の液体圧力が所定の閾値を
越えると、入口開口６４と出口開口６６を介してシャン
ト弁を通じて液体が流れ始める。支持プレート６８が弁
本体６０内に配置されており、弁シート７２を設けた一
端に孔（アパーチャ）７０を有する。ボール７４は弁シ
ート７２とのシール係合のために適合している。液体が
流れるのを防止するために、ばね７８の第１端部７６は
弁シート７２に対してボール７４を押し付けている（バ
イアスしている）。ばね７８の押し付け力は、第２端部
８０のばねの垂直方向の位置を変えることにより調節可
能であり、その垂直位置はカム８２により調節すること
ができる。カム８２はプレート６８に対して垂直位置を
変える複数の段差（ステップ）を備えている。各段差
は、ばね７８を介してボール７４に不連続な圧力をかけ
る。このばね７８によってかけられる押し付け力が、ボ
ール７４を弁シート７２から離してチャンバー６２内へ
の液体流を可能にするために克服しなければならない閾
値圧力を決定する。
【００１９】カム８２は、極性が交互した複数の永久磁
極を備えたロータ８４内の中央に位置する穴に配置され
ている。ある角度の位置では、上側に露出した極は他方
の側では反対極を有する。ロータ８４の下には、４個の
ステータ要素が１個のステータ部材８６に固定されてい
る。ステータ要素は磁気的に軟質かつ透過性の材料から
作られている。ステータ要素はロータ８４の要素の形状
に合致した形状になっている。
【００２０】患者の頭皮の下にシャント弁５０を外科手
術で埋め込んだ後、プログラマ５２を使用することによ
って閾値圧力を調節することができる。このプログラマ
５２のプログラミング要素５６は、埋め込んだシャント
弁により生じた頭皮の突起部分の形状に合致した溝９２
を有するハウジング９０を備えている。手術者は、頭皮
の隆起部分が溝９２内にあるようにプログラミング要素
５６を操作する。その後、中心軸の周りに配置された一
連の電磁石９４が逐次励磁されて、ステッパーモータに
パルス磁場を印加し、ロータを回転させる。これによ
り、カム８２が回転し、ばねの第１端部７６によってボ
ール７４にかけた圧力が調節される。このようにして、
シャント弁の閾値圧力が調節される。
【００２１】一連の電磁石９４の中心軸がロータ８４の
回転によって構成される中心軸と同軸であることが理想
的である。これらの軸の正確なアラインメント（軸合わ
せ）は必要でなく、プログラマ５２はある程度のミスア
ラインメント（軸合わせ不良）を耐えられる。しかしな
がら、ミスアラインメントの程度が増大すると、プログ
ラマ５２の精度と信頼性が低下する。さらに、埋め込ん
だシャント弁がその長手軸Ｘの周りでかなりの角度、例
えば約４５°を越える角度回転すれば、シャント弁をプ
ログラムすることは不可能となる。
【００２２】図３（Ａ）に示すように、シャント弁５０
は、角が丸くなった略方形断面をもった弁本体６０と、
頭皮に対して配置するのに適合した非平面の下面９６と
を有する。この形状によってシャント弁５０を略円形の
シリコーンハウジング９８内に挿入し易くなる。しかし
ながら、弁本体６０の幾何学的形状は幾分不安定であ
り、シャント弁５０はその長手軸Ｘの周りを回転し易
い。シャント弁の回転は自発的に生じることもあるし、
シャント弁５０にかけられた衝撃あるいは力によって生
じることもある。この回転し易い傾向は、弁本体の角を
丸くする、シャント弁５０を取り巻く略円形シリコーン
ハウジング９８によりさらに大きくなる。
【００２３】図４は本発明によるシャント弁１００を示
す。シャント弁１００はハウジングあるいは弁本体１０
２と、この弁本体に結合された別個の略平らな安定化部
材１０４とを備えている。弁本体１０２には出口開口
（アパーチャ）１０８と入口開口（アパーチャ）１１０
が形成されている。シャント弁を通る液体流を調節する
ための要素、例えば弁１０６が、本装置を通る液体の流
量を調節するために弁本体内に配置される。典型的な実
施形態では、弁１０６は、固定ステータと、カム１１４
を回すためのロータとを有するステッパーモータ１１２
を備え、ばね１１６の垂直高さを調節し、それによりボ
ール１１８を弁シート１２０内に押し付ける閾値圧力を
調節する。
【００２４】図５（Ａ）〜図５（Ｂ）および図６は、シ
ャント弁１００をさらに詳細に示すものである。ハウジ
ングあるいは弁本体１０２は、上面１０２ａと、第１幅
Ｗ１を規定する側壁１０２ｂを備えている。シャント弁
１００はその長手軸Ｘに対して長さＬを有する。安定化
部材１０４は厚さＴを有し、ハウジング１０２の幅Ｗ１
よりも実質的に大きな第２幅Ｗ２を有する下面１２４を
備えている。従って、安定化部材１０４は弁本体から横
に延出し、シャント弁１００の高さ／幅のアスペクト比
を小さくする。このデザインは、本質的な回転安定性を
有し、シャント弁１００をより信頼できるものにすると
共に、より簡単かつ高精度に外部からプログラム可能に
する。
【００２５】弁本体１０２の幅Ｗ１は約０．２０ないし
約１．００インチの範囲とすることができる。Ｗ１の寸
法は約０．２５インチであるのがより好ましい。安定化
部材１０４の幅（Ｗ２）はＷ１の寸法よりも約０．０６
ないし約０．４０インチ大きいことが好ましい。安定化
部材１０４の幅（Ｗ２）はＷ１よりも約０．１０ないし
約０．２０インチ大きいことがより好ましい。ハウジン
グ１０２が安定化部材１０４上の中央に位置する実施形
態では、安定化部材はハウジング１０２の側壁１０２ｂ
から約０．０５５ないし０．０６０インチ延出するのが
好ましい。当業者はハウジング１０２の寸法が変更可能
であり、そのようなハウジング寸法の変更が安定化部材
１０４の幅に影響を与えることがわかるだろう。一般的
には、シャント弁１００の高さ／幅のアスペクト比を約
０．２０ないし約０．３５の範囲内に維持して所望の回
転安定性を達成すべきである。
【００２６】図４〜図６の実施形態では、安定化部材１
０４はハウジング１０２の底１０２ｃに結合された別個
の要素である。この安定化部材１０４は、生体適合性が
あり、かつ、弁本体と安定化部材に適合した適切な接着
剤で結合することができる。その接着剤は永久的かつ強
力なものでなければならず、しかも安定化部材が撓んで
頭蓋骨の輪郭と合致できるようにするものでなければな
らない。典型的な接着剤にはダウコーニング社の医療用
接着剤「Ａ」のようなシリコーン接着剤またはこれに類
する材料がある。結合は、圧縮、未硬化シリコーンの熱
硬化等の他の技術で行なうこともできる。
【００２７】図７は図５（Ａ）〜図５（Ｂ）および図６
のシャント弁の別の実施形態であり、この実施形態で
は、ハウジングの長さに跨ると共にハウジングの一方の
側壁１０２ｂから他方の側壁まで延在する底面１０２ｃ
を有するハウジング１０２’を備えている。ハウジング
の底面１０２ｃは上記のように安定化部材１０４に接着
剤により結合することができる。この底面１０２ｃの厚
さＴ１は、約０．０２０ないし約０．０４０インチの範
囲、好ましくは約０．０３０インチとすることができ
る。
【００２８】シャント弁の長さは特定の装置の要求に応
じて変更することができる。しかしながら、一般的には
その長さは約０．５インチないし約３．０インチの範囲
にある。典型的な実施形態では、弁本体の長さＬは約
０．９０インチである。
【００２９】安定化部材の厚さＴは所定の用途の要求に
応じて変えることができる。この厚さＴはシャント弁１
００の剛性に影響する。従って、その厚さＴは安定化部
材が患者の頭皮の湾曲と合致しなくなる程大きくてはな
らない。一般的には、厚さＴは約０．０１５ないし約
０．０４０インチの範囲にあり、約０．０２０インチが
より好ましい。
【００３０】安定化部材１０４と弁本体１０２は体内に
長期間又は永久的な埋め込みに適切な様々な生体適合性
のある材料から作ることができる。これらの部材は同じ
材料から作ることができるが、同じ材料から作る必要は
ない。この適切な材料は、安定化部材が頭皮の湾曲に合
致できるように半剛性であるのが好ましい。但し、その
材料は長手軸Ｘを横断する軸の方向に安定化部材が曲が
る程フレキシブルであってはならない。典型的な材料と
しては、ポリウレタン、シリコーン、ポリエチレン、ポ
リプロピレンなどのポリマー、チタン、チタン合金、ス
テンレス鋼などの金属がある。好ましい材料はダウコー
ニング社あるいはヌシルシリコーンテクノロジー（Nusi
l Silicone Technology)社製の医療品シリコーンであ
る。
【００３１】ハウジング１０２は丸い上面と対向する両
側壁を有するものとして示してあるが、当業者は他の形
状（断面形状）も可能であることがわかる。例えば、ハ
ウジングは半円形、三角形その他の対称あるいは非対称
な断面を形成するものであってもよい。
【００３２】上述のように、シャント弁１００の小さな
高さ／幅アスペクト比が長手軸Ｘの周りの装置の回転に
抵抗する。安定化部材１０４の幅によりシャント弁の回
転が防止され、シャント弁が好ましい向きで患者の頭皮
に留置できることが理想的である。シャント弁を所望の
埋め込んだ向きに保持することによって、弁機構はプロ
グラム可能な位置に留まる。そのため弁を外科手術によ
り取り出して閾値圧力を調節することが必要となる可能
性は少なくなる。
【００３３】外科医あるいは他の医療専門家はシャント
弁によって生じた頭皮の隆起部分の触診によってシャン
ト弁１００の相対位置を確認することができる。そのよ
うな触診は安定化部材１０４が患者の頭蓋骨に対して留
置されており、弁が有意の程度まで回転していないこと
を確かめるのに役立つ。弁機構はまた、弁が回転したか
どうかを判断するためにＸ線で確認することもできる。
通常の正確な弁の位置は最新のＸ線写真を対照にして与
えられる。
【００３４】図５（Ａ）〜図５（Ｂ）は接着剤シールバ
ンド１２５を有するシャント弁を示す。このシールはシ
リコーンハウジング内で弁機構周囲の流れをどちらの方
向でも防止する。
【００３５】図５（Ａ）〜図５（Ｂ）に示したように、
シャント弁１００は、入口開口１１０と出口開口１０８
の位置でチューブに連結して、体の一つの場所から別の
場所に液体流を収容することができる。例えば、入口チ
ューブ１０９を入口開口１１０に連結して、ＣＳＦを脳
室カテーテルからシャント弁に分流する。出口チューブ
１１１を出口開口１０８に連結して、シャント弁から体
の別の場所へのＣＳＦ排出導管とする。
【００３６】別の実施形態（図示せず）では、シャント
弁全体を略円形のシリコーンハウジング内に挿入する。
この実施形態では、チューブを通る全ての液体流が入口
開口１１０と出口開口１０８を介してシャント弁１００
を通らなければならないようにシャント弁がチューブを
遮る。
【００３７】図８、図９（Ａ）〜図９（Ｂ）および図１
０（Ａ）は本発明による液体シャント弁２００の別の実
施形態を示す。このシャント弁２００は、略平らな安定
化底面２０６をもった安定化部分２０４を有する弁ハウ
ジング２０２を備えている。安定化部分２０４は弁ハウ
ジング２０２と一体形成されている。弁機構２０８は弁
ハウジング２０２内に配置され、シャント弁を通じて液
体流が流れ始めるのに必要な閾値圧力を設定する。弁機
構２０８は上述のように、閾値圧力を調節するために外
部から印加された磁場により作動可能なステッパーモー
タ２１０を備えたタイプとすることができる。
【００３８】弁ハウジング２０２は上部ハウジング２１
２と一体接合している安定化部分２０４を有する。上部
ハウジング２１２は上壁２０２ａと、対向する両側壁２
０２ｂを備える。
【００３９】上部２１２の幅Ｗ１は安定化部分２０４の
幅Ｗ２よりも狭い。Ｗ２の寸法は、一般的にはＷ１より
も約０．０６ないし約０．４０インチ大きく、Ｗ１より
も約０．０６ないし約０．２０インチ大きいのが好まし
い。典型的な実施形態では、Ｗ２は約０．３０インチ
で、Ｗ１は約０．２４インチであり、安定化部分２０４
は弁ハウジング２０２の両側壁２０２ｂから全体で約
０．０６インチ延出している。一つの実施形態では、上
部２１２は安定化部分２０４上の中央に配置されてお
り、安定化部分２０４は弁本体２０２の各側面から約
０．０３インチ延出している。上部２１２および／又は
安定化部分２０４の幅はシャント弁の長さに対して略一
定でよく、あるいはこの寸法は可変であってもよい。
【００４０】シャント弁の長さは約０．５０インチない
し約１．５０インチの範囲内とすることができる。シャ
ント弁の安定化部分２０４は約０．０２ないし０．０４
インチ変えられる厚さＴを有する。典型的な実施形態で
は、シャント弁の長さは約０．７０インチであり、安定
化部分２９４の厚さＴは約０．０３インチである。
【００４１】図１０（Ｂ）と図１１（Ｂ）は、弁機構３
０２と、液体をシャント弁の下流にポンプするポンプチ
ャンバー３０４とを有するシャント弁アセンブリ３００
の別の実施形態を示すものである。ポンプチャンバー３
０４は、その上に配置されているアセンブリのフレキシ
ブル部分３０６に圧力をかけることによって作動する。
例示の実施形態では、ポンプチャンバー３０４は弁機構
３０２の出口開口３０８に隣接して配置される。
【００４２】シャント弁アセンブリ３００はハウジング
３１０を備え、そのハウジング３１０の中に弁機構３０
２および／又はポンプチャンバー３０４が配置されるて
いる。このアセンブリ３００はさらに、略平らな安定化
部材３１２を有する。上記のように、安定化部材３１２
は、ハウジング３１０に結合される別個の部材とする
か、あるいはハウジング３１０と一体形成することがで
きる。安定化部材３１２は、安定化部材１０４，２０４
に関して上述した特性を有する。すなわち、安定化部材
３１２の幅は、患者の頭皮の下にアセンブリ３００を埋
め込んだ後にそのアセンブリ３００が回らないようにす
るため、弁ハウジング３１０よりも実質的に大きい。典
型的な実施形態では、安定化部材３１２の幅は、弁ハウ
ジング３１０の幅よりも約０．０５ないし約０．２０イ
ンチだけ大きい。
【００４３】図１１（Ｂ）と図１２は、針を注入領域４
０２内に保持するために、針貫通不能ストッパー４０４
を備えた注入領域４０２を有するシャント弁アセンブリ
４００を示す。典型的な実施形態では、注入領域４０４
はアセンブリの入口開口４０６と液体が連通するように
配置されている。頭皮を通して、次に注入領域４０２の
壁４０８を通して注射器を挿入して、薬や他の液体を注
入領域４０２に注入することができる。注入領域４０２
はまた、液体サンプルを採取する際の採取源にもなる。
針ストッパー４０４は注射器が注入領域からアセンブリ
の底を貫通しないようにするために有効である。
【００４４】典型的な実施形態では、針ストッパー４０
４は、生体適合性があり耐貫通性のあるチタン、ステン
レス鋼、チタン合金、またはその他の適切な材料から作
られる。
【００４５】シャント弁アセンブリ４００は、ハウジン
グ４１０と、そのハウジング４１０に一体のあるいは上
述のようにハウジングに別個に結合された略平らな安定
化部材４１２とを備えている。上述のタイプの弁機構４
１４がハウジング４１０内に配置される。弁４１４は閾
値圧力を与え、その閾値圧力を超えると液体が本装置か
ら流れる。弁機構４１４は外部から印加した磁場により
作動するステッパーモータを備えることができる。さら
に、シャント弁アセンブリ４００は必要に応じて、図１
０（Ｂ）と図１１（Ａ）に関して説明したようなアセン
ブリの出口開口４１８に配置されたポンプチャンバー４
１６を備えることができる。
【００４６】安定化部材４１２の特性と寸法は、図４〜
図１１（Ａ）に関して説明したのと同様である。安定化
部材の幅は、埋め込み後にアセンブリ４００の回転を防
止するためにハウジングの幅を十分に超える必要がある
ことが理解される。
【００４７】以上の説明は本発明の原理を例示したに過
ぎず、様々な置換と変形を、本発明の範囲と趣旨から逸
脱することなく当業者が行なうことができることが理解
されよう。引用した文献の全てをそのまま参考として特
に本明細書に含める。
【００４８】なお、本願発明の具体的な実施態様は以下
の通りである。 （１） 前記略平らな底面の幅は前記ハウジングの幅よ
りも少なくとも０．０３インチ延出する請求項１記載の
シャント弁。 （２） 前記略平らな底面の幅は前記ハウジングの幅よ
りも約０．０３ないし約０．２０インチの範囲で延出す
る請求項１記載のシャント弁。 （３） 前記安定化部材は、前記略平らな底面が前記ハ
ウジングの両側に略等しく延出するように前記ハウジン
グの長手軸の中央に配置される請求項１に記載のシャン
ト弁。 （４） 前記調節するための手段は、その圧力を超えた
ら液体が前記入口開口から前記出口開口まで流れるとこ
ろの所定の閾値圧力を選択するように調節される請求項
１記載のシャント弁。 （５） 前記調節するための手段はステッパーモータで
あり、そのモータの所定の閾値圧力は外部から印加した
電磁場により選択可能である上記実施態様（４）記載の
シャント弁。
【００４９】（６） 前記安定化部材は、前記ハウジン
グに結合される別個の部材である請求項１記載のシャン
ト弁。 （７） 前記安定化部材は前記ハウジングと一体形成さ
れる請求項１記載のシャント弁。 （８） 前記安定化部材は半剛性であり、頭蓋骨の面に
略合致するように適合した請求項１記載のシャント弁。 （９） 前記第２幅は前記第１幅よりも約０．０３イン
チより大きな量だけ大きい請求項２記載のシャント弁。 （１０） 前記第２幅は第１幅よりも０．０３ないし
０．２０インチの範囲の量だけ大きい請求項２記載のシ
ャント弁。 （１１） 前記ハウジングの上部は前記ハウジングの安
定化面に対して略中央に配置されている実施態様（１
０）記載のシャント弁。 （１２） 前記弁機構の前記所定の閾値圧力は、外部か
ら印加した磁場により外部から調節可能である請求項２
に記載のシャント弁。
【００５０】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によるシャン
ト弁は、頭蓋骨に対するシャント弁の回転防止に有効な
安定化部材を備えているので、一旦体内に埋め込めば外
科手術で再度取り出すことを必要としないで、外部プロ
グラミング装置によりシャント弁の閾値圧力を効果的に
調節することができる。したがって、シャント弁を一旦
体内に埋め込めば、その回転が抑制され安定に留置され
て、シャント弁内を流れる液体の流れを外部から有効に
調節することができ、水頭症等の治療に非常に有効であ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来技術の脳室カテーテルを絵で示す図であ
る。
【図２】（Ａ）は従来技術の外部からプログラム可能な
シャント弁の側面断面図であり、（Ｂ）は図２（Ａ）の
従来技術シャント弁をプログラムする従来技術のプログ
ラマーの斜視図である。
【図３】（Ａ）は図２（Ａ）のライン３（Ａ）−３
（Ａ）から見た従来技術シャント弁の断面図であり、
（Ｂ）は略円形シリコーンハウジング内に挿入した状態
を示す図２（Ａ）の従来技術シャント弁の斜視図であ
る。
【図４】本発明によるシャント弁を切断して示す斜視図
である。
【図５】（Ａ）は図４のシャント弁の側面断面図であ
り、（Ｂ）は図４のライン５（Ｂ）−５（Ｂ）から見た
シャント弁の上面側面図である。
【図６】図４のシャント弁の端面図である。
【図７】図４のシャント弁の別の実施形態の端面図であ
る。
【図８】本発明によるシャント弁の別の実施形態の斜視
図である。
【図９】（Ａ）は図８のライン９（Ａ）−９（Ａ）から
見たシャント弁の側面断面図であり、（Ｂ）は図８のラ
イン９（Ｂ）−９（Ｂ）から見たシャント弁の上面断面
図である。
【図１０】（Ａ）は図８のシャント弁のハウジングの端
面図であり、（Ｂ）は本発明によるシャント弁の別の実
施形態の斜視図である。
【図１１】（Ａ）は図１０（Ｂ）のライン１１（Ａ）−
１１（Ａ）から見たシャント弁の上面断面図であり、
（Ｂ）は本発明によるシャント弁のさらに別の実施形態
の斜視図である。
【図１２】図１１（Ｂ）のライン１２−１２から見たシ
ャント弁の側面断面図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ブペンドラ・シー・ペイテル アメリカ合衆国、02048 マサチューセッ ツ州、マンスフィールド、ダウン・レーン ２ (72)発明者 ロバート・ダブリュ・パイク アメリカ合衆国、02050 マサチューセッ ツ州、マーシュフィールド、シグナル・ヒ ル・ロード 14

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 患者の体内のある場所からその体内の別
    の場所への液体の流れを調節するための生体適合性シャ
    ント弁であって、 上面と底面およびハウジング幅を規定する側壁を有する
    とともに、入口開口と出口開口を有する、生体埋込可能
    材料で作られたハウジングと、 上記ハウジング内に配置され、外部からの刺激に反応し
    て調節可能な、上記シャント弁を通る液体の流量を調節
    するための手段と、 上記ハウジングに固定され、上記ハウジングの底面に隣
    接する第１面と、患者の頭蓋骨に対して配置するために
    適合した略平らな底面とを有する安定化部材であって、
    上記略平らな底面の幅は、頭蓋骨に接触している安定化
    部材を保持して、その安定化部材の長手軸の周りで上記
    ハウジングが回転するのを防止するように、上記ハウジ
    ング幅よりも大きい安定化部材とを備えたシャント弁。
  2. 【請求項２】 患者の頭蓋骨上の皮下に埋込み可能なシ
    ャント弁であって、 第１幅を規定する上部と、この第１幅よりも大きな第２
    幅を規定する下部の略平らな安定化面とを有するハウジ
    ングであって、上記安定化面は患者の頭蓋骨上に配置す
    るために適合しており、かつ、ハウジングの長手軸の周
    りで前記シャント弁が回転するのを防止するハウジング
    と、 上記入口開口の液体圧力が所定の閾値圧力よりも大きい
    ときに、該シャント弁を通じて上記ハウジングの入口開
    口から上記ハウジングの出口開口まで液体が流れるよう
    にする、上記ハウジング内に配置された弁機構とを備え
    たシャント弁。
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