JPH11148512A - ディスク支持方法及びコンプライアント箔流体膜スラスト軸受 - Google Patents
ディスク支持方法及びコンプライアント箔流体膜スラスト軸受Info
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Abstract
ト軸受を提供すること。 【解決手段】 コンプライアント箔流体膜スラスト軸受
は、スラストディスク24と、流体箔部材40と、ばね
箔部材42と、スラストプレート28と、ハウジングス
ラスト面とを有している。スラストプレートおよび/ま
たはハウジングスラスト面上に搭載されたスラストディ
スクに隣接して配置された非回転の流体箔部材は、プロ
セス流体内に再生渦流パターンを誘起する面開放チャネ
ルを有している。複数個のばね箔部材は、共働して、流
体箔部材に対するティルティングパッド支持を提供し、
しかも、流体箔部材がスラストディスクの軸方向運動及
び転倒運動に追従することを可能とする。ティルティン
グパッドとしての下層ばね支持、及び、流体箔部材とス
ラストディスとの間のプロセス流体における周方向流体
圧力勾配との相互作用により、流体箔部材が、スラスト
軸受に加えられる負荷にかかわらず、スラストディスク
に隣接した面上に、流体力学的に効率的な凸状形状が得
られる。
Description
箔流体膜軸受に関し、特に、軸受の回転部分の移動や偏
位を支持し、位置決めし、緩衝し、調整するために複数
のフルイドホイル(以下、「流体箔」という)及び複数
のスプリングホイル(以下、「ばね箔」という)を用い
た改良されたスラスト軸受に関する。
は、現在、種々の高速ロータに利用化されている。これ
らの軸受は、一般に、両面スラストディスク回転体と、
軸方向にこの回転体を囲む非回転コンプライアント流体
箔部材と、軸方向に流体箔部材を囲む非回転コンプライ
アントばね箔部材と、軸方向にこれらの箔部材を囲みこ
れらの箔部材の取付部を提供する非回転スラストプレー
ト体ならびに非回転ハウジング材とを有している。軸受
の一面側における回転体とスラストプレート体との間の
空間及び軸受の他面側における回転体とハウジング体の
スラスト面との間の空間は、箔を取り巻く流体(通常は
空気)で満たされている。
加え、回転体の平坦面と流体箔との間に流体の周方向流
動を誘起する。回転体と流体箔との間の空間は、複数個
の流体力学的くさび形チャネルに細分される。これらの
くさび形チャネルは、通常、凸状に湾曲したコンプライ
アント箔パッドを、下側の支持箔に抵抗溶接することに
より形成される。流体の周方向流動に対して先頭側の箔
パッドの傾斜面と回転体の平坦面により、収束するくさ
び形チャネルの2つの主面が形成される。後方側の傾斜
面と回転体の平坦面により、発散するくさび形チャネル
の主面が形成される。収束するくさび形チャネルに沿っ
て周方向に流れる流体は、流路面積の減少や、周方向流
動速度の増加や、静的流体圧の増加を定常的に経験す
る。回転体が、非回転体に向かって移動すると、くさび
形チャネルの収束角度が増加し、流路に沿った流体圧上
昇(率)が増加する。回転体が離れていくと、くさび形
チャネルに沿った流体圧上昇(率)は減少する。したが
って、くさび形チャネル内の流体は、回転体に対して復
帰力を与え、この復帰力は走行クリアランスに伴って変
化して走行クリアランスを安定させ、軸受の回転体と非
回転体との接触を防ぐ。箔の屈曲と摺動により、軸受の
回転体の軸方向運動や転倒運動のクーロン減衰が起こ
る。
は、通常、低い回転速度においては、流体箔部材と物理
的に接触している。この物理的接触は、軸受の摩耗を引
き起こす。くさび形チャネル内で発生する流体力学上の
力によって回転体と非回転体との間の走行キャップが保
証されるのは、ロータ速度がリフトオフ/タッチダウン
速度と呼ばれる速度を越える時のみである。
ト箔流体膜スラスト軸受は、周方向に、収束或いは発散
する流体力学的くさび形チャネル斜路を有し、傾斜路の
傾斜面に至る放射方向の構成要素をもたない。収束する
くさび形チャネル斜路は、内側及び外側の縁部におい
て、流体がチャネルの外へ流れ出ることを防ぐための側
壁その他の制約をもたない。収束するくさび形チャネル
の後縁においては、流体圧が高いことおよび放射方向流
動の制約がないことにより、チャネルからの放射方向流
動漏出が起き、このことは、流体圧の減少と、軸受負荷
容量の損失と、軸受抗力の増加を招く。
軸受は、一経路再循環ループである収束くさび形チャネ
ル中に、主流体流動パターン流動を有している。回転デ
ィスクに隣接した収束くさび形チャネル内の流体は、粘
性抵抗により、ディスクの運動と同じ方向に向かって
(斜路を上る)、周方向に移動する。非回転流体箔に隣
接した収束くさび形チャネル内の流体は、チャネルに沿
った周方向圧力勾配により、ディスクの運動と反対方向
に向かって(斜路を下る)、周方向に移動する。流体の
多くは、静的圧力を獲得しながらディスクの近傍の斜路
を上り、くさび形チャネルの終点に到達する前に折り返
し、圧力を失いながら流体箔の近傍の斜路を下ってゆ
く。この流体のほとんどすべては、くさび形チャネルの
起点に到達する前に再び折り返し、再び圧力を獲得しな
がら、斜路を上ってゆく。ループ状流動パターンを繰り
返し循環する単一の経路を流れる流体は、各ループごと
に実質的に同一の経路をたどり、各ループごとに同一の
圧力増加及び圧力減少を経験し、1つのループから次の
ループへのネット圧力ゲイン(net pressur
e gain)はない。これらの軸受は、各再生ループ
を進む流れが異なる経路をたどり、各ループごとに流体
圧力のネット増加が生じるようなマルチ経路渦流パター
ンを用いた軸受に比べて、発生する流体力学的圧力が少
なく、有する負荷容量も少ない。
軸受は、非常に小さな走行クリアランスをもって作動
し、抵抗及びパワー消費は低くはなく中程度である。非
回転流体箔の収束チャネル斜路終点と回転スラストディ
スクとの間のクリアランスは、通常、作動状態において
軸受に大きな負荷がかかった状態で、100マイクロイ
ンチよりも小さい。軸受の典型的な抵抗係数は、軸受に
よってディスクに加えられる、流体力学的抵抗により誘
起される剪断力を、軸受によって支えられるスラスト負
荷で除算して得られる比率として定義され、通常、作動
速度において、0.005より大きい。
は、箔の位置/重なり(nesting)を制御し、箔
の動的安定性を確立できるように、相対的に移動可能な
回転体(スラストディスク)に対して流体箔に予荷重を
かけるために、補助(backing)ばねに頼ること
が多い。軸受の起動トルク(理想的にはゼロである)
は、このような予荷重に正比例する。これらの予荷重は
また、ディスク速度を、かなり増加させ、くさび形チャ
ネル内の流体力学的効果が強くなって軸受の回転体を持
ち上げ、軸受の非回転材との物理的接触から外してしま
う。このような予荷重及び高速のリフトオフ/タッチダ
ウンにより、ディスクが起動或いは停止するたびに、か
なりの軸受摩耗が生じる。
軸受の多くは、揺動スペースが大きく、コンプライアン
スが自由である。即ち、ばねの設計固有のばねのたわみ
公差をじゅうぶん制御できないために、軸受スラストデ
ィスクの軸方向運動や転倒運動(overturnin
g motion)を厳しく制限していない。
は、被覆され、凸状に湾曲した複数個のコンプライアン
ト流体箔パッドを用い、これらを支持箔に溶接して軸受
の流体箔部材を構成することが普通である。このような
ツーピース流体箔部材は、ワンピース流体箔部材に比べ
て厚く、膜厚制御が不十分である。ツーピース流体箔部
材は、また、各箔パッドの後縁部と周方向において隣に
位置するパッドの溶接縁部との間の流動の不連続性によ
り、プロセス流体の乱流や、作動速度における抵抗の増
加や、負荷容量の減少を経験する。
軸受には、平坦な箔片の両側に周方向にずらした凹部を
切削加工(化学的その他の方法で)して、箔材の両側に
周方向にずらした非加工部である突起部を残すようにし
て形成されたばね箔部材を用いたものもある。これらの
突起部に加えられる圧力は、ばね箔部をばねのようにた
わませる。このようにして形成されたばね箔部は、切削
深さのわずかな変動により、ばねレートに大きな変化を
おこしやすい。この切削プロセスは、先の箔圧延作業に
よって誘起される残留表面圧縮応力(residual
surface compressive stre
sses)を非対称的に緩和し、これにより、箔の反り
が引き起こされる。
conel750X箔ブランクを、整合した波状輪郭を
もつ2枚の輪郭プレートの間で、プレート間距離を一定
に保って押圧し、次いで、輪郭プレート間での押圧を続
けながら、華氏約1300度で約20時間にわたり箔ブ
ランクを熱処理することにより形成されたコンボリュー
ト型のばね箔部材を用いている。このようにして形成さ
れたばね箔は、非たわみ厚さが大きく変動しやすい。
けによりばね箔に取り付けることもある。また、種々の
ばね箔要素同士を、溶接やろう付けしてばね箔部材を形
成することもある。1つの箔要素を別の箔要素に取り付
けるために溶接やろう付けを用いたこれらのスラスト軸
受は、特に接着部位において、箔のゆがみや箔の疲労に
よる破損が起こりやすい。
ディスク速度がリフトオフ/タッチダウン速度より低い
場合の軸受の摩耗を最小限に抑えるために、低摩擦コー
ティングを用いることもできる。しかしながら、このよ
うなコーティングは、箔装入厚公差に悪い影響をおよぼ
すような大きな膜厚公差を有していることがある。
膜スラスト軸受が1996年6月25日に登録された
「コンプライアント箔流体力学的スラスト軸受」と題す
る米国特許第5529398号に記載されているが、こ
の軸受は、箔装入厚の変動を補償するための自己調整
(shimming)能力を持ち、流体箔の下に、3つ
のばね或いは支持箔を有している。
れたコンプライアント箔流体膜スラスト軸受を提供する
ことである。
容量(overturning load carry
ing capacity)を高めたコンプライアント
箔流体膜スラスト軸受を提供することである。
ーロン減衰の両方を備えたコンプライアント箔流体膜ス
ラスト軸受を提供することである。
スクロータの偏位を厳しく制限するために揺動スペース
を小さくしたコンプライアント箔流体膜スラスト軸受を
提供することである。
低くしたコンプライアント箔流体膜スラスト軸受を提供
することである。
トディスクの走行クリアランスを大きくしたコンプライ
アント箔流体膜スラスト軸受を提供することである。
は、流体箔部材に、ばね力によって、スラストディスク
に対して、予荷重を与えることのないコンプライアント
箔流体膜スラスト軸受を提供することである。
れ予荷重がない場合に、起動トルクがゼロであるコンプ
ライアント箔流体膜スラスト軸受を提供することであ
る。
してリフトオフ/タッチダウン速度が非常に低いコンプ
ライアント箔流体膜スラスト軸受を提供することであ
る。
いリフトオフ/タッチダウン速度に対応して起動及び停
止摩耗が非常に少ないコンプライアント箔流体膜スラス
ト軸受を提供することである。
(半径方向)外縁部及び放射方向(半径方向)内縁部に
おけるチャネルからの流体流動損失を制限する収束くさ
び形チャネル特性(流体箔要素の表面に形成された)を
備えたコンプライアント箔流体膜スラスト軸受を提供す
ることである。
ね力が流体箔要素に加えられる場合、放射方向に凹状の
湾曲と、ゼロ速度において周方向に平坦なスロープと、
作動速度において凸状の湾曲とを備えた複合曲面輪郭を
有する流体箔要素の表面上に収束くさび形チャネル斜行
路を設けたコンプライアント箔流体膜スラスト軸受を提
供することである。このような輪郭は、放射方向に広幅
の流体流入口と、周方向流体流動路に沿って放射方向に
狭くなったチャネル幅と、丸形の周方向後縁部を備えた
スクープ(scoops)を形成し、スクープとして機
能する。
体箔要素に隣接する「斜行路を下って」(スラストディ
スクの回転とは反対方向である公称的周方向に)進む場
合に、流体圧力損失を減少させる流体流動パターンを有
するコンプライアント箔流体膜スラスト軸受を提供する
ことである。
とに、異なった流路で再生する流体流動パターンを有す
るコンプライアント箔流体膜スラスト軸受を提供するこ
とである。
るコンプライアント箔流体膜スラスト軸受を提供するこ
とである。
化学的エッチング技術によって製造した流体流動要素ブ
ランク及びばね箔要素を備えたコンプライアント箔流体
膜スラスト軸受を提供することである。
処理をするために用いられる工程と箔ブランク及び箔要
素を形成(例えばエッチング)するために用いられる工
程により、非常に平坦な箔要素を有するコンプライアン
ト箔流体膜スラスト軸受を提供することである。
保持した箔要素を備えたコンプライアント箔流体膜スラ
スト軸受を提供することである。
あり、軸受の片面に1つづつ設けた流体箔要素である流
体箔部材を備えたコンプライアント箔流体膜スラスト軸
受を提供することである。
プレス加工することによりブランクから形成される流体
箔要素を備え、これらのジョグル部は発散くさび形チャ
ネルとして機能するとともに、徐々に収束するくさび形
チャネル斜行路が、ジョグル部間の直線接続として塑性
変形なしに得られることを可能とする、コンプライアン
ト箔流体膜スラスト軸受を提供することである。
0Xなどのニッケル鋼鉄をアニーリング処理したブラン
クを室温でプレス加工することにより形成される流体箔
要素を備えたコンプライアント箔流体膜スラスト軸受を
提供することである。
位置とともに変化する局部ばねレートを有し、ばね箔部
材の局部領域に隣接した収束くさび型チャネル内の流体
圧の変化を受容できるようにしたばね箔部材を備えたコ
ンプライアント箔流体膜スラスト軸受を提供することで
ある。
ルに沿って周方向の多数の位置において、流体箔の下側
に加えられる相対支持力を制御するティルティングパッ
ドばね支持システムを備えたコンプライアント箔流体膜
スラスト軸受を提供することである。
縁に向かって収束斜行路を上るにつれて支持/ピボット
ライン間の周方向間隔がより接近するようにしたティル
ティングパッドばね支持システムを備えたコンプライア
ント箔流体膜スラスト軸受を提供することである。
縁に向かって収束斜行路を上るにつれて支持力及び支持
ばねレートが増加するようにしたティルティングパッド
ばね支持システムを備えたコンプライアント箔流体膜ス
ラスト軸受を提供することである。
支持/ピボットラインを備えたティルティングパッドば
ね支持システムを備えたコンプライアント箔流体膜スラ
スト軸受を提供することである。
度及び軸受スラスト負荷にわたり、流体箔収束斜行路に
対して、流体力学的に最適化されたスクープ形状を保持
することを保証するティルティングパッドばね支持シス
テムを備えたコンプライアント箔流体膜スラスト軸受を
提供することである。
形成するために、箔要素の溶接や或いはろう付けを行わ
ないコンプライアント箔流体膜スラスト軸受を提供する
ことである。
決めし、回転に抗するピン(軸受ハウジングに固定的に
取り付けられた)を備えたコンプライアント箔流体膜ス
ラスト軸受を提供することである。
変動による軸受の軸方向あそび及び揺動スペースを防ぐ
ために、スラストディスクと、スペーサリングと、箔の
自己調整リングの弾力的取り付け及び予荷重特性を利用
した自己調整能力を備えたコンプライアント箔流体膜ス
ラスト軸受を提供することである。
速かつ容易に取り付けることのできる流体箔要素と、ス
ペーサリング要素と、スラストディスク要素と、スラス
トプレート要素とを備えたコンプライアント箔流体膜ス
ラスト軸受を提供することである。
ライアント箔流体膜スラスト軸受は、主に、片面或いは
両面スラストディスクロータと、流体箔と、ばね箔と、
スラストプレートと、箔保持ハウジングと、スペーサリ
ングとを有している。非回転コンプライアント流体箔
は、回転可能なディスクのスラスト面に隣接して配置さ
れている。流体箔は、プロセス流体中に再生渦流パター
ンを誘起する、開口面をもつチャネルを有している。ス
ラストディスクによって流体箔に加えられる力は、ディ
スクと流体箔とのギャップに反比例し、ディスクの偏位
に正比例して変化する。
パッド支持部を提供するが、流体箔がディスクの軸方向
および転倒運動に追従するのを許容する。各種の箔、即
ち流体箔とばね箔は、コンプライアント網状構造とピン
によって、箔保持ハウジングに取り付けられている。箔
は、外周部に形成された一体のシムリングと、それぞれ
の種類の箔に固有の輪郭切抜きパターンを備えた薄く、
平坦で、環状のシート状に形成されている。
片面を、コンプライアントな耐摩耗性材料で被覆し、次
いで、総形工具で打ち抜き加工して流体流動チャネルを
形成する。スラストプレートは、予荷重ばねによって箔
保持ハウジングのスラスト面に向かって予荷重をかけら
れ、箔シムリングの合計厚さとスペーサリングの厚さ分
だけ、ハウジングから離れて保持される。これにより、
軸受は、実質的に自己調整して、流体箔とディスクの間
に、箔や箔被覆の厚さの通常の変動には影響されない小
さなクリアランスを確立することが可能となる。
向にある場合には、軸受は予荷重をもたず起動トルクは
ゼロである。プロセス流体の渦流パターンにより、軸受
走行クリアランス及び負荷容量が改善され、リフトオフ
速度が低下する。さらに、良好な減衰と、低走行トルク
と、揺動スペースの縮小が達成される。これらすべて
は、少ない部品数と、低製造コストによって達成でき
る。
膜スラスト軸受を利用したターボ機を図1に示す。ター
ボ機10は、共通シャフトすなわち連結バー16の両端
に配したタービンホイール12と、コンプレッサホイー
ル14を有している。タービンホイール12とコンプレ
ッサホイール14の間には、スラストラジアル軸受ロー
タ18が、連結バー16のまわりに設けられている。中
心軸受ハウジング22内のジャーナル軸受カートリッジ
20が、軸受ロータ18を回転可能に支持している。
射(半径)方向に延在するスラストディスク24が設け
られ、このスラストディスク24は、中心軸受ハウジン
グ22のコンプレッサ側の凹部26内に延在している。
軸受ロータスラストディスク24の反対側には、軸受ス
ラストプレート28が設けられている。中心軸受ハウジ
ング22のコンプレッサ側の外周部は、コンプレッサハ
ウジング30に係合している。
32が、軸受ロータ18のスラストディスク24の放射
(半径)方向外側に配置され、周方向に間隔をおいて設
けられた複数個のピン34によって、放射(半径)方向
に位置決めされている。これらのピン34は、中心軸受
ハウジング22の凹部26内の穴38に固定され、スラ
スト軸受プレート28内に設けられた穴38内へ延在し
ている。スラスト軸受流体箔部材40及びスラスト軸受
ばね箔部材42は、軸受ロータスラストディスク24と
スラスト軸受スペーサ32の両側に配置されている。一
方の側では、流体箔部材40及びばね箔部材42は、中
心軸受ハウジング22の凹部26内に位置しており、他
方の側では、軸受スラストプレート28に隣接してい
る。中心軸受ハウジング22から一方のばね箔部材42
に設けた穴を通り、一方の流体箔部材40に設けた穴を
通り、スラスト軸受スペーサ32の貫通孔を抜けて、反
対側の流体箔部材40に設けた穴を通り、反対側のばね
箔部材42に設けた穴を通り、軸受スラストプレート2
8に設けた穴38に延在しているピン34によって、流
体箔部材40及びばね箔部材42は、放射(半径)方向
かつ周方向で位置決めされている。軸受スラストプレー
ト28は、軸受スラストプレート28上のリップ25と
コンプレッサハウジング30の間に設けられた皿状ワッ
シャー(Bellevilie washer)23に
よって、中心軸受ハウジング22の方向に押されてい
る。
ロータスラストディスク24の厚さより千分の数インチ
程度大きい。箔や箔被覆厚が変動すると、スラストプレ
ート28とハウジング22間の距離が変化してこれを補
償する。したがって、箔厚公差による軸受揺動スペース
及び軸受コンプライアンスの変動を防ぐことができる。
の平坦なディスクから一体に成形された流体箔部材40
を示している。複数個の流体箔41は、Inconel
750Xなどのニッケル鋼鉄の平らなシートを、室温で
プレス加工して発散くさび形チャネルとして機能する急
傾斜ジョグル部を形成するとともに、徐々に収束するく
さび形チャネル斜行路が、ジョグル部間の直線接続部と
して、塑性変形なしに得られる。流体箔部材は、通常、
成形中及び使用中においてアニーリングされ、また、ジ
ョグル部の成形前に、起動時や停止時の摩耗、不注意や
偶然の高速タッチダウンから金属を保護することのでき
る多数の低摩擦や減摩擦被覆材料のいくつかを適宜用い
て被覆してもよい。このような被覆は、汚染粒子が埋め
込まれるのを防ぐことにもなる。
略シェブロン(chevron)形状で、支持ウェブ4
5によって、外側自己調整リング44に接続されてい
る。流体通路である開口部46が、隣り合う支持ウェブ
45の間に形成されている。流体通路46の4つ目ごと
に、インデックスタブ(割出しタブ)47が設けられて
いる。空気力学的箔41の各々は、丸みづけられた終端
部すなわちノーズ部49を有する後縁部48と、前縁部
50を有し、前縁部50から後縁部48までは略直線状
に斜行した形状を有している。個々の流体箔41は、図
4及び図5の2つの断面図に示されているように、略ス
クープ形状を有している。1列或いは2列の開口51
が、各流体箔41の前縁部50に設けられ、流体が、ば
ね箔部材42の領域内の流体箔の下から、スラストディ
スクに隣接した収束斜行路の前縁部に流入できるように
なっている。
スト軸受ばね箔部材42は、外側ばね箔要素53(図
6)と、中間外側ばね箔要素54(図7)と、中央ばね
箔要素55(図8)と、中間内側ばね箔要素56(図
9)と、内側ばね箔要素57(図10)とを有してい
る。
ネクタリング60と、外側自己調整リング61とを有
し、それらの間には、複数個(図中、12個)の狭幅な
ばね箔62が延在している。狭幅バネ箔62は、内側コ
ネクタリング60から外側に、前進角をなして(スラス
トディスクの回転運動の方向において)延びている内側
湾曲箔部分63と、自己調整リング61から内側に、前
進角をなして延びている外側湾曲箔部分64とから成っ
ている。内側及び外側箔部分63と64は、その長さに
沿ったすべての点において、円周から約40度の公称方
位角に位置づけられ、互いに結合して略ノーズ状の形箔
部分65を形成している。外側箔部分64は、放射状に
延在するコネクタである支持ウェブ66によって、外側
自己調整リング61に個々に接続されている。
0との接続部において最も狭く、ノーズ部65の先端に
向かって徐々に幅が広くなり、外側箔部分64において
も徐々に広がりつづけ、コネクタウェブ66に至る。コ
ネクタウェブ66の幅は、さらに大きく、略放射方向に
おいて広がっている。外側支持箔要素53とスラスト軸
受ばね箔要素42の他の要素との、及び流体箔部材40
との正確な位置合わせを可能とするために、複数個のイ
ンデックスタブ67(図中、4個)が、外側自己調整リ
ング61から内側に延びている。
内側コネクタリング73と外側自己調整リング72とを
有し、それらの間には、複数個の(図中、12個)の広
幅ばねパッドである箔71が延在している。広幅ばね箔
71は、内側コネクタリング73から外側に、前進角を
なして延びている内側湾曲箔部分75と、自己調整リン
グ72から内側に、前進角をなして延びている外側湾曲
箔部分76とから成っている。内側及び外側箔部分75
と76は、互いに結合して略ノーズ状箔部分77を形成
している。各外側箔部分76は、放射(半径)方向に延
在する一対のコネクタすなわち支持ウェブ74によっ
て、外側自己調整リング72に個別に接続されている。
複数個(図中、3個)の同心外側ダムリング78が、隣
接する広幅バネ箔71の間に延在し、ほぼこのあたり
で、広幅バネ箔71と一対のウェブ74が接続してい
る。
3との接続部において最も狭く、ノーズ部77の先端に
向かって徐々に幅が広がり、外側箔部分76においても
徐々に広がり続けて、コネクタウェブ74に至る。外側
支持箔要素54とスラスト軸受ばね箔材42の他の要素
との、及び流体箔部材40との正確な位置合わせを可能
とするために、複数個(図中、4個)のインデックスタ
ブ79が、外側自己調整リング72から内側に延びてい
る。
ばね箔要素53や、中間外側ばね箔要素54や、流体箔
部材40の対応する要素と同様で且つそれらに位置合わ
せされた外側自己調整リング81とインデックスタブ8
2とを有している。複数組(図中、12組)の略ノーズ
状狭幅ばね箔83が、内側コネクタリング84と外側自
己調整リング81との間に延在している。狭幅ばね箔8
3の各組は、一般に、外側ばね箔要素53の狭幅ばね箔
62をはさんでおり、広幅ばね箔71の前縁部及び後縁
部に揃えられている。
を外側自己調整リング81に結合している。複数個(図
中、2個)の同心外側ダムリング85が、隣り合った各
対の狭幅ばね箔83の間に延在し、ここで、ばね箔ウェ
ブ87と接合している。複数個(図では3個)の同心内
側ダムリング86が、内側コネクタリング84近くで、
隣り合った各対の狭幅ばね箔83の間に、延在してい
る。
調整リング89と、インデックスタブ91とを有してい
る中間内側ばね箔要素56を示している。複数組(図で
は12個)の中間幅ばね箔要素92が、外側自己調整リ
ング89と内側コネクタリング90との間に配置されて
いる。中間幅ばね箔要素の各組は、ウェブ94の対によ
って、外側自己調整リングに接続されている。中間幅と
は、狭幅外側及び内側箔62と83の幅と、広幅中間外
側箔71の幅との中間の幅であることを意味している。
方向強化リング93によって結合されている。さらに、
1つの外側ダムリング96(あるいは複数個のダムリン
グでもよい)及び複数個(図中、2個)の同心内側ダム
リング95が、中間幅箔92の隣り合った対の間に、ウ
ェブ94との接続部において、及び、内側コネクタリン
グ90と隣接してそれぞれ設けられている。中間幅箔9
2の各組は、中央ばね箔部材55の狭幅ばね箔83の各
対の上に位置している。
のばね箔要素53と54と55と56及び流体箔部材4
0の対応する要素と同様で且つそれらの位置合わせされ
た外側自己調整リング100とインデックスタブ101
とを有している。略ノーズ状狭幅ばね箔102の三つ組
が複数個(図中、12個)設けられ、内側コネクタリン
グ103と外側自己調整リング100との間に延在して
いる。三つ組の狭幅ばね箔102の各々は、外側ばね箔
要素53の狭幅ばね箔62及び中央ばね箔要素55の対
の狭幅ばね箔83と概ね同幅である。三つ組の狭幅ばね
箔102のうち、2つは、一対の中間幅ばね箔92のう
ちの一方の前縁部及び後縁部に揃えられており、三つ組
の狭幅ばね箔のうちの3番目のものは、中間幅ばね箔9
2の上記対のうちの他方後縁部に揃えられている。
ね箔102の各々を外側自己調整リング100に結合し
ている。狭幅ばね箔102の各三つ組に設けられたこれ
らのウェブ105は、周方向強化リング106によっ
て、互いに結合されている。
と57とを含めた、流体箔部材40とばね箔部材42と
の正確な関係が、図11〜図13に示されている。図1
1は、組み立てられた流体箔部材40とばね箔部材42
の平面図であり、個々のばね箔要素が重ね合わせられ、
それぞれのインデックスタブによって、位置付けられて
いる。反時計まわりに説明してゆくが、個々のばね箔要
素は、相互関係を示すために、箔ごとに切り取られてい
る。
に示されている。円弧「B」には、外側ばね箔62上に
揃えられた外側中間箔71が示されている。円弧「C」
内には、1対の中央ばね箔83が、外側ばね箔62と中
間ばね箔71の上に示されている。そして、円弧「D」
は、一対の中間内側箔92を含んでおり、最後に、円弧
「E」内には、内側箔102の三つ組が、中間内側箔9
2の上に示されている。円弧「F」内には、流体箔41
が、組み立てられたばね箔の上に、乗せられている。
図13に示されている。図12は、負荷を受けていない
流体箔部材及びばね箔部材を示している。一方、負荷を
受けた状態の流体箔部材及びばね箔部材は、図11に示
されている。ここで、箔62は、箔71の前縁部より
も、箔71の後縁部により近く配置されていることに留
意されたい。箔83は、箔92の前縁部よりも、箔92
の後縁部により近く配置されている。このことは、ティ
ルティングパッドばね支持が、前縁部50よりも後縁部
48の近くで、流体箔40の下側に、より大きな力を加
えることを保証している。
と同様に、流体箔ブランクは、光学マスクを用いた化学
的エッチング技術によって、平坦な金属シートから形成
することができる。流体箔にはInconel750X
が、ばね箔要素にはInconel718などのニッケ
ル鋼鉄を用いることができる。通常、箔厚は、0.00
4インチ(約0.01016cm)から0.007イン
チ(約0.01778cm)の間である。箔要素を形成
するニッケル鋼鉄金属シートは、通常、真空炉において
フルハードネスまで熱処理(Inconel750Xの
場合華氏1300度で約20時間)される。スラスト軸
受ばね箔部材42の5つの個々の要素は、接着すること
なしに、ばね箔要素をつみ重ねることによって、組み立
て可能である。用いられているこれらの箔の相対的な微
動は、クローン減衰を提供する。
斜する「壁」を有する面開放チャネルは、流体箔を横切
るプロセス流体中に再生渦流パターンを誘起する。プロ
セス流体は、通常、箔41の後縁部48から次の箔の前
縁部に流入する。いかなる補給プロセス流体も、前縁部
の内径および外径から、或いは開口51から与えられ
る。後縁部48の近くで内径及び外径のそれぞれから若
干の流体の漏出が発生する。
ストディスク24の2つのスラスト面に隣接して位置し
ている。ばね箔部材42は、流体箔部材40に対する支
持を提供しているが、これらの部材がディスク24の軸
方向運動及び転倒運動に追従することを可能にしてい
る。流体箔部材によって、プロセス流体を介してスラス
トディスクに加えられる力は、箔とディスクとのギャッ
プに反比例し、ディスクの偏位に正比例して変化する。
及びばね箔部材42の外側自己調整リングの合計厚さ
と、スラスト軸受スペーサ32の厚さの分だけ、中心軸
受ハウジング22から離れて保持されている。スラスト
軸受スペーサ32は、スラストディスク24よりわずか
に厚く、そこで、流体箔部材40とスラストディスク2
4との間に、箔や箔被覆の厚さの通常の変動には影響さ
れない小さなクリアランスが存在する。ディスクの回転
軸が重力に対して90度の方向にある場合には、軸受
は、予荷重をもたず、起動トルクはゼロである。流体箔
要素の輪郭によって形成される再生渦流パターンによっ
て、軸受走行クリアランスは、かなり改善されて増加
し、リフトオフ速度は、以前に比べて、かなり低下す
る。
形チャネル斜行路は、流体力学的力及びばね力が、箔要
素に加えられた場合、放射方向に凹状の湾曲と、ゼロ速
度において周方向に平坦なスロープと、作動速度におい
て凸状の湾曲とをそなえた複合曲面輪郭を有している。
流体箔要素のティルテングパッド支持は、広範囲の軸受
スラスト負荷にわたり、ほぼ最適な周方向凸状の湾曲を
保証する。これらの輪郭は、放射方向に広幅の流体入口
と、周方向流体路に沿って放射方向に狭まったチャネル
幅と、丸みづけられた周方向の後縁部を備えたスクープ
を形成し、スクープとして機能する。プロセス流体が、
流体箔部材と隣接するスラストディスクの回転と反対方
向である公称的周方向に「斜行路を下って」進む場合
に、この複数経路再生渦流流動パターンは、流体の圧力
損失を減少させる。
ド軸受は、5個のばね箔と1個の流体箔とを有してい
る。5個のばね箔要素は、各流体箔斜行路のための4本
の支持ラインを有している。これらの支持ラインの各々
において生じる相対力は、成形された流体箔の湾曲形状
にほぼ合致するいくつかの湾曲したばね箔ライン間の周
方向間隔によって、比例制御される。
側のスラストディスク、或いはスラストディスクの他側
のハウジングのスラスト面のどちらかに隣接した12個
の個別の狭幅ばね箔62を有している。これらの各狭幅
ばね箔62は、湾曲した、略ノーズ状の支持ラインを提
供している。
幅ばね箔62によって支持され、スラスト軸受の残りの
部分によって要求されるとおり、狭幅ばね箔62の1つ
の支持ライン上で、ノーズアップ(nose up)ま
たはノーズダウン(nosedown)のいずれかの位
置に屈曲させ且つ傾けることにより、関節運動すること
ができる。
箔83があり、これらは、斜行路ごとに2つの支持ライ
ンを提供し、広幅ばね箔71のノーズ及び前縁部におけ
る支持を与えることができる。狭幅ばね箔83の2つの
箔支持ラインは、2組の中間幅箔92の各々の下側の周
縁中央近くを押圧し、これらの中間幅箔92が、必要に
応じてノーズアップやノーズダウン状態に傾くことがで
きるようにされている。最後に、狭幅ばね箔102は、
3本の支持ラインを有している。すなわち、1本は先頭
のばね箔92の後縁部に、1本は末尾のばね箔92の前
縁部に、もう1本は末尾のばね箔92の後縁部にある。
的近い流体箔の下側を押圧する1本の支持ラインを提供
する。次いで、斜行路を上る次の3本の支持ラインが、
ばね箔102を介して流体箔に与えられる。これによ
り、ばね構造全体が、タンクトレッドの関節支持のよう
に働くことになる。すなわち、でこぼこの地面の上を進
むときには、関節運動をする支持構造を有しているため
にタンクトレッド自身が関節運動をすることができる。
これらの種々の支持ラインの間の周方向距離は、ばね箔
要素53と55と56と57について言えば、ばね箔要
素57の上方の流体箔上の各周方向位置に加えられる、
ばね箔要素を介して到来する合計の力の比率を制御す
る。
最も高い、成形流体箔のノーズ部においてである。生じ
るばね力及びばねレートは、ばね箔のノーズ部から遠ざ
かるにつれて、より低くなる。これらの箔要素が、コン
プライアンスを流体箔に許容するための主要なティルテ
ィング部材である場合には、これら自体も、ばね特性を
有している。
ングは、特に軸受が流体静力学的に作動している場合
に、スラスト軸受からの漏出を制限するためのダムとし
て、効果的に機能する。本発明のスラスト軸受は、本明
細書中に参照として組み入れるRobert W.Bo
sley及びRonald F.Millerによる
「コンプライアント箔流体力学的流体膜スラスト軸受の
流体静力学的向上(Hydrostatic Augm
entation of a Complianct
Foil Hydrodynamic Fluid F
ilm Thrust Bearing)」と題する1
996年6月14日に出願されたアメリカ特許出願第0
8/662250号に記述されているような流体静力学
的に改良したスラスト軸受において特に有用である。流
体箔41の前縁部の開口51は、この流体静力学的改良
のために、特に設けられたものである。しかしながら、
スラスト軸受は、開口有無にかかわらず、流体力学的ス
ラスト軸受として機能する。
ね領域内の空気圧に頼ることなく、スラストディスクに
隣接する面上で、その流体箔を周方向に屈曲させて流体
力学的に最適化された凸状にして作動する。しかしなが
ら、空気圧によって、さらなる凸状形状及び負荷容量が
得られ、適応性が良好になる。
箔と1個の流体箔について、同じような形状として示さ
れているが、ばね箔ノーズ部の形状を変化させてばねレ
ートを制御することもできる。図14及び図15に示さ
れているように、中間ばね箔83´の後縁部のノーズ部
に、内側ばね箔102及び中間内側ばね箔92の後縁部
のノーズ部よりもより鋭角、即ちより小さな半径をもた
せることもできる。このことは、収束斜行路の終点にお
けるばねレートを高め、流体の漏出を少なくし、流体箔
ノーズ部に対する支持をより強大にする。
状収束くさび形チャネルは、渦流パターンを誘起し、箔
の放射(半径)方向内側及び外側縁部における、チャネ
ルからのプロセス流体流動損失を制限する。このこと
は、本発明の自己調整構造及び他の特徴と合わさって、
高い負荷容量と、良好な減衰と、小さな揺動クリアラン
スと、低走行トルクと、走行中の箔ディスク間クリアラ
ンスが大きいことと、ゼロ予荷重力と、低起動トルク
と、低速リフトオフ/タッチダウンと、低摩耗とを有す
るスラスト軸受を提供する。さらに、これらはすべて、
少数の部品、低い製造コスト、簡単な組み立てより達成
される。
16〜図21に示されているように、直線的な放射形状
を有していてもよい。上述したノーズ状ではなく直線的
な放射形状を有することを除いて、直線的な放射状箔1
41を有する流体箔部材40´と、ばねすなわち支持箔
部材53´、54´、55´、56´、57´は、ほ
ぼ、同一の機能を果たし、互に対する相対的な距離およ
び相対的な配置は同一である。図17の外側支持箔要素
53´は、狭幅放射状ばね箔162を有し、図18の中
間外側支持箔要素54´は、広幅放射状パッドすなわち
箔171を有し、図19の中央支持箔要素55´は、対
になった狭幅放射状ばね箔183を有し、図20の中間
内側支持箔要素56´は、対になった広幅放射状ばねパ
ッドすなわち箔192を有している。一方、図21の内
側支持箔要素57´は、3つ組にした狭幅放射状ばね箔
202を有している。略平坦な(放射方向に)流体箔
面、及び図16〜図21の略平坦な(放射状方向に)流
体箔面を保持している下層のばね箔は、スクープ状収束
斜行路を形成することを企図したものではなく、そのた
めに、渦流再生プロセス流体流動を生じない。
し説明してきたが、これらは、単なる例示にすぎず、本
発明はこれらに限定されることなく、請求の範囲によっ
てのみ定められることはもちろんである。
受を有するターボ機の断面図である。
受のスラストプレートとスペーサ領域を示した、図1の
楕円部2の拡大図である。
受の流体箔部材の平面図である。
受のばね箔部材の外側ばね箔要素の平面図である。
受のばね箔部材の中間外側ばね箔要素の平面図である。
受のばね箔部材の中央ばね箔要素の平面図である。
受のばね箔部材の中間内側ばね箔要素の平面図である。
軸受のばね箔部材の内側ばね箔要素の平面図である。
のコンプライアント箔流体膜スラスト軸受の平面図であ
る。
ばね箔部材を示した、図11の線12−12に沿った断
面図である。
ね箔部材を示した、図11の線12−12に沿った断面
図である。
軸受の別の例を示した平面図である。
る。
軸受のさらに別の例における流体箔部材の部分平面図で
ある。
軸受の流体箔部材とともに用いられるばね箔部材の外側
ばね箔要素の部分平面図である。
軸受の流体箔部材とともに用いられるばね箔部材の中間
外側ばね箔要素の部分平面図である。
軸受の流体箔部材とともに用いられるばね箔部材の中央
ばね箔要素の部分平面図である。
軸受の流体箔部材とともに用いられるばね箔部材の中間
内側ばね箔要素の部分平面図である。
軸受の流体箔部材とともに用いられるばね箔部材の内側
ばね箔要素の部分平面図である。
Claims (29)
- 【請求項1】 スラストプレート上のスラストディスク
を回転可能に支持するディスク支持方法において、 前記スラストディスクと前記スラストプレートの間にコ
ンプライアント箔軸受を設けるステップであって、前記
コンプライアント箔軸受は、複数個の収束斜行路及び発
散ジョグル部とを有する環状コンプライアント流体箔部
材を含み、前記環状コンプライアント流体箔部材の、前
記スラストディスクに面した表面上に、収束および発散
くさび形チャネルが交互に形成されるように構成された
コンプライアント箔軸受を設けるステップと、 前記コンプライアント流体箔部材と前記スラストプレー
トとの間にばね箔部材を取り付けるステップと、 前記ばね箔部材に、多数の狭幅ばね箔を有する複数個の
狭幅ばね箔要素と、多数の広幅ばねパッドを有する複数
個の広幅ばね箔要素とを設けるステップと、 前記複数個の狭幅ばね箔要素の各々と前記複数個の広幅
ばね箔要素とをそれぞれ交互に設けることにより、前記
コンプライアント流体箔部材のためのティルティングパ
ッド支持を作り出すステップとを備えたことを特徴とす
るディスク支持方法。 - 【請求項2】 非回転スラスト軸受面によって回転可能
に支持されたスラストディスクと、 前記回転可能なスラストディスクと前記非回転スラスト
軸受面との間に作動可能に設けられ、前記スラスト軸受
面上に搭載されたコンプライアント箔軸受であって、複
数個の収束斜行路及び発散ジョグル部とを有する流体箔
部材を含み、前記コンプライアント流体箔部材の、前記
回転可能なスラストディスクに面した表面上に、収束お
よび発散くさび形チャネルが交互に形成されるように構
成され、さらに、前記スラスト軸受面上に搭載され、前
記スラスト軸受面と前記流体箔部材との間に配置された
ばね箔部材を備えたコンプライアント箔軸受とを有し、
前記ばね箔部材は、前記流体箔部材に対してティルティ
ングパッド支持を構成するための手段を含むことを特徴
とするコンプライアント箔流体膜スラスト軸受。 - 【請求項3】 前記流体箔部材のためのティルティング
パッド支持を構成するための前記手段は、前記流体箔部
材の各収束斜行路を、前記流体箔部材の各収束斜行路の
後縁部に向かって上るにつれて、支持/ピボットライン
間の周方向間隔がより接近するように構成されたことを
特徴とする請求項2記載のコンプライアント箔流体膜軸
受。 - 【請求項4】 前記流体箔部材の各収束斜行路を、前記
流体箔部材の各収束斜行路の後縁に向かって上る前記支
持/ピボットラインが、3本であることを特徴とする請
求項3記載のコンプライアント箔流体膜軸受。 - 【請求項5】 前記流体箔部材の各収束斜行路を、前記
流体箔部材の各収束斜行路の後縁に向かって上る前記支
持/ピボットラインが、4本であることを特徴とする請
求項3記載のコンプライアント箔流体膜軸受。 - 【請求項6】 前記流体箔部材のためのティルティング
パッド支持を構成するための前記手段は、前記流体箔部
材の各収束斜行路を、前記流体箔部材の各収束斜行路の
後縁に向かって上るにつれて、支持力及び支持ばねレー
トが増加するように構成されたことを特徴とする請求項
2記載のコンプライアント箔流体膜軸受。 - 【請求項7】 前記流体箔部材のためのティルティング
パッド支持を構成するための前記手段は、広範囲の軸受
作動速度及び軸受スラスト負荷にわたり、前記流体箔部
材の各収束斜行路が流体力学的に最適化されたスクープ
形状を保持することを保証することを特徴とする請求項
2記載のコンプライアント箔流体膜軸受。 - 【請求項8】 スラスト軸受面によって回転可能に支持
されたスラストディスクと、 前記回転可能なスラストディスクと前記スラスト軸受面
の間に作動可能に設けられ、前記スラスト軸受面上に搭
載されたコンプライアント箔軸受であって、複数個の収
束斜行路及び発散ジョグル部とを有する流体箔部材を含
み、前記コンプライアント流体箔部材の、前記回転可能
なスラストディスクに面した表面上に、収束および発散
くさび形チャネルが交互に形成されるように構成され、
さらに、前記スラスト軸受面上に搭載され、前記スラス
ト軸受面と前記流体箔部材との間に配置されたばね箔部
材を備えたコンプライタント箔軸受とを有し、 前記ばね箔部材は、前記流体箔部材に対して狭幅ピボッ
ト支持を提供するとともに、屈曲ティルティング支持を
提供する手段を含むことを特徴とするコンプライアント
箔流体膜スラスト軸受。 - 【請求項9】 前記狭幅ピボット支持は、放射方向に湾
曲していることを特徴とする請求項8記載のコンプライ
アント箔流体膜軸受。 - 【請求項10】 前記狭幅ピボット支持は、略鈍角なノ
ーズ部を備えたチェブロン形を有することを特徴とする
請求項9記載のコンプライアント箔流体膜軸受。 - 【請求項11】 前記狭幅ピボット支持は、放射状にの
びていることを特徴とする請求項8記載のコンプライア
ント箔流体膜軸受。 - 【請求項12】 スラスト軸受面によって回転可能に支
持されたスラストディスクと、 前記回転可能なスラストディスクと前記スラスト軸受面
の間に作動可能に設けられ、前記スラスト軸受面上に搭
載されたコンプライアント箔軸受であって、複数個の収
束斜行路及び発散ジョグル部とを有する流体箔部材を含
み、前記コンプライアント流体箔部材の、前記回転可能
なスラストディスクに面した表面上に、収束および発散
くさび形チャネルが交互に形成されるように構成され、
さらに、前記スラスト軸受面上に搭載され、前記スラス
ト軸受面と前記流体箔部材との間に配置されたばね箔部
材を備えたコンプライアント箔軸受とを有し、 前記ばね箔部材は、複数個の狭幅ばね箔要素と、少なく
とも1つの広幅ばね箔要素とを含み、前記広幅ばね箔要
素は、隣り合う狭幅ばね箔要素間に配置されて前記流体
箔部材のためのティルティングパッド支持を構成するこ
とを特徴とするコンプライアント箔流体膜スラスト軸
受。 - 【請求項13】 前記ばね箔部材は、3個の狭幅ばね箔
要素と、2個の広幅ばね箔要素とを含むことを特徴とす
る請求項12記載のコンプライアント箔流体膜軸受。 - 【請求項14】 スラスト軸受面によって回転可能に支
持されたスラストディスクと、 前記回転可能なスラストディスクと前記スラスト軸受面
の間に作動可能に設けられ、前記スラスト軸受面上に搭
載されたコンプライアント箔軸受であって、複数個の収
束斜行路及び発散ジョグル部とを有する流体箔部材を含
み、前記コンプライアント流体箔部材の、前記回転可能
なスラストディスクに面した表面上に、収束および発散
くさび形チャネルが交互に形成されるように構成され、
さらに、前記スラスト軸受面上に搭載され、前記スラス
ト軸受面と前記流体箔部材との間に配置されたばね箔部
材を備えたコンプライタント箔軸受とを有し、 前記ばね箔部材は、前記流体箔部材のための1つの狭幅
ピボット支持ならびに1つの屈曲ティルティング支持
と、対のピボット支持及び対の屈曲ティルティング支持
と、3つ組の狭幅ピボット支持とを含み、前記1つの狭
幅ピボット支持と、前記1つの屈曲ティルティング支持
と、前記対のピボット支持と、前記対の屈曲ティルティ
ング支持と、前記3つ組の狭幅ピボット支持とは、組合
わせて順番に配置され、前記流体箔部材のためのティル
ティングパッド支持を構成することを特徴とするコンプ
ライアント箔流体膜スラスト軸受。 - 【請求項15】 スラスト軸受面及び略対向したスラス
ト軸受プレートとを有する軸受ハウジングと、 前記軸受ハウジング内に回転可能に支持され、前記スラ
スト軸受面と前記対向スラスト軸受プレートとの間に放
射方向に延在するスラストディスクを含むシャフトと、 一対の環状コンプライアント流体箔部材であって、上記
対の一方はスラストディスクの片方の側に配置され、上
記対の環状コンプライアント流体箔部材の各々は、複数
個の収束斜行路及び発散ジョグル部を含み、前記スラス
トディスクに面した表面上に、収束および発散くさび形
チャネルを交互に形成するように構成された一対の環状
コンプライアント流体箔部材と、 一対の環状ばね箔部材であって、上記対の一方は、前記
環状コンプライアント流体箔部材と前記スラスト軸受面
の間に配置され、上記対の他方は、前記環状コンプライ
アント流体箔部材の他方と前記スラスト軸受プレートの
間に配置され、上記環状ばね箔部材の各々は、前記流体
箔部材のためのティルティングパッド支持を構成するた
めの手段を含んでいる、一対の環状ばね箔部材とを備え
たことを特徴とするコンプライアント箔流体膜スラスト
軸受。 - 【請求項16】 前記対の環状コンプライアント流体箔
部材の各々の外周に、自己調整外周リングが設けられ、
前記対の環状ばね箔部材の各々の外周に、自己調整外周
リングが設けられ、 さらに、前記スラストディスクの外側外周部には、前記
対の環状コンプライアント流体箔部材間に軸受スペーサ
が設けられ、前記軸受スペーサは、前記スラストディス
クの軸方向厚さよりもわずかに大きい軸方向厚さを有
し、前記対の環状コンプライアント流体箔部材外周リン
グの厚さと、前記対の環状ばね箔部材外周リングの厚さ
と、前記軸受スペーサの厚さの組合わせにより、前記環
状コンプライアント流体箔要素と前記回転スラストディ
スクの間にクリアランスが形成され、 前記対の環状コンプライアント流体箔部材の各々と前記
対の環状ばね箔部材の各々は、インデックス開口を有す
る複数個の周縁タブを含み、さらに、前記軸受は、複数
個のピンを含み、各ピンは、前記軸受ハウジングから前
記環状コンプライアント流体箔部材と、前記環状ばね箔
部材と、前記軸受スペーサとを通って、前記スラスト軸
受プレート内まで延在していることを特徴とする請求項
15記載のコンプライアント箔流体膜軸受。 - 【請求項17】 前記対の環状ばね箔部材は、前記ティ
ルティングパッド支持の放射方向外側及び放射方向内側
外周縁部にアーチ状ダムを有するばね箔要素を含むこと
を特徴とする請求項15記載のコンプライアント箔流体
膜スラスト軸受。 - 【請求項18】 前記収束くさび形チャネルは、略スク
ープシェブロン形であることを特徴とする請求項15記
載のコンプライアント箔流体膜スラスト軸受。 - 【請求項19】 前記ばね箔部材は、複数個の狭幅ばね
箔要素と少なくとも1つの広幅ばね箔要素とを含み、前
記広幅ばね箔要素は、隣り合う狭幅ばね箔要素間に配置
され、前記流体箔部材のためのティルティングパッド支
持を構成することを特徴とする請求項18記載のコンプ
ライアント箔流体膜スラスト軸受。 - 【請求項20】 前記ばね箔部材は、前記流体箔部材に
対する1つの狭幅ピボット支持及び1つの屈曲ティルテ
ィング支持と、対のピボット支持及び対の屈曲及びティ
ルティング支持と、3つ組の狭幅ピボット支持とを提供
する手段を含み、前記1つの狭幅ピボット支持と、前記
1つの屈曲ティルティング支持と、前記対のピボット支
持と、前記対の屈曲ティルティング支持と、前記3つ組
の狭幅ピボット支持は、組合わせて順番に配置されて前
記流体箔部材のためのティルティングパッド支持を構成
することを特徴とする請求項18記載のコンプライアン
ト箔流体膜スラスト軸受。 - 【請求項21】 前記ばね箔部材は、 複数個の第1の狭幅ピボット支持と、 後縁部及び前縁部を有する複数個の第1の広幅屈曲ティ
ルティング支持パッドであって、前記第1の広幅屈曲テ
ィルティング支持パッドの前記前縁部及び前記後縁部の
中間で前記第1の狭幅ピボット支持により、ピボット支
持された、第1の広幅屈曲ティルティング支持パッド
と、 複数対の第2の狭幅ピボット支持であって、各対の後側
の1つが、前記第1の広幅屈曲ティルティング支持パッ
ドの後縁部上に配置され、各対の前側の1つは、前記第
1の広幅屈曲ティルティング支持パッドの前縁部上に配
置された第2の狭幅ピボット支持と、 各々が後縁部及び前縁部を有する複数対の第2の広幅屈
曲ティルティング支持パッドであって、各対の後側の1
つが、上記後縁部及び上記前縁部の中間で、前記第2の
狭幅ピボット支持の各対の後側の1つによってピボット
支持され、各対の前側の1つは、上記後縁部及び上記前
縁部の中間で前記第2の狭幅ピボット支持の各対の前側
の1つによってピボット支持された、第2の広幅屈曲テ
ィルティング支持パッドと、 複数組の第3の3つ組狭幅ピボット支持であって、各組
の1つは、前記第2の広幅屈曲ティルティング支持パッ
ドの対の後側の1つの後縁部上に配置され、各組のもう
1つは、前記第2の広幅屈曲ティルティング支持パッド
の後側の1つの前縁部上に配置され、各組の残りの1つ
は、前記第2の広幅屈曲ティルティング支持パッドの前
側の1つの後縁部上に配置された、第3の3つ組狭幅ピ
ボット支持とを備え、 前記スクープ状シェブロン形状は、前記第3の3つ組狭
幅ピボット支持と、前記第2の広幅屈曲ティルティング
支持パッドの対の前側の1つの前縁部によって支持され
ることを特徴とする請求項18記載のコンプライアント
箔流体膜スラスト軸受。 - 【請求項22】 前記第1の狭幅ピボット支持は、前記
第1の広幅屈曲ティルティング支持パッドを、前記第1
の広幅屈曲ティルティング支持パッドの前縁部よりも後
縁部により近い位置でピボット支持し、前記第2の狭幅
ピボット支持の対の後側の1つは、前記第2の広幅屈曲
ティルティング支持パッドの対の後ろ側の1つを、前記
第2の広幅屈曲ティルティング支持パッドの前縁部より
も後縁部により近い位置でピボット支持し、前記第2の
狭幅ピボット支持の前側の1つは、前記第2の広幅屈曲
ティルティング支持パッドの前側の1つを、前記第2の
広幅屈曲ティルティング支持パッドの前縁部よりも後縁
部により近い位置でピボット支持することを特徴とする
請求項21記載のコンプライアント箔流体膜スラスト軸
受。 - 【請求項23】 前記第1の狭幅ピボット支持は、前記
第1の広幅屈曲ティルティング支持パッドを、前記第1
の広幅屈曲ティルティング支持パッドの前縁部よりも後
縁部により近い位置でピボット支持し、前記第2の狭幅
ピボット支持の対の後側の1つは、前記第2の広幅屈曲
ティルティング支持パッドの対の後ろ側の1つを、前記
第2の広幅屈曲ティルティング支持パッドの中央部より
も後縁部により近い位置でピボット支持し、前記第2の
狭幅ピボット支持の前側の1つは、前記第2の広幅屈曲
ティルティング支持パッドの前側の1つを、前記第2の
広幅屈曲ティルティング支持パッドの中央部よりも後縁
部により近い位置でピボット支持することを特徴とする
請求項21載のコンプライアント箔流体膜スラスト軸
受。 - 【請求項24】 前記収束くさび形チャネルは、放射方
向前縁部及び放射方向後縁部とを有する略環状のセグメ
ントであることを特徴とする請求項15記載のコンプラ
イアント箔流体膜スラスト軸受。 - 【請求項25】 前記ばね箔部材は、複数個の狭幅ばね
箔要素と、少なくとも1つの広幅ばねパッド要素を含
み、前記広幅ばねパッド要素は、隣り合う狭幅ばね箔要
素間に配置され前記流体箔部材のためのティルティング
パッド支持を構成することを特徴とする請求項24記載
のコンプライアント箔流体膜スラスト軸受。 - 【請求項26】 前記ばね箔部材は、前記流体箔部材に
対する1つの狭幅ピボット支持と1つの屈曲ティルティ
ング支持と、対のピボット支持及び対の屈曲ティルティ
ング支持と、3つ組の狭幅ピボット支持とを提供する手
段を含んでおり、前記1つの狭幅ピボット支持と前記1
つの屈曲ティルティング支持と、前記対のピボット支持
と、前記対の屈曲ティルティング支持と、前記3つ組の
狭幅ピボット支持は、組合わせて順番に配置され、前記
流体箔部材のためのティルティングパッド支持を構成す
ることを特徴とする請求項24記載のコンプライアント
箔流体膜スラスト軸受。 - 【請求項27】 前記ばね箔部材は、 複数個の第1の狭幅ピボット支持と、 後縁部及び前縁部を有する複数個の第1の広幅屈曲ティ
ルティング支持パッドであって、前記第1の広幅屈曲テ
ィルティング支持パッドの前記前縁部及び前記後縁部の
中間で前記第1の狭幅ピボット支持により、ピボット支
持された、第1の広幅屈曲ティルティング支持パッド
と、 複数対の第2の狭幅ピボット支持であって、各対の後側
の1つが、前記第1の広幅屈曲ティルティング支持パッ
ドの後縁部上に配置され、各対の前側の1つは、前記第
1の広幅屈曲ティルティング支持パッドの前縁部上に配
置された第2の狭幅ピボット支持と、 各々が後縁部及び前縁部を有する複数対の第2の広幅屈
曲ティルティング支持パッドであって、各対の後側の1
つが、上記後縁部及び上記前縁部の中間で、前記第2の
狭幅ピボット支持の各対の後側の1つによってピボット
支持され、各対の前側の1つは、上記後縁部及び上記前
縁部の中間で前記第2の狭幅ピボット支持の各対の前側
の1つによってピボット支持された、第2の広幅屈曲テ
ィルティング支持パッドと、 複数組の第3の3つ組狭幅ピボット支持であって、各組
の1つは、前記第2の広幅屈曲ティルティング支持パッ
ドの対の後側の1つの後縁部上に配置され、各組のもう
1つは、前記第2の広幅屈曲ティルティング支持パッド
の後側の1つの前縁部上に配置され、各組の残りの1つ
は、前記第2の広幅屈曲ティルティング支持パッドの前
側の1つの後縁部上に配置された、第3の3つ組狭幅ピ
ボット支持とを備え、 前記放射状に並んだ環状セグメントは、前記第3の3つ
組狭幅ピボット支持と、前記第2の広幅屈曲ティルティ
ング支持パッドの対の前側の1つの前縁部によって支持
されことを特徴とする請求項24記載のコンプライアン
ト箔流体膜スラスト軸受。 - 【請求項28】 前記第1の狭幅ピボット支持は、前記
第1の広幅屈曲ティルティング支持パッドを、前記第1
の広幅屈曲ティルティング支持パッドの前縁部よりも後
縁部により近い位置でピボット支持し、前記第2の狭幅
ピボット支持の対の後側の1つは、前記第2の広幅屈曲
ティルティング支持パッドの対の後ろ側の1つを、前記
第2の広幅屈曲ティルティング支持パッドの前縁部より
も後縁部により近い位置でピボット支持し、前記第2の
狭幅ピボット支持の前側の1つは、前記第2の広幅屈曲
ティルティング支持パッドの前側の1つを、前記第2の
広幅屈曲ティルティング支持パッドの前縁部よりも後縁
部により近い位置でピボット支持することを特徴とする
請求項27記載のコンプライアント箔流体膜スラスト軸
受。 - 【請求項29】 前記第1の狭幅ピボット支持は、前記
第1の広幅屈曲ティルティング支持パッドを、前記第1
の広幅屈曲ティルティング支持パッドの前縁部よりも後
縁部により近い位置でピボット支持し、前記第2の狭幅
ピボット支持の対の後側の1つは、前記第2の広幅屈曲
ティルティング支持パッドの対の後ろ側の1つを、前記
第2の広幅屈曲ティルティング支持パッドの中央部より
も後縁部により近い位置でピボット支持し、前記第2の
狭幅ピボット支持の前側の1つは、前記第2の広幅屈曲
ティルティング支持パッドの前側の1つを、前記第2の
広幅屈曲ティルティング支持パッドの中央部よりも後縁
部により近い位置でピボット支持することを特徴とする
請求項27記載のコンプライアント箔流体膜スラスト軸
受。
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