JPH11149666A - 光情報記録媒体 - Google Patents
光情報記録媒体Info
- Publication number
- JPH11149666A JPH11149666A JP9334995A JP33499597A JPH11149666A JP H11149666 A JPH11149666 A JP H11149666A JP 9334995 A JP9334995 A JP 9334995A JP 33499597 A JP33499597 A JP 33499597A JP H11149666 A JPH11149666 A JP H11149666A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- recording medium
- ultraviolet absorbing
- optical information
- information recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 保護層が設けられている側の表面から照射さ
れる光による記録再生特性の低下を防止し、特にAu以
外の金属で反射層を形成した場合でも高い耐光性が実現
できる光情報記録媒体を提供する。 【解決手段】 透明基板上に、レーザ光の照射により情
報を記録することができる色素記録層、反射層および保
護層がこの順に積層されてなる光情報記録媒体であっ
て、該保護層上に該保護層よりも紫外線吸収性が高い紫
外線吸収層が設けられていることを特徴とする光情報記
録媒体。
れる光による記録再生特性の低下を防止し、特にAu以
外の金属で反射層を形成した場合でも高い耐光性が実現
できる光情報記録媒体を提供する。 【解決手段】 透明基板上に、レーザ光の照射により情
報を記録することができる色素記録層、反射層および保
護層がこの順に積層されてなる光情報記録媒体であっ
て、該保護層上に該保護層よりも紫外線吸収性が高い紫
外線吸収層が設けられていることを特徴とする光情報記
録媒体。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光を用いて
情報の記録及び再生を行うことができる追記型の光情報
記録媒体に関するものである。
情報の記録及び再生を行うことができる追記型の光情報
記録媒体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来から、レーザ光により一回限りの情
報の記録が可能な光情報記録媒体(ライトワンス型の光
ディスク)は、追記型CD(所謂CD−R)として知ら
れている。CD−R型の光情報記録媒体は、市販のCD
プレーヤーを利用して再生できる利点を有しており、ま
た最近では、パーソナルコンピュータなどの普及に伴っ
て、これらからの情報やデータを保存するための媒体と
して有用とされている。
報の記録が可能な光情報記録媒体(ライトワンス型の光
ディスク)は、追記型CD(所謂CD−R)として知ら
れている。CD−R型の光情報記録媒体は、市販のCD
プレーヤーを利用して再生できる利点を有しており、ま
た最近では、パーソナルコンピュータなどの普及に伴っ
て、これらからの情報やデータを保存するための媒体と
して有用とされている。
【0003】CD−R型の光情報記録媒体(以下、CD
−Rと略す)の代表的な構造は、透明な円盤状基板上に
有機色素からなる記録層、金などの金属からなる反射
層、更に樹脂製の保護層をこの順に積層したものであ
る。そしてこの光情報記録媒体への情報の書き込み(記
録)は、近赤外域のレーザ光(通常は780nm付近の
波長のレーザ光)を情報記録媒体に照射することにより
行われ、色素記録層の照射部分がその光を吸収して局所
的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な変化(例え
ば、ピットなどの生成)が生じてその光学的特性を変え
ることにより情報が記録される。一方、情報の読み取り
(再生)も通常、記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ
光を情報記録媒体に照射することにより行われ、色素記
録層の光学的特性が変化した部位(ピットなどの生成に
よる記録部分)と変化しない部位(未記録部分)との反
射率の違いを検出することにより情報が再生される。
−Rと略す)の代表的な構造は、透明な円盤状基板上に
有機色素からなる記録層、金などの金属からなる反射
層、更に樹脂製の保護層をこの順に積層したものであ
る。そしてこの光情報記録媒体への情報の書き込み(記
録)は、近赤外域のレーザ光(通常は780nm付近の
波長のレーザ光)を情報記録媒体に照射することにより
行われ、色素記録層の照射部分がその光を吸収して局所
的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な変化(例え
ば、ピットなどの生成)が生じてその光学的特性を変え
ることにより情報が記録される。一方、情報の読み取り
(再生)も通常、記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ
光を情報記録媒体に照射することにより行われ、色素記
録層の光学的特性が変化した部位(ピットなどの生成に
よる記録部分)と変化しない部位(未記録部分)との反
射率の違いを検出することにより情報が再生される。
【0004】色素記録層を持つCD−Rは、一般に色素
が光や熱により劣化し、記録再生特性が低下するという
問題がある。特に日光や蛍光灯などの光に対しては、C
D−Rはその使用、移動などの取扱時、あるいは保存時
においても晒されているため、色素は光退色し易く、そ
の耐光性が従来から問題になっている。このような色素
の光退色を抑制するために、一般に、色素記録層には、
ニトロソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニ
ウム塩などの、所謂一重項酸素クエンチャーと称される
退色防止剤を添加することが行なわれている(例えば、
特開平2−300288号、同3−224793号、及
び同4−146189号等の各公報)。
が光や熱により劣化し、記録再生特性が低下するという
問題がある。特に日光や蛍光灯などの光に対しては、C
D−Rはその使用、移動などの取扱時、あるいは保存時
においても晒されているため、色素は光退色し易く、そ
の耐光性が従来から問題になっている。このような色素
の光退色を抑制するために、一般に、色素記録層には、
ニトロソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニ
ウム塩などの、所謂一重項酸素クエンチャーと称される
退色防止剤を添加することが行なわれている(例えば、
特開平2−300288号、同3−224793号、及
び同4−146189号等の各公報)。
【0005】色素記録層上に設けられている反射層は、
70%程度の高い反射率をもたらすことから、また耐食
性などにおいても優れていることから一般にAu(金)
を用いて形成されている。しかし、Auは高価であるた
め、近年では、反射層をAu以外の金属、例えば、Ag
(銀)、Cu(銅)あるいはこれらを主成分とする合金
で形成することも行なわれている(例えば、特開平3−
286432号公報、同4−49539号公報)。上記
特開平3−286432号公報には、AgあるいはCu
を用いた場合には、Auを用いた場合より高い反射率が
得られると記載されている。
70%程度の高い反射率をもたらすことから、また耐食
性などにおいても優れていることから一般にAu(金)
を用いて形成されている。しかし、Auは高価であるた
め、近年では、反射層をAu以外の金属、例えば、Ag
(銀)、Cu(銅)あるいはこれらを主成分とする合金
で形成することも行なわれている(例えば、特開平3−
286432号公報、同4−49539号公報)。上記
特開平3−286432号公報には、AgあるいはCu
を用いた場合には、Auを用いた場合より高い反射率が
得られると記載されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明者は、CD−R
の実際の取扱方法に着目し、色素の光退色によるCD−
Rの性能の低下を抑制すべく検討を行なった。その検討
によると、CD−Rを使用したり、あるいは保存したり
する場合、一般にCD−Rはその保護層側を上にして操
作される。このため、実際には、基板面側(記録、再生
を行なう側)よりは寧ろ保護層側に、より多くの光が照
射される。しかし、従来では、保護層側から入射した光
は反射層で殆ど反射されるため、保護層側から入射した
光の色素記録層への影響については、殆ど考慮されてい
なかった。本発明者の更なる検討によると、保護層側か
ら入射し、反射層で反射されなかった光の一部は、反射
層で吸収されたり、あるいは反射層を透過して色素記録
層にまで達し、色素に悪影響を与えることが判明した。
特に、Auに比べて比較的不安定な(反応性の高い)金
属(例、Ag)で反射層を構成した場合には、例えば、
反射率の低下やデータ再生エラーが発生し易くなること
がわかった。
の実際の取扱方法に着目し、色素の光退色によるCD−
Rの性能の低下を抑制すべく検討を行なった。その検討
によると、CD−Rを使用したり、あるいは保存したり
する場合、一般にCD−Rはその保護層側を上にして操
作される。このため、実際には、基板面側(記録、再生
を行なう側)よりは寧ろ保護層側に、より多くの光が照
射される。しかし、従来では、保護層側から入射した光
は反射層で殆ど反射されるため、保護層側から入射した
光の色素記録層への影響については、殆ど考慮されてい
なかった。本発明者の更なる検討によると、保護層側か
ら入射し、反射層で反射されなかった光の一部は、反射
層で吸収されたり、あるいは反射層を透過して色素記録
層にまで達し、色素に悪影響を与えることが判明した。
特に、Auに比べて比較的不安定な(反応性の高い)金
属(例、Ag)で反射層を構成した場合には、例えば、
反射率の低下やデータ再生エラーが発生し易くなること
がわかった。
【0007】本発明の目的は、耐光性が改良した光情報
記録媒体(光ディスク)を提供することである。本発明
は、保護層が設けられている側の表面から照射される光
による記録再生特性の低下を防止し、特に、Au以外の
金属で反射層を形成した場合でも高い耐光性が実現でき
る追記型の光情報記録媒体を提供することを目的とする
ものである。
記録媒体(光ディスク)を提供することである。本発明
は、保護層が設けられている側の表面から照射される光
による記録再生特性の低下を防止し、特に、Au以外の
金属で反射層を形成した場合でも高い耐光性が実現でき
る追記型の光情報記録媒体を提供することを目的とする
ものである。
【0008】本発明者は前記のような記録再生特性が低
下する原因について研究を重ねた。その結果、反射層を
Au以外の比較的反応性の高い金属(例、Ag)で形成
した場合には特に、保護層側からの光によって更にその
活性が高められ、色素記録層の色素とその界面での反応
が起り易くなり、これらの反応が性能低下の一因となっ
ていることが判明した。例えば、色素化合物として、C
lO4 -イオンを持つベンゾインドレニン骨格を有するシ
アニン色素(例えば、特開平4−175188号公報)
を使用した場合には、色素記録層と反射層の界面での化
学反応が起るのか、Agが変質して、色素の記録特性を
変化させて、性能が低下することもあった。
下する原因について研究を重ねた。その結果、反射層を
Au以外の比較的反応性の高い金属(例、Ag)で形成
した場合には特に、保護層側からの光によって更にその
活性が高められ、色素記録層の色素とその界面での反応
が起り易くなり、これらの反応が性能低下の一因となっ
ていることが判明した。例えば、色素化合物として、C
lO4 -イオンを持つベンゾインドレニン骨格を有するシ
アニン色素(例えば、特開平4−175188号公報)
を使用した場合には、色素記録層と反射層の界面での化
学反応が起るのか、Agが変質して、色素の記録特性を
変化させて、性能が低下することもあった。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者の研究により、
保護層を有する追記型の光情報記録媒体において、保護
層上に更に保護層より紫外線吸収機能が高い紫外線吸収
層を設けることにより、上記のような反応が抑えられ、
従って、反射率の低下やデータ再生エラーの発生が低減
した光情報記録媒体を製造できることが見出された。
保護層を有する追記型の光情報記録媒体において、保護
層上に更に保護層より紫外線吸収機能が高い紫外線吸収
層を設けることにより、上記のような反応が抑えられ、
従って、反射率の低下やデータ再生エラーの発生が低減
した光情報記録媒体を製造できることが見出された。
【0010】本発明は、透明基板上に、レーザ光の照射
により情報を記録することができる色素記録層、反射層
および保護層がこの順に積層されてなる光情報記録媒体
であって、該保護層上に、該保護層より紫外線吸収性が
高い紫外線吸収層が設けられていることを特徴とする光
情報記録媒体にある。ここで、吸光度とは、測定対象の
層に入射する光の強度をI0 とし、その光が該層を透過
した時の光の強度をIとした場合、log(I0 /I)
で定義される数値を意味する。なお、保護層に紫外線吸
収剤を添加し、保護層の紫外線吸収機能を高めることも
考えられる。しかし、特開平4−175188号公報に
開示されているように保護層中に紫外線吸収剤を添加し
た場合には、保護層の機械的強度が低下し、例えば、外
部からの衝撃に対して弱くなり、その表面に傷が生じ易
くなったり、またレーザ記録する場合には光反射層の変
形が生じ易くなるなどの好ましくない影響が出易くな
る。
により情報を記録することができる色素記録層、反射層
および保護層がこの順に積層されてなる光情報記録媒体
であって、該保護層上に、該保護層より紫外線吸収性が
高い紫外線吸収層が設けられていることを特徴とする光
情報記録媒体にある。ここで、吸光度とは、測定対象の
層に入射する光の強度をI0 とし、その光が該層を透過
した時の光の強度をIとした場合、log(I0 /I)
で定義される数値を意味する。なお、保護層に紫外線吸
収剤を添加し、保護層の紫外線吸収機能を高めることも
考えられる。しかし、特開平4−175188号公報に
開示されているように保護層中に紫外線吸収剤を添加し
た場合には、保護層の機械的強度が低下し、例えば、外
部からの衝撃に対して弱くなり、その表面に傷が生じ易
くなったり、またレーザ記録する場合には光反射層の変
形が生じ易くなるなどの好ましくない影響が出易くな
る。
【0011】本発明の情報記録媒体は、以下の態様であ
ることが好ましい。 (1)紫外線吸収層が、350〜400nmの波長範囲
において、保護層よりも高い吸光度(平均)を示す層で
ある。更に好ましくは、350〜400nmの全領域で
保護層よりも高い吸光度を示す層である。 (2)400nmの波長の光に対する紫外線吸収層の吸
光度が0.5以上(更に好ましくは、0.9以上)であ
る。 (3)350〜400nmの波長範囲の光に対する紫外
線吸収層の吸光度(平均あるいは全領域)が保護層より
も0.3以上(更に好ましくは0.5以上、特に0.7
以上)高い。 (4)紫外線吸収層が0.01〜30重量%(好ましく
は、0.1〜10重量%、特に、0.2〜5重量%)の
範囲で紫外線吸収剤を含んでいる。 (5)反射層が、Ag金属、もしくはAg金属とPt、
Cu、Au及びAlからなる群より選ばれる少なくとも
一種の金属からなる合金の層である。 (6)紫外線吸収層が5〜30μm(更に好ましくは、
8〜20μm)の厚みで形成されている。
ることが好ましい。 (1)紫外線吸収層が、350〜400nmの波長範囲
において、保護層よりも高い吸光度(平均)を示す層で
ある。更に好ましくは、350〜400nmの全領域で
保護層よりも高い吸光度を示す層である。 (2)400nmの波長の光に対する紫外線吸収層の吸
光度が0.5以上(更に好ましくは、0.9以上)であ
る。 (3)350〜400nmの波長範囲の光に対する紫外
線吸収層の吸光度(平均あるいは全領域)が保護層より
も0.3以上(更に好ましくは0.5以上、特に0.7
以上)高い。 (4)紫外線吸収層が0.01〜30重量%(好ましく
は、0.1〜10重量%、特に、0.2〜5重量%)の
範囲で紫外線吸収剤を含んでいる。 (5)反射層が、Ag金属、もしくはAg金属とPt、
Cu、Au及びAlからなる群より選ばれる少なくとも
一種の金属からなる合金の層である。 (6)紫外線吸収層が5〜30μm(更に好ましくは、
8〜20μm)の厚みで形成されている。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明の光情報記録媒体は、透明
基板上に、色素記録層、反射層および保護層がこの順に
積層されてなり、その保護層上に該保護層より紫外線吸
収性が高い紫外線吸収層が設けられていることを特徴と
するものである。以下に、基板、色素記録層、反射層、
保護層、そして紫外線吸収層を含む本発明の光情報記録
媒体を製造する方法を順に説明する。
基板上に、色素記録層、反射層および保護層がこの順に
積層されてなり、その保護層上に該保護層より紫外線吸
収性が高い紫外線吸収層が設けられていることを特徴と
するものである。以下に、基板、色素記録層、反射層、
保護層、そして紫外線吸収層を含む本発明の光情報記録
媒体を製造する方法を順に説明する。
【0013】透明基板は、従来の光情報記録媒体の基板
として用いられている各種の材料から任意に選択するこ
とができる。基板材料としては、例えばガラス;ポリカ
ーボネート;ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹
脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニ
ル系樹脂;エポキシ樹脂;アモルファスポリオレフィン
およびポリエステルなどを挙げることができる。これら
の材料は所望により併用してもよい。なお、これらの材
料はフィルム状としてまたは剛性のある基板として使う
ことができる。上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性
および価格などの点からポリカーボネートが好ましい。
として用いられている各種の材料から任意に選択するこ
とができる。基板材料としては、例えばガラス;ポリカ
ーボネート;ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹
脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニ
ル系樹脂;エポキシ樹脂;アモルファスポリオレフィン
およびポリエステルなどを挙げることができる。これら
の材料は所望により併用してもよい。なお、これらの材
料はフィルム状としてまたは剛性のある基板として使う
ことができる。上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性
および価格などの点からポリカーボネートが好ましい。
【0014】記録層が設けられる側の基板表面には、平
面性の改善、接着力の向上および記録層の変質防止の目
的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層の材料として
はたとえば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・
メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重
合体、ポリビニルアルコール、N−メチロールアクリル
アミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルス
ルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビ
ニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミ
ド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸
ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
カーボネート等の高分子物質;およびシランカップリン
グ剤などの表面改質剤を挙げることができる。
面性の改善、接着力の向上および記録層の変質防止の目
的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層の材料として
はたとえば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・
メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重
合体、ポリビニルアルコール、N−メチロールアクリル
アミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルス
ルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビ
ニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミ
ド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸
ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
カーボネート等の高分子物質;およびシランカップリン
グ剤などの表面改質剤を挙げることができる。
【0015】下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解ま
たは分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピン
コート、ディップコート、エクストルージョンコートな
どの塗布法を利用して基板表面に塗布することにより形
成することができる。下塗層の層厚は一般に0.005
〜20μmの範囲にあり、好ましくは0.01〜10μ
mの範囲である。
たは分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピン
コート、ディップコート、エクストルージョンコートな
どの塗布法を利用して基板表面に塗布することにより形
成することができる。下塗層の層厚は一般に0.005
〜20μmの範囲にあり、好ましくは0.01〜10μ
mの範囲である。
【0016】基板(または下塗層)上には、トラッキン
グ用溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸(プレ
グルーブ)が形成されていることが好ましい。このプレ
グルーブは、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成
形あるいは押出成形する際に直接基板上に形成されるこ
とが好ましい。
グ用溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸(プレ
グルーブ)が形成されていることが好ましい。このプレ
グルーブは、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成
形あるいは押出成形する際に直接基板上に形成されるこ
とが好ましい。
【0017】また、プレグルーブの形成を、プレグルー
ブ層を設けることにより行ってもよい。プレグルーブ層
の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエステ
ル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少なく
とも一種のモノマー(またはオリゴマー)と光重合開始
剤との混合物を用いることができる。プレグルーブ層の
形成は、例えば、まず精密に作られた母型(スタンパ)
上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開始剤からな
る混合液を塗布し、更にこの塗布液層上に基板を載せた
のち、基板または母型を介して紫外線を照射することに
より塗布層を硬化させて基板と塗布層とを固着させる。
次いで、基板を母型から剥離することにより得ることが
できる。プレグルーブ層の層厚は一般に、0.05〜1
00μmの範囲にあり、好ましくは0.1〜50μmの
範囲である。
ブ層を設けることにより行ってもよい。プレグルーブ層
の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエステ
ル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少なく
とも一種のモノマー(またはオリゴマー)と光重合開始
剤との混合物を用いることができる。プレグルーブ層の
形成は、例えば、まず精密に作られた母型(スタンパ)
上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開始剤からな
る混合液を塗布し、更にこの塗布液層上に基板を載せた
のち、基板または母型を介して紫外線を照射することに
より塗布層を硬化させて基板と塗布層とを固着させる。
次いで、基板を母型から剥離することにより得ることが
できる。プレグルーブ層の層厚は一般に、0.05〜1
00μmの範囲にあり、好ましくは0.1〜50μmの
範囲である。
【0018】プレグルーブの深さは0.01〜0.3μ
mの範囲にあることが好ましく、またその半値幅は、
0.2〜0.9μmの範囲にあることが好ましい。また
プレグルーブ層の深さを0.15〜0.2μmの範囲と
することにより反射率を殆ど低下させることなく感度を
向上させることができ、特に好ましい。従って、このよ
うな光ディスク(深いグルーブの基板に色素の記録層お
よび光反射層が形成された光ディスク)は、高い感度を
有することから、低いレーザーパワーでも記録が可能と
なり、これにより安価な半導体レーザの使用が可能とな
る、あるいは半導体レーザの使用寿命を延ばすことがで
きる等の利点を有する。
mの範囲にあることが好ましく、またその半値幅は、
0.2〜0.9μmの範囲にあることが好ましい。また
プレグルーブ層の深さを0.15〜0.2μmの範囲と
することにより反射率を殆ど低下させることなく感度を
向上させることができ、特に好ましい。従って、このよ
うな光ディスク(深いグルーブの基板に色素の記録層お
よび光反射層が形成された光ディスク)は、高い感度を
有することから、低いレーザーパワーでも記録が可能と
なり、これにより安価な半導体レーザの使用が可能とな
る、あるいは半導体レーザの使用寿命を延ばすことがで
きる等の利点を有する。
【0019】基板上には色素記録層が設けられる。色素
記録層に用いられる色素は特に限定されない。例えば、
シアニン系色素、フタロシアニン系色素、イミダゾキノ
キサリン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色
素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、N
i、Crなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、
アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、メロ
シアニン系色素、オキソノール系色素、ナフトアニリン
系色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン
系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素及びニト
ロソ化合物を挙げることができる。これらの色素のうち
では、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、アズレ
ニウム系色素、スクワリリウム系色素、オキソノール系
色素及びイミダゾキノキサリン系色素が好ましい。特に
好ましくは、シアニン系色素である。これらのシアニン
系色素は、例えば、前記の特開平4−175188号公
報に記載されている。
記録層に用いられる色素は特に限定されない。例えば、
シアニン系色素、フタロシアニン系色素、イミダゾキノ
キサリン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色
素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、N
i、Crなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、
アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、メロ
シアニン系色素、オキソノール系色素、ナフトアニリン
系色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン
系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素及びニト
ロソ化合物を挙げることができる。これらの色素のうち
では、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、アズレ
ニウム系色素、スクワリリウム系色素、オキソノール系
色素及びイミダゾキノキサリン系色素が好ましい。特に
好ましくは、シアニン系色素である。これらのシアニン
系色素は、例えば、前記の特開平4−175188号公
報に記載されている。
【0020】色素記録層の形成は、色素、好ましくは更
に退色防止剤を(所望により結合剤を加えて)溶剤に溶
解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に
塗布して塗膜を形成したのち乾燥することにより行なう
ことができる。退色防止剤を併用する場合には、その使
用量は、シアニン色素の量に対して、通常0.1〜50
重量%の範囲であり、好ましくは、0.5〜45重量%
の範囲、更に好ましくは、3〜40重量%の範囲、特に
5〜25重量%の範囲である。
に退色防止剤を(所望により結合剤を加えて)溶剤に溶
解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に
塗布して塗膜を形成したのち乾燥することにより行なう
ことができる。退色防止剤を併用する場合には、その使
用量は、シアニン色素の量に対して、通常0.1〜50
重量%の範囲であり、好ましくは、0.5〜45重量%
の範囲、更に好ましくは、3〜40重量%の範囲、特に
5〜25重量%の範囲である。
【0021】色素記録層の塗布液の溶剤の例としては、
酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル;メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチ
ルケトンなどのケトン;ジクロルメタン、1,2−ジク
ロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素;ジメ
チルホルムアミドなどのアミド;シクロヘキサンなどの
炭化水素;テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオ
キサンなどのエーテル;エタノール、n−プロパノー
ル、イソプロパノール、n−ブタノール、ジアセトンア
ルコールなどのアルコール;2,2,3,3−テトラフ
ロロプロパノールなどのフッ素系溶剤;エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
などのグリコールエーテル類などを挙げることができ
る。上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独ま
たは二種以上を適宜併用することができる。塗布液中に
は更に酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、潤滑剤など各
種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル;メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチ
ルケトンなどのケトン;ジクロルメタン、1,2−ジク
ロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素;ジメ
チルホルムアミドなどのアミド;シクロヘキサンなどの
炭化水素;テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオ
キサンなどのエーテル;エタノール、n−プロパノー
ル、イソプロパノール、n−ブタノール、ジアセトンア
ルコールなどのアルコール;2,2,3,3−テトラフ
ロロプロパノールなどのフッ素系溶剤;エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
などのグリコールエーテル類などを挙げることができ
る。上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独ま
たは二種以上を適宜併用することができる。塗布液中に
は更に酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、潤滑剤など各
種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【0022】退色防止剤の代表的な例としては、ニトロ
ソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩
などを挙げることができる。これらの例は、前記の特開
平2−300288号、同3−224793号、あるい
は同4−146189号等の各公報に記載されている。
ソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩
などを挙げることができる。これらの例は、前記の特開
平2−300288号、同3−224793号、あるい
は同4−146189号等の各公報に記載されている。
【0023】結合剤の例としては、例えば、ゼラチン、
セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの
天然有機高分子物質;およびポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系
樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化
ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポ
リアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアク
リル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレ
ン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期
縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。色
素記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤
の使用量は、色素100重量部に対して、上限が20重
量部、好ましくは10重量部、更に好ましくは5重量部
にとどめるべきである。
セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの
天然有機高分子物質;およびポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系
樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化
ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポ
リアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアク
リル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレ
ン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期
縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。色
素記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤
の使用量は、色素100重量部に対して、上限が20重
量部、好ましくは10重量部、更に好ましくは5重量部
にとどめるべきである。
【0024】このようにして調製される色素記録層の塗
布液中の色素の濃度は一般に0.01〜10重量%の範
囲にあり、好ましくは0.1〜5重量%の範囲にある。
布液中の色素の濃度は一般に0.01〜10重量%の範
囲にあり、好ましくは0.1〜5重量%の範囲にある。
【0025】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、及びスクリーン印刷法などを挙
げることができる。色素記録層は単層でも重層でもよ
い。記録層の層厚(乾燥後)は一般に20〜500nm
の範囲にあり、好ましくは50〜300nmの範囲にあ
る。
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、及びスクリーン印刷法などを挙
げることができる。色素記録層は単層でも重層でもよ
い。記録層の層厚(乾燥後)は一般に20〜500nm
の範囲にあり、好ましくは50〜300nmの範囲にあ
る。
【0026】上記色素記録層の上には、特に情報の再生
時における反射率の向上の目的で、反射層が設けられ
る。反射層の材料である光反射性物質はレーザ光に対す
る反射率が高い物質であり、その例としては、Mg、S
e、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、M
o、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、
Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、A
l、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、S
n、Biなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を
挙げることができる。これらの物質は単独で用いてもよ
いし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として
用いてもよい。
時における反射率の向上の目的で、反射層が設けられ
る。反射層の材料である光反射性物質はレーザ光に対す
る反射率が高い物質であり、その例としては、Mg、S
e、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、M
o、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、
Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、A
l、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、S
n、Biなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を
挙げることができる。これらの物質は単独で用いてもよ
いし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として
用いてもよい。
【0027】本発明の構成は、反射層がAg金属、もし
くはAg合金からなる層である場合に特に有効である。
具体的には、反射層が、Ag金属又はPt、Cu、Au
及びAlから選ばれる少なくとも一種の金属を含むAg
合金から形成されている場合に有効である。上記Ag合
金の場合、Ag金属以外の金属の含有率は、多くても4
0重量%であり、好ましくは、30重量%以下であり、
更に好ましくは、20重量%以下である。なお、反射層
には、保存安定性等の特性を更に改良するために、例え
ば、酸素、フッ素、硫黄などの他の元素やその他の化合
物を少量添加してもよい。
くはAg合金からなる層である場合に特に有効である。
具体的には、反射層が、Ag金属又はPt、Cu、Au
及びAlから選ばれる少なくとも一種の金属を含むAg
合金から形成されている場合に有効である。上記Ag合
金の場合、Ag金属以外の金属の含有率は、多くても4
0重量%であり、好ましくは、30重量%以下であり、
更に好ましくは、20重量%以下である。なお、反射層
には、保存安定性等の特性を更に改良するために、例え
ば、酸素、フッ素、硫黄などの他の元素やその他の化合
物を少量添加してもよい。
【0028】反射層は、例えば、光反射性物質を蒸着、
スパッタリングまたはイオンプレーティングすることに
より色素記録層の上に形成することができる。反射層の
層厚は、一般的には10〜800nmの範囲にあり、好
ましくは20〜500nmの範囲、更に好ましくは50
〜300nmの範囲である。
スパッタリングまたはイオンプレーティングすることに
より色素記録層の上に形成することができる。反射層の
層厚は、一般的には10〜800nmの範囲にあり、好
ましくは20〜500nmの範囲、更に好ましくは50
〜300nmの範囲である。
【0029】反射層の上には、色素記録層などを物理的
および化学的に保護する目的で保護層を設ける。この保
護層は、基板の色素記録層が設けられていない側にも耐
傷性、耐湿性を高める目的で設けることもできる。保護
層に用いられる材料の例としては、SiO、SiO2 、
MgF2 、SnO2 、Si3 N4 等の無機物質、熱可塑
性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物質を
挙げることができる。保護層は、例えば、プラスチック
の押出加工で得られたフィルムを接着剤を介して反射層
上及び/または基板上にラミネートすることにより形成
することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリン
グ、塗布等の方法により設けられていてもよい。また、
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当
な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を
塗布し、乾燥することによっても形成することができ
る。UV硬化性樹脂の場合には、溶剤を用いることなく
そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し
たのちこの塗布液を塗布し、UV光を照射して硬化させ
ることによっても形成することができる。これらの塗布
液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤等の各種添加剤
を目的に応じて添加してもよい。保護層の層厚は一般に
は0.1〜100μmの範囲にある。
および化学的に保護する目的で保護層を設ける。この保
護層は、基板の色素記録層が設けられていない側にも耐
傷性、耐湿性を高める目的で設けることもできる。保護
層に用いられる材料の例としては、SiO、SiO2 、
MgF2 、SnO2 、Si3 N4 等の無機物質、熱可塑
性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物質を
挙げることができる。保護層は、例えば、プラスチック
の押出加工で得られたフィルムを接着剤を介して反射層
上及び/または基板上にラミネートすることにより形成
することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリン
グ、塗布等の方法により設けられていてもよい。また、
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当
な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を
塗布し、乾燥することによっても形成することができ
る。UV硬化性樹脂の場合には、溶剤を用いることなく
そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し
たのちこの塗布液を塗布し、UV光を照射して硬化させ
ることによっても形成することができる。これらの塗布
液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤等の各種添加剤
を目的に応じて添加してもよい。保護層の層厚は一般に
は0.1〜100μmの範囲にある。
【0030】保護層の上には紫外線吸収層が設けられ
る。紫外線吸収層は、保護層よりも紫外線吸収性が高い
層である。この紫外線吸収層は350〜400nmの波
長範囲において、保護層よりも高い吸光度(平均)を示
す層であることが好ましく、更に好ましくは、350〜
400nmの全領域で保護層よりも高い吸光度を示す層
である。そして400nmの波長の光に対する紫外線吸
収層の吸光度は0.5以上(更に好ましくは、0.9以
上)であることが好ましい。また、紫外線吸収層は35
0〜400nmの波長範囲の光に対する吸光度(平均あ
るいは全領域)が保護層よりも0.3以上(更に好まし
くは、0.5以上、特に、0.7以上)高いことが好ま
しい。紫外線吸収層は、例えば、結合剤と紫外線吸収剤
とから形成することができる。
る。紫外線吸収層は、保護層よりも紫外線吸収性が高い
層である。この紫外線吸収層は350〜400nmの波
長範囲において、保護層よりも高い吸光度(平均)を示
す層であることが好ましく、更に好ましくは、350〜
400nmの全領域で保護層よりも高い吸光度を示す層
である。そして400nmの波長の光に対する紫外線吸
収層の吸光度は0.5以上(更に好ましくは、0.9以
上)であることが好ましい。また、紫外線吸収層は35
0〜400nmの波長範囲の光に対する吸光度(平均あ
るいは全領域)が保護層よりも0.3以上(更に好まし
くは、0.5以上、特に、0.7以上)高いことが好ま
しい。紫外線吸収層は、例えば、結合剤と紫外線吸収剤
とから形成することができる。
【0031】使用できる紫外線吸収剤としては、例え
ば、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、シュウ
酸アニリド系、及びシアノアクリレート系の化合物を挙
げることができる。中でも好ましいのは、ベンゾトリア
ゾール系、及びベンゾフェノン系である。具体的には、
ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤としては、2−
(2’−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリ
アゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチ
ル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリア
ゾール、2−(2’−ヒドロキシ−4’−n−オクチル
オキシフェニル)ベンゾトリアゾールを挙げることがで
きる。ベンゾフェノン系の紫外線吸収剤としては、2,
4−ジヒドロキシベンゾフェノン(I)、2−ヒドロキ
シ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロ
キシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−
4−メトキシ−2’−カルボキシキベンゾフェノン、2
−ヒドロキシ−4−n−オクチルオキシベンゾフェノ
ン、2−ヒドロキシ−4−n−オクタデシルオキシベン
ゾフェノンを挙げることができる。
ば、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、シュウ
酸アニリド系、及びシアノアクリレート系の化合物を挙
げることができる。中でも好ましいのは、ベンゾトリア
ゾール系、及びベンゾフェノン系である。具体的には、
ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤としては、2−
(2’−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリ
アゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチ
ル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリア
ゾール、2−(2’−ヒドロキシ−4’−n−オクチル
オキシフェニル)ベンゾトリアゾールを挙げることがで
きる。ベンゾフェノン系の紫外線吸収剤としては、2,
4−ジヒドロキシベンゾフェノン(I)、2−ヒドロキ
シ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロ
キシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−
4−メトキシ−2’−カルボキシキベンゾフェノン、2
−ヒドロキシ−4−n−オクチルオキシベンゾフェノ
ン、2−ヒドロキシ−4−n−オクタデシルオキシベン
ゾフェノンを挙げることができる。
【0032】紫外線吸収層の結合剤としては、特に限定
されないが、生産性などを考慮すると、紫外線硬化樹脂
を用いることが好ましい。なお、結合剤は、熱によって
架橋反応を起す化合物であってもよい。紫外線硬化性樹
脂は、一般には分子中に一つ以上の反応性アクリル基を
持つ重合性化合物のモノマー又はオリゴマー、あるいは
これらの混合物に光重合開始剤が含まれてなるものであ
り、従来から紫外線硬化性樹脂として知られているもの
から選択して使用することができる。例えば、単官能モ
ノマーとしては、テトラヒドロフルフリルアクリレー
ト、エチルカルビトールアクリレート、ジシクロペンチ
ルオキシアクリレート、フェニルカルビトールアクリレ
ート、ノニルフェノキシエチルアクリレート、ヒドロキ
シエチルアクリレーント、2−ヒドロキシ−3−フェノ
キシプロピルアクリーレート、アクリルアミド、アクロ
イルモルホリン、ジメチルアクリルアミド、ジエチルア
クリルアミド、N−ビニルピロリドンを挙げることがで
きる。多官能アクリレートとしては、ポリオールポリア
クリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアク
リレート、ウレタンアクリレート、ペンタエリスリトー
ルジ(トリ)アクリレート、N,N’−メチレンビスア
クリルアミド、ヘキサメチレンビスアクリルアミドなど
を挙げることができる。好ましいものとしては、アクリ
ルアミド基、ビニルアミノ基、又は水酸基などの極性基
を有する単官能又は多官能モノマー又はオリゴマーを挙
げることができる。
されないが、生産性などを考慮すると、紫外線硬化樹脂
を用いることが好ましい。なお、結合剤は、熱によって
架橋反応を起す化合物であってもよい。紫外線硬化性樹
脂は、一般には分子中に一つ以上の反応性アクリル基を
持つ重合性化合物のモノマー又はオリゴマー、あるいは
これらの混合物に光重合開始剤が含まれてなるものであ
り、従来から紫外線硬化性樹脂として知られているもの
から選択して使用することができる。例えば、単官能モ
ノマーとしては、テトラヒドロフルフリルアクリレー
ト、エチルカルビトールアクリレート、ジシクロペンチ
ルオキシアクリレート、フェニルカルビトールアクリレ
ート、ノニルフェノキシエチルアクリレート、ヒドロキ
シエチルアクリレーント、2−ヒドロキシ−3−フェノ
キシプロピルアクリーレート、アクリルアミド、アクロ
イルモルホリン、ジメチルアクリルアミド、ジエチルア
クリルアミド、N−ビニルピロリドンを挙げることがで
きる。多官能アクリレートとしては、ポリオールポリア
クリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアク
リレート、ウレタンアクリレート、ペンタエリスリトー
ルジ(トリ)アクリレート、N,N’−メチレンビスア
クリルアミド、ヘキサメチレンビスアクリルアミドなど
を挙げることができる。好ましいものとしては、アクリ
ルアミド基、ビニルアミノ基、又は水酸基などの極性基
を有する単官能又は多官能モノマー又はオリゴマーを挙
げることができる。
【0033】光重合開始剤としては、ベンゾイン、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾイン又はそ
のエーテル、ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系化
合物、ベンジル、ベンジルメチルケタール、ベンジルエ
チルケタールなどのベンジル系化合物、1−フェニル−
2−ヒドロキシ−2−メチル−2−プロパンなどのヒド
ロキシアルキルフェニルケトン系化合物などを挙げるこ
とができる。
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾイン又はそ
のエーテル、ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系化
合物、ベンジル、ベンジルメチルケタール、ベンジルエ
チルケタールなどのベンジル系化合物、1−フェニル−
2−ヒドロキシ−2−メチル−2−プロパンなどのヒド
ロキシアルキルフェニルケトン系化合物などを挙げるこ
とができる。
【0034】紫外線吸収層は、例えば、結合剤として、
上記のような紫外線硬化性樹脂を用いる場合には、溶剤
を用いることなくそのままの紫外線硬化性樹脂に、ある
いは適当な溶剤に溶解した紫外線硬化性樹脂に、前記の
紫外線吸収剤を加えて溶解、分散させた塗布液を調製
し、これを保護層の上に塗布することにより、形成する
ことができる。塗布方法は、スピンコート法、スクリー
ン印刷法などの公知の方法を利用することができる。紫
外線吸収層は、レーザ光の照射による記録再生特性が良
好に得られるように、保護層表面の全面に均一に形成さ
れていることが好ましい。紫外線吸収剤を多量に使用す
る程、吸収性能を高めることができるが、形成される層
の機械的強度が低下するため、これらのバランスにより
紫外線吸収剤の使用量が設定される。紫外線吸収層中の
紫外線吸収剤の含有量は、0.01〜30重量%(更に
好ましくは、0.1〜10重量%、特に好ましくは、
0.2〜5重量%)の範囲にあることが好ましい。ま
た、紫外線吸収層は、5〜30μm(更に好ましくは、
8〜20μm)の厚みで形成されていることが好まし
い。
上記のような紫外線硬化性樹脂を用いる場合には、溶剤
を用いることなくそのままの紫外線硬化性樹脂に、ある
いは適当な溶剤に溶解した紫外線硬化性樹脂に、前記の
紫外線吸収剤を加えて溶解、分散させた塗布液を調製
し、これを保護層の上に塗布することにより、形成する
ことができる。塗布方法は、スピンコート法、スクリー
ン印刷法などの公知の方法を利用することができる。紫
外線吸収層は、レーザ光の照射による記録再生特性が良
好に得られるように、保護層表面の全面に均一に形成さ
れていることが好ましい。紫外線吸収剤を多量に使用す
る程、吸収性能を高めることができるが、形成される層
の機械的強度が低下するため、これらのバランスにより
紫外線吸収剤の使用量が設定される。紫外線吸収層中の
紫外線吸収剤の含有量は、0.01〜30重量%(更に
好ましくは、0.1〜10重量%、特に好ましくは、
0.2〜5重量%)の範囲にあることが好ましい。ま
た、紫外線吸収層は、5〜30μm(更に好ましくは、
8〜20μm)の厚みで形成されていることが好まし
い。
【0035】本発明の光情報記録媒体は、CD−R型の
光ディスクに有効であるが、DVD−R型の光ディスク
においても利用できる。
光ディスクに有効であるが、DVD−R型の光ディスク
においても利用できる。
【0036】本発明の光情報記録方法は、上記光情報記
録媒体を用いて、例えば、次のように行われる。本発明
の光情報記録媒体は、下記のように、通常のCDフォー
マットの場合の1倍速(1.2〜1.4m/秒)での記
録再生が可能であると共に、4倍速、6倍速、もしくは
それ以上の高速での記録再生も可能である。まず、光情
報記録媒体を所定の定線速度(CDフォーマットの場合
は1.2〜14m/秒)または所定の定角速度にて回転
させながら、基板側から半導体レーザー光などの記録用
の光を照射する。この光の照射により、色素記録層の照
射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、ピット
が生成してその光学的特性を変えることにより情報が記
録される。記録光としては500nm〜850nmの範
囲の発振波長を有する半導体レーザービームが用いられ
る。用いられるレーザービームの波長は好ましくは50
0nm以上、800nm以下である。CD−R型の光情
報記録媒体においては770〜790nmの範囲の波長
が適している。またDVD−R型の光情報記録媒体にお
いては620〜680nmの範囲の波長が適している。
上記のように記録された情報の再生は、光情報記録媒体
を所定の定線速度で回転させながら半導体レーザ光を基
板側から照射して、その反射光を検出することにより行
うことができる。
録媒体を用いて、例えば、次のように行われる。本発明
の光情報記録媒体は、下記のように、通常のCDフォー
マットの場合の1倍速(1.2〜1.4m/秒)での記
録再生が可能であると共に、4倍速、6倍速、もしくは
それ以上の高速での記録再生も可能である。まず、光情
報記録媒体を所定の定線速度(CDフォーマットの場合
は1.2〜14m/秒)または所定の定角速度にて回転
させながら、基板側から半導体レーザー光などの記録用
の光を照射する。この光の照射により、色素記録層の照
射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、ピット
が生成してその光学的特性を変えることにより情報が記
録される。記録光としては500nm〜850nmの範
囲の発振波長を有する半導体レーザービームが用いられ
る。用いられるレーザービームの波長は好ましくは50
0nm以上、800nm以下である。CD−R型の光情
報記録媒体においては770〜790nmの範囲の波長
が適している。またDVD−R型の光情報記録媒体にお
いては620〜680nmの範囲の波長が適している。
上記のように記録された情報の再生は、光情報記録媒体
を所定の定線速度で回転させながら半導体レーザ光を基
板側から照射して、その反射光を検出することにより行
うことができる。
【0037】
【実施例】以下に本発明の実施例と比較例を記載する。 [実施例1]下記のシアニン色素(A)と該色素に対し
て10重量%の退色防止剤(B)とを2,2,3,3−
テトラフルオロプロパノールに溶解し、色素記録層形成
用塗布液を調製した。塗布液の調製には、超音波溶解法
を利用して1時間行なった。得られた溶液の濃度は、
2.65%重量/体積であった。
て10重量%の退色防止剤(B)とを2,2,3,3−
テトラフルオロプロパノールに溶解し、色素記録層形成
用塗布液を調製した。塗布液の調製には、超音波溶解法
を利用して1時間行なった。得られた溶液の濃度は、
2.65%重量/体積であった。
【0038】
【化1】
【0039】
【化2】
【0040】この塗布液を、表面にスパイラル状のプレ
グルーブ(トラックピッチ:1.6μm、プレグルーブ
幅:0.5μm、プレグルーブの深さ:0.17μm)
が射出成形により形成されたポリカーボネート基板(直
径:120mm、厚さ:1.2mm、帝人(株)製、商
品名:パンライトAD5503)のそのプレグルーブ側
の表面にスピンコートにより塗布し、乾燥することによ
り、色素記録層(厚さ(グルーブ内):約150nm)
を形成した。
グルーブ(トラックピッチ:1.6μm、プレグルーブ
幅:0.5μm、プレグルーブの深さ:0.17μm)
が射出成形により形成されたポリカーボネート基板(直
径:120mm、厚さ:1.2mm、帝人(株)製、商
品名:パンライトAD5503)のそのプレグルーブ側
の表面にスピンコートにより塗布し、乾燥することによ
り、色素記録層(厚さ(グルーブ内):約150nm)
を形成した。
【0041】次に、色素記録層上にAg金属をスパッタ
して(DCマグネトロンスパッタ装置:スパッタ電力:
1.5kW、スパッタガス圧:2Pa、スパッタガス:
Ar、Arの流量50sccmを用いた)、膜厚約90
nmの光反射層を形成した。更に光反射層上に、UV硬
化性樹脂(商品名:SD−1700、大日本インキ化学
工業(株)製)をスピンコートにより塗布した後、この
上から紫外線を照射して硬化させ、層厚10μmの保護
層を形成した。
して(DCマグネトロンスパッタ装置:スパッタ電力:
1.5kW、スパッタガス圧:2Pa、スパッタガス:
Ar、Arの流量50sccmを用いた)、膜厚約90
nmの光反射層を形成した。更に光反射層上に、UV硬
化性樹脂(商品名:SD−1700、大日本インキ化学
工業(株)製)をスピンコートにより塗布した後、この
上から紫外線を照射して硬化させ、層厚10μmの保護
層を形成した。
【0042】このようにして得られた保護層上に、紫外
線吸収剤を含有するUV硬化性樹脂(UVscreen
395、INC−TEC社製)をスクリーン印刷(3
00メッシュ)により、保護層の上に全面に印刷した。
そしてこの上から、高圧水銀灯にて紫外線を照射し、樹
脂を硬化させ、層厚12μmの紫外線吸収層を形成し
た。以上の工程により、基板、色素記録層、光反射層、
保護層及び紫外線吸収層がこの順で積層してなる本発明
に従うCD−R型の光ディスクを製造した。
線吸収剤を含有するUV硬化性樹脂(UVscreen
395、INC−TEC社製)をスクリーン印刷(3
00メッシュ)により、保護層の上に全面に印刷した。
そしてこの上から、高圧水銀灯にて紫外線を照射し、樹
脂を硬化させ、層厚12μmの紫外線吸収層を形成し
た。以上の工程により、基板、色素記録層、光反射層、
保護層及び紫外線吸収層がこの順で積層してなる本発明
に従うCD−R型の光ディスクを製造した。
【0043】[実施例2]実施例1において、シアニン
色素(A)の代わりに下記のシアニン色素(C)を、そ
して退色防止剤(B)の代わりに下記の退色防止剤
(D)をそれぞれ用いたこと以外は同様にして色素記録
層形成用塗布液を調製した。
色素(A)の代わりに下記のシアニン色素(C)を、そ
して退色防止剤(B)の代わりに下記の退色防止剤
(D)をそれぞれ用いたこと以外は同様にして色素記録
層形成用塗布液を調製した。
【0044】
【化3】
【0045】
【化4】
【0046】この塗布液を、表面にスパイラル状のプレ
グルーブ(トラックピッチ:1.6μm、プレグルーブ
幅:0.4μm、プレグルーブの深さ:0.16μm)
が射出成形により形成されたポリカーボネート製の透明
基板(直径:120mm、厚さ:1.2mm、帝人
(株)製、商品名:パンライトAD5503)のそのプ
レグルーブ側の表面に、回転数を300rpm〜200
0rpmまで変化させながらスピンコートにより塗布
し、乾燥させることにより、記録層(厚さ(プレグルー
ブ内):約150nm)を形成した。
グルーブ(トラックピッチ:1.6μm、プレグルーブ
幅:0.4μm、プレグルーブの深さ:0.16μm)
が射出成形により形成されたポリカーボネート製の透明
基板(直径:120mm、厚さ:1.2mm、帝人
(株)製、商品名:パンライトAD5503)のそのプ
レグルーブ側の表面に、回転数を300rpm〜200
0rpmまで変化させながらスピンコートにより塗布
し、乾燥させることにより、記録層(厚さ(プレグルー
ブ内):約150nm)を形成した。
【0047】次に、記録層上に、Ag金属をスパッタし
て、膜厚約150nmの反射層を形成した。更に反射層
上に、UV硬化性樹脂(商品名:SD−2003、大日
本インキ化学工業(株)製)を、スピンコートにより回
転数を100rpm〜2000rpmまで変化させなが
ら塗布した後、高圧水銀灯にて紫外線を照射し、樹脂を
硬化させ、層厚8μmの保護層を形成した。
て、膜厚約150nmの反射層を形成した。更に反射層
上に、UV硬化性樹脂(商品名:SD−2003、大日
本インキ化学工業(株)製)を、スピンコートにより回
転数を100rpm〜2000rpmまで変化させなが
ら塗布した後、高圧水銀灯にて紫外線を照射し、樹脂を
硬化させ、層厚8μmの保護層を形成した。
【0048】このようにして得られた保護層上に、紫外
線吸収剤を含有するUV硬化性樹脂(UVscreen
395、INC−TEC社製)をスクリーン印刷(3
00メッシュ)により、保護層の上に全面に印刷した。
そしてこの上から、高圧水銀灯にて紫外線を照射し、樹
脂を硬化させ、層厚12μmの紫外線吸収層を形成し
た。以上の工程により、透明基板、色素記録層、反射
層、保護層及び紫外線吸収層がこの順で積層してなる本
発明に従うCD−R型の光ディスクを製造した。
線吸収剤を含有するUV硬化性樹脂(UVscreen
395、INC−TEC社製)をスクリーン印刷(3
00メッシュ)により、保護層の上に全面に印刷した。
そしてこの上から、高圧水銀灯にて紫外線を照射し、樹
脂を硬化させ、層厚12μmの紫外線吸収層を形成し
た。以上の工程により、透明基板、色素記録層、反射
層、保護層及び紫外線吸収層がこの順で積層してなる本
発明に従うCD−R型の光ディスクを製造した。
【0049】[比較例1]実施例1において、紫外線吸
収層を設けなかった以外は同様にして比較用のCD−R
型の光ディスクを製造した。
収層を設けなかった以外は同様にして比較用のCD−R
型の光ディスクを製造した。
【0050】[比較例2]実施例1において、紫外線吸
収層を保護層面の半分の領域のみに設けた以外は同様に
して比較用のCD−R型の光ディスクを製造した。
収層を保護層面の半分の領域のみに設けた以外は同様に
して比較用のCD−R型の光ディスクを製造した。
【0051】[紫外線吸収性能の評価]実施例1及び2
で使用した紫外線吸収剤を含有するUV硬化性樹脂(U
Vscreen 395、INC−TEC社製)からな
る層(紫外線吸収層)、及びUV硬化性樹脂(商品名:
SD−2003、大日本インキ化学工業(株)製;実施
例2で使用したもの)のみで形成された層(保護層)の
紫外線吸収性能を添付した図1に吸収スペクトルとして
示す。図1の吸収スペクトルAは、透明なポリカーボネ
ート基板(厚み:1.2mm)上に10μmの厚みで紫
外線吸収層を設けたサンプルの吸収スペクトルを示すも
のである。また図1の吸収スペクトルBは、上記と同じ
透明なポリカーボネート基板上に10μmの厚みで保護
層(紫外線硬化樹脂のみで形成された層)を設けたサン
プルの吸収スペクトルを示すものである。図1に示され
た吸収スペクトルから、本発明に係る紫外線吸収層は3
50〜400nmの波長における吸光度が保護層よりか
なり高いことがわかる。
で使用した紫外線吸収剤を含有するUV硬化性樹脂(U
Vscreen 395、INC−TEC社製)からな
る層(紫外線吸収層)、及びUV硬化性樹脂(商品名:
SD−2003、大日本インキ化学工業(株)製;実施
例2で使用したもの)のみで形成された層(保護層)の
紫外線吸収性能を添付した図1に吸収スペクトルとして
示す。図1の吸収スペクトルAは、透明なポリカーボネ
ート基板(厚み:1.2mm)上に10μmの厚みで紫
外線吸収層を設けたサンプルの吸収スペクトルを示すも
のである。また図1の吸収スペクトルBは、上記と同じ
透明なポリカーボネート基板上に10μmの厚みで保護
層(紫外線硬化樹脂のみで形成された層)を設けたサン
プルの吸収スペクトルを示すものである。図1に示され
た吸収スペクトルから、本発明に係る紫外線吸収層は3
50〜400nmの波長における吸光度が保護層よりか
なり高いことがわかる。
【0052】[光情報記録媒体としての評価]実施例1
〜2と比較例1〜2で得られた光ディスクについて、下
記の方法で耐光性(保存性)試験を行なった。
〜2と比較例1〜2で得られた光ディスクについて、下
記の方法で耐光性(保存性)試験を行なった。
【0053】(耐光性試験)別に用意した透明なサンプ
ルホルダーに、光ディスクを収納し、上方からXeラン
プで光を100時間照射した。この時照射された積算光
量は110000kJ/m2 であった。
ルホルダーに、光ディスクを収納し、上方からXeラン
プで光を100時間照射した。この時照射された積算光
量は110000kJ/m2 であった。
【0054】耐光性試験は、(1)予めデータを記録し
た光ディスクに上記条件で光を照射し、その後再生した
場合と、(2)データを光ディスクに記録することな
く、上記条件で光を照射し、その後にデータを記録し、
再生した場合との二通りの方法で行なった。なお、記録
再生はいずれの場合も1倍速で行なった。
た光ディスクに上記条件で光を照射し、その後再生した
場合と、(2)データを光ディスクに記録することな
く、上記条件で光を照射し、その後にデータを記録し、
再生した場合との二通りの方法で行なった。なお、記録
再生はいずれの場合も1倍速で行なった。
【0055】(1)予めデータを記録し、上記条件で光
を照射してその後再生した場合 光を照射しない光ディスク(保存前)にデータを記録
し、OTM−2000評価機(パルステック社製)を用
いて再生し、最適パワーにおけるブロックエラーレート
及び3Tピットジッターを測定した。 光を照射する前に光ディスクに記録したデータを、上
記条件で光を照射した後(保存後)に、OTM−200
0評価機(パルステック社製)を用いて再生し、最適パ
ワーにおけるブロックエラーレート及び3Tピットジッ
ターを測定した。そして、保存前と保存後のデータ
を比較して記録再生特性の評価を行なった。以上の評価
結果を表1に示す。
を照射してその後再生した場合 光を照射しない光ディスク(保存前)にデータを記録
し、OTM−2000評価機(パルステック社製)を用
いて再生し、最適パワーにおけるブロックエラーレート
及び3Tピットジッターを測定した。 光を照射する前に光ディスクに記録したデータを、上
記条件で光を照射した後(保存後)に、OTM−200
0評価機(パルステック社製)を用いて再生し、最適パ
ワーにおけるブロックエラーレート及び3Tピットジッ
ターを測定した。そして、保存前と保存後のデータ
を比較して記録再生特性の評価を行なった。以上の評価
結果を表1に示す。
【0056】
【表1】 表1 ──────────────────────────────────── ブロックエラーレート(個/秒) 3Tピットジッター(ns) 保存前 保存後 保存前 保存後 ──────────────────────────────────── 実施例1 3.4→ 4.4 23.0→26.4 実施例2 3.4→ 4.5 23.8→26.5 比較例1 3.5→15.8 22.8→32.5 比較例2 3.4→17.6 24.0→38.5 ────────────────────────────────────
【0057】上記表1の結果から、紫外線吸収層が設け
られてなる本発明に従う光ディスク(実施例1及び2)
の場合には、紫外線吸収層が設けられてない比較用の光
ディスク(比較例1)の場合や、紫外線吸収層が保護層
表面の半分の領域しか設けられてない比較用の光ディス
ク(比較例2)の場合に比べて、ブロックエラーレート
や3Tピットジッターの上昇が少ないことから、耐光性
試験によっても色素の光退色の程度が少なく、従って本
発明に従う光ディスクは高い耐光性が付与されているこ
とがわかる。比較例2の場合には、紫外線吸収層が形成
されている領域と形成されていない領域とを持つため、
特に3Tピットジッターの特性がより低下している。即
ち、紫外線吸収層がある領域と無い領域(保護層のみの
領域)では、紫外線の照射により色素記録層の劣化の度
合いが異なるために、形成されるピットの大きさが異な
ってくる。従って、一つのサンプルで大きさの異なるピ
ットが形成されると、信号のばらつきとなって測定され
るために、ジッターの値としては大きくなる。
られてなる本発明に従う光ディスク(実施例1及び2)
の場合には、紫外線吸収層が設けられてない比較用の光
ディスク(比較例1)の場合や、紫外線吸収層が保護層
表面の半分の領域しか設けられてない比較用の光ディス
ク(比較例2)の場合に比べて、ブロックエラーレート
や3Tピットジッターの上昇が少ないことから、耐光性
試験によっても色素の光退色の程度が少なく、従って本
発明に従う光ディスクは高い耐光性が付与されているこ
とがわかる。比較例2の場合には、紫外線吸収層が形成
されている領域と形成されていない領域とを持つため、
特に3Tピットジッターの特性がより低下している。即
ち、紫外線吸収層がある領域と無い領域(保護層のみの
領域)では、紫外線の照射により色素記録層の劣化の度
合いが異なるために、形成されるピットの大きさが異な
ってくる。従って、一つのサンプルで大きさの異なるピ
ットが形成されると、信号のばらつきとなって測定され
るために、ジッターの値としては大きくなる。
【0058】(2)上記条件で光を照射し、その後にデ
ータを記録し、再生した場合 光を照射してない光ディスク(保存前)にデータを記
録し、OTM−2000評価機(パルステック社製)を
用いて再生し、最適パワーにおけるブロックエラーレー
ト及び3Tピットジッターを測定した。 上記条件で光を照射した後(保存後)に、光ディスク
に記録したデータを、OTM−2000評価機(パルス
テック社製)を用いて再生し、最適パワーにおけるブロ
ックエラーレート及び3Tピットジッターを測定した。
そして、保存前と保存後のデータを比較して記録再
生特性の評価を行なった。以上の評価結果を表2に示
す。
ータを記録し、再生した場合 光を照射してない光ディスク(保存前)にデータを記
録し、OTM−2000評価機(パルステック社製)を
用いて再生し、最適パワーにおけるブロックエラーレー
ト及び3Tピットジッターを測定した。 上記条件で光を照射した後(保存後)に、光ディスク
に記録したデータを、OTM−2000評価機(パルス
テック社製)を用いて再生し、最適パワーにおけるブロ
ックエラーレート及び3Tピットジッターを測定した。
そして、保存前と保存後のデータを比較して記録再
生特性の評価を行なった。以上の評価結果を表2に示
す。
【0059】
【表2】 表2 ──────────────────────────────────── ブロックエラーレート(個/秒) 3Tピットジッター(ns) 保存前 保存後 保存前 保存後 ──────────────────────────────────── 実施例1 3.3→ 4.5 23.6→25.2 実施例2 3.7→ 4.7 24.2→25.5 比較例1 3.5→10.7 24.3→28.4 比較例2 3.3→ 9.7 25.1→32.2 ────────────────────────────────────
【0060】上記の表2の結果から、紫外線吸収層が設
けられてなる本発明に従う光ディスク(実施例1及び
2)の場合には、ブロックエラーレートや3Tピットジ
ッターの上昇が少なく、従って、耐光性試験後の記録再
生特性も優れていることがわかる。
けられてなる本発明に従う光ディスク(実施例1及び
2)の場合には、ブロックエラーレートや3Tピットジ
ッターの上昇が少なく、従って、耐光性試験後の記録再
生特性も優れていることがわかる。
【0061】
【発明の効果】本発明の光情報記録媒体は、保護層の上
に紫外線吸収層が設けられているために、保護層側から
入射する光による色素記録層の変質が防止され、高い耐
光性を示す。特に、反射層をAu以外の金属(例えば、
Ag金属、もしくはAg合金)で形成した時に問題とな
る反射率の低下やデータ再生エラーの発生などの記録再
生特性の低下を抑制することができる。従って、反射層
の材料としてコスト的に有利なAgなどの金属を使用す
ることができるために、より安価で、高い耐光性を持つ
CD−R型、もしくはDVD−R型の光情報記録媒体を
提供することができる。
に紫外線吸収層が設けられているために、保護層側から
入射する光による色素記録層の変質が防止され、高い耐
光性を示す。特に、反射層をAu以外の金属(例えば、
Ag金属、もしくはAg合金)で形成した時に問題とな
る反射率の低下やデータ再生エラーの発生などの記録再
生特性の低下を抑制することができる。従って、反射層
の材料としてコスト的に有利なAgなどの金属を使用す
ることができるために、より安価で、高い耐光性を持つ
CD−R型、もしくはDVD−R型の光情報記録媒体を
提供することができる。
【図1】図1は、紫外線吸収層及び保護層の吸収スペク
トルを示す。
トルを示す。
Claims (4)
- 【請求項1】 透明基板上に、レーザ光の照射により情
報を記録することができる色素記録層、反射層および保
護層がこの順に積層されてなる光情報記録媒体であっ
て、該保護層上に、該保護層より紫外線吸収性が高い紫
外線吸収層が設けられていることを特徴とする光情報記
録媒体。 - 【請求項2】 紫外線吸収層が紫外線吸収剤を含む請求
項1に記載の光情報記録媒体。 - 【請求項3】 反射層が、Ag金属、もしくはAg金属
とPt、Cu、Au及びAlからなる群より選ばれる少
なくとも一種の金属からなる合金の層である請求項1又
は2のいずれかの項に記載の光情報記録媒体。 - 【請求項4】 紫外線吸収層が5〜30μmの厚みで形
成されている請求項1〜3のいずれかの項に記載の光情
報記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9334995A JPH11149666A (ja) | 1997-11-19 | 1997-11-19 | 光情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9334995A JPH11149666A (ja) | 1997-11-19 | 1997-11-19 | 光情報記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11149666A true JPH11149666A (ja) | 1999-06-02 |
Family
ID=18283563
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9334995A Pending JPH11149666A (ja) | 1997-11-19 | 1997-11-19 | 光情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11149666A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1265234A3 (en) * | 2001-06-04 | 2004-03-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical information recording medium |
-
1997
- 1997-11-19 JP JP9334995A patent/JPH11149666A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1265234A3 (en) * | 2001-06-04 | 2004-03-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical information recording medium |
| US6815030B2 (en) | 2001-06-04 | 2004-11-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical information recording medium |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040420 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040427 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040628 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060124 |