JPH11151302A - イオン浸透療法において使用される電流導入プロファイルの実施方法 - Google Patents
イオン浸透療法において使用される電流導入プロファイルの実施方法Info
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- JPH11151302A JPH11151302A JP10276027A JP27602798A JPH11151302A JP H11151302 A JPH11151302 A JP H11151302A JP 10276027 A JP10276027 A JP 10276027A JP 27602798 A JP27602798 A JP 27602798A JP H11151302 A JPH11151302 A JP H11151302A
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- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61N—ELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
- A61N1/00—Electrotherapy; Circuits therefor
- A61N1/18—Applying electric currents by contact electrodes
- A61N1/20—Applying electric currents by contact electrodes continuous direct currents
- A61N1/30—Apparatus for iontophoresis, i.e. transfer of media in ionic state by an electromotoric force into the body, or cataphoresis
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- General Health & Medical Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 パッチおよび制御装置を含むイオン浸透療法
システムの提供。 【解決手段】 パッチは、制御装置に電気的に接続さ
れ、これを通して制御装置から皮膚に電流を提供する複
数の電極を含む。制御装置は、少なくとも１つの電流導
入プロファイル、入力装置、制御回路、およびパッチ電
流を生成する回路を含む。電流導入プロファイルは、制
御装置の他の構成要素とは独立して変更できるエレメン
トである。制御回路は、入力装置からの入力値を用いて
電流導入プロファイルを選択し、読み取った電流導入プ
ロファイルに従って、電流生成回路に電流を生成され、
パッチ電極に提供させる。
システムの提供。 【解決手段】 パッチは、制御装置に電気的に接続さ
れ、これを通して制御装置から皮膚に電流を提供する複
数の電極を含む。制御装置は、少なくとも１つの電流導
入プロファイル、入力装置、制御回路、およびパッチ電
流を生成する回路を含む。電流導入プロファイルは、制
御装置の他の構成要素とは独立して変更できるエレメン
トである。制御回路は、入力装置からの入力値を用いて
電流導入プロファイルを選択し、読み取った電流導入プ
ロファイルに従って、電流生成回路に電流を生成され、
パッチ電極に提供させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はイオン浸透療法の分
野である。特に、本発明はイオン浸透療法システムで薬
剤を導入するのに必要な電流導入プロファイル(current
delivery profiles) を格納する方法に関する。
野である。特に、本発明はイオン浸透療法システムで薬
剤を導入するのに必要な電流導入プロファイル(current
delivery profiles) を格納する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】イオン浸透療法は、イオン化した種、通
常は薬剤または治療薬（以下「薬剤」とする）のイオン
形態を含む溶液を電流が通過すると、イオンが移動する
ことである。イオン浸透療法の１つの特定の有利な用途
は、低レベルの電流を使用して患者の皮膚にイオン化し
た薬剤を非侵入的に経皮導入することである。イオン浸
透療法による薬剤の導入は、受動的経皮パッチ、針の注
入、および経口摂取などの他の方法に対して代替的で効
果的な薬剤導入方法を提供し、小児、寝たきりの患者お
よび老人には特に効果的な方法である。経皮的導入の知
られている利点には、静脈導入の危険および不便さの回
避がある。また、消化管および（第１パスでの）肝臓が
迂回されるので、消化作用および肝臓の第１パス代謝に
よる薬剤の損失など、経口薬剤摂取に伴う問題が回避さ
れる。経皮導入は、連続的に薬剤を導入し、簡単に終了
し、より便利なので有利である。
常は薬剤または治療薬（以下「薬剤」とする）のイオン
形態を含む溶液を電流が通過すると、イオンが移動する
ことである。イオン浸透療法の１つの特定の有利な用途
は、低レベルの電流を使用して患者の皮膚にイオン化し
た薬剤を非侵入的に経皮導入することである。イオン浸
透療法による薬剤の導入は、受動的経皮パッチ、針の注
入、および経口摂取などの他の方法に対して代替的で効
果的な薬剤導入方法を提供し、小児、寝たきりの患者お
よび老人には特に効果的な方法である。経皮的導入の知
られている利点には、静脈導入の危険および不便さの回
避がある。また、消化管および（第１パスでの）肝臓が
迂回されるので、消化作用および肝臓の第１パス代謝に
よる薬剤の損失など、経口薬剤摂取に伴う問題が回避さ
れる。経皮導入は、連続的に薬剤を導入し、簡単に終了
し、より便利なので有利である。
【０００３】イオン浸透療法の経皮薬剤導入システム
は、通常、複数のリザーバを有するパッチを含み、その
１つは活性リザーバと呼ばれて、プラスまたはマイナス
に帯電した薬剤イオンを含み、べつの１つは復帰リザー
バと呼ばれて、食塩液などの電解液を含む。リザーバ内
にはパッチに電流を送る電極が配置される。イオン浸透
療法システムは制御装置も含み、これは電気的および機
械的にパッチに接続される。制御装置は通常、バッテリ
ーなどの電源、さらにパッチ電極に送る電流を生成して
調整するのに必要な電気回路を含む。制御装置はバッテ
リーが切れるまで再使用され、パッチは完全な投薬量を
１回だけ導入するのに使用し、その後は廃棄されること
が好ましい。
は、通常、複数のリザーバを有するパッチを含み、その
１つは活性リザーバと呼ばれて、プラスまたはマイナス
に帯電した薬剤イオンを含み、べつの１つは復帰リザー
バと呼ばれて、食塩液などの電解液を含む。リザーバ内
にはパッチに電流を送る電極が配置される。イオン浸透
療法システムは制御装置も含み、これは電気的および機
械的にパッチに接続される。制御装置は通常、バッテリ
ーなどの電源、さらにパッチ電極に送る電流を生成して
調整するのに必要な電気回路を含む。制御装置はバッテ
リーが切れるまで再使用され、パッチは完全な投薬量を
１回だけ導入するのに使用し、その後は廃棄されること
が好ましい。
【０００４】イオン浸透療法の導入装置が作動中は、イ
オン浸透療法回路が生成される。バッテリーを含む制御
装置が、電気的相互接続部を介してパッチの陽極および
陰極にそれぞれ接続される。陽極は、プラスに帯電した
薬剤を含む活性リザーバに配置され、陰極は、電解（ま
たは食塩）液を含む復帰リザーバに配置される。薬剤が
マイナスに帯電している場合は、リザーバの陽極と陰極
の配置構成を逆転させ、したがって電流を電極に流す
と、薬剤イオンが同様の極性のリザーバから追い出す。
パッチを使用者の皮膚に配置し、制御装置がパッチに電
流を流すと、帯電した薬剤が強制的に患者の皮膚を通
る。復帰リザーバがイオン浸透療法回路を完成させる。
例えば、薬剤がマイナスに帯電している場合、陰極が皮
膚を通してこれを追い出す。
オン浸透療法回路が生成される。バッテリーを含む制御
装置が、電気的相互接続部を介してパッチの陽極および
陰極にそれぞれ接続される。陽極は、プラスに帯電した
薬剤を含む活性リザーバに配置され、陰極は、電解（ま
たは食塩）液を含む復帰リザーバに配置される。薬剤が
マイナスに帯電している場合は、リザーバの陽極と陰極
の配置構成を逆転させ、したがって電流を電極に流す
と、薬剤イオンが同様の極性のリザーバから追い出す。
パッチを使用者の皮膚に配置し、制御装置がパッチに電
流を流すと、帯電した薬剤が強制的に患者の皮膚を通
る。復帰リザーバがイオン浸透療法回路を完成させる。
例えば、薬剤がマイナスに帯電している場合、陰極が皮
膚を通してこれを追い出す。
【０００５】特に、薬剤の流れは印加電流の関数であ
る。したがって、患者に導入される薬剤の量を増加させ
るには、パッチに流す電流を増加させ、逆もまた同じで
ある。ある時間に患者に導入される薬剤の量は、薬剤導
入プロファイルとも呼ばれ、したがって電流導入プロフ
ァイルとして知られる、ある時間に流れる電流の量を調
整することにより、正確に調整することができる。概し
て、電流導入プロファイルは任意の形をとることがで
き、例えば巨丸投薬量など、大量の薬剤を迅速に導入す
るのに必要な電流スパイクを含むことさえできる。
る。したがって、患者に導入される薬剤の量を増加させ
るには、パッチに流す電流を増加させ、逆もまた同じで
ある。ある時間に患者に導入される薬剤の量は、薬剤導
入プロファイルとも呼ばれ、したがって電流導入プロフ
ァイルとして知られる、ある時間に流れる電流の量を調
整することにより、正確に調整することができる。概し
て、電流導入プロファイルは任意の形をとることがで
き、例えば巨丸投薬量など、大量の薬剤を迅速に導入す
るのに必要な電流スパイクを含むことさえできる。
【０００６】電流導入プロファイルの例を図２に示す。
（しかし、この電流導入プロファイルは、従来の技術の
項目で言及することにより、本発明に関して先行技術と
して認められていない。）この例では、電流が４０秒で
約０アンペアから０．５ミリアンペア（ｍＡ）、約９０
秒で１．０ｍＡへ、１６０秒で１．５ｍＡへ、２２０秒
で２．０ｍＡへと段階的に増加し、６３０秒で０ｍＡに
低下する。導入される電荷の総量は、曲線の下の面積で
ある。図２に対応するパッチを介して測定した電圧と抵
抗の例を、図３および図４にそれぞれ示す。印加電流の
段階に伴う電圧のスパイクが図３に見られ、これは穏や
かな刺痛や皮膚の刺激など、不快な皮膚の感覚を生じる
ことがある。
（しかし、この電流導入プロファイルは、従来の技術の
項目で言及することにより、本発明に関して先行技術と
して認められていない。）この例では、電流が４０秒で
約０アンペアから０．５ミリアンペア（ｍＡ）、約９０
秒で１．０ｍＡへ、１６０秒で１．５ｍＡへ、２２０秒
で２．０ｍＡへと段階的に増加し、６３０秒で０ｍＡに
低下する。導入される電荷の総量は、曲線の下の面積で
ある。図２に対応するパッチを介して測定した電圧と抵
抗の例を、図３および図４にそれぞれ示す。印加電流の
段階に伴う電圧のスパイクが図３に見られ、これは穏や
かな刺痛や皮膚の刺激など、不快な皮膚の感覚を生じる
ことがある。
【０００７】これらの不快な感覚は、主に電流の急変
（大きいｄＩ／ｄｔ）によるものである。これらの感覚
を軽減するため、治療薬投薬量、予想される皮膚抵抗の
範囲、制御装置の最大出力電圧（「コンプライアンス電
圧」）、および薬剤を導入するのにかかる時間の長さの
制約を受けながら、電流の変化率、最大電流および電流
導入の継続時間を含め、電流導入プロファイルを導入さ
れる薬剤のタイプごとに注意深く設計し、実行する。
（大きいｄＩ／ｄｔ）によるものである。これらの感覚
を軽減するため、治療薬投薬量、予想される皮膚抵抗の
範囲、制御装置の最大出力電圧（「コンプライアンス電
圧」）、および薬剤を導入するのにかかる時間の長さの
制約を受けながら、電流の変化率、最大電流および電流
導入の継続時間を含め、電流導入プロファイルを導入さ
れる薬剤のタイプごとに注意深く設計し、実行する。
【０００８】制御装置は、無数の制御機能を実行するた
めにマイクロプロセッサおよび状態マシンを含んでもよ
い。（しかし、これらのタイプの制御装置は、従来の技
術の項目で言及することにより、本発明に関して先行技
術として認められていない。）例えば、マイクロプロセ
ッサは、電流の生成と回路の調整を命令するソフトウェ
アのプログラムを実行して、ソフトウェアにインプレメ
ントされた特定の電流導入プロファイルに指示された期
間に必要な電流量を提供する。現在の米国および他国の
規制では、これらのソフトウェアプログラムは監査およ
び認可が必要で、これは時間と費用がかかるプロセスで
ある。
めにマイクロプロセッサおよび状態マシンを含んでもよ
い。（しかし、これらのタイプの制御装置は、従来の技
術の項目で言及することにより、本発明に関して先行技
術として認められていない。）例えば、マイクロプロセ
ッサは、電流の生成と回路の調整を命令するソフトウェ
アのプログラムを実行して、ソフトウェアにインプレメ
ントされた特定の電流導入プロファイルに指示された期
間に必要な電流量を提供する。現在の米国および他国の
規制では、これらのソフトウェアプログラムは監査およ
び認可が必要で、これは時間と費用がかかるプロセスで
ある。
【０００９】しかし、導入する薬剤のタイプに応じて多
くの異なる電流導入プロファイルが必要であり、異なる
制御装置のコンプライアンス電圧および電極が可能なの
で、ソフトウェアは電流導入プロファイルを新しくする
か、変更するたびに、絶えず変更しなければならない。
特に、新しい薬剤が現れるか薬剤が変更される、患者の
皮膚の特徴に関して新しい情報が得られる、異なるコン
プライアンス電圧またはパッチで異なる電極タイプの制
御装置が製造されるにつれ、新しい電流導入プロファイ
ルを追加するか、既存の電流導入プロファイルを変更し
なければならない。したがって、これらの電流導入プロ
ファイルを含むソフトウェアも変更しなければならな
い。ソフトウェアのプログラム変更は生産費を増加さ
せ、長い時間遅延を伴う。さらに、ソフトウェアを変更
するたびに、ソフトウェアを再検査する必要があり、さ
らに費用と遅延が増加する。
くの異なる電流導入プロファイルが必要であり、異なる
制御装置のコンプライアンス電圧および電極が可能なの
で、ソフトウェアは電流導入プロファイルを新しくする
か、変更するたびに、絶えず変更しなければならない。
特に、新しい薬剤が現れるか薬剤が変更される、患者の
皮膚の特徴に関して新しい情報が得られる、異なるコン
プライアンス電圧またはパッチで異なる電極タイプの制
御装置が製造されるにつれ、新しい電流導入プロファイ
ルを追加するか、既存の電流導入プロファイルを変更し
なければならない。したがって、これらの電流導入プロ
ファイルを含むソフトウェアも変更しなければならな
い。ソフトウェアのプログラム変更は生産費を増加さ
せ、長い時間遅延を伴う。さらに、ソフトウェアを変更
するたびに、ソフトウェアを再検査する必要があり、さ
らに費用と遅延が増加する。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】したがって、大規模な
ソフトウェアのプログラム変更を必要とせず、したがっ
て装置のオペレーティングシステム（ＯＳ）ソフトウェ
アの再検査を軽減するか、なくす、イオン浸透療法シス
テムに電流導入プロファイルをインプリメントする非常
に柔軟性のある方法を提供することが、本発明の目的で
ある。
ソフトウェアのプログラム変更を必要とせず、したがっ
て装置のオペレーティングシステム（ＯＳ）ソフトウェ
アの再検査を軽減するか、なくす、イオン浸透療法シス
テムに電流導入プロファイルをインプリメントする非常
に柔軟性のある方法を提供することが、本発明の目的で
ある。
【００１１】全て所定の範囲にある複数の電流導入プロ
ファイルを実行するために設計されたＯＳソフトウェア
を１回しか評価する必要がない、イオン浸透療法導入シ
ステムで薬剤を導入する方法を提供することが、本発明
の別の目的である。
ファイルを実行するために設計されたＯＳソフトウェア
を１回しか評価する必要がない、イオン浸透療法導入シ
ステムで薬剤を導入する方法を提供することが、本発明
の別の目的である。
【００１２】ソフトウェアを評価したら、ソフトウェア
の特徴、主に電流導入プロファイルの値が、ＯＳソフト
ウェアではなく電流導入プロファイルのみ変更するだけ
で変更され、したがってＯＳソフトウェアを書き直した
り再検査したりする必要がなく、費用と時間の両方を節
約する、イオン浸透両方導入システムで薬剤を導入する
方法を提供することが、本発明のさらに別の目的であ
る。
の特徴、主に電流導入プロファイルの値が、ＯＳソフト
ウェアではなく電流導入プロファイルのみ変更するだけ
で変更され、したがってＯＳソフトウェアを書き直した
り再検査したりする必要がなく、費用と時間の両方を節
約する、イオン浸透両方導入システムで薬剤を導入する
方法を提供することが、本発明のさらに別の目的であ
る。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明の一つの態様で
は、パッチおよび制御装置を含むイオン浸透療法システ
ムが提供される。パッチは、制御装置に電気的に接続で
きて、これを通して制御装置から皮膚に電流を送る複数
の電極を含む。制御装置は、少なくとも１つの電流導入
プロファイル、選択回路、およびパッチ電流を生成する
回路を含む。選択回路は電流導入プロファイルを選択
し、選択された電流導入プロファイルに応じて電流生成
回路に電流を生成させ、パッチ電極に流させる。
は、パッチおよび制御装置を含むイオン浸透療法システ
ムが提供される。パッチは、制御装置に電気的に接続で
きて、これを通して制御装置から皮膚に電流を送る複数
の電極を含む。制御装置は、少なくとも１つの電流導入
プロファイル、選択回路、およびパッチ電流を生成する
回路を含む。選択回路は電流導入プロファイルを選択
し、選択された電流導入プロファイルに応じて電流生成
回路に電流を生成させ、パッチ電極に流させる。
【００１４】本発明の別の態様では、イオン浸透療法シ
ステムは、制御装置に接続されたパッチのタイプに応じ
て、適切な電流導入プロファイルをメモリーから自動的
に選択する。
ステムは、制御装置に接続されたパッチのタイプに応じ
て、適切な電流導入プロファイルをメモリーから自動的
に選択する。
【００１５】本発明のさらに別の態様では、イオン浸透
療法システムが、コンピュータなどの外部情報処理シス
テムから１つ以上の電流導入プロファイルを受信する。
療法システムが、コンピュータなどの外部情報処理シス
テムから１つ以上の電流導入プロファイルを受信する。
【００１６】本発明の以上およびその他の特徴および利
点は、記載された好ましい実施例の詳細な基準を図面と
ともに参照することによって、もっともよく理解でき
る。
点は、記載された好ましい実施例の詳細な基準を図面と
ともに参照することによって、もっともよく理解でき
る。
【００１７】
【発明の実施の形態】本発明の実施例は、図１および図
６で示すように、パッチ６０および制御装置８０を含む
イオン浸透療法システム７０に関する。図１に示すよう
に、制御装置８０は外部筐体８１を含み、これは電流を
パッチ６０に流すのに必要な電源および電流生成および
調整回路を収容する。制御装置８０の筐体は、プラスチ
ック、金属または電流調整回路を覆って保護する他の適
切な材料で作成してよい。パッチ電極６１および６２
は、電気接続部１１０および１２０を介して電流制御装
置８０に電気的に接続する。
６で示すように、パッチ６０および制御装置８０を含む
イオン浸透療法システム７０に関する。図１に示すよう
に、制御装置８０は外部筐体８１を含み、これは電流を
パッチ６０に流すのに必要な電源および電流生成および
調整回路を収容する。制御装置８０の筐体は、プラスチ
ック、金属または電流調整回路を覆って保護する他の適
切な材料で作成してよい。パッチ電極６１および６２
は、電気接続部１１０および１２０を介して電流制御装
置８０に電気的に接続する。
【００１８】図６で詳細に示すように、制御装置８０は
選択／制御回路２０（これは、例えばマイクロプロセッ
サを備えてもよい）を含み、これはソフトウェアを実行
するとコマンドを生成して、所定の電流導入プロファイ
ルで指示された通りにパッチに送る電流を生成し、調整
するなど、制御装置の種々の機能を制御する。これらの
機能を実行するため、選択／制御回路２０を、ディジタ
ルインタフェース制御回路３０、アナログ電流制御回路
５０および周辺電流制御回路４０を含む電流生成調整回
路に接続する。周辺電流制御回路４０がパッチ６０に電
流を流す。選択／制御回路２０、ディジタルインタフェ
ース３０およびアナログ電流制御回路５０は、以下で詳
細に述べるモジュール１０とともに、専用集積回路（Ａ
ＳＩＣ）を備える。周辺電流制御回路４０は、ＡＳＩＣ
の外側にあるので「周辺」と呼ばれる。言うまでもな
く、電流生成調整回路は他の形態をとることができ、Ａ
ＳＩＣによって実現する必要はないことが理解される。
選択／制御回路２０（これは、例えばマイクロプロセッ
サを備えてもよい）を含み、これはソフトウェアを実行
するとコマンドを生成して、所定の電流導入プロファイ
ルで指示された通りにパッチに送る電流を生成し、調整
するなど、制御装置の種々の機能を制御する。これらの
機能を実行するため、選択／制御回路２０を、ディジタ
ルインタフェース制御回路３０、アナログ電流制御回路
５０および周辺電流制御回路４０を含む電流生成調整回
路に接続する。周辺電流制御回路４０がパッチ６０に電
流を流す。選択／制御回路２０、ディジタルインタフェ
ース３０およびアナログ電流制御回路５０は、以下で詳
細に述べるモジュール１０とともに、専用集積回路（Ａ
ＳＩＣ）を備える。周辺電流制御回路４０は、ＡＳＩＣ
の外側にあるので「周辺」と呼ばれる。言うまでもな
く、電流生成調整回路は他の形態をとることができ、Ａ
ＳＩＣによって実現する必要はないことが理解される。
【００１９】図６で示すように、選択／制御回路２０は
信号表示器２１に接続される。信号表示器２１はイオン
浸透療法システム７０に関する除隊情報を提供する。信
号表示器は、１つ以上の発光ダイオード（ＬＥＤ）、液
晶ディスプレー（ＬＣＤ）、ブザー、電子ブザー、また
は他の視覚／聴覚的インジケータを備えることができ
る。
信号表示器２１に接続される。信号表示器２１はイオン
浸透療法システム７０に関する除隊情報を提供する。信
号表示器は、１つ以上の発光ダイオード（ＬＥＤ）、液
晶ディスプレー（ＬＣＤ）、ブザー、電子ブザー、また
は他の視覚／聴覚的インジケータを備えることができ
る。
【００２０】選択／制御回路２０は、ランダムアクセス
メモリ（ＲＡＭ）、リードオンリーメモリ（ＲＯＭ）、
電子的消去可能なプログラマブルリードオンリーメモリ
（ＥＥＰＲＯＭ）またはフラッシュメモリなど、少なく
とも１つのモジュール１０にも接続される。システムを
実行するソフトウェア（オペレーティングシステムソフ
トウェア）は、電流導入プロファイルと同じ、または異
なるモジュール（例えばメモリ）に格納してもよい。モ
ジュール１０は、例えばパラメータ（電流の変化率（ｄ
Ｉ／ｄｔ））、ステップの持続時間、電極パターン、Ｌ
ＥＤパターンなど（以下で述べる）のセットとして、各
電流導入プロファイルを格納することができる。言うま
でもなく、電流導入プロファイルは、ランプ、および例
えば双曲線関数または多項式関数などの他の関数として
増減することができる。概して、各電流導入プロファイ
ルは、（１）電流の初期値、通常は０アンペア、（２）
第１電流ステップまたはｄＩ／ｄｔおよび関連の時間、
および（３）第２電流ステップおよび関連の時間とし
て、電流導入が終了するまで格納することができる。あ
るいは、またはこれに加えて、各電流導入プロファイル
を、時間、例えば秒ごとの各ポイントの電流（Ｉ）値の
別個のセットして格納することができる。
メモリ（ＲＡＭ）、リードオンリーメモリ（ＲＯＭ）、
電子的消去可能なプログラマブルリードオンリーメモリ
（ＥＥＰＲＯＭ）またはフラッシュメモリなど、少なく
とも１つのモジュール１０にも接続される。システムを
実行するソフトウェア（オペレーティングシステムソフ
トウェア）は、電流導入プロファイルと同じ、または異
なるモジュール（例えばメモリ）に格納してもよい。モ
ジュール１０は、例えばパラメータ（電流の変化率（ｄ
Ｉ／ｄｔ））、ステップの持続時間、電極パターン、Ｌ
ＥＤパターンなど（以下で述べる）のセットとして、各
電流導入プロファイルを格納することができる。言うま
でもなく、電流導入プロファイルは、ランプ、および例
えば双曲線関数または多項式関数などの他の関数として
増減することができる。概して、各電流導入プロファイ
ルは、（１）電流の初期値、通常は０アンペア、（２）
第１電流ステップまたはｄＩ／ｄｔおよび関連の時間、
および（３）第２電流ステップおよび関連の時間とし
て、電流導入が終了するまで格納することができる。あ
るいは、またはこれに加えて、各電流導入プロファイル
を、時間、例えば秒ごとの各ポイントの電流（Ｉ）値の
別個のセットして格納することができる。
【００２１】ハードウェア記述言語（ＨＤＬ）のソース
コードモジュールまたはＨＤＬコードのハードウェアの
インプリメンテーションも使用し、モジュール１０の機
能を実行することができる。本質的に、ＨＤＬは専用集
積回路（ＡＳＩＣ）の設計に使用される。このようなプ
ログラミング言語の一つの例が、ＶＨＤＬ（超高速集積
回路ハードウェア記述言語）である。
コードモジュールまたはＨＤＬコードのハードウェアの
インプリメンテーションも使用し、モジュール１０の機
能を実行することができる。本質的に、ＨＤＬは専用集
積回路（ＡＳＩＣ）の設計に使用される。このようなプ
ログラミング言語の一つの例が、ＶＨＤＬ（超高速集積
回路ハードウェア記述言語）である。
【００２２】電流導入プロファイルは、イオン浸透療法
システム７０のオペレーティングシステムのソフトウェ
アとは別個に生成され、製造時またはその後にモジュー
ル１０に転送することができる。これらのプロファイル
は、テーブル中にあるか、イオン浸透療法システム７０
に転送されたら、オペレーティングシステムのソフトウ
ェアか選択／制御回路２０によって解釈できる書かれた
命令の別個の「プログラム」として、パラメータのセッ
トという形態をとることができる。
システム７０のオペレーティングシステムのソフトウェ
アとは別個に生成され、製造時またはその後にモジュー
ル１０に転送することができる。これらのプロファイル
は、テーブル中にあるか、イオン浸透療法システム７０
に転送されたら、オペレーティングシステムのソフトウ
ェアか選択／制御回路２０によって解釈できる書かれた
命令の別個の「プログラム」として、パラメータのセッ
トという形態をとることができる。
【００２３】電流レベル、継続時間および変化率に加え
て、電流導入プロファイルは、電流導入の特定の段階お
よび状況情報に関する制御情報（例えば電極の選択およ
びデータのロギング速度）を含んでもよい。状況情報を
使用して、イオン浸透療法システム７０の状態または状
況の視覚および／または聴覚的表示を提供してもよい。
状況情報は、信号表示器２１を介して表示および／また
は提供される。例えば、状況情報は、特定のＬＥＤパタ
ーンを表示させて、薬剤が適切に導入されていることを
表示することができる。図５は、上記の様々なパラメー
タを含む電流導入プロファイルのソースコード表示の例
である。
て、電流導入プロファイルは、電流導入の特定の段階お
よび状況情報に関する制御情報（例えば電極の選択およ
びデータのロギング速度）を含んでもよい。状況情報を
使用して、イオン浸透療法システム７０の状態または状
況の視覚および／または聴覚的表示を提供してもよい。
状況情報は、信号表示器２１を介して表示および／また
は提供される。例えば、状況情報は、特定のＬＥＤパタ
ーンを表示させて、薬剤が適切に導入されていることを
表示することができる。図５は、上記の様々なパラメー
タを含む電流導入プロファイルのソースコード表示の例
である。
【００２４】電流導入プロファイルは、ルックアップテ
ーブル（ＬＵＴ）に格納することができ、ここで各電流
導入プロファイルは薬剤のタイプ、電極のタイプ（また
はパッチのタイプとして薬剤と電極の組合せ）、患者の
特長（老人、小児、男性、女性、皮膚のタイプ）、制御
装置のタイプなどと関連させることができる。選択／制
御回路２０は、ＬＵＴへの入力値、例えば制御装置に接
続されたパッチのタイプに基づき、正確な電流導入プロ
ファイルを「ルックアップする」または読み取る。ある
いは、選択／制御回路は、入力値が提供されない場合、
所定の電流導入プロファイルを選択することができる。
ーブル（ＬＵＴ）に格納することができ、ここで各電流
導入プロファイルは薬剤のタイプ、電極のタイプ（また
はパッチのタイプとして薬剤と電極の組合せ）、患者の
特長（老人、小児、男性、女性、皮膚のタイプ）、制御
装置のタイプなどと関連させることができる。選択／制
御回路２０は、ＬＵＴへの入力値、例えば制御装置に接
続されたパッチのタイプに基づき、正確な電流導入プロ
ファイルを「ルックアップする」または読み取る。ある
いは、選択／制御回路は、入力値が提供されない場合、
所定の電流導入プロファイルを選択することができる。
【００２５】電流導入プロファイルの選択は、制御装置
で自動的に決定してもよい。例えば、図８に示すよう
に、パッチ接続タブ２００の端部にパッチ識別口が存在
してもよい。これらの口により、パッチを接続すると、
口の形状に応じて１つ以上の信号が生成され、復号され
ると、制御装置に接続されたパッチのタイプが特定され
る。パッチはタイプごとに異なる口の形状を有し、これ
によって異なる電流導入プロファイルが選択される。図
９は、このような例を示し、図８で示すように最高３個
の識別口２１０を伴う相互接続タブ２００を有するパッ
チのスイッチ状態を示す。口が存在すると、「オン」
（１）または「オフ」（０）を表す信号を生成すること
ができる。図９では、口の有無に基づいて４つの異なる
電流導入プロファイルが識別される。識別のために３個
の口を使用して、８つの異なるプロファイルの可能性を
識別することができる。
で自動的に決定してもよい。例えば、図８に示すよう
に、パッチ接続タブ２００の端部にパッチ識別口が存在
してもよい。これらの口により、パッチを接続すると、
口の形状に応じて１つ以上の信号が生成され、復号され
ると、制御装置に接続されたパッチのタイプが特定され
る。パッチはタイプごとに異なる口の形状を有し、これ
によって異なる電流導入プロファイルが選択される。図
９は、このような例を示し、図８で示すように最高３個
の識別口２１０を伴う相互接続タブ２００を有するパッ
チのスイッチ状態を示す。口が存在すると、「オン」
（１）または「オフ」（０）を表す信号を生成すること
ができる。図９では、口の有無に基づいて４つの異なる
電流導入プロファイルが識別される。識別のために３個
の口を使用して、８つの異なるプロファイルの可能性を
識別することができる。
【００２６】言うまでもなく、他の電気機械的技術、バ
ーコードまたは他の光学識別コード、または電気接点な
ど、他の形態のパッチ識別技術を使用できることが理解
される。あるいは、パッチのタイプまたは電流導入プロ
ファイルを選択する他の基準を、キーパッドまたは制御
装置と一体の、またはこれに接続された他の既知の入力
装置を通して使用者が手動で入力することができる。
ーコードまたは他の光学識別コード、または電気接点な
ど、他の形態のパッチ識別技術を使用できることが理解
される。あるいは、パッチのタイプまたは電流導入プロ
ファイルを選択する他の基準を、キーパッドまたは制御
装置と一体の、またはこれに接続された他の既知の入力
装置を通して使用者が手動で入力することができる。
【００２７】次に、選択／制御回路２０は、選択された
電流導入プロファイルの情報を使用して、電流導入プロ
ファイルに指示された量の電流を導入するために電流を
生成させ、回路を調整するのに必要な適切な時間調整コ
マンドを生成する。本質的に、選択／制御回路２０は、
電流導入プロファイルを通してステップを辿る。ステッ
プごとに、選択／制御回路２０は、特定の時間（または
特定の継続時間）にディジタルアナログ（Ｄ／Ａ）変換
器に個々の電流値を表す信号を出力する。Ｄ／Ａ変換器
は、ディジタルインタフェース回路３０に含まれる（図
６に図示）。Ｄ／Ａ変換器は、電圧／電流変換回路（図
示せず）に電圧を出力し、これは必要なパッチ電流を生
成する。電流検出レジスタ（図示せず）からのフィード
バックを使用して、このパッチ電流をより精密に制御す
ることができる。
電流導入プロファイルの情報を使用して、電流導入プロ
ファイルに指示された量の電流を導入するために電流を
生成させ、回路を調整するのに必要な適切な時間調整コ
マンドを生成する。本質的に、選択／制御回路２０は、
電流導入プロファイルを通してステップを辿る。ステッ
プごとに、選択／制御回路２０は、特定の時間（または
特定の継続時間）にディジタルアナログ（Ｄ／Ａ）変換
器に個々の電流値を表す信号を出力する。Ｄ／Ａ変換器
は、ディジタルインタフェース回路３０に含まれる（図
６に図示）。Ｄ／Ａ変換器は、電圧／電流変換回路（図
示せず）に電圧を出力し、これは必要なパッチ電流を生
成する。電流検出レジスタ（図示せず）からのフィード
バックを使用して、このパッチ電流をより精密に制御す
ることができる。
【００２８】したがって、ＯＳのソフトウェアを変更せ
ずに、多くの異なる電流導入プロファイルをモジュール
１０に格納することができる。このように、ＯＳソフト
ウェアは、恐らく予想される全範囲の電流導入プロファ
イルのパラメータについて、１回しか検査する必要がな
く、個々の電流導入プロファイルについては検査する必
要がない。その後、新しい薬剤、電極などまたは薬剤、
電極などの交換のせいで特定の電流導入プログラムが変
更されると、それは単に外部情報処理システムによって
通信インタフェース（例えば図７に示すような外部コン
ピュータ９０および／またはインターネットのウェブサ
イト９１）を介して制御装置８０のメモリ１０にダウン
ロードすることができる。図７に示すように、ホストコ
ンピュータ９０およびシリアル（またはパラレル）接続
ラインおよびコネクタ１００を、この目的に使用しても
よい。しかし、例えば、光、赤外線、ワイヤレス、イン
ターネットのウェブサイトおよび無線インタフェースな
ど、他のタイプの通信インタフェースを使用してよいこ
とを理解されたい。
ずに、多くの異なる電流導入プロファイルをモジュール
１０に格納することができる。このように、ＯＳソフト
ウェアは、恐らく予想される全範囲の電流導入プロファ
イルのパラメータについて、１回しか検査する必要がな
く、個々の電流導入プロファイルについては検査する必
要がない。その後、新しい薬剤、電極などまたは薬剤、
電極などの交換のせいで特定の電流導入プログラムが変
更されると、それは単に外部情報処理システムによって
通信インタフェース（例えば図７に示すような外部コン
ピュータ９０および／またはインターネットのウェブサ
イト９１）を介して制御装置８０のメモリ１０にダウン
ロードすることができる。図７に示すように、ホストコ
ンピュータ９０およびシリアル（またはパラレル）接続
ラインおよびコネクタ１００を、この目的に使用しても
よい。しかし、例えば、光、赤外線、ワイヤレス、イン
ターネットのウェブサイトおよび無線インタフェースな
ど、他のタイプの通信インタフェースを使用してよいこ
とを理解されたい。
【００２９】あるいは、新しい電流導入プロファイルを
新しいメモリチップ、ＲＯＭまたはＲＡＭに格納するこ
とができ、これを制御装置に入れるか、新しい情報は制
御装置８０の既存のＥＥＰＲＯＭに「焼き付ける」こと
ができる。メモリの特定の電流導入プロファイル情報し
か変更されていず、ＯＳのソフトウェアは変更されてい
ないので、ＯＳのソフトウェアのプログラム変更または
再評価の必要はない。
新しいメモリチップ、ＲＯＭまたはＲＡＭに格納するこ
とができ、これを制御装置に入れるか、新しい情報は制
御装置８０の既存のＥＥＰＲＯＭに「焼き付ける」こと
ができる。メモリの特定の電流導入プロファイル情報し
か変更されていず、ＯＳのソフトウェアは変更されてい
ないので、ＯＳのソフトウェアのプログラム変更または
再評価の必要はない。
【００３０】概して、新しい電流導入プロファイルでモ
ジュール１０を更新する方法を、図１０に示す。ステッ
プＳ１では、外部ホストコンピュータ９０を、シリアル
通信ライン１００を介して制御装置８０および選択回路
２０に通信可能な方法で接続する。ステップＳ２では、
制御装置８０がホストコンピュータから、更新した電流
導入プロファイル情報を受信し、古い電流導入プロファ
イルと置き換える。受信したら、ホストコンピュータと
シリアル通信ラインは制御装置から切断され、制御装置
はイオン浸透療法の薬剤を導入する準備が整う。ステッ
プＳ１およびＳ２は、製造施設で実行するか、健康管理
提供者が実行することができる。ステップＳ３では、上
述したように自動または手動で入力値を提供し、特定の
電流導入プロファイルを選択する。次に、選択／制御回
路２０が電流導入プロファイルを循環し、ステップＳ
で、電流導入プロファイルに従って電流を生成し、パッ
チに送る。
ジュール１０を更新する方法を、図１０に示す。ステッ
プＳ１では、外部ホストコンピュータ９０を、シリアル
通信ライン１００を介して制御装置８０および選択回路
２０に通信可能な方法で接続する。ステップＳ２では、
制御装置８０がホストコンピュータから、更新した電流
導入プロファイル情報を受信し、古い電流導入プロファ
イルと置き換える。受信したら、ホストコンピュータと
シリアル通信ラインは制御装置から切断され、制御装置
はイオン浸透療法の薬剤を導入する準備が整う。ステッ
プＳ１およびＳ２は、製造施設で実行するか、健康管理
提供者が実行することができる。ステップＳ３では、上
述したように自動または手動で入力値を提供し、特定の
電流導入プロファイルを選択する。次に、選択／制御回
路２０が電流導入プロファイルを循環し、ステップＳ
で、電流導入プロファイルに従って電流を生成し、パッ
チに送る。
【００３１】言うまでもなく、本発明は特に記述したも
の以外の形態をとれることが理解される。例えば、マイ
クロプロセッサの代わりに状態マシンを、メモリおよび
／またはＬＵＴとともに使用してもよい。したがって、
当業者が本発明を実践できるよう、本発明の好ましい実
施例について述べてきたが、請求の範囲で規定されてい
るような本発明の概念および意図から逸脱することな
く、変形および改修を行えることが理解される。以上の
記述は例証的なものとし、本発明の範囲の限定に用いる
ものではない。本発明の範囲は、請求の範囲に関しての
み決定される。
の以外の形態をとれることが理解される。例えば、マイ
クロプロセッサの代わりに状態マシンを、メモリおよび
／またはＬＵＴとともに使用してもよい。したがって、
当業者が本発明を実践できるよう、本発明の好ましい実
施例について述べてきたが、請求の範囲で規定されてい
るような本発明の概念および意図から逸脱することな
く、変形および改修を行えることが理解される。以上の
記述は例証的なものとし、本発明の範囲の限定に用いる
ものではない。本発明の範囲は、請求の範囲に関しての
み決定される。
【図１】パッチおよび制御装置を含むイオン浸透療法シ
ステムの斜視図である。
ステムの斜視図である。
【図２】導入された状態の電流導入プロファイルの例を
示す図である。
示す図である。
【図３】図２の電流導入プロファイルに対応した、時間
に対する測定電圧の曲線を示す図である。
に対する測定電圧の曲線を示す図である。
【図４】図２の電流導入プロファイルに対応した、時間
に対する測定抵抗の曲線を示す図である。
に対する測定抵抗の曲線を示す図である。
【図５】電流導入プロファイルのソースファイルの例を
示す図である。
示す図である。
【図６】本発明の第１の実施例によるイオン浸透療法シ
ステムおよび制御装置回路の全体像を示す図である。
ステムおよび制御装置回路の全体像を示す図である。
【図７】情報を制御装置に送るために外部ホストコンピ
ュータを使用することを示す図である。
ュータを使用することを示す図である。
【図８】パッチの識別のためにタブの端部に口を示す、
イオン浸透療法パッチの相互接続タブの上面図である。
イオン浸透療法パッチの相互接続タブの上面図である。
【図９】制御装置に接続されたパッチ、およびパッチの
タイプを識別したときに選択する電流導入プロファイル
を識別するスイッチ状態を示すテーブル図である。
タイプを識別したときに選択する電流導入プロファイル
を識別するスイッチ状態を示すテーブル図である。
【図１０】本発明の第１の実施例に対応する方法の流れ
図である。
図である。
１０ モジュール ２０ 選択／制御回路 ２１ 信号表示器 ３０ ディジタルインタフェース制御回路 ４０ 周辺電流制御回路 ５０ アナログ電流制御回路 ６０ パッチ ６１ パッチ電極 ６２ パッチ電極 ７０ イオン浸透療法システム ８０ 制御装置 ８１ 筐体 ９０ ホストコンピュータ １００ コネクタ １１０ 電気接続部 １２０ 電気接続部 ２００ パッチ接続タブ ２１０ 識別口
フロントページの続き (71)出願人 595117091 １ ＢＥＣＴＯＮ ＤＲＩＶＥ， ＦＲＡ ＮＫＬＩＮ ＬＡＫＥＳ， ＮＥＷ ＪＥ ＲＳＥＹ 07417−1880， ＵＮＩＴＥＤ ＳＴＡＴＥＳ ＯＦ ＡＭＥＲＩＣＡ (72)発明者 ケネス イー． ガーデ アメリカ合衆国 12553 ニューヨーク州 ニュー ウインザー ストーンクレスト ドライブ 10 (72)発明者 ロナルド ジェイ． フラワー アメリカ合衆国 30045 ジョージア州 ローレンスヴィル トリブル ウォーク コート 1285
Claims (10)
- 【請求項１】 イオン浸透療法システムを使用して経皮
的に薬剤を導入する方法であって、該イオン浸透療法シ
ステムは電流をパッチに送る制御装置を備え、該制御装
置は制御回路、パッチ電流を生成する回路および少なく
とも１つの電流導入プロファイルを有し、該電流導入プ
ロファイルは、制御装置の他の構成要素とは独立して変
更できるエレメントであり、パッチは、制御装置に電気
的に接続された複数の電極を有し、それを通して制御装
置によって電流が皮膚に与えられるものであり、この方
法が、 電流導入プロファイルを選択するステップと、 電流を生成し、これを選択された電流導入プロファイル
に従って電極に与えるステップとを含むことを特徴とす
る方法。 - 【請求項２】 さらに、入力値を入力するステップを含
み、前記選択ステップが入力値に従って電流導入プロフ
ァイルを選択することを特徴とする請求項１に記載の方
法。 - 【請求項３】 前記入力ステップにおいて、入力値がパ
ッチ上の復号可能なキーに基づいて自動的に生成される
ことを特徴とする請求項２に記載の方法。 - 【請求項４】 イオン浸透療法システムがさらに、イオ
ン浸透療法システムの操作を制御するオペレーティング
システムを格納するモジュールを含むことを特徴とする
請求項１に記載の方法。 - 【請求項５】 制御回路がマイクロプロセッサまたは状
態マシンを備えることを特徴とする請求項１に記載の方
法。 - 【請求項６】 イオン浸透療法システムを使用して経皮
的に薬剤を導入する方法であって、該イオン浸透療法シ
ステムは電流をパッチに送る制御回路を備え、該制御回
路はパッチ電流を生成する回路を有し、パッチは制御装
置に電気的に接続可能な複数の電極を有し、それを通し
て制御装置によって電流が皮膚に与えられるものであ
り、この方法が、 制御装置を外部情報処理システムに連絡可能な方法で接
続するステップと、 外部情報処理システムから少なくとも１つの電流導入プ
ロファイルを受けるステップと、 外部情報処理システムを切断してパッチを接続するステ
ップと、 受信した電流導入プロファイルを選択するステップと、 電流を生成し、選択した電流導入プロファイルに従って
これを電極に与えるステップとを含むことを特徴とする
方法。 - 【請求項７】 前記選択ステップが、入力値を受信し、
入力値に従って電流導入プロファイルを選択するステッ
プを含むことを特徴とする請求項６に記載の方法。 - 【請求項８】 制御装置と、 前記制御装置に電気的に接続可能な複数の電極を含み、
それを通して前記制御装置から皮膚に電流が与えられる
パッチと、 前記パッチに電流を与える前記制御装置とを備え、前記
制御装置は少なくとも１つの電流導入プロファイル、制
御回路、およびパッチ電流を生成する回路を含み、前記
制御回路は電流送出プロファイルを選択し、前記電流生
成回路に電流を生成させ、選択した電流導入プロファイ
ルに従って前記パッチ電極に電流を与えさせることを特
徴とするイオン浸透療法システム。 - 【請求項９】 前記制御装置がさらに入力装置を含み、
前記制御回路が前記入力装置からの入力に基づき電流導
入プロファイルを選択することを特徴とする請求項８に
記載のシステム。 - 【請求項１０】 入力値が前記パッチの復号可能なキー
に基づき自動的に生成されることを特徴とする請求項８
に記載のシステム。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/939,771 US20010009983A1 (en) | 1997-09-29 | 1997-09-29 | Methods for implementing current delivery profiles used in an iontophoretic system |
| US08/939,771 | 1997-09-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11151302A true JPH11151302A (ja) | 1999-06-08 |
Family
ID=25473708
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10276027A Pending JPH11151302A (ja) | 1997-09-29 | 1998-09-29 | イオン浸透療法において使用される電流導入プロファイルの実施方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20010009983A1 (ja) |
| EP (1) | EP0909568A3 (ja) |
| JP (1) | JPH11151302A (ja) |
| CA (1) | CA2247681C (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2001129100A (ja) * | 1999-10-29 | 2001-05-15 | Taketoshi Yamada | パルス波通電システム |
| WO2004110205A1 (en) * | 2003-06-17 | 2004-12-23 | Hwang, Seung-Young | Skin care apparatus having ion-transmission function under the skin and display device thereof |
| WO2007066621A1 (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-14 | Tti Ellebeau, Inc. | イオントフォレーシス装置包装品 |
Families Citing this family (9)
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|---|---|---|---|---|
| WO2007004000A1 (en) * | 2005-07-05 | 2007-01-11 | Paolo Cappellari | Sun tent having means for releasing active principle |
| JP2007037868A (ja) * | 2005-08-05 | 2007-02-15 | Transcutaneous Technologies Inc | 経皮投与装置及びその制御方法 |
| US20070071807A1 (en) * | 2005-09-28 | 2007-03-29 | Hidero Akiyama | Capsule-type drug-releasing device and capsule-type drug-releasing device system |
| US20070078445A1 (en) * | 2005-09-30 | 2007-04-05 | Curt Malloy | Synchronization apparatus and method for iontophoresis device to deliver active agents to biological interfaces |
| BRPI0719353A2 (pt) | 2006-12-01 | 2014-01-07 | Titi Ellebeau Inc | Sistemas, dispositivos e métodos para dispositivos de energização e/ou controle, por exemplo, dispositivos de distribuição transdérmicos |
| ES2526118T3 (es) * | 2008-12-30 | 2015-01-07 | Nupathe Inc. | Control electrónico de sistema de administración de fármacos |
| CA2817824A1 (en) | 2010-11-23 | 2012-05-31 | Nupathe, Inc. | User-activated self-contained co-packaged iontophoretic drug delivery system |
| US20130071806A1 (en) * | 2011-09-20 | 2013-03-21 | Alexander Franz Doll | Iontophoretic oral care devices and methods |
| ES2885062T3 (es) * | 2017-06-28 | 2021-12-13 | Fundacion Tecnalia Res & Innovation | Dispositivo para la administración transdérmica controlada y vigilada de principios activos y uso del mismo |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5591123A (en) * | 1983-08-18 | 1997-01-07 | Drug Delivery Systems Inc. | Programmable control mounting system for transdermal drug applicator |
| US5551953A (en) * | 1994-10-31 | 1996-09-03 | Alza Corporation | Electrotransport system with remote telemetry link |
| US5688232A (en) * | 1995-09-28 | 1997-11-18 | Becton Dickinson And Company | Iontophoretic drug delivery device having an improved controller |
| EP0957977A1 (en) * | 1995-09-28 | 1999-11-24 | Becton, Dickinson and Company | Iontophoretic drug delivery system, including disposable patch |
| US6009344A (en) * | 1997-07-25 | 1999-12-28 | Becton, Dickinson And Company | Iontophoretic drug delivery system |
-
1997
- 1997-09-29 US US08/939,771 patent/US20010009983A1/en not_active Abandoned
-
1998
- 1998-09-18 CA CA002247681A patent/CA2247681C/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-09-29 EP EP98307891A patent/EP0909568A3/en not_active Withdrawn
- 1998-09-29 JP JP10276027A patent/JPH11151302A/ja active Pending
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| WO2001030298A3 (en) * | 1999-10-29 | 2001-10-11 | Wado Doctors Group Corp | Pulse wave application system |
| US7089062B1 (en) * | 1999-10-29 | 2006-08-08 | Kabushiki Kaisha Wado Doctors Group | Pulse wave application system |
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| WO2007066621A1 (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-14 | Tti Ellebeau, Inc. | イオントフォレーシス装置包装品 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20010009983A1 (en) | 2001-07-26 |
| CA2247681C (en) | 2001-12-25 |
| EP0909568A2 (en) | 1999-04-21 |
| CA2247681A1 (en) | 1999-03-29 |
| EP0909568A3 (en) | 2000-01-19 |
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