JPH11160510A - 多段階段状素子の作製方法又は該素子作製用モールド型の作製方法 - Google Patents

多段階段状素子の作製方法又は該素子作製用モールド型の作製方法

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Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6664032B2 (en) 1999-02-16 2003-12-16 Canon Kabushiki Kaisha Method of producing two-dimensional phase type optical element
US6803154B1 (en) 1999-09-03 2004-10-12 Canon Kabushiki Kaisha Two-dimensional phase element and method of manufacturing the same
JP2008298827A (ja) * 2007-05-29 2008-12-11 Toppan Printing Co Ltd パターン形成方法、インプリントモールド、フォトマスク
JP2008304689A (ja) * 2007-06-07 2008-12-18 Toppan Printing Co Ltd パターン形成方法、インプリントモールド、フォトマスク
JP2010137538A (ja) * 2008-11-13 2010-06-24 Toppan Printing Co Ltd インプリントモールド製造方法およびインプリントモールド
CN102495444A (zh) * 2011-12-20 2012-06-13 中国科学院微电子研究所 一种四台阶光栅及其制备方法
KR101412219B1 (ko) * 2013-04-30 2014-06-25 하이트론 주식회사 다단형 기판 제조 방법
CN106154382A (zh) * 2016-08-18 2016-11-23 中国科学技术大学 具有高衍射效率的大口径薄膜衍射元件的制作方法
WO2019116976A1 (ja) * 2017-12-14 2019-06-20 キヤノン株式会社 硬化物パターンの製造方法、加工基板の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法、およびインプリントモールドの製造方法
JP2020522023A (ja) * 2017-06-02 2020-07-27 ディスペリックス オーイー 高さ調整された光回折格子を製造する方法
JP2023551813A (ja) * 2020-11-30 2023-12-13 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 傾斜した角度を有する構造を形成するためのリソグラフィ方法
WO2024166970A1 (ja) * 2023-02-10 2024-08-15 大日本印刷株式会社 光学部材及びその製造方法

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6664032B2 (en) 1999-02-16 2003-12-16 Canon Kabushiki Kaisha Method of producing two-dimensional phase type optical element
US6803154B1 (en) 1999-09-03 2004-10-12 Canon Kabushiki Kaisha Two-dimensional phase element and method of manufacturing the same
EP1081551A3 (en) * 1999-09-03 2005-02-09 Canon Kabushiki Kaisha Two-dimensional phase element and method of manufacturing the same
JP2008298827A (ja) * 2007-05-29 2008-12-11 Toppan Printing Co Ltd パターン形成方法、インプリントモールド、フォトマスク
JP2008304689A (ja) * 2007-06-07 2008-12-18 Toppan Printing Co Ltd パターン形成方法、インプリントモールド、フォトマスク
JP2010137538A (ja) * 2008-11-13 2010-06-24 Toppan Printing Co Ltd インプリントモールド製造方法およびインプリントモールド
CN102495444A (zh) * 2011-12-20 2012-06-13 中国科学院微电子研究所 一种四台阶光栅及其制备方法
KR101412219B1 (ko) * 2013-04-30 2014-06-25 하이트론 주식회사 다단형 기판 제조 방법
CN106154382A (zh) * 2016-08-18 2016-11-23 中国科学技术大学 具有高衍射效率的大口径薄膜衍射元件的制作方法
JP2020522023A (ja) * 2017-06-02 2020-07-27 ディスペリックス オーイー 高さ調整された光回折格子を製造する方法
US11448876B2 (en) 2017-06-02 2022-09-20 Dispelix Oy Method of manufacturing a height-modulated optical diffractive grating
WO2019116976A1 (ja) * 2017-12-14 2019-06-20 キヤノン株式会社 硬化物パターンの製造方法、加工基板の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法、およびインプリントモールドの製造方法
US11709430B2 (en) 2017-12-14 2023-07-25 Canon Kabushiki Kaisha Method for manufacturing cured product pattern, method for manufacturing processed substrate, method for manufacturing circuit board, method for manufacturing electronic component, and method for manufacturing imprint mold
JP2023551813A (ja) * 2020-11-30 2023-12-13 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 傾斜した角度を有する構造を形成するためのリソグラフィ方法
WO2024166970A1 (ja) * 2023-02-10 2024-08-15 大日本印刷株式会社 光学部材及びその製造方法

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