JPH11170426A - 透明導電フイルム - Google Patents
透明導電フイルムInfo
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- JPH11170426A JPH11170426A JP9347416A JP34741697A JPH11170426A JP H11170426 A JPH11170426 A JP H11170426A JP 9347416 A JP9347416 A JP 9347416A JP 34741697 A JP34741697 A JP 34741697A JP H11170426 A JPH11170426 A JP H11170426A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ポリエーテルスルホン樹脂を基板とし、紫外
線照射・加熱処理により、黄変、及び、接着力が低下す
ることを著しく改良した透明導電フイルムを提供する。 【解決手段】 ポリエーテルスルホンフイルムの少なく
とも片面に硬質な有機物質からなる処理層が設けられ、
該処理層上にインジウムを主成分とする金属酸化物の透
明導電膜が形成されて成る積層体において、該処理層が
紫外線吸収剤を含んだ電子線硬化樹脂層である透明導電
フイルム。
線照射・加熱処理により、黄変、及び、接着力が低下す
ることを著しく改良した透明導電フイルムを提供する。 【解決手段】 ポリエーテルスルホンフイルムの少なく
とも片面に硬質な有機物質からなる処理層が設けられ、
該処理層上にインジウムを主成分とする金属酸化物の透
明導電膜が形成されて成る積層体において、該処理層が
紫外線吸収剤を含んだ電子線硬化樹脂層である透明導電
フイルム。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は透明導電フイルムに
関する。より詳しくは、ポリエーテルスルホンフイルム
（以下ＰＥＳフイルムと云う。）の少なくとも片面に硬
質な有機物質層を設けた透明導電フイルムの材質と構造
に関するものである。
関する。より詳しくは、ポリエーテルスルホンフイルム
（以下ＰＥＳフイルムと云う。）の少なくとも片面に硬
質な有機物質層を設けた透明導電フイルムの材質と構造
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年液晶ディスプレー透明電極、エレク
トロルミネッセンス面発光ディスプレー電極透明スイッ
チ等の目的とした透明導電性フイルムの研究が盛んにな
り一部は電卓、時計その他の計測機器の表示などで実用
化の域に到達している。従来ＰＥＳフイルムにインジウ
ムを主成分とする酸化物を形成したフイルムがＬＣＤ等
の光学素子電極材として検討されている。そこで、直接
フイルム上に導電性薄膜を形成した場合、フイルムと薄
膜の密着性が悪いため得られた導電フイルムの耐擦傷
性、耐湿安定性、導電安定性、耐折り曲げ性と言った性
能が劣り、このため限られた分野にしか用いられない
か、或は使用上特別の注意を要するなどの問題がある。
生産性も考慮した上でかかる欠点を解消する方法とし
て、支持フイルム層と導電薄膜層の間にいわゆるアンダ
ーコート層と呼ぶ紫外線硬化樹脂層を介在せしめるとい
う方法が考案され、大幅な性能向上が図られている。
トロルミネッセンス面発光ディスプレー電極透明スイッ
チ等の目的とした透明導電性フイルムの研究が盛んにな
り一部は電卓、時計その他の計測機器の表示などで実用
化の域に到達している。従来ＰＥＳフイルムにインジウ
ムを主成分とする酸化物を形成したフイルムがＬＣＤ等
の光学素子電極材として検討されている。そこで、直接
フイルム上に導電性薄膜を形成した場合、フイルムと薄
膜の密着性が悪いため得られた導電フイルムの耐擦傷
性、耐湿安定性、導電安定性、耐折り曲げ性と言った性
能が劣り、このため限られた分野にしか用いられない
か、或は使用上特別の注意を要するなどの問題がある。
生産性も考慮した上でかかる欠点を解消する方法とし
て、支持フイルム層と導電薄膜層の間にいわゆるアンダ
ーコート層と呼ぶ紫外線硬化樹脂層を介在せしめるとい
う方法が考案され、大幅な性能向上が図られている。
【０００３】しかし、かかる従来の透明導電フイルム
は、使用目的によっては必要となる加工工程上で過剰な
紫外線照射を受け、更に加熱を行った場合、基材である
ＰＥＳフイルムの黄変が著しく、かつ、アンダーコート
層とＰＥＳ間の接着力が著しく低下し、得られたフイル
ムは実用に耐えないものになってしまうという問題があ
る。このＰＥＳフイルムが黄変する現象を回避する方法
として、基材樹脂中に紫外線吸収剤を混合するという方
法がプラスチックフイルムには常法であるが、ＰＥＳの
押出しフイルムの場合高温押出しで製造するため、吸収
剤がフイルム製造時に分解してしまうという問題が生じ
てしまうためこの方法の採用は全く不可能である。ま
た、アンダーコート層とＰＥＳ間の接着力が著しく低下
する減少を回避する方法としてアンダーコート層に熱硬
化型樹脂を用いる方法が考えられるが、反応速度が紫外
線硬化樹脂に比べ遅い為、生産性が悪く、そして、液晶
表示素子の加工工程でさらに加熱がなされた場合、硬化
反応が進行し、当初の物性が得られなくなる場合があ
る。
は、使用目的によっては必要となる加工工程上で過剰な
紫外線照射を受け、更に加熱を行った場合、基材である
ＰＥＳフイルムの黄変が著しく、かつ、アンダーコート
層とＰＥＳ間の接着力が著しく低下し、得られたフイル
ムは実用に耐えないものになってしまうという問題があ
る。このＰＥＳフイルムが黄変する現象を回避する方法
として、基材樹脂中に紫外線吸収剤を混合するという方
法がプラスチックフイルムには常法であるが、ＰＥＳの
押出しフイルムの場合高温押出しで製造するため、吸収
剤がフイルム製造時に分解してしまうという問題が生じ
てしまうためこの方法の採用は全く不可能である。ま
た、アンダーコート層とＰＥＳ間の接着力が著しく低下
する減少を回避する方法としてアンダーコート層に熱硬
化型樹脂を用いる方法が考えられるが、反応速度が紫外
線硬化樹脂に比べ遅い為、生産性が悪く、そして、液晶
表示素子の加工工程でさらに加熱がなされた場合、硬化
反応が進行し、当初の物性が得られなくなる場合があ
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明はポリエーテル
スルホン樹脂を基板とし、この少なくとも片面に硬質な
有機硬化被膜を設け、基板の材料の加工工程である洗浄
工程、パターニングなどに用いられる有機溶剤との接触
から保護せしめると同時に、紫外線照射・加熱処理によ
り、黄変、及び、接着力が低下することを著しく改良し
た透明導電フイルムを提供せんとするものである。
スルホン樹脂を基板とし、この少なくとも片面に硬質な
有機硬化被膜を設け、基板の材料の加工工程である洗浄
工程、パターニングなどに用いられる有機溶剤との接触
から保護せしめると同時に、紫外線照射・加熱処理によ
り、黄変、及び、接着力が低下することを著しく改良し
た透明導電フイルムを提供せんとするものである。
【０００５】
【課題を解決する為の手段】本発明者は、ＰＥＳフイル
ムが黄変する欠点に寄与する紫外線は320ｎｍ以下であ
るという知見（特開昭63-32619号公報）と、紫外線硬化
樹脂層とＰＥＳ間の接着力の低下に関与するのは光増感
剤の励起域に相当する紫外線の過剰照射によるという事
実に基づいて鋭意検討を進めた。その結果、短波長域の
紫外線を効率良くカットしてＰＥＳフイルムの黄変を防
ぐと供に、紫外線照射及び加熱によりＰＥＳの上の当該
硬化被膜が何ら影響を受けない塗膜形成方法や、影響を
抑制する方法を見い出し本願発明を成すに到ったすなわ
ち本発明は、ポリエーテルスルホンフイルムの少なくと
も片面に硬質な有機物質からなる処理層が設けられ、該
処理層上にインジウムを主成分とする金属酸化物の透明
導電膜が形成されて成る積層体において、該処理層が紫
外線吸収剤を含んだ電子線硬化樹脂層である透明導電フ
イルムであり、また該処理層が紫外線吸収剤と光安定剤
を含んだ紫外線硬化樹脂層である透明導電フイルムであ
る。更に本発明は、上記目的を達するために次の構成す
なわち基材(A)と、有機物質からなる処理層(B)とインジ
ウムを主成分とする金属酸化物被膜(C)とを具備し上記
有機物質からなる処理層が紫外線吸収剤を含んだ電子線
硬化樹脂層であるものか、紫外線吸収剤と光安定剤を含
んだ紫外線硬化樹脂層であるものであり、かつ上記各層
は(A)/(B)/(C)または(B)/(A)/(B)/(C)の配列で積層され
てなる透明導電フイルムである。
ムが黄変する欠点に寄与する紫外線は320ｎｍ以下であ
るという知見（特開昭63-32619号公報）と、紫外線硬化
樹脂層とＰＥＳ間の接着力の低下に関与するのは光増感
剤の励起域に相当する紫外線の過剰照射によるという事
実に基づいて鋭意検討を進めた。その結果、短波長域の
紫外線を効率良くカットしてＰＥＳフイルムの黄変を防
ぐと供に、紫外線照射及び加熱によりＰＥＳの上の当該
硬化被膜が何ら影響を受けない塗膜形成方法や、影響を
抑制する方法を見い出し本願発明を成すに到ったすなわ
ち本発明は、ポリエーテルスルホンフイルムの少なくと
も片面に硬質な有機物質からなる処理層が設けられ、該
処理層上にインジウムを主成分とする金属酸化物の透明
導電膜が形成されて成る積層体において、該処理層が紫
外線吸収剤を含んだ電子線硬化樹脂層である透明導電フ
イルムであり、また該処理層が紫外線吸収剤と光安定剤
を含んだ紫外線硬化樹脂層である透明導電フイルムであ
る。更に本発明は、上記目的を達するために次の構成す
なわち基材(A)と、有機物質からなる処理層(B)とインジ
ウムを主成分とする金属酸化物被膜(C)とを具備し上記
有機物質からなる処理層が紫外線吸収剤を含んだ電子線
硬化樹脂層であるものか、紫外線吸収剤と光安定剤を含
んだ紫外線硬化樹脂層であるものであり、かつ上記各層
は(A)/(B)/(C)または(B)/(A)/(B)/(C)の配列で積層され
てなる透明導電フイルムである。
【０００６】 〔発明の詳細な説明〕 本発明に用いられるＰＥＳフイルムは通常市販されてい
る押出法ＰＥＳフイルムである。該フイルムは優れた透
明性を有し、耐熱性に優れ、就く非旋光性に優れたフイ
ルムである。フイルムの厚さは50〜300μｍであり、好
ましくは75〜125μｍである。ついで前記フイルムの少
なくとも片面に樹脂ワニスを塗布し乾燥により溶剤を除
去する。この際樹脂系としては溶剤除去後造膜性を有す
る樹脂系即ち固形の樹脂を添加したワニスが均一塗布と
いう観点から好ましい。具体的には電子線硬化、光硬化
性樹脂としてエポキシジアクリレート、ウレタンジアク
リレート、ポリエステルジアクリレート等のいわゆるア
クリルプレポリマーと、１価または多価のアクリルモノ
マーの混合物が挙げられる。
る押出法ＰＥＳフイルムである。該フイルムは優れた透
明性を有し、耐熱性に優れ、就く非旋光性に優れたフイ
ルムである。フイルムの厚さは50〜300μｍであり、好
ましくは75〜125μｍである。ついで前記フイルムの少
なくとも片面に樹脂ワニスを塗布し乾燥により溶剤を除
去する。この際樹脂系としては溶剤除去後造膜性を有す
る樹脂系即ち固形の樹脂を添加したワニスが均一塗布と
いう観点から好ましい。具体的には電子線硬化、光硬化
性樹脂としてエポキシジアクリレート、ウレタンジアク
リレート、ポリエステルジアクリレート等のいわゆるア
クリルプレポリマーと、１価または多価のアクリルモノ
マーの混合物が挙げられる。
【０００７】この際樹脂系として、硬化方法に紫外線を
利用する場合は本発明の主旨に基づき、光増感剤の他に
硬化被膜への影響を抑制するための光安定剤の添加が必
要となる。光増感剤の種類は320ｎｍ以上の波長の紫外
線により励起される範疇に分類される増感剤が好まし
い。光安定剤はラジカル捕獲剤としてはたらく為、添加
量に注意する必要があり、種類としてはヒンダードアミ
ン系、ベンゾエート系化合物が挙げられる。具体的には
ビス(１,２,２,６,６−ペンタメチル−４−ピペリジル)
セバケート、ビス(２,２,６,６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル)セバケートや、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル−３,５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロシキベンゾ
エートが挙げられる。
利用する場合は本発明の主旨に基づき、光増感剤の他に
硬化被膜への影響を抑制するための光安定剤の添加が必
要となる。光増感剤の種類は320ｎｍ以上の波長の紫外
線により励起される範疇に分類される増感剤が好まし
い。光安定剤はラジカル捕獲剤としてはたらく為、添加
量に注意する必要があり、種類としてはヒンダードアミ
ン系、ベンゾエート系化合物が挙げられる。具体的には
ビス(１,２,２,６,６−ペンタメチル−４−ピペリジル)
セバケート、ビス(２,２,６,６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル)セバケートや、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル−３,５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロシキベンゾ
エートが挙げられる。
【０００８】次に樹脂ワニスに混合する紫外線吸収剤の
選択だが過去の知見（特開平8-11255号公報）に基ずき3
20ｎｍ未満の波長域の紫外光吸収ピークをもつ範疇に分
類される吸収剤を用いることが肝要である。紫外線吸収
剤として一般的にはベンゾトリアゾール系、ベンゾフェ
ノン系、サリチル酸系、シアノアクリレート系化合物が
あげられるが、特に好ましいのはトリアジン系化合物で
あり、具体的には２−(２,４−ジヒドロキシフェニル)
−４,６−ビス(２,４−ジメチルフェニル)−１,３,５ト
リアジンとグリシジル＝アルキル(C10-16、但し主とし
てC12-13)＝エーテルとの反応生成物が挙げられる。そ
して、ワニス中への溶解、均一分散を考慮すると、液状
のものが好ましい。
選択だが過去の知見（特開平8-11255号公報）に基ずき3
20ｎｍ未満の波長域の紫外光吸収ピークをもつ範疇に分
類される吸収剤を用いることが肝要である。紫外線吸収
剤として一般的にはベンゾトリアゾール系、ベンゾフェ
ノン系、サリチル酸系、シアノアクリレート系化合物が
あげられるが、特に好ましいのはトリアジン系化合物で
あり、具体的には２−(２,４−ジヒドロキシフェニル)
−４,６−ビス(２,４−ジメチルフェニル)−１,３,５ト
リアジンとグリシジル＝アルキル(C10-16、但し主とし
てC12-13)＝エーテルとの反応生成物が挙げられる。そ
して、ワニス中への溶解、均一分散を考慮すると、液状
のものが好ましい。
【０００９】基板に樹脂被膜を形成させる手段としては
グラビアコート法、リバースロールコート法、キスロー
ルコート法などがあるが、いずれの方法を用いても工業
的な製造を考慮すると５分以内で硬化できるものが望ま
しい。そして、樹脂被膜の硬化方法の選択だが、本発明
主旨に基づき硬化樹脂が紫外線、加熱により著しく反応
が進行、劣化しないことが肝要であり、具体的には電子
線照射による硬化方法(特開平7-77685号公報)が公知で
あり、挙げられる。なお、硬化被膜は実質的に透明で光
学当方性でなければならない。
グラビアコート法、リバースロールコート法、キスロー
ルコート法などがあるが、いずれの方法を用いても工業
的な製造を考慮すると５分以内で硬化できるものが望ま
しい。そして、樹脂被膜の硬化方法の選択だが、本発明
主旨に基づき硬化樹脂が紫外線、加熱により著しく反応
が進行、劣化しないことが肝要であり、具体的には電子
線照射による硬化方法(特開平7-77685号公報)が公知で
あり、挙げられる。なお、硬化被膜は実質的に透明で光
学当方性でなければならない。
【００１０】次いで透明導電層がかかる塗膜上に形成さ
れる。透明導電層は金属酸化物の薄膜であり酸化インジ
ウム、酸化錫、酸化カドミウム等であり、これらのうち
特に５〜１０重量％の酸化スズを含有した酸化インジウ
ムの薄膜を形成することが好ましい。これらの膜厚は５
０Å〜５００Åの範囲で適宜選定することが可能であ
る。これらの薄膜はスパッタリング法、イオンプレーテ
ィング法等公知の手段により形成される。
れる。透明導電層は金属酸化物の薄膜であり酸化インジ
ウム、酸化錫、酸化カドミウム等であり、これらのうち
特に５〜１０重量％の酸化スズを含有した酸化インジウ
ムの薄膜を形成することが好ましい。これらの膜厚は５
０Å〜５００Åの範囲で適宜選定することが可能であ
る。これらの薄膜はスパッタリング法、イオンプレーテ
ィング法等公知の手段により形成される。
【００１１】
【実施例】次に、実施例に基づいて本発明の実施態様を
説明する。 《実施例１》ＰＥＳフイルム(厚さ０.１mm、可視光線透
過率８９％)に次の条件で硬化被膜を形成した。 電子線硬化樹脂配合割合 メチルセロソルブアセテート35％を含むエポキシアクリレート溶液 １５重量％ 酢酸ブチル20％を含むトリメチルプロパンアクリレート溶液 １８重量％ ２−(２,４−ジヒドロキシフェニル)−４,６−ビス(２,４−ジメチ ルフェニル)−１,３,５トリアジンとグリシジル＝アルキル(C10-16、 但し主としてC12-13)＝エーテルとの反応生成物 1.１重量％ （最大有効吸収波長＝285nm） 溶媒 酢酸エチル／ブチルセロソルブ（重量比４／１) 残量 上記の樹脂ワニス１５g/m2をグラビアロールコーターで
塗布したのち１２０℃で２分間乾燥してから、電子線を
１６０ＫＶで３Ｍrad照射して膜厚２.５μｍの硬化被膜
を形成した。
説明する。 《実施例１》ＰＥＳフイルム(厚さ０.１mm、可視光線透
過率８９％)に次の条件で硬化被膜を形成した。 電子線硬化樹脂配合割合 メチルセロソルブアセテート35％を含むエポキシアクリレート溶液 １５重量％ 酢酸ブチル20％を含むトリメチルプロパンアクリレート溶液 １８重量％ ２−(２,４−ジヒドロキシフェニル)−４,６−ビス(２,４−ジメチ ルフェニル)−１,３,５トリアジンとグリシジル＝アルキル(C10-16、 但し主としてC12-13)＝エーテルとの反応生成物 1.１重量％ （最大有効吸収波長＝285nm） 溶媒 酢酸エチル／ブチルセロソルブ（重量比４／１) 残量 上記の樹脂ワニス１５g/m2をグラビアロールコーターで
塗布したのち１２０℃で２分間乾燥してから、電子線を
１６０ＫＶで３Ｍrad照射して膜厚２.５μｍの硬化被膜
を形成した。
【００１２】 《実施例２》 紫外線硬化樹脂配合割合 メチルセロソルブアセテート35％を含むエポキシアクリレート溶液 １５重量％ 酢酸ブチル20％を含むトリメチルプロパンアクリレート溶液 １８重量％ ４,４'−ジエチルアミノベンゾフェノン ０.８重量％ （最大有効吸収波長＝365nm） ２−(２,４−ジヒドロキシフェニル)−４,６−ビス(２,４−ジメチ ルフェニル)−１,３,５トリアジンとグリシジル＝アルキル(C10-16、 但し主としてC12-13)＝エーテルとの反応生成物 １.１重量％ （最大有効吸収波長＝285nm） ビス(１,２,２,６,６−ペンタメチル−４−ピペリジル)セバケート ０.５重量％ 溶媒 酢酸エチル／ブチルセロソルブ(重量比４／１) 残量 上記の樹脂ワニス１５g/m2をグラビアロールコーターで
塗布したのち１２０℃で２分間乾燥してから、高圧水銀
ランプにより紫外線を４００mJ/cm2照射して膜厚２.５
μｍの硬化被膜を形成した。
塗布したのち１２０℃で２分間乾燥してから、高圧水銀
ランプにより紫外線を４００mJ/cm2照射して膜厚２.５
μｍの硬化被膜を形成した。
【００１３】《比較例１》実施例２に於いて、紫外線硬
化樹脂配合成分で紫外線吸収剤と光安定剤の両方とも含
まない処方とした以外は全く同様の操作を行った。 《比較例２》実施例２に於いて、光安定剤を含まない処
方とした以外は全く同様の操作を行った。 《比較例３》実施例１に於いて、紫外線吸収剤を含まな
い処方とした以外は全く同様の操作を行った。 上記で得られたフイルムの物性を表１に記す。表１の接
着性は、フイルムの有機物質層上にエポキシ系熱硬化型
樹脂(ERS-1000/1800 住友ベークライト製)をもってスク
リーン印刷し、同フイルムで貼合わせた後、加熱硬化さ
せたものを９０°剥離試験した。
化樹脂配合成分で紫外線吸収剤と光安定剤の両方とも含
まない処方とした以外は全く同様の操作を行った。 《比較例２》実施例２に於いて、光安定剤を含まない処
方とした以外は全く同様の操作を行った。 《比較例３》実施例１に於いて、紫外線吸収剤を含まな
い処方とした以外は全く同様の操作を行った。 上記で得られたフイルムの物性を表１に記す。表１の接
着性は、フイルムの有機物質層上にエポキシ系熱硬化型
樹脂(ERS-1000/1800 住友ベークライト製)をもってスク
リーン印刷し、同フイルムで貼合わせた後、加熱硬化さ
せたものを９０°剥離試験した。
【００１４】
【表１】
【００１５】
【発明の効果】本発明による透明導電フイルムは液晶表
示素子加工工程で紫外線照射・加熱処理を行ってもフイ
ルムの透明性、及び信頼性は損なわず、良好な液晶表示
素子を得ることができた。
示素子加工工程で紫外線照射・加熱処理を行ってもフイ
ルムの透明性、及び信頼性は損なわず、良好な液晶表示
素子を得ることができた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｂ 5/14 Ｈ０１Ｂ 5/14 Ａ
Claims (2)
- 【請求項１】 ポリエーテルスルホンフイルムの少なく
とも片面に硬質な有機物質からなる処理層が設けられ、
該処理層上にインジウムを主成分とする金属酸化物の透
明導電膜が形成されて成る積層体において、該処理層が
紫外線吸収剤を含んだ電子線硬化樹脂層であることを特
徴とする透明導電フイルム。 - 【請求項２】 ポリエーテルスルホンフイルムの少なく
とも片面に硬質な有機物質からなる処理層が設けられ、
該処理層上にインジウムを主成分とする金属酸化物の透
明導電膜が形成されて成る積層体において、該処理層が
紫外線吸収剤と光安定剤を含んだ紫外線硬化樹脂層であ
ることを特徴とする透明導電フイルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9347416A JPH11170426A (ja) | 1997-12-17 | 1997-12-17 | 透明導電フイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9347416A JPH11170426A (ja) | 1997-12-17 | 1997-12-17 | 透明導電フイルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11170426A true JPH11170426A (ja) | 1999-06-29 |
Family
ID=18390084
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9347416A Pending JPH11170426A (ja) | 1997-12-17 | 1997-12-17 | 透明導電フイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11170426A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100788184B1 (ko) * | 2005-04-28 | 2007-12-26 | 티디케이가부시기가이샤 | 투명 전기전도체 |
| US7678446B2 (en) | 2005-06-30 | 2010-03-16 | Tdk Corporation | Transparent conductor and transparent conductive material |
| JP2020179645A (ja) * | 2019-04-26 | 2020-11-05 | 株式会社クラレ | 積層体およびヘッドアップディスプレイ装置。 |
-
1997
- 1997-12-17 JP JP9347416A patent/JPH11170426A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100788184B1 (ko) * | 2005-04-28 | 2007-12-26 | 티디케이가부시기가이샤 | 투명 전기전도체 |
| US7959832B2 (en) | 2005-04-28 | 2011-06-14 | Tdk Corporation | Transparent conductor |
| US7678446B2 (en) | 2005-06-30 | 2010-03-16 | Tdk Corporation | Transparent conductor and transparent conductive material |
| JP2020179645A (ja) * | 2019-04-26 | 2020-11-05 | 株式会社クラレ | 積層体およびヘッドアップディスプレイ装置。 |
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