JPH11172667A - 高圧噴射地盤改良工法 - Google Patents

高圧噴射地盤改良工法

Info

Publication number
JPH11172667A
JPH11172667A JP33729897A JP33729897A JPH11172667A JP H11172667 A JPH11172667 A JP H11172667A JP 33729897 A JP33729897 A JP 33729897A JP 33729897 A JP33729897 A JP 33729897A JP H11172667 A JPH11172667 A JP H11172667A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ground
injection
improved
layer
material liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP33729897A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3663503B2 (ja
Inventor
Kazuaki Naito
一昭 内藤
Koji Ezaki
浩治 江崎
Yasumori Senbara
泰守 宣原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Onoda Chemico Co Ltd
Original Assignee
Onoda Chemico Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=18307312&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JPH11172667(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Onoda Chemico Co Ltd filed Critical Onoda Chemico Co Ltd
Priority to JP33729897A priority Critical patent/JP3663503B2/ja
Publication of JPH11172667A publication Critical patent/JPH11172667A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3663503B2 publication Critical patent/JP3663503B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Consolidation Of Soil By Introduction Of Solidifying Substances Into Soil (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は高圧噴射地盤改良工法、詳しくは
改良対象地盤中に障害物層や硬質層が存在する場合の高
圧噴射地盤改良工法に関する。改良対象地盤中に障害物
層があった場合に、従来技術では、先行削孔、内管
引き抜き、注入ロッドの建て込み、ケーシング引き
抜き、噴射造成の諸工程が必要となり、そのために多
大の手間と時間を必要とする。 【解決手段】 この発明の工法は、軸身を回転上下動さ
せながら、該軸身の下端部に設けた噴射ノズルから硬化
材液を改良対象地盤中に高圧噴射して、地盤を改良する
高圧噴射地盤改良工法に用いる注入ロッドの、軸身(1
a)の下端部に設けた硬化材液噴射用モニター(4)
に、ダウンザホールハンマー(5)を取り付け、該ダウ
ンザホールハンマー(5)で改良対象地盤中の捨石層、
硬質層などの障害物層(D)を打撃削孔して所定深度ま
で削孔した後、注入ロッド(1)を回転引き上げながら
硬化材液噴射用モニター(4)から硬化材液(B)を高
圧噴射して、改良体(G)を造成することを特徴とする
高圧噴射地盤改良工法としたことである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は高圧噴射地盤改良
工法、詳しくは、改良対象地盤中に改良体を造成するに
ついて、当該改良対象地盤中に捨石層や硬質層などの障
害物層が存在する場合の施工、あるいは水中施工に適し
た高圧噴射地盤改良工法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から注入ロッドを回転上下動させな
がら噴射ノズルから硬化材液を改良対象地盤中に高圧で
噴射しつつ改良体を造成し、地盤を改良する高圧噴射地
盤改良工法が広く行われている。この高圧噴射地盤改良
工法は、改良対象地盤の上部や地盤中に捨石層や硬質層
などの障害物層が存在する際には、予め、ロータリーパ
ーカッションドリルなどを用いて先行削孔を行い、その
掘削孔に注入ロッドを建て込む方法がとられているのが
通常である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来工法
には、以下の問題がある。すなわち、本従来工法では、
先行削孔、内管引き抜き、注入ロッドの建て込
み、ケーシング引き抜き、硬化材液の噴射造成の諸
工程が必要となり、そのために多大の手間と時間を必要
とする。
【0004】また、改良対象予定地盤が水中にある場合
の施工では、先行掘削孔の場所が水面下にあるので先行
掘削孔の保護および位置確認が複雑で困難である。
【0005】
【課題を解決するための手段】この発明は上述の問題を
解決するために、以下の構成としたことである。軸身を
回転上下動させながら、該軸身の下端部に設けた噴射ノ
ズルから硬化材液を改良対象地盤中に高圧噴射して、地
盤を改良する高圧噴射地盤改良工法に用いる注入ロッド
の、前記軸身の下端部に設けた硬化材液噴射用モニター
に、ダウンザホールハンマーを取り付け、該ダウンザホ
ールハンマーで改良対象地盤中の捨石層、硬質層などの
障害物層を打撃削孔して所定深度まで削孔した後、注入
ロッドを回転引き上げながら硬化材液噴射用モニターか
ら硬化材液を高圧噴射して、改良体を造成する高圧噴射
地盤改良工法としたことである。
【0006】この発明の工法は、注入ロッドの硬化材液
噴射用モニターの先端に装備したダウンザホールハンマ
ーにより、所定深度まで打撃削孔した後、注入ロッドを
回転引き上げながら噴射ノズルから硬化材液を高圧で噴
射しつつ、改良予定地盤中に改良体を造成するので、従
来の障害物層を含んだ地盤を高圧噴射工法で地盤改良す
る場合に要した先行削孔、内管引き抜き、注入ロ
ッドの建て込み、ケーシング引き抜き、硬化材液の
噴射造成の諸工程が、標準的な高圧噴射工程である削
孔および硬化材液の噴射造成の二工程のみで、改良対
象地盤中の改良体の造成が可能である。
【0007】上記のように、本願発明の工法は削孔およ
び硬化材液の噴射という二工程からなる工法であるか
ら、工期の短縮を図ることができ、施工手間を省くこと
もできるので、非常に経済的である。また、改良対象地
盤が水中にある場合の水中施工であっても、削孔および
噴射造成工程を連続して行えるので、従来の工法のよう
な先行掘削孔の保護も位置確認も不要となる。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、この発明の高圧噴射地盤改
良工法についての一実施例を図面に基づいて説明する。
図1はこの発明の注入ロッドの主要部の拡大概略断面図
であり、図2はこの発明の施工手順を示す説明図であ
る。図1に示すように、本願発明の工法に用いる注入ロ
ッド1は、駆動装置(図示せず)により支持された軸身
1aの内部をエア流路2aを構成する外管2と、硬化材
液流路3aを構成する内管3の二重管構造に形成する。
また、該注入ロッド1の軸身1aの下端部に、硬化材液
噴射用モニター4をねじ式ジョイント7により取り付け
る。
【0009】この硬化材液噴射用モニター4は、前記注
入ロッド1の二重管構造の軸体1a内の硬化材液流路3
aと連通する硬化材液流路4bを有し、該流路4bから
供給される硬化材液Bを噴射する硬化材液噴射ノズル6
を有するとともに前記軸体1aのエア流路2aに連通す
るエア流路4a有する。
【0010】上記の様に構成した硬化材液噴射用モニタ
ー4の下部に、ダウンザホールハンマー5を取り付け、
硬化材液噴射用モニター4のエア流路4aからの圧縮空
気Aによりダウンザホールハンマー5を作動させる。
【0011】上記のように構成した注入ロッドを改良対
象地盤の削孔予定位置にセットし、削孔していくのであ
るが、図2の(イ)に示すように改良対象土層Eまでの
削孔の途中で改良対象地盤の表土Cの下部にある硬質層
などの障害物層Dに接したときは、噴射用モニター4の
先端に設けたダウンザホールハンマー5の打撃により当
該硬質層などの障害物層Dを打撃し削孔する。
【0012】次に、改良対象土層(E)をダウンザホー
ルハンマー5先端から硬化材液噴射モニター4のエア流
路4aからの圧縮空気Aのみを出しつつ所定深度まで注
入ロッド1を貫入する(図2の(ロ))。所定深度まで
の貫入が終了した後、図2の(ハ)に示すとように、さ
らに余掘(F)をおこなう。
【0013】所定の深度まで削孔を行った後、図2の
(ハ)に示すとおり噴射用モニター4の噴射ノズル6か
ら硬化材液Bを噴射し、図2の(ニ)に示すとおり注入
ロッド1を回転引き上げながら改良体Gを造成する。所
定深度まで硬化材液Bを噴射し改良体Gの造成が終了し
たら、図2の(ホ)に示すとおり硬化材液Bの噴射を止
め空打部分を引き抜き、障害物層Dの下部に所定の改良
体Gを造成する。
【0014】
【発明の効果】この発明の工法を実施した結果、改良対
象地盤中に硬質層や捨石層などの障害物層があったとし
ても、該障害物層を容易に削孔することができ、従来技
術と比較して非常な工期の短縮となり、多大な経済的効
果を得ることができた。
【0015】また、水中施工を実施した結果でも、海底
の捨石層などの障害物層を容易に削孔でき、掘削孔の保
護や位置確認の必要もなく、スムーズな施工ができ、地
上の施工と同様の効果を得ることができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の注入ロッドの主要部の拡大概略断面
図である。
【図2】この発明の施工手順を示す説明図である。
【符号の説明】
1 注入ロッド 2 外管 2a エア流路 3 内管 3a 硬化材液流路 4 硬化材液噴射モニター 4a エア流路 4b 硬化材液流路 5 ダウンザホールハンマー 6 噴射ノズル 7 ねじ式ジョイント A 圧縮空気 B 硬化材液 C 改良対象地盤の表土 D 障害物層 E 改良地盤層 F 余掘 G 改良体

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 軸身を回転上下動させながら、該軸身の
    下端部に設けた噴射ノズルから硬化材液を改良対象地盤
    中に高圧噴射して、地盤を改良する高圧噴射地盤改良工
    法に用いる注入ロッドの、前記軸身の下端部に設けた硬
    化材液噴射用モニターに、ダウンザホールハンマーを取
    り付け、該ダウンザホールハンマーで改良対象地盤中の
    捨石層、硬質層などの障害物層を打撃削孔して所定深度
    まで削孔した後、注入ロッドを回転引き上げながら硬化
    材液噴射用モニターから硬化材液を高圧噴射して、改良
    体を造成することを特徴とする高圧噴射地盤改良工法。
JP33729897A 1997-12-08 1997-12-08 高圧噴射地盤改良工法 Expired - Lifetime JP3663503B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33729897A JP3663503B2 (ja) 1997-12-08 1997-12-08 高圧噴射地盤改良工法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33729897A JP3663503B2 (ja) 1997-12-08 1997-12-08 高圧噴射地盤改良工法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11172667A true JPH11172667A (ja) 1999-06-29
JP3663503B2 JP3663503B2 (ja) 2005-06-22

Family

ID=18307312

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP33729897A Expired - Lifetime JP3663503B2 (ja) 1997-12-08 1997-12-08 高圧噴射地盤改良工法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3663503B2 (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000045262A (ja) * 1998-07-28 2000-02-15 Toyo Constr Co Ltd 高圧噴射攪拌工法
JP2006336389A (ja) * 2005-06-03 2006-12-14 Estec:Kk 高圧噴射工法およびダウンザホールハンマー
JP2012517540A (ja) * 2009-02-09 2012-08-02 ワッサラ・アーベー ジェットグラウト工法による土壌強化で用いるダウンザホールハンマードリルのための設備
JP2018127789A (ja) * 2017-02-07 2018-08-16 小野田ケミコ株式会社 ダウンザホールハンマを有する高圧噴射撹拌装置及びこれを用いた高圧噴射撹拌工法
JP2021073396A (ja) * 2017-02-07 2021-05-13 小野田ケミコ株式会社 ダウンザホールハンマを有する高圧噴射撹拌装置及びこれを用いた高圧噴射撹拌工法
CN114703840A (zh) * 2022-03-23 2022-07-05 深圳市工勘岩土集团有限公司 深厚填石层潜孔锤引孔与旋喷钻喷一体化成桩设备
CN114703839A (zh) * 2022-03-23 2022-07-05 深圳市工勘岩土集团有限公司 深厚填石层潜孔锤引孔与旋喷钻喷一体化成桩施工方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000045262A (ja) * 1998-07-28 2000-02-15 Toyo Constr Co Ltd 高圧噴射攪拌工法
JP2006336389A (ja) * 2005-06-03 2006-12-14 Estec:Kk 高圧噴射工法およびダウンザホールハンマー
JP2012517540A (ja) * 2009-02-09 2012-08-02 ワッサラ・アーベー ジェットグラウト工法による土壌強化で用いるダウンザホールハンマードリルのための設備
EP2393991A4 (en) * 2009-02-09 2017-04-19 Wassara AB Arrangement for a down-the-hole hammer drill for use in soil consolidation through jet grouting
JP2018127789A (ja) * 2017-02-07 2018-08-16 小野田ケミコ株式会社 ダウンザホールハンマを有する高圧噴射撹拌装置及びこれを用いた高圧噴射撹拌工法
JP2021073396A (ja) * 2017-02-07 2021-05-13 小野田ケミコ株式会社 ダウンザホールハンマを有する高圧噴射撹拌装置及びこれを用いた高圧噴射撹拌工法
CN114703840A (zh) * 2022-03-23 2022-07-05 深圳市工勘岩土集团有限公司 深厚填石层潜孔锤引孔与旋喷钻喷一体化成桩设备
CN114703839A (zh) * 2022-03-23 2022-07-05 深圳市工勘岩土集团有限公司 深厚填石层潜孔锤引孔与旋喷钻喷一体化成桩施工方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3663503B2 (ja) 2005-06-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101065007B1 (ko) 플러싱 공기 분사 방향 및 분사압 제어 드릴링 비트를 구비한 지반 천공 장치, 이를 포함한 구조용 파이프체 지반 삽입장치, 및 연약 지반 보강 방법
CN106088092B (zh) 管桩打桩过程出现拒锤状况的解决方法
JPH11172667A (ja) 高圧噴射地盤改良工法
JP5717148B2 (ja) 地中固結体造成工法
CN116291585A (zh) 一种单点多桩双重高压喷射注浆系统及方法
JP2009057760A (ja) 地下水の流動化阻害防止方法、地下水の流動阻害を防止する山留め壁の構築方法及びその方法で構築された山留め壁、並びに通水部の構築方法
KR101031603B1 (ko) 연약지반 개량용 천공로드의 배출방법 및 장치
JPH0586614A (ja) 地盤改良体造成工法及びその装置
JPS6183718A (ja) 掘削工法
TW200829754A (en) Equipment and construction method for creating underground consolidation body
JP3528986B2 (ja) フォアパイルの造成工法
JP2909014B2 (ja) 土砂層と岩盤とを削孔する方法及び土砂層と岩盤とを削孔する装置
JP2003247233A (ja) 中空管杭の施工方法及びその施工装置
JP2821712B2 (ja) 高圧噴流水を利用した硬化材注入による地盤改良工法
JPH0114380B2 (ja)
JP3825896B2 (ja) 地盤改良体造成工法及びその装置
JP4623482B2 (ja) スリーブ管を用いた固化工法
JP2941590B2 (ja) 回転打撃掘削工具および掘削工法
JP3552164B2 (ja) 高圧ジェット噴射混合処理工法
JP4600897B2 (ja) 薬液注入工法
JP4942059B2 (ja) 削孔方向制御工法
JP2000328560A (ja) 鋼管柱列土留壁の造成方法
JPS615115A (ja) 地盤硬化層の造成方法
JP4349522B2 (ja) 地盤改良工法
KR200325158Y1 (ko) 고속분류체를 이용한 급결분사장치

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20041001

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20041019

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041214

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050222

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050315

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080408

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090408

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100408

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110408

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120408

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130408

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140408

Year of fee payment: 9

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term