JPH11178311A

JPH11178311A - 位置決め装置、駆動ユニット及び前記装置を備えた露光装置

Info

Publication number: JPH11178311A
Application number: JP10104524A
Authority: JP
Inventors: Kazuya Ono; 一也小野
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1997-10-09
Filing date: 1998-04-15
Publication date: 1999-07-02

Abstract

(57)【要約】【課題】ウエハのような位置決め対象物が載置された
テーブルを非接触で安定に支持できると共に、そのテー
ブルを非接触で正確に位置決めできる位置決め装置を提
供する。【解決手段】磁石板を含むウエハテーブル５上にウエ
ハＷを保持し、ウエハテーブル５を底部ヨーク１０、ト
ップヨーク１６、及び支柱１５Ａ等からなる磁気回路内
に収納する。ウエハテーブル５の底面側に、それぞれコ
ア２０に対してＸコイル１２Ａ，１２Ｂ、Ｙコイル１３
Ａ，１３Ｂ、及びＺコイル１４を装着してなる駆動ユニ
ット１１を２次元的に多数配列し、Ｚコイル１４でウエ
ハテーブル５の浮上力を制御し、Ｘコイル１２Ａ，１２
Ｂ、及びＹコイル１３Ａ，１３Ｂによってウエハテーブ
ル５に対してＸ方向、Ｙ方向への推力を付与する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体ウエ
ハ等の位置決め対象物が載置された平板状可動体を非接
触で位置決めする位置決め装置、及びこの位置決め装置
を備えた露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、半導体素子、撮像素子（ＣＣ
Ｄ等）、液晶表示素子、又は薄膜磁気ヘッド等を製造す
るためのフォトリソグラフィ工程で、マスクとしてのレ
チクルのパターンを投影光学系を介して基板としてのウ
エハ（又はガラスプレート等）の各ショット領域に転写
するステッパー等の投影露光装置が使用されている。こ
のような投影露光装置では、ウエハを高精度に露光位置
に位置決めする必要があるため、ウエハはウエハホルダ
上に真空吸着等によって保持され、従来はこのウエハホ
ルダが高精度に位置決め可能なウエハステージ上に固定
されていた。

【０００３】これに対して最近、ウエハをより高速に、
且つ機械的な案内面の精度等に影響されずに高精度に位
置決めするために、ウエハが載置された平板状のテーブ
ルを非接触で浮上させて位置決めする位置決め装置の開
発が進められている。そして、例えば米国特許（ＵＳ
Ｐ）第５１９６７４５号明細書には、ウエハが載置され
たテーブルの上下面に外側がＮ極及びＳ極となっている
永久磁石を交互に２次元的に配置し、そのテーブルが収
納される固定体側にそれらの永久磁石に対応した多相コ
イル列を配置した位置決め装置が提案されている。この
位置決め装置では、それらの永久磁石の磁束がテーブル
に対して垂直になっている場所の多相コイルでは水平方
向の推力が発生し、その磁束が水平になっている場所の
コイルでは鉛直方向の推力が発生することを利用して、
そのテーブルを６自由度の方向に非接触で位置決めして
いる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記の如く従来の非接
触方式の位置決め装置では、可動体としてのテーブルの
上下面に極性が交互に反転する複数の永久磁石が取り付
けられていた。そのため、そのテーブルが大型化し、且
つ重量も重くなっていた。また、多相コイルによる鉛直
方向の推力は非常に小さく、その鉛直方向の推力のみで
その大きな重量のテーブルを浮上させるのは実質的に困
難であった。

【０００５】また、その位置決め装置は、テーブルの移
動ストロークの２倍の大きさのコイル列を必要とするた
め、装置が大型化するという不都合があった。本発明は
斯かる点に鑑み、ウエハのような位置決め対象物が載置
された可動体を安定に支持できると共に、その可動体を
正確に位置決めできる位置決め装置を提供することを第
１の目的とする。

【０００６】また、本発明はその可動体の移動ストロー
クに比べて駆動機構をあまり大型化することなく非接触
にその可動体を位置決めできる位置決め装置を提供する
ことを第２の目的とする。更に本発明は、そのような位
置決め装置で使用できる駆動ユニット、及びそのような
位置決め装置を備え、高いスループットで高精度に半導
体素子等を製造できる露光装置を提供することをも目的
とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明による第１の位置
決め装置は、位置決め対象物（Ｗ）が載置される可動体
（６）を位置決めするための位置決め装置であって、可
動体（６）に一体的に組み込まれ可動体（６）の移動面
に垂直な一方向に向かう磁束を発生する（例えば平板状
の１枚、又は複数枚の）発磁体（８）と、可動体（６）
及び発磁体（８）を上下に挟むように配置され発磁体
（８）と共に磁気回路を形成する磁気部材（１０，１５
Ａ〜１５Ｃ，１６）と、発磁体（８）とその磁気部材と
の間に配置され発磁体（８）を駆動する駆動ユニット
（１１）と、を備えている。

【０００８】そして、その駆動ユニット（１１）は、発
磁体（８）に対してその移動面に垂直な方向に可変の推
力を発生するように巻回された浮上用コイル（１４）を
有し、その磁気部材、及び駆動ユニット（１１）によっ
てその可動体を非接触状態で位置決めするものである。

【０００９】斯かる本発明によれば、可動体（６）及び
発磁体（８）よりなる可動テーブル（６，８）は、薄く
軽量化できる。このとき、発磁体（８）が可動体（６）
を兼用してもよい。また、本発明では主に２つの磁気回
路が形成される。第１の磁気回路は、発磁体（８）のＮ
極から出た磁束が上面、又は底面の磁気部材、及びそれ
に対向する磁気部材を介して発磁体（８）のＳ極に戻る
磁気回路である。第２の磁気回路は、発磁体（８）のＮ
極から出た磁束が空間中にリークして例えば上面の磁気
部材を通ってそのＳ極に戻る磁気回路である。

【００１０】第１、及び第２の磁気回路はそれぞれ可動
テーブル（６，８）に対して上面、及び底面の磁気部材
への吸引力を発生しており、この吸引力を磁気的に制御
することでその可動テーブルに浮上力が発生して、その
可動テーブルの自重を支えることができる。これによっ
て、駆動ユニット（１１）の浮上用コイル（１４）は反
発力、又は吸引力を所定範囲で調整するのみでよくなる
ため、その発熱は最小となる。その吸引力を磁気的に制
御するには、その可動テーブルの高さを調整してもよ
く、駆動ユニット（１１）のコイルの大きさを調整して
もよく、その磁気部材のパーミアンスを調整してもよ
い。

【００１１】そして、例えば３個以上の駆動ユニット
（１１）の浮上用コイルでの反発力、又は吸引力を制御
することで、その可動テーブルの高さ、及び２軸の周り
の傾斜角が制御できる。即ち、高さ方向の位置決めを正
確に行うことができる。次に、本発明の第２の位置決め
装置は、その本発明の第１の位置決め装置において、そ
の駆動ユニット（１１）が、その磁気回路内で磁束を通
過させるコア部材（２０）と、発磁体（８）に対してそ
の移動面内の第１の方向にローレンツ力よりなる推力を
発生するようにそのコア部材に巻回された第１の推力発
生用コイル（１２Ａ）と、発磁体（８）に対してその移
動面内のその第１の方向に交差する第２の方向にローレ
ンツ力よりなる推力を発生するようにそのコア部材に巻
回された第２の推力発生用コイル（１３Ａ）と、を有す
るものである。

【００１２】斯かる第２の位置決め装置によれば、その
可動テーブルの底面、又は上面の推力発生用コイル（１
２Ａ，１３Ａ）に流れる電流と、発磁体（８）の磁束と
によって発生するローレンツ力の反力によって、その可
動テーブルに対して２次元的な推力が発生する。従っ
て、その推力発生用コイルを例えば３個（駆動ユニット
としては２個）設けることで、その可動テーブルに対し
て２次元の大きな推力、及び回転力を付与できる。即
ち、２次元平面内でその可動テーブル（６，８）を正確
に位置決めできる。

【００１３】そして、その第１の位置決め装置と第２の
位置決め装置とを組み合わせることによって、その可動
テーブルを非接触で正確に６自由度で位置決めできる。
この際に、その可動テーブルの移動ストロークに対し
て、複数の駆動ユニットの設置面積は同程度でよいた
め、位置決め装置が大型化することはない。また、複数
のその駆動ユニットは磁気的に直接連結されていないの
で、各コイルのインダクタンスを低減でき、電流の応答
性が向上するため、高速に位置決めを行うことができ
る。

【００１４】次に、本発明による第３の位置決め装置
は、位置決め対象物（Ｗ）が載置される可動体（６）を
位置決めするための位置決め装置であって、その可動体
に一体的に組み込まれその可動体の移動面に垂直な一方
向に向かう磁束を発生する発磁体（８）と、その可動体
及びその発磁体を上下に挟むように配置されその発磁体
と共に磁気回路を形成する磁気部材（１０，１５Ａ〜１
５Ｃ，１６）と、その発磁体とその磁気部材との間に配
置されその発磁体を駆動する駆動ユニット（７０Ｘ；７
４Ｘ）と、を備えている。

【００１５】そして、その駆動ユニット（７０Ｘ；７４
Ｘ）は、その磁気回路内で磁束を通過させるコア部材
（７１；７５）と、その発磁体に対してその移動面に沿
った方向にローレンツ力よりなる推力を発生するように
そのコア部材に巻回された推力発生用コイル（７３；７
３ｄ，７３ｅ））と、その発磁体に対してその移動面に
垂直な方向に可変の推力を発生するようにそのコア部材
に巻回された浮上用コイル（７２Ａ，７２Ｂ；７６）
と、を有し、その磁気部材、及び駆動ユニットによって
その可動体を位置決めするものである。

【００１６】斯かる第３の位置決め装置によっても、そ
の可動体はその発磁体と共にその磁気回路によって大部
分の重量が支持されている。そして、その浮上用コイル
によってその可動体の高さ、及び傾斜角の制御が行わ
れ、その推力発生用コイルによってその可動体の移動面
内での位置が制御される。この場合、一例として、その
コア部材（７１）は、その発磁体側に凸部を向けた円弧
状の部材であり、かつこの円弧状の部材の２つの端部が
その磁気部材に磁気的に連結され、その推力発生用コイ
ル（７３）は、その円弧状の部材の中間部に巻回され、
かつその推力発生用コイルは外側の面積が実質的にその
コア部材の面積以上であると共に、その外側の面積に対
して内側の面積が狭く形成され、その浮上用コイル（７
２Ａ，７２Ｂ）は、その円弧状の部材の２つの端部に巻
回されているものである。

【００１７】こられの場合、その可動体のその移動面内
での位置を計測する位置計測系（１７Ｘ，１７Ｙ，１８
Ｘ，１８Ｙ１，１８Ｙ２）を設けることが望ましい。そ
の位置計測結果に基づいて駆動ユニット（１１）を駆動
することによって、閉ループ方式で高精度にその可動体
の位置決めが行われる。また、発磁体（８）の変形量を
計測する変形量計測系（９Ａ〜９Ｄ）を設けるようにし
てもよい。例えばこれらの近傍に伸縮するアクチュエー
タを設けておき、検出される歪を相殺するようにそれら
のアクチュエータを駆動することで発磁体（８）の変形
が抑制される。アクチュエータを使用する代わりに複数
の浮上用コイル（１４）で発生する浮上力を制御しても
よい。

【００１８】また、発磁体（８）に、この発磁体の磁気
による変形を自立的に相殺するように変形する磁歪部材
を被着してもよい。その磁歪部材としては、例えばフェ
ライトガーネット系、又は希土類合金系等の磁歪材料よ
り形成された部材が使用できる。このように磁歪材料を
使用するとき、その発磁体が磁場によって凸に歪み易い
位置には、磁場によって収縮する磁歪材料（ＣｏＦｅ₂
Ｏ₄やＳｍＦｅ₂等）を被着すればよく、その発磁体が
磁場によって凹に歪み易い位置には、磁場によって膨張
する磁歪材料（ＴｂＦｅ₂や７０ｗｔ％Ｔｂ−３０ｗｔ
％Ｆｅ等）を被着すればよい。

【００１９】また、本発明による第４の位置決め装置
は、位置決め対象物（Ｗ）が載置される可動体（４４）
を位置決めするための位置決め装置であって、可動体
（４４）に連結され、それぞれ可動体（４４）の移動面
に垂直な一方向に向かう磁束を発生する第１及び第２の
発磁体（４５Ａ，４５Ｂ）と、第１及び第２の発磁体
（４５Ａ，４５Ｂ）をそれぞれ上下に挟むように連結さ
れた状態で配置されると共に、第１及び第２の発磁体
（４５Ａ，４５Ｂ）と共にそれぞれ磁気回路を形成する
磁気部材（４６）と、第１の発磁体（４５）と磁気部材
（４６）との間に配置されこの発磁体を駆動する第１の
駆動ユニット（１１）と、第２の発磁体（４５Ｂ）と磁
気部材（４６）との間に配置されこの発磁体を駆動する
第２の駆動ユニット（１１Ｃ）と、を備えている。

【００２０】そして、第１の駆動ユニット（１１）は、
その磁気回路内で第１の発磁体（４５Ａ）に対してその
移動面に垂直な方向に可変の推力を発生するように巻回
された浮上用コイル（１４）を有し、第２の駆動ユニッ
ト（１１Ｃ）は、その磁気回路内でその第２の発磁体に
対してその移動面に垂直な方向に可変の推力を発生する
ように巻回された浮上用コイル（１４）を有し、その磁
気部材、第１の駆動ユニット、及び第２の駆動ユニット
によってその可動体を非接触状態で位置決めするもので
ある。

【００２１】斯かる本発明によれば、ウエハ等の位置決
め対象物が載置される可動体（４４）は、例えば細長い
平板状の非磁性材料から構成され、可動体（４４）の両
端部に第１及び第２の発磁体（４５Ａ，４５Ｂ）が連結
され、可動体（４４）の一端の底面若しくは上面（又は
両面）に第１の駆動ユニット（１１）が配置され、可動
体（４４）の他端の底面若しくは上面（又は両面）に第
２の駆動ユニット（１１Ｃ）が配置される。そして、可
動体（４４）に対する浮上力の大部分はその磁気回路
（第１の磁気回路）、及び空間中にリークする磁束で形
成される第２の磁気回路によって与えられる。

【００２２】また、可動体（４４）の移動面の２方向を
Ｘ方向、Ｙ方向として、その移動面に垂直な方向をＺ方
向とすると、それらの駆動ユニットによって可動体（４
４）はＺ方向に非接触で正確に位置決めされる。この際
に、可動体（４４）の中央部には磁束が殆ど存在しない
ため、例えば電子線転写装置等にもその位置決め装置が
適用できる。

【００２３】これらの場合において、その可動体が位置
決めされる際に発生する推力による反力を、床に逃がす
構造を有することが望ましい。これによって振動の発生
が抑制される。また、その発磁体は、単極（発磁体が複
数個有る場合には、全部が同一方向に磁束を発生するこ
と）、又は多極の何れでもよい。

【００２４】次に、本発明の露光装置は、上記の本発明
の位置決め装置を備え、この位置決め装置で位置決めさ
れる基板（Ｗ）上にマスクパターンを転写するものであ
る。露光装置としては、光学式の投影露光装置の他に電
子線転写装置等も使用できる。次に本発明による駆動ユ
ニットは、発磁体と磁気部材とから形成される磁気回路
内に配置され、ローレンツ力を発生する駆動ユニット
（７０Ｘ；７４Ｘ）であって、その磁気回路内で第１方
向に磁束を通過させると共に、その磁気部材と磁気的に
連結されるコア部材（７１；７５）と、そのコア部材に
その第１方向に直交する第２方向に巻回されたコイル
（７３；７３ｄ，７３ｅ）と、を備え、そのコイルはそ
の発磁体側に面積が大きく、その発磁体と反対側に面積
が狭くなるように巻回されているものである。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の第１の実施の形態
につき図面を参照して説明する。本例は投影露光装置に
おける半導体ウエハの位置決め部に本発明を適用したも
のである。図１は、本例の投影露光装置を示す概略構成
図であり、この図１において、照明光学系１からの露光
光（水銀ランプのｉ線等の輝線、又はエキシマレーザ光
等）ＩＬにより、レチクルＲの下面に形成されたパター
ンが均一な照度分布で照明され、露光光ＩＬのもとでレ
チクルＲのパターンが投影光学系３を介して所定の投影
倍率β（βは例えば１／４，１／５等）で、半導体ウエ
ハ（以下、単に「ウエハ」という）Ｗ上の所定のショッ
ト領域に投影される。ウエハＷの表面にはフォトレジス
トが塗布され、その表面は投影光学系３の像面にほぼ合
致している。以下、投影光学系３の光軸ＡＸに平行にＺ
軸を取り、光軸ＡＸに垂直な平面内で図１の紙面に平行
にＸ軸を、図１の紙面に垂直にＹ軸を取って説明する。

【００２６】レチクルＲは、Ｘ方向、Ｙ方向、及び回転
方向に微動可能なレチクルステージ２上に保持され、レ
チクルステージ２の位置は不図示のレーザ干渉計の計測
値に基づいて制御されている。一方、本例の薄い円板状
のウエハＷは、薄い円板状のウエハホルダ４（図２参
照）上に例えば静電吸着で保持され、ウエハホルダ４は
全体として矩形の平板状のウエハテーブル５上に固定さ
れている。本例のウエハテーブル５は、ウエハホルダ４
側から順に、非磁性体としてのセラミックス製のプレー
ト６、及びＺ方向に向かう一様な磁束を発生している１
枚の磁石板８を貼り合わせたものであり、磁石板８は、
例えば底面側がＮ極で上面側がＳ極（逆でも可）の１枚
の永久磁石である。

【００２７】また、ウエハテーブル５の底面側にはウエ
ハテーブル５の移動範囲の全面を覆うように強磁性体よ
りなる平板状の底部ヨーク１０が配置され、底部ヨーク
１０は、不図示の床上に直接、又は防振ゴム等の防振機
構を介して設置されている。底部ヨーク１０の上面に多
数の駆動ユニット１１が取り付けられ、各駆動ユニット
１１の駆動回路がウエハテーブル駆動系２３内に組み込
まれている。駆動ユニット１１は、それぞれ磁石板８
（ひいてはウエハテーブル５）にＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方
向への可変の推力を付与する（詳細後述）。これらの駆
動ユニット１１は、非磁性体の薄板よりなり狭い中空部
が設けられたカバー部材２１に覆われている。カバー部
材２１は、駆動ユニット１１用の冷却装置としても機能
しており、カバー部材２１の中空部には、供給口２１ａ
を介して不図示の冷媒供給装置から温度の低い液体より
なる冷媒が供給され、カバー部材２１内を流れて多数の
駆動ユニット１１から発生する熱を吸収した冷媒は、排
出口２１ｂからその冷媒供給装置に戻されている。本例
の各駆動ユニット１１で発生する熱量は少ないが、僅か
に発生する熱量もカバー部材２１内の冷媒によって外部
に運ばれるため、ウエハテーブル５の温度上昇が少な
く、高精度に位置決めが行われる。

【００２８】また、ウエハテーブル５の上面側には、強
磁性体からなる平板状のトップヨーク１６が配置され、
トップヨーク１６の中央部の開口１６ａに投影光学系３
の先端部が差し込まれている。投影光学系３の鏡筒は強
磁性体より形成され、投影光学系３の先端部もトップヨ
ーク１６の一部となっている。そして、底部ヨーク１０
とトップヨーク１６とは４隅で強磁性体よりなる支柱１
５Ａ〜１５Ｄ（図１では１５Ａ，１５Ｂのみが現れてい
る）によって連結され、底部ヨーク１０、磁石板８、ト
ップヨーク１６、及び支柱１５Ａ，１５Ｂ等が第１の閉
じた磁気回路を形成している。更に、磁石板８のＮ極か
ら空間中にリークした磁束がトップヨーク１６を経て磁
石板８のＳ極に戻るという第２の磁気回路も形成され、
本例では主に第２の磁気回路によってウエハテーブル５
には定常的な浮上力が与えられている。実際には駆動ユ
ニット１１によって磁石板８を底部ヨーク１０側に吸引
する推力を発生することによって、磁石板８（ウエハテ
ーブル５）はＺ方向の所望の位置で浮上した状態で安定
に支持される。

【００２９】本来、磁石の吸引力は非線形で負の剛性を
持つため、ウエハテーブル５のＺ方向の位置の制御は困
難であるように思われるが、本例のその第２の磁気回路
を磁場解析した所、その定常的浮上力は負の剛性を持つ
ものの非線形性の程度は非常に小さいことが判明した。
従って、Ｚ方向の位置は容易に所定の目標値に安定化す
ることができ、且つ応答性にも優れている。

【００３０】また、ウエハテーブル５の上面のウエハホ
ルダ４の周囲の３箇所に、合成ゴム等からなる円柱状の
柔らかいタッチダウン部材７Ａ〜７Ｃ（図２参照）が固
定され、ウエハテーブル５がトップヨーク１６側に吸引
されても、タッチダウン部材７Ａ〜７Ｃによって衝撃力
が緩和されるようになっている。そして、ウエハテーブ
ル５のプレート６の上面の−Ｘ方向の端部にＸ軸の移動
鏡１７Ｘが固定され、＋Ｙ方向の端部にＹ軸の移動鏡１
７Ｙが固定され、移動鏡１７Ｘにレーザ干渉計１８Ｘか
らのレーザビームがＸ軸に平行に照射され、移動鏡１７
Ｙに２個の並列に配置されたレーザ干渉計１８Ｙ１，１
８Ｙ２（図２参照）からのレーザビームがＹ軸に平行に
照射されている。レーザ干渉計１８Ｘ，１８Ｙ１，１８
Ｙ２はそれぞれ対応する移動鏡１８Ｘ，１８Ｙの変位を
例えば０．００１μｍ〜０．０１μｍ程度の分解能で計
測し、計測結果を図１の装置全体の動作を統轄制御する
主制御系２２に出力する。この場合、例えばレーザ干渉
計１８Ｘの計測値、及びレーザ干渉計１８Ｙ１，１８Ｙ
２の計測値の平均値よりそれぞれウエハテーブル５（ウ
エハＷ）のＸ座標、及びＹ座標が求められ、Ｙ軸の２つ
のレーザ干渉計１８Ｙ１，１８Ｙ２の計測値の差分より
ウエハテーブル５の回転角が求められる。主制御系２２
は、その計測値に基づいてウエハテーブル駆動系２３を
介して、ウエハテーブル５の底面側に配置された多数の
駆動ユニット１１による推力を制御することによって、
ウエハテーブル５（ウエハＷ）の位置決めを行う。

【００３１】また、不図示であるが、投影光学系３の側
面（トップヨーク１６の一部）にはウエハＷの表面にス
リット像等を投影して、そのウエハＷからの反射光によ
って再結像されるスリット像の横ずれ量からウエハＷの
デフォーカス量を検出する斜入射方式の焦点位置検出系
も配置され、この焦点位置検出系の出力等に基づいて主
制御系２２は、オートフォーカス方式でウエハＷのＺ方
向の位置及び傾斜角の制御を行ってウエハＷの表面を投
影光学系３の像面に合わせ込む。そして、露光時には、
ウエハＷ上の或るショット領域への露光が終了すると、
複数の駆動ユニット１１を介してウエハＷを非接触で高
速にステッピングして次のショット領域を投影光学系３
の露光フィールドに移動して、レチクルＲのパターン像
をそのショット領域へ投影露光するという動作がステッ
プ・アンド・リピート方式で繰り返されて、ウエハＷの
各ショット領域への露光が行われる。

【００３２】さて、上述のように本例のウエハテーブル
５の磁石板８には、その底面に配置された多数の駆動ユ
ニット１１によってＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向への推力が
付与されている。以下では、駆動ユニット１１の構成、
及び動作につき詳細に説明する。図２は、図１のトップ
ヨーク１６、及びカバー部材２１の一部を切り欠いた斜
視図であり、この図２に示すように、底部ヨーク１０内
でウエハテーブル５（ウエハＷ）が移動する全部の領域
を覆うように、Ｘ方向及びＹ方向に所定ピッチで多数の
（本例では７行×７列で）同一構成の駆動ユニット１１
が組み込まれている。この場合、ウエハテーブル５の底
面には駆動ユニット１１が、常時合わせて３行×３列程
度以上配置されるように駆動ユニット１１の配列ピッチ
が設定されている。各駆動ユニット１１は、それぞれコ
ア２０と、磁石板８（ウエハテーブル５）に対してＸ方
向への推力を付与するためのコイルであるＸコイル１２
Ａ，１２Ｂと、磁石板８（ウエハテーブル５）に対して
Ｙ方向への推力を付与するためのコイルであるＹコイル
１３Ａ，１３Ｂと、Ｚ方向へ磁束を発生するためのコイ
ルであるＺコイル１４とから構成されている。

【００３３】この場合、複数の駆動ユニット１１は互い
に磁気的に直接連結されていないため、各コイルのイン
ダクタンスが低減され、駆動電流を切り換える際の応答
性も良好である。図３（ａ）は、駆動ユニット１１用の
強磁性体よりなるコア２０を示す平面図、図３（ｂ）は
その側面図であり、図３（ａ），（ｂ）に示すように、
コア２０は、断面が正方形の角柱２０ａの上部側面に４
枚の矩形のボビンを兼用するフランジ部２０ｂ〜２０ｅ
を取り付けた形状である。この結果、フランジ部２０ｂ
〜２０ｅを通過する磁束ＢＡは、それぞれ折れ曲がって
角柱２０ａの内部を通過するため、フランジ部２０ｂ〜
２０ｅの底面には殆ど磁束が存在しなくなる。

【００３４】図４は、駆動ユニット１１を示す分解斜視
図であり、底部ヨーク１０上に設置された状態ではこの
図４に示すように、フランジ部２０ｂ及び２０ｃがそれ
ぞれ−Ｘ方向及び＋Ｘ方向を向くようにコア２０は位置
決めされる。そして、コア２０のＸ方向のフランジ部２
０ｂ及び２０ｃの周りに、即ちＸ軸に平行な軸の周りに
それぞれＸコイル１２Ａ及び１２Ｂを巻回し、コア２０
のＹ方向のフランジ部２０ｄ及び２０ｅの周りに、即ち
Ｙ軸に平行な軸の周りにそれぞれＹコイル１３Ａ及び１
３Ｂを巻回し、コア２０の底部の角柱２０ａの周りに、
即ちＺ軸に平行な軸の周りにＺコイル１４を巻回するこ
とによって、１つの駆動ユニット１１が構成される。他
の駆動ユニット１１も同じように構成されている。

【００３５】この場合、Ｘコイル１２Ａには例えば上部
で＋Ｙ方向（又は−Ｙ方向）に流れ底部で−Ｙ方向（又
は＋Ｙ方向）に流れる電流ＩＸが供給されるが、Ｘコイ
ル１２Ａの上部を通過する磁束ＢＡはコア２０の作用に
よって底部は通過しないため、Ｘコイル１２Ａには全体
としてＸ方向へのローレンツ力ＦＸＡが作用する。他方
のＸコイル１２Ｂにも同様にＸ方向へのローレンツ力が
作用する。一方、Ｙコイル１３Ｂには例えば上部で−Ｘ
方向（又は＋Ｘ方向）に流れ底部で＋Ｘ方向（又は−Ｘ
方向）に流れる電流ＩＹが供給されるが、Ｙコイル１３
Ｂの上部を通過する磁束ＢＡは底部を通過しないため、
Ｙコイル１３Ｂには全体としてＹ方向へのローレンツ力
ＦＹＢが作用し、他方のＹコイル１２Ａにも同様にＹ方
向へのローレンツ力が作用する。

【００３６】また、Ｚコイル１４に通電することによっ
て、コア２０の上部の磁石板８に対して可変の反発力、
又は吸引力が発生する。この際に、Ｚコイル１４はＸコ
イル１２Ａ，１２Ｂ、及びＹコイル１３Ａ，１３Ｂの下
側で、コア２０と底部ヨーク１０との連結部分近くに配
置されている。Ｚコイル１４はその連結部全体を取り囲
んでいるため、コア２０の全体に起磁力を与えることが
できる。そのため、ウエハテーブル５に対して比較的線
形なＺ方向の推力を与えることができるの。仮に、Ｚコ
イル１４がコア２０に部分的に起磁力を与えるような構
成にすると、コア２０において局所的な磁気回路が形成
され、Ｚコイル１４が発生する力は非常に非線形になっ
てしまい、例えばウエハテーブル５を浮上させようとし
ても吸引力が働いてしまうこともある。

【００３７】次に、駆動ユニット１１の駆動回路の構
成、及び駆動ユニット１１の動作につき図５を参照して
説明する。図５は図２の一部の拡大図であり、この図２
において、ウエハテーブル５の底面に位置している一つ
の駆動ユニット１１に着目する。この場合、ウエハテー
ブル５内の磁石板８と、図２の底部ヨーク１０及びトッ
プヨーク１６等とによって、磁石板８から駆動ユニット
１１に対して例えば−Ｚ方向に向かう磁束ＢＡが発生し
ている。

【００３８】また、その駆動ユニット１１に対して駆動
回路３１が接続され、駆動回路３１内の制御部３５が、
主制御系２２からの指令のもとで各回路の動作を統轄制
御する。そして、駆動回路３１内には、Ｘ軸駆動回路３
２、Ｙ軸駆動回路３３、及びＺ軸駆動回路３４が設けら
れ、Ｘ軸駆動回路３２は、対応する駆動ユニット１１の
Ｘコイル１２Ａ，１２Ｂに上部側でＹ方向に流れる電流
ＩＸを供給し、Ｙ軸駆動回路３３は、Ｙコイル１３Ａ，
１３Ｂに上部側でＸ方向に流れる電流ＩＹを供給し、Ｚ
駆動回路３４は、Ｚコイル１４に対して電流ＩＺを供給
している。この結果、図４を参照して説明したように、
Ｘコイル１２Ａ，１２Ｂに流れる電流ＩＸとＺ方向の磁
束ＢＡとによって、Ｘコイル１２Ａ，１２ＢにはＸ方向
にローレンツ力が発生し、磁石板８（ウエハテーブル
５）にはそのローレンツ力の反力としてのＸ方向への推
力ＦＸが発生する。

【００３９】同様に、Ｙコイル１３Ａ，１３Ｂに流れる
電流ＩＹとＺ方向の磁束ＢＡとによって、Ｙコイル１３
Ａ，１３ＢにはＹ方向にローレンツ力が発生し、磁石板
８（ウエハテーブル５）にはそのローレンツ力の反力と
してのＹ方向への推力ＦＹが発生する。推力ＦＸ，ＦＹ
はそれぞれ電流ＩＸ，ＩＹに比例するため、Ｘ軸駆動回
路３２及びＹ軸駆動回路３３ではそれぞれ制御部３５か
ら指示される推力に応じて電流ＩＸ及びＩＹを制御す
る。それらの推力ＦＸ，ＦＹの方向（±Ｘ方向、±Ｙ方
向）は、それぞれ対応する電流ＩＸ，ＩＹの方向（符
号）によって何れにも任意に設定できる。

【００４０】また、Ｚ軸駆動回路３４からＺコイル１４
に供給する電流ＩＺの値を制御することによって、上述
のようにＺコイル１４を貫通する新たな可変の磁束が発
生し、この可変の磁束によって磁石板８には、リラクタ
ンス力よりなるＺ方向への推力ＦＺが作用する。この推
力ＦＺも、Ｚコイルに供給する電流の方向（符号）によ
って＋Ｚ方向（反発力）、又は−Ｚ方向（吸引力）の何
れにも設定できる。Ｚ軸駆動回路３４では、制御部３５
から指示される推力ＦＺに応じて、Ｚコイル１４に供給
する電流ＩＺを制御する。

【００４１】図５の駆動回路３１と同一の駆動回路は、
それぞれ図２の各駆動ユニット１１に接続されており、
このような多数の駆動回路３１より図１のウエハテーブ
ル駆動系２３が構成されている。この際のウエハテーブ
ル５（ウエハＷ）のＸ方向、Ｙ方向の座標、及び回転角
はレーザ干渉計１８Ｘ，１８Ｙ１，１８Ｙ２の計測値よ
り求められ、この結果に基づいて主制御系２２は各駆動
ユニット１１の駆動回路３１内の制御部３５に対して、
各部分でどの程度ウエハテーブル５を変位させるかの指
令を与え、この指令に応じて制御部３５は対応するコイ
ルによって所定の推力を発生させる。本例のウエハテー
ブル５の底面には常時３行×３列程度以上の駆動ユニッ
ト１１が配置されているため、それらの駆動ユニット１
１から磁石板８（ウエハテーブル５）に対して発生する
Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向への推力ＦＸ，ＦＹ，ＦＺを組
み合わせることによって、ウエハテーブル５が６自由度
（Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向への変位、及びＸ軸、Ｙ軸、
Ｚ軸の周りの回転）で位置決めできる。

【００４２】更に、本例のウエハテーブル５のプレート
６の上面の４隅に歪ゲージ９Ａ〜９Ｄが貼着され、歪ゲ
ージ９Ａ〜９Ｄが不図示の可撓性の有るリード線を介し
て不図示の検出回路に接続され、この検出回路で検出さ
れるプレート６の歪量が主制御系２２に供給されてい
る。主制御系２２は、磁石板８ひいてはプレート６の歪
が検出されたときには、ウエハテーブル５の底面側の複
数の駆動ユニット１１によるＺ方向の推力を制御してそ
の歪を補正する。

【００４３】なお、このように能動的に歪を補正するの
ではなく、磁石板８の上面、又は底面に磁場によって変
形する磁歪材料よりなる補正板を貼着して、自立的にそ
の磁石板８の歪を補正しても良い。その磁歪材料として
は、例えばフェライトガーネット系（ＣｏＦｅ₂Ｏ
₄等）、又は希土類合金系（７０ｗｔ％Ｔｂ−３０ｗｔ
％Ｆｅ，ＳｍＦｅ₂，ＴｂＦｅ₂，Ｔｂ（ＣｏＦｅ）₂
等）等が使用できる。このように磁歪材料を使用すると
き、一例として磁石板８が磁場によって凸に歪み易い位
置には、磁場によって収縮する磁歪材料を被着すればよ
く、その発磁体が磁場によって凹に歪み易い位置には、
磁場によって膨張する磁歪材料を被着すればよい。

【００４４】次に、ウエハテーブル５を２次元的に変位
させる場合の動作の一例につき図６を参照して説明す
る。先ず、ウエハテーブル５（ウエハＷ）をＹ方向へ変
位させる場合には、図６（ａ）に示すように、主制御系
２２はウエハテーブル５の底部の複数の駆動ユニット１
１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃの制御部に対して、Ｙ方向への推
力ＦＹ１を発生させるように指令を発する。これに応じ
て駆動ユニット１１Ａ〜１１Ｃからウエハテーブル５に
対してそれぞれＹ方向への推力ＦＹ１が作用して、ウエ
ハテーブル５がＹ方向に変位する。同様に、ウエハテー
ブル５をＸ方向へ変位させる場合には、ウエハテーブル
５の底部の複数の駆動ユニット１１Ｄ，１１Ｂ，１１Ｅ
からウエハテーブル５に対してそれぞれＸ方向への推力
ＦＸ１を作用させればよい。

【００４５】また、図６（ｂ）に示すように、ウエハテ
ーブル５（ウエハＷ）に回転誤差θが発生している場合
には、ウエハテーブル５の底部のＸ方向に離れた１対の
駆動ユニット１１Ａ，１１Ｃからそれぞれ−Ｙ方向への
推力ＦＹ２及び＋Ｙ方向への推力−ＦＹ２を発生させ、
Ｙ方向に離れた１対の駆動ユニット１１Ｄ，１１Ｅから
それぞれ−Ｘ方向への推力ＦＸ２及び＋Ｘ方向への推力
−ＦＸ２を発生させて、ウエハテーブル５を回転誤差θ
を相殺するように回転すればよい。この際に、ウエハテ
ーブル５の回転角は図２のレーザ干渉計１８Ｙ１，１８
Ｙ２の計測値よりモニタされているため、これに基づい
て閉ループでウエハテーブル５の回転角が正確に補正さ
れる。

【００４６】このように本例では、ウエハＷが載置され
るウエハテーブル５が非接触で駆動されるため、ウエハ
Ｗを高速に位置決めすることができる。従って、露光工
程のスループット（生産性）が高まる。また、駆動ユニ
ット１１はウエハテーブル５の移動範囲のほぼ全面に配
置すればよいだけであるため、位置決め装置が大型化す
ることがない。なお、例えば図１において、ウエハＷの
交換は、トップヨーク１６の端部に設けた切り欠き部
（不図示）を通して行うことができる。

【００４７】また、本例において、駆動ユニット１１
は、ウエハテーブル５の上面側に配置してもよく、更に
ウエハテーブル５の上面側、及び底面側の両方に駆動ユ
ニット１１を配置してもよい。このように両側に駆動ユ
ニット１１を配置することによってより大きな推力が得
られる。更に、上記実施の形態では、ウエハＷの表面の
Ｚ方向の位置を計測するための斜入射方式の焦点位置検
出系（不図示）を設けているが、その他に底部ヨーク１
０側にウエハテーブル５との間隔を計測するための複数
のギャップセンサを設けてもよい。また、上述の実施の
形態は、本発明を一括露光型の投影露光装置に適用した
ものであるが、本発明はレチクル及びウエハを投影光学
系に対して同期して走査して転写を行うステップ・アン
ド・スキャン方式のような走査露光型の投影露光装置に
適用してもよい。

【００４８】次に、本発明の第２の実施の形態につき図
７〜図９を参照して説明する。本例は第１の実施の形態
とは異なる駆動ユニットを使用するものであり、図７〜
図９において図１及び図２に対応する部分には同一符号
を付してその詳細説明を省略する。図７は、本例の投影
露光装置のウエハステージ側の要部を示す断面図であ
り、この図７において、底部ヨーク１０上に支柱１５
Ｃ，１５Ｄ等を介してトップヨーク１６が固定され、底
部ヨーク１０上にウエハテーブル５の移動面の全面を覆
うようにＸ方向、及びＹ方向に所定ピッチで多数の駆動
ユニット６０が配置され、多数の駆動ユニット６０上に
ウエハテーブル５（底部が磁石板８となっている）が配
置されている。

【００４９】本例においても、底部ヨーク１０、ウエハ
テーブル５内の磁石板８、トップヨーク１６、及び支柱
１５Ｃ，１５Ｄ等からなる第１の磁気回路、及び磁石板
８の底面から空間中にリークする磁束がトップヨーク１
６を経て磁石板８に戻る第２の磁気回路が形成され、主
に第２の磁気回路によってウエハテーブル５にはトップ
ヨーク１６側への浮上力が作用している。また、ウエハ
テーブル５の底面には常時３行×３列程度の駆動ユニッ
ト６０が配置されている。そして、駆動ユニット６０
も、それぞれ磁石板８に対してＸ方向への推力を与える
Ｘコイル２７Ａ，２７Ｂ、Ｙ方向への推力を与えるＹコ
イル２８Ａ，２８Ｂ、及びＺ方向への推力を与えるＺコ
イル２９を備えている。

【００５０】図８は、図７中の１つの駆動ユニット６０
を分解した状態を示し、この図８において、底部ヨーク
１０上に、Ｘ方向に平行な逆Ｕ字型のコア２５Ａ及び２
５Ｂが斜めに設置され、これらのコアに交差するように
Ｙ方向に平行な逆Ｕ字型のコア２６Ａ及び２６Ｂが設置
されている。そして、２点鎖線で示すように、コア２５
Ａ，２５Ｂの上部でＸ軸に平行な軸の周りにＸコイル２
７Ａ，２７Ｂを巻回し、コア２６Ａ，２６Ｂの上部でＹ
軸に平行な軸の周りにＹコイル２８Ａ，２８Ｂを巻回
し、実線で示すようにこれらを囲むようにＺ軸に平行な
軸の周りにＺコイル２９を巻回することで駆動ユニット
６０が構成されている。

【００５１】本例において、例えばコア２５Ａの上部か
ら入り込む磁束ＢＡは、逆Ｕ字型の経路で底部ヨーク１
０に向かうため、Ｘコイル２７Ａの底部には磁束が殆ど
存在しない。従って、Ｘコイル２７Ａに上部でＹ方向に
向かう電流ＩＸを供給すると、電流ＩＸ及び磁束ＢＡに
よってＸコイル２７ＡにはＸ方向に向かうローレンツ力
ＦＸＡが作用する。他方のＸコイル２７Ｂも同様であ
る。一方、Ｙコイル２８Ａ，２８Ｂ側ではＸ方向に向か
う電流を供給することによってＹ方向に向かうローレン
ツ力が作用する。更に、本例では例えばコア２５Ａで
は、Ｘコイル２７Ａによって生じる磁束は経路３０で示
すように、コア２５Ａ及び底部ヨーク１０よりなる閉じ
た磁気回路を形成し、他のコア２５Ｂ，２６Ａ，２６Ｂ
には影響を与えないため、Ｘ方向、及びＹ方向への推力
の制御精度が向上している。

【００５２】次に、図９を参照して本例の駆動ユニット
６０の動作を説明すると、この図９において、駆動ユニ
ット６０の駆動回路としては、第１の実施の形態の図５
の駆動回路３１が使用できる。そして、Ｘコイル２７
Ａ，２７Ｂに流れる電流ＩＸとＺ方向の磁束ＢＡとによ
って、Ｘ方向にローレンツ力が発生し、磁石板８（ウエ
ハテーブル５）にはその反力としてのＸ方向への推力Ｆ
Ｘが発生する。同様に、Ｙコイル２８Ａ，２８Ｂに流れ
る電流ＩＹとＺ方向の磁束ＢＡとによって、Ｙ方向にロ
ーレンツ力が発生し、磁石板８にはその反力としてのＹ
方向への推力ＦＹが発生する。また、Ｚコイル２９に供
給する電流ＩＺの値を制御することによって、Ｚコイル
２９を貫通する新たな可変の磁束が発生し、この可変の
磁束によって磁石板８には、リラクタンス力よりなるＺ
方向への推力ＦＺ（反発力、又は吸引力）が作用する。
従って、複数の駆動ユニット６０を組み合わせて使用す
ることで、第１の実施の形態と同様にウエハテーブル５
を６自由度で駆動できる。

【００５３】次に、本発明の第３の実施の形態、及びこ
の変形例につき図１４〜図１７を参照して説明する。本
例も上記の実施の形態とは異なる駆動ユニットを使用す
るものであり、図１４〜図１７において図７〜図９に対
応する部分には同一符号を付してその詳細説明を省略す
る。図１４は、本例の投影露光装置のウエハステージ側
の要部を示す断面図であり、この図１４において、底部
ヨーク１０と不図示のトップヨーク１６（図７参照）と
の間の磁気回路中にウエハテーブル５がほぼ浮上するよ
うに配置され、底部ヨーク１０の上面にウエハテーブル
５の移動面の全面を覆うようにＸ方向、及びＹ方向に所
定ピッチで交互に２種類の駆動ユニット７０Ｘ，７０Ｙ
が配置されている。Ｘ軸の駆動ユニット７０Ｘは、ウエ
ハテーブル５内の磁石板８にＺ方向及びＸ方向への可変
の推力を与え、Ｙ軸の駆動ユニット７０Ｙはその駆動ユ
ニット７０Ｘを９０°回転して配置されており、磁石板
８（ひいてはウエハテーブル５）にＺ方向及びＹ方向へ
の可変の推力を与える。ウエハテーブル５の底面には常
時３行×３列程度の駆動ユニット７０Ｘ，７０Ｙが配置
され、これらによってウエハテーブル５（磁石板８）に
は全体として６自由度の可変の推力が作用する。

【００５４】そして、一方の駆動ユニット７０Ｘは、底
部ヨーク１０上に２つの脚部が固定されると共に磁石板
８に対して凸の円弧状の、即ち逆Ｕ字型の強磁性体より
なるコア７１と、このボビンとしてのコア７１の上部の
ほぼＸ軸に平行な軸の周りに巻回された水平コイル７３
と、コア７１の２つの脚部よりなるＺ軸に平行な軸の周
りに巻回された２つのＺコイル７２Ａ，７２Ｂとから構
成されている。駆動ユニット７０Ｘの水平コイル７３は
Ｘコイルに、駆動ユニット７０Ｙの水平コイル７３はＹ
コイルに相当している。

【００５５】図１５は、駆動ユニット７０Ｘ，７０Ｙか
らそれぞれ水平コイル７３を分離した状態を示し、この
図１５において、駆動ユニット７０Ｘの水平コイル７３
は、コア７１の点線より上の上部７１ａが挿通される開
口部７３ｃの周りにコイルを巻回したものである。そし
て、水平コイル７３の上部７３ａはほぼ平坦で、コア７
１の上部７１ａよりも広い面積を持ち、その下部７３ｂ
ではコイルが絞り込まれており、下部７３ｂがコア７１
の脚部７１ｂ，７１ｃの間を通過できるように構成され
ている。

【００５６】この場合、一例として、コア７１を構成す
る脚部７１ｂ，７１ｃ及び上部７１ａを３個の別体の板
状部材より形成し、水平コイル７３は上部７１ａと同じ
断面積の板状部材を用いて巻回しておき、水平コイル７
３の開口部７３ｃに上部７１ａを挿通させた後に、上部
７１ａの両端部にそれぞれＺコイル７２Ａ，７２Ｂが巻
回された脚部７１ｃ，７１ｂを底面側からねじ止めする
ことによって、駆動ユニット７０Ｘを組み立てることが
できる。又は、Ｌ字型の強磁性体の薄板を水平コイル７
３の開口部７３ｃに左右から交互に差し込んだ後、左右
の隙間部にＩ字型の強磁性体の薄板を装着するようにし
ても、駆動ユニット７０Ｘを組み立てることができる。
他方の駆動ユニット７０Ｙも同様である。

【００５７】図１５において、コア７１の脚部７１ｂ，
７１ｃはそれぞれ底部ヨーク１０に直接磁気的に連結し
ているが、脚部７１ｂ，７１ｃ同士は直接的には磁気的
に連結されていない。これは各コイル７２Ａ，７２Ｂ，
７３のインダクタンスを低減させて、推力の応答性を向
上させるためである。また、図１４において、駆動ユニ
ット７０Ｘの水平コイル７３（Ｘコイル）の上面部で
は、磁石板８、コア７１、及び底部ヨーク１０を含む磁
気回路中の磁束ＢＡは、Ｚ方向（図１４では−Ｚ方向）
を向いており、水平コイル７３に＋Ｙ方向の電流ＩＸを
流すと、水平コイル７３には−Ｘ方向へのローレンツ力
が発生し、ウエハテーブル５（磁石板８）にはその反作
用としての＋Ｘ方向の推力ＦＸが発生する。その電流Ｉ
Ｘの方向及び大きさを制御することで、ウエハテーブル
５に対する推力ＦＸの方向及び大きさが制御できる。同
様に、駆動ユニット７０Ｙの水平コイル７３（Ｙコイ
ル）に供給するＸ方向への電流ＩＹを制御することで、
ウエハテーブル５に対してＹ方向に可変の推力ＦＹを発
生できる。水平コイル７３の上部７３ａ以外では磁束密
度は小さいため、例えば水平コイル７３の下部７３ｂ
（図１５参照）で逆方向へのローレンツ力は殆ど発生し
ない。なぜなら、磁石板８から出た磁束は強磁性体であ
るコア７１を経て、底部ヨーク１０に流れていくからで
ある。

【００５８】また、Ｚコイル７２Ａ，７２Ｂは水平コイ
ル７３の下側で、コア７１と底部ヨーク１０との連結部
近くに配置されている。Ｚコイル７２Ａ，７２Ｂは実質
的にその連結部全体を取り囲んでいるため、駆動ユニッ
ト７０ＸのＺコイル７２Ａ，７２ＢにＺ軸の周りの電流
ＩＺ１を流すことによって、コア７３の全体に起磁力を
与えることができる。そのため、ウエハテーブル５（磁
石板８）に対して比較的線形なＺ方向の推力ＦＺ１を与
えることができる。更に、他方の駆動ユニット７０Ｙの
Ｚコイル７２Ａ，７２Ｂに流す電流ＩＺ２を制御してウ
エハテーブル５に対するＺ方向への推力ＦＺ２を制御す
ることで、ウエハテーブル５のレベリングを行うことが
できる。

【００５９】なお、本例では例えば駆動ユニット７０Ｘ
の水平コイル７３に電流ＩＸを流そうとすると、逆方向
に電流を流そうとする起電力、即ちコア７１及び底部ヨ
ーク１０よりなる閉じた磁気回路内を貫通する磁束が発
生して、ウエハテーブル５に対する推力ＦＸが小さくな
る恐れがある。このような推力ＦＸの低下を防止するた
めには、Ｚコイル７２Ａ，７２Ｂに対して電流ＩＺ１に
重畳するように、かつその磁束を相殺するための磁束を
発生するように互いに逆方向に電流を流すようにすれば
よい。これによって、ウエハテーブル５に対するＸ方向
への推力ＦＸ（ＦＹについても同様）を所望の値に制御
することができる。

【００６０】ここで、水平コイル７３に対して逆方向に
電流を流そうとする起電力を少なくするための上記の第
３の実施の形態の駆動ユニットの変形例につき、図１
６、図１７を参照して説明する。図１６は、この変形例
の１つのＸ軸の駆動ユニット７４Ｘを分解した状態を示
し、この図１６において、底部ヨーク１０上に矩形の厚
い平板状の強磁性体よりなるコア７５が固定され、コア
７５の上部をＸ方向に挟むようにそれぞれＸ軸に平行な
軸（開口７３ｃ）の周りに巻回された１対の水平コイル
７３ｄ，７３ｅが装着されている。水平コイル７３ｄ及
び７３ｅはそれぞれ、図１４の水平コイル７３をＺＹ平
面に平行な面で対称に２等分した場合の−Ｘ方向、及び
＋Ｘ方向の半分のコイルと等価なものである。そして、
コア７５及び水平コイル７３ｄ，７３ｅを囲むように、
Ｚ軸の周りに矩形の枠状に巻回されたＺコイル７６を装
着することで、駆動ユニット７４Ｘが構成されている。

【００６１】図１７は、図１６の駆動ユニット７４Ｘの
上にウエハテーブル５が位置する状態を示すＡＡ線に沿
う断面図であり、この図１７において、ウエハテーブル
５の磁石板８、コア７５、及び底部ヨーク１０を含む磁
気回路によって、コア７５の上面の水平コイル７３ｄ，
７３ｅをＺ方向に磁束ＢＡが通過している。従って、水
平コイル７３ｄ，７３ｅにＹ方向に電流ＩＸ１を流すこ
とによって（図１６参照）、磁石板８（ウエハテーブル
５）には水平コイル７３ｄ，７３ｅに発生するローレン
ツ力の反作用としてのＸ方向への可変の推力ＦＸが発生
する。また、Ｚコイル７６にＺ軸に平行な軸の周りの電
流ＩＺを流すことによって、コア７５の全体を貫通する
磁束が変化して、磁石板８（ウエハテーブル５）に対し
てほぼ線形に変化する可変のＺ方向への推力ＦＺが発生
する。

【００６２】この変形例では、水平コイル７３ｄ，７３
ｅに電流ＩＸ１を供給する際に、コア７５にその電流Ｉ
Ｘ１を打ち消す方向の起電力（磁束）が発生しないた
め、Ｚコイル７６にはＺ方向への推力ＦＺに対応する電
流のみを供給すればよい。また、コア７６が飽和するこ
とがなくなる。次に、本発明の第４の実施の形態につき
図１０及び図１１を参照して説明する。例えば図１及び
図２に示す実施の形態では、ウエハＷは磁束の中を移動
するために、その位置決め装置は荷電粒子線を用いてマ
スクパターンを転写する露光装置、例えば電子線転写装
置には適用しにくい傾向がある。そこで、本例ではウエ
ハが磁束の中を通過しなくとも済むようにして、電子線
転写装置等にも使用できる位置決め装置の例を示す。

【００６３】図１０は、本例の投影露光装置の要部を示
し、この図１０において、不図示のマスクパターンが投
影光学系４１を介してウエハＷ上に転写される。投影光
学系４１としては、エキシマレーザ光のような紫外光の
もとでパターン像を投影する光学式の投影光学系の他
に、電子線のもとでマスクパターンの縮小像等を転写す
る電子光学系等も使用できる。以下、投影光学系４１の
光軸方向にＺ軸を取り、Ｚ軸に垂直な面内の直交座標系
をＸ軸、及びＹ軸として説明する。

【００６４】このとき、ウエハＷは、ウエハホルダ４２
上に吸着保持され、ウエハホルダ４２は試料台４３上に
固定され、試料台４３は、ほぼＸ軸に沿って細長い非磁
性体の可動プレート４４の中央部に固定されている。そ
して、可動プレート４４の＋Ｘ方向の端部４４ａ、及び
−Ｘ方向の端部４４ｂの底面に、それぞれＺ方向に向か
う一様な磁束を発生する矩形の板状の磁石板４５Ａ、及
び４５Ｂが固定されている。磁石板４５Ａ，４５Ｂはそ
れぞれ例えば底面がＮ極で上面がＳ極の１枚の永久磁石
である。また、可動プレート４４の底面側に強磁性体よ
りなるヨーク板４６が配置され、このヨーク板４６の両
端部４６ａ及び４６ｂは、それぞれ可動プレート４４の
両端部の磁石板４５Ａ及び４５Ｂを上下に挟むようにコ
の字型に形成されている。

【００６５】そして、＋Ｘ方向側の磁石板４５Ａとヨー
ク板４６との間に、磁石板４５Ａの移動範囲を覆うよう
にＸ方向、Ｙ方向に所定ピッチで多数の駆動ユニット１
１が配置され、−Ｘ方向側の磁石板４５Ｂとヨーク板４
６との間に、磁石板４５Ｂの移動範囲を覆うようにＸ方
向、Ｙ方向に所定ピッチで多数の駆動ユニット１１Ｙが
配置されている。＋Ｘ方向側の駆動ユニット１１は、図
５に示す第１の実施の形態の駆動ユニット１１と同一構
成であり、図１０において、＋Ｘ方向側の磁石板４５Ａ
には、ヨーク板４６の中で浮上力が付与されていると共
に、磁石板４５Ａには複数の駆動ユニット１１からＸ方
向への推力ｆＸ１、Ｙ方向への推力ｆＹ１、及びＺ方向
への推力ｆＺ１が作用している。これらの推力を制御す
ることによって、磁石板４５Ａ、ひいては可動プレート
４４の＋Ｘ方向側の端部４４ａは、Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ
方向に非接触で位置決めされる。

【００６６】一方、−Ｘ方向側の駆動ユニット１１Ｙ
は、第１の実施の形態の駆動ユニット１１とは異なり、
Ｙ方向、及びＺ方向への推力のみを発生する駆動ユニッ
トである。図１１は、図１０の−Ｘ方向側の磁石板４５
Ｂの底面の状態を示し、この図１１において、磁石板４
５Ｂの底面側には常時例えば３行×３列程度の駆動ユニ
ット１１Ｙが収まっている。そして、１つの駆動ユニッ
ト１１Ｙは、図４に示されているコア２０に対して、Ｙ
方向の１対のフランジ部（図４のフランジ部２０ｄ，２
０ｅ）のみにＹコイル１３Ａ，１３Ｂを巻回すると共
に、コア２０の底部を囲むようにＺコイル１４を巻回し
て構成されている。例えばＹコイル１３ＢにＸ方向に電
流ＩＹを供給すると、コア２０の上面から入ってフラン
ジ部で内側に曲がる磁束ＢＡによって、Ｙコイル１３Ｂ
にはＹ方向へのローレンツ力ＦＹＢが作用し、同様に他
方のＹコイル１３ＡにもＹ方向へのローレンツ力が作用
し、これらの反作用として上部の磁石板４５ＢにはＹ方
向への推力が発生する。また、Ｚコイル１４に電流を供
給することによってその上方の磁石板４５ＢにはＺ方向
への推力が発生する。この結果、駆動ユニット１１Ｙ
は、その上の磁石板４５Ｂに対して非接触でＹ方向、及
びＺ方向への可変の推力を付与できる。

【００６７】図１０に戻り、−Ｘ方向側の磁石板４５Ｂ
には、ヨーク板４６の中で浮上力が付与されていると共
に、磁石板４５Ｂには複数の駆動ユニット１１ＹからＹ
方向への推力ｆＹ２、及びＺ方向への推力ｆＺ２が作用
している。これらの推力を制御することによって、磁石
板４５Ｂ、ひいては可動プレート４４の−Ｘ方向側の端
部４４ｂは、Ｙ方向、Ｚ方向に非接触で位置決めされ
る。このように端部４４ｂをＹ方向に変位させること
は、可動プレート４４をＺ軸に平行な軸の周りに回転す
ることを意味する。更に、磁石板４５Ａ，４５Ｂの底面
の３個以上の駆動ユニット１１，１１ＹでのＺ方向への
推力を制御することで、可動プレート４４のＺ方向の位
置、Ｘ軸の周りの傾斜角、及びＹ軸の周りの傾斜角が制
御でき、結果として可動プレート４４に固定された試料
台４３上のウエハＷを６自由度で位置決めできる。

【００６８】この場合、本例のヨーク板４６は、左右の
コの字型のヨーク板を連結する構造であるため、可動プ
レート４４の中央部、即ちウエハＷ側への磁束の漏れが
極めて少なくなっている。従って、本例の位置決め部
は、電子線転写装置等のウエハステージとしても使用で
きる。なお、本例においても、駆動ユニット１１，１１
Ｙをそれぞれ磁石板４５Ａ，４５Ｂの上面側に配置して
もよく、更に磁石板４５Ａ，４５Ｂの上面及び底面の両
側に駆動ユニット１１，１１Ｙを配置してもよい。ま
た、本実施の形態では駆動ユニット１１にコア、Ｘコイ
ル、Ｙコイル及びＺコイルが設けられ、駆動ユニット１
１Ｙにコア、Ｙコイル及びＺコイルが設けられている
が、それ以外に例えば駆動ユニットを４つ設けてその内
の２つの駆動ユニットがＺコイルのみ、１つの駆動ユニ
ットがコア、Ｘコイル及びＹコイルのみ、残りの１つが
コア及びＹコイルのみを備えるようにしておいてもよ
い。

【００６９】次に、本発明の第５の実施の形態につき図
１２を参照して説明する。本例も位置決め対象物として
のウエハＷに磁束が作用することなく、荷電粒子線転写
装置にも適用できる位置決め装置の例であり、図１２に
おいて図１０に対応する部分には同一符号を付してその
詳細説明を省略する。図１２は、本例の投影露光装置の
要部を示し、この図１２において、不図示のマスクパタ
ーンが投影光学系４１を介してウエハＷ上に転写されて
いる。ウエハＷは、ウエハホルダ４２上に吸着保持さ
れ、ウエハホルダ４２はほぼＸ軸に沿って細長い非磁性
体の可動プレート４７の−Ｘ方向の端部４７ｂ上に固定
されている。ウエハＷが載置されている端部４７ｂの底
面には所定の間隔で、随時その端部４７ｂを載置できる
ベース５１が配置されている。

【００７０】そして、可動プレート４７の＋Ｘ方向の端
部４７ａの底面に、Ｚ方向に向かう一様な磁束を発生す
る矩形の板状の磁石板４５が固定されている。磁石板４
５は例えば底面がＮ極で上面がＳ極の１枚の永久磁石で
ある。また、可動プレート４７の端部の磁石板４５を上
下に挟むように、且つ磁石板４５の移動範囲の全面を覆
うように底部ヨーク５０、４隅の支柱４９Ａ〜４９Ｄ
（図１２では４９Ａ〜４９Ｃのみが現れている）、及び
トップヨーク４８を連結してなるヨーク部材が配置され
ている。そして、磁石板４５の底部で底部ヨーク５０の
上面にＸ方向、Ｙ方向に所定ピッチで多数の駆動ユニッ
ト１１が配置されている。駆動ユニット１１は、図５に
示す第１の実施の形態の駆動ユニット１１と同一構成で
あり、図１２において、磁石板４５には、ヨーク部材の
中で浮上力が付与されていると共に、磁石板４５には複
数の駆動ユニット１１からＸ方向への推力ｆＸ、Ｙ方向
への推力ｆＹ、Ｚ方向への推力ｆＺ、Ｚ軸の周りのθ方
向へのトルク、Ｘ軸の周りのトルク、及びＹ軸の周りの
トルクが付与できる。これらの推力やトルクを制御する
ことによって、磁石板４５、ひいては可動プレート４７
の端部上のウエハＷは片持ち方式で６自由度に位置決め
される。

【００７１】本例においても、磁束中にあるのは可動プ
レート４７の＋Ｘ方向の端部４７ａのみであり、ウエハ
Ｗには殆ど磁束は作用しないため、この位置決め装置を
電子線転写装置等のウエハステージにも使用できる。な
お、以上の実施の形態においては、磁石板８が単極の構
造であったが、多極の構造であっても同様にテーブルを
位置決めできる。

【００７２】図１３は、多極化した磁石板８Ａの一例の
平面図を示し、この図１３において、磁石板８Ａの底面
側に点線で示すようにＸ方向、Ｙ方向に所定ピッチで複
数の駆動ユニット１１（図２に示すものと同じ）が配置
されている。磁石板８Ａは、矩形の板状の小さい磁石板
を４行×４列に配列したものであり、且つそれらの小さ
い磁石板の極性はＸ方向、Ｙ方向共に交互に反転してい
る。また、１つの駆動ユニット１１に対して磁石板８Ａ
内の２行×２列（４個）の小さい磁石板（極性は同一の
対角線上のものが互いに同じで、且つ交差する対角線上
のものの極性は異なっている）が配置されており、Ｘコ
イル１２に底面がＮ極（又はＳ極）の磁石板が対向する
ときには、Ｙコイル１３には底面がＳ極（又はＮ極）の
磁石板が対向している。従って、Ｘコイル１２、又はＹ
コイル１３に流れる電流の極性を反転するのみで、上記
の実施の形態と同様に磁石板８Ａを駆動できる。

【００７３】また、図１３では、Ｘコイル１２、Ｙコイ
ル１３の一部が極性の異なる磁石板にかかっているが、
この部分はコイルがＺ方向に折れ曲がる部分であるた
め、Ｘ方向、Ｙ方向の推力にはあまり寄与しない。な
お、このように多極の磁石板８Ａを使用する場合には、
磁石板８Ａの位置に応じてどのコイルに電流を流すか決
定しなくてはならないので、制御は複雑になり易い。

【００７４】なお、本発明は上述の実施の形態に限定さ
れず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取
り得ることは勿論である。

【００７５】

【発明の効果】本発明の第１の位置決め装置によれば、
可動体及び発磁体よりなる可動テーブルは、薄く軽量化
できる。また、例えばその可動テーブルの自重の殆どを
磁気部材及び発磁体よりなる磁気回路で支持し、浮上用
コイルでその発磁体の浮上力を制御しているため、ウエ
ハのような位置決め対象物が載置された可動体を非接触
で安定に支持できると共に、大きな推力でその可動体を
高さ方向に正確に位置決めできる利点がある。

【００７６】また、高さ方向に大きな推力が得られるた
め、その可動テーブルと駆動ユニットとのギャップを大
きく取れることになり、このギャップの空間に例えば冷
却機構等を容易に配置できる利点もある。同様に、本発
明の第２、又は第３の位置決め装置によれば、可動体及
び発磁体を含む可動テーブルの自重の殆どが磁気回路で
支持されると共に、推力発生用コイル（又は駆動ユニッ
ト）でその発磁体にその可動体の移動面内で２次元的な
推力を発生しているため、ウエハのような位置決め対象
物が載置された可動体を非接触で安定に支持できると共
に、大きな推力でその可動体を２次元的に正確に位置決
めできる利点がある。

【００７７】また、例えば複数の駆動ユニットを、その
可動体（発磁体）の移動範囲のほぼ全面を覆うように配
置すればよいため、その可動体の移動ストロークに比べ
て駆動機構をあまり大型化することなく非接触にその可
動体を位置決めできる。また、可動体の移動面内での位
置を計測する位置計測系を設けたときには、位置決め精
度が向上し、発磁体の変形量を計測する変形量計測系を
設けたときには、能動的にその発磁体の変形を補正でき
る。

【００７８】また、その発磁体に、この発磁体の磁気に
よる変形を自立的に相殺するように変形する磁歪部材を
被着したときには、この発磁体の平坦度等を高精度に維
持できる。次に、本発明の第４の位置決め装置によれ
ば、第１、又は第２の位置決め装置と同様に位置決め対
象物が載置された可動体を非接触で安定に支持できると
共に、大きな推力でその可動体を正確に位置決めできる
利点がある。更に、位置決め対象物を例えば２つの発磁
体の間に載置することによって、位置決め対象物に磁束
が殆ど作用しなくなるため、例えば荷電粒子線転写装置
等の位置決め装置としても適用できる利点がある。

【００７９】また、その可動体が位置決めされる際に発
生する推力による反力を、床に逃がす構造を有する場合
には、振動の発生が抑制される。また、その発磁体は、
単極である場合には構造が簡素化される。次に、本発明
の露光装置によれば、本発明の位置決め装置を備えてい
るため、高いスループットで高精度に半導体素子等を製
造できる。また、本発明の駆動ユニットは、例えば本発
明の第３の位置決め装置の駆動ユニットとして使用でき
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態の投影露光装置を
示す概略構成図である。

【図２】図１のトップヨーク１６から底部ヨーク１０
までの構成を示す一部を切り欠いた斜視図である。

【図３】（ａ）は図２中の駆動ユニット１１のコア２
０を示す平面図、（ｂ）はその側面図である。

【図４】図２中の駆動ユニット１１を示す分解斜視図
である。

【図５】図２中の駆動ユニット１１の駆動回路、及び
駆動ユニット１１の動作の説明に供する図である。

【図６】図２中の複数の駆動ユニット１１を用いてウ
エハテーブル５のＸ方向、Ｙ方向への駆動、及び回転を
行う場合の平面図である。

【図７】本発明の第２の実施の形態の投影露光装置の
要部を示す断面図である。

【図８】図７中の駆動ユニット６０を示す分解斜視図
である。

【図９】図７中の駆動ユニット６０の動作の説明に供
する図である。

【図１０】本発明の第４の実施の形態の投影露光装置
の要部を示す斜視図である。

【図１１】図１０の磁石板４５Ｂの底面側の駆動ユニ
ット１１Ｙを示す平面図である。

【図１２】本発明の第５の実施の形態の投影露光装置
の要部を示す斜視図である。

【図１３】本発明の実施の形態において、多極の磁石
板を使用する場合を示す平面図である。

【図１４】本発明の第３の実施の形態のウエハステー
ジの要部を示す斜視図である。

【図１５】図１４の駆動ユニット７０Ｘ，７０Ｙから
一部のコイルを取り外した状態を示す分解斜視図であ
る。

【図１６】その第３の実施の形態の変形例の駆動ユニ
ットから一部のコイルを取り外した状態を示す分解斜視
図である。

【図１７】その第３の実施の形態の変形例の駆動ユニ
ットを組み立てた状態を示す、図１６のＡＡ線に沿う断
面図である。

【符号の説明】

Ｒレチクル、３投影光学系、Ｗウエハ、５ウエ
ハテーブル、６プレート、８，４５，４５Ａ，４５Ｂ
磁石板、１０底部ヨーク、１１，１１Ｙ，６０，７
０Ｘ，７０Ｙ，７４Ｘ駆動ユニット、１２Ａ，１２Ｂ
Ｘコイル、１３Ａ，１３ＢＹコイル、１４Ｚコイ
ル、１５Ａ，１５Ｂ支柱、１６トップヨーク、１７
Ｘ，１７Ｙ移動鏡、１８Ｘ，１８Ｙ１，１８Ｙ２レ
ーザ干渉計、２０，７１，７５コア、２１カバー部
材、２２主制御系、２３ウエハテーブル駆動系、３
１駆動回路、４４，４７可動プレート、４６ヨー
ク板、７２Ａ，７２Ｂ，７６Ｚコイル、７３，７３
ｄ，７３ｅ水平コイル

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】位置決め対象物が載置される可動体を位
置決めするための位置決め装置であって、前記可動体に一体的に組み込まれ前記可動体の移動面に
垂直な一方向に向かう磁束を発生する発磁体と、前記可動体及び前記発磁体を上下に挟むように配置され
前記発磁体と共に磁気回路を形成する磁気部材と、前記発磁体と前記磁気部材との間に配置され前記発磁体
を駆動する駆動ユニットと、を備え、前記駆動ユニットは、前記発磁体に対して前記移動面に
垂直な方向に可変の推力を発生するように巻回された浮
上用コイルを有し、前記磁気部材、及び前記駆動ユニットによって前記可動
体を位置決めすることを特徴とする位置め装置。
【請求項２】位置決め対象物が載置される可動体を位
置決めするための位置決め装置であって、前記可動体に一体的に組み込まれ前記可動体の移動面に
垂直な一方向に向かう磁束を発生する発磁体と、前記可動体及び前記発磁体を上下に挟むように配置され
前記発磁体と共に磁気回路を形成する磁気部材と、前記発磁体と前記磁気部材との間に配置され前記発磁体
を駆動する駆動ユニットと、を備え、前記駆動ユニットは、前記磁気回路内で磁束を通過させ
るコア部材と、前記発磁体に対して前記移動面内の第１の方向にローレ
ンツ力よりなる推力を発生するように前記コア部材に巻
回された第１の推力発生用コイルと、前記発磁体に対して前記移動面内の前記第１の方向に交
差する第２の方向にローレンツ力よりなる推力を発生す
るように前記コア部材に巻回された第２の推力発生用コ
イルと、を有し、前記磁気部材、及び前記駆動ユニットによって前記可動
体を位置決めすることを特徴とする位置め装置。
【請求項３】位置決め対象物が載置される可動体を位
置決めするための位置決め装置であって、前記可動体に一体的に組み込まれ前記可動体の移動面に
垂直な一方向に向かう磁束を発生する発磁体と、前記可動体及び前記発磁体を上下に挟むように配置され
前記発磁体と共に磁気回路を形成する磁気部材と、前記発磁体と前記磁気部材との間に配置され前記発磁体
を駆動する駆動ユニットと、を備え、前記駆動ユニットは、前記磁気回路内で磁束を通過させ
るコア部材と、前記発磁体に対して前記移動面に沿った方向にローレン
ツ力よりなる推力を発生するように前記コア部材に巻回
された推力発生用コイルと、前記発磁体に対して前記移動面に垂直な方向に可変の推
力を発生するように前記コア部材に巻回された浮上用コ
イルと、を有し、前記磁気部材、及び前記駆動ユニットによって前記可動
体を位置決めすることを特徴とする位置め装置。
【請求項４】請求項３記載の位置決め装置であって、前記コア部材は、前記発磁体側に凸部を向けた円弧状の
部材であり、かつ該円弧状の部材の２つの端部が前記磁
気部材に磁気的に連結され、前記推力発生用コイルは、前記円弧状の部材の中間部に
巻回され、かつ前記推力発生用コイルは外側の面積が実
質的に前記コア部材の面積以上であると共に、前記外側
の面積に対して内側の面積が狭く形成され、前記浮上用コイルは、前記円弧状の部材の２つの端部に
巻回されていることを特徴とする位置決め装置。
【請求項５】請求項１〜４の何れか一項記載の位置決
め装置であって、前記可動体の前記移動面内での位置を計測する位置計測
系を設けたことを特徴とする位置決め装置。
【請求項６】請求項１〜５の何れか一項記載の位置決
め装置であって、前記発磁体の変形量を計測する変形量計測系を設けたこ
とを特徴とする位置決め装置。
【請求項７】請求項１〜６の何れか一項記載の位置決
め装置であって、前記発磁体に、該発磁体の磁気による変形を自立的に相
殺するように変形する磁歪部材を被着したことを特徴と
する位置決め装置。
【請求項８】位置決め対象物が載置される可動体を位
置決めするための位置決め装置であって、前記可動体に連結され、それぞれ前記可動体の移動面に
垂直な一方向に向かう磁束を発生する第１及び第２の発
磁体と、前記第１及び第２の発磁体をそれぞれ上下に挟むように
連結された状態で配置されると共に、前記第１及び第２
の発磁体と共にそれぞれ磁気回路を形成する磁気部材
と、前記第１の発磁体と前記磁気部材との間に配置され該発
磁体を駆動する第１の駆動ユニットと、前記第２の発磁体と前記磁気部材との間に配置され該発
磁体を駆動する第２の駆動ユニットと、を備え、前記第１の駆動ユニットは、前記磁気回路内で前記第１
の発磁体に対して前記移動面に垂直な方向に可変の推力
を発生するように巻回された浮上用コイルを有し、前記第２の駆動ユニットは、前記磁気回路内で前記第２
の発磁体に対して前記移動面に垂直な方向に可変の推力
を発生するように巻回された浮上用コイルを有し、前記磁気部材、前記第１の駆動ユニット、及び前記第２
の駆動ユニットによって前記可動体を非接触状態で位置
決めすることを特徴とする位置め装置。
【請求項９】請求項１〜８の何れか一項記載の位置決
め装置であって、前記可動体が位置決めされる際に発生する推力による反
力を、床に逃がす構造を有することを特徴とする位置決
め装置。
【請求項１０】請求項１〜９の何れか一項記載の位置
決め装置であって、前記発磁体は、単極、又は多極であることを特徴とする
位置決め装置。
【請求項１１】請求項１〜１０の何れか一項記載の位
置決め装置を備え、該位置決め装置で位置決めされる基
板上にマスクパターンを転写することを特徴とする露光
装置。
【請求項１２】発磁体と磁気部材とから形成される磁
気回路内に配置され、ローレンツ力を発生する駆動ユニ
ットであって、前記磁気回路内で第１方向に磁束を通過させると共に、
前記磁気部材と磁気的に連結されるコア部材と、前記コア部材に前記第１方向と直交する第２方向に巻回
されたコイルと、を備え、前記コイルは、前記発磁体側に面積が大きく、反発磁体
側に面積が狭くなるように巻回されていることを特徴と
する駆動ユニット。