JPH11193257A - 臭素化合物の精製方法 - Google Patents
臭素化合物の精製方法Info
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- JPH11193257A JPH11193257A JP30522198A JP30522198A JPH11193257A JP H11193257 A JPH11193257 A JP H11193257A JP 30522198 A JP30522198 A JP 30522198A JP 30522198 A JP30522198 A JP 30522198A JP H11193257 A JPH11193257 A JP H11193257A
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- Japan
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- bromine
- solvent
- crystals
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高純度で、熱安定性に優れた特定の臭素化合
物を得る精製方法を提供する。 【解決手段】 特定の臭素化合物を含む粗製溶液から臭
素化合物を晶析せしめて精製する方法において、良溶
媒、貧溶媒および種結晶からなる固液混合体を含む晶析
容器中に、該臭素化合物の濃度が5〜95重量%である
粗製溶液を添加、混合し、且つ該晶析容器中の良溶媒、
貧溶媒および該臭素化合物の結晶からなるスラリー中の
結晶の割合が10〜50重量%であることを特徴とする
臭素化合物の精製方法。
物を得る精製方法を提供する。 【解決手段】 特定の臭素化合物を含む粗製溶液から臭
素化合物を晶析せしめて精製する方法において、良溶
媒、貧溶媒および種結晶からなる固液混合体を含む晶析
容器中に、該臭素化合物の濃度が5〜95重量%である
粗製溶液を添加、混合し、且つ該晶析容器中の良溶媒、
貧溶媒および該臭素化合物の結晶からなるスラリー中の
結晶の割合が10〜50重量%であることを特徴とする
臭素化合物の精製方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、特定の臭素化合物
の精製方法に関する。さらに詳しくは、高純度で且つ熱
安定性に優れた臭素化合物を得ることができる特定の臭
素化合物の精製方法に関する。
の精製方法に関する。さらに詳しくは、高純度で且つ熱
安定性に優れた臭素化合物を得ることができる特定の臭
素化合物の精製方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般にテトラブロモビスフェノールAの
エーテル誘導体に代表される臭素化合物は、ポリオレフ
ィン系樹脂やスチレン系樹脂の難燃剤として優れた性能
を示し、広く使用されている。
エーテル誘導体に代表される臭素化合物は、ポリオレフ
ィン系樹脂やスチレン系樹脂の難燃剤として優れた性能
を示し、広く使用されている。
【0003】かかる臭素化合物は、その製造過程におい
て生成する副生成物を含有すると、この副生成物の種類
により熱安定性に悪影響を与えるため、従来より種々の
精製手段が提案されている。
て生成する副生成物を含有すると、この副生成物の種類
により熱安定性に悪影響を与えるため、従来より種々の
精製手段が提案されている。
【0004】例えば、特開昭49−125348号公報
においては、2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−4−
(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]プロ
パン(以下、TBA−BEと略称することがある)をケ
トン系溶媒に溶解し、冷却し析出させる方法が開示され
ている。
においては、2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−4−
(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]プロ
パン(以下、TBA−BEと略称することがある)をケ
トン系溶媒に溶解し、冷却し析出させる方法が開示され
ている。
【0005】特開昭55−111429号公報において
は、メタノールと種晶の混合物にTBA−BEのハロゲ
ン化芳香族炭化水素溶液を添加する方法が示されてい
る。
は、メタノールと種晶の混合物にTBA−BEのハロゲ
ン化芳香族炭化水素溶液を添加する方法が示されてい
る。
【0006】特開平4−234337号公報において
は、良溶媒に溶解したTBA−BEの溶液に、沸点が良
溶媒よりも高い貧溶媒を滴下し、滴下終了後、良溶媒を
留去しながらTBA−BEを微粉体として回収する方法
が示され、特開平7−316087号公報においては、
良溶媒に溶解したTBA−BE溶液を攪拌下、良溶媒よ
りも沸点の高い加熱貧溶媒中に滴下し、同時に良溶媒を
留去しながら貧溶媒中にTBA−BEの結晶を分散させ
回収する方法が述べられている。
は、良溶媒に溶解したTBA−BEの溶液に、沸点が良
溶媒よりも高い貧溶媒を滴下し、滴下終了後、良溶媒を
留去しながらTBA−BEを微粉体として回収する方法
が示され、特開平7−316087号公報においては、
良溶媒に溶解したTBA−BE溶液を攪拌下、良溶媒よ
りも沸点の高い加熱貧溶媒中に滴下し、同時に良溶媒を
留去しながら貧溶媒中にTBA−BEの結晶を分散させ
回収する方法が述べられている。
【0007】特開平8−113547号公報には、TB
A−BEの良溶媒溶液を、種晶の存在下、加熱したメタ
ノール中に添加すると同時に良溶媒を留去し晶析させ、
粒径の大きな固体を回収する方法が開示されている。
A−BEの良溶媒溶液を、種晶の存在下、加熱したメタ
ノール中に添加すると同時に良溶媒を留去し晶析させ、
粒径の大きな固体を回収する方法が開示されている。
【0008】特開平7−291884号公報において
は、TBA−BEの有機溶媒溶液に界面活性剤の存在下
で水を添加してエマルジョンを形成させ、続いて有機溶
媒を除去してTBA−BEの粉末を回収する方法が述べ
られている。
は、TBA−BEの有機溶媒溶液に界面活性剤の存在下
で水を添加してエマルジョンを形成させ、続いて有機溶
媒を除去してTBA−BEの粉末を回収する方法が述べ
られている。
【0009】また、特開平2−286645号公報で
は、TBA−BEを溶融状態にしておき、これに精製し
ていないTBA−BEを加える方法が開示されている。
は、TBA−BEを溶融状態にしておき、これに精製し
ていないTBA−BEを加える方法が開示されている。
【0010】さらには、特公昭57−289号公報で
は、TBA−BEの良溶媒溶液に、非溶媒又は貧溶媒を
添加し、剪断力のある攪拌を行う方法が開示されてい
る。
は、TBA−BEの良溶媒溶液に、非溶媒又は貧溶媒を
添加し、剪断力のある攪拌を行う方法が開示されてい
る。
【0011】しかしながら、これらの方法は、煩雑な操
作や大がかりな装置が必要になったり、また、得られる
固体の純度や熱安定性は必ずしも十分ではない。従っ
て、簡単な装置で、より高純度で熱安定性に優れた臭素
化合物を得る精製方法が求められている。
作や大がかりな装置が必要になったり、また、得られる
固体の純度や熱安定性は必ずしも十分ではない。従っ
て、簡単な装置で、より高純度で熱安定性に優れた臭素
化合物を得る精製方法が求められている。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】本発明者は、純度の向
上した熱安定性に優れた臭素化合物を得る精製方法を提
供することを目的として、鋭意研究を重ねた結果、良溶
媒、貧溶媒および種結晶からなる固液混合体に、臭素化
合物の粗製溶液を添加し、混合することで、高純度の熱
安定性に優れた臭素化合物を得ることができることを見
出し、本発明に到達した。
上した熱安定性に優れた臭素化合物を得る精製方法を提
供することを目的として、鋭意研究を重ねた結果、良溶
媒、貧溶媒および種結晶からなる固液混合体に、臭素化
合物の粗製溶液を添加し、混合することで、高純度の熱
安定性に優れた臭素化合物を得ることができることを見
出し、本発明に到達した。
【0013】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明によれ
ば、下記一般式(1)で表される臭素化合物を含む粗製
溶液から臭素化合物を晶析せしめて精製する方法におい
て、良溶媒、貧溶媒および種結晶からなる固液混合体を
含む晶析容器中に、該臭素化合物の濃度が5〜95重量
%である粗製溶液を添加、混合し、且つ該晶析容器中の
良溶媒、貧溶媒および該臭素化合物の結晶からなるスラ
リー中の結晶の割合が10〜50重量%であることを特
徴とする臭素化合物の精製方法が提供される。
ば、下記一般式(1)で表される臭素化合物を含む粗製
溶液から臭素化合物を晶析せしめて精製する方法におい
て、良溶媒、貧溶媒および種結晶からなる固液混合体を
含む晶析容器中に、該臭素化合物の濃度が5〜95重量
%である粗製溶液を添加、混合し、且つ該晶析容器中の
良溶媒、貧溶媒および該臭素化合物の結晶からなるスラ
リー中の結晶の割合が10〜50重量%であることを特
徴とする臭素化合物の精製方法が提供される。
【0014】
【化3】
【0015】(但し、式中、Ar1およびAr2は同一も
しくは異なる炭素数6〜10の芳香族炭化水素基;Yは
炭素数1〜3のアルキレン基、単結合、スルフォン基ま
たはケトン基;R1およびR2は同一もしくは異なる炭素
数2〜5の炭化水素基;mおよびnは同一もしくは異な
る1〜4の整数;pおよびqは同一もしくは異なる2ま
たは4の整数を示す。)
しくは異なる炭素数6〜10の芳香族炭化水素基;Yは
炭素数1〜3のアルキレン基、単結合、スルフォン基ま
たはケトン基;R1およびR2は同一もしくは異なる炭素
数2〜5の炭化水素基;mおよびnは同一もしくは異な
る1〜4の整数;pおよびqは同一もしくは異なる2ま
たは4の整数を示す。)
【0016】かかる本発明の精製方法によれば、得られ
た臭素化合物を樹脂の難燃剤として使用した場合、樹脂
の熱安定性を低下させず、しかも樹脂の着色も起こらな
い高純度の臭素化合物が得られる。殊に本発明の精製方
法によれば、樹脂に配合した場合、好ましからざる影響
を与える不純物が混合溶媒中に分離され、目的とする臭
素化合物が高純度固体として良い収率で得ることが可能
となる。
た臭素化合物を樹脂の難燃剤として使用した場合、樹脂
の熱安定性を低下させず、しかも樹脂の着色も起こらな
い高純度の臭素化合物が得られる。殊に本発明の精製方
法によれば、樹脂に配合した場合、好ましからざる影響
を与える不純物が混合溶媒中に分離され、目的とする臭
素化合物が高純度固体として良い収率で得ることが可能
となる。
【0017】以下、本発明について、さらに詳しく説明
する。本発明において、精製の対象とする臭素化合物
は、前記一般式(1)で表される。前記一般式(1)に
おいて、Ar1およびAr2は同一もしくは異なる炭素数
6〜10の芳香族炭化水素基であり、具体的にはベンゼ
ン、モノメチル置換ベンゼン、ジメチル置換ベンゼンま
たはナフタレンであり、好ましくはベンゼンである。Y
はAr1およびAr2を結合するための結合手または基で
あり、具体的には炭素数1〜3のアルキレン基、単結
合、スルフォン基またはケトン基であり、好ましくはメ
チレン基またはイソプロピリデン基である。R1および
R2は同一もしくは異なる炭素数2〜5の炭化水素基で
あり、具体的にはエチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基またはイソブチル基であり、好ましくは炭
素数2または3のエチル基またはプロピル基である。m
およびnは同一もしくは異なる1〜4の整数、好ましく
は1または2を示す。pおよびqは同一もしくは異なる
2または4の整数、好ましくは2を示す。
する。本発明において、精製の対象とする臭素化合物
は、前記一般式(1)で表される。前記一般式(1)に
おいて、Ar1およびAr2は同一もしくは異なる炭素数
6〜10の芳香族炭化水素基であり、具体的にはベンゼ
ン、モノメチル置換ベンゼン、ジメチル置換ベンゼンま
たはナフタレンであり、好ましくはベンゼンである。Y
はAr1およびAr2を結合するための結合手または基で
あり、具体的には炭素数1〜3のアルキレン基、単結
合、スルフォン基またはケトン基であり、好ましくはメ
チレン基またはイソプロピリデン基である。R1および
R2は同一もしくは異なる炭素数2〜5の炭化水素基で
あり、具体的にはエチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基またはイソブチル基であり、好ましくは炭
素数2または3のエチル基またはプロピル基である。m
およびnは同一もしくは異なる1〜4の整数、好ましく
は1または2を示す。pおよびqは同一もしくは異なる
2または4の整数、好ましくは2を示す。
【0018】前記一般式(1)で表されるかかる臭素化
合物として、具体的には、2,2−ビス[{3,5−ジ
ブロモ−4−(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フ
ェニル]プロパン、2,2−ビス[{3,5−ジブロモ
−4−(2,3−ジブロモ−2−メチルプロピルオキ
シ)}フェニル]プロパン、ビス[{3,5−ジブロモ
−4−(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フェニ
ル]メタン、ビス[{3,5−ジブロモ−4−(2,3
−ジブロモ−2−メチルプロピルオキシ)}フェニル]
メタン、ビス[{3,5−ジブロモ−4−(2,3−ジ
ブロモプロピルオキシ)}フェニル]スルフォン、ビス
[{3,5−ジブロモ−4−(2,3−ジブロモ−2−
メチルプロピルオキシ)}フェニル]スルフォン、
{3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−
(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}ビフェニル、
{3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−
(2,3−ジブロモ−2−メチルプロピルオキシ)}ビ
フェニルおよび{3,3′,5,5′−テトラブロモ−
4,4′−(1,2−ジブロモエチルオキシ)}ビフェ
ニル等が挙げられ、なかでも2,2−ビス[{3,5−
ジブロモ−4−(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}
フェニル]プロパンが好ましく使用される。
合物として、具体的には、2,2−ビス[{3,5−ジ
ブロモ−4−(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フ
ェニル]プロパン、2,2−ビス[{3,5−ジブロモ
−4−(2,3−ジブロモ−2−メチルプロピルオキ
シ)}フェニル]プロパン、ビス[{3,5−ジブロモ
−4−(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フェニ
ル]メタン、ビス[{3,5−ジブロモ−4−(2,3
−ジブロモ−2−メチルプロピルオキシ)}フェニル]
メタン、ビス[{3,5−ジブロモ−4−(2,3−ジ
ブロモプロピルオキシ)}フェニル]スルフォン、ビス
[{3,5−ジブロモ−4−(2,3−ジブロモ−2−
メチルプロピルオキシ)}フェニル]スルフォン、
{3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−
(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}ビフェニル、
{3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−
(2,3−ジブロモ−2−メチルプロピルオキシ)}ビ
フェニルおよび{3,3′,5,5′−テトラブロモ−
4,4′−(1,2−ジブロモエチルオキシ)}ビフェ
ニル等が挙げられ、なかでも2,2−ビス[{3,5−
ジブロモ−4−(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}
フェニル]プロパンが好ましく使用される。
【0019】本発明の精製方法は、前記一般式(1)で
表される臭素化合物を含有する粗製溶液から、高純度の
固形の臭素化合物を析出させることにより実施される。
前記粗製溶液は、具体的には臭素(Br2)の付加反応
によって製造された臭素化合物を含有する溶液である。
この付加反応は、下記一般式(2)で表される不飽和臭
素化合物を臭素化する反応であり、この反応によって得
られた溶液に対して本発明の精製方法は有利に適用され
る。
表される臭素化合物を含有する粗製溶液から、高純度の
固形の臭素化合物を析出させることにより実施される。
前記粗製溶液は、具体的には臭素(Br2)の付加反応
によって製造された臭素化合物を含有する溶液である。
この付加反応は、下記一般式(2)で表される不飽和臭
素化合物を臭素化する反応であり、この反応によって得
られた溶液に対して本発明の精製方法は有利に適用され
る。
【0020】
【化4】
【0021】(但し、式中、Ar1、Ar2、Y、mおよ
びnの定義は前記一般式(1)と同じものを意味する。
Q1およびQ2は同一もしくは異なる、不飽和基を1個ま
たは2個有する炭素数2〜5の炭化水素基を示す。)
びnの定義は前記一般式(1)と同じものを意味する。
Q1およびQ2は同一もしくは異なる、不飽和基を1個ま
たは2個有する炭素数2〜5の炭化水素基を示す。)
【0022】前記一般式(2)において、Ar1、A
r2、Y、mおよびnの定義は前記一般式(1)と同じ
ものを意味し、また、好ましい定義も同じものを意味す
る。Q1およびQ2の炭化水素基としては、具体的には
ビニル基、アリル基またはイソブテニル基が挙げられ、
好ましくはアリル基である。
r2、Y、mおよびnの定義は前記一般式(1)と同じ
ものを意味し、また、好ましい定義も同じものを意味す
る。Q1およびQ2の炭化水素基としては、具体的には
ビニル基、アリル基またはイソブテニル基が挙げられ、
好ましくはアリル基である。
【0023】前記一般式(2)で表される不飽和臭素化
合物として、具体的には、2,2−ビス{(3,5−ジ
ブロモ−4−アリルオキシ)フェニル}プロパン、2,
2−ビス{(3,5−ジブロモ−4−イソブテニルオキ
シ)フェニル}プロパン、ビス{(3,5−ジブロモ−
4−アリルオキシ)フェニル}メタン、ビス{(3,5
−ジブロモ−4−イソブテニルオキシ)フェニル}メタ
ン、(3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−
ジアリルオキシ)ビフェニル、(3,3′,5,5′−
テトラブロモ−4,4′−ジビニルオキシ)ビフェニ
ル、ビス{(3,5−ジブロモ−4−アリルオキシ)フ
ェニル}スルフォンおよびビス{(3,5−ジブロモ−
4−イソブテニルオキシ)フェニル}スルフォン等が挙
げられ、なかでも、2,2−ビス{(3,5−ジブロモ
−4−アリルオキシ)フェニル}プロパン、2,2−ビ
ス{(3,5−ジブロモ−4−イソブテニルオキシ)フ
ェニル}プロパン、ビス{(3,5−ジブロモ−4−ア
リルオキシ)フェニル}メタン、ビス{(3,5−ジブ
ロモ−4−イソブテニルオキシ)フェニル}メタン、
(3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−ジア
リルオキシ)ビフェニルおよび(3,3′,5,5′−
テトラブロモ−4,4′−ジビニルオキシ)ビフェニル
が好ましく、さらに、2,2−ビス{(3,5−ジブロ
モ−4−アリルオキシ)フェニル}プロパン、2,2−
ビス{(3,5−ジブロモ−4−イソブテニルオキシ)
フェニル}プロパン、ビス{(3,5−ジブロモ−4−
アリルオキシ)フェニル}メタンおよびビス{(3,5
−ジブロモ−4−イソブテニルオキシ)フェニル}メタ
ンがより好ましく、特に2,2−ビス{(3,5−ジブ
ロモ−4−アリルオキシ)フェニル}プロパンが好まし
く使用される。
合物として、具体的には、2,2−ビス{(3,5−ジ
ブロモ−4−アリルオキシ)フェニル}プロパン、2,
2−ビス{(3,5−ジブロモ−4−イソブテニルオキ
シ)フェニル}プロパン、ビス{(3,5−ジブロモ−
4−アリルオキシ)フェニル}メタン、ビス{(3,5
−ジブロモ−4−イソブテニルオキシ)フェニル}メタ
ン、(3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−
ジアリルオキシ)ビフェニル、(3,3′,5,5′−
テトラブロモ−4,4′−ジビニルオキシ)ビフェニ
ル、ビス{(3,5−ジブロモ−4−アリルオキシ)フ
ェニル}スルフォンおよびビス{(3,5−ジブロモ−
4−イソブテニルオキシ)フェニル}スルフォン等が挙
げられ、なかでも、2,2−ビス{(3,5−ジブロモ
−4−アリルオキシ)フェニル}プロパン、2,2−ビ
ス{(3,5−ジブロモ−4−イソブテニルオキシ)フ
ェニル}プロパン、ビス{(3,5−ジブロモ−4−ア
リルオキシ)フェニル}メタン、ビス{(3,5−ジブ
ロモ−4−イソブテニルオキシ)フェニル}メタン、
(3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−ジア
リルオキシ)ビフェニルおよび(3,3′,5,5′−
テトラブロモ−4,4′−ジビニルオキシ)ビフェニル
が好ましく、さらに、2,2−ビス{(3,5−ジブロ
モ−4−アリルオキシ)フェニル}プロパン、2,2−
ビス{(3,5−ジブロモ−4−イソブテニルオキシ)
フェニル}プロパン、ビス{(3,5−ジブロモ−4−
アリルオキシ)フェニル}メタンおよびビス{(3,5
−ジブロモ−4−イソブテニルオキシ)フェニル}メタ
ンがより好ましく、特に2,2−ビス{(3,5−ジブ
ロモ−4−アリルオキシ)フェニル}プロパンが好まし
く使用される。
【0024】前記不飽和臭素化合物と臭素との反応は、
溶媒の存在下に行われ、その溶媒は反応に悪影響を及ぼ
さず不活性である。かかる溶媒は、不飽和臭素化合物に
対する溶解性が高いほど好ましいが、一部溶解するもの
であっても構わない。また、不飽和臭素化合物の臭素化
反応により生成する臭素化合物が、該溶媒に実質的に溶
解するものが好ましい。
溶媒の存在下に行われ、その溶媒は反応に悪影響を及ぼ
さず不活性である。かかる溶媒は、不飽和臭素化合物に
対する溶解性が高いほど好ましいが、一部溶解するもの
であっても構わない。また、不飽和臭素化合物の臭素化
反応により生成する臭素化合物が、該溶媒に実質的に溶
解するものが好ましい。
【0025】前記臭素化反応における溶媒は、反応を均
一に行なうための単なる溶媒として使用されるばかりで
なく、好適には、反応熱を効果的に反応系外へ除去する
ための溶媒としての機能を有している。そのため溶媒
は、常圧沸点が0〜100℃、好ましくは20〜90℃
の範囲のものが有利であり、殊に反応熱を実質的に溶媒
の気化熱で除去する場合、常圧沸点が20〜80℃、特
に20〜60℃の範囲のものが望ましい。
一に行なうための単なる溶媒として使用されるばかりで
なく、好適には、反応熱を効果的に反応系外へ除去する
ための溶媒としての機能を有している。そのため溶媒
は、常圧沸点が0〜100℃、好ましくは20〜90℃
の範囲のものが有利であり、殊に反応熱を実質的に溶媒
の気化熱で除去する場合、常圧沸点が20〜80℃、特
に20〜60℃の範囲のものが望ましい。
【0026】かかる溶媒としては、塩化メチレン、クロ
ロホルム、1,2−ジクロロエタン、1,1−ジクロロ
エタン、ブロモエタン、ブチルクロライド、クロロプロ
パン等のハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、エチ
ルイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等のエーテル系炭化水素化合物、トルエン等の芳香
族炭化水素化合物、シクロヘキサノン、酢酸エチル等が
挙げられる。また、臭素を溶媒として使用することもで
きる。
ロホルム、1,2−ジクロロエタン、1,1−ジクロロ
エタン、ブロモエタン、ブチルクロライド、クロロプロ
パン等のハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、エチ
ルイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等のエーテル系炭化水素化合物、トルエン等の芳香
族炭化水素化合物、シクロヘキサノン、酢酸エチル等が
挙げられる。また、臭素を溶媒として使用することもで
きる。
【0027】これら溶媒中、ハロゲン化炭化水素が好ま
しく、特に、塩化メチレン、クロロホルムが溶媒として
好ましく用いられる。これらの溶媒は単独若しくは二種
以上混合して使用される。また、これらハロゲン化炭化
水素は、ジオキサンとの混合溶媒としても使用できる。
しく、特に、塩化メチレン、クロロホルムが溶媒として
好ましく用いられる。これらの溶媒は単独若しくは二種
以上混合して使用される。また、これらハロゲン化炭化
水素は、ジオキサンとの混合溶媒としても使用できる。
【0028】前記臭素化反応において使用する臭素の量
は、所望の臭素化合物を得るために、不飽和臭素化合物
に対して十分なモル比であれば良く、かかる不飽和臭素
化合物中の不飽和基1個当り、好ましくは1〜5個の臭
素分子の数に相当する量、より好ましくは1.1〜3個
の臭素分子の数に相当する量の範囲で臭素が使用され
る。
は、所望の臭素化合物を得るために、不飽和臭素化合物
に対して十分なモル比であれば良く、かかる不飽和臭素
化合物中の不飽和基1個当り、好ましくは1〜5個の臭
素分子の数に相当する量、より好ましくは1.1〜3個
の臭素分子の数に相当する量の範囲で臭素が使用され
る。
【0029】また、前記臭素化反応においては、臭素は
それ自体または臭素溶液として使用される。臭素溶液で
使用する場合の溶媒としては、上記の溶媒と同様のもの
が使用され、その場合の臭素の濃度は、10〜90重量
%の範囲が好ましい。
それ自体または臭素溶液として使用される。臭素溶液で
使用する場合の溶媒としては、上記の溶媒と同様のもの
が使用され、その場合の臭素の濃度は、10〜90重量
%の範囲が好ましい。
【0030】前記臭素化反応では、具体的手段として、
不飽和臭素化合物を反応に不活性な溶媒に溶解した溶液
と、臭素または臭素溶液とを混合することにより、不飽
和臭素化合物と臭素とを反応させる。この臭素化反応の
際、臭素化の反応熱の実質量を、溶媒または臭素の気化
熱で除去することが好ましい。この反応熱の実質量と
は、所望する臭素化反応により発生する理論発熱量の8
0%以上、好ましくは85%以上を意味する。
不飽和臭素化合物を反応に不活性な溶媒に溶解した溶液
と、臭素または臭素溶液とを混合することにより、不飽
和臭素化合物と臭素とを反応させる。この臭素化反応の
際、臭素化の反応熱の実質量を、溶媒または臭素の気化
熱で除去することが好ましい。この反応熱の実質量と
は、所望する臭素化反応により発生する理論発熱量の8
0%以上、好ましくは85%以上を意味する。
【0031】臭素化反応における反応温度は、前述した
ように臭素化の反応熱の実質量が、臭素または溶媒の気
化熱で除去される温度が好ましく、また、かかる臭素化
反応は常圧下に限定されず、加圧下または減圧下で行う
ことができる。反応温度は、使用する溶媒の種類(沸
点)および臭素の量に関係して、操作する圧力により制
御することができる。通常、反応温度は0〜60℃の範
囲、好ましくは5〜55℃の範囲、特に好ましくは10
〜50℃の範囲が有利である。
ように臭素化の反応熱の実質量が、臭素または溶媒の気
化熱で除去される温度が好ましく、また、かかる臭素化
反応は常圧下に限定されず、加圧下または減圧下で行う
ことができる。反応温度は、使用する溶媒の種類(沸
点)および臭素の量に関係して、操作する圧力により制
御することができる。通常、反応温度は0〜60℃の範
囲、好ましくは5〜55℃の範囲、特に好ましくは10
〜50℃の範囲が有利である。
【0032】本発明の精製方法は、前記した臭素化反応
によって得られた反応混合物からの精製臭素化合物の分
離に有利に適用される。この反応混合物は、臭素化合物
を含む粗製溶液として得られるので、この溶液に対して
そのまま本発明の精製処理を施すことができる。しか
し、前記した反応混合物中には、未反応の臭素が残留し
ており、その残留臭素は、精製工程や回収工程に悪影響
を及ぼすので、化学的処理を施して他の化合物に変換さ
せることが望ましい。
によって得られた反応混合物からの精製臭素化合物の分
離に有利に適用される。この反応混合物は、臭素化合物
を含む粗製溶液として得られるので、この溶液に対して
そのまま本発明の精製処理を施すことができる。しか
し、前記した反応混合物中には、未反応の臭素が残留し
ており、その残留臭素は、精製工程や回収工程に悪影響
を及ぼすので、化学的処理を施して他の化合物に変換さ
せることが望ましい。
【0033】この化学的処理は、反応混合物中の残留臭
素を還元剤で処理し、一旦臭素を臭化水素酸とし、次い
で臭化水素酸をアルカリ性の中和剤で中和処理する方法
が採用される。この方法は前記反応混合物に還元剤およ
び中和剤を添加することにより実施される。
素を還元剤で処理し、一旦臭素を臭化水素酸とし、次い
で臭化水素酸をアルカリ性の中和剤で中和処理する方法
が採用される。この方法は前記反応混合物に還元剤およ
び中和剤を添加することにより実施される。
【0034】この処理方法に使用される還元剤として
は、通常の還元反応に用いられる還元剤であり、具体的
には、亜硫酸水素ナトリウム、亜二チオン酸ナトリウ
ム、亜硫酸ナトリウム、シュウ酸、硫化水素、亜硝酸ナ
トリウム、亜硝酸カリウム、硫酸ヒドロキシルアミン、
スズ、酸化第1スズおよびヒドラジン等が挙げられ、亜
硫酸水素ナトリウム、亜二チオン酸ナトリウム、亜硫酸
ナトリウム、シュウ酸および亜硝酸ナトリウムが好まし
く用いられる。これらの還元剤は水溶液としても使用す
ることができる。また、これらの還元剤は単独若しくは
二種以上混合して使用される。
は、通常の還元反応に用いられる還元剤であり、具体的
には、亜硫酸水素ナトリウム、亜二チオン酸ナトリウ
ム、亜硫酸ナトリウム、シュウ酸、硫化水素、亜硝酸ナ
トリウム、亜硝酸カリウム、硫酸ヒドロキシルアミン、
スズ、酸化第1スズおよびヒドラジン等が挙げられ、亜
硫酸水素ナトリウム、亜二チオン酸ナトリウム、亜硫酸
ナトリウム、シュウ酸および亜硝酸ナトリウムが好まし
く用いられる。これらの還元剤は水溶液としても使用す
ることができる。また、これらの還元剤は単独若しくは
二種以上混合して使用される。
【0035】また、アルカリ性の中和剤としては、例え
ば、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アル
カリ土類金属水酸化物およびアルカリ土類金属炭酸塩等
が挙げられ、具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化カルシ
ウムおよび炭酸カルシウム等が好ましく、特に水酸化ナ
トリウムが好ましく用いられる。これらのアルカリ性の
中和剤は水溶液として使用することが好ましい。また、
これらのアルカリ性の中和剤は単独若しくは二種以上混
合して使用される。
ば、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アル
カリ土類金属水酸化物およびアルカリ土類金属炭酸塩等
が挙げられ、具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化カルシ
ウムおよび炭酸カルシウム等が好ましく、特に水酸化ナ
トリウムが好ましく用いられる。これらのアルカリ性の
中和剤は水溶液として使用することが好ましい。また、
これらのアルカリ性の中和剤は単独若しくは二種以上混
合して使用される。
【0036】前記処理方法において、反応混合物中の残
存臭素1モルに対して、2モル以上、好ましくは2〜3
0モル、より好ましくは2.2〜15モル、さらに好ま
しくは2.5〜10モルの還元剤が、反応混合物中に添
加される。還元剤の添加量をかかる範囲内にすると、臭
素が混合物中に残留することがなく、高純度の変色の無
い臭素化合物が得られ好ましい。また、反応混合物中の
残存臭素1モルに対して、2モル以上、好ましくは2〜
50モル、より好ましくは2.2〜30モル、さらに好
ましくは2.5〜20モルのアルカリ性の中和剤が、反
応混合物中に添加される。中和剤の添加量をかかる範囲
内にすると、臭化水素が水溶液に残留せず、この水溶液
はそのまま廃棄でき、また、金属の腐食もなく、作業環
境上においても好ましい。
存臭素1モルに対して、2モル以上、好ましくは2〜3
0モル、より好ましくは2.2〜15モル、さらに好ま
しくは2.5〜10モルの還元剤が、反応混合物中に添
加される。還元剤の添加量をかかる範囲内にすると、臭
素が混合物中に残留することがなく、高純度の変色の無
い臭素化合物が得られ好ましい。また、反応混合物中の
残存臭素1モルに対して、2モル以上、好ましくは2〜
50モル、より好ましくは2.2〜30モル、さらに好
ましくは2.5〜20モルのアルカリ性の中和剤が、反
応混合物中に添加される。中和剤の添加量をかかる範囲
内にすると、臭化水素が水溶液に残留せず、この水溶液
はそのまま廃棄でき、また、金属の腐食もなく、作業環
境上においても好ましい。
【0037】上記還元剤およびアルカリ性の中和剤は、
かかる臭素化合物および臭素を含む反応混合物中に同時
にまたは別々に添加する。かかる還元剤および中和剤
は、別々にあるいは事前に混合したものを添加してもよ
いが、還元剤がアルカリによって副反応を起こすおそれ
がないため別々に添加することが好ましい。添加方法と
しては、還元剤を添加し、続けて中和剤を添加する方法
が好ましく採用される。処理方法において、還元剤およ
びアルカリ性の中和剤を添加した反応混合物は、還元、
中和反応がスムーズに進行するように混合される。
かかる臭素化合物および臭素を含む反応混合物中に同時
にまたは別々に添加する。かかる還元剤および中和剤
は、別々にあるいは事前に混合したものを添加してもよ
いが、還元剤がアルカリによって副反応を起こすおそれ
がないため別々に添加することが好ましい。添加方法と
しては、還元剤を添加し、続けて中和剤を添加する方法
が好ましく採用される。処理方法において、還元剤およ
びアルカリ性の中和剤を添加した反応混合物は、還元、
中和反応がスムーズに進行するように混合される。
【0038】また、かかる還元および中和反応を行う際
の反応混合物と水相との重量比は、20:80〜80:
20が好ましく、30:70〜70:30がより好まし
く、40:60〜60:40が特に好ましい。この範囲
内では、還元、中和反応が効率よく進行し、短時間で臭
素が除去される。従って、還元、中和反応を行う際に、
上記範囲内となるように水あるいは溶媒を反応混合物に
添加することが好ましい。
の反応混合物と水相との重量比は、20:80〜80:
20が好ましく、30:70〜70:30がより好まし
く、40:60〜60:40が特に好ましい。この範囲
内では、還元、中和反応が効率よく進行し、短時間で臭
素が除去される。従って、還元、中和反応を行う際に、
上記範囲内となるように水あるいは溶媒を反応混合物に
添加することが好ましい。
【0039】かかる反応混合物中の臭素の還元、中和反
応に要する時間は2分以上が好ましく、2〜90分がよ
り好ましく、5〜60分がさらに好ましく、10〜45
分が特に好ましい。
応に要する時間は2分以上が好ましく、2〜90分がよ
り好ましく、5〜60分がさらに好ましく、10〜45
分が特に好ましい。
【0040】前記還元処理および中和処理を施して、反
応混合物(有機相)を水相から分離し、この有機相を本
発明の精製方法の粗製溶液として使用することができ
る。
応混合物(有機相)を水相から分離し、この有機相を本
発明の精製方法の粗製溶液として使用することができ
る。
【0041】本発明の精製方法が適用される粗製溶液
は、前記一般式(1)で表される臭素化合物を5〜95
重量%、好ましくは10〜80重量%、より好ましくは
20〜65重量%、特に好ましくは25〜55重量%の
濃度で含有しているのが望ましい。かかる濃度が5重量
%より低くなると、晶析の際の臭素化合物のロスが大き
く経済的効率が低くなり好ましくなく、95重量%より
高くなると、混合撹拌操作に大きな負荷がかかることが
あり好ましくない。
は、前記一般式(1)で表される臭素化合物を5〜95
重量%、好ましくは10〜80重量%、より好ましくは
20〜65重量%、特に好ましくは25〜55重量%の
濃度で含有しているのが望ましい。かかる濃度が5重量
%より低くなると、晶析の際の臭素化合物のロスが大き
く経済的効率が低くなり好ましくなく、95重量%より
高くなると、混合撹拌操作に大きな負荷がかかることが
あり好ましくない。
【0042】臭素化合物の粗製溶液を形成する溶媒は、
臭素化合物の良溶媒である。かかる良溶媒は、臭素化合
物の溶解度が25℃で1g/溶媒100g以上、好まし
くは2g/溶媒100g以上であるものが好ましい。良
溶媒の例としては、塩化メチレン、クロロホルム、1,
2−ジクロロエタン、1,1−ジクロロエタン、シクロ
ヘキサノン、酢酸エチルおよびトルエンから選択される
ものが好ましく、これらは一種でも二種以上の混合物で
あってもよい。これらのうち、より好ましいのは塩化メ
チレン、クロロホルムの如きハロゲン化炭化水素であ
り、塩化メチレンが最も好ましい。
臭素化合物の良溶媒である。かかる良溶媒は、臭素化合
物の溶解度が25℃で1g/溶媒100g以上、好まし
くは2g/溶媒100g以上であるものが好ましい。良
溶媒の例としては、塩化メチレン、クロロホルム、1,
2−ジクロロエタン、1,1−ジクロロエタン、シクロ
ヘキサノン、酢酸エチルおよびトルエンから選択される
ものが好ましく、これらは一種でも二種以上の混合物で
あってもよい。これらのうち、より好ましいのは塩化メ
チレン、クロロホルムの如きハロゲン化炭化水素であ
り、塩化メチレンが最も好ましい。
【0043】前述したとおり、臭素化合物の粗製溶液
は、前記臭素化反応により製造された反応混合物または
その混合物から誘導される溶液であることができ、その
場合には、臭素化反応に使用された反応溶媒の溶液とし
てそのまま或いは付加的な化学的処理をした溶液であ
る。
は、前記臭素化反応により製造された反応混合物または
その混合物から誘導される溶液であることができ、その
場合には、臭素化反応に使用された反応溶媒の溶液とし
てそのまま或いは付加的な化学的処理をした溶液であ
る。
【0044】本発明の精製方法は、良溶媒、貧溶媒およ
び種結晶からなる固液混合体を含む晶析容器中に、前述
した如き前記一般式(1)で表される臭素化合物を5〜
95重量%濃度で含有する粗製溶液を、下記(a)の条
件を満足する晶析容器中のスラリー中に添加、混合し
て、粗製溶液中の臭素化合物を析出させることが肝要で
ある。
び種結晶からなる固液混合体を含む晶析容器中に、前述
した如き前記一般式(1)で表される臭素化合物を5〜
95重量%濃度で含有する粗製溶液を、下記(a)の条
件を満足する晶析容器中のスラリー中に添加、混合し
て、粗製溶液中の臭素化合物を析出させることが肝要で
ある。
【0045】(a)良溶媒、貧溶媒および臭素化合物の
結晶からなるスラリー中の該臭素化合物の結晶の割合が
10〜50重量%、好ましくは15〜40重量%のスラ
リー濃度であること。
結晶からなるスラリー中の該臭素化合物の結晶の割合が
10〜50重量%、好ましくは15〜40重量%のスラ
リー濃度であること。
【0046】本発明の精製方法は、析出容器中におい
て、前記(a)の条件を維持しつつ、臭素化合物を含有
する粗製溶液をその容器中に供給することにより実施さ
れる。スラリーを形成している臭素化合物の結晶の一部
は、溶液から析出する臭素化合物の種結晶として作用
し、一方、混合溶媒の組成は、臭素化合物の析出を促進
し、不純物の析出を抑制し、且つその溶存を保持する作
用を果たしているものと考えられる。
て、前記(a)の条件を維持しつつ、臭素化合物を含有
する粗製溶液をその容器中に供給することにより実施さ
れる。スラリーを形成している臭素化合物の結晶の一部
は、溶液から析出する臭素化合物の種結晶として作用
し、一方、混合溶媒の組成は、臭素化合物の析出を促進
し、不純物の析出を抑制し、且つその溶存を保持する作
用を果たしているものと考えられる。
【0047】前記スラリー中の臭素化合物の結晶の割合
は10〜50重量%であり、かかる結晶の割合が10重
量%より低くなると、臭素化合物の生産効率が低くなり
好ましくなく、50重量%より高くなると、攪拌効率の
低下により不純物を除去する効果が低下し、高純度の臭
素化合物が得られ難くなり好ましくない。
は10〜50重量%であり、かかる結晶の割合が10重
量%より低くなると、臭素化合物の生産効率が低くなり
好ましくなく、50重量%より高くなると、攪拌効率の
低下により不純物を除去する効果が低下し、高純度の臭
素化合物が得られ難くなり好ましくない。
【0048】前記固液混合体は、前記臭素化合物を含有
する粗製溶液を添加する以前のものであり、良溶媒、貧
溶媒および種結晶からなる。
する粗製溶液を添加する以前のものであり、良溶媒、貧
溶媒および種結晶からなる。
【0049】かかる種結晶は、その純度が90%以上の
ものが好ましい。かかる種結晶としては、使用される臭
素化合物の粗製溶液中の臭素化合物と同一の臭素化合物
が好ましく用いられる。種結晶を使用することにより、
前記臭素化合物の粗製溶液から臭素化合物の結晶の析出
をスムーズにするため、不純物の少ない高純度の臭素化
合物が得られ、また、微小結晶の生成を防ぐため、得ら
れた臭素化合物の結晶は均一な粒径のものとなる。
ものが好ましい。かかる種結晶としては、使用される臭
素化合物の粗製溶液中の臭素化合物と同一の臭素化合物
が好ましく用いられる。種結晶を使用することにより、
前記臭素化合物の粗製溶液から臭素化合物の結晶の析出
をスムーズにするため、不純物の少ない高純度の臭素化
合物が得られ、また、微小結晶の生成を防ぐため、得ら
れた臭素化合物の結晶は均一な粒径のものとなる。
【0050】該固液混合体において、該固液混合体中の
該種結晶の割合は、0.01〜50重量%が好ましく、
0.1〜40重量%がより好ましく、1〜30重量%が
さらに好ましく、5〜20重量%が特に好ましい。種結
晶の割合をかかる範囲内の割合で使用すると、種結晶と
して十分に機能し、臭素化合物の生産効率が良く好まし
い。
該種結晶の割合は、0.01〜50重量%が好ましく、
0.1〜40重量%がより好ましく、1〜30重量%が
さらに好ましく、5〜20重量%が特に好ましい。種結
晶の割合をかかる範囲内の割合で使用すると、種結晶と
して十分に機能し、臭素化合物の生産効率が良く好まし
い。
【0051】本発明の精製方法では、スラリー中におい
て、臭素化合物の晶析が進行する。ここで、臭素化合物
の粗製溶液を、固液混合体に添加し、混合したものをス
ラリーと称する。該スラリーは、良溶媒、貧溶媒および
臭素化合物の結晶からなり、更に詳しく説明すると、良
溶媒と貧溶媒の溶媒に不純物や未晶析の臭素化合物が溶
解した溶液部分と若干の不純物を含んだ臭素化合物の結
晶部分とから構成されている。また、スラリー中ににお
ける臭素化合物の結晶とは、前記固液混合体中の種結晶
と前記臭素化合物の溶液から析出する臭素化合物の結晶
を共に含むものである。
て、臭素化合物の晶析が進行する。ここで、臭素化合物
の粗製溶液を、固液混合体に添加し、混合したものをス
ラリーと称する。該スラリーは、良溶媒、貧溶媒および
臭素化合物の結晶からなり、更に詳しく説明すると、良
溶媒と貧溶媒の溶媒に不純物や未晶析の臭素化合物が溶
解した溶液部分と若干の不純物を含んだ臭素化合物の結
晶部分とから構成されている。また、スラリー中ににお
ける臭素化合物の結晶とは、前記固液混合体中の種結晶
と前記臭素化合物の溶液から析出する臭素化合物の結晶
を共に含むものである。
【0052】臭素化合物の貧溶媒としては、臭素化合物
の溶解度が25℃で0.08g/溶媒100g以下、好
ましくは0.05g/溶媒100g以下、特に好ましく
は0.01g/溶媒100g以下のものが有利である。
の溶解度が25℃で0.08g/溶媒100g以下、好
ましくは0.05g/溶媒100g以下、特に好ましく
は0.01g/溶媒100g以下のものが有利である。
【0053】前記貧溶媒の具体例としては、例えば、
水、メタノール、エタノール、i−プロパノール等の炭
素数1〜5の飽和1価アルコール、エチレングリコー
ル、グリセリン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテルおよびn−ペンタン、n−
ヘキサン、n−オクタン等の炭素数5〜10の飽和炭化
水素等が挙げられ、水、メタノール、エタノール、i−
プロパノールおよびジイソプロピルエーテルが好まし
く、水、メタノール、エタノール、i−プロパノールが
より好ましく、メタノールが特に好ましく用いられる。
これらの貧溶媒は単独若しくは二種以上混合して使用さ
れる。
水、メタノール、エタノール、i−プロパノール等の炭
素数1〜5の飽和1価アルコール、エチレングリコー
ル、グリセリン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテルおよびn−ペンタン、n−
ヘキサン、n−オクタン等の炭素数5〜10の飽和炭化
水素等が挙げられ、水、メタノール、エタノール、i−
プロパノールおよびジイソプロピルエーテルが好まし
く、水、メタノール、エタノール、i−プロパノールが
より好ましく、メタノールが特に好ましく用いられる。
これらの貧溶媒は単独若しくは二種以上混合して使用さ
れる。
【0054】本発明において、該臭素化合物の粗製溶液
を、該固液混合体に添加する方法としては、該臭素化合
物の粗製溶液を、ポンプや滴下ロートなどを使用して、
連続的に一定量ずつ添加する方法が好ましく用いられ
る。また、晶析容器中のスラリーの一部を取り出し、再
び晶析容器中へ循環することもできる。
を、該固液混合体に添加する方法としては、該臭素化合
物の粗製溶液を、ポンプや滴下ロートなどを使用して、
連続的に一定量ずつ添加する方法が好ましく用いられ
る。また、晶析容器中のスラリーの一部を取り出し、再
び晶析容器中へ循環することもできる。
【0055】また、本発明の好ましい態様として、該臭
素化合物は2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−4−
(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]プロ
パンであり、該スラリー中の良溶媒は塩化メチレンであ
り、貧溶媒はメタノールである場合に、臭素化合物の溶
液を添加した後のスラリー中の塩化メチレンとメタノー
ルとの比が重量比で、30:70〜70:30であるこ
とが好ましい。
素化合物は2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−4−
(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]プロ
パンであり、該スラリー中の良溶媒は塩化メチレンであ
り、貧溶媒はメタノールである場合に、臭素化合物の溶
液を添加した後のスラリー中の塩化メチレンとメタノー
ルとの比が重量比で、30:70〜70:30であるこ
とが好ましい。
【0056】本発明の精製方法における臭素化合物の析
出操作は、冷却や加熱を特に必要としないが、通常5〜
50℃の範囲、好ましくは10〜45℃の範囲の温度で
実施するのが有利である。かかる温度範囲内で実施する
と、スラリー中に良溶媒が存在した状態であり、晶析化
が徐々に進行するため、高純度の臭素化合物が得られ易
く、また、結晶の形態(粒径)の制御が容易となる利点
がある。さらに、晶析温度を高めに設定することによ
り、残留溶媒の低減された臭素化合物が得られ易くな
り、また、不純物のスラリー中の混合溶媒に対する溶解
度が高くなるため高純度の臭素化合物が得られ易くなる
ため好ましく採用される。
出操作は、冷却や加熱を特に必要としないが、通常5〜
50℃の範囲、好ましくは10〜45℃の範囲の温度で
実施するのが有利である。かかる温度範囲内で実施する
と、スラリー中に良溶媒が存在した状態であり、晶析化
が徐々に進行するため、高純度の臭素化合物が得られ易
く、また、結晶の形態(粒径)の制御が容易となる利点
がある。さらに、晶析温度を高めに設定することによ
り、残留溶媒の低減された臭素化合物が得られ易くな
り、また、不純物のスラリー中の混合溶媒に対する溶解
度が高くなるため高純度の臭素化合物が得られ易くなる
ため好ましく採用される。
【0057】また、スラリーとしての臭素化合物の結晶
粒子は、その平均粒子径が0.1〜0.8mm、好まし
くは0.2〜0.7mmの範囲であるのが望ましい。
粒子は、その平均粒子径が0.1〜0.8mm、好まし
くは0.2〜0.7mmの範囲であるのが望ましい。
【0058】前記した精製方法によって得られた臭素化
合物の結晶を含むスラリーは、遠心分離や濾過によっ
て、湿ったケーキと母液とに分離し、湿ったケーキを乾
燥し、場合により粉砕することによって、目的とする高
純度の臭素化合物の結晶を得ることができる。
合物の結晶を含むスラリーは、遠心分離や濾過によっ
て、湿ったケーキと母液とに分離し、湿ったケーキを乾
燥し、場合により粉砕することによって、目的とする高
純度の臭素化合物の結晶を得ることができる。
【0059】本発明において得られる臭素化合物は、重
量基準の平均粒子径で、0.1〜0.9mmの範囲が好
ましく、0.1〜0.8mmの範囲が好ましく、0.2
〜0.7mmの範囲が好ましい。かかる範囲の平均粒子
径を有する臭素化合物は、取り扱い性が良好で、粉塵の
飛散もなく、また、該臭素化合物を難燃剤として樹脂へ
配合する際の分散性が良好で好ましい。
量基準の平均粒子径で、0.1〜0.9mmの範囲が好
ましく、0.1〜0.8mmの範囲が好ましく、0.2
〜0.7mmの範囲が好ましい。かかる範囲の平均粒子
径を有する臭素化合物は、取り扱い性が良好で、粉塵の
飛散もなく、また、該臭素化合物を難燃剤として樹脂へ
配合する際の分散性が良好で好ましい。
【0060】本発明の精製方法によれば、高純度の臭素
化合物を工業的に有利に得ることができ、樹脂用の難燃
剤として有用であり、特に、ABS樹脂、ポリスチレン
樹脂およびポリオレフィン樹脂用の難燃剤として優れた
高品質のものである。
化合物を工業的に有利に得ることができ、樹脂用の難燃
剤として有用であり、特に、ABS樹脂、ポリスチレン
樹脂およびポリオレフィン樹脂用の難燃剤として優れた
高品質のものである。
【0061】
【実施例】以下に、実施例を挙げて、本発明を詳述す
る。なお、純度、平均粒子径、スラリー中の結晶の割合
の測定は、次の方法に従った。
る。なお、純度、平均粒子径、スラリー中の結晶の割合
の測定は、次の方法に従った。
【0062】(1)純度の分析 臭素化合物の純度の測定は、高速液体クロマトグラフィ
ー(島津製作所(株)製SCL−6B)により、280
nmの吸収を検出する方法で行った。そして、このクロ
マトグラフィーより得られた各成分のピーク面積の和を
100とし、これに対する臭素化合物のピーク面積比を
求めた。
ー(島津製作所(株)製SCL−6B)により、280
nmの吸収を検出する方法で行った。そして、このクロ
マトグラフィーより得られた各成分のピーク面積の和を
100とし、これに対する臭素化合物のピーク面積比を
求めた。
【0063】(2)平均粒子径 試料を、200、100、60、20、16、10、
5、3.5メッシュの篩を使用し、篩い分けた後、重量
を基準とした累積粒度分布グラフを作成し、平均粒子径
を求めた。
5、3.5メッシュの篩を使用し、篩い分けた後、重量
を基準とした累積粒度分布グラフを作成し、平均粒子径
を求めた。
【0064】(3)スラリー中の結晶の割合 一定量のスラリーを濾過して、結晶物を取り出し、80
℃、3時間、5mmHgで乾燥した後、結晶物の重量を
測定し、スラリーに対する結晶物の重量割合を算出し
た。
℃、3時間、5mmHgで乾燥した後、結晶物の重量を
測定し、スラリーに対する結晶物の重量割合を算出し
た。
【0065】[参照例A]純度93%の2,2−ビス
[{3,5−ジブロモ−4−(2,3−ジブロモプロピ
ルオキシ)}フェニル]プロパンを酢酸エチルを用いて
再結晶を行った。これにより純度94%、平均粒子径
0.2mmの2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−4−
(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]プロ
パンの結晶が得られた(以下、種結晶Aと略称する)。
さらに、2回同様に再結晶を行い、純度99%、平均粒
子径0.2mmの2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−
4−(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]
プロパンの結晶を得た(以下、種結晶Bと略称する)。
[{3,5−ジブロモ−4−(2,3−ジブロモプロピ
ルオキシ)}フェニル]プロパンを酢酸エチルを用いて
再結晶を行った。これにより純度94%、平均粒子径
0.2mmの2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−4−
(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]プロ
パンの結晶が得られた(以下、種結晶Aと略称する)。
さらに、2回同様に再結晶を行い、純度99%、平均粒
子径0.2mmの2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−
4−(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]
プロパンの結晶を得た(以下、種結晶Bと略称する)。
【0066】[参照例B]温度計、攪拌機、還流冷却管
を取り付けたフラスコに市販のTBA−AE(帝人化成
(株)製、FG−3200)100g(0.160モ
ル)および塩化メチレン150gを入れ、20℃で溶解
させた。この溶液に臭素54g(0.338モル)を1
時間かけて滴下し、さらに同温度で攪拌を1時間続け、
臭素の付加反応を終了した。
を取り付けたフラスコに市販のTBA−AE(帝人化成
(株)製、FG−3200)100g(0.160モ
ル)および塩化メチレン150gを入れ、20℃で溶解
させた。この溶液に臭素54g(0.338モル)を1
時間かけて滴下し、さらに同温度で攪拌を1時間続け、
臭素の付加反応を終了した。
【0067】次いで、この溶液中の余剰の臭素を25重
量%亜硫酸水素ナトリウム水溶液30mlで還元した
後、生成した臭化水素を24重量%水酸化ナトリウム水
溶液11mlで中和し、その後、150mlの純水で洗
浄して50重量%濃度のTBA−BEの塩化メチレン溶
液を得た。また、この溶液に塩化メチレン溶液を加え、
25重量%濃度の塩化メチレン溶液を調整した。この溶
液の一部を取り出し濃縮したところ固体の純度は90%
であった。
量%亜硫酸水素ナトリウム水溶液30mlで還元した
後、生成した臭化水素を24重量%水酸化ナトリウム水
溶液11mlで中和し、その後、150mlの純水で洗
浄して50重量%濃度のTBA−BEの塩化メチレン溶
液を得た。また、この溶液に塩化メチレン溶液を加え、
25重量%濃度の塩化メチレン溶液を調整した。この溶
液の一部を取り出し濃縮したところ固体の純度は90%
であった。
【0068】[実施例1]温度計、攪拌機および還流管
を取り付けたフラスコに、塩化メチレン60g、メタノ
ール120gおよび参照例Aで得られた種結晶B20g
を入れ、混合した(固液混合体中の種結晶Bの割合は1
0重量%)。この固液混合体を攪拌しながら、25℃の
温度で、参照例Bで得られた純度90%の2,2−ビス
[{3,5−ジブロモ−4−(2,3−ジブロモプロピ
ルオキシ)}フェニル]プロパンの50重量%濃度の塩
化メチレン溶液120gを滴下ロートから30分間で添
加した。添加終了後、さらに30分間攪拌を継続した
(この時スラリー中の結晶の割合は24重量%、スラリ
ー中の塩化メチレンとメタノールの重量比は50:5
0)。その後、このスラリーを濾過して、結晶物を取り
出し、これを80℃、3時間、5mmHgで減圧乾燥
し、2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−4−(2,3
−ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]プロパンの結
晶を得た。得られた結晶は、純度95%、平均粒子径
0.5mmであり、また回収率は97%であった。
を取り付けたフラスコに、塩化メチレン60g、メタノ
ール120gおよび参照例Aで得られた種結晶B20g
を入れ、混合した(固液混合体中の種結晶Bの割合は1
0重量%)。この固液混合体を攪拌しながら、25℃の
温度で、参照例Bで得られた純度90%の2,2−ビス
[{3,5−ジブロモ−4−(2,3−ジブロモプロピ
ルオキシ)}フェニル]プロパンの50重量%濃度の塩
化メチレン溶液120gを滴下ロートから30分間で添
加した。添加終了後、さらに30分間攪拌を継続した
(この時スラリー中の結晶の割合は24重量%、スラリ
ー中の塩化メチレンとメタノールの重量比は50:5
0)。その後、このスラリーを濾過して、結晶物を取り
出し、これを80℃、3時間、5mmHgで減圧乾燥
し、2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−4−(2,3
−ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]プロパンの結
晶を得た。得られた結晶は、純度95%、平均粒子径
0.5mmであり、また回収率は97%であった。
【0069】[実施例2]実施例1で使用した種結晶B
を種結晶Aに代える以外は、実施例1と同様の方法で
2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−4−(2,3−ジ
ブロモプロピルオキシ)}フェニル]プロパンの結晶を
得た。得られた結晶は、純度94%、平均粒子径0.4
mmであり、また回収率は97%であった。
を種結晶Aに代える以外は、実施例1と同様の方法で
2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−4−(2,3−ジ
ブロモプロピルオキシ)}フェニル]プロパンの結晶を
得た。得られた結晶は、純度94%、平均粒子径0.4
mmであり、また回収率は97%であった。
【0070】[実施例3]温度計、攪拌機および還流管
を取り付けたフラスコに、塩化メチレン60g、メタノ
ール120gおよび参照例Aで得られた種結晶B20g
を入れ、混合した(固液混合体中の種結晶Bの割合は1
0重量%)。この固液混合体を攪拌しながら、25℃の
温度で、参照例Bで得られた純度90%の2,2−ビス
[{3,5−ジブロモ−4−(2,3−ジブロモプロピ
ルオキシ)}フェニル]プロパンの25重量%濃度の塩
化メチレン溶液120gを滴下ロートから30分間で添
加した。添加終了後、さらに30分間攪拌を継続した
(この時スラリー中の結晶の割合は15重量%、スラリ
ー中の塩化メチレンとメタノールの重量比は56:4
4)。その後、このスラリーを濾過して、結晶物を取り
出し、これを80℃、3時間、5mmHgで減圧乾燥
し、2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−4−(2,3
−ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]プロパンの結
晶を得た。得られた結晶は、純度95%、平均粒子径
0.4mmであり、また回収率は96%であった。
を取り付けたフラスコに、塩化メチレン60g、メタノ
ール120gおよび参照例Aで得られた種結晶B20g
を入れ、混合した(固液混合体中の種結晶Bの割合は1
0重量%)。この固液混合体を攪拌しながら、25℃の
温度で、参照例Bで得られた純度90%の2,2−ビス
[{3,5−ジブロモ−4−(2,3−ジブロモプロピ
ルオキシ)}フェニル]プロパンの25重量%濃度の塩
化メチレン溶液120gを滴下ロートから30分間で添
加した。添加終了後、さらに30分間攪拌を継続した
(この時スラリー中の結晶の割合は15重量%、スラリ
ー中の塩化メチレンとメタノールの重量比は56:4
4)。その後、このスラリーを濾過して、結晶物を取り
出し、これを80℃、3時間、5mmHgで減圧乾燥
し、2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−4−(2,3
−ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]プロパンの結
晶を得た。得られた結晶は、純度95%、平均粒子径
0.4mmであり、また回収率は96%であった。
【0071】[実施例4]温度計、攪拌機および還流管
を取り付けたフラスコに、塩化メチレン75g、メタノ
ール75gおよび参照例Aで得られた種結晶B20gを
入れ、混合した(固液混合体中の種結晶Bの割合は12
重量%)。この固液混合体を攪拌しながら、25℃の温
度で、参照例Bで得られた純度90%の2,2−ビス
[{3,5−ジブロモ−4−(2,3−ジブロモプロピ
ルオキシ)}フェニル]プロパンの50重量%濃度の塩
化メチレン溶液120gを滴下ロートから30分間で添
加した。添加終了後、さらに30分間攪拌を継続した
(この時スラリー中の結晶の割合は23重量%、スラリ
ー中の塩化メチレンとメタノールの重量比は64:3
6)。その後、このスラリーを濾過して、結晶物を取り
出し、これを80℃、3時間、5mmHgで減圧乾燥
し、2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−4−(2,3
−ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]プロパンの結
晶を得た。得られた結晶は、純度96%、平均粒子径
0.5mmであり、また回収率は79%であった。
を取り付けたフラスコに、塩化メチレン75g、メタノ
ール75gおよび参照例Aで得られた種結晶B20gを
入れ、混合した(固液混合体中の種結晶Bの割合は12
重量%)。この固液混合体を攪拌しながら、25℃の温
度で、参照例Bで得られた純度90%の2,2−ビス
[{3,5−ジブロモ−4−(2,3−ジブロモプロピ
ルオキシ)}フェニル]プロパンの50重量%濃度の塩
化メチレン溶液120gを滴下ロートから30分間で添
加した。添加終了後、さらに30分間攪拌を継続した
(この時スラリー中の結晶の割合は23重量%、スラリ
ー中の塩化メチレンとメタノールの重量比は64:3
6)。その後、このスラリーを濾過して、結晶物を取り
出し、これを80℃、3時間、5mmHgで減圧乾燥
し、2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−4−(2,3
−ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]プロパンの結
晶を得た。得られた結晶は、純度96%、平均粒子径
0.5mmであり、また回収率は79%であった。
【0072】[実施例5]実施例4において、温度を2
5℃から35℃に代える以外は、実施例4と同様の方法
で2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−4−(2,3−
ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]プロパンの結晶
を得た。得られた結晶は、純度96%、平均粒子径0.
5mmであり、また回収率は77%であった。
5℃から35℃に代える以外は、実施例4と同様の方法
で2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−4−(2,3−
ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]プロパンの結晶
を得た。得られた結晶は、純度96%、平均粒子径0.
5mmであり、また回収率は77%であった。
【0073】[実施例6]実施例1において、塩化メチ
レンの代わりに1,2−ジクロロエタンを使用した以外
は、実施例1と同様の方法で2,2−ビス[{3,5−
ジブロモ−4−(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}
フェニル]プロパンの結晶を得た。得られた結晶は、純
度95%、平均粒子径0.3mmであり、また回収率は
97%であった。
レンの代わりに1,2−ジクロロエタンを使用した以外
は、実施例1と同様の方法で2,2−ビス[{3,5−
ジブロモ−4−(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}
フェニル]プロパンの結晶を得た。得られた結晶は、純
度95%、平均粒子径0.3mmであり、また回収率は
97%であった。
【0074】[実施例7]実施例1において、塩化メチ
レンの代わりにシクロヘキサノンを使用した以外は、実
施例1と同様の方法で2,2−ビス[{3,5−ジブロ
モ−4−(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フェニ
ル]プロパンの結晶を得た。得られた結晶は、純度95
%、平均粒子径0.4mmであり、また回収率は95%
であった。
レンの代わりにシクロヘキサノンを使用した以外は、実
施例1と同様の方法で2,2−ビス[{3,5−ジブロ
モ−4−(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フェニ
ル]プロパンの結晶を得た。得られた結晶は、純度95
%、平均粒子径0.4mmであり、また回収率は95%
であった。
【0075】[実施例8]実施例1において、塩化メチ
レンの代わりに酢酸エチルを使用した以外は、実施例1
と同様の方法で2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−4
−(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]プ
ロパンの結晶を得た。得られた結晶は、純度94%、平
均粒子径0.2mmであり、また回収率は98%であっ
た。
レンの代わりに酢酸エチルを使用した以外は、実施例1
と同様の方法で2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−4
−(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]プ
ロパンの結晶を得た。得られた結晶は、純度94%、平
均粒子径0.2mmであり、また回収率は98%であっ
た。
【0076】[実施例9]実施例1において、塩化メチ
レンの代わりにトルエンを使用した以外は、実施例1と
同様の方法で2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−4−
(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]プロ
パンの結晶を得た。得られた結晶は、純度95%、平均
粒子径0.6mmであり、また回収率は98%であっ
た。
レンの代わりにトルエンを使用した以外は、実施例1と
同様の方法で2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−4−
(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]プロ
パンの結晶を得た。得られた結晶は、純度95%、平均
粒子径0.6mmであり、また回収率は98%であっ
た。
【0077】[実施例10]実施例1において、メタノ
ールの代わりにジイソプロピルエーテルを使用した以外
は、実施例1と同様の方法で2,2−ビス[{3,5−
ジブロモ−4−(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}
フェニル]プロパンの結晶を得た。得られた結晶は、純
度95%、平均粒子径0.3mmであり、また回収率は
97%であった。
ールの代わりにジイソプロピルエーテルを使用した以外
は、実施例1と同様の方法で2,2−ビス[{3,5−
ジブロモ−4−(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}
フェニル]プロパンの結晶を得た。得られた結晶は、純
度95%、平均粒子径0.3mmであり、また回収率は
97%であった。
【0078】[実施例11]実施例1において、塩化メ
チレンの代わりに酢酸エチルを、メタノールの代わりに
ジイソプロピルエーテルを使用した以外は、実施例1と
同様の方法で2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−4−
(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]プロ
パンの結晶を得た。得られた結晶は、純度94%、平均
粒子径0.3mmであり、また回収率は98%であっ
た。
チレンの代わりに酢酸エチルを、メタノールの代わりに
ジイソプロピルエーテルを使用した以外は、実施例1と
同様の方法で2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−4−
(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]プロ
パンの結晶を得た。得られた結晶は、純度94%、平均
粒子径0.3mmであり、また回収率は98%であっ
た。
【0079】[比較例1]温度計、攪拌機および還流管
を取り付けたフラスコに、メタノール180gおよび参
照例Aで得られた種結晶B20gを入れ、混合した。フ
ラスコ内を攪拌しながら、25℃の温度で、参照例Bで
得られた純度90%の2,2−ビス[{3,5−ジブロ
モ−4−(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フェニ
ル]プロパンの50重量%濃度の塩化メチレン溶液12
0gを滴下ロートから30分間で添加した。添加終了
後、さらに30分間攪拌を継続した。その後、析出した
粉末を濾過して、2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−
4−(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]
プロパンの粉末を得た。これを80℃、3時間、5mm
Hgで減圧乾燥を行った。しかしながら、この減圧乾燥
において、粉末相互の付着が起こり、大きなブロックと
なり、また一部着色が認められた。この臭素化合物は、
純度92%であり、回収率は96%であった。
を取り付けたフラスコに、メタノール180gおよび参
照例Aで得られた種結晶B20gを入れ、混合した。フ
ラスコ内を攪拌しながら、25℃の温度で、参照例Bで
得られた純度90%の2,2−ビス[{3,5−ジブロ
モ−4−(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フェニ
ル]プロパンの50重量%濃度の塩化メチレン溶液12
0gを滴下ロートから30分間で添加した。添加終了
後、さらに30分間攪拌を継続した。その後、析出した
粉末を濾過して、2,2−ビス[{3,5−ジブロモ−
4−(2,3−ジブロモプロピルオキシ)}フェニル]
プロパンの粉末を得た。これを80℃、3時間、5mm
Hgで減圧乾燥を行った。しかしながら、この減圧乾燥
において、粉末相互の付着が起こり、大きなブロックと
なり、また一部着色が認められた。この臭素化合物は、
純度92%であり、回収率は96%であった。
【0080】これらの結果を表1および表2に示した。
【0081】
【表1】
【0082】
【表2】
【0083】
【発明の効果】本発明の精製方法によれば、高純度で、
熱安定性に優れた臭素化合物を得ることができ、かかる
臭素化合物は、樹脂用の難燃剤として好適に使用され、
その工業的効果は格別なものである。
熱安定性に優れた臭素化合物を得ることができ、かかる
臭素化合物は、樹脂用の難燃剤として好適に使用され、
その工業的効果は格別なものである。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07C 317/22 C07C 317/22
Claims (7)
- 【請求項1】 下記一般式(1)で表される臭素化合物
を含む粗製溶液から臭素化合物を晶析せしめて精製する
方法において、良溶媒、貧溶媒および種結晶からなる固
液混合体を含む晶析容器中に、該臭素化合物の濃度が5
〜95重量%である粗製溶液を添加、混合し、且つ該晶
析容器中の良溶媒、貧溶媒および該臭素化合物の結晶か
らなるスラリー中の結晶の割合が10〜50重量%であ
ることを特徴とする臭素化合物の精製方法。 【化1】 (但し、式中、Ar1およびAr2は同一もしくは異なる
炭素数6〜10の芳香族炭化水素基;Yは炭素数1〜3
のアルキレン基、単結合、スルフォン基またはケトン
基;R1およびR2は同一もしくは異なる炭素数2〜5の
炭化水素基;mおよびnは同一もしくは異なる1〜4の
整数;pおよびqは同一もしくは異なる2または4の整
数を示す。) - 【請求項2】 臭素化合物は、前記一般式(1)におい
て、Ar1およびAr2はベンゼン;Yはメチレン基また
はイソプロピリデン基;R1およびR2は炭素数2または
3のアルキル基;mおよびnは1または2;pおよびq
は2を示す化合物である請求項1記載の臭素化合物の精
製方法。 - 【請求項3】 良溶媒は、臭素化合物の溶解度が1g/
溶媒100g以上である請求項1記載の臭素化合物の精
製方法。 - 【請求項4】 貧溶媒は、臭素化合物の溶解度が0.0
8g/溶媒100g以下である請求項1記載の臭素化合
物の精製方法。 - 【請求項5】 良溶媒は、塩化メチレン、クロロホル
ム、1,2−ジクロロエタン、1,1−ジクロロエタ
ン、シクロヘキサノン、酢酸エチルおよびトルエンから
なる群より選ばれる少なくとも一種である請求項1記載
の臭素化合物の精製方法。 - 【請求項6】 貧溶媒は、水、メタノール、エタノー
ル、i−プロパノールおよびジイソプロピルエーテルか
らなる群より選ばれる少なくとも一種である請求項1記
載の臭素化合物の精製方法。 - 【請求項7】 前記一般式(1)で表される臭素化合物
を含む粗製溶液は、下記一般式(2)で表される不飽和
臭素化合物を臭素と反応させる方法から誘導された溶液
である請求項1記載の臭素化合物の精製方法。 【化2】 (但し、式中、Ar1、Ar2、Y、mおよびnの定義は
前記一般式(1)と同じものを意味する。Q1およびQ2
は同一もしくは異なる、不飽和基を1個または2個有す
る炭素数2〜5の炭化水素基を示す。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30522198A JPH11193257A (ja) | 1997-10-28 | 1998-10-27 | 臭素化合物の精製方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-295403 | 1997-10-28 | ||
| JP29540397 | 1997-10-28 | ||
| JP30522198A JPH11193257A (ja) | 1997-10-28 | 1998-10-27 | 臭素化合物の精製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11193257A true JPH11193257A (ja) | 1999-07-21 |
Family
ID=26560254
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30522198A Pending JPH11193257A (ja) | 1997-10-28 | 1998-10-27 | 臭素化合物の精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11193257A (ja) |
-
1998
- 1998-10-27 JP JP30522198A patent/JPH11193257A/ja active Pending
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