JPH11195946A - 周波数調整装置 - Google Patents
周波数調整装置Info
- Publication number
- JPH11195946A JPH11195946A JP81098A JP81098A JPH11195946A JP H11195946 A JPH11195946 A JP H11195946A JP 81098 A JP81098 A JP 81098A JP 81098 A JP81098 A JP 81098A JP H11195946 A JPH11195946 A JP H11195946A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adjustment
- frequency
- unit
- adjusting
- adjustment unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 abstract 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
水晶振動子等の圧電素子の周波数の調整量のばらつきが
大きい場合でも、装置全体の調整処理を高速に、かつ有
効に調整することができる周波数調整装置を提供する。 【目的】 【構成】 周波数測定及び周波数演算機能を有する複数
の調整部からなる第1の粗調整部11、第2の粗調整部
12、第3の粗調整部13、微調整部14から構成さ
れ、各粗調整部は水晶振動子2の周波数を調整前に測定
し、調整量が均等になるように演算し、周波数調整を行
い、生産性及び効率の良い周波数調整を行うものであ
る。
大きい場合でも、装置全体の調整処理を高速に、かつ有
効に調整することができる周波数調整装置を提供する。 【目的】 【構成】 周波数測定及び周波数演算機能を有する複数
の調整部からなる第1の粗調整部11、第2の粗調整部
12、第3の粗調整部13、微調整部14から構成さ
れ、各粗調整部は水晶振動子2の周波数を調整前に測定
し、調整量が均等になるように演算し、周波数調整を行
い、生産性及び効率の良い周波数調整を行うものであ
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、水晶片等の圧電素子の
表面に電極を形成してなる水晶振動子を高速かつ効率良
く周波数調整を行う装置に関する。
表面に電極を形成してなる水晶振動子を高速かつ効率良
く周波数調整を行う装置に関する。
【0002】
【従来の技術】水晶振動子を一例として説明する。例え
ばATカットの水晶振動子の共振周波数は、水晶片の厚
みと、その表面に蒸着等の方法により形成された表面の
金属電極膜の質量により決定される。水晶振動子は、水
晶片の厚さのばらつきと電極膜の厚さのばらつきが複合
した周波数のばらつきが生じる。この周波数のばらつき
を、真空蒸着又はエッチングにより、電極膜の質量を増
減し、所定の周波数に調整する必要がある。
ばATカットの水晶振動子の共振周波数は、水晶片の厚
みと、その表面に蒸着等の方法により形成された表面の
金属電極膜の質量により決定される。水晶振動子は、水
晶片の厚さのばらつきと電極膜の厚さのばらつきが複合
した周波数のばらつきが生じる。この周波数のばらつき
を、真空蒸着又はエッチングにより、電極膜の質量を増
減し、所定の周波数に調整する必要がある。
【0003】しかし、この周波数のばらつきは、形状又
は製造工程により大きく異なる。大きなばらつきを持つ
水晶振動子を調整する場合、必然的に調整の時間が掛か
ることになる。水晶片の加工と電極膜の形成は、多数個
を同時に処理するため、生産性は高い。しかし、周波数
調整は、個々の水晶振動子を目標周波数に合わせるた
め、1個毎の調整が必要で、生産性が低い。そこで、調
整時間を短くし、生産性を向上するために、一つの周波
数調整装置に、複数の調整箇所を設け、生産性を向上す
ることが考えられる。
は製造工程により大きく異なる。大きなばらつきを持つ
水晶振動子を調整する場合、必然的に調整の時間が掛か
ることになる。水晶片の加工と電極膜の形成は、多数個
を同時に処理するため、生産性は高い。しかし、周波数
調整は、個々の水晶振動子を目標周波数に合わせるた
め、1個毎の調整が必要で、生産性が低い。そこで、調
整時間を短くし、生産性を向上するために、一つの周波
数調整装置に、複数の調整箇所を設け、生産性を向上す
ることが考えられる。
【0004】従来の水晶振動子の周波数調整装置は、例
えば特開平8−181558に示される装置が知られて
いる。この周波数調整装置は、図1に示す如く真空の調
整室1内で、水晶振動子2が連続的に搬送部6により供
給され、高速で調整する粗調の調整部3、中速で調整す
る粗微調の調整部4、低速で調整する微調の調整部5か
ら構成され、それぞれの調整部では、事前に定めた目標
周波数に至るまで、調整を行っている。例えば、高速の
調整部3では目標周波数の200ppmまでを調整し、
中速の調整部4では目標周波数の50ppmまでを調整
し、低速の調整部5では目標周波数まで調整する。水晶
振動子の調整は、非常に高精度が要求されるため、前述
のように、少なくとも高速で荒く調整する粗調整部と、
低速で精度良く調整する微調整部から構成されている。
えば特開平8−181558に示される装置が知られて
いる。この周波数調整装置は、図1に示す如く真空の調
整室1内で、水晶振動子2が連続的に搬送部6により供
給され、高速で調整する粗調の調整部3、中速で調整す
る粗微調の調整部4、低速で調整する微調の調整部5か
ら構成され、それぞれの調整部では、事前に定めた目標
周波数に至るまで、調整を行っている。例えば、高速の
調整部3では目標周波数の200ppmまでを調整し、
中速の調整部4では目標周波数の50ppmまでを調整
し、低速の調整部5では目標周波数まで調整する。水晶
振動子の調整は、非常に高精度が要求されるため、前述
のように、少なくとも高速で荒く調整する粗調整部と、
低速で精度良く調整する微調整部から構成されている。
【0005】調整量として、500ppmから2000
ppmを仮定し、調整部3、4、5に前記定まった調整
終了周波数を設定し、それぞれの調整部の調整部では、
調整量に応じた調整速度で調整できるようになってい
る。
ppmを仮定し、調整部3、4、5に前記定まった調整
終了周波数を設定し、それぞれの調整部の調整部では、
調整量に応じた調整速度で調整できるようになってい
る。
【0006】しかし、調整前の水晶振動子の周波数ばら
つきが非常に大きく、調整量が大きい場合、調整速度に
限界があり、最初の調整部3の調整時間が非常に長くな
り、装置全体の調整時間は調整部3の調整時間に律束さ
れる。反対に調整量の小さい水晶振動子では、調整部3
の処理時間は非常に短いものの、調整時間は調整部4、
5に律束され、装置全体の調整時間の短縮ができない。
つきが非常に大きく、調整量が大きい場合、調整速度に
限界があり、最初の調整部3の調整時間が非常に長くな
り、装置全体の調整時間は調整部3の調整時間に律束さ
れる。反対に調整量の小さい水晶振動子では、調整部3
の処理時間は非常に短いものの、調整時間は調整部4、
5に律束され、装置全体の調整時間の短縮ができない。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従来の周波数調整装置
にあっては、調整量が大きい場合、最初の調整部に調整
時間が掛かり、生産性が著しく低下する問題がある。高
速の粗調整の調整部を増やしても、それぞれの調整部
で、定まった所定の周波数に調整することは、装置とし
て容易であるが調整量の少ない振動子に対しては、調整
部が有効に処理しないことになる。
にあっては、調整量が大きい場合、最初の調整部に調整
時間が掛かり、生産性が著しく低下する問題がある。高
速の粗調整の調整部を増やしても、それぞれの調整部
で、定まった所定の周波数に調整することは、装置とし
て容易であるが調整量の少ない振動子に対しては、調整
部が有効に処理しないことになる。
【0008】本発明は、水晶振動子等の圧電素子の周波
数の調整量のばらつきが大きい場合でも、装置全体の調
整処理が高速に、かつ有効に調整することができる周波
数調整装置を提供するにある。
数の調整量のばらつきが大きい場合でも、装置全体の調
整処理が高速に、かつ有効に調整することができる周波
数調整装置を提供するにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は前述のような問
題点を鑑みてなされたもので、周波数調整前の共振周波
数を測定し、それぞれの水晶振動子のばらつきに対し、
それぞれの調整部の調整量を均等に調整するための手段
を設けた。
題点を鑑みてなされたもので、周波数調整前の共振周波
数を測定し、それぞれの水晶振動子のばらつきに対し、
それぞれの調整部の調整量を均等に調整するための手段
を設けた。
【0010】
【作用】それぞれの調整部で調整量を均等にすることに
より、それぞれの調整部の調整時間が均等化され、調整
装置全体の調整時間が最小化される。調整量が大きい水
晶振動子は、それぞれの調整部の調整時間が均等に増加
し、調整量の少ない水晶振動子でも、それぞれの調整部
の調整時間が均等に短縮され、調整時間が多い調整部、
調整時間が少ない調整部が無いように、均等に調整する
ことができる。
より、それぞれの調整部の調整時間が均等化され、調整
装置全体の調整時間が最小化される。調整量が大きい水
晶振動子は、それぞれの調整部の調整時間が均等に増加
し、調整量の少ない水晶振動子でも、それぞれの調整部
の調整時間が均等に短縮され、調整時間が多い調整部、
調整時間が少ない調整部が無いように、均等に調整する
ことができる。
【0011】
【実施例】以下に本発明に係る周波数調整装置の実施例
を図2から図3を用いて説明する。
を図2から図3を用いて説明する。
【0012】図2は、本発明の第1の実施例の説明図で
ある。調整室1の内部の最初に第1の粗調整部11、第
2の粗調整部12、第3の粗調整部13、最後に微調整
部14から構成されており、それぞれの調整部はネット
ワーク・アナライザのような周波数測定機能を有し、か
つ周波数の演算機能を有し、例えば特願平8−1540
28に示されるように、周波数を測定しながら調整が行
えるように構成されている。調整室1は、真空ポンプに
真空排気され、調整室1の前後には仕込み、取り出し室
があるが、本実施例では割愛してある。
ある。調整室1の内部の最初に第1の粗調整部11、第
2の粗調整部12、第3の粗調整部13、最後に微調整
部14から構成されており、それぞれの調整部はネット
ワーク・アナライザのような周波数測定機能を有し、か
つ周波数の演算機能を有し、例えば特願平8−1540
28に示されるように、周波数を測定しながら調整が行
えるように構成されている。調整室1は、真空ポンプに
真空排気され、調整室1の前後には仕込み、取り出し室
があるが、本実施例では割愛してある。
【0013】水晶振動子2は、搬送部6により連続的に
供給され、最初に第1の粗調整部11に到達すると、第
1の粗調整部11が調整前に周波数を測定する。本実施
例では、粗調整整部が3箇所であるから、目標周波数と
の差の3分の1を調整する。次に水晶振動子2が第2の
粗調整部12に到着すると、同様に第2の粗調整部12
が周波数を測定して目標周波数との差の2分の1を調整
する。次にの第3の粗調整部13は目標周波数の僅か手
前まで調整する。最後の微調整部14は、残りの目標周
波数までの微量の周波数を調整する。周波数測定は、調
整前でも良いし、調整開始時でも良い。各調整部が周波
数演算を有することにより、他の調整部と関わりを持た
ず、単独で調整することができる。また、前段の調整部
で何らかの不具合により、調整量が不十分であっても、
その後の調整部で分担調整が可能である。例えば、第1
のの粗調整部11で調整が不十分であった場合、第2の
粗調整部12と第3の粗調整部13で2分の1づつを分
担して調整するため、1箇所の粗調整部に時間的負担が
掛かることはない。この様に、電気的接触不良のような
何らかの不具合に対しても冗長性を持たせることができ
る。
供給され、最初に第1の粗調整部11に到達すると、第
1の粗調整部11が調整前に周波数を測定する。本実施
例では、粗調整整部が3箇所であるから、目標周波数と
の差の3分の1を調整する。次に水晶振動子2が第2の
粗調整部12に到着すると、同様に第2の粗調整部12
が周波数を測定して目標周波数との差の2分の1を調整
する。次にの第3の粗調整部13は目標周波数の僅か手
前まで調整する。最後の微調整部14は、残りの目標周
波数までの微量の周波数を調整する。周波数測定は、調
整前でも良いし、調整開始時でも良い。各調整部が周波
数演算を有することにより、他の調整部と関わりを持た
ず、単独で調整することができる。また、前段の調整部
で何らかの不具合により、調整量が不十分であっても、
その後の調整部で分担調整が可能である。例えば、第1
のの粗調整部11で調整が不十分であった場合、第2の
粗調整部12と第3の粗調整部13で2分の1づつを分
担して調整するため、1箇所の粗調整部に時間的負担が
掛かることはない。この様に、電気的接触不良のような
何らかの不具合に対しても冗長性を持たせることができ
る。
【0014】図3に第2の実施例を示す。本実施例で
は、全ての調整前に周波数を測定し、それぞれの調整部
に調整すべき周波数を伝達し、それぞれの調整部がその
周波数に従って調整する。第1の粗調整部11、第2の
粗調整部12、第3の粗調整部13、微調整部14は周
波数カウンタのように周波数を測定する機能を有し、各
調整部と接続されたコンピュータのような演算機能及び
通信機能を有する制御部15から構成されている。
は、全ての調整前に周波数を測定し、それぞれの調整部
に調整すべき周波数を伝達し、それぞれの調整部がその
周波数に従って調整する。第1の粗調整部11、第2の
粗調整部12、第3の粗調整部13、微調整部14は周
波数カウンタのように周波数を測定する機能を有し、各
調整部と接続されたコンピュータのような演算機能及び
通信機能を有する制御部15から構成されている。
【0015】水晶振動子2は、最初に第1の粗調整部1
1に到着すると、第1の粗調整部11が調整前の周波数
を測定し、この周波数は制御部15に伝達され、制御部
15は、第1の粗調整部11に目標周波数に対する差の
3分の1の周波数を設定し、第2の粗調整部12に目標
周波数との差の3分の2の周波数を設定し、第3の粗調
整部13に目標周波数の僅か手前の周波数を設定する。
微調整部14には目標周波数を設定する。それぞれの調
整部は同時に調整を開始し、全ての調整部が調整完了
後、水晶振動子2は、搬送部6により次の調整部へ移動
される。ここに示した制御部15は、第1の粗調整部1
1で測定した周波数を演算すると同時に第2の粗調部1
2、第3の粗調部13に伝達するのではなく、制御部1
5の内部に記憶しておき、第1の粗調整部11を通過し
た水晶振動子2が第2の粗調整部12に到達した時点
で、制御部15から第2の粗調整部12に伝達される。
第3の粗調整部13にも同様に伝達される。
1に到着すると、第1の粗調整部11が調整前の周波数
を測定し、この周波数は制御部15に伝達され、制御部
15は、第1の粗調整部11に目標周波数に対する差の
3分の1の周波数を設定し、第2の粗調整部12に目標
周波数との差の3分の2の周波数を設定し、第3の粗調
整部13に目標周波数の僅か手前の周波数を設定する。
微調整部14には目標周波数を設定する。それぞれの調
整部は同時に調整を開始し、全ての調整部が調整完了
後、水晶振動子2は、搬送部6により次の調整部へ移動
される。ここに示した制御部15は、第1の粗調整部1
1で測定した周波数を演算すると同時に第2の粗調部1
2、第3の粗調部13に伝達するのではなく、制御部1
5の内部に記憶しておき、第1の粗調整部11を通過し
た水晶振動子2が第2の粗調整部12に到達した時点
で、制御部15から第2の粗調整部12に伝達される。
第3の粗調整部13にも同様に伝達される。
【0016】また、第2の実施例の説明では、調整部で
は測定周波数の演算機能を持たず、制御部15で全体を
制御するように説明したが、各調整部に演算記憶機能が
ある場合、この制御部15は各調整部11から14に含
むことができる。
は測定周波数の演算機能を持たず、制御部15で全体を
制御するように説明したが、各調整部に演算記憶機能が
ある場合、この制御部15は各調整部11から14に含
むことができる。
【0017】また、調整前に周波数を測定することによ
り、不良品に対する不要な調整を防ぎ、生産性を向上す
ることもできる。
り、不良品に対する不要な調整を防ぎ、生産性を向上す
ることもできる。
【0018】
【発明の効果】本発明に係る周波数調整装置にあって
は、上記の如く各調整部が均等に調整するため、各調整
部の調整時間を均等にすることができ、生産性が高く、
設備効率のよい周波数調整装置を提供することができ
る。また、不具合に対しても冗長性があり、不良の水晶
振動子に対しても不要な調整時間を削除することができ
る。
は、上記の如く各調整部が均等に調整するため、各調整
部の調整時間を均等にすることができ、生産性が高く、
設備効率のよい周波数調整装置を提供することができ
る。また、不具合に対しても冗長性があり、不良の水晶
振動子に対しても不要な調整時間を削除することができ
る。
【図1】従来技術による周波数調整装置の説明図である
【図2】本発明の周波数調整装置の第1の実施例の説明
図である。
図である。
【図3】本発明の周波数調整装置の第2の実施例の説明
図である。
図である。
1 調整室 2 水晶振動子 6 搬送部 11 第1の粗調整部 12 第2の粗調整部 13 第3の粗調整部 14 微調整部 15 制御部
Claims (3)
- 【請求項1】 水晶振動子等の圧電素子の表面電極膜の
質量を増加又は減少させて周波数を調整し、かつ複数の
調整部を有する周波数調整装置に於いて、調整前の周波
数を測定する手段と、それぞれの調整部で調整量を均等
に調整する手段とを有することを特徴とする周波数調整
装置。 - 【請求項2】 複数の調整部で調整量を均等に調整する
方法に於いて、それぞれのの調整部で調整前に周波数を
測定し、それぞれの調整部で均等となる調整量を算出す
る手段を備えたことを特徴とする請求項1の周波数調整
装置。 - 【請求項3】 複数の調整部で調整量を均等に調整する
方法に於いて、最初の調整部で周波数を測定し、それぞ
れの調整部に均等となる調整量を伝達する手段を備えた
ことを特徴とする請求項1の周波数調整装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP81098A JPH11195946A (ja) | 1998-01-06 | 1998-01-06 | 周波数調整装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP81098A JPH11195946A (ja) | 1998-01-06 | 1998-01-06 | 周波数調整装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11195946A true JPH11195946A (ja) | 1999-07-21 |
Family
ID=11484047
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP81098A Pending JPH11195946A (ja) | 1998-01-06 | 1998-01-06 | 周波数調整装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11195946A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008205764A (ja) * | 2007-02-20 | 2008-09-04 | Seiko Instruments Inc | 水晶振動子の周波数調整装置及び水晶振動子の周波数調整方法 |
| US20090205179A1 (en) * | 2008-02-14 | 2009-08-20 | Takashi Kobayashi | Method of fabricating piezoelectric vibration piece, piezoelectric vibrating piece, wafer, piezoelectric vibrator, oscillator, electronic apparatus and radiowave timepiece |
-
1998
- 1998-01-06 JP JP81098A patent/JPH11195946A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008205764A (ja) * | 2007-02-20 | 2008-09-04 | Seiko Instruments Inc | 水晶振動子の周波数調整装置及び水晶振動子の周波数調整方法 |
| US20090205179A1 (en) * | 2008-02-14 | 2009-08-20 | Takashi Kobayashi | Method of fabricating piezoelectric vibration piece, piezoelectric vibrating piece, wafer, piezoelectric vibrator, oscillator, electronic apparatus and radiowave timepiece |
| US8214982B2 (en) * | 2008-02-14 | 2012-07-10 | Seiko Instruments Inc. | Method of fabricating piezoelectric vibrating pieces |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20040017130A1 (en) | Adjusting the frequency of film bulk acoustic resonators | |
| US5200714A (en) | Crystal oscillator with quartz vibrator having temperature detecting faculty, quartz vibrator for use therein, and method of measuring temperature using quartz vibrator | |
| US20030146810A1 (en) | Surface acoustic wave device and communications apparatus using the same | |
| JPH10321598A (ja) | 半導体装置の製造装置 | |
| KR100352392B1 (ko) | 표면 탄성파 소자의 제조 방법 | |
| US5584933A (en) | Process for plasma deposition and plasma CVD apparatus | |
| US4112147A (en) | Method of manufacturing a monolithic crystal filter | |
| JPS63151103A (ja) | 圧電振動子の周波数調整方法および装置 | |
| KR102685475B1 (ko) | 표면 탄성파 장치 및 제조 방법 | |
| JPH11195946A (ja) | 周波数調整装置 | |
| JPH09326668A (ja) | 圧電素子とその製造方法 | |
| JP2011061867A (ja) | 層のスタック堆積方法、共振器の形成方法、および、圧電層の堆積方法 | |
| US20040212459A1 (en) | Method for producing a layer with a predefined layer thickness profile | |
| Reinhardt et al. | P1I-4 simulation of BAW resonators frequency adjustment | |
| US6172443B1 (en) | Quartz crystal resonator with improved temperature performance and method therefor | |
| JP3255534B2 (ja) | 超薄板圧電共振子素板の製造方法 | |
| JP4411967B2 (ja) | 圧電振動デバイスの周波数調整方法 | |
| JPH06224677A (ja) | 圧電共振子の周波数調整方法 | |
| JP3453971B2 (ja) | 水晶振動子の製造方法 | |
| JP3255456B2 (ja) | 超薄板圧電共振子素板の製造方法 | |
| JP7215201B2 (ja) | 圧電振動フィルタの周波数調整方法および周波数調整装置 | |
| US6772491B2 (en) | Manufacturing method for ceramic oscillator | |
| Wang et al. | D-Baw Uniformity Improvement by Resonator Thickness Compensation | |
| JP2001093890A (ja) | プラズマエッチング装置及びエッチング方法 | |
| US7227292B2 (en) | Methods of depositing piezoelectric films |