JPH11199207A - オゾンビーム発生方法及び装置 - Google Patents

オゾンビーム発生方法及び装置

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JPH11199207A
JPH11199207A JP9368060A JP36806097A JPH11199207A JP H11199207 A JPH11199207 A JP H11199207A JP 9368060 A JP9368060 A JP 9368060A JP 36806097 A JP36806097 A JP 36806097A JP H11199207 A JPH11199207 A JP H11199207A
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JP
Japan
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ozone
chamber
storage tank
liquefied
containing gas
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JP9368060A
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English (en)
Inventor
Shingo Ichimura
一村信吾
Hisao Hojo
北條久男
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Vacuum Products Corp
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
Vacuum Products Corp
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Publication date
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  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
  • Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 オゾンガスが連続的に得られるようにしたオ
ゾンビーム発生方法と装置を提供すること。 【解決手段】 オゾンビーム発生装置は、酸素を含有す
るガスをオゾン化してオゾン含有ガスにするためのオゾ
ン化手段7と、オゾン化手段7の配管4が接続されてい
る貯留槽1と、貯留槽1内のオゾン含有ガス中のオゾン
を選択的に液化するための冷凍手段23、24、25、
26と、貯留槽1から処理装置15へオゾンガスを輸送
するための配管18とを有している。貯留槽1が、オゾ
ン化手段7からオゾン含有ガスが導かれる第1室2と、
オゾンガスを輸送するための配管18の基端側が接続さ
れた第2室3とに区分されていると共に、第1室2と第
2室3の底部が連通しており、かつ、貯留槽1内で液化
されたオゾンによって底部の連通部分22を通過するオ
ゾンガスを遮断できるようにしてある。貯留槽1の底部
で、液化したオゾンの貯留と、貯留した液化オゾンの気
化を同時に行うようにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高温超電導薄膜の形
成、酸化シリコン膜の形成、半導体における絶縁膜の形
成、レジストのエッチングなど、真空中で行われる酸化
処理プロセス及び酸化力を利用した表面処理プロセスに
際し強力な酸化剤である純オゾンを連続的に供給する方
法と装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、上記のような酸化処理プロセス或
は酸化力を利用した表面処理プロセスに使用できるよう
にしたオゾンビーム発生装置として、特開平4−872
45号公報に開示された装置が提案され、実用に供され
ている。図4は上記公報に開示された装置の構成図であ
る。図の51が液化されたオゾンを貯留するための貯留
槽で、酸素ボンベ52から供給される酸素ガスが流量調
整バルブ53を通して導かれるようにしている。この経
路にオゾナイザ54が介設されており、酸素ガスの一部
(約10%)がオゾン化される。貯留槽51の側壁に、
冷凍機55で冷却されているコールドヘッド56が熱接
触させてあり、貯留槽51に導入された酸素とオゾンの
混合ガスのうちオゾンのみが選択的に液化される条件
(80〜100K)の温度に冷却できるようにしてあ
る。そして、液化されなかった混合ガスを排気するため
に、貯留槽51にバルブ57を介してオゾンキラー5
8、ガス冷却器59、真空ポンプ60が接続されて貯留
槽51が所定の圧力に維持できるようにしてある。
【0003】貯留槽51に必要な量の液化されたオゾン
が溜まったことが確認されると、流量調整バルブ53及
びバルブ57を閉じると共に、温度制御装置61でヒー
タ62を温度調節して液化されたオゾンの温度を制御し
てオゾン飽和蒸気圧を得、かつ、コンダクタンスバルブ
63を調整して、所定流量のオゾンガスを配管64を通
して処理装置65にビーム状にして導くようにしてい
る。貯留槽51内の液化されたオゾンが消費されて無く
なった時は、ヒータ62による温度制御を中止すると共
に、コンダクタンスバルブ63を閉じて処理装置65で
のオゾンビームによる処理を中断し、流量調整バルブ5
3及びバルブ57を開けて、貯留槽51に液化されたオ
ゾンが溜まるのを待ち(例えば数時間)、必要な量のオ
ゾンが溜まった後、再び処理を再開するようにしてい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】前記のように、従来の
オゾンビーム発生装置においては、貯留槽51に液化オ
ゾンを所定量貯留した後、これを気化させて処理装置6
5に導き、貯留したオゾンを消尽した時は処理を中断し
てオゾンの液化貯留を再開するようにしていたので、処
理装置65で行われる処理が間欠的にならざるを得なか
った。従って、このようなオゾンビーム発生装置を酸化
処理や表面処理プロセスなどに使用する時には、プロセ
ス処理の能率が著しく害される問題点があった。
【0005】本発明は斯かる問題点に鑑みてなされたも
ので、オゾンガスが連続的に得られるようにしたオゾン
ビーム発生方法及び装置を提供することを目的としてい
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記の目的のもとになさ
れた本発明では、貯留槽を2室に区分して、一方の室で
オゾンの液化を連続的にできるようにすると共に、他方
の室には液化されたオゾンが順次補給されてオゾンの気
化を連続的に行えるようにした。
【0007】即ち本発明のオゾンビーム発生装置は、酸
素を含有するガスをオゾン化してオゾン含有ガスにする
ためのオゾン化手段と、このオゾン化手段の配管が接続
されている貯留槽と、貯留槽内のオゾン含有ガス中のオ
ゾンを選択的に液化するための冷凍手段と、貯留槽から
処理装置へオゾンガスを輸送するための配管とを有して
いるオゾンビーム発生装置において、前記貯留槽が、前
記オゾン化手段からオゾン含有ガスが導かれる第1室
と、オゾンガスを輸送するための配管の基端側が接続さ
れた第2室とに区分されていると共に、第1室と第2室
の底部が連通しており、かつ、貯留槽内で液化されたオ
ゾンによって底部の連通部分を通過するオゾンガスを遮
断できるようにしてあることを特徴とするオゾンビーム
発生装置である。
【0008】また本発明のオゾンビーム発生方法は、酸
素を含有するガスをオゾン化してオゾン含有ガスとした
後、オゾン含有ガス中のオゾンを選択的に液化して貯留
し、貯留した液化オゾンを気化させて配管を通してオゾ
ンビームとして処理装置へ導くようにしたオゾンビーム
発生方法において、液化したオゾンの貯留と、貯留した
液化オゾンの気化を内部が第1室と第2室に区分された
一つの貯留槽で同時に行うようにしたことを特徴とする
オゾンビーム発生方法である。
【0009】
【作用】本発明のオゾンビーム発生方法及び装置によれ
ば、オゾンの液化と、液化されたオゾンの気化が同時
に、しかも連続して行われるので、酸化処理や表面処理
プロセスは、中断することなく連続して行うことが可能
になる。
【0010】
【実施例】以下、本発明の実施例を添付の図を参照して
説明する。
【0011】図1が実施例のオゾンビーム発生装置の構
成を表している。このオゾンビーム発生装置は、液化し
たオゾンを貯留するための貯留槽1が独特の構成となっ
ている。即ち、オゾン含有ガスが導かれる第1室2と、
液化したオゾンを気化できるようにした第2室3とに区
分されており、第1室2と第2室3が貯留槽1の底部に
おいて互いに連通しており、第1室2で液化されたオゾ
ンは第2室3側に流動できるようにしてある。
【0012】貯留槽1の第1室2には、オゾン含有ガス
を導入するための配管4が挿入してあり、この配管4に
流量調整バルブ5を介して微粒子除去フィルタ6、オゾ
ナイザー7、マスフローコントローラ8が順次連結さ
れ、マスフローコントローラ8側から酸素ボンベ9の酸
素を供給できるようにしてある。また、オゾン含有ガス
が導入される第1室2は、バルブ10を介設した配管1
1にオゾンキラー12、冷却・排気系13が順次連結し
てあり、第1室2を所定の圧力に排気できるようにして
ある。冷却・排気系13を通して排出されるガスはダク
ト14を通して外部に放出されるようにしてある。
【0013】貯留槽1の第2室3には、処理装置15に
挿入したパイプ16にコンダクタンスバルブ17を介し
て先端側を連結した配管18の基端側が連結してある。
そして、この配管18と、第1室2に連結した配管11
の間にバイパスバルブ19が連結してある。また、前記
配管18には圧力ゲージ20が設けてあり、第2室3の
圧力を測定できるようにしてある。更に、配管18に安
全破裂板21が設けてあり、万一の爆発に対処できるよ
うにしてある。
【0014】貯留槽1の底部における第1室2と第2室
3の連通部分22には、冷凍機23で冷却されるコール
ドヘッド24を熱接触させてある。そして、コールドヘ
ッド24にはヒータ25を設けて、測温・制御装置26
によって連通部分22の温度を所定の温度に正確に制御
できるようにしてある。冷凍機23とコールドヘッド2
4並びにヒータ25と測温・制御装置26でオゾン含有
ガス中のオゾンを選択的に液化するための冷凍手段が構
成されているものである。
【0015】前記処理装置15は、真空ポンプ27で内
部を真空排気できるようにされ、内部に挿入されたパイ
プ16と対向するようにして処理基板28を設置できる
ようにされている。
【0016】図2は、上記の貯留槽1の部分をより詳細
に示した図である。貯留槽1は太径の外筒29の内側に
細径の内筒30を配して構成され、内筒30の内側が第
1室2に、外筒29と内筒30の間が第2室3にされて
いる。内筒30の下端が外筒29の底部で開放して連通
部分22を構成している。
【0017】上記実施例のオゾンビーム発生装置は、先
ず、流量調整バルブ5とコンダクタンスバルブ17を閉
じる一方、バイパスバルブ19及びバルブ10を開けた
状態で冷却・排気系13によって貯留槽1内を十分に真
空排気する。この真空排気が完了した後、流量調整バル
ブ5を開けてオゾナイザー7を通して得られるオゾン含
有ガスを第1室2に導き、第1室2内が所定の圧力に保
たれるようにする。これと同時に、冷凍機23を運転し
てコールドヘッド24を介して貯留槽1の底部が冷却さ
れるようにすると共に、測温・制御装置26で底部の温
度が、オゾン含有ガス中のオゾンが選択的に液化される
所定の温度(80〜100K)になるようにヒータ25
を適宜動作するように制御する。
【0018】上記のようにして運転を連続して行うと、
貯留槽1の底部の連通部分22に選択的に液化されたオ
ゾンが時間の経過と共に溜まっていく。液化されなかっ
たオゾンと酸素の混合されたガスは、オゾンキラー12
を通して冷却・排気系13側に排気されて外部に放出さ
れる。液化されたオゾンは貯留槽1の底部に溜まり、液
面が鎖線31のように第1室2の底の開口部分よりも上
昇すると連通部分22は液化されたオゾンで満たされ
て、第2室3から第1室2へのオゾンガスの流通が遮断
された状態になる。
【0019】液化されたオゾンによって連通部分22が
十分に遮断された後、貯留槽1の底部の連通部分22の
温度が、オゾンガスの液化と、液化されたオゾンの気化
とが同時に行われる条件(例えば95K)が満たされる
ように、測温・制御装置26を動作させると共に、バイ
パスバルブ19を閉じ、かつ、コンダクタンスバルブ1
7を開方向に調整することによって、処理装置15内で
処理基板28に所望流量のオゾンビームを得ることがで
きる。液化されたオゾンの気化によって鎖線で示した液
面31は低下方向に変位することになるが、第1室2に
導入されているオゾンを含有するガス中のオゾンの選択
的な液化も継続的に行われて補充されるので、液面31
が低下して気化したオゾンガスが連通部分22を通して
第1室2側に流通することを防止し、オゾンビームを連
続的に得ることが可能である。従って、処理基板28側
の酸化処理プロセスやオゾンガスの酸化力を利用した表
面処理プロセスも連続して行うことができる。
【0020】オゾンを気化させる第2室3の圧力は圧力
ゲージ20で監視することができるので、危険な圧力に
なった時には、コンダクタンスバルブ17を閉じると共
に、バイパスバルブ19を開けてオゾンガスを排気し危
険を回避することができる。
【0021】貯留槽1の底部において、オゾン含有ガス
中のオゾンの選択的な液化と、液化されたオゾンの気化
とを効率よくできるようにするために、第1室2の底部
と第2室3の底部に温度差(約5K)が形成できるよう
にしても良い。コールドヘッド24が接触する面積に差
をつけたり、接触する材料を変化させて、熱伝達効率が
異なるようにする。また、コールドヘッド25に設けた
ヒータ26を、第1室2側と第2室3側の二つに区分
し、それぞれを個別に温度制御するようにしても良い。
図2には、接触する材料を変化させた場合を表してい
る。第2室3側に接触するコールドヘッド24の一部分
24aを、他の部分よりも熱伝達率が低い材質で構成し
てある。このように構成することによって、第1室2側
を第2室3側よりも低い温度に制御することができ、オ
ゾンの選択的液化を促進して、液化されたオゾンの気化
によって消費される量が液化されるオゾンの量を上回ら
ないようにし、オゾンビームが連続して得られる時間を
実質的に無限とすることができる。
【0022】図3には、貯留槽1の他の実施例の構造が
示してある。前記実施例では、外筒29と内筒30によ
って区分された第1室2と第2室3を構成したが、この
実施例では、断面円形の二つの筒体32a、32bを底
部の連通部分22で連通させて貯留槽1を構成してい
る。一方の筒体32a内が第1室2とされて内側に配管
4が挿入され、オゾンを含有するガスを導入できるよう
にしてある。他方の筒体32b内が第2室3とされて第
1室2側で液化されたオゾンが連通部分22を通して供
給されるようにしてある。この実施例の貯留槽1を用い
ても前記と同様のオゾンビーム発生装置を構成すること
が可能で、同様の操作によってオゾンビームを連続的に
得ることができる。
【0023】
【発明の効果】以上に説明の通り、本発明のオゾンビー
ム発生方法と装置によれば、オゾンビームを中断するこ
となく連続して得ることが可能であるので、オゾンの酸
化力を利用した酸化プロセスや表面処理プロセスなどの
作業能率を著しく向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施例のオゾンビーム発生装置の構
成図である。
【図2】 同じく実施例の貯留槽の部分の断面図であ
る。
【図3】 本発明の他の実施例の貯留槽の部分の断面図
である。
【図4】 従来のオゾンビーム発生装置の構成図であ
る。
【符号の説明】
1 貯留槽 2 第1室 3 第2室 4 配管 5 流量調整バルブ 6 微粒子除去フィルタ 7 オゾナイザー 8 マスフローコントローラ 9 酸素ボンベ 10 バルブ 11 配管 12 オゾンキラー 13 冷却・排気系 14 ダクト 15 処理装置 16 パイプ 17 コンダクタンスバルブ 18 配管 19 バイパスバルブ 20 圧力ゲージ 21 安全破裂板 22 連通部分 23 冷凍機 24 コールドヘッド 24a コールドヘッドの一部分 25 ヒータ 26 測温・制御装置 27 真空ポンプ 28 処理基板 29 外筒 30 内筒 31 液面 32a、32b 筒体
フロントページの続き (72)発明者 北條久男 東京都武蔵野市境2−21−16

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 酸素を含有するガスをオゾン化してオ
    ゾン含有ガスにするためのオゾン化手段7と、 このオゾン化手段7の配管4が接続されている貯留槽1
    と、 貯留槽1内のオゾン含有ガス中のオゾンを選択的に液化
    するための冷凍手段23、24、25、26と、 貯留槽1から処理装置15へオゾンガスを輸送するため
    の配管18とを有しているオゾンビーム発生装置におい
    て、 前記貯留槽1が、前記オゾン化手段7からオゾン含有ガ
    スが導かれる第1室2と、オゾンガスを輸送するための
    配管18の基端側が接続された第2室3とに区分されて
    いると共に、第1室2と第2室3の底部が連通してお
    り、かつ、貯留槽1内で液化されたオゾンによって底部
    の連通部分22を通過するオゾンガスを遮断できるよう
    にしてあることを特徴とするオゾンビーム発生装置。
  2. 【請求項2】 貯留槽1は、外筒29内に内筒30を
    配して構成され、内筒30内を第1室2に、外筒29と
    内筒30の間を第2室3にしてある請求項1に記載のオ
    ゾンビーム発生装置。
  3. 【請求項3】 貯留槽1は、2つの筒体32a、32
    bを底部で連通させて構成され、一方の筒体32a内を
    第1室2に、他方の筒体32b内を第2室3にしてある
    請求項1に記載のオゾンビーム発生装置。
  4. 【請求項4】 冷凍手段は、貯留槽1の第1室2と第
    2室3を、個別に温度制御できるようにしてある請求項
    1に記載のオゾンビーム発生装置。
  5. 【請求項5】 酸素を含有するガスをオゾン化してオ
    ゾン含有ガスとした後、オゾン含有ガス中のオゾンを選
    択的に液化して貯留し、貯留した液化オゾンを気化させ
    て配管を通してオゾンビームとして処理装置へ導くよう
    にしたオゾンビーム発生方法において、 液化したオゾンの貯留と、貯留した液化オゾンの気化を
    内部が第1室2と第2室3に区分された一つの貯留槽1
    で同時に行うようにしたことを特徴とするオゾンビーム
    発生方法。
  6. 【請求項6】 第1室2におけるオゾン含有ガス中の
    オゾンの選択的な液化と、第2室3における液化された
    オゾンの気化を同一の温度条件で行う請求項5に記載の
    オゾンビーム発生方法。
  7. 【請求項7】 第1室2におけるオゾン含有ガス中の
    オゾンの選択的な液化と、第2室3における液化された
    オゾンの気化を異なる温度条件で行う請求項5に記載の
    オゾンビーム発生方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008004321A1 (fr) * 2006-07-04 2008-01-10 Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Systems Corporation Appareil et procédé de concentration et dilution de gaz spécifique
JP2008007337A (ja) * 2006-06-27 2008-01-17 Sumitomo Heavy Ind Ltd オゾン濃縮装置
JP2013256398A (ja) * 2012-06-12 2013-12-26 National Institute For Materials Science オゾンビーム発生装置
JP2023006547A (ja) * 2021-06-30 2023-01-18 Jswアクティナシステム株式会社 レーザ照射装置、情報処理方法、及びプログラム

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008007337A (ja) * 2006-06-27 2008-01-17 Sumitomo Heavy Ind Ltd オゾン濃縮装置
WO2008004321A1 (fr) * 2006-07-04 2008-01-10 Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Systems Corporation Appareil et procédé de concentration et dilution de gaz spécifique
WO2008004278A1 (fr) * 2006-07-04 2008-01-10 Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Systems Corporation Procédé et dispositif de concentration / dilution de gaz spécifique
US8500874B2 (en) 2006-07-04 2013-08-06 Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Systems Corporation Apparatus for concentrating and diluting specific gas and method for concentrating and diluting specific gas
JP2013256398A (ja) * 2012-06-12 2013-12-26 National Institute For Materials Science オゾンビーム発生装置
JP2023006547A (ja) * 2021-06-30 2023-01-18 Jswアクティナシステム株式会社 レーザ照射装置、情報処理方法、及びプログラム
US12479050B2 (en) 2021-06-30 2025-11-25 Jsw Aktina System Co., Ltd. Laser irradiation apparatus, information processing method, and recording medium recording program to be readable

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