JPH11199311A - 陶磁器質セラミックスの製造方法及び陶磁器質セラミックス - Google Patents
陶磁器質セラミックスの製造方法及び陶磁器質セラミックスInfo
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- JPH11199311A JPH11199311A JP10008538A JP853898A JPH11199311A JP H11199311 A JPH11199311 A JP H11199311A JP 10008538 A JP10008538 A JP 10008538A JP 853898 A JP853898 A JP 853898A JP H11199311 A JPH11199311 A JP H11199311A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/60—Production of ceramic materials or ceramic elements, e.g. substitution of clay or shale by alternative raw materials, e.g. ashes
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 低収縮率、低吸水率であり、その結果として
閉気孔率が高く、しかも焼成温度や成形体の充填等の製
造条件のばらつきの影響の小さい陶磁器質セラミックス
の製造方法を提供する。 【解決手段】 タルク:40〜65wt%、粘土:5
〜30wt%、ガラス屑:5〜45wt%、長石:0〜
30wt%、珪砂及び/又はシャモット:0〜25wt
%よりなる原料を混合し、成形及び焼成する。
閉気孔率が高く、しかも焼成温度や成形体の充填等の製
造条件のばらつきの影響の小さい陶磁器質セラミックス
の製造方法を提供する。 【解決手段】 タルク:40〜65wt%、粘土:5
〜30wt%、ガラス屑:5〜45wt%、長石:0〜
30wt%、珪砂及び/又はシャモット:0〜25wt
%よりなる原料を混合し、成形及び焼成する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はタイル、食器等の陶
磁器質セラミックスとその製造方法に係り、特に焼成収
縮が小さく、閉気孔率が高く吸水率が小さい陶磁器質セ
ラミックスとその製造方法に関する。
磁器質セラミックスとその製造方法に係り、特に焼成収
縮が小さく、閉気孔率が高く吸水率が小さい陶磁器質セ
ラミックスとその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】タルクを主原料としたステアタイト系陶
磁器は、吸水率3%以下となるまで焼き締めても、焼成
収縮が小さいことが知られている。このことは、特公昭
60−48268号公報第1欄第19行〜第2欄第1行
に記載されるように、成形時の粒子間隙が焼成後も閉気
孔として残っていることが原因と考えられている。な
お、閉気孔率とは、外形容積中の閉気孔容積の比率であ
り、
磁器は、吸水率3%以下となるまで焼き締めても、焼成
収縮が小さいことが知られている。このことは、特公昭
60−48268号公報第1欄第19行〜第2欄第1行
に記載されるように、成形時の粒子間隙が焼成後も閉気
孔として残っていることが原因と考えられている。な
お、閉気孔率とは、外形容積中の閉気孔容積の比率であ
り、
【0003】
【数1】
【0004】で算出される。ここで、W1:試料の乾燥
重量、W2:減圧吸水後の試料の水中重量、W3:減圧
吸水後の試料の重量、D:試料の真比重である。なお、
減圧吸水は、ISO10545−3の真空法に準拠して
行う。
重量、W2:減圧吸水後の試料の水中重量、W3:減圧
吸水後の試料の重量、D:試料の真比重である。なお、
減圧吸水は、ISO10545−3の真空法に準拠して
行う。
【0005】また、ステアタイト系陶磁器の閉気孔の構
造は、特公平2−36543号公報第2図にあるよう
に、空洞孔が微細気孔によつてタイル表面とつながって
いることが知られている。
造は、特公平2−36543号公報第2図にあるよう
に、空洞孔が微細気孔によつてタイル表面とつながって
いることが知られている。
【0006】ステアタイト系陶磁器の製造方法として
は、特公昭60−48268号公報、特公平2−365
43号公報等があるが、いずれもタルクを主原料とし、
成形助材として粘土、ベントナイトを、フラックスとし
て長石を使用している。このようにステアタイト系陶磁
器では、フラックスとして、長石を用いるのが一般的で
ある。この場合、焼成温度の1100〜1250℃は長
石が溶融を開始する温度領域であるため、まだ、フラッ
クス分の溶融粘性が高く、図1−Aのように、フラック
スによって埋められていない微細気孔が多く存在する。
このような素地の吸水を下げようとする場合、フラック
ス量を増加するか、焼成温度を上昇させることが一般的
であるが、この場合、収縮率が大きくなる難点がある。
この他にも、長石の溶融開始温度付近で焼成するため、
炉内の温度ばらつきや、原料の粉砕粒度、成形圧力のば
らつきに起因する成形体の充填等の微妙な違いで収縮
率、吸水率が変化しやすく、このため寸法や吸水率のば
らつきが大きくなるという問題もある。
は、特公昭60−48268号公報、特公平2−365
43号公報等があるが、いずれもタルクを主原料とし、
成形助材として粘土、ベントナイトを、フラックスとし
て長石を使用している。このようにステアタイト系陶磁
器では、フラックスとして、長石を用いるのが一般的で
ある。この場合、焼成温度の1100〜1250℃は長
石が溶融を開始する温度領域であるため、まだ、フラッ
クス分の溶融粘性が高く、図1−Aのように、フラック
スによって埋められていない微細気孔が多く存在する。
このような素地の吸水を下げようとする場合、フラック
ス量を増加するか、焼成温度を上昇させることが一般的
であるが、この場合、収縮率が大きくなる難点がある。
この他にも、長石の溶融開始温度付近で焼成するため、
炉内の温度ばらつきや、原料の粉砕粒度、成形圧力のば
らつきに起因する成形体の充填等の微妙な違いで収縮
率、吸水率が変化しやすく、このため寸法や吸水率のば
らつきが大きくなるという問題もある。
【0007】ステアタイト系陶磁器にガラスを使用する
製造方法として、特公昭61−27347号公報には、
タルク35〜50重量部、ろう石17.5〜35重量
部、長石またはセリサイト17.5〜37.5重量部、
ベントナイト10重量部を混合、成形及び焼成する方法
が記載されている。なお、同号公報第4欄第18〜23
行には、さらに板ガラス、びんガラス等のカレットを添
加してもよいと記載されているが、このガラスカレット
の具体的な添加量については記載がない。
製造方法として、特公昭61−27347号公報には、
タルク35〜50重量部、ろう石17.5〜35重量
部、長石またはセリサイト17.5〜37.5重量部、
ベントナイト10重量部を混合、成形及び焼成する方法
が記載されている。なお、同号公報第4欄第18〜23
行には、さらに板ガラス、びんガラス等のカレットを添
加してもよいと記載されているが、このガラスカレット
の具体的な添加量については記載がない。
【0008】特開昭55−113662号公報には、ガ
ラス屑約50wt%、タルク約40wt%、ベントナイ
ト約10wt%を混合、成形、焼成する陶磁器の製造方
法が記載されている。これは600〜1000℃で低温
焼成し寸法精度向上を図るためのものであるが、吸水率
が3%以上の場合ガラスの溶融量が少なく、素地の強度
を出しているエンスタタイトやムライトもこの温度では
ほとんど生成しないため十分な強度が得られない。ま
た、吸水率3%以下に焼き締めた場合、ガラスが多いた
め溶融粘性が低くなり、焼成時に素地が変形するという
問題がある。さらに、タルクは900〜1000℃で脱
水するため、この温度で焼成した場合、ガラス添加量が
50%と多いが、最高温度付近でタイル表面が溶融した
ガラスにおおわれてしまい、脱水した水蒸気がタイル中
から出られなくなり、タイル自体がレンズ状に膨らんで
しまう。また、1000℃以下で焼成する場合、一般に
その温度域で使用可能な釉薬の耐薬品性が悪くなるとい
う難点もある。
ラス屑約50wt%、タルク約40wt%、ベントナイ
ト約10wt%を混合、成形、焼成する陶磁器の製造方
法が記載されている。これは600〜1000℃で低温
焼成し寸法精度向上を図るためのものであるが、吸水率
が3%以上の場合ガラスの溶融量が少なく、素地の強度
を出しているエンスタタイトやムライトもこの温度では
ほとんど生成しないため十分な強度が得られない。ま
た、吸水率3%以下に焼き締めた場合、ガラスが多いた
め溶融粘性が低くなり、焼成時に素地が変形するという
問題がある。さらに、タルクは900〜1000℃で脱
水するため、この温度で焼成した場合、ガラス添加量が
50%と多いが、最高温度付近でタイル表面が溶融した
ガラスにおおわれてしまい、脱水した水蒸気がタイル中
から出られなくなり、タイル自体がレンズ状に膨らんで
しまう。また、1000℃以下で焼成する場合、一般に
その温度域で使用可能な釉薬の耐薬品性が悪くなるとい
う難点もある。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、耐凍害性を
有し、低収縮率、低吸水率であり、その結果として閉気
孔率が高く、しかも焼成温度や成形体の充填等の製造条
件のばらつきの影響の小さい陶磁器質セラミックスの製
造方法を提供することを目的とする。
有し、低収縮率、低吸水率であり、その結果として閉気
孔率が高く、しかも焼成温度や成形体の充填等の製造条
件のばらつきの影響の小さい陶磁器質セラミックスの製
造方法を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の陶磁器質セラミ
ックスの製造方法は、 タルク 40〜65wt% 粘土 5〜30wt% ガラス屑 5〜45wt% 長石 0〜30wt% 珪砂及び/又はシャモット 0〜25wt% よりなる原料を混合し、成形及び焼成することを特徴と
するものである。
ックスの製造方法は、 タルク 40〜65wt% 粘土 5〜30wt% ガラス屑 5〜45wt% 長石 0〜30wt% 珪砂及び/又はシャモット 0〜25wt% よりなる原料を混合し、成形及び焼成することを特徴と
するものである。
【0011】本発明はタルク−粘土系主原料に対しガラ
スを適切量配合することにより、上記目的を達成するこ
とを見いだして完成されたものである。
スを適切量配合することにより、上記目的を達成するこ
とを見いだして完成されたものである。
【0012】
【発明の実施の形態】まず本発明の原料の配合組成につ
いて説明する。
いて説明する。
【0013】本発明では、上記の通り、タルク40〜6
5wt%、粘土5〜30wt%、ガラス屑5〜45wt
%、長石0〜30wt%、珪砂及び/またはシャモット
0〜25wt%という配合を採用する。
5wt%、粘土5〜30wt%、ガラス屑5〜45wt
%、長石0〜30wt%、珪砂及び/またはシャモット
0〜25wt%という配合を採用する。
【0014】このタルクはステアタイト系素地を形成す
る主原料である。このタルクの割合が40wt%より少
ないと、成形時の充填密度が低くなり、その結果、焼成
収縮が大きくなる。また、タルクが65wt%以上にな
ると、素地が過度に高耐火度のものとなり焼成温度が過
度に高くなる。この場合、焼成温度を1100〜125
0℃とした場合には、焼成が不十分となり、陶磁器の吸
水率が上昇してしまう。タルクの特に好ましい範囲は4
5〜55wt%である。
る主原料である。このタルクの割合が40wt%より少
ないと、成形時の充填密度が低くなり、その結果、焼成
収縮が大きくなる。また、タルクが65wt%以上にな
ると、素地が過度に高耐火度のものとなり焼成温度が過
度に高くなる。この場合、焼成温度を1100〜125
0℃とした場合には、焼成が不十分となり、陶磁器の吸
水率が上昇してしまう。タルクの特に好ましい範囲は4
5〜55wt%である。
【0015】粘土は成形助剤として機能するものであ
り、木節粘土、蛙目粘土、ベントナイト等を用いる。粘
土の割合が5wt%未満では成形体の強度が低い。一
方、粘土が30wt%よりも多くなると、溶融粘性が低
くなり、焼成時に素地の変形が大きくなる。粘土の配合
量は7〜25wt%、特に10〜20wt%が好まし
い。
り、木節粘土、蛙目粘土、ベントナイト等を用いる。粘
土の割合が5wt%未満では成形体の強度が低い。一
方、粘土が30wt%よりも多くなると、溶融粘性が低
くなり、焼成時に素地の変形が大きくなる。粘土の配合
量は7〜25wt%、特に10〜20wt%が好まし
い。
【0016】ガラス屑は焼成温度を低下させるととも
に、収縮率を大きくしないで、焼成体の吸水率を低下さ
せる働きを有するものであるが、45wt%よりも多い
と1100〜1250℃の範囲では、焼成時に素地が溶
融して変形が大きくなる。一方、ガラス屑の添加量が5
wt%よりも少ないとガラス屑添加の効果が不十分とな
る。ガラス屑の特に好ましい配合量は7〜25wt%、
特に10〜20wt%である。
に、収縮率を大きくしないで、焼成体の吸水率を低下さ
せる働きを有するものであるが、45wt%よりも多い
と1100〜1250℃の範囲では、焼成時に素地が溶
融して変形が大きくなる。一方、ガラス屑の添加量が5
wt%よりも少ないとガラス屑添加の効果が不十分とな
る。ガラス屑の特に好ましい配合量は7〜25wt%、
特に10〜20wt%である。
【0017】このガラス屑としては、ガラスが溶融し液
状を示す作業点が1050℃以下であるものが望まし
い。特に板ガラス屑、びんガラス屑等のソーダ石灰ガラ
スが望ましい。
状を示す作業点が1050℃以下であるものが望まし
い。特に板ガラス屑、びんガラス屑等のソーダ石灰ガラ
スが望ましい。
【0018】長石はフラックス成分となるものである。
この長石は任意添加成分であり、添加しなくてもよい。
長石を30wt%以下とし、とくに15wt%以下とす
るのが好ましい。
この長石は任意添加成分であり、添加しなくてもよい。
長石を30wt%以下とし、とくに15wt%以下とす
るのが好ましい。
【0019】珪砂、シャモットは増量剤として用いられ
るものであり、任意添加成分である。珪砂、シャモット
の割合が25wt%よりも大きくなると吸水率が高くな
るので、珪砂、シャモットの量は合量で25wt%以下
とする。
るものであり、任意添加成分である。珪砂、シャモット
の割合が25wt%よりも大きくなると吸水率が高くな
るので、珪砂、シャモットの量は合量で25wt%以下
とする。
【0020】珪砂、シャモットについては、同じ役割を
するものとして、石英ガラス等のSiO2分の多いガラ
スを用いることも可能である。
するものとして、石英ガラス等のSiO2分の多いガラ
スを用いることも可能である。
【0021】本発明では、これらの原料を、混合した後
成形し、焼成する。混合、焼成の方法は特に制限はな
い。焼成温度は1050〜1250℃、特に1160〜
1230℃が好ましい。
成形し、焼成する。混合、焼成の方法は特に制限はな
い。焼成温度は1050〜1250℃、特に1160〜
1230℃が好ましい。
【0022】本発明方法においては、ガラス屑の割合を
5〜45wt%とし、焼成温度を1050〜1250℃
とすることにより、好ましくはガラス屑の割合を5〜3
5wt%として焼成温度を1160〜1230℃とする
ことにより、焼成収縮が飽和吸水率5%のとき2.4%
以下、閉気孔率12%以上、飽和吸水率1%のとき3.
5%以下、閉気孔率19.0%以上のきわめて低い収縮
率の陶磁器を製造することが可能となる。なお、飽和吸
水率はISO 10545−3の煮沸法に準拠する。
5〜45wt%とし、焼成温度を1050〜1250℃
とすることにより、好ましくはガラス屑の割合を5〜3
5wt%として焼成温度を1160〜1230℃とする
ことにより、焼成収縮が飽和吸水率5%のとき2.4%
以下、閉気孔率12%以上、飽和吸水率1%のとき3.
5%以下、閉気孔率19.0%以上のきわめて低い収縮
率の陶磁器を製造することが可能となる。なお、飽和吸
水率はISO 10545−3の煮沸法に準拠する。
【0023】この理由としては以下のようである。陶磁
器の寸法精度を上げる一つの方法として、前述したよう
に、焼成後の素地中の閉気孔を増やすことにより、かさ
密度を下げる方法がある。タルクを用いた素地には、特
公平2−36543号公報第2図にあるように、素地中
に空洞孔と微細気孔を持つことが知られている。今回使
用しているガラスは、焼成温度の1100℃以上での溶
融粘性が低いため、長石と比べ微細気孔を埋めやすい。
このため、図1に示すように、長石を使用した場合に、
微細気孔を介して外部とつながっている内部気孔が、ガ
ラスを用いた場合閉気孔となる。このため、閉気孔率が
増加し、かさ密度が下がるため、低収縮となり、寸法精
度が上がっているのである。また、1050℃以上の温
度で焼成しているためエンスタタイトが生成され、ま
た、1160℃以上で焼成する場合には、ムライトも生
成されるため、十分な強度が得られる。
器の寸法精度を上げる一つの方法として、前述したよう
に、焼成後の素地中の閉気孔を増やすことにより、かさ
密度を下げる方法がある。タルクを用いた素地には、特
公平2−36543号公報第2図にあるように、素地中
に空洞孔と微細気孔を持つことが知られている。今回使
用しているガラスは、焼成温度の1100℃以上での溶
融粘性が低いため、長石と比べ微細気孔を埋めやすい。
このため、図1に示すように、長石を使用した場合に、
微細気孔を介して外部とつながっている内部気孔が、ガ
ラスを用いた場合閉気孔となる。このため、閉気孔率が
増加し、かさ密度が下がるため、低収縮となり、寸法精
度が上がっているのである。また、1050℃以上の温
度で焼成しているためエンスタタイトが生成され、ま
た、1160℃以上で焼成する場合には、ムライトも生
成されるため、十分な強度が得られる。
【0024】
【実施例】実施例1、比較例1〜4 タルク、ベントナイト、粘土、珪砂、ガラス屑、長石、
蝋石を表1の割合で配合した。ここで、比較例1,2及
び比較例3,4はそれぞれ、特公昭60−48468号
公報、特公昭61−27347号公報に記載されたもの
である。これをボールミルで4hr粉砕、混合後、乾
燥、含水、造粒し、プレス成形(面圧30MPa)し、
100×100×5mmの成形体とした。これを迅速焼
成炉で1100℃、30分の条件で素焼きを行い、施釉
後、1200℃、50分で迅速焼成した。この焼成に伴
う収縮量を測定して収縮率を計算するとともに、飽和吸
水率、閉気孔率を測定した。結果を表1に示す。
蝋石を表1の割合で配合した。ここで、比較例1,2及
び比較例3,4はそれぞれ、特公昭60−48468号
公報、特公昭61−27347号公報に記載されたもの
である。これをボールミルで4hr粉砕、混合後、乾
燥、含水、造粒し、プレス成形(面圧30MPa)し、
100×100×5mmの成形体とした。これを迅速焼
成炉で1100℃、30分の条件で素焼きを行い、施釉
後、1200℃、50分で迅速焼成した。この焼成に伴
う収縮量を測定して収縮率を計算するとともに、飽和吸
水率、閉気孔率を測定した。結果を表1に示す。
【0025】実施例2、比較例5 タルク、木節粘土、板ガラス屑、長石及び珪砂を表2の
割合で配合し、実施例1、比較例1〜4と同様の方法で
粉砕から素焼きを行い、施釉後、1170,1190,
または1210℃、50分で迅速焼成した。この焼成に
伴う収縮率、飽和吸水率を測定した。結果を表2に示
す。また、相関関係を図2にまとめた。
割合で配合し、実施例1、比較例1〜4と同様の方法で
粉砕から素焼きを行い、施釉後、1170,1190,
または1210℃、50分で迅速焼成した。この焼成に
伴う収縮率、飽和吸水率を測定した。結果を表2に示
す。また、相関関係を図2にまとめた。
【0026】実施例3、比較例6 タルク、木節粘土、板ガラス屑、長石、珪砂を表3の割
合で配合し、ボールミルで平均粒径(D50)が12ミ
クロンになるまで粉砕し、乾燥、含水、造粒後、プレス
成形(面圧28,30,32MPa)し、100×10
0×5mmの成形体とした。これを迅速焼成炉で110
0℃、30分の条件で仮焼(素焼き)を行い、施釉後、
1200℃、50分で迅速焼成した。この焼成に伴う収
縮率と煮沸吸水率、閉気孔率を表3に示す。
合で配合し、ボールミルで平均粒径(D50)が12ミ
クロンになるまで粉砕し、乾燥、含水、造粒後、プレス
成形(面圧28,30,32MPa)し、100×10
0×5mmの成形体とした。これを迅速焼成炉で110
0℃、30分の条件で仮焼(素焼き)を行い、施釉後、
1200℃、50分で迅速焼成した。この焼成に伴う収
縮率と煮沸吸水率、閉気孔率を表3に示す。
【0027】実施例4〜6 タルク、木節粘土、板ガラス屑、シャモットを表4の割
合で配合し、ボールミルで4H粉砕し、乾燥、含水、造
粒後、プレス成形(面圧30MPa)し、100×10
0×8.5mmの成形体とした。これを施釉後、迅速焼
成炉でそれぞれの試料の飽和吸水率がほぼ、5%,1%
となる条件で焼成した。この焼成に伴う収縮率と煮沸吸
水率、閉気孔率を表4に示す。
合で配合し、ボールミルで4H粉砕し、乾燥、含水、造
粒後、プレス成形(面圧30MPa)し、100×10
0×8.5mmの成形体とした。これを施釉後、迅速焼
成炉でそれぞれの試料の飽和吸水率がほぼ、5%,1%
となる条件で焼成した。この焼成に伴う収縮率と煮沸吸
水率、閉気孔率を表4に示す。
【0028】
【表1】
【0029】実施例1は比較例1〜4と比較して閉気孔
率が高い。比較例1,2は低収縮だが飽和吸水率が高
く、その結果として閉気孔率が低い。比較例3,4と実
施例1はほぼ同じ飽和吸水率であるが、実施例1が最も
低収縮である。このことが閉気孔率の差に反映されてい
る。
率が高い。比較例1,2は低収縮だが飽和吸水率が高
く、その結果として閉気孔率が低い。比較例3,4と実
施例1はほぼ同じ飽和吸水率であるが、実施例1が最も
低収縮である。このことが閉気孔率の差に反映されてい
る。
【0030】
【表2】
【0031】実施例2と比較例5との対比から明らかな
とおり、ガラス屑を添加することにより収縮率及び飽和
吸水率がいずれも顕著に低下する。また、焼成温度が1
170〜1210℃の間で変えても変動幅が小さいこと
が認められる。また、どの温度水準でもガラス屑を用い
た方が閉気孔率が高い。
とおり、ガラス屑を添加することにより収縮率及び飽和
吸水率がいずれも顕著に低下する。また、焼成温度が1
170〜1210℃の間で変えても変動幅が小さいこと
が認められる。また、どの温度水準でもガラス屑を用い
た方が閉気孔率が高い。
【0032】
【表3】
【0033】実施例3と比較例4の対比から明らかなよ
うに、ガラスを用いた場合、長石を用いた時よりも圧
力、すなわち、成形体の充填の変化に対して収縮率、煮
沸吸水率の変化が小さいことがわかる。
うに、ガラスを用いた場合、長石を用いた時よりも圧
力、すなわち、成形体の充填の変化に対して収縮率、煮
沸吸水率の変化が小さいことがわかる。
【0034】
【表4】
【0035】実施例4〜6にあるように、ガラス量を増
やすことによって耐火度が下がり、より低い温度で飽和
吸水率を下げることが可能である。このことから、ガラ
ス添加量によって焼成温度をかえることにより、目的の
吸水をもった試料が得られることが分かる。
やすことによって耐火度が下がり、より低い温度で飽和
吸水率を下げることが可能である。このことから、ガラ
ス添加量によって焼成温度をかえることにより、目的の
吸水をもった試料が得られることが分かる。
【0036】
【発明の効果】以上の通り、本発明の陶磁器質セラミッ
クスの製造方法によると、低収縮率、低吸水率であり、
しかも焼成温度や素地の充填等の変化の影響が小さい陶
磁器を製造することができる。
クスの製造方法によると、低収縮率、低吸水率であり、
しかも焼成温度や素地の充填等の変化の影響が小さい陶
磁器を製造することができる。
【図1】長石、ガラスをフラックスとして用いた際の焼
成後の素地の概念を示した図である。
成後の素地の概念を示した図である。
【図2】実施例2、比較例5の測定結果を示すグラフで
ある。
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡本 健児 愛知県常滑市鯉江本町5丁目1番地 株式 会社イナックス内 (72)発明者 秋田 勝彦 東京都板橋区双葉町12−4
Claims (4)
- 【請求項1】 タルク 40〜65wt% 粘土 5〜30wt% ガラス屑 5〜45wt% 長石 0〜30wt% 珪砂及び/又はシャモット 0〜25wt% よりなる原料を混合し、成形及び焼成することを特徴と
する陶磁器質セラミックスの製造方法。 - 【請求項2】 請求項1において、焼成温度が1050
〜1250℃であることを特徴とする陶磁器質セラミッ
クスの製造方法。 - 【請求項3】 請求項2において、仮焼後、1050〜
1250℃で本焼成することを特徴とする陶磁器質セラ
ミックスの製造方法。 - 【請求項4】 請求項1ないし3のいずれか1項におい
て、ガラス屑の割合が5〜35wt%であり、焼成温度
が1160〜1230℃であることを特徴とする陶磁器
質セラミックスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10008538A JPH11199311A (ja) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | 陶磁器質セラミックスの製造方法及び陶磁器質セラミックス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10008538A JPH11199311A (ja) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | 陶磁器質セラミックスの製造方法及び陶磁器質セラミックス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11199311A true JPH11199311A (ja) | 1999-07-27 |
Family
ID=11695940
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10008538A Pending JPH11199311A (ja) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | 陶磁器質セラミックスの製造方法及び陶磁器質セラミックス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11199311A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007217929A (ja) * | 2006-02-15 | 2007-08-30 | Ig Tech Res Inc | 電波吸収体 |
| RU2477715C1 (ru) * | 2012-02-22 | 2013-03-20 | Юлия Алексеевна Щепочкина | Керамическая масса для производства пуговиц |
| KR101409186B1 (ko) * | 2012-11-09 | 2014-06-20 | 한국세라믹기술원 | 활석을 함유하는 경량도자기용 소지 조성물을 이용한 경량도자기의 제조방법 |
| RU2521107C1 (ru) * | 2013-06-14 | 2014-06-27 | Юлия Алексеевна Щепочкина | Масса для производства кирпича |
| JP2014166946A (ja) * | 2013-02-04 | 2014-09-11 | Takahama Industry Co Ltd | ガラス粉末及びガラス粉末を原料の一部とした陶磁器の製造方法 |
| JP2014227305A (ja) * | 2013-05-17 | 2014-12-08 | パナホーム株式会社 | 軽量タイルおよびその製造方法 |
| KR101713438B1 (ko) * | 2015-09-15 | 2017-03-07 | 권혁이 | 석탄폐석을 이용한 친환경 경량 타일의 제조방법 |
| JP2017154934A (ja) * | 2016-03-02 | 2017-09-07 | 黒崎播磨株式会社 | 遮熱タイル及びその製造方法 |
| CN111606699A (zh) * | 2020-06-04 | 2020-09-01 | 景德镇陶瓷大学 | 一种轻质多孔日用细瓷及其制备方法 |
| CN116553920A (zh) * | 2023-05-12 | 2023-08-08 | 清远市简一陶瓷有限公司 | 一种低温快烧瓷砖坯体及使用其的低温快烧大理石瓷砖的制备工艺 |
| EP4084958A4 (en) * | 2019-12-31 | 2024-02-21 | Seramic Materials Limited | CONSTRUCTION BASED ON INDUSTRIAL SOLID WASTE AND TECHNICAL CERAMICS |
-
1998
- 1998-01-20 JP JP10008538A patent/JPH11199311A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US11964914B2 (en) | 2019-12-31 | 2024-04-23 | Seramic Materials Limited | Industrial solid waste based construction and technical ceramics |
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| CN111606699B (zh) * | 2020-06-04 | 2023-01-24 | 景德镇陶瓷大学 | 一种轻质多孔日用细瓷及其制备方法 |
| CN116553920A (zh) * | 2023-05-12 | 2023-08-08 | 清远市简一陶瓷有限公司 | 一种低温快烧瓷砖坯体及使用其的低温快烧大理石瓷砖的制备工艺 |
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