JPH11199681A - 光重合性組成物および硬化塗膜形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 酸素による硬化阻害を受けずかつ硬化速度の
良好な光重合性組成物、特に顔料と共に使用しても良好
な硬化速度の得られる光重合性組成物およびこれを使用
した硬化塗膜形成方法を提供する。 【解決手段】 必須の構成成分として、（１）カチオン
重合性有機物質と、（２）エネルギー線感受性カチオン
重合開始剤と、（３）下記一般式、 （式中、Ｒは同一でも異なっていてもよく、メチル基ま
たはエチル基である。）で示される化合物を含有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光重合性組成物お
よび硬化塗膜形成方法に関し、詳しくはカチオン重合性
有機物質をエネルギー線感受性カチオン重合開始剤によ
って重合することのできる光重合性組成物に関し、さら
にこれを使用した硬化塗膜形成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】カチオン重合性有機物質をエネルギー線
感受性カチオン重合開始剤によって重合することは、酸
素の影響を受けないため硬化性が好ましく、従来から行
われている。しかし、かかるカチオン重合性有機物質の
硬化は、硬化速度の遅いことが問題であった。

【０００３】このため、硬化速度の速いラジカル重合性
物質およびエネルギー線感受性ラジカル重合開始剤を使
用することも行われたが、これは酸素による硬化阻害を
受けやすいものであった。

【０００４】また、光増感剤を使用することも行われた
が、光重合性組成物を顔料と共に使用したりすると、硬
化速度が不十分なものであった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の目的
は、酸素による硬化阻害を受けずかつ硬化速度の良好な
光重合性組成物を提供することにあり、特に顔料と共に
使用しても良好な硬化速度の得られる光重合性組成物お
よびこれを使用した硬化塗膜形成方法を提供することに
ある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意研究の結果、光増感剤とし特定のアン
トラセン化合物を用いることにより上記目的を達成し得
ることを見出し、本発明を完成するに至った。

【０００７】即ち、本発明の光重合性組成物は、必須の
構成成分として、（１）カチオン重合性有機物質と、
（２）エネルギー線感受性カチオン重合開始剤と、
（３）下記一般式、 （式中、Ｒは同一でも異なっていてもよく、メチル基ま
たはエチル基である。）で示される化合物を含有するこ
とを特徴とするものである。

【０００８】また、前記光重合性組成物において、さら
に（４）顔料を含有することを特徴とする光重合性組成
物である。

【０００９】さらに、前記光重合性組成物において、
（２）エネルギー線感受性カチオン重合開始剤の２００
〜５００ｎｍの範囲の吸光度曲線の全吸光面積に対して
３５０〜４５０ｎｍの範囲の吸光面積が１０％未満であ
ることを特徴とする光重合性組成物である。

【００１０】さらにまた、カチオン重合性組成物のうち
の４０重量％以上がシクロヘキセンオキシド構造を有す
る脂環式エポキシ化合物であることを特徴とする光重合
性組成物である。

【００１１】また、本発明は、前記光重合性組成物を２
００μｍ以下の厚さになるように塗布し、ここに３５０
ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長の光を０．１ｍＪ／ｃｍ
^２以上照射することを特徴とする硬化塗膜形成方法に関
する。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明に使用する（１）カチオン
重合性有機物質とは、エネルギー線照射により活性化し
たエネルギー線感受性カチオン重合開始剤により高分子
化または架橋反応を起こす化合物をいう。

【００１３】例えば、エポキシ化合物、環状エーテル化
合物、環状ラクトン化合物、環状アセタール化合物、環
状チオエーテル化合物、スピロオルソエステル化合物、
ビニル化合物などであり、これらの１種または２種以上
を使用することができる。中でも、入手するのが容易で
あり取扱いに便利なエポキシ化合物が適している。かか
るエポキシ化合物としては、芳香族エポキシ樹脂、脂環
族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂などが適してい
る。

【００１４】芳香族エポキシ樹脂の具体例としては、少
なくとも１個の芳香族環を有する多価フェノールまた
は、そのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジル
エーテル、例えばビスフェノールＡ、ビスフェノール
Ｆ、またこれらに更にアルキレンオキサイドを付加させ
た化合物のグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹
脂等が挙げられる。

【００１５】また、脂環族エポキシ樹脂の具体例として
は、少なくとも１個の脂環族環を有する多価アルコール
のポリグリシジルエーテルまたはシクロヘキセン、シク
ロペンテン環含有化合物を酸化剤でエポキシ化すること
によって得られるシクロヘキセンオキサイド構造含有化
合物または、シクロペンテンオキサイド構造含有化合
物、またはビニルシクロヘキサン構造を有する化合物を
酸化剤でエポキシ化することによって得られるビニルシ
クロヘキサンオキサイド構造含有化合物が挙げられる。
例えば、水素添加ビスフェノールＡジグリシジルエーテ
ル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−
エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、３，４−エ
ポキシ−１−メチルシクロヘキシル−３，４−エポキシ
−１−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、６−メ
チル−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−６−メ
チル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレー
ト、３，４−エポキシ−３−メチルシクロヘキシルメチ
ル−３，４−エポキシ−３−メチルシクロヘキサンカル
ボキシレート、３，４−エポキシ−５−メチルシクロヘ
キシルメチル−３，４−エポキシ−５−メチルシクロヘ
キサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシク
ロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シク
ロヘキサン−メタジオキサン、ビス（３，４−エポキシ
シクロヘキシルメチル）アジペート、ビニルシクロヘキ
センジオキサイド、４ −ビニルエポキシシクロヘキサ
ン、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシ
ルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチル
シクロヘキシルカルボキシレート、メチレンビス（３，
４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエン
ジエポキサイド、エチレングリコールジ（３，４−エポ
キシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス
（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレー
ト）、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポ
キシヘキサヒドロフタル酸ジ−２−エチルヘキシル等が
挙げられる。

【００１６】脂肪族エポキシ樹脂の具体例としては、脂
肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付
加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸の
ポリグリシジルエステル、脂肪族長鎖不飽和炭化水素を
酸化剤で酸化することによって得られるエポキシ含有化
合物、グリシジルアクリレートまたはグリシジルメタク
リレートのホモポリマー、グリシジルアクリレートまた
はグリシジルメタクリレートのコポリマー等が挙げられ
る。代表的な化合物として、１，４−ブタンジオールジ
グリシジルエーテル，１，６−ヘキサンジオールジグリ
シジルエーテル，グリセリンのトリグリシジルエーテ
ル、トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテ
ル、ソルビトールのテトラグリシジルエーテル、ジペン
タエルスリトールのヘキサグリシジルエーテル、ポリエ
チレングリコールのジグリシジルエーテル、ポリプロピ
レングリコールのジグリシジルエーテルなどの多価アル
コールのグリシジルエーテル。また、プロピレングリコ
ール，グリセリン等の脂肪族多価アルコールに１種また
は２種以上のアルキレンオキサイドを付加することによ
って得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジル
エーテル、脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル
が挙げられる。さらに、脂肪族高級アルコールのモノグ
リシジルエーテルやフェノール，クレゾール，ブチルフ
ェノール、またこれらにアルキレンオキサイドを付加す
ることによって得られるポリエーテルアルコールのモノ
グリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステ
ル、エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸オクチ
ル、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシ化アマニ
油、エポキシ化ポリブタジエン等が挙げられる。

【００１７】また、上記のエポキシ化合物のなかでは１
分子中に２個以上のエポキシ基を含有するものを、
（１）エネルギー線硬化性カチオン重合性有機化合物１
００重量部のうち、５０重量％以上用いるのが特に好ま
しい。残りの５０重量％以下の成分は、１分子中に１個
のエポキシ基を有するものや、以下に例示するエポキシ
化合物以外のカチオン重合性有機化合物を用いることが
できる。なお、エポキシ化合物以外のカチオン重合性化
合物と上記シクロヘキセンオキシド化合物の混合物も好
ましい。

【００１８】本発明で用いることができる（１）カチオ
ン重合性有機化合物のエポキシ化合物以外の具体例とし
ては、トリメチレンオキサイド、３，３−ジメチルオキ
セタン、３，３−ジクロロメチルオキセタン、３−メチ
ル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−エチル−３
−ヒドロキシメチルオキセタン、１，４−ビス〔（３−
エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル〕ベンゼン
等のオキセタン化合物、テトラヒドロフラン、２，３−
ジメチルテトラヒドロフラン等のオキソフラン化合物、
トリオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，６−ト
リオキサンシクロオクタン等の環状アセタール化合物、
β−プロピオラクトン、ε−カプロラクトン等の環状ラ
クトン化合物、エチレンスルフィド、チオエピクロロヒ
ドリン等のチイラン化合物、１，３−プロピンスルフィ
ド、３，３−ジメチルチエタン等のチエタン化合物、テ
トラヒドロチオフェン誘導体等の環状チオエーテル化合
物、エチレングリコールジビニルエーテル、アルキルビ
ニルエーテル、３，４−ジヒドロピラン−２−メチル
（３，４−ジヒドロピラン−２−カルボキシレート）、
トリエチレングリコールジビニルエーテル等のビニル化
合物、エポキシ化合物とラクトンの反応によって得られ
るスピロオルソエステル化合物、ビニルシクロヘキセ
ン、イソブチレン、ポリブタジエン等のエチレン性不飽
和化合物及び上記化合物の誘導体等が挙げられる。

【００１９】なお、本発明においては、（１）カチオン
重合性有機化合物として、上述したカチオン重合性物質
のうち１種または２種類以上の化合物を配合して使用す
ることができる。

【００２０】また、本発明における特に好ましい（１）
カチオン重合性有機物質の態様は、１分子中に少なくと
も２個以上のエポキシ基を有する脂環式エポキシ化合物
であり、最も好ましくは４０重量％以上がシクロヘキセ
ンオキサイド構造を有する脂環族エポキシ樹脂である
が、これに限定されるものではない。

【００２１】本発明に使用する（２）エネルギー線感受
性カチオン重合開始剤とは、エネルギー線照射によりカ
チオン重合を開始させる物質を放出することが可能な化
合物であり、特に好ましいものは、照射によってルイス
酸を放出するオニウム塩である複塩、またはその誘導体
である。かかる化合物の代表的なものとしては一般式、 ［Ａ］^ｍ＋［Ｂ］^ｍ− で表される陽イオンと陰イオンの塩を挙げることができ
る。

【００２２】ここで、陽イオンＡ^ｍ＋はオニウムである
のが好ましく、その構造は例えば、 ［（Ｒ^１）_ａＺ］^ｍ＋ で表すことができる。

【００２３】更にここで、Ｒ^１ は炭素数が１〜６０で
あり、炭素以外の原子をいくつ含んでもよい有機の基で
ある。ａは１〜５なる整数である。ａ個のＲ^１ は各々
独立で、同一でも異なっていてもよい。また、少なくと
も１つは、芳香環を有する上記の如き有機の基であるこ
とが好ましい。ＺはＳ、Ｎ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓ
ｂ、Ｂｉ、Ｏ、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｆ、Ｎ＝Ｎからなる群
から選ばれる原子あるいは原子団である。また、陽イオ
ンＡ^ｍ＋中のＺの原子価をｚとしたとき、ｍ＝ａ−ｚな
る関係が成り立つことが必要である。

【００２４】また、陰イオンＢ^ｍ−は、ハロゲン化物錯
体であるのが好ましく、その構造は例えば、 ［ＬＸ_ｂ］^ｍ− で表すことができる。

【００２５】更にここで、Ｌはハロゲン化物錯体の中心
原子である金属または半金属（Ｍｅｔａｌｌｏｉｄ ）
であり、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａ
ｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、
Ｃｏ等である。Ｘはハロゲンであ る。ｂは３〜７なる
整数である。また、陰イオンＢ^ｍ−中のＬの原子価をｐ
としたとき、ｍ＝ｂ−ｐなる関係が成り立つことが必要
である。

【００２６】上記一般式の陰イオン［ＬＸ_ｂ］^ｍ−の具
体例としてはテトラフルオロボレート（ＢＦ_４）⁻、ヘ
キサフルオロホスフェート（ＰＦ_６）⁻、ヘキサフルオ
ロアンチモネート（ＳｂＦ_６）⁻、ヘキサフルオロアル
セネート（ＡｓＦ_６）⁻、ヘキサクロロアンチモネート
（ＳｂＣｌ_６）⁻等が挙げられる。

【００２７】また、陰イオンＢ^ｍ−は、 ［ＬＸ_ｂ−１（ＯＨ）］^ｍ− で表される構造のものも好ましく用いることができる。
Ｌ、Ｘ、ｂは上記と同様である。また、その他用いるこ
とができる陰イオンとしては、過塩素酸イオン（ＣｌＯ
_４）⁻、トリフルオロメチル亜硫酸イオン（ＣＦ_３ＳＯ
_３）⁻、フルオロスルホン酸イオン（ＦＳＯ_３）⁻、ト
ルエンスルホン陰酸イオン、トリニトロベンゼンスルホ
ン酸陰イオン等が挙げられる。

【００２８】また、陰イオンＢ^ｍ−として、テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレートも好ましく使用す
ることができる。

【００２９】本発明では、この様なオニウム塩のなかで
も、芳香族オニウム塩を使用するのが特に有効である。
中でも、特開昭５０−１５１９９７号、特開昭５０−１
５８６８０号公報に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭
５０−１５１９９７号、特開昭５２−３０８９９号、特
開昭５６−５５４２０号、特開昭５５−１２５１０５号
公報等に記載のＶＩＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５０
−１５８６９８号公報記載のＶＡ族芳香族オニウム塩、
特開昭５６−８４２８号、特開昭５６−１４９４０２
号、特開昭５７−１９２４２９号公報等に記載のオキソ
スルホキソニウム塩、特開昭４９−１７０４０号記載の
芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第４１３９６５５号明
細書記載のチオビリリウム塩等が好ましい。また、その
他好ましいものとしては、鉄／アレン錯体やアルミニウ
ム錯体／光分解珪素化合物系開始剤等も挙げられる。

【００３０】これらの芳香族オニウム塩のなかでも特に
好ましいのは、陽イオンとして または （式中、Ｒは夫々同一でも異なっていてもよい水素原
子、ハロゲン原子、あるいは酸素原子またはハロゲン原
子を含んでもよい炭化水素基、もしくは置換基がついて
もよいアルコキシ基、Ａｒは１以上の水素原子が置換さ
れていてもよいフェニル基である。）で表される化合物
および（トリルクミル）ヨードニウム、ビス（ターシャ
リブチルフェニル）ヨードニウム、トリフェニルスルホ
ニウム等からなるものが挙げられる。例えば、４，４’
−ビス（ジ（β−ヒドロキシエトキシ）フェニルスルフ
ォニオ）フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロホ
スフェート、４−（４−ベンゾイル−フェニルチオ）フ
ェニル−ジ−（４−フルオロフェニル）スルホニウムヘ
キサフルオロホスフェート、４，４’−ビス（ジ（β−
ヒドロキシエトキシ）フェニルスルフォニオ）フェニル
スルフィド−ビス−ヘキサフルオロホスフェート、４，
４’−ビス（ジ（β−ヒドロキシエトキシ）フェニルス
ルホニオ）フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロ
アンチモネート、４，４’−ビス（ジフルオロフェニル
スルホニオ）フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオ
ロホスフェート、４，４’−ビス（ジフルオロフェニル
スルホニオ）フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオ
ロアンチモネート、４，４’−ビス（フェニルスルホニ
オ）フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロホスフ
ェート、４，４’−ビス（フェニルスルホニオ）フェニ
ルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネート、
４−（４−ベンゾイルフェニルチオ）フェニル−ジ−
（４−（β−ヒドロキシエトキシ）フェニル）スルホニ
ウムヘキサフルオロホスフェート、４−（４−ベンゾイ
ルフェニルチオ）フェニル−ジ−（４−（β−ヒドロキ
シエトキシ）フェニル）スルホニウムヘキサフルオロア
ンチモネート、４−（４−ベンゾイルフェニルチオ）フ
ェニル−ジ−（４−フルオロフェニル）スルホニウムヘ
キサフルオロホスフェート、４−（４−ベンゾイルフェ
ニルチオ）フェニル−ジ−（４−フルオロフェニル）ス
ルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−（４−
ベンゾイルフェニルチオ）フェニル−ジフェニルスルホ
ニウムヘキサフルオロホスフェート、４−（４−ベンゾ
イルフェニルチオ）フェニル−ジフェニルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、４−（フェニルチオ）
フェニル−ジ−（４−（β−ヒドロキシエトキシ）フェ
ニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−
（フェニルチオ）フェニル−ジ−（４−（β−ヒドロキ
シエトキシ）フェニル）スルホニウムヘキサフルオロア
ンチモネート、４−（フェニルチオ）フェニル−ジ−
（４−フルオロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロ
ホスフェート、４−（フェニルチオ）フェニル−ジ−
（４−フルオロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロ
アンチモネート ４−（フェニルチオ）フェニル−ジフェニルスルホニウ
ムヘキサフルオロホスフェート、４−（フェニルチオ）
フェニル−ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアン
チモネート、４−（２−クロロ−４−ベンゾイルフェニ
ルチオ）フェニルビス（４−フルオロフェニル）スルホ
ニウムヘキサフルオロホスフェート、４−（２−クロロ
−４−ベンゾイルフェニルチオ）フェニルビス（４−フ
ルオロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモ
ネート、４−（２−クロロ−４−ベンゾイルフェニルチ
オ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホ
スフェート、４−（２−クロロ−４−ベンゾイルフェニ
ルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオ
ロアンチモネート、４−（２−クロロ−４−ベンゾイル
フェニルチオ）フェニルビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−
（２−クロロ−４−ベンゾイルフェニルチオ）フェニル
ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホニウムヘキサフ
ルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘ
キサフルオロアンチモネート、（トリルクミル）ヨード
ニウムヘキサフルオロホスフェート、（トリルクミル）
ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、（トリル
クミル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、ビス（ターシャリブチルフェニル）ヨ
ードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ターシ
ャリブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアン
チモネート、ビス（ターシャリブチルフェニル）ヨード
ニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニ
ウムヘキサフルオロホスフェート、ベンジル−４−ヒド
ロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアン
チモネート、ベンジルジメチルスルホニウムヘキサフル
オロホスフェート、ベンジルジメチルスルホニウムヘキ
サフルオロアンチモネート、ｐ−クロロベンジル−４−
ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロ
ホスフェート、ｐ−クロロベンジル−４−ヒドロキシフ
ェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネー
ト、４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウムヘキ
サフルオロホスフェート、４−アセトキシフェニルジメ
チルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−
メトキシカルボニルオキシフェニルジメチルスルホニウ
ムヘキサフルオロホスフェート、４−メトキシカルボニ
ルオキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロ
アンチモネート、４−エトキシカルボニルオキシフェニ
ルジメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、
４−エトキシカルボニルオキシフェニルジメチルスルホ
ニウムヘキサフルオロアンチモネート、α−ナフチルメ
チルジメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェー
ト、α−ナフチルメチルジメチルスルホニウムヘキサフ
ルオロアンチモネート、α−ナフチルメチルテトラメチ
レンスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、α−ナ
フチルメチルテトラメチレンスルホニウムヘキサフルオ
ロアンチモネート、シンナミルジメチルスルホニウムヘ
キサフルオロホスフェート、シンナミルジメチルスルホ
ニウムヘキサフルオロアンチモネート、シンナミルテト
ラメチレンスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、
シンナミルテトラメチレンスルホニウムヘキサフルオロ
アンチモネート、Ｎ−（α−フェニルベンジル）−２−
シアノピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ−
（α−フェニルベンジル）−２−シアノピリジニウムヘ
キサフルオロアンチモネート、Ｎ−シンナミル−２−シ
アノピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ−シ
ンナミル−２−シアノピリジニウムヘキサフルオロアン
チモネート、Ｎ−（α−ナフチルメチル）−２−シアノ
ピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ−（α−
ナフチルメチル）−２−シアノピリジニウムヘキサフル
オロアンチモネート、Ｎ−ベンジル−２−シアノピリジ
ニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ−ベンジル−２
−シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート等
を挙げることができる。

【００３１】また、これらエネルギー線感受性カチオン
重合開始剤が、開始剤の２００〜５００ｎｍの範囲の吸
光度曲線の全吸光面積に対して３５０〜４５０ｎｍの範
囲の吸光面積が１０％未満である開始剤を使用した場
合、本発明の効果を最も顕著に得ることができる。

【００３２】また、エネルギー線感受性カチオン重合開
始剤の使用量は、カチオン重合性有機物質１００重量部
に対して０．１〜１０重量部、好ましくは０．１〜５重
量部使用することが良く、開始剤が少なすぎると硬化が
遅くなり、又、多すぎると脆くなるなどの影響が出やす
くなる。

【００３３】本発明に使用する（３）下記一般式、 （式中、Ｒは同一でも異なっていてもよく、メチル基ま
たはエチル基である。）で示される化合物は、本発明の
組成物において、エネルギー線により活性化して（２）
エネルギー線感受性カチオン重合開始剤の作用を促進す
るものであり、具体的には、９，１０−ジメトキシアン
トラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、９−エ
トキシ−１０−メトキシアントラセン等を使用できる。
これらの化合物の中で好ましいものは、合成の容易さか
ら９，１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジエ
トキシアントラセンである。

【００３４】（３）上記一般式で示される化合物の使用
量は、（１）カチオン重合性有機物質１００重量部に対
して０．０１〜５重量部、好ましくは０．１〜２重量部
使用すればよい。上記範囲外であると本発明の効果が得
られにくい。

【００３５】本発明の光重合性樹脂組成物には必須では
ないが、必要に応じてラジカル重合性有機物質とエネル
ギー線感受性ラジカル重合開始剤を配合することができ
る。

【００３６】ここで、ラジカル重合性有機物質とは、エ
ネルギー線感受性ラジカル重合開始剤の存在下、エネル
ギー線照射により高分子化または架橋反応するラジカル
重合性有機化合物で、好ましくは１分子中に少なくとも
１個以上の不飽和二重結合を有する化合物である。

【００３７】かかる化合物としては、例えばアクリレー
ト化合物、メタクリレート化合物、アリルウレタン化合
物、不飽和ポリエステル化合物、スチレン系化合物等が
挙げられる。

【００３８】かかるラジカル重合性有機物質の中でもメ
タ（アクリル）基を有する化合物は、合成、入手が容易
で、かつ取り扱いも容易であり、好ましい。例えば、エ
ポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリ
レート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエー
テル（メタ）アクリレート、アルコール類の（メタ）ア
クリル酸エステルが挙げられる。

【００３９】ここで、エポキシ（メタ）アクリレートと
は、例えば、従来公知の芳香族エポキシ樹脂、脂環式エ
ポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂などと、（メタ）アク
リル酸とを反応させて得られるアクリレートである。こ
れらのエポキシアクリレートのうち、特に好ましいもの
は、芳香族エポキシ樹脂のアクリレートであり、少なく
とも１個の芳香核を有する多価フェノールまたはそのア
ルキレンオキサイド付加体のポリグリシジルエーテル
を、（メタ）アクリル酸と反応させて得られる（メタ）
アクリレートである。例えば、ビスフェノールＡ、また
はそのアルキレンオキサイド付加体とエピクロロヒドリ
ンとの反応によって得られるグリシジルエーテルを、
（メタ）アクリル酸と反応させて得られる（メタ）アク
リレート、エポキシノボラック樹脂と（メタ）アクリル
酸を反応して得られる（メタ）アクリレート等が挙げら
れる。ウレタン（メタ）アクリレートとして好ましいも
のは、１種または２種以上の水酸基含有ポリエステルや
水酸基含有ポリエーテルに水酸基含有（メタ）アクリル
酸エステルとイソシアネート類を反応させて得られる
（メタ）アクリレートや、水酸基含有（メタ）アクリル
酸エステルとイソシアネート類を反応させて得られる
（メタ）アクリレート等である。

【００４０】ここで使用する水酸基含有ポリエステルと
して好ましいものは、１種または２種以上の多価アルコ
ールと、１種または２種以上の多塩基酸との反応によっ
て得られる水酸基含有ポリエステルであって、脂肪族多
価アルコールとしては、例えば１，３−ブタンジオー
ル、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、ポ
リプロピレングリコール、ポリブチレングリコール、ト
リメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリト
ール、ジペンタエリスリトールなどが挙げられる。多塩
基酸としては、例えば、アジピン酸、テレフタル酸、無
水フタル酸、トリメリット酸などが挙げられる。

【００４１】水酸基含有ポリエーテルとして好ましいも
のは、多価アルコールに１種または２種以上のアルキレ
ンオキサイドを付加することによって得られる水酸基含
有ポリエーテルであって、多価アルコールとしては、前
述した化合物と同様のものが例示できる。アルキレンオ
キサイドとしては、例えば、エチレンオキサイド、プロ
ピレンオキサイド、ブチレンオキサイドが挙げられる。

【００４２】水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルと
して好ましいものは、多価アルコールと（メタ）アクリ
ル酸のエステル化反応によって得られる水酸基含有（メ
タ）アクリル酸エステルであって、多価アルコールとし
ては、前述した化合物と同様のものが例示できる。

【００４３】かかる水酸基含有（メタ）アクリル酸のう
ち、二価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル
化反応によって得られる水酸基含有（メタ）アクリル酸
エステルは特に好ましく、例えば２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレートが挙げられる。

【００４４】イソシアネート類としては、分子中に少な
くとも１個以上のイソシアネート基を持つ化合物が好ま
しく、トリレンジイソシアネートや、ヘキサメチレンジ
イソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどの２
価のイソシアネート化合物が特に好ましい。

【００４５】ポリエステル（メタ）アクリレートとして
好ましいものは、水酸基含有ポリエステルと（メタ）ア
クリル酸とを反応させて得られるポリエステル（メタ）
アクリレートである。ここで使用する水酸基含有ポリエ
ステルとして好ましいものは、１種または２種以上の多
価アルコールと、１種または２種以上の１塩基酸、多塩
基酸とのエステル化反応によって得られる水酸基含有ポ
リエステルであって、多価アルコールとしては、前述し
た化合物と同様のものが例示できる。１塩基酸として
は、例えばギ酸、酢酸、酪酸、安息香酸が挙げられる。
多塩基酸としては、例えばアジピン酸、テレフタル酸、
無水フタル酸、トリメリット酸が挙げられる。

【００４６】ポリエーテル（メタ）アクリレートとして
好ましいものは、水酸基含有ポリエーテルと、メタ（ア
クリル）酸とを反応させて得られるポリエーテル（メ
タ）アクリレートである。ここで使用する水酸基含有ポ
リエーテルとして好ましいものは、多価アルコールに１
種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加するこ
とによって得られる水酸基含有ポリエーテルであって、
多価アルコールとしては、前述した化合物と同様のもの
が例示できる。アルキレンオキサイドとしては、例え
ば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチ
レンオキサイドが挙げられる。

【００４７】アルコール類の（メタ）アクリル酸エステ
ルとして好ましいものは、分子中に少なくとも１個の水
酸基を持つ芳香族または脂肪族アルコール、及びそのア
ルキレンオキサイド付加体と（メタ）アクリル酸とを反
応させて得られる（メタ）アクリレートであり、例え
ば、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ
プロピル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）ア
クリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリ
ル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリ
レート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレー
ト、イソボニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メ
タ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）
アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アク
リレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリ
レート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリ
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロ
ピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキ
サイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリ
レート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロ
パントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール
テトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサ（メタ）アクリレート、ε−カプロラクトン変性
ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが
挙げられる。これらのラジカル重合性有機物質は、１種
或いは２種以上を所望の性能に応じて配合して使用する
ことができる。

【００４８】ラジカル重合性有機化合物１００重量部の
うち５０重量部以上が、分子中に（メタ）アクリル基を
有する化合物であることが好ましい。

【００４９】本発明におけるラジカル重合性有機物質の
配合は、カチオン重合性有機物質１００重量部に対して
２００重量部以下であることが好ましく、１００重量部
以下であることが特に好ましい。

【００５０】ここで、エネルギー線感受性ラジカル重合
開始剤は、エネルギー照射によってラジカル重合を開始
させることが可能な化合物であり、アセトフェノン系化
合物、ベンジル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チ
オキサントン系化合物などのケトン系化合物が好まし
い。

【００５１】アセトフェノン系化合物としては、例え
ば、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、４’−イソ
プロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノ
ン、２−ヒドロキシメチル−２−メチルプロピオフェノ
ン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−
１−オン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−タ
ーシャリブチルジクロロアセトフェノン、ｐ−ターシャ
リブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−アジドベンザ
ルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フ
ェニル］−２−モルフォリノプロパノン−１、２−ベン
ジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフ
ェニル）−ブタノン−１、ベンゾイン、ベンゾインメチ
ルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイ
ソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテ
ル、ベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。

【００５２】ベンジル系化合物としては、ベンジル、ア
ニシル等が挙げられる。

【００５３】ベンゾフェノン系化合物としては、例えば
ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、ミヒ
ラーケトン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェ
ノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾ
イル−４’−メチルジフェニルスルフィドなどが挙げら
れる。

【００５４】チオキサントン系化合物としては、チオキ
サントン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオ
キサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロ
ピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン
等が挙げられる。

【００５５】これらのエネルギー線感受性ラジカル重合
開始剤は、１種あるいは２種以上のものを所望の性能に
応じて配合して使用することができる。

【００５６】以上のようなエネルギー感受性ラジカル重
合開始剤は、ラジカル重合性有機物質に対して、０．０
５〜１０重量％、好ましくは０．１〜１０重量％配合さ
れる。この範囲を上回ると十分な強度を有する硬化物が
得られにくく、下回ると樹脂が十分硬化しない場合があ
る。

【００５７】これら、ラジカル重合性有機物質とエネル
ギー線感受性ラジカル重合開始剤を配合した本発明の光
重合性組成物は、これらを配合しない場合に比べ、エネ
ルギー線を照射したときの硬化速度がさらに上昇し好ま
しい。

【００５８】また、本発明の光重合性樹脂組成物には、
必須ではないが必要に応じて１分子中に２個以上の水酸
基を有する有機化合物を配合することができる。例え
ば、多価アルコール、水酸基含有ポリエーテル、水酸基
含有ポリエステル、多価フェノールなどの１分子中に２
個以上の水酸基を有する有機化合物を配合することによ
って、硬化塗膜の機械強度を高めることができる。

【００５９】多価アルコールの例としては、エチレング
リコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコ
ール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエ
リスリトール、ジペンタエリスルトール、１，３−ブタ
ンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサ
ンジオールなどが挙げられる。

【００６０】水酸基含有ポリエーテルとは、１種または
２種以上の多価アルコールまたは多価フェノールに１種
または２種以上のアルキレンオキサイドを付加して得ら
れる化合物である。これに用いられる多価アルコールの
例としては、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパ
ン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリ
スルトール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタン
ジオール、１，６−ヘキサンジオールなどが挙げられ
る。多価フェノールの例としてはビスフェノールＡ、ビ
スフェノールＦ、フェノールノボラック樹脂、クレゾー
ルノボラック樹脂などが挙げられる。またアルキレンオ
キサイドの例としては、ブチレンオキサイド、プロピレ
ンオキサイド、エチレンオキサイド等が挙げられる。

【００６１】水酸基含有ポリエステルとは、１種または
２種以上の多価アルコールや多価フェノールと１種また
は２種以上の１塩基酸や多塩基酸とのエステル化反応に
よって得られる水酸基含有ポリエステル、及び１種また
は２種以上の多価アルコールや多価フェノールと１種ま
たは２種以上のラクトン類とのエステル化反応によって
得られる水酸基含有ポリエステルである。多価アルコー
ルや多価フェノールの例としては前述のものと同様のも
のが挙げられる。１塩基酸としては例えば、ギ酸、酢
酸、酪酸、安息香酸などが挙げられる。多塩基酸として
は、例えば、アジピン酸、テレフタル酸、トリメリット
酸などが挙げられる。ラクトン類としてはβープロピオ
ラクトン、γ−ブチロラクトン、ε−カプロラクトンな
どが挙げられる。

【００６２】多価フェノールとは、芳香環に直接結合し
た水酸基を１分子中に２個以上含有する化合物であり、
前述のものと同様のものが挙げられる。

【００６３】本発明においては、本発明の効果を阻害し
ない範囲で所望により、熱可塑性高分子化合物、充填
剤、熱感応性カチオン重合開始剤、着色剤、レベリング
剤、消泡剤、増粘剤、難燃剤、酸化防止剤、安定剤等の
各種樹脂添加物等を通常の使用の範囲で併用することが
できる。

【００６４】本発明の光重合性組成物は種々の用途に使
用することができ、例えば、コーティング材料、塗料な
ど顔料や染料を含むコーティング材料（ペイント）、印
刷インキ、ネガ型フォトレジスト、接着剤などの材料と
して使用することができる。

【００６５】なかでも、顔料や染料を含むコーティング
材料として使用すると、本発明の効果が最も顕著に発揮
される。本発明で使用できる顔料や染料としては特に限
定されず、顔料としては無機顔料でも有機顔料でも使用
することができ、例えば、無機顔料としては、バライ
ト、沈降性硫酸バリウム、白亜、沈降性炭酸カルシウ
ム、胡粉、クレー、砥の粉、タルク、ケイソウ土、シリ
カ白、アルミナ白、セッコウ、サチン白、グロスホワイ
ト、ベントナイト、ケイ酸カルシウム、沈降性炭酸マグ
ネシウム、ケイ酸アルミニウム、鉛酸カルシウム、モリ
ブデン酸カルシウム、モリブデン酸亜鉛、モリブデン酸
鉛、二酸化アンチモン、五酸化アンチモン、水酸化マグ
ネシウム、水酸化アルミニウム、赤リンなどの体質顔料
や、チタンホワイト、亜鉛華、リトポン、硫化亜鉛、鉛
白、塩基性硫酸鉛、酸化ジルコン、アンチモン白、酸化
スズ、鉛亜鉛華、ケイ酸鉛、タングステン白、パッチン
ソン白、マンガン白などの白色顔料や、カーボンブラッ
ク、黒鉛、鉄黒、シリカ黒、クロム黒、骨炭、植物性炭
などの黒色顔料や、亜鉛末、亜酸化鉛、炭化ケイ素、ス
レート粉などの灰色顔料や、ベンガラ、鉛丹、朱、カド
ミウム赤、カドミウム水銀赤、モリブデン赤、亜酸化
銅、アンチモン赤、クロム錫赤、ヨード赤、フェロシア
ン銅、クロム酸水銀、ウラン赤、赤群青、コバルト赤な
どの赤色顔料や、アンバー、シエナ、過酸化マンガン
茶、銅茶、フェロシアン銅などの茶色顔料や、黄鉛、ジ
ンククロメート、カドミウム黄、鉛シアナミド、合成オ
ーカ、チタン黄、アンチモン黄、バリウム黄、ストロン
チウム黄、石黄、ミネラルエロー、クロム酸カルシウ
ム、シデリン黄、ターナ黄、ニッケル黄、オーレオリ
ン、クロム酸カドミウム、硫化スズ、タングステン黄、
バナジウム黄、水銀黄、ヨウ化鉛、タリウム黄、亜ヒ酸
鉛などの黄色顔料や、クロム鉛、酸化クロム鉛、ビリジ
ャン、亜鉛緑、コバルト緑、エメラルド緑、マンガン
緑、エジプト緑、緑青、マラカイト緑、シェーレ緑、ブ
レーメン緑、カッセルマン緑、ブラウンシュワイグ緑、
ゲンテレ緑、ボリー緑、リン酸銅、リン酸クロム、鉄
緑、マルス緑などの緑色顔料や、紺青、群青、コバルト
青、セルリアン青、マンガン青、モリブデン青、タング
ステン青、エジプト青、岩群青、石灰青、硫化銅、ホウ
酸銅、リン酸銅、アンチモン青などの青色顔料や、マン
ガン紫、濃口コバルト紫、薄口コバルト紫、マルス紫、
スズ紫、塩化クロム、紫群青などの紫色顔料や、アルミ
ニウム粉、銅粉、銅合金粉、パール顔料などのその他の
無機顔料などを挙げることができる。

【００６６】有機顔料としては不溶性アゾ、アゾレー
キ、ファナール、金属錯塩、フタロシアニン、キナクリ
ドン類、ジオキサジン類などが挙げられる。染料として
は、ニトロソ染料、ニトロ染料、アゾ染料、アントラキ
ノン系染料、インジゴ系染料、硫化染料、ジフェニルメ
タン系染料、トリフェニルメタン系染料、キサンテン系
染料、アジン系染料、チアジン系染料、オキサジン系染
料、アクリジン系染料、チアゾール系染料などが挙げら
れる。これら顔料、染料の中で、特に好ましい物は窒素
原子を含まないものである。窒素原子を含有するもの
は、カチオン重合速度を低下させることがある。

【００６７】本発明の光重合性組成物は活性エネルギー
線を照射することにより重合し、硬化する。この活性エ
ネルギー線としては、例えば、紫外線、電子線、エック
ス線、放射線、高周波等が挙げられ、紫外線が最も経済
的であり好ましい。紫外線の光源としては、紫外線レー
ザー、水銀ランプ、特に（超）高圧水銀ランプ、キセノ
ンランプ、アルカリ金属ランプ、市販の無電極ランプ
（例えばＦｕｓｉｏｎ社製のＶバルブ（商品名）、Ｄバ
ルブ（商品名））などがある。本発明の光重合性組成物
の重合・硬化にあたって位置選択性の必要な場合には、
集光性が良好なレーザー光線（特に発振波長３００ｎｍ
〜４５０ｎｍ）が好ましい。また、位置選択性があまり
ない場合には、水銀ランプ等が経済的で好ましい。

【００６８】以下は本発明の硬化塗膜形成方法について
説明する。まず、上記してきた本発明の光重合性組成物
を、基材に対し２００μｍ以下、好ましくは１００μｍ
以下の厚さとなるように塗布する。ここで使用できる基
材としては特に限定されず、例えば、鉄、銅、アルミニ
ウム、ステンレス鋼等の金属基材、木材、紙、布等の繊
維性基材、ポリα−オレフィン系樹脂、ポリエステル系
樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタ
ン系樹脂、ポリウレア系樹脂、ポリカーボネート系樹脂
などの合成樹脂性基材、ガラス、モルタル、岩石などの
無機性基材などを例示することができる。塗膜の厚さが
上記を超えるようなものであると、深部までの硬化が不
十分となりやすい傾向にある。

【００６９】次に、塗布された光重合性組成物に対し３
５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長の光を０．１ｍＪ／
ｃｍ^２以上、好ましくは３５０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下
の波長の光を１ｍＪ／ｃｍ^２以上照射する。上記より波
長の短い光では光重合性組成物に対して透過率の良くな
い場合（特に顔料や染料を含有する場合など）があり、
十分硬化しない場合がある。逆に上記より波長が長い光
では、エネルギー線感受性カチオン重合開始剤を十分活
性化できない場合があり、結果的にやはり光重合性組成
物が十分硬化しない場合がある。又、上記未満のエネル
ギー量の光でもエネルギー線感受性カチオン重合開始剤
を十分活性化できない場合があり、結果的にやはり光重
合性組成物が十分硬化しない場合がある。

【００７０】

【実施例】次に、本発明を実施例に基づき説明する。下
記の表１〜３に示す配合組成の光重合性組成物を調製
し、以下の評価を行った。得られた結果を下記の表１〜
３に併記する。 タックフリータイム：アルミコート紙上にＮｏ．６のバ
ーコータ（塗布厚約１０μｍ）若しくはＮｏ．６０のバ
ーコータ（塗布厚約９０μｍ）で各光重合性組成物を塗
布し、高さ１５ｃｍの高圧水銀灯にて種々のラインスピ
ードにて光照射し、その後べたつきがなくなるまでの時
間（秒）を測定した。尚、各ラインスピードにおける照
射量（３６５ｎｍにおける）は次の通りである。 ２５ｍ／ｍｉｎ ：８ｍＪ／ｃｍ^２ ２０ｍ／ｍｉｎ ：１０ｍＪ／ｃｍ^２ １５ｍ／ｍｉｎ ：１３ｍＪ／ｃｍ^２ １０ｍ／ｍｉｎ ：２０ｍＪ／ｃｍ^２

【００７１】ＭＥＫラブテスト：アルミコート紙上にＮ
ｏ．６のバーコータで各光重合性組成物を塗布し、高さ
１５ｃｍの高圧水銀灯にて１０ｍ／ｍｉｎのラインスピ
ードにて光照射し、２４時間後にＭＥＫ（メチルエチル
ケトン）を含浸した綿棒で擦り、下地が見えるまでの回
数を測定した。

【００７２】

【表１】

【００７３】

【表２】

【００７４】

【表３】

【００７５】エポキシ樹脂１：３，４−エポキシシクロ
ヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカル
ボキシレート エポキシ樹脂２：１，４−ブタンジオールジグリシジル
エーテル エポキシ樹脂３：フェノールノボラック樹脂（エポキシ
当量１９０） 光カチオン重合開始剤１：４，４’−ビス（ジ（β−ヒ
ドロキシエトキシ）フェニルスルフォニオ）フェニルス
ルフィド−ビス−ヘキサフルオロホスフェート 光カチオン重合開始剤２：４−（４−ベンゾイル−フェ
ニルチオ）フェニル−ジ−（４−フルオロフェニル）ス
ルホニウムヘキサフルオロホスフェート 光カチオン重合開始剤３：４−（２−クロロ−４−ベン
ゾイル−フェニルチオ）フェニル−ジ−（４−フルオロ
フェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート 光カチオン重合開始剤４：４，４’−ビス（ジフェニル
スルフォニオ）フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフル
オロホスフェート 光カチオン重合開始剤５：４，４’−ビス（ジフェニル
スルフォニオ）フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフル
オロアンチモネート 増感剤１：９，１０−ジエトキシアントラセン 増感剤２：９，１０−ジメトキシアントラセン アクリル樹脂：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート 光ラジカル重合開始剤：２−ヒドロキシ−２−メチル−
１−フェニルプロパン−１−オン ポリオール：トリメチロールプロパンのε−カプロラク
トン付加物（平均分子量３００）

【００７６】

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明の光重
合性組成物においては、光増感剤とし特定のアントラセ
ン化合物を用いたことにより、酸素による硬化阻害を受
けず、かつ硬化速度が良好であり、特に顔料と共に使用
しても良好な硬化速度を得ることができる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０９Ｄ 11/00 Ｃ０９Ｄ 11/00 163/00 163/00 Ｇ０３Ｆ 7/031 Ｇ０３Ｆ 7/031 // Ｃ０８Ｌ 63/00 Ｃ０８Ｌ 63/00 Ｃ０９Ｊ 163/00 Ｃ０９Ｊ 163/00

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 必須の構成成分として、（１）カチオン
   重合性有機物質と、（２）エネルギー線感受性カチオン
   重合開始剤と、（３）下記一般式、 （式中、Ｒは同一でも異なっていてもよく、メチル基ま
   たはエチル基である。）で示される化合物を含有するこ
   とを特徴とする光重合性組成物。
2. 【請求項２】 さらに（４）顔料を含有することを特徴
   とする請求項１に記載の光重合性組成物。
3. 【請求項３】 （２）エネルギー線感受性カチオン重合
   開始剤の２００〜５００ｎｍの範囲の吸光度曲線の全吸
   光面積に対して３５０〜４５０ｎｍの範囲の吸光面積が
   １０％未満であることを特徴とする請求項１または請求
   項２に記載の光重合性組成物。
4. 【請求項４】 （１）カチオン重合性組成物のうちの４
   ０重量％以上がシクロヘキセンオキシド構造を有する脂
   環式エポキシ化合物であることを特徴とする請求項１乃
   至請求項３のうちいずれか一項記載の光重合性組成物。
5. 【請求項５】 基材上に、請求項１乃至請求項４のうち
   いずれか一項記載の光重合性組成物を２００μｍ以下の
   厚さになるように塗布し、ここに３５０ｎｍ以上５００
   ｎｍ以下の波長の光を０．１ｍＪ／ｃｍ^２以上照射する
   ことを特徴とする硬化塗膜形成方法。