JPH11202945A - マスフローコントローラの自己診断方法 - Google Patents

マスフローコントローラの自己診断方法

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JPH11202945A
JPH11202945A JP757998A JP757998A JPH11202945A JP H11202945 A JPH11202945 A JP H11202945A JP 757998 A JP757998 A JP 757998A JP 757998 A JP757998 A JP 757998A JP H11202945 A JPH11202945 A JP H11202945A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】自己診断のために新たに付加するハードウエア
を不要としたマスフローコントローラの自己診断方法を
提供する。 【解決手段】圧力制御弁５１と圧力制御弁５１の流入側
を開閉する遮断弁４と圧力制御弁５１の流出側に設けた
オリフィス５３とオリフィス５３の流入側圧力を検出す
る圧力センサ５２とオリフィス５３の流出側を開閉する
遮断弁６とを備えたマスフローコントローラの自己診断
方法であって、圧力制御弁５１が全開状態で遮断弁４を
開放状態にすると共に遮断弁６を閉止状態にして遮断弁
４から遮断弁６に至る管路内に遮断弁４を通して所定圧
力の予め定めたガスを充填し、次いで遮断弁４を閉止状
態にすると共に遮断弁６を開放状態にして管路内に充填
されたガスを流出させ、この流出による圧力センサ５２
の検出圧力が予め定めた検出圧力に低下するまでの時間
に基づいてマスフローコントローラ５の診断を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はマスフローコントロ
ーラの自己診断方法に関し、さらに詳細にはシステム中
に組み込んだ状態でマスフローコントローラにおけるガ
ス流量の変化状態を診断することができるマスフローコ
ントローラの自己診断方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体の製造プロセスにおける薄膜生成
装置、乾式エッチング装置などにおいてプロセス機器へ
送出するプロセスガスの流量を精密に制御することが要
求される。このために、プロセスガスの流量制御のため
にプロセス機器へプロセスガスを供給する管路中にマス
フローコントローラが挿入されて、マスフローコントロ
ーラを構成する制御弁に印加する制御電圧を調整するこ
とによってガス流量設定が行われている。
【０００３】しかし、マスフローコントローラはガス流
量のコントロールを目的としているためにマスフローコ
ントローラ内部にオリフィスなどの細管部を有してお
り、プロセスガスが固形物を析出するようなガスの場
合、プロセスガスの通過により経時的に管路中、あるい
はマスフローコントローラ中において固形物が析出され
てマスフローコントローラ中の管路の有効断面積を実質
的に減少させることが生ずる。
【０００４】このような場合にマスフローコントローラ
に印加する制御電圧に対応するガス流量の関係は変化し
て、制御電圧を変更しなくてもマスフローコントローラ
を通過するガス流量が変化して、プロセスガスの状態に
変化を発生させることになる。
【０００５】さらに、マスフローコントローラ中の管路
の有効断面積が減少した状態で制御を継続すれば固形物
に基づくパーティクルがプロセスガスと共にプロセス機
器へ流出することになって、プロセス機器にとって不都
合が生ずる。
【０００６】このために、マスフローコントローラの流
量の測定が望まれ、例えば、特開平７−２８１７６０号
公報に開示されているように、マスフローコントローラ
の絶対流量検定のときに、プロセスガス供給源から遮断
弁を介してプロセスガスを計測用タンクに導き、計測用
タンクに導かれたプロセスガスをマスフローコントロー
ラを通してプロセス機器へ供給するように構成すると共
に、マスフローコントローラの入力端の圧力を計測する
圧力センサを設けて、遮断弁を閉止することによってプ
ロセスガスの計測用タンクへの導入を遮断して計測用タ
ンクに蓄積されたプロセスガスをマスフローコントロー
ラに流し、同時に圧力センサによりマスフローコントロ
ーラの流入側の圧力を検出し、圧力センサによる検出圧
力が所定値まで低下する時間を計測し、計測された時間
と計測用タンクの容積とに基づいてマスフローコントロ
ーラの絶対流量を検定することが知られている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の検定方法によるときは通常操作のためのマスフ
ローコントロールシステム構成のほかに検定のための計
測用タンク、圧力センサ、遮断弁などを必要とするとい
う問題点があった。
【０００８】本発明はこのような問題点を解消するため
になされたものであって、自己診断のために新たに付加
するハードウエアを不要としたマスフローコントローラ
の自己診断方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明にかかるマスフロ
ーコントローラの自己診断方法は、圧力制御もしくは流
量制御をする制御弁と制御弁の流入側を開閉する第１の
遮断弁と制御弁の流出側に設けた固定絞りと固定絞りの
流入側圧力を検出する圧力センサと固定絞りの流出側を
開閉する第２の遮断弁とを備えたマスフローコントロー
ラの自己診断方法であって、制御弁が予め定めた開度の
状態で制御弁の流入側を第１の遮断弁によって開放する
と共に固定絞りの流出側を第２の遮断弁によって閉止し
て第１の遮断弁から第２の遮断弁に至る管路内に第１の
遮断弁を通して所定圧力の予め定めたガスを充填し、次
いで第１の遮断弁によって制御弁の流入側を閉止すると
共に第２の遮断弁によって固定絞りの流出側を開放して
管路内に充填されたガスを流出させ、この流出による圧
力センサの検出圧力が予め定めた検出圧力に低下するま
での時間に基づいてマスフローコントローラの診断を行
うことを特徴とする。
【００１０】本発明にかかるマスフローコントローラの
自己診断方法は、自己診断のときに制御弁が予め定めた
開度の状態で制御弁の流入側が第１の遮断弁によって開
放されると共に固定絞りの流出側が第２の遮断弁によっ
て閉止されて第１の遮断弁から第２の遮断弁に至る管路
内に第１の遮断弁を通して所定圧力の予め定めたガスが
充填される。この充填に続いて第１の遮断弁によって制
御弁の流入側が閉止されると共に第２の遮断弁によって
固定絞りの流出側が開放されて管路内に充填されたガス
が流出させられる。この流出による圧力センサの検出圧
力が予め定めた検出圧力に低下するまでの時間が計時さ
れて、計時された時間に基づいてマスフローコントロー
ラの診断がなされる。
【００１１】この場合に、第１の遮断弁および第２の遮
断弁はマスフローコントローラを取り替えなどのときに
管路から取り外すために通常設けられているものであっ
て、通常運転状態のときにおける必要構成機器から自己
診断のために特にハードウエアを付加することも、除去
することも不要である。
【００１２】本発明にかかるマスフローコントローラの
自己診断方法において、ガスを流出させたときにおける
圧力センサの検出圧力が予め定めた検出圧力に低下する
までの時間が基準時間を超過しているときその旨表示す
ること、ガスを流出させたときにおける圧力センサの検
出圧力が予め定めた検出圧力に低下するまでの時間が基
準時間未満のときその旨表示することによって、表示に
基づき自己診断結果が判ることになる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明にかかるマスフロー
コントローラの自己診断方法を実施の形態によって説明
する。
【００１４】図１は本発明にかかるマスフローコントロ
ーラの自己診断方法が適用されるマスフローコントロー
ルシステムの構成例を示すブロック図である。
【００１５】図１に示すマスフローコントロールシステ
ム１は、プロセスガス源２から送出されるプロセスガス
を入力側の例えば電磁駆動の遮断弁４を介してマスフロ
ーコントローラ５へ選択的に導入し、マスフローコント
ローラ５を通って流出するプロセスガスを出力側の例え
ば電磁駆動の遮断弁６を通してプロセス機器７へ導出す
るように構成されている。
【００１６】ここで、入力側の遮断弁４および出力側の
遮断弁６は、通常、マスフローコントローラ５を取り替
えるときに共に遮断状態に制御して、プロセスガス源２
からのプロセスガスのマスフローコントローラ５への流
入を遮断することによってプロセスガスの放出を防止
し、かつプロセス機器７側への不純ガスの流入を防止す
るために設けられている。
【００１７】なお、遮断弁４の流入口に例えば電磁駆動
の３方切替弁３が設けられていて、遮断弁４および遮断
弁６の閉止に先だって３方切替弁３によってプロセスガ
ス源２からマスフローコントローラ５へのプロセスガス
の流入を遮断すると共に、不活性ガス源８からの不活性
ガス、例えば窒素ガスを遮断弁４を通過する方向に切り
替えて、３方切替弁３からプロセス機器７に至る配管
内、マスフローコントローラ５内およびプロセス機器７
の窒素ガスによるパージを行うが、かかる点については
ここでは触れない。
【００１８】マスフローコントローラ５は圧力制御方式
のマスフローコントローラであって、電気信号によって
開度が制御される圧力制御弁５１と、圧力制御弁５１の
出力側の圧力を検出する圧力センサ５２と、圧力制御弁
５１から送出されるプロセスガスを通過させて圧力制御
弁５１の出力側圧力を確立させるためのオリフィス５３
と、後記する制御装置１４からの出力信号と圧力センサ
５２からの圧力出力信号とを比較してその差である偏差
を求め、求めた偏差に基づいて圧力制御弁５１の出力側
の圧力が制御装置１４からの出力信号に基づく圧力にな
るように圧力制御弁５１の開度を制御する偏差演算制御
器５４とを備え、オリフィス５３を通過したプロセスガ
スを遮断弁６を介してプロセス機器７へ導出させる。
【００１９】ここで、オリフィス５３が設けられている
理由について説明する。半導体の製造プロセスにおける
薄膜生成装置、乾式エッチング装置などのプロセス機器
７側は通常負圧で使用される。したがって、固定絞りで
あるオリフィス５３を設けて、オリフィス５３により圧
力制御弁５１の出力圧力を確立させるのである。
【００２０】一方、制御装置１４はマイクロコンピュー
タからなり通常運転制御を行う通常運転制御部１４１と
自己診断を行う自己診断制御部１４２とを機能的に備え
ており、圧力センサ５２からの圧力出力信号、圧力制御
弁５１の出力側圧力を設定するための圧力設定器１１の
出力信号、通常運転指示を行う通常運転指示キースイッ
チ１２の指示信号および自己診断指示キースイッチ１３
の指示信号が供給されて、圧力制御弁５１の出力側圧力
を圧力設定器１１による設定圧力に制御するための制御
信号または圧力制御弁５１を開放状態に制御するための
制御信号を選択的に偏差演算制御器５４へ送出すると共
に、３方切替弁３、遮断弁４、圧力制御弁５１、遮断弁
６の切り替えおよび開閉を制御する。
【００２１】また、制御装置１４は自己診断指示がなさ
れているとき、マスフローコントローラ５を継続使用可
能か、取り替えが必要かを表示する表示器１５へ表示信
号を送出する。
【００２２】上記の構成において、通常運転指示キース
イッチ１２によって通常運転指示がなされているとき
は、制御装置１４中の通常運転制御部１４１の制御のも
とに、３方切替弁３はプロセスガス源２からのプロセス
ガスを遮断弁４の方向に通過させる状態に切り替えら
れ、遮断弁４および遮断弁６は開放状態に切り替えら
れ、かつ圧力制御弁５１はその出力側圧力を圧力設定器
１１による設定圧力にするべく偏差演算制御器５４の出
力信号によって開度が制御されて、プロセス機器７へ圧
力設定器１１に設定した圧力に基づく流量のプロセスガ
スが流出される。
【００２３】この場合、予め求めた圧力制御弁５１の出
力側圧力すなわちオリフィス５３の１次側圧力とオリフ
ィス５３に流れるフロセスガスの流量との関係に基づい
て、圧力設定器１１における設定圧力は希望流量に対応
するオリフィス５３の１次側圧力に設定する。このよう
に設定することによって設定圧力にオリフィス５３の１
次側圧力が制御されて、オリフィス５３を通過するプロ
セスガスの流量が前記希望流量に制御される。すなわ
ち、圧力制御弁５１の出力圧力を制御することによって
オリフィス５３を通して流れる流体の流量制御が行われ
る。
【００２４】一方、所定処理が終了して半導体ウエハな
どの被処理体が取り替えられる直前には、図示しない不
活性ガスパージ指示がなされて、この指示に基づいて３
方切替弁３はプロセスガス源２からのプロセスガスを遮
断し、不活性ガス源８からの不活性ガスを遮断弁４の方
向に通過させる状態に切り替えられ、遮断弁４および遮
断弁６は開放状態に切り替えられ、かつ圧力制御弁５１
は開放状態に制御されて、プロセス機器７へ不活性ガス
がパージさせられる。
【００２５】自己診断指示キースイッチ１３によって自
己診断指示がなされたときの作用を図２〜図４にて示す
フローチャートにしたがって説明する。
【００２６】自己診断指示がなされると制御装置１４の
自己診断制御部１４２の制御のもとに、遮断弁４が閉止
状態に制御され（ステップＳ１）、続いて遮断弁６が開
放状態に制御され（ステップＳ２）、続いて圧力制御弁
５１が開放状態に制御される（ステップＳ３）。この状
態は遮断弁４からプロセス機器７までの配管内をプロセ
ス機器７側の圧力にさせることを意味する。
【００２７】ステップＳ３の実行に続き圧力センサ５２
からの圧力出力信号を読み込み（ステップＳ４）、所定
期間経過するのを待つ（ステップＳ５）。ステップＳ５
において所定期間経過したとき、圧力センサ５２からの
圧力出力信号を読み込み（ステップＳ６）、ステップＳ
４において読み込んだ圧力出力信号とステップＳ６にお
いて読み込んだ圧力出力信号とが等しいか否かがチェッ
クされる（ステップＳ７）。ステップＳ７において等し
いと判別されないときは、ステップＳ７に続いて再びス
テップＳ４から実行される。
【００２８】ステップＳ７において等しいと判別された
ときは、遮断弁４からプロセス機器７までの配管内の圧
力がプロセス機器７側の圧力に等しくなったことを示し
ている。
【００２９】ステップＳ７において等しいと判別された
ときは、ステップＳ７に続いて遮断弁４が開放状態にさ
れ（ステップＳ８）、次いで遮断弁６が閉止状態にされ
る（ステップＳ９）。ステップＳ９に続いて圧力センサ
５２からの圧力出力信号が読み込まれ（ステップＳ１
０）、次いで所定期間経過するのを待つ（ステップＳ１
１）。ステップＳ１１における所定期間は下記の（１）
式に示す充填時定数ｔｎの５倍の期間に選択してある。
これは５倍の充填時定数ｔｎの時間でプロセスガス源２
から遮断弁６までの管路がプロセスガス源２からのプロ
セスガス圧力にほぼ充填されるためである。
【００３０】
【数１】
【００３１】（１）式において、ｔｎは充填時定数
（ｓ）、Ｖはプロセスガス源２から遮断弁６までの管路
の容積（リッタ）、κは断熱指数（＝１．４）、Ｓはオ
リフィス５３の有効断面積（ｍｍ2 ）、Ｔは絶対温度
（Ｋ）である。
【００３２】ステップＳ１１に次いで、圧力センサ５２
からの圧力出力信号が読み込まれ（ステップＳ１２）、
ステップＳ１０において読み込んだ圧力センサ５２から
の圧力出力信号とステップＳ１２において読み込んだ圧
力センサ５２からの圧力出力信号が等しいか否かがチェ
ックされる（ステップＳ１３）。ステップＳ１３におい
て等しくないと判別されたときはステップＳ１３に続い
て再びステップＳ１０から実行される。ステップＳ１１
が実行されているためにステップＳ１３においては通常
等しいと判別される。
【００３３】ステップＳ１３において等しいと判別され
たときは、プロセスガス源２から遮断弁６までの管路
が、プロセスガス源２からのプロセスガス圧力に充填さ
れたことを示している。これは、プロセスガス源２から
遮断弁６までの管路が自己診断のための計測用タンクと
して作用することを示している。
【００３４】ステップＳ１３において等しいと判別され
たときは、遮断弁４は閉止状態にされ（ステップＳ１
４）、続いて遮断弁６が開放状態に制御され（ステップ
Ｓ１５）、続いて計時が開始され（ステップＳ１６）、
圧力センサ５２からの圧力出力信号が読み込まれる（ス
テップＳ１７）。ステップＳ１７に続いて圧力センサ５
２からの圧力出力信号が予め定められた設定圧力にまで
低下したか否かがチェックされ（ステップＳ１８）、予
め定められた設定圧力にまで低下したと判別されないと
きは再びステップＳ１７から実行される。ステップＳ１
８において予め定められた設定圧力にまで低下したと判
別されたときは計時が終了させられる（ステップＳ１
９）。
【００３５】したがって、プロセスガス源２からのプロ
セスガス圧力に充填されたプロセスガス源２から遮断弁
６までの管路の圧力が、ステップＳ１５〜ステップＳ１
９の実行によって、予め定められた設定圧力にまで低下
するのに要した時間が計時されることになる。
【００３６】この場合、予め定められた設定圧力と基準
時間との関係は下記の（２）式に基づいて定める。
【００３７】
【数２】
【００３８】（２）式において、ｔｎは充填時定数
（ｓ）、ＰH はプロセスガス源２から遮断弁６までの管
路のプロセスガス圧力の初期値（ＭＰａＧ）、Ｐは前記
管路開放後のプロセスガス源２から遮断弁６までの管路
のガス圧力であって上記の予め定められた設定圧力（Ｍ
ＰａＧ）、ｔｄは前記管路開放後のプロセスガス源２か
ら遮断弁６までの管路のガス圧力が上記の予め定められ
た設定圧力に低下するまでの基準時間（ｓ）、κは断熱
指数（＝１．４）である。
【００３９】ステップＳ１９の実行に続いて、計時終了
時における計時時間が予め定められた基準時間（ｔｄ）
を超過しているか否かがチェックされる（ステップＳ２
０）。ステップＳ２０において基準時間ｔｄを超過して
いると判別されたときは、プロセスガスの通過による固
形物の析出などによってオリフィス５３の有効断面積が
減少していて、遮断弁６の開放後のプロセスガス源２か
ら遮断弁６までの管路のガス圧力が予め定められた設定
圧力に低下するまでの時間がオリフィスの有効断面積か
変化していないときの基準時間ｔｄより長いためであっ
て、表示器１５にマスフローコントローラ５の取り替え
を指示する取替指示表示がなされて（ステップＳ２
１）、自己診断は終了する。
【００４０】ステップＳ２０において基準時間ｔｄを超
過していないと判別されたときは、オリフィス５３の有
効断面積がまだ取り替えるまでには減少しておらず、開
放後のプロセスガス源２から遮断弁６までの管路のガス
圧力が予め定められた設定圧力に低下するまでの時間が
基準時間がより短いためであって、表示器１５にマスフ
ローコントローラ５を継続使用してもよいことを示す継
続使用可の表示がなされて（ステップＳ２２）、自己診
断が終了する。
【００４１】この場合、プロセス機器７側の圧力は前記
のように負圧である。しかるに、プロセスガス源２のプ
ロセスガス圧力に充填された管路内の圧力は０．１ＭＰ
ａＧ以上であり、遮断弁６を開放したときにおけるオリ
フィス５３の前後差圧は臨界差圧以上となり、オリフィ
ス５３に流れる流体の流速は音速となって、オリフィス
５３の通過流量はオリフィス５３の有効断面積に比例す
る。
【００４２】本発明の実施の一形態では、この関係を利
用して、プロセスガス源２から遮断弁６までの管路を自
己診断のための計測用タンクとし、前記管路によって形
成された計測用タンクにプロセスガス源２からプロセス
ガスを充填し、充填したプロセスガスをオリフィス５３
を介して放出させ、このオリフィス５３の通過流量に対
応してプロセスガス圧力に充填された前記管路内の圧力
が低下していき、この圧力低下の早さ、すなわち前記管
路によって形成された計測用タンクが所定圧力に低下す
るまでの時間によって有効断面積の減少が、取り替えを
必要とする程度に達しているか否かを判定しているので
ある。この自己診断のために、通常運転に必要な構成以
外にハードウエアの新たな構成を必要としない。
【００４３】また、上記において、プロセスガス自体を
自己診断に用いる場合を例示したが不活性ガスをプロセ
スガスに代えて用いてもよく、この場合は自己診断開始
時に３方切替弁３によって不活性ガスを遮断弁４へ導く
ように切り替えた後、自己診断を行えばよい。
【００４４】次に、オリフィス５３がプロセスガスによ
って浸食される場合もある。この場合には、図４に示す
ように、ステップＳ１９に続いて基準時間未満か否かが
チェックされ（ステップＳ２０１）、基準時間未満と判
別されたときは表示器１５にマスフローコントローラ５
の取り替えを指示する取替指示表示がなされて（ステッ
プＳ２１１）、自己診断が終了する。基準時間未満でな
いと判別されたときは表示器１５にマスフローコントロ
ーラ５を継続使用してもよいことを示す継続使用可の表
示がなされて（ステップＳ２２１）、自己診断は終了す
る。
【００４５】ステップＳ２１１が実行される場合は、オ
リフィス５３の有効断面積が浸食によって大きくなりす
ぎた場合であり、ステップＳ２２１が実行される場合
は、オリフィス５３の有効断面積が浸食によって大きく
なったがまだ使用できる場合である。
【００４６】次に、上記した本発明の実施の一形態にか
かるマスフローコントロールシステム１の変形例につい
て説明する。
【００４７】図５は本発明の実施の一形態にかかるマス
フローコントロールシステム１の変形例の構成を示すブ
ロック図である。
【００４８】本発明にかかる実施の一形態の変形例で
は、マスフローコントローラ５に加えて、マスフローコ
ントローラ５ａにオリフィス５３の２次側の圧力を検出
する圧力センサ５５と、圧力センサ５２からの圧力出力
信号と圧力センサ５５からの圧力出力信号との差を演算
する差動増幅器５６とが新たに設けてあり、差動増幅器
５６の出力を圧力センサ５２からの圧力出力信号に代わ
って偏差演算制御器５４に供給する。なお、圧力設定器
１１は流量設定器１１ａとしてガス流量を設定する。他
の構成は図１に示す本発明の実施の一形態にかかるマス
フローコントロールシステム１と同一の構成である。
【００４９】本発明にかかる実施の一形態の変形例で
は、マスフローコントローラ５ａに圧力センサ５２、５
５が設けられた２圧力センサ方式の場合であって、プロ
セス機器７が負圧でなくて所定の正の圧力を持っている
ものであっても、オリフィス５３の２次側圧力が圧力セ
ンサ５５によって検出され、差動増幅器５６でオリフィ
ス５３による圧力損失が検出されて差動増幅器５６の出
力はオリフィス５３に流れるガス流量に対応し、圧力制
御弁５１は流量制御弁として作用し、通常運転制御のと
きにはプロセス機器７へ流入させるプロセスガスの流量
を制御することができる。
【００５０】自己診断制御のときは圧力制御弁（流量制
御弁）５１は開放され、本発明にかかる実施の一形態の
場合と同様に、圧力センサ５２からの圧力出力信号の所
定圧力までへの低下時間によって自己診断を行うことが
できる。
【００５１】
【発明の効果】以上説明したように本発明にかかるマス
フローコントローラの自己診断方法によれば、第１およ
び第２の遮断弁間の管路に所定圧力のガスを充填し、該
ガスを第１の遮断弁を閉止した状態で第２の遮断弁を開
放して放出させ、この放出による固定絞りの流入側の圧
力の所定圧力まで低下するまでの時間に基づいて自己診
断することができ、この場合に、第１および第２の遮断
弁間の管路が計測用タンクとして作用することになり、
第１の遮断弁および第２の遮断弁はマスフローコントロ
ーラを取り替えなどのときに管路から取り外すために通
常設けられているものであって、通常運転状態のときに
おける必要構成機器から自己診断のために特にハードウ
エアを付加することも、除去することを必要としないで
自己診断が行えるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかるマスフローコントローラの自己
診断方法が適用されるマスフローコントロールシステム
の構成例を示すブロック図である。
【図２】本発明にかかるマスフローコントローラの自己
診断方法が適用されるマスフローコントロールシステム
の作用の説明に供するフローチャートである。
【図３】本発明にかかるマスフローコントローラの自己
診断方法が適用されるマスフローコントロールシステム
の作用の説明に供するフローチャートである。
【図４】本発明にかかるマスフローコントローラの自己
診断方法が適用されるマスフローコントロールシステム
の作用の説明に供するフローチャートである。
【図５】本発明にかかるマスフローコントローラの自己
診断方法が適用されるマスフローコントロールシステム
の変形例の構成例を示すブロック図である。
【符号の説明】
１…マスフローコントロールシステム ２…プロセスガ
ス源 ３…３方切替弁 ４、６…遮断弁 ５、５ａ…マスフローコントローラ ７…プロセス機
器 ８…不活性ガス源 １１…圧力設定
器 １１ａ…流量設定器 １２…通常運転
指示キースイッチ １３…自己診断指示キースイッチ １４…制御装置 １５…表示器 ５１…圧力制御
弁 ５２、５５…圧力センサ ５３…オリフィ
ス ５４…偏差演算制御器 ５６…差動増幅
器 １４１…通常運転制御部 １４２…自己診
断制御部

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】圧力制御もしくは流量制御をする制御弁と
    制御弁の流入側を開閉する第１の遮断弁と制御弁の流出
    側に設けた固定絞りと固定絞りの流入側圧力を検出する
    圧力センサと固定絞りの流出側を開閉する第２の遮断弁
    とを備えたマスフローコントローラの自己診断方法であ
    って、制御弁が予め定めた開度の状態で制御弁の流入側
    を第１の遮断弁によって開放すると共に固定絞りの流出
    側を第２の遮断弁によって閉止して第１の遮断弁から第
    ２の遮断弁に至る管路内に第１の遮断弁を通して所定圧
    力の予め定めたガスを充填し、次いで第１の遮断弁によ
    って制御弁の流入側を閉止すると共に第２の遮断弁によ
    って固定絞りの流出側を開放して管路内に充填されたガ
    スを流出させ、この流出による圧力センサの検出圧力が
    予め定めた検出圧力に低下するまでの時間に基づいてマ
    スフローコントローラの診断を行うことを特徴とするマ
    スフローコントローラの自己診断方法。
  2. 【請求項２】請求項１記載のマスフローコントローラの
    自己診断方法において、ガスを流出させたときにおける
    圧力センサの検出圧力が予め定めた検出圧力に低下する
    までの時間が基準時間を超過しているときその旨表示す
    ることを特徴とするマスフローコントローラの自己診断
    方法。
  3. 【請求項３】請求項１記載のマスフローコントローラの
    自己診断方法において、ガスを流出させたときにおける
    圧力センサの検出圧力が予め定めた検出圧力に低下する
    までの時間が基準時間未満のときその旨表示することを
    特徴とするマスフローコントローラの自己診断方法。
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