JPH11204490A

JPH11204490A - 付着液除去装置

Info

Publication number: JPH11204490A
Application number: JP422998A
Authority: JP
Inventors: Mitsuaki Yoshitani; 光明芳谷
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1998-01-12
Filing date: 1998-01-12
Publication date: 1999-07-30
Anticipated expiration: 2018-01-12
Also published as: JP3727162B2

Abstract

(57)【要約】【課題】基板の垂れを抑えて基板に付着している処理
液の除去の効率を向上させる。【解決手段】付着液除去装置１２０は、洗浄液が付着
した基板Ｗに気体を吹き付けることにより洗浄液を基板
Ｗから吹き飛ばして基板Ｗに付着した洗浄液を除去する
装置において、複数の搬送ローラ５と、エアーナイフ２
５，２６と、補助ローラ組立体４１，４２とを備えてい
る。搬送ローラ５は基板Ｗを支持しつつ搬送する。エア
ーナイフ２５，２６は、基板Ｗに気体を吹き付ける手段
であって、搬送ローラ５の間に、基板搬送方向と交差す
る方向に延設されている。補助ローラ組立体４１，４２
は、エアーナイフ２５，２６に隣接しており、基板Ｗの
下面を支持して基板Ｗの変形を抑える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、各種基板の付着液
除去装置、特に、液晶表示器用基板等のＦＰＤ（Ｆｌａ
ｔＰａｎｅｌＤｉｓｐｌａｙ）用基板、フォトマス
ク用基板、プリント基板、及び半導体基板に付着した処
理液を除去する付着液除去装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示器、カラーフィルタ、フォトマ
スク等の製造工程では、基板洗浄処理等の各種の湿式表
面処理が行われる。そして、これらの基板の処理後に基
板の表面に付着した液滴を除去する作業が行われる。従
来の基板の付着液除去装置として、例えば、搬送ローラ
とエアーナイフとから構成されるものが知られている。
ここでは、表面に洗浄液などの処理液が付着した基板を
複数の搬送ローラによってほぼ水平に支持しつつ所定の
方向に搬送させる。そして、その長手方向が基板搬送方
向と直交する方向（以下、川幅方向という。）に概ね沿
った上下１対のエアーナイフ（気体を吹き付ける気体吹
付手段）に設けられたスリット状の吐出口から、層状の
気体を基板の表面に吹き付ける。すると、吹き付けられ
た気体が基板に付着している処理液を基板の搬送方向上
流側に移動させ、処理液が基板の搬送方向上流側の後端
縁から基板の後方に吹き飛ばされる。これにより、基板
から処理液が除去される。

【０００３】ここでは、処理液除去の効率を上げるため
にエアーナイフと基板とを接近させる必要があり、エア
ーナイフと基板との間に搬送ローラを配置することはで
きない。したがって、エアーナイフは、所定の２つの搬
送ローラの基板搬送方向の間に、搬送ローラと重ならな
いように配置される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記のような付着液除
去装置では、搬送ローラは川幅方向に延設されるのに対
し、エアーナイフは、水はねの抑制及び基板後端での液
滴の効果的な除去等のために、川幅方向に対して所定の
角度だけ傾かせて配置されている。このため、処理する
基板が大型化してエアーナイフの川幅方向に沿った長さ
が長くなると、エアーナイフの基板搬送方向の長さも長
くなり、エアーナイフを挟んで隣接する搬送ローラの基
板搬送方向の設置スパンが大きくなる。このように搬送
ローラの設置スパンが大きくなると、搬送ローラに下面
を支持されながら搬送される基板は搬送ローラ間で大き
く垂れる。

【０００５】一方、一般に基板は上下１対のエアーナイ
フのまん中を通過させることが望ましいが、基板が大き
く垂れたのではエアーナイフのまん中を通過させること
は困難である。この結果、基板の上下面に対する気体吹
き付けのバランスが崩れて、処理液の除去効率が悪化す
る。本発明の課題は、基板に気体を吹き付けることによ
り基板に付着した処理液を除去する付着液除去装置にお
いて、基板の垂れを抑えて基板に付着している処理液の
除去の効率を向上させることにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る付着液除
去装置は、処理液が付着した基板に気体を吹き付けるこ
とにより処理液を基板から吹き飛ばして基板に付着した
処理液を除去する装置において、複数の搬送手段と、気
体吹付手段と、補助支持手段とを備えている。搬送手段
は基板を支持しつつ搬送する。気体吹付手段は、基板に
気体を吹き付ける手段であって、搬送手段の間に、基板
搬送方向と交差する方向に延設されている。補助支持手
段は、気体吹付手段に隣接しており、基板の下面を支持
して基板の変形を抑える。

【０００７】搬送されている基板に対して気体吹付手段
により気体が吹き付けられると、基板に付着していた処
理液が基板搬送方向上流側に押し流されて基板の後端か
ら後方へ吹き飛ばされる。このようにして基板に付着し
た処理液が除去されるが、気体吹付手段と基板との距離
が所定の寸法に保たれていなければ処理液の除去効率が
低下する。

【０００８】ここでは、気体吹付手段に隣接する補助支
持手段を設けて、気体吹付手段により気体が吹き付けら
れる基板の部分の垂れを抑えている。これにより、基板
サイズが大きくなって気体吹付手段の近傍で搬送手段に
より基板を支持できない場合にも、基板と気体吹付手段
との間の距離を所定の範囲に収めることができ、補助支
持手段がない場合に較べて処理液の除去効率が向上す
る。

【０００９】請求項２に係る付着液除去装置は、請求項
１に記載の付着液除去装置において、補助支持手段は気
体吹付手段の基板搬送方向両側に配置されている。ここ
では、補助支持手段が気体吹付手段の基板搬送方向両側
に配置されているため、より基板の垂れを抑えることが
でき、特に基板の前端部及び後端部が気体吹き付け位置
を通過する時にも基板と気体吹付手段との距離を適当な
範囲に保つことができる。

【００１０】請求項３に係る付着液除去装置は、処理液
が付着した基板に気体を吹き付けることにより処理液を
基板から吹き飛ばして基板に付着した処理液を除去する
付着液除去装置において、複数の搬送手段と、気体吹付
手段と、支持体と、補助支持手段とを備えている。搬送
手段は、基板搬送方向と実質的に直交する方向に沿って
延設されており、処理液が付着した基板の下面を支持し
ながら基板を搬送する。気体吹付手段は、少なくともあ
る２つの搬送手段の基板搬送方向の間に延設されるもの
で、基板搬送方向と交差する方向に沿って延設されてい
る。この気体吹付手段は、処理液が付着した基板に対し
て、上下両側から気体を吹き付ける。支持体は、搬送手
段の両端部を支持するとともに、気体吹付手段の両端部
を支持する。補助支持手段は、気体吹付手段とその気体
吹付手段に隣接する搬送手段との基板搬送方向の間に配
置されており、搬送される基板の下面を部分的に支持す
る。

【００１１】搬送されている基板に対して気体吹付手段
により気体が吹き付けられると、基板に付着していた処
理液が基板搬送方向上流側に押し流されて基板の後端か
ら後方へ吹き飛ばされる。このようにして基板に付着し
た処理液が除去されるが、気体吹付手段と基板との距離
が所定の寸法に保たれていなければ処理液の除去効率が
低下する。しかし、基板の川幅方向の寸法が大きくなる
と、基板に気体を吹き付ける気体吹付手段も川幅方向及
び基板搬送方向に長くなり、気体吹付手段を挟んで配置
される２つの搬送手段間の基板搬送方向の距離が長くな
る。すなわち、基板の支持スパンが大きくなり基板の垂
れが大きくなる。

【００１２】ここでは、気体吹付手段に隣接させて補助
支持手段を設け、これにより基板の下面を部分的に支持
させているため、気体吹付手段により気体が吹き付けら
れる基板の部分の垂れを抑えている。これにより、基板
サイズが大きくなって気体吹付手段の近傍で搬送手段に
より基板を支持できない場合にも、基板と気体吹付手段
との間の距離を所定の範囲に収めることができ、補助支
持手段がない場合に較べて基板からの処理液の除去効率
が向上する。また、補助支持手段は、基板の下面を川幅
方向に渡って支持しているのではなく基板の下面を部分
的に支持しているため、メンテナンス性の良さが確保さ
れる。

【００１３】請求項４に係る付着液処理装置は、請求項
３に記載の付着液除去装置において、搬送手段は、基板
搬送方向に直交する方向に延びる搬送ローラである。気
体吹付手段は、上側気体吹付部と、下側気体吹付部とを
有している。上側気体吹付部は基板の上面に気体を吹き
付け、下側気体吹付部は基板の下面に気体を吹き付け
る。補助支持手段は、補助ローラ支持部材と、補助ロー
ラ組立体とを有している。補助ローラ支持部材は、下側
気体吹付部の下部に配置されており、両端部が支持体に
支持されている。補助ローラ組立体は、補助ローラを含
んでいる組立体であって、補助ローラ支持部材から上方
に延びている。補助ローラは、基板の下面に接触して回
転する。

【００１４】ここでは、両支持体に補助ローラ支持部材
を渡して、それに補助ローラ組立体を固定している。し
たがって、補助ローラ支持部材を基板に近づけることに
より、基板からの荷重による補助ローラ組立体の変形を
小さく抑え、基板をより精度よく支持することが可能で
ある。また、補助ローラ支持部材は、両支持体に両端が
支持されており、片持ちの状態に較べて補助ローラ支持
部材自身の変形も抑えられている。

【００１５】請求項５に係る付着液除去装置は、請求項
３に記載の付着液除去装置において、搬送手段は、基板
搬送方向に直交する方向に延びる搬送ローラである。気
体吹付手段は、基板の上面に気体を吹き付ける上側気体
吹付部と、基板の下面に気体を吹き付ける下側気体吹付
部とを有している。補助支持手段は、補助ローラと、ア
ームとを有している。補助ローラは、基板の下面に接触
して回転する。アームは、上部が補助ローラを回転自在
に支持しており、下部が下側気体吹付部に装着されてい
る。

【００１６】ここでは、気体吹付手段の下側気体吹付部
にアームを装着し、そのアームに補助ローラを支持させ
ている。補助支持手段は気体吹付手段の近隣に配置され
るため、補助支持手段を気体吹付手段に装着することは
容易であり、アームの長さも小さく抑えることができ
る。さらに、補助支持手段の補助ローラと気体吹付手段
とがアームによって直接結ばれているため、両者間の距
離の寸法精度がよくなり、それにしたがって補助ローラ
に支持される基板と気体吹付手段との距離も精度が上が
る。これにより、基板からの処理液の除去効率が向上す
る。

【００１７】

【発明の実施の形態】［第１実施形態］本発明の一実施
形態である付着液除去装置２０を含む洗浄装置１を、図
１に示す。洗浄装置１は、搬入されてきた基板に対して
洗浄及び付着する洗浄液（処理液）の除去を施して搬出
する装置であり、搬送ローラ５と、洗浄ノズル１５が収
容されている洗浄チャンバー２と、付着液除去装置２０
が収容されている液切りチャンバー３とから構成されて
いる。

【００１８】基板Ｗは、洗浄チャンバー２の搬入口１２
から搬入され、搬送ローラ５によって水平姿勢で保持さ
れつつ洗浄チャンバー２内を図１の矢印Ａの方向（以
下、基板搬送方向という。）に搬送される。洗浄チャン
バー２内を搬送されている基板Ｗに対しては、複数の洗
浄ノズル１５から洗浄液が噴射され、上下両面の洗浄が
行われる。この後、基板Ｗは搬送ローラ５によって両チ
ャンバー２，３の連結口２２を通って液切りチャンバー
３に送られる。液切りチャンバー３では、搬送ローラ５
によって搬送されている基板Ｗに対して、エアーナイフ
２５，２６から気体が吹き付けられる。これにより、基
板Ｗに付着していた洗浄液が吹き飛ばされて、基板Ｗが
乾燥する。このように洗浄及び液切り処理が行われた基
板Ｗは、搬出口２３から搬出される。

【００１９】搬送ローラ５は、基板Ｗの川幅方向両端部
及び中央部を支持して水平に基板Ｗを保持するとともに
図１の矢印Ａの方向へ所定の速度で搬送する搬送手段で
あり、図示しないチェーン等を介してモータに連結され
ている。また、図２に示すように、搬送ローラ５の両端
は、液切りチャンバー３の両側壁（支持体）２１に支持
されている。

【００２０】洗浄チャンバー２内に配備された洗浄ノズ
ル１５は、搬送ローラ５により搬送される基板Ｗの上方
及び下方にそれぞれ複数設けられ、基板Ｗの上下両面に
向けて純水等の洗浄液を吹き付ける。洗浄チャンバー２
は、洗浄ノズル１５から吹き付けられた洗浄液が外に飛
散することを防止し、また外から洗浄チャンバー２内に
パーティクルが侵入することを防止する。また、洗浄チ
ャンバー２には、洗浄チャンバー２内の空気を図示しな
い排気手段により排気するとともに洗浄チャンバー２内
を流下する洗浄液を排水するための第１排気口１４が下
部に設けられている。

【００２１】液切りチャンバー３内の付着液除去装置２
０は、液切りチャンバー３内の搬送ローラ５と、エアー
ナイフ（気体吹付手段）２５，２６と、補助ローラ支持
ベース（補助支持部材の補助ローラ支持部材）３１及び
補助ローラ組立体３２〜３５とから構成されている。ま
た、液切りチャンバー３には、液切りチャンバー３内の
空気を図示しない排気手段により排気するとともに液切
りチャンバー３内で吹き飛ばされた洗浄液を排水するた
めの第２排気口２４が下部に設けられている。

【００２２】エアーナイフ２５，２６は、上側エアーナ
イフ（上側気体吹付部）２５と下側エアーナイフ（下側
気体吹付部）２６とから成るもので、搬送される基板Ｗ
に対して、上側エアーナイフ２５は上方に、下側エアー
ナイフ２６は下方に配置されている。このエアーナイフ
２５，２６は、基板Ｗの上面及び下面に向けて、図示し
ない気体供給源から供給された空気、窒素等の気体を先
端のスリット状の吐出口から帯状に噴射して、この気体
の圧力により基板Ｗに付着している洗浄液を吹き飛ばす
ものである。また、エアーナイフ２５，２６は、図２に
示すように、基板搬送方向（図２の矢印Ａ）に直交する
方向に対して、平面的に傾斜を有している。また、図２
及び図３に示すように、エアーナイフ２５，２６の両端
は、液切りチャンバー３の両側壁２１に支持されてい
る。

【００２３】補助ローラ支持ベース３１は、基板搬送方
向に直交する方向に延びる部材であって、図３に示すよ
うに、下側エアーナイフ２６の下部に配置され、その両
端が液切りチャンバー３の両側壁２１に固定されてい
る。補助ローラ組立体３２は、基板の川幅方向の中央付
近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送方向上流側
の位置に配置されている。この補助ローラ組立体３２
は、図１に示すように、第１，第２，及び第３支持部材
３２ａ，３２ｂ，３２ｃと補助ローラ３２ｄとから構成
されている。第１支持部材３２ａは補助ローラ支持ベー
ス３１に固定され、第２支持部材３２ｂは第１支持部材
３２ａに固定され、第３支持部材３２ｃは第２支持部材
３２ｂに固定される。第１支持部材３２ａに対する第２
支持部材３２ｂの固定位置は水平方向に調整可能であ
り、第２支持部材３２ｂに対する第３支持部材３２ｃの
固定位置は垂直方向に調整可能である。補助ローラ３２
ｄは、第３支持部材３２ｃに回転自在に支持されてお
り、その上面の高さは上側エアーナイフ２５と下側エア
ーナイフ２６との中間位置と基板Ｗの厚みの中心とが一
致するように合わされる。

【００２４】補助ローラ組立体３３は、基板の川幅方向
の中央付近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送方
向下流側の位置に配置されている。この補助ローラ組立
体３３は、図１に示すように、第１，第２，及び第３支
持部材３３ａ，３３ｂ，３３ｃと補助ローラ３３ｄとか
ら構成されている。第１支持部材３３ａは補助ローラ支
持ベース３１に固定され、第２支持部材３３ｂは第１支
持部材３３ａに固定され、第３支持部材３３ｃは第２支
持部材３３ｂに固定される。第１支持部材３３ａに対す
る第２支持部材３３ｂの固定位置は水平方向に調整可能
であり、第２支持部材３３ｂに対する第３支持部材３３
ｃの固定位置は垂直方向に調整可能である。補助ローラ
３３ｄは、第３支持部材３３ｃに回転自在に支持されて
おり、その上面の高さは上側エアーナイフ２５と下側エ
アーナイフ２６との中間位置と基板Ｗの厚みの中心とが
一致するように合わされる。

【００２５】補助ローラ組立体３４は、基板の川幅方向
の一端部付近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送
方向下流側の位置に配置されている。補助ローラ組立体
３４の構成については、上記補助ローラ組立体３３と同
様である。補助ローラ組立体３５は、基板Ｗの川幅方向
の他端部付近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送
方向上流側の位置に配置されている。補助ローラ組立体
３５の構成については、上記補助ローラ組立体３２と同
様である。

【００２６】次に、付着液除去装置２０による基板Ｗか
らの洗浄液の除去について説明する。搬送ローラ５によ
り搬送されている基板Ｗに対してエアーナイフ２５，２
６によって気体が吹き付けられると、基板Ｗに付着して
いた洗浄液が基板搬送方向上流側に押し流されて基板Ｗ
の後端から後方へ吹き飛ばされる。このようにして基板
Ｗに付着した洗浄液が除去されるが、エアーナイフ２
５，２６と基板Ｗとの各隙間寸法が所定の範囲内に保た
れていなければ洗浄液の除去効率が低下する。

【００２７】ここで、もし補助ローラ３２ｄ〜３５ｄが
存在していなければ、下側エアーナイフ２６をかわすた
めに下側エアーナイフ２６に隣接する両搬送ローラ５間
の基板搬送方向の設置スパンが大きくなっているため
（図１及び図２参照）、エアーナイフ２５，２６による
気体吹き付け位置を通過する基板Ｗの部分は大きな変形
を起こして垂れる。このような変形が生じていたので
は、上側エアーナイフ２５からの気流と下側エアーナイ
フ２６からの気流のバランスが乱れ、特に基板Ｗの後端
における洗浄液の除去効率が悪化する。

【００２８】しかし、ここでは、エアーナイフ２５，２
６に隣接させて補助ローラ３２ｄ〜３５ｄを設け、これ
により基板Ｗの下面を部分的に支持させている。このた
め、エアーナイフ２５，２６により気体が吹き付けられ
る基板Ｗの部分の垂れが抑えられる。したがって、基板
Ｗとエアーナイフ２５，２６との各隙間寸法を所定の範
囲に収めることができ、補助ローラ３２ｄ〜３５ｄがな
い場合に較べて基板Ｗからの洗浄液の除去効率が向上す
る。なお、補助ローラ組立体３２〜３５は、川幅方向に
点在しているため、メンテナンス性の良さが確保されて
いる。

【００２９】また、ここでは、液切りチャンバー３の両
側壁２１に補助ローラ支持ベース３１を渡して、それに
補助ローラ組立体３２〜３５を固定している。したがっ
て、液切りチャンバー３の側壁２１や底板等に補助ロー
ラ組立体３２〜３５を直接固定させる場合に較べて、補
助ローラ組立体３２〜３５の支持が安定する。これによ
り、基板Ｗからの荷重による補助ローラ組立体３２〜３
５の変形が小さくなり、基板Ｗをより精度よく支持する
ことができる。

【００３０】また、ここでは、補助ローラ組立体３２，
３３がエアーナイフ２５，２６の基板搬送方向両側に配
置されているため、より基板Ｗの垂れを抑えることがで
き、特に基板Ｗの前端部及び後端部がエアーナイフ２
５，２６による気体吹き付け位置を通過する時にも基板
Ｗとエアーナイフ２５，２６との各隙間寸法を適当な範
囲に保つことができる。なお、基板Ｗの川幅方向端部付
近においては基板搬送方向片側にのみ補助ローラ組立体
３４あるいは補助ローラ組立体３５を配置しているが、
これらの補助ローラ組立体３４，３５の位置は下側エア
ーナイフ２６に隣接する両搬送ローラ５のほぼ中間位置
であるため、基板Ｗの垂れは許容範囲に収まる。

【００３１】［第２実施形態］本発明の第２実施形態で
ある付着液除去装置１２０を含む洗浄装置１０１を、図
４に示す。洗浄装置１０１は、搬入されてきた基板に対
して洗浄及び付着する洗浄液（処理液）の除去を施して
搬出する装置である。なお、以降の説明において第１実
施形態と同一又は同様な部材の符号は同一符号を付すも
のとする。

【００３２】洗浄装置１０１は、搬送ローラ５と、洗浄
ノズル１５が収容されている洗浄チャンバー２と、付着
液除去装置１２０が収容されている液切りチャンバー３
とから構成されている。基板Ｗは、洗浄チャンバー２の
搬入口１２から搬入され、搬送ローラ５によって水平姿
勢で保持されつつ洗浄チャンバー２内を図４の矢印Ａの
方向（以下、基板搬送方向という。）に搬送される。洗
浄チャンバー２内を搬送されている基板Ｗに対しては、
複数の洗浄ノズル１５から洗浄液が噴射され、上下両面
の洗浄が行われる。この後、基板Ｗは搬送ローラ５によ
って両チャンバー２，３の連結口２２を通って液切りチ
ャンバー３に送られる。液切りチャンバー３では、搬送
ローラ５によって搬送されている基板Ｗに対して、エア
ーナイフ２５，２６から気体が吹き付けられる。これに
より、基板Ｗに付着していた洗浄液が吹き飛ばされて、
基板Ｗが乾燥する。このように洗浄及び液切り処理が行
われた基板Ｗは、搬出口２３から搬出される。

【００３３】搬送ローラ５は、基板Ｗの川幅方向両端部
及び中央部を支持して水平に基板Ｗを保持するとともに
図４の矢印Ａの方向へ所定の速度で搬送する搬送手段で
あり、図示しないチェーン等を介してモータに連結され
ている。また、図５に示すように、搬送ローラ５の両端
は、液切りチャンバー３の両側壁２１に支持されてい
る。

【００３４】洗浄チャンバー２内に配備された洗浄ノズ
ル１５は、搬送ローラ５により搬送される基板Ｗの上方
及び下方にそれぞれ複数設けられ、基板Ｗの上下両面に
向けて純水等の洗浄液を吹き付ける。洗浄チャンバー２
は、洗浄ノズル１５から吹き付けられた洗浄液が外に飛
散することを防止し、また外から洗浄チャンバー２内に
パーティクルが侵入することを防止する。また、洗浄チ
ャンバー２には、洗浄チャンバー２内の空気を図示しな
い排気手段により排気するとともに洗浄チャンバー２内
を流下する洗浄液を排水するための第１排気口１４が下
部に設けられている。

【００３５】液切りチャンバー３内の付着液除去装置１
２０は、液切りチャンバー３内の搬送ローラ５と、エア
ーナイフ（気体吹付手段）２５，２６と、補助ローラ組
立体４１〜４４とから構成されている。また、液切りチ
ャンバー３には、液切りチャンバー３内の空気を図示し
ない排気手段により排気するとともに液切りチャンバー
３内で吹き飛ばされた洗浄液を排水するための第２排気
口２４が下部に設けられている。

【００３６】エアーナイフ２５，２６は、上側エアーナ
イフ（上側気体吹付部）２５と下側エアーナイフ（下側
気体吹付部）２６とから成るもので、搬送される基板Ｗ
に対して、上側エアーナイフ２５は上方に、下側エアー
ナイフ２６は下方に配置されている。このエアーナイフ
２５，２６は、基板Ｗの上面及び下面に向けて、図示し
ない気体供給源から供給された空気、窒素等の気体を先
端のスリット状の吐出口から帯状に噴射して、この気体
の圧力により基板Ｗに付着している洗浄液を吹き飛ばす
ものである。また、エアーナイフ２５，２６は、図５に
示すように、基板搬送方向（図５の矢印Ａ）に直交する
方向に対して、平面的に傾斜を有している。また、図５
及び図６に示すように、エアーナイフ２５，２６の両端
は、液切りチャンバー３の両側壁２１に支持されてい
る。

【００３７】補助ローラ組立体４１は、基板の川幅方向
の中央付近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送方
向上流側の位置に配置されている。この補助ローラ組立
体４１は、図４に示すように、アーム４１ａと補助ロー
ラ４１ｂとから構成されている。アーム４１ａの下部
は、下側エアーナイフ２６の基板搬送方向上流側の面に
固定され、アーム４１ａの上部は、補助ローラ４１ｂを
回転自在に支持する。また、アーム４１ａは、補助ロー
ラ４１ｂの位置を水平方向及び垂直方向に調整すること
ができるような調節機能を備えている。補助ローラ４１
ｂの上面の高さは、上側エアーナイフ２５と下側エアー
ナイフ２６との中間位置と基板Ｗの厚みの中心とが一致
するように合わされている。

【００３８】補助ローラ組立体４２は、基板の川幅方向
の中央付近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送方
向下流側の位置に配置されている。この補助ローラ組立
体４２は、図４に示すように、アーム４２ａと補助ロー
ラ４２ｂとから構成されている。アーム４２ａは、下側
エアーナイフ２６の基板搬送方向下流側の面に固定され
る。アーム４２ａの上端部は、補助ローラ４２ｂを回転
自在に支持する。また、アーム４２ａは、補助ローラ４
２ｂの位置を水平方向及び垂直方向に調整することがで
きるような調節機能を備えている。補助ローラ４２ｂの
上面の高さは、上側エアーナイフ２５と下側エアーナイ
フ２６との中間位置と基板Ｗの厚みの中心とが一致する
ように合わされている。

【００３９】補助ローラ組立体４３は、基板の川幅方向
の一端部付近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送
方向下流側の位置に配置されている。補助ローラ組立体
４３の構成については、上記補助ローラ組立体４２と同
様である。補助ローラ組立体４４は、基板Ｗの川幅方向
の他端部付近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送
方向上流側の位置に配置されている。補助ローラ組立体
４４の構成については、上記補助ローラ組立体４１と同
様である。

【００４０】次に、付着液除去装置１２０による基板Ｗ
からの洗浄液の除去について説明する。搬送ローラ５に
より搬送されている基板Ｗに対してエアーナイフ２５，
２６によって気体が吹き付けられると、基板Ｗに付着し
ていた洗浄液が基板搬送方向上流側に押し流されて基板
Ｗの後端から後方へ吹き飛ばされる。このようにして基
板Ｗに付着した洗浄液が除去されるが、エアーナイフ２
５，２６と基板Ｗとの各隙間寸法が所定の範囲内に保た
れていなければ洗浄液の除去効率が低下する。

【００４１】ここで、もし補助ローラ４１ｂ〜４４ｂが
存在していなければ、下側エアーナイフ２６をかわすた
めに下側エアーナイフ２６に隣接する両搬送ローラ５間
の基板搬送方向の設置スパンが大きくなっているため
（図４及び図５参照）、エアーナイフ２５，２６による
気体吹き付け位置を通過する基板Ｗの部分は大きな変形
を起こして垂れる。このような変形が生じていたので
は、上側エアーナイフ２５からの気流と下側エアーナイ
フ２６からの気流のバランスが乱れ、特に基板Ｗの後端
における洗浄液の除去効率が悪化する。

【００４２】しかし、ここでは、エアーナイフ２５，２
６に隣接させて補助ローラ４１ｂ〜４４ｂを設け、これ
により基板Ｗの下面を部分的に支持させている。このた
め、エアーナイフ２５，２６により気体が吹き付けられ
る基板Ｗの部分の垂れが抑えられる。したがって、基板
Ｗとエアーナイフ２５，２６との各隙間寸法を所定の範
囲に収めることができ、補助ローラ４１ｂ〜４４ｂがな
い場合に較べて基板Ｗからの洗浄液の除去効率が向上す
る。なお、補助ローラ組立体４１〜４４は、川幅方向に
点在しているため、メンテナンス性の良さが確保されて
いる。

【００４３】また、ここでは、補助ローラ組立体４１，
４２がエアーナイフ２５，２６の基板搬送方向両側に配
置されているため、より基板Ｗの垂れを抑えることがで
き、特に基板Ｗの前端部及び後端部がエアーナイフ２
５，２６による気体吹き付け位置を通過する時にも基板
Ｗとエアーナイフ２５，２６との隙間寸法を適当な範囲
に保つことができる。なお、基板Ｗの川幅方向端部付近
においては基板搬送方向片側にのみ補助ローラ組立体４
３あるいは補助ローラ組立体４４を配置しているが、こ
れらの補助ローラ組立体４３，４４の位置は下側エアー
ナイフ２６に隣接する両搬送ローラ５のほぼ中間位置で
あるため、基板Ｗの垂れは許容範囲に収まる。

【００４４】また、ここでは、下側エアーナイフ２６に
アーム４１ａ〜４４ａを装着し、そのアーム４１ａ〜４
４ａに補助ローラ４１ｂ〜４４ｂを支持させている。補
助ローラ組立体４１〜４４はエアーナイフ２５，２６の
近隣に配置する必要があることから、補助ローラ組立体
４１〜４４を下側エアーナイフ２６に装着することは容
易であり、アーム４１ａ〜４４ａの長さも小さく抑えら
れている。さらに、補助ローラ４１ｂ〜４４ｂと下側エ
アーナイフ２６とがアーム４１ａ〜４４ａによって直接
結ばれているため、両者（補助ローラ４１ｂ〜４４ｂと
下側エアーナイフ２６）間の距離の寸法精度がよくな
り、それにしたがって補助ローラ４１ｂ〜４４ｂに支持
される基板Ｗとエアーナイフ２５，２６との隙間寸法も
精度が上がっている。これにより、装置の組立や調整が
容易になり、また、基板Ｗからの洗浄液の除去効率が向
上している。

【００４５】なお、この実施形態では、補助ローラ４１
ｂ〜４４ｂと下側エアーナイフ２６と間の寸法精度が向
上するので、アーム４１ａ，４２ａ等が持っている補助
ローラ４１ｂ〜４４ｂの位置調整機能を省略することも
可能であり、その場合には装置の構造をより簡素化でき
る。

【００４６】

【発明の効果】本発明では、気体吹付手段に隣接させて
補助支持手段を設けて気体吹付手段により気体が吹き付
けられる基板の部分の垂れを抑えているため、基板と気
体吹付手段との間の距離を所定の範囲に収めることがで
き、補助支持手段がない場合に較べて基板からの処理液
の除去効率を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施形態による付着液除去装置を
含む洗浄装置の縦断面図。

【図２】液切りチャンバーの上面図。

【図３】図２のIII −III 矢視図。

【図４】本発明の第２実施形態による付着液除去装置を
含む洗浄装置の縦断面図。

【図５】第２実施形態の液切りチャンバーの上面図。

【図６】図５のVI−VI矢視図。

【符号の説明】

５搬送ローラ（搬送手段）２０，１２０，付着液除去装置２１側壁（支持体）２５上側エアーナイフ（気体吹付手段の
上側気体吹付部）２６下側エアーナイフ（気体吹付手段の
下側気体吹付部）３１補助ローラ支持ベース３２〜３５補助ローラ組立体３２ｄ〜３５ｄ補助ローラ４１〜４４補助ローラ組立体４１ａ〜４４ａアーム４１ｂ〜４４ｂ補助ローラ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】処理液が付着した基板に気体を吹き付ける
ことにより処理液を基板から吹き飛ばして基板に付着し
た処理液を除去する付着液除去装置において、基板を支持しつつ搬送する複数の搬送手段と、前記搬送手段の間に基板搬送方向と交差する方向に延設
され、基板に気体を吹き付ける気体吹付手段と、前記気体吹付手段に隣接し、基板の下面を支持して基板
の変形を抑える補助支持手段と、を備えた付着液除去装
置。
【請求項２】前記補助支持手段は前記気体吹付手段の基
板搬送方向両側に配置される、請求項１に記載の付着液
除去装置。
【請求項３】処理液が付着した基板に気体を吹き付ける
ことにより処理液を基板から吹き飛ばして基板に付着し
た処理液を除去する付着液除去装置において、基板搬送方向と実質的に直交する方向に沿って延設さ
れ、処理液が付着した基板の下面を支持しつつ搬送する
複数の搬送手段と、少なくともある２つの前記搬送手段の基板搬送方向の間
に基板搬送方向と交差する方向に沿って延設され、処理
液が付着した基板に上下両側から気体を吹き付ける気体
吹付手段と、前記搬送手段の両端部、及び前記気体吹付手段の両端部
を支持する支持体と、前記気体吹付手段と前記気体吹付手段に隣接する前記搬
送手段との基板搬送方向の間に配置され、搬送される基
板の下面を部分的に支持する補助支持手段と、を備えた
付着液除去装置。
【請求項４】前記搬送手段は、基板搬送方向に直交する
方向に延びる搬送ローラであり、前記気体吹付手段は、基板の上面に気体を吹き付ける上
側気体吹付部と、基板の下面に気体を吹き付ける下側気
体吹付部とを有しており、前記補助支持手段は、前記下側気体吹付部の下部に配置
され両端部が前記支持体に支持される補助ローラ支持部
材と、基板の下面に接触して回転する補助ローラを含み
前記補助ローラ支持部材から上方に延びる補助ローラ組
立体とを有している、請求項３に記載の付着液除去装
置。
【請求項５】前記搬送手段は、基板搬送方向に直交する
方向に延びる搬送ローラであり、前記気体吹付手段は、基板の上面に気体を吹き付ける上
側気体吹付部と、基板の下面に気体を吹き付ける下側気
体吹付部とを有しており、前記補助支持手段は、基板の下面に接触して回転する補
助ローラと、上部が前記補助ローラを回転自在に支持し
下部が前記下側気体吹付部に装着されるアームとを有し
ている、請求項３に記載の付着液除去装置。