JPH11207168A - ダイヤモンド合成方法 - Google Patents
ダイヤモンド合成方法Info
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- JPH11207168A JPH11207168A JP2251398A JP2251398A JPH11207168A JP H11207168 A JPH11207168 A JP H11207168A JP 2251398 A JP2251398 A JP 2251398A JP 2251398 A JP2251398 A JP 2251398A JP H11207168 A JPH11207168 A JP H11207168A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 薄膜法によるダイヤモンド合成における溶媒
金属の取り込みを減少すること。 【解決手段】 非ダイヤモンド炭素層と溶媒金属層を積
層し、非ダイヤモンド炭素層と溶媒金属層の境界領域に
ダイヤモンド種結晶を配置し、ダイヤモンドの安定領域
の圧力及び温度条件下でダイヤモンド結晶を成長させる
ダイヤモンド合成方法において、(111)面の成長速
度が(100)面の成長速度より速い低温条件下で結晶
成長を行う場合には、非ダイヤモンド炭素層と溶媒金属
層の境界面に対して種結晶の(111)面を平行になる
ように配置し、(100)面の成長速度が(111)面
の成長速度より速い高温条件下で結晶成長を行う場合に
は、非ダイヤモンド炭素層と溶媒金属層の境界面に対し
て種結晶の(100)面を平行になるように配置する。
金属の取り込みを減少すること。 【解決手段】 非ダイヤモンド炭素層と溶媒金属層を積
層し、非ダイヤモンド炭素層と溶媒金属層の境界領域に
ダイヤモンド種結晶を配置し、ダイヤモンドの安定領域
の圧力及び温度条件下でダイヤモンド結晶を成長させる
ダイヤモンド合成方法において、(111)面の成長速
度が(100)面の成長速度より速い低温条件下で結晶
成長を行う場合には、非ダイヤモンド炭素層と溶媒金属
層の境界面に対して種結晶の(111)面を平行になる
ように配置し、(100)面の成長速度が(111)面
の成長速度より速い高温条件下で結晶成長を行う場合に
は、非ダイヤモンド炭素層と溶媒金属層の境界面に対し
て種結晶の(100)面を平行になるように配置する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はダイヤモンド合成方
法に係わり、より詳しくは積層法ダイヤモンド合成にお
いてダイヤモンドの成長結晶への溶媒金属の取り込みを
減少させる方法に関する。
法に係わり、より詳しくは積層法ダイヤモンド合成にお
いてダイヤモンドの成長結晶への溶媒金属の取り込みを
減少させる方法に関する。
【0002】
【従来の技術】静的高圧法でダイヤモンドを合成する場
合、発生する核の数を制御し、相平行線のごく近傍にあ
る温度と圧力の下で結晶を成長させることが包有物の少
ない、形の良い結晶を得る上で重要である。そこで、種
結晶を用いて発生する核の数を制御することが有効な手
段である。
合、発生する核の数を制御し、相平行線のごく近傍にあ
る温度と圧力の下で結晶を成長させることが包有物の少
ない、形の良い結晶を得る上で重要である。そこで、種
結晶を用いて発生する核の数を制御することが有効な手
段である。
【0003】静的超高圧力下でダイヤモンドを合成する
方法として薄膜法がある。薄膜法は、ダイヤモンド種結
晶の粒子の周囲に付着した溶媒金属の薄い膜を介して原
料炭素を溶解させ炭素とダイヤモンドの溶解度差によっ
てダイヤモンドを成長させる方法である。しかし、種結
晶を用いれば核発生の数は制御し得るが、炭素濃度が過
飽和度の高い領域でダイヤモンドを成長させると良いダ
イヤモンドが得られず、結晶の形も悪くなり、また包有
物も多くなる。薄膜法で、所望の粒度で粒度分布幅が小
さく、包有物が少なく、機械的特性に優れるダイヤモン
ド結晶を製造するためには、工業的な超高圧合成装置に
おいて安定領域側の相平衡線のごく近傍にある温度、圧
力条件に保持する必要がある。そこで、溶媒物質板と非
ダイヤモンド炭素板を積層し、その界面に種結晶を規則
的に配置させて、種結晶ごとに結晶成長条件が異なるこ
とがないようにしてダイヤモンドを合成する方法が開示
されている(特開昭61−68395号公報)。
方法として薄膜法がある。薄膜法は、ダイヤモンド種結
晶の粒子の周囲に付着した溶媒金属の薄い膜を介して原
料炭素を溶解させ炭素とダイヤモンドの溶解度差によっ
てダイヤモンドを成長させる方法である。しかし、種結
晶を用いれば核発生の数は制御し得るが、炭素濃度が過
飽和度の高い領域でダイヤモンドを成長させると良いダ
イヤモンドが得られず、結晶の形も悪くなり、また包有
物も多くなる。薄膜法で、所望の粒度で粒度分布幅が小
さく、包有物が少なく、機械的特性に優れるダイヤモン
ド結晶を製造するためには、工業的な超高圧合成装置に
おいて安定領域側の相平衡線のごく近傍にある温度、圧
力条件に保持する必要がある。そこで、溶媒物質板と非
ダイヤモンド炭素板を積層し、その界面に種結晶を規則
的に配置させて、種結晶ごとに結晶成長条件が異なるこ
とがないようにしてダイヤモンドを合成する方法が開示
されている(特開昭61−68395号公報)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記のような薄膜法に
よるダイヤモンド合成においても、成長したダイヤモン
ド結晶への溶媒金属などの取り込み(包有物)をなくす
ことは困難であった。特にダイヤモンド収量を上げるた
めに生成密度を高くした場合に顕著になる傾向がある。
そのため得られるダイヤモンド結晶の品質、機械的特性
も劣るものになっていた。
よるダイヤモンド合成においても、成長したダイヤモン
ド結晶への溶媒金属などの取り込み(包有物)をなくす
ことは困難であった。特にダイヤモンド収量を上げるた
めに生成密度を高くした場合に顕著になる傾向がある。
そのため得られるダイヤモンド結晶の品質、機械的特性
も劣るものになっていた。
【0005】そこで、本発明は、薄膜法によるダイヤモ
ンド合成において、特に溶媒金属の取り込みを減少させ
て、高品質、高機械的強度のダイヤモンド結晶を成長さ
せる方法を提供することを目的とする。
ンド合成において、特に溶媒金属の取り込みを減少させ
て、高品質、高機械的強度のダイヤモンド結晶を成長さ
せる方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、非ダイヤモンド炭素層と溶媒金属層を積
層し、非ダイヤモンド炭素層と溶媒金属層の境界領域に
ダイヤモンド種結晶を配置し、ダイヤモンドの安定領域
の圧力及び温度条件下でダイヤモンド結晶を成長させる
ダイヤモンド合成方法において、(111)面の成長速
度が(100)面の成長速度より速い低温条件下で結晶
成長を行う場合には、非ダイヤモンド炭素層と溶媒金属
層の境界面に対して種結晶の(111)面を平行になる
ように配置し、(100)面の成長速度が(111)面
の成長速度より速い高温条件下で結晶成長を行う場合に
は、非ダイヤモンド炭素層と溶媒金属層の境界面に対し
て種結晶の(100)面を平行になるように配置するこ
とを特徴とするダイヤモンド合成方法を提供する。
決するために、非ダイヤモンド炭素層と溶媒金属層を積
層し、非ダイヤモンド炭素層と溶媒金属層の境界領域に
ダイヤモンド種結晶を配置し、ダイヤモンドの安定領域
の圧力及び温度条件下でダイヤモンド結晶を成長させる
ダイヤモンド合成方法において、(111)面の成長速
度が(100)面の成長速度より速い低温条件下で結晶
成長を行う場合には、非ダイヤモンド炭素層と溶媒金属
層の境界面に対して種結晶の(111)面を平行になる
ように配置し、(100)面の成長速度が(111)面
の成長速度より速い高温条件下で結晶成長を行う場合に
は、非ダイヤモンド炭素層と溶媒金属層の境界面に対し
て種結晶の(100)面を平行になるように配置するこ
とを特徴とするダイヤモンド合成方法を提供する。
【0007】本発明者は、ダイヤモンド結晶への溶媒金
属の包有は、ダイヤモンド結晶の特定の結晶面に多くあ
らわれることを見出した。図1および図2を参照して説
明する。原料炭素としてのグラファイト1と溶媒金属2
を積層し、その界面にダイヤモンド種結晶を配置して、
ダイヤモンドの安定領域の圧力及び温度条件下でダイヤ
モンド結晶を成長させる場合、図2に示すように、ダイ
ヤモンド種結晶あるいはその成長中の結晶粒3は溶融し
た溶媒金属膜4でその表面が覆われ、この溶融金属膜4
に黒鉛の炭素が溶解し、炭素は溶融金属膜4中を通って
低温のダイヤモンド結晶粒3の表面に達してダイヤモン
ドとして成長する。
属の包有は、ダイヤモンド結晶の特定の結晶面に多くあ
らわれることを見出した。図1および図2を参照して説
明する。原料炭素としてのグラファイト1と溶媒金属2
を積層し、その界面にダイヤモンド種結晶を配置して、
ダイヤモンドの安定領域の圧力及び温度条件下でダイヤ
モンド結晶を成長させる場合、図2に示すように、ダイ
ヤモンド種結晶あるいはその成長中の結晶粒3は溶融し
た溶媒金属膜4でその表面が覆われ、この溶融金属膜4
に黒鉛の炭素が溶解し、炭素は溶融金属膜4中を通って
低温のダイヤモンド結晶粒3の表面に達してダイヤモン
ドとして成長する。
【0008】このとき、ダイヤモンド結晶粒3の表面を
覆っている溶融金属膜4はほぼ一様な厚さであるが、溶
媒金属層2と接する部分4aでは表面張力の作用で厚く
なり、不連続な膜厚になる。溶融金属の包有物がダイヤ
モンド結晶の溶媒金属層2と近接する下側面3a(溶融
金属膜4の部分4aに面した部分)で多いのである。さ
らに、このダイヤモンド結晶の溶媒金属層2と近接する
下側面3aにおける溶媒金属の包有物は、ダイヤモンド
結晶合成の圧力、温度条件が六面体寄りのダイヤモンド
結晶を成長させるような条件(低温側条件)の場合には
(111)面に、またダイヤモンド結晶合成の圧力、温
度条件が八面体寄りのダイヤモンド結晶を成長させるよ
うな条件(高温側条件)の場合には(100)面に、多
く溶媒金属の包有が発生することが認められた。
覆っている溶融金属膜4はほぼ一様な厚さであるが、溶
媒金属層2と接する部分4aでは表面張力の作用で厚く
なり、不連続な膜厚になる。溶融金属の包有物がダイヤ
モンド結晶の溶媒金属層2と近接する下側面3a(溶融
金属膜4の部分4aに面した部分)で多いのである。さ
らに、このダイヤモンド結晶の溶媒金属層2と近接する
下側面3aにおける溶媒金属の包有物は、ダイヤモンド
結晶合成の圧力、温度条件が六面体寄りのダイヤモンド
結晶を成長させるような条件(低温側条件)の場合には
(111)面に、またダイヤモンド結晶合成の圧力、温
度条件が八面体寄りのダイヤモンド結晶を成長させるよ
うな条件(高温側条件)の場合には(100)面に、多
く溶媒金属の包有が発生することが認められた。
【0009】図3に、ダイヤモンドの合成条件(温度)
と成長するダイヤモンドの結晶形との関係を示す。低温
側では{100}単形、すなわち、立方体結晶が成長
し、高温側では{111}単形、すなわち、正八面体結
晶が成長し、その中間温度では{100}/{111}
集形の結晶が成長する。要するに、低温側では(11
1)面の成長速度が(100)面の成長速度より速いた
めに{100}単形(a)ないし{100}面の方が大
きい{100}/{111}集形(b)の結晶が成長す
る一方、高温側では(100)面の成長速度が(11
1)面の成長速度より速いために{111}単形(e)
ないし{111}面の方が大きい{100}/{11
1}集形(d)の結晶が成長するのである。
と成長するダイヤモンドの結晶形との関係を示す。低温
側では{100}単形、すなわち、立方体結晶が成長
し、高温側では{111}単形、すなわち、正八面体結
晶が成長し、その中間温度では{100}/{111}
集形の結晶が成長する。要するに、低温側では(11
1)面の成長速度が(100)面の成長速度より速いた
めに{100}単形(a)ないし{100}面の方が大
きい{100}/{111}集形(b)の結晶が成長す
る一方、高温側では(100)面の成長速度が(11
1)面の成長速度より速いために{111}単形(e)
ないし{111}面の方が大きい{100}/{11
1}集形(d)の結晶が成長するのである。
【0010】図1〜2に戻ると、成長中のダイヤモンド
結晶粒3の溶媒金属層2と近接する下側面3aが(11
1)面の場合に溶媒金属の包有物が多くなったのは、低
温側合成条件の場合であり、(100)面の場合に溶媒
金属の包有が多くなったのは、高温側合成条件の場合で
あった。これは、低温側合成条件下では、ダイヤモンド
の(111)面の成長速度が(100)面の成長速度よ
り速いので、ダイヤモンド結晶粒3の下側部分3aが
(111)面であると、(111)面であるダイヤモン
ド結晶粒の下側部分3aへの溶解炭素の移動速度が速く
なければならいが、その部分3aでは溶融金属膜4aの
膜厚が厚いために(111)面の成長中に溶融金属を巻
き込み易くなる。逆に、高温側合成条件下では、ダイヤ
モンドの(100)面の成長速度が(111)面の成長
速度より速いので、ダイヤモンド結晶粒3の下側部分3
aが(100)面であると、(100)面であるダイヤ
モンド結晶粒の下側部分3aへの溶解炭素の移動速度が
速くなければならいが、その部分3aでは溶融金属膜4
aの膜厚が厚いために(100)面の成長中に溶融金属
を巻き込み易いからである。
結晶粒3の溶媒金属層2と近接する下側面3aが(11
1)面の場合に溶媒金属の包有物が多くなったのは、低
温側合成条件の場合であり、(100)面の場合に溶媒
金属の包有が多くなったのは、高温側合成条件の場合で
あった。これは、低温側合成条件下では、ダイヤモンド
の(111)面の成長速度が(100)面の成長速度よ
り速いので、ダイヤモンド結晶粒3の下側部分3aが
(111)面であると、(111)面であるダイヤモン
ド結晶粒の下側部分3aへの溶解炭素の移動速度が速く
なければならいが、その部分3aでは溶融金属膜4aの
膜厚が厚いために(111)面の成長中に溶融金属を巻
き込み易くなる。逆に、高温側合成条件下では、ダイヤ
モンドの(100)面の成長速度が(111)面の成長
速度より速いので、ダイヤモンド結晶粒3の下側部分3
aが(100)面であると、(100)面であるダイヤ
モンド結晶粒の下側部分3aへの溶解炭素の移動速度が
速くなければならいが、その部分3aでは溶融金属膜4
aの膜厚が厚いために(100)面の成長中に溶融金属
を巻き込み易いからである。
【0011】そこで、本発明では、ダイヤモンド結晶粒
の下側部分3aにその合成条件下で成長速度の遅い結晶
面を選択的に配置させて、ダイヤモンド結晶粒の下側部
分3aにおける溶融金属の巻き込み(包有)を減少させ
るようにした。具体的には、(111)面の成長速度が
(100)面の成長速度より速い低温条件下で結晶成長
を行う場合には、非ダイヤモンド炭素層と溶媒金属層の
境界面に対して種結晶の(111)面を平行にし、種結
晶の(111)面3bを溶媒金属層2に対面させて配置
した。(100)面の成長速度が(111)面の成長速
度より速い高温条件下で結晶成長を行う場合には、非ダ
イヤモンド炭素層と溶媒金属層の境界面に対して種結晶
の(100)面を平行にし、種結晶の(100)面3b
を溶媒金属層2に対面させて配置した。種結晶の配向配
置は、種結晶3の溶媒金属層2と近接する面3aを成長
速度の遅い面にすることが目的であるので、溶媒金属層
2に対面させる種結晶3の底面3bを上記特定の結晶面
にすることが必要であり、またそれで充分である。この
とき、種結晶の成長速度の速い結晶面が非ダイヤモンド
炭素層と溶媒金属層の境界面に対して平行になると、同
時に成長速度の速い結晶面も平行になることは原則とし
てない。
の下側部分3aにその合成条件下で成長速度の遅い結晶
面を選択的に配置させて、ダイヤモンド結晶粒の下側部
分3aにおける溶融金属の巻き込み(包有)を減少させ
るようにした。具体的には、(111)面の成長速度が
(100)面の成長速度より速い低温条件下で結晶成長
を行う場合には、非ダイヤモンド炭素層と溶媒金属層の
境界面に対して種結晶の(111)面を平行にし、種結
晶の(111)面3bを溶媒金属層2に対面させて配置
した。(100)面の成長速度が(111)面の成長速
度より速い高温条件下で結晶成長を行う場合には、非ダ
イヤモンド炭素層と溶媒金属層の境界面に対して種結晶
の(100)面を平行にし、種結晶の(100)面3b
を溶媒金属層2に対面させて配置した。種結晶の配向配
置は、種結晶3の溶媒金属層2と近接する面3aを成長
速度の遅い面にすることが目的であるので、溶媒金属層
2に対面させる種結晶3の底面3bを上記特定の結晶面
にすることが必要であり、またそれで充分である。この
とき、種結晶の成長速度の速い結晶面が非ダイヤモンド
炭素層と溶媒金属層の境界面に対して平行になると、同
時に成長速度の速い結晶面も平行になることは原則とし
てない。
【0012】より具体的には、種結晶の(111)面が
溶媒金属層に対面するように配向配置させるために、高
温型八面体結晶を種結晶として用い、これを溶媒金属層
上に置く方法が簡便である。ここで、高温型八面体結晶
は完全な正八面体(図2のe)が好ましいが、八面体面
を主要部とし六面体面を少量部とする結晶(図2のd)
でもよい。
溶媒金属層に対面するように配向配置させるために、高
温型八面体結晶を種結晶として用い、これを溶媒金属層
上に置く方法が簡便である。ここで、高温型八面体結晶
は完全な正八面体(図2のe)が好ましいが、八面体面
を主要部とし六面体面を少量部とする結晶(図2のd)
でもよい。
【0013】種結晶の(100)面が溶媒金属層に対面
するように配向配置させるために、低温型六面体結晶を
種結晶として用い、これを溶媒金属層上に置く方法が簡
便である。ここで、高温型六面体結晶は完全な正六面体
(図2のa)が好ましいが、六面体面を主要部とし八面
体面を少量部とする結晶(図2のb)でもよい。このよ
うな結晶形を用いれば、種結晶を溶媒金属層上に特別の
工夫なしで普通に置くだけで、簡単に結晶成長速度が速
い結晶面を下3bにして溶媒金属層上に配向配置させる
ことができる。
するように配向配置させるために、低温型六面体結晶を
種結晶として用い、これを溶媒金属層上に置く方法が簡
便である。ここで、高温型六面体結晶は完全な正六面体
(図2のa)が好ましいが、六面体面を主要部とし八面
体面を少量部とする結晶(図2のb)でもよい。このよ
うな結晶形を用いれば、種結晶を溶媒金属層上に特別の
工夫なしで普通に置くだけで、簡単に結晶成長速度が速
い結晶面を下3bにして溶媒金属層上に配向配置させる
ことができる。
【0014】また、結晶形が混在した種結晶を用いる場
合にも、特定の結晶面を下にして溶媒金属層上に置く工
夫をすれば、本発明は適用できる。本発明は、種結晶の
配置の向きを制御する以外は、公知のダイヤモンド合成
の方法、装置、条件を採用することができる。溶媒物質
としては、鉄、コバルト、ニッケルなどの周期律表VIII
属の金属や、クロム、タンタルなど通常ダイヤモンド合
成において溶媒金属として使用されているものを広く用
いることができる。
合にも、特定の結晶面を下にして溶媒金属層上に置く工
夫をすれば、本発明は適用できる。本発明は、種結晶の
配置の向きを制御する以外は、公知のダイヤモンド合成
の方法、装置、条件を採用することができる。溶媒物質
としては、鉄、コバルト、ニッケルなどの周期律表VIII
属の金属や、クロム、タンタルなど通常ダイヤモンド合
成において溶媒金属として使用されているものを広く用
いることができる。
【0015】また、溶媒金属への炭素の溶解性の制御、
あるいはダイヤモンド種と炭素との接触の抑制、さらに
は酸素や窒素がダイヤモンドに侵入するのを防ぐ固定化
剤として他の金属または化合物を、溶媒金属重量に基づ
き、50重量%以下程度の範囲で添加することかできる。
かかる金属としてはMg, Ca, Ti, Zr, V, Nb, Zn, Y,Mo,
W, Cu, Au, Ag, Si, B, Al, Ge, In, Sm, Pbおよびカ
ーバイド、ボライドなどを挙げることができる。
あるいはダイヤモンド種と炭素との接触の抑制、さらに
は酸素や窒素がダイヤモンドに侵入するのを防ぐ固定化
剤として他の金属または化合物を、溶媒金属重量に基づ
き、50重量%以下程度の範囲で添加することかできる。
かかる金属としてはMg, Ca, Ti, Zr, V, Nb, Zn, Y,Mo,
W, Cu, Au, Ag, Si, B, Al, Ge, In, Sm, Pbおよびカ
ーバイド、ボライドなどを挙げることができる。
【0016】種結晶の寸法は限定されないが、通常は2
0〜200μm 程度の粒径のものが用いられる。20μ
m より小さいと一粒づつ溶媒金属層と原料炭素層の間に
配置するのが難しく、200μm より大きいと成長初期
に溶媒金属の取込みが問題となる。種結晶に溶媒物質そ
の他の物質でめっきしたり、帯電防止性を付与してもよ
い。
0〜200μm 程度の粒径のものが用いられる。20μ
m より小さいと一粒づつ溶媒金属層と原料炭素層の間に
配置するのが難しく、200μm より大きいと成長初期
に溶媒金属の取込みが問題となる。種結晶に溶媒物質そ
の他の物質でめっきしたり、帯電防止性を付与してもよ
い。
【0017】種結晶の配置パターンは特に限定するわけ
ではないが、相互に等間隔に形成すると、結晶成長後の
結晶寸法が一様になり、粒度を揃える上で好ましい。種
結晶の配置間隔は成長させる結晶の寸法より50〜30
0μm 大きめの寸法がよい。間隔が50μm より小さい
と結晶成長過程において種結晶相互間の干渉のため粒子
どうしがくっつき合ったり、成長を阻害されたりして、
粒度分布の小さい良質の成長結晶が得られにくくなる。
間隔が300μm より大きいと、局部的な飽和濃度のア
ンバランスを生じ、結晶成長にバラツキを生じるため、
粒度分布が大きくなり、また生産性が低下する。
ではないが、相互に等間隔に形成すると、結晶成長後の
結晶寸法が一様になり、粒度を揃える上で好ましい。種
結晶の配置間隔は成長させる結晶の寸法より50〜30
0μm 大きめの寸法がよい。間隔が50μm より小さい
と結晶成長過程において種結晶相互間の干渉のため粒子
どうしがくっつき合ったり、成長を阻害されたりして、
粒度分布の小さい良質の成長結晶が得られにくくなる。
間隔が300μm より大きいと、局部的な飽和濃度のア
ンバランスを生じ、結晶成長にバラツキを生じるため、
粒度分布が大きくなり、また生産性が低下する。
【0018】成長させる結晶の大きさや成長倍率は、種
結晶の大きさや所望の結晶の寸法に依存するが、一般的
には、種結晶の5倍以上、特に5〜10倍に成長させる
ことが好適である。種結晶の寸法より5倍以上大きく成
長させることにより、種結晶を用いても成長初期の溶媒
金属の取込みによる影響を相対的に小さくし、機械的強
度に優れた結晶を得ることができるからである。
結晶の大きさや所望の結晶の寸法に依存するが、一般的
には、種結晶の5倍以上、特に5〜10倍に成長させる
ことが好適である。種結晶の寸法より5倍以上大きく成
長させることにより、種結晶を用いても成長初期の溶媒
金属の取込みによる影響を相対的に小さくし、機械的強
度に優れた結晶を得ることができるからである。
【0019】原料炭素(非ダイヤモンド炭素)層と溶媒
金属層と種結晶をそれぞれの位置に配置し、合成装置内
を組立後、ダイヤモンドおよび立方晶窒化ホウ素の安定
領域の温度・圧力条件下でダイヤモンドおよび立方晶窒
化ホウ素の結晶成長を行う。ダイヤモンドの安定領域の
温度・圧力条件は、一般に、1300〜1900℃の温
度、45〜70kbである。結晶成長時間は約10〜6
0分が代表的である。
金属層と種結晶をそれぞれの位置に配置し、合成装置内
を組立後、ダイヤモンドおよび立方晶窒化ホウ素の安定
領域の温度・圧力条件下でダイヤモンドおよび立方晶窒
化ホウ素の結晶成長を行う。ダイヤモンドの安定領域の
温度・圧力条件は、一般に、1300〜1900℃の温
度、45〜70kbである。結晶成長時間は約10〜6
0分が代表的である。
【0020】上記のような反応系において、その反応に
よって生成が期待し得るダイヤモンドの総成長量に対
し、種結晶1個当たりの平均成長希望量と種結晶の数の
積が一致するように種結晶の数を決めてやれば、狙った
粒度のダイヤモンドの結晶粒を分布狭く得ることがてき
る。ダイヤモンドの量を多く取るためには、合成装置の
許される範囲内で合成圧力を高くすればよいが、但し、
種結晶密度が高くなり過ぎると成長した粒子が干渉し合
うようになる。なお、粒度分布を狭くする方法として、
反応部の温度分布および圧力分布を考慮して、水平方向
および上下方向の種結晶配列の間隔、種結晶の大きさな
どを適宜変えることが有効である。
よって生成が期待し得るダイヤモンドの総成長量に対
し、種結晶1個当たりの平均成長希望量と種結晶の数の
積が一致するように種結晶の数を決めてやれば、狙った
粒度のダイヤモンドの結晶粒を分布狭く得ることがてき
る。ダイヤモンドの量を多く取るためには、合成装置の
許される範囲内で合成圧力を高くすればよいが、但し、
種結晶密度が高くなり過ぎると成長した粒子が干渉し合
うようになる。なお、粒度分布を狭くする方法として、
反応部の温度分布および圧力分布を考慮して、水平方向
および上下方向の種結晶配列の間隔、種結晶の大きさな
どを適宜変えることが有効である。
【0021】
【実施例】(実施例1)内径28mm、高さ38mmの
ろう石製容器内に、溶媒金属板として直径26mm、厚
さ0.25mmのFe58−Ni42合金(原子%組
成)板と、同じ直径で厚さ1.6mmの黒鉛板とを交互
に複数層に積層配置し、溶媒金属板の表面には粒径60
〜80μm の高温型の正八面体ダイヤモンド結晶を50
0μm の等間隔で規則的に配置して、反応部を組み立て
た。
ろう石製容器内に、溶媒金属板として直径26mm、厚
さ0.25mmのFe58−Ni42合金(原子%組
成)板と、同じ直径で厚さ1.6mmの黒鉛板とを交互
に複数層に積層配置し、溶媒金属板の表面には粒径60
〜80μm の高温型の正八面体ダイヤモンド結晶を50
0μm の等間隔で規則的に配置して、反応部を組み立て
た。
【0022】このとき、種結晶の正八面体ダイヤモンド
結晶は、溶媒金属板の表面上に1つの八面体面(11
1)が下(図2の3b)になる形で、安定して座り、配
向して存在した。従って、結晶の成長とともに、溶融金
属層2と近接する結晶下側部分3aは六面体面(10
0)になる。この積層体の上下両端を黒鉛板で保温し、
さらに鉄製キャップで蓋をし、ベルト型超高圧合成装置
に装着した。
結晶は、溶媒金属板の表面上に1つの八面体面(11
1)が下(図2の3b)になる形で、安定して座り、配
向して存在した。従って、結晶の成長とともに、溶融金
属層2と近接する結晶下側部分3aは六面体面(10
0)になる。この積層体の上下両端を黒鉛板で保温し、
さらに鉄製キャップで蓋をし、ベルト型超高圧合成装置
に装着した。
【0023】ベルト型超高圧合成装置で、加圧するとも
に、反応部に通電し直接加熱した。反応条件としては、
圧力5.1GPa、温度1310℃とした。この合成条
件は低温型である。その結果、図2に示す(a)ないし
(b)の立方体形をし、平均粒度390μm のダイヤモ
ンド約5gが得られた。
に、反応部に通電し直接加熱した。反応条件としては、
圧力5.1GPa、温度1310℃とした。この合成条
件は低温型である。その結果、図2に示す(a)ないし
(b)の立方体形をし、平均粒度390μm のダイヤモ
ンド約5gが得られた。
【0024】得られたダイヤモンドには、下側面に大き
なスポット状の溶媒金属包有物が殆んど見られなかっ
た。特に、ダイヤモンドの(100)面にも(111)
面にも、どの面にも溶媒金属包有物が集中して存在する
ということはなかった。ダイヤモンドに溶媒金属包有物
があると磁石に引き寄せられる性質があるので、上記の
得られたダイヤモンドを0.57テスラーの磁力選別機
で分別したところ、非磁性側に72%が分離された。
なスポット状の溶媒金属包有物が殆んど見られなかっ
た。特に、ダイヤモンドの(100)面にも(111)
面にも、どの面にも溶媒金属包有物が集中して存在する
ということはなかった。ダイヤモンドに溶媒金属包有物
があると磁石に引き寄せられる性質があるので、上記の
得られたダイヤモンドを0.57テスラーの磁力選別機
で分別したところ、非磁性側に72%が分離された。
【0025】(実施例2)実施例1と同様にして、ただ
し、種結晶として低温型の立方体形結晶を用い、合成条
件は圧力5.6GPa、温度1450℃とした。このと
き、種結晶の立方体ダイヤモンド結晶は、溶媒金属板の
表面上に1つの六面体面(100)が下(図2の3b)
になる形で、安定して座り、配向して存在した。従っ
て、結晶の成長とともに、溶融金属層2と近接する結晶
下側部分3aは八面体面(111)になる。
し、種結晶として低温型の立方体形結晶を用い、合成条
件は圧力5.6GPa、温度1450℃とした。このと
き、種結晶の立方体ダイヤモンド結晶は、溶媒金属板の
表面上に1つの六面体面(100)が下(図2の3b)
になる形で、安定して座り、配向して存在した。従っ
て、結晶の成長とともに、溶融金属層2と近接する結晶
下側部分3aは八面体面(111)になる。
【0026】その結果、図2に示す(e)ないし(d)
の八面体形をし、平均粒度375μm のダイヤモンド約
5gが得られた。得られたダイヤモンドには、実施例1
と同じく下側面に大きなスポット状の溶媒金属包有物は
殆んど見られなかった。特に、ダイヤモンドの(10
0)面にも(111)面にも、どの面にも溶媒金属包有
物が集中して存在するということはなかった。このダイ
ヤモンドの底面(111)から見た拡大写真を図4に示
す。
の八面体形をし、平均粒度375μm のダイヤモンド約
5gが得られた。得られたダイヤモンドには、実施例1
と同じく下側面に大きなスポット状の溶媒金属包有物は
殆んど見られなかった。特に、ダイヤモンドの(10
0)面にも(111)面にも、どの面にも溶媒金属包有
物が集中して存在するということはなかった。このダイ
ヤモンドの底面(111)から見た拡大写真を図4に示
す。
【0027】また、得られたダイヤモンドを0.57テ
スラーの磁力選別機にかけたが、非磁性側に68%が分
離された。 (比較例1)実施例1と同様にしてダイヤモンドを合成
した。ただし、種結晶として図2(c)に示す{10
0}/{111}集形の結晶を用いた。種結晶を溶媒金
属板の上に配置するとき特別の工夫をしなかったので、
多数の種結晶の結晶面はいろいろな向きに配向してい
た。合成条件としては、圧力5.6GPa、温度145
0℃とする条件を採用した(高温型に属する)。
スラーの磁力選別機にかけたが、非磁性側に68%が分
離された。 (比較例1)実施例1と同様にしてダイヤモンドを合成
した。ただし、種結晶として図2(c)に示す{10
0}/{111}集形の結晶を用いた。種結晶を溶媒金
属板の上に配置するとき特別の工夫をしなかったので、
多数の種結晶の結晶面はいろいろな向きに配向してい
た。合成条件としては、圧力5.6GPa、温度145
0℃とする条件を採用した(高温型に属する)。
【0028】その結果、得られたダイヤモンドの多くに
は図5(底面(111)面からみた188倍写真)に示
すように下側に溶媒金属包有物が認められた。また、
0.57テスラーの磁力選別機では非磁性側には33%
が分離されるにすぎなかった。(比較例2)八面体寄り
の種結晶を用いて5.4GPa、1380℃で合成した
ダイヤモンドには下側面にスポット状の溶媒金属の包有
が多数見られ、0.57テスラーの磁力選別機で選別し
たところ、非磁性側にはわずかに12%しか分離されな
かった。
は図5(底面(111)面からみた188倍写真)に示
すように下側に溶媒金属包有物が認められた。また、
0.57テスラーの磁力選別機では非磁性側には33%
が分離されるにすぎなかった。(比較例2)八面体寄り
の種結晶を用いて5.4GPa、1380℃で合成した
ダイヤモンドには下側面にスポット状の溶媒金属の包有
が多数見られ、0.57テスラーの磁力選別機で選別し
たところ、非磁性側にはわずかに12%しか分離されな
かった。
【0029】
【発明の効果】本発明によれば、種結晶の特定の結晶面
を溶媒金属層に対して特定の配向をさせることにより、
ダイヤモンドの成長結晶への溶媒金属の包有量を減少さ
せることができ、結晶品質を向上させることができる。
を溶媒金属層に対して特定の配向をさせることにより、
ダイヤモンドの成長結晶への溶媒金属の包有量を減少さ
せることができ、結晶品質を向上させることができる。
【図1】ダイヤモンド合成の反応系の配置を模式的に示
す。
す。
【図2】ダイヤモンド合成の反応中の反応系を拡大して
模式的に示す。
模式的に示す。
【図3】ダイヤモンド結晶の形と成長温度との関係を示
す。
す。
【図4】実施例で製造したダイヤモンド結晶の写真(1
88倍)である。
88倍)である。
【図5】比較例で製造したダイヤモンド結晶の写真(1
88倍)である。
88倍)である。
1…原料炭素 2…溶媒金属層 3…ダイヤモンド種結晶 3a…ダイヤモンド種結晶の下側部分 4…溶融金属膜 4a…不連続膜厚の溶融金属膜部分
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成10年9月30日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0002
【補正方法】変更
【補正内容】
【0002】
【従来の技術】静的高圧法でダイヤモンドを合成する場
合、発生する核の数を制御し、相平衡線のごく近傍にあ
る温度と圧力の下で結晶を成長させることが包有物の少
ない、形の良い結晶を得る上で重要である。そこで、種
結晶を用いて発生する核の数を制御することが有効な手
段である。
合、発生する核の数を制御し、相平衡線のごく近傍にあ
る温度と圧力の下で結晶を成長させることが包有物の少
ない、形の良い結晶を得る上で重要である。そこで、種
結晶を用いて発生する核の数を制御することが有効な手
段である。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0011
【補正方法】変更
【補正内容】
【0011】そこで、本発明では、ダイヤモンド結晶粒
の下側部分3aにその合成条件下で成長速度の遅い結晶
面を選択的に配置させて、ダイヤモンド結晶粒の下側部
分3aにおける溶融金属の巻き込み(包有)を減少させ
るようにした。具体的には、(111)面の成長速度が
(100)面の成長速度より速い低温条件下で結晶成長
を行う場合には、非ダイヤモンド炭素層と溶媒金属層の
境界面に対して種結晶の(111)面を平行にし、種結
晶の(111)面3bを溶媒金属層2に対面させて配置
した。(100)面の成長速度が(111)面の成長速
度より速い高温条件下で結晶成長を行う場合には、非ダ
イヤモンド炭素層と溶媒金属層の境界面に対して種結晶
の(100)面を平行にし、種結晶の(100)面3b
を溶媒金属層2に対面させて配置した。種結晶の配向配
置は、種結晶3の溶媒金属層2と近接する面3aを成長
速度の遅い面にすることが目的であるので、溶媒金属層
2に対面させる種結晶3の底面3bを上記特定の結晶面
にすることが必要であり、またそれで充分である。この
とき、種結晶の成長速度の速い結晶面が非ダイヤモンド
炭素層と溶媒金属層の境界面に対して平行になると、同
時に成長速度の遅い結晶面も平行になることは原則とし
てない。
の下側部分3aにその合成条件下で成長速度の遅い結晶
面を選択的に配置させて、ダイヤモンド結晶粒の下側部
分3aにおける溶融金属の巻き込み(包有)を減少させ
るようにした。具体的には、(111)面の成長速度が
(100)面の成長速度より速い低温条件下で結晶成長
を行う場合には、非ダイヤモンド炭素層と溶媒金属層の
境界面に対して種結晶の(111)面を平行にし、種結
晶の(111)面3bを溶媒金属層2に対面させて配置
した。(100)面の成長速度が(111)面の成長速
度より速い高温条件下で結晶成長を行う場合には、非ダ
イヤモンド炭素層と溶媒金属層の境界面に対して種結晶
の(100)面を平行にし、種結晶の(100)面3b
を溶媒金属層2に対面させて配置した。種結晶の配向配
置は、種結晶3の溶媒金属層2と近接する面3aを成長
速度の遅い面にすることが目的であるので、溶媒金属層
2に対面させる種結晶3の底面3bを上記特定の結晶面
にすることが必要であり、またそれで充分である。この
とき、種結晶の成長速度の速い結晶面が非ダイヤモンド
炭素層と溶媒金属層の境界面に対して平行になると、同
時に成長速度の遅い結晶面も平行になることは原則とし
てない。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0013
【補正方法】変更
【補正内容】
【0013】種結晶の(100)面が溶媒金属層に対面
するように配向配置させるために、低温型六面体結晶を
種結晶として用い、これを溶媒金属層上に置く方法が簡
便である。ここで、低温型六面体結晶は完全な正六面体
(図3のa)が好ましいが、六面体面を主要部とし八面
体面を少量部とする結晶(図3のb)でもよい。このよ
うな結晶形を用いれば、種結晶を溶媒金属層上に特別の
工夫なしで普通に置くだけで、簡単に結晶成長速度が速
い結晶面を下3bにして溶媒金属層上には粒径60〜8
0μmの高温型の正八面体ダイヤモンド結晶を500μ
mの等間隔で規則的に配置して、反応部を組み立てた。
するように配向配置させるために、低温型六面体結晶を
種結晶として用い、これを溶媒金属層上に置く方法が簡
便である。ここで、低温型六面体結晶は完全な正六面体
(図3のa)が好ましいが、六面体面を主要部とし八面
体面を少量部とする結晶(図3のb)でもよい。このよ
うな結晶形を用いれば、種結晶を溶媒金属層上に特別の
工夫なしで普通に置くだけで、簡単に結晶成長速度が速
い結晶面を下3bにして溶媒金属層上には粒径60〜8
0μmの高温型の正八面体ダイヤモンド結晶を500μ
mの等間隔で規則的に配置して、反応部を組み立てた。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0022
【補正方法】変更
【補正内容】
【0022】このとき、種結晶の正八面体ダイヤモンド
結晶は、溶媒金属板の表面上に1つの八面体面(11
1)が下(図2の3b)になる形で、安定して座り、配
向して存在した。従って、結晶の成長とともに、溶融金
属層2と近接する結晶下側部分3aは六面体面(10
0)になる。この積層体の上下両端に黒鉛板を配置し、
さらに鉄製キャップで蓋をし、ベルト型超高圧合成装置
に装着した。
結晶は、溶媒金属板の表面上に1つの八面体面(11
1)が下(図2の3b)になる形で、安定して座り、配
向して存在した。従って、結晶の成長とともに、溶融金
属層2と近接する結晶下側部分3aは六面体面(10
0)になる。この積層体の上下両端に黒鉛板を配置し、
さらに鉄製キャップで蓋をし、ベルト型超高圧合成装置
に装着した。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0023
【補正方法】変更
【補正内容】
【0023】ベルト型超高圧合成装置で、加圧するとと
もに、反応部に通電し直接加熱した。反応条件として
は、圧力5.1GPa、温度1310℃とした。この合
成条件は低温型である。その結果、図2に示す(a)な
いし(b)の立方体形をし、平均粒度390μm のダイ
ヤモンド約5gが得られた。
もに、反応部に通電し直接加熱した。反応条件として
は、圧力5.1GPa、温度1310℃とした。この合
成条件は低温型である。その結果、図2に示す(a)な
いし(b)の立方体形をし、平均粒度390μm のダイ
ヤモンド約5gが得られた。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【符号の説明】 1…原料炭素 2…溶媒金属層 3…ダイヤモンド種結晶 3a…ダイヤモンド種結晶の下側部分3b…ダイヤモンド種結晶の底面 4…溶融金属膜 4a…不連続膜厚の溶融金属膜部分
【手続補正7】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図2
【補正方法】変更
【補正内容】
【図2】
【手続補正8】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図3
【補正方法】変更
【補正内容】
【図3】
Claims (3)
- 【請求項1】 非ダイヤモンド炭素層と溶媒金属層を積
層し、非ダイヤモンド炭素層と溶媒金属層の境界領域に
ダイヤモンド種結晶を配置し、ダイヤモンドの安定領域
の圧力及び温度条件下でダイヤモンド結晶を成長させる
ダイヤモンド合成方法において、 (111)面の成長速度が(100)面の成長速度より
速い低温条件下で結晶成長を行う場合には、非ダイヤモ
ンド炭素層と溶媒金属層の境界面に対して種結晶の(1
11)面が平行になるように配置し、(100)面の成
長速度が(111)面の成長速度より速い高温条件下で
結晶成長を行う場合には、非ダイヤモンド炭素層と溶媒
金属層の境界面に対して種結晶の(100)面が平行に
なるように配置することを特徴とするダイヤモンド合成
方法。 - 【請求項2】 種結晶の(111)面が非ダイヤモンド
炭素層と溶媒金属層の境界面に対して平行になるように
配置するために、高温型八面体結晶を種結晶として用
い、これを溶媒金属層上に置く、請求項1記載のダイヤ
モンド合成方法。 - 【請求項3】 種結晶の(100)面が非ダイヤモンド
炭素層と溶媒金属層の境界面に対して平行になるように
配置するために、低温型六面体結晶を種結晶として用
い、これを溶媒金属層上に置く、請求項1記載のダイヤ
モンド合成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2251398A JPH11207168A (ja) | 1998-01-21 | 1998-01-21 | ダイヤモンド合成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2251398A JPH11207168A (ja) | 1998-01-21 | 1998-01-21 | ダイヤモンド合成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11207168A true JPH11207168A (ja) | 1999-08-03 |
Family
ID=12084854
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2251398A Pending JPH11207168A (ja) | 1998-01-21 | 1998-01-21 | ダイヤモンド合成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11207168A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101345862B1 (ko) * | 2011-12-01 | 2013-12-30 | 서울시립대학교 산학협력단 | 다이아몬드 제조방법 |
-
1998
- 1998-01-21 JP JP2251398A patent/JPH11207168A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101345862B1 (ko) * | 2011-12-01 | 2013-12-30 | 서울시립대학교 산학협력단 | 다이아몬드 제조방법 |
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