JPH11208136A - 平版印刷版の製版方法 - Google Patents
平版印刷版の製版方法Info
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- JPH11208136A JPH11208136A JP10012642A JP1264298A JPH11208136A JP H11208136 A JPH11208136 A JP H11208136A JP 10012642 A JP10012642 A JP 10012642A JP 1264298 A JP1264298 A JP 1264298A JP H11208136 A JPH11208136 A JP H11208136A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lithographic printing
- thin film
- silver
- group
- silver thin
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- Pending
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Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】平版印刷原版の製版技術において、高解像性を
有する画像を得ることができ、かつレーザによる直接描
画方法に対応し、また特に明室下でも画像を得ることが
でき、廃液が発生することがないという作業性に極めて
優れた平版印刷原版の製版方法を提供すること。 【解決手段】支持体表面上にアミン類を用いて作製した
銀薄膜を設けてなる平版印刷版の非画像とする部分の銀
薄膜をレーザによって照射することにより加熱し除去す
ることにより、陽極酸化されたアルミ表面層を露出させ
平版印刷版とする製版方法。
有する画像を得ることができ、かつレーザによる直接描
画方法に対応し、また特に明室下でも画像を得ることが
でき、廃液が発生することがないという作業性に極めて
優れた平版印刷原版の製版方法を提供すること。 【解決手段】支持体表面上にアミン類を用いて作製した
銀薄膜を設けてなる平版印刷版の非画像とする部分の銀
薄膜をレーザによって照射することにより加熱し除去す
ることにより、陽極酸化されたアルミ表面層を露出させ
平版印刷版とする製版方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、明室下にて取扱が
でき、ヒートモードのレーザ描画が可能で、処理液を必
要としない、高い解像性を有する画像を得られる平版印
刷版の製版方法に関する。
でき、ヒートモードのレーザ描画が可能で、処理液を必
要としない、高い解像性を有する画像を得られる平版印
刷版の製版方法に関する。
【0002】
【従来の技術】平版印刷版は、油脂性のインキを受理す
る親油性の画像部分と、インキを受理しない撥油性の非
画像部分からなり、一般に非画像部分は水を受け付ける
親水性部分から構成されている。通常の平版印刷では、
水とインキの両方を版面に供給し、画像部はインキを、
非画像部は水を選択的に受け入れ、画像部上のインキを
例えば紙等の被印刷体に転写させることによって印刷が
なされる。
る親油性の画像部分と、インキを受理しない撥油性の非
画像部分からなり、一般に非画像部分は水を受け付ける
親水性部分から構成されている。通常の平版印刷では、
水とインキの両方を版面に供給し、画像部はインキを、
非画像部は水を選択的に受け入れ、画像部上のインキを
例えば紙等の被印刷体に転写させることによって印刷が
なされる。
【0003】現在、平版印刷版は表面を親水化処理した
アルミニウム板、亜鉛板、紙等の基材上に親油性のイン
ク受理層を設けることにより製造される。これらの中で
は、PS版と呼ばれる表面を親水性処理したアルミベー
ス上にジアゾ化合物やフォトポリマー等の感光材料を用
いたものや、紙やプラスチック支持体上にハロゲン化銀
を感光材料として銀錯塩拡散転写法(DTR法)を利用
し画像形成するものなどが一般的である。
アルミニウム板、亜鉛板、紙等の基材上に親油性のイン
ク受理層を設けることにより製造される。これらの中で
は、PS版と呼ばれる表面を親水性処理したアルミベー
ス上にジアゾ化合物やフォトポリマー等の感光材料を用
いたものや、紙やプラスチック支持体上にハロゲン化銀
を感光材料として銀錯塩拡散転写法(DTR法)を利用
し画像形成するものなどが一般的である。
【0004】ジアゾ化合物やフォトポリマーによってイ
ンク受理層(以降画像層という)を形成する方法は、ま
ず金属板、紙、積層板、絶縁性基板等の基材上にジアゾ
化合物やフォトポリマー等の感光材料を塗布する。次い
で、光を照射して感光材料に化学変化を生じさせて、現
像液に対する溶解性を変化させる。感光材料は化学変化
の種類によって二つに分類される。光が照射された部分
が重合・硬化して、現像液に対して不溶性になるネガ型
と、逆に光が照射された部分の官能基が変化して、現像
液に対する溶解性を有するようになるポジ型である。何
れの場合にも、現像液による処理後に基材上に残存す
る、現像液に不溶の感光材料が画像層となる。
ンク受理層(以降画像層という)を形成する方法は、ま
ず金属板、紙、積層板、絶縁性基板等の基材上にジアゾ
化合物やフォトポリマー等の感光材料を塗布する。次い
で、光を照射して感光材料に化学変化を生じさせて、現
像液に対する溶解性を変化させる。感光材料は化学変化
の種類によって二つに分類される。光が照射された部分
が重合・硬化して、現像液に対して不溶性になるネガ型
と、逆に光が照射された部分の官能基が変化して、現像
液に対する溶解性を有するようになるポジ型である。何
れの場合にも、現像液による処理後に基材上に残存す
る、現像液に不溶の感光材料が画像層となる。
【0005】一方、DTR法を用いた平版印刷版、特に
ハロゲン化銀乳剤層の上に物理現像核層を有する平版印
刷版は、例えば、米国特許第3,728,114号、同
第4,134,769号、同第4,160,670号、
同第4,336,321号、同第4,501,811
号、同第4,510,228号、同第4,621,04
1号明細書等に記載されており、露光されたハロゲン化
銀結晶は、DTR現像により化学現像を生起し黒色の銀
となり親水性の非画像部を形成し、一方、未露光のハロ
ゲン化銀結晶は現像液中の錯化剤により銀塩錯体になっ
て表面の物理現像核層まで拡散し、核の存在により物理
現像を生起してインキ受容性の物理現像銀を主体とする
画像部を形成する。また、砂目立てされ陽極酸化された
アルミベースの支持体上に、物理現像核層、ハロゲン化
銀乳剤層を順次塗布した平版印刷版については、例え
ば、特開昭63−260491号、特開平3−1161
51号、同4−282295号公報等に記載されてお
り、上記平版印刷版を像露光し、DTR現像した後、ハ
ロゲン化銀乳剤層を温水で洗浄して、陽極酸化されたア
ルミベース上に物理現像銀を主体とする画像部を形成す
る。
ハロゲン化銀乳剤層の上に物理現像核層を有する平版印
刷版は、例えば、米国特許第3,728,114号、同
第4,134,769号、同第4,160,670号、
同第4,336,321号、同第4,501,811
号、同第4,510,228号、同第4,621,04
1号明細書等に記載されており、露光されたハロゲン化
銀結晶は、DTR現像により化学現像を生起し黒色の銀
となり親水性の非画像部を形成し、一方、未露光のハロ
ゲン化銀結晶は現像液中の錯化剤により銀塩錯体になっ
て表面の物理現像核層まで拡散し、核の存在により物理
現像を生起してインキ受容性の物理現像銀を主体とする
画像部を形成する。また、砂目立てされ陽極酸化された
アルミベースの支持体上に、物理現像核層、ハロゲン化
銀乳剤層を順次塗布した平版印刷版については、例え
ば、特開昭63−260491号、特開平3−1161
51号、同4−282295号公報等に記載されてお
り、上記平版印刷版を像露光し、DTR現像した後、ハ
ロゲン化銀乳剤層を温水で洗浄して、陽極酸化されたア
ルミベース上に物理現像銀を主体とする画像部を形成す
る。
【0006】上記のような感光材料を用いて画像層を形
成する場合に、露光方法が解像性を決定する重要な因子
の一つとなっている。従来は、露光用フィルムを作製
し、次いで紫外光又は白色光を使用した密着露光方法を
行うのが主流であった。しかし、コンピュータの進歩に
伴って、コンピュータ情報からのディジタル信号を露光
装置へと送信(コンピュータ・ツゥ・プレート)し、レ
ーザを用いて直接感光材料を露光するレーザ直接描画方
法が行われるようになっている。レーザ直接描画方法
は、中間に使用される製版フィルムを省略することがで
きるため、コストが安い、速度が速い、多品種少ロット
品での生産性が高い等の利点がある。
成する場合に、露光方法が解像性を決定する重要な因子
の一つとなっている。従来は、露光用フィルムを作製
し、次いで紫外光又は白色光を使用した密着露光方法を
行うのが主流であった。しかし、コンピュータの進歩に
伴って、コンピュータ情報からのディジタル信号を露光
装置へと送信(コンピュータ・ツゥ・プレート)し、レ
ーザを用いて直接感光材料を露光するレーザ直接描画方
法が行われるようになっている。レーザ直接描画方法
は、中間に使用される製版フィルムを省略することがで
きるため、コストが安い、速度が速い、多品種少ロット
品での生産性が高い等の利点がある。
【0007】このレーザ直接描画方法に対応するために
は、感光材料の光学感度を高くしなければならない。ジ
アゾ化合物やフォトポリマーでは、光化学反応を伴うた
めに、光学感度は低く、数〜数百mJ/cm2である。
そのため、レーザ出力装置が高出力でなければならず、
装置が大きくなったり、コストが高くなるなどの問題が
あった。
は、感光材料の光学感度を高くしなければならない。ジ
アゾ化合物やフォトポリマーでは、光化学反応を伴うた
めに、光学感度は低く、数〜数百mJ/cm2である。
そのため、レーザ出力装置が高出力でなければならず、
装置が大きくなったり、コストが高くなるなどの問題が
あった。
【0008】また、ハロゲン化銀を用いたDTR法によ
り画像形成するものでは、感度は数μJ/cm2であり
簡便な半導体レーザなどでも十分露光可能であるが、逆
に、露光工程を行う前までの保存、基材への塗布工程等
を、暗中もしくはセーフティライト下で行わなければな
らないという、製造及び製版作業の効率を著しく悪くす
る欠点があった。また、ジアゾ化合物やフォトポリマー
においても、室内光や太陽光下でも反応が進行するし、
高温下でも反応性に変化が生じる。さらに、酸素が存在
すると、反応の阻害剤となる。したがって、露光及び現
像前までは同様に暗室処置や低酸素状態での保存が必要
となっていた。
り画像形成するものでは、感度は数μJ/cm2であり
簡便な半導体レーザなどでも十分露光可能であるが、逆
に、露光工程を行う前までの保存、基材への塗布工程等
を、暗中もしくはセーフティライト下で行わなければな
らないという、製造及び製版作業の効率を著しく悪くす
る欠点があった。また、ジアゾ化合物やフォトポリマー
においても、室内光や太陽光下でも反応が進行するし、
高温下でも反応性に変化が生じる。さらに、酸素が存在
すると、反応の阻害剤となる。したがって、露光及び現
像前までは同様に暗室処置や低酸素状態での保存が必要
となっていた。
【0009】さらに、上述の画像形成方法では、現像液
を用いる等の液体処理を行うことが一般的であり、廃液
の処理が環境問題となっているという欠点があった。1
995年より廃液の海洋投棄が禁止され、処理のドライ
化は時代の要請となっている。
を用いる等の液体処理を行うことが一般的であり、廃液
の処理が環境問題となっているという欠点があった。1
995年より廃液の海洋投棄が禁止され、処理のドライ
化は時代の要請となっている。
【0010】一方、支持体上に銀薄膜を形成させる第1
の方式としては、支持体上に物理現像核層を設けたもの
と、銀錯塩のドナーとしてハロゲン化銀乳剤層を支持体
上に塗布したものを物理現像液を通過させた後、重ね合
わせ拡散転写現像することにより、物理現像核上に銀を
析出させ、銀薄膜を形成させる方式がある。このように
して銀薄膜を形成する方式を用いるものとしては、コピ
ラピッド(商品名、アグファ社製)等がある。
の方式としては、支持体上に物理現像核層を設けたもの
と、銀錯塩のドナーとしてハロゲン化銀乳剤層を支持体
上に塗布したものを物理現像液を通過させた後、重ね合
わせ拡散転写現像することにより、物理現像核上に銀を
析出させ、銀薄膜を形成させる方式がある。このように
して銀薄膜を形成する方式を用いるものとしては、コピ
ラピッド(商品名、アグファ社製)等がある。
【0011】第2の方式として、物理現像核層を設けた
支持体上に、銀錯塩のドナーとしてハロゲン化銀乳剤層
を塗布したものを物理現像処理を行い、ハロゲン化銀乳
剤層をウォッシュオフさせ、物理現像核上に銀薄膜を形
成させる方式がある。この方式を用いるものとしては、
シルバーデジプレートSDP−αR(商品名、三菱製紙
社製)、シルバーリスSDB(商品名、イー・アイ・デ
ュポン社製)がある。
支持体上に、銀錯塩のドナーとしてハロゲン化銀乳剤層
を塗布したものを物理現像処理を行い、ハロゲン化銀乳
剤層をウォッシュオフさせ、物理現像核上に銀薄膜を形
成させる方式がある。この方式を用いるものとしては、
シルバーデジプレートSDP−αR(商品名、三菱製紙
社製)、シルバーリスSDB(商品名、イー・アイ・デ
ュポン社製)がある。
【0012】しかしながら、上記2種の方法ではハロゲ
ン化銀乳剤層の調製に手間がかかる、銀薄膜の調製に暗
室を要する等の問題点を有している。
ン化銀乳剤層の調製に手間がかかる、銀薄膜の調製に暗
室を要する等の問題点を有している。
【0013】第3の方式として、物理現像核層を設けた
支持体を、ハロゲン化銀溶剤によって溶解された銀錯
塩、及び、還元剤を含む液中に浸漬することにより、物
理現像核上に銀薄膜を形成させる方式がある。この方式
は、無電解メッキとして知られている方式でもあり、例
えば、特公昭42−23745号、同43−12862
号、特開平5−287542号公報に記載されている。
支持体を、ハロゲン化銀溶剤によって溶解された銀錯
塩、及び、還元剤を含む液中に浸漬することにより、物
理現像核上に銀薄膜を形成させる方式がある。この方式
は、無電解メッキとして知られている方式でもあり、例
えば、特公昭42−23745号、同43−12862
号、特開平5−287542号公報に記載されている。
【0014】しかしながら、これらで開示された方法で
は、望ましい印刷特性が得られない、より短時間での銀
膜形成が求められる等の問題点を有していた。
は、望ましい印刷特性が得られない、より短時間での銀
膜形成が求められる等の問題点を有していた。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、平版
印刷版の製版技術において、明室下で取扱ができ、レー
ザによる直接描画方法に適合し、高解像性を有する画像
を得ることができ、また廃液の発生することのない、平
版印刷版の製版方法を提供することにある。
印刷版の製版技術において、明室下で取扱ができ、レー
ザによる直接描画方法に適合し、高解像性を有する画像
を得ることができ、また廃液の発生することのない、平
版印刷版の製版方法を提供することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、以下の発明を見い
出した。
を解決するために鋭意検討した結果、以下の発明を見い
出した。
【0017】本発明の平版印刷版の製版方法は、支持体
上に銀薄膜を設置してなる平版印刷原版を、ヒートモー
ドのレーザ露光を用いて銀薄膜を除去することにより平
版印刷版を作製する方法において、アミン類の存在下、
該銀薄膜を作製することを特徴とするものである。
上に銀薄膜を設置してなる平版印刷原版を、ヒートモー
ドのレーザ露光を用いて銀薄膜を除去することにより平
版印刷版を作製する方法において、アミン類の存在下、
該銀薄膜を作製することを特徴とするものである。
【0018】アミン類はアンモニア、置換もしくは無置
換の飽和もしくは不飽和の、アルキル基、シクロアルキ
ル基、アルコキシ基、アリール基、アルカノイル基、ア
ロイル基、複素環基によって置換されたものであり、こ
れらの置換基は互いに結合して環を形成していても良
い。
換の飽和もしくは不飽和の、アルキル基、シクロアルキ
ル基、アルコキシ基、アリール基、アルカノイル基、ア
ロイル基、複素環基によって置換されたものであり、こ
れらの置換基は互いに結合して環を形成していても良
い。
【0019】アミン類は銀イオンに対してモル数で0.
1〜100倍、更に好ましくは1〜50倍用いることが
好ましい。また、これらは2つ以上を組み合わせて用い
ることが出来る。
1〜100倍、更に好ましくは1〜50倍用いることが
好ましい。また、これらは2つ以上を組み合わせて用い
ることが出来る。
【0020】以下にその具体例を示すが、これらに限定
されるものではない。
されるものではない。
【0021】
【化2】
【0022】また、本発明の内、第2の発明である平版
印刷版の製版方法では、第1の発明で用いるアミン類と
して下記の一般式1で示される化合物を用いることを特
徴とするものである。
印刷版の製版方法では、第1の発明で用いるアミン類と
して下記の一般式1で示される化合物を用いることを特
徴とするものである。
【0023】
【化3】
【0024】式中R1〜R5の少なくとも一つは置換もし
くは無置換のアミノ基を示し、その他は水素原子、ハロ
ゲン原子、置換もしくは無置換の飽和もしくは不飽和
の、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ア
リール基、アルカノイル基、アロイル基、複素環基を示
し、これらは互いに結合して環を形成していても良い。
くは無置換のアミノ基を示し、その他は水素原子、ハロ
ゲン原子、置換もしくは無置換の飽和もしくは不飽和
の、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ア
リール基、アルカノイル基、アロイル基、複素環基を示
し、これらは互いに結合して環を形成していても良い。
【0025】上記のアミノ基は置換基を有する場合、置
換もしくは無置換の飽和もしくは不飽和の、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリール基、ア
ルカノイル基、アロイル基、複素環基を有し、これらは
互いに結合して環を形成していても良い。
換もしくは無置換の飽和もしくは不飽和の、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリール基、ア
ルカノイル基、アロイル基、複素環基を有し、これらは
互いに結合して環を形成していても良い。
【0026】上記のハロゲン原子としては塩素、臭素、
沃素等である。
沃素等である。
【0027】上記のアルキル基は、更に適当な基(例え
ばハロゲン原子、アルコキシ基等)で置換されていても
よい。好ましくは炭素数1〜10のものであり、例えば
メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ヘキシル
基、トリクロロメチル基、ビニル基等である。
ばハロゲン原子、アルコキシ基等)で置換されていても
よい。好ましくは炭素数1〜10のものであり、例えば
メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ヘキシル
基、トリクロロメチル基、ビニル基等である。
【0028】上記のシクロアルキル基は、炭素数3〜1
0程度のものであり、更に適当な基(例えばアルキル
基、ハロゲン原子、アルコキシ基等)で置換されていて
もよい。例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル基等
である。
0程度のものであり、更に適当な基(例えばアルキル
基、ハロゲン原子、アルコキシ基等)で置換されていて
もよい。例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル基等
である。
【0029】上記のアルコキシ基は直鎖状又は分岐状の
ものであっても良く、更に適当な基(例えばアルキル
基、ハロゲン原子、アルコキシ基等)で置換されていて
もよい。好ましくは炭素数1〜10のものであり、例え
ばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ヘ
キシルオキシ基等である。
ものであっても良く、更に適当な基(例えばアルキル
基、ハロゲン原子、アルコキシ基等)で置換されていて
もよい。好ましくは炭素数1〜10のものであり、例え
ばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ヘ
キシルオキシ基等である。
【0030】上記のアリール基としては、例えばフェニ
ル基、ナフチル基等の芳香族基が好ましく、これらの芳
香族基は適当な基(例えばハロゲン原子、アルキル基、
アルコキシ基、ニトロ基等)で置換されていてもよい。
ル基、ナフチル基等の芳香族基が好ましく、これらの芳
香族基は適当な基(例えばハロゲン原子、アルキル基、
アルコキシ基、ニトロ基等)で置換されていてもよい。
【0031】上記のアルカノイル基としては直鎖もしく
は分岐状の炭素数1〜6の、例えばホルミル基、アセチ
ル基、プロピオニル基、ピバロイル基等を示す。
は分岐状の炭素数1〜6の、例えばホルミル基、アセチ
ル基、プロピオニル基、ピバロイル基等を示す。
【0032】上記のアロイルのアリール基部分として
は、例えばフェニル基、ナフチル基等の芳香族基が好ま
しく、これらの芳香族基は適当な基(例えばハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基等)で置換さ
れていてもよい。
は、例えばフェニル基、ナフチル基等の芳香族基が好ま
しく、これらの芳香族基は適当な基(例えばハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基等)で置換さ
れていてもよい。
【0033】上記の複素環基としては置換もしくは無置
換の、例えばピリジル基、フリル基、チエニル基等であ
る。
換の、例えばピリジル基、フリル基、チエニル基等であ
る。
【0034】一般式1で示される化合物の具体例を下記
に示す。
に示す。
【0035】
【化4】
【0036】これらの化合物は銀イオンに対してモル数
で0.1〜100倍、更に好ましくは1〜50倍用い
る。
で0.1〜100倍、更に好ましくは1〜50倍用い
る。
【0037】また、本発明の内、第3の発明である平版
印刷版の製版方法では、該アルミベースとして酸性処理
液で処理した後、陽極酸化処理したものを用いることを
特徴とするものである。このアルミベースは好ましい物
理現像銀を生成することのできる表面活性を有してお
り、これを用いることにより、銀薄膜とアルミベースと
の接着力が強固になり、平版印刷版の耐刷能力が向上す
る。
印刷版の製版方法では、該アルミベースとして酸性処理
液で処理した後、陽極酸化処理したものを用いることを
特徴とするものである。このアルミベースは好ましい物
理現像銀を生成することのできる表面活性を有してお
り、これを用いることにより、銀薄膜とアルミベースと
の接着力が強固になり、平版印刷版の耐刷能力が向上す
る。
【0038】本発明によれば、所望する画像に従ってレ
ーザにより加熱することで、液体の現像剤やその処理を
行う装置類を用いることなく、簡便に平版印刷版を製版
することが可能となる。さらには、平版印刷原版からの
製版工程、及び印刷工程に至るまで明室下での作業が可
能であると共に、明室や酸素下での長期安定保存が可能
である。
ーザにより加熱することで、液体の現像剤やその処理を
行う装置類を用いることなく、簡便に平版印刷版を製版
することが可能となる。さらには、平版印刷原版からの
製版工程、及び印刷工程に至るまで明室下での作業が可
能であると共に、明室や酸素下での長期安定保存が可能
である。
【0039】
【発明の実施の形態】以下、図面を使って、本発明の実
施の形態を説明する。
施の形態を説明する。
【0040】図1はアルミを支持体とした場合の本発明
に係わる平版印刷原版の一例を表す断面概略図である。
本発明に係わる平版印刷原版(a)は、アルミベース1
の表面が粗面化され陽極酸化された層2を有しており、
その上に銀薄膜3が設けられている。本発明の平版印刷
版の製版方法としては、まず、平版印刷原版(a)にレ
ーザにより所望する画像様に照射を行う(非画像部露
光)。ここで、銀薄膜3がレーザ照射により、アブレー
ションによって除去され、又は、アルミ表面との接着が
弱くなり、真空引き等の手段で除去され、陽極酸化され
た表面層2が露出されることで製版が完了する。この後
に、平版印刷機に装着すれば、残存する銀薄膜3の部分
にインキが、また露出した陽極酸化されたアルミ表面層
2には水がそれぞれ受理され、平版印刷が可能となる。
に係わる平版印刷原版の一例を表す断面概略図である。
本発明に係わる平版印刷原版(a)は、アルミベース1
の表面が粗面化され陽極酸化された層2を有しており、
その上に銀薄膜3が設けられている。本発明の平版印刷
版の製版方法としては、まず、平版印刷原版(a)にレ
ーザにより所望する画像様に照射を行う(非画像部露
光)。ここで、銀薄膜3がレーザ照射により、アブレー
ションによって除去され、又は、アルミ表面との接着が
弱くなり、真空引き等の手段で除去され、陽極酸化され
た表面層2が露出されることで製版が完了する。この後
に、平版印刷機に装着すれば、残存する銀薄膜3の部分
にインキが、また露出した陽極酸化されたアルミ表面層
2には水がそれぞれ受理され、平版印刷が可能となる。
【0041】本発明に用いられる銀薄膜は例えば(a)
アミン類と銀イオンとで形成された錯塩、(b)還元
剤、(c)物理現像核を用意し、支持体上に(c)をま
ず塗布し、その後(a)と(b)を混合した液を塗布す
る、又は支持体上に(b)と(c)を混合した液を塗布
し、(a)を更に塗布する、又は(a)から(c)を混
合した液を塗布することによって得られる。
アミン類と銀イオンとで形成された錯塩、(b)還元
剤、(c)物理現像核を用意し、支持体上に(c)をま
ず塗布し、その後(a)と(b)を混合した液を塗布す
る、又は支持体上に(b)と(c)を混合した液を塗布
し、(a)を更に塗布する、又は(a)から(c)を混
合した液を塗布することによって得られる。
【0042】本発明に係る平版印刷版に用いられる支持
体としては、紙、各種フィルム、プラスチック、樹脂様
物質を塗布した紙、金属、これらにポリエステルフィル
ムや紙を張り合わせたものが使用できる。
体としては、紙、各種フィルム、プラスチック、樹脂様
物質を塗布した紙、金属、これらにポリエステルフィル
ムや紙を張り合わせたものが使用できる。
【0043】それらの内でも、粗面化処理され陽極酸化
処理されたアルミベースは良好な親水性を有し、また良
好な表面活性を有するものであり、これにより作製され
た銀膜がレーザ露光により除去可能で、且つ、アルミ表
面と強固に接着して耐刷性に優れた表面活性を付与され
たものであることから特に好ましい。
処理されたアルミベースは良好な親水性を有し、また良
好な表面活性を有するものであり、これにより作製され
た銀膜がレーザ露光により除去可能で、且つ、アルミ表
面と強固に接着して耐刷性に優れた表面活性を付与され
たものであることから特に好ましい。
【0044】該アルミベースの表面処理の方法として
は、硝酸を含有する酸性処理液で処理した後、陽極酸化
処理したものを用いることが好ましい。このアルミベー
スは好ましい物理現像銀を生成することのできる表面活
性を有しており、これを用いることにより、銀薄膜とア
ルミベースとの接着力が更に強固になり、平版印刷版の
耐刷能力が向上する。
は、硝酸を含有する酸性処理液で処理した後、陽極酸化
処理したものを用いることが好ましい。このアルミベー
スは好ましい物理現像銀を生成することのできる表面活
性を有しており、これを用いることにより、銀薄膜とア
ルミベースとの接着力が更に強固になり、平版印刷版の
耐刷能力が向上する。
【0045】本発明の支持体に使用するアルミニウム板
としては純アルミニウム及び各種の金属、例えば、珪
素、マグネシウム、鉄、銅、亜鉛、マンガン、クロム、
チタン等を少量含むアルミニウム合金板が適当である。
アルミニウムに含まれる微量の不純物金属或は任意に添
加された少量の金属は電解により得られる砂目のピット
の大きさ、形状、分布に大きな影響を与え、さらにはア
ルミニウム板の強度にも大きな影響を与える。
としては純アルミニウム及び各種の金属、例えば、珪
素、マグネシウム、鉄、銅、亜鉛、マンガン、クロム、
チタン等を少量含むアルミニウム合金板が適当である。
アルミニウムに含まれる微量の不純物金属或は任意に添
加された少量の金属は電解により得られる砂目のピット
の大きさ、形状、分布に大きな影響を与え、さらにはア
ルミニウム板の強度にも大きな影響を与える。
【0046】上記アルミニウム板はオフセット印刷版用
の支持体とするため、表面処理を施すことが好ましい。
表面処理では一般に脱脂、粗面化、デスマット、陽極酸
化の各処理が行われ、アルミニウムのコイルを用いて連
続的に処理される。各処理の後には必要に応じて水洗が
加えられ、乾燥して支持体とされる。
の支持体とするため、表面処理を施すことが好ましい。
表面処理では一般に脱脂、粗面化、デスマット、陽極酸
化の各処理が行われ、アルミニウムのコイルを用いて連
続的に処理される。各処理の後には必要に応じて水洗が
加えられ、乾燥して支持体とされる。
【0047】例えば、特願平9−51712号明細書に
記載したように、オフセット印刷版用アルミニウム支持
体の場合、陽極酸化膜は最終工程である陽極酸化で形成
される酸化膜がそのまま最表面に露出するわけではな
く、陽極酸化直前の処理により形成された変性層が酸化
膜の表面に存在していると推定される。これらの変性層
の性質は感光層を塗布する場合に大きな影響を与えると
予想されるが、既存のPS版や、OPC印刷版では、通
常、感光層は有機溶剤系の塗工で形成されるので、これ
らの変性層の影響が現れることはほとんどない。しか
し、本発明における様に、銀薄膜とアルミ表面の接着が
耐刷性に大きな影響を与える場合には、これらの変性層
の影響が現れる。陽極酸化直前のデスマット処理等の化
学処理は酸性処理液が好ましく、特に硝酸を含む処理液
が好ましい。
記載したように、オフセット印刷版用アルミニウム支持
体の場合、陽極酸化膜は最終工程である陽極酸化で形成
される酸化膜がそのまま最表面に露出するわけではな
く、陽極酸化直前の処理により形成された変性層が酸化
膜の表面に存在していると推定される。これらの変性層
の性質は感光層を塗布する場合に大きな影響を与えると
予想されるが、既存のPS版や、OPC印刷版では、通
常、感光層は有機溶剤系の塗工で形成されるので、これ
らの変性層の影響が現れることはほとんどない。しか
し、本発明における様に、銀薄膜とアルミ表面の接着が
耐刷性に大きな影響を与える場合には、これらの変性層
の影響が現れる。陽極酸化直前のデスマット処理等の化
学処理は酸性処理液が好ましく、特に硝酸を含む処理液
が好ましい。
【0048】アルミ処理工程については、特願平9−5
1712号明細書に詳細に記載しており、この中に記載
された方法を用いて、粗面化処理され陽極酸化処理され
たアルミベースが製造される。
1712号明細書に詳細に記載しており、この中に記載
された方法を用いて、粗面化処理され陽極酸化処理され
たアルミベースが製造される。
【0049】本発明に用いられるアルミベースおいて
は、その中でデスマット処理が重要な工程である。電解
粗面化処理されたアルミニウム板帯は充分に水洗される
が、その表面には通常スマットが付着して、水洗のみで
は取れず、ピットを塞いでいる。そのスマットを除去す
るため、デスマット処理が施される。デスマット処理で
はスマットが溶解し、ピット面が現われる。その溶解量
は前記電解液による処理条件によって異なるが、0.1
〜1g/m2が適当である。
は、その中でデスマット処理が重要な工程である。電解
粗面化処理されたアルミニウム板帯は充分に水洗される
が、その表面には通常スマットが付着して、水洗のみで
は取れず、ピットを塞いでいる。そのスマットを除去す
るため、デスマット処理が施される。デスマット処理で
はスマットが溶解し、ピット面が現われる。その溶解量
は前記電解液による処理条件によって異なるが、0.1
〜1g/m2が適当である。
【0050】デスマット処理には、脱脂処理に使用され
る水酸化ナトリウム等アルカリ剤、或いは燐酸、硫酸、
硝酸、過塩素酸等の酸、或いはそれらの混合物が使用で
きるが、それぞれスマット除去能力に違いがあり、処理
液の種類或いはその濃度或いは処理温度によってその除
去能力を調整して使用される。デスマット処理が強すぎ
る場合には粗面化の工程で形成された凹凸を溶解して平
坦化させ、また弱すぎる場合にはスマットが残留するの
で好ましくない。残留したスマットは陽極酸化処理後も
そのまま残り、銀薄膜形成時の異常点の原因となる。
る水酸化ナトリウム等アルカリ剤、或いは燐酸、硫酸、
硝酸、過塩素酸等の酸、或いはそれらの混合物が使用で
きるが、それぞれスマット除去能力に違いがあり、処理
液の種類或いはその濃度或いは処理温度によってその除
去能力を調整して使用される。デスマット処理が強すぎ
る場合には粗面化の工程で形成された凹凸を溶解して平
坦化させ、また弱すぎる場合にはスマットが残留するの
で好ましくない。残留したスマットは陽極酸化処理後も
そのまま残り、銀薄膜形成時の異常点の原因となる。
【0051】本発明において用いられる酸性処理液によ
るデスマット処理は好ましい物理現像銀を生成すること
のできる表面活性を与える。特に硝酸を含有する酸性処
理液が物理現像核の形成能力が高く好ましく、現像され
た画像銀の接着性もよく、従って耐刷力の大きい印刷版
をつくることができる。酸性処理液でスマットが除去し
難い場合は例えばアルカリでデスマット後さらに酸性処
理液で処理するような2段階処理により、アルカリによ
るデスマットの影響の残らないデスマット処理にするこ
とができる。
るデスマット処理は好ましい物理現像銀を生成すること
のできる表面活性を与える。特に硝酸を含有する酸性処
理液が物理現像核の形成能力が高く好ましく、現像され
た画像銀の接着性もよく、従って耐刷力の大きい印刷版
をつくることができる。酸性処理液でスマットが除去し
難い場合は例えばアルカリでデスマット後さらに酸性処
理液で処理するような2段階処理により、アルカリによ
るデスマットの影響の残らないデスマット処理にするこ
とができる。
【0052】粗面化され、デスマットされたアルミニウ
ム板帯には、次に陽極酸化処理が施される。陽極酸化処
理は、例えば、特願平9−51712号明細書に記載し
たように、公知の方法で施される。
ム板帯には、次に陽極酸化処理が施される。陽極酸化処
理は、例えば、特願平9−51712号明細書に記載し
たように、公知の方法で施される。
【0053】本発明においては、良好な銀膜を作製する
ために、その作製時に物理現像核を用いることが好まし
い。物理現像核は物理現像核、及び、あらかじめ塗布し
て層を形成するには必要に応じて親水性ポリマーを用い
る。物理現像核としては銀、アンチモン、ビスマス、カ
ドミウム、コバルト、鉛、ニッケル、パラジウム、ロジ
ウム、金、白金等の金属コロイド微粒子や、これらの金
属の硫化物、多硫化物、セレン化物、又はそれらの混合
物、混晶であっても良い。物理現像核中には親水性ポリ
マーを含んでいてもいなくても良いが、該親水性ポリマ
ーとしては、ゼラチン、澱粉、ジアルデヒド澱粉、カル
ボキシメチルセルロース、アラビアゴム、アルギン酸ナ
トリウム、ヒドロキシエチルセルロース、ポリスチレン
スルホン酸、ポリアクリル酸ソーダ、ビニルイミダゾー
ルとアクリルアミドの共重合体、アクリル酸とアクリル
アミドの共重合体、ポリビニルアルコール等の親水性高
分子又はそのオリゴマーがあり、その含有量は0.5g
/m2以下であることが好ましい。さらに物理現像核層
には、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、カテコ
ール等の現像主薬や、ホルマリン、ジクロロ−s−トリ
アジン等の公知の硬膜剤を含んでいてもよい。
ために、その作製時に物理現像核を用いることが好まし
い。物理現像核は物理現像核、及び、あらかじめ塗布し
て層を形成するには必要に応じて親水性ポリマーを用い
る。物理現像核としては銀、アンチモン、ビスマス、カ
ドミウム、コバルト、鉛、ニッケル、パラジウム、ロジ
ウム、金、白金等の金属コロイド微粒子や、これらの金
属の硫化物、多硫化物、セレン化物、又はそれらの混合
物、混晶であっても良い。物理現像核中には親水性ポリ
マーを含んでいてもいなくても良いが、該親水性ポリマ
ーとしては、ゼラチン、澱粉、ジアルデヒド澱粉、カル
ボキシメチルセルロース、アラビアゴム、アルギン酸ナ
トリウム、ヒドロキシエチルセルロース、ポリスチレン
スルホン酸、ポリアクリル酸ソーダ、ビニルイミダゾー
ルとアクリルアミドの共重合体、アクリル酸とアクリル
アミドの共重合体、ポリビニルアルコール等の親水性高
分子又はそのオリゴマーがあり、その含有量は0.5g
/m2以下であることが好ましい。さらに物理現像核層
には、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、カテコ
ール等の現像主薬や、ホルマリン、ジクロロ−s−トリ
アジン等の公知の硬膜剤を含んでいてもよい。
【0054】本発明の平版印刷版の製版方法において、
銀薄膜を除去する効率(即ち本発明の方法における平版
印刷版の感度と言える)は、銀薄膜の膜厚に依存する
が、薄いと耐刷性が低下する。このため描画に用いるレ
ーザ出力により、銀薄膜の厚みを決定することが好まし
い。出力が1W以上であれば厚めに設定することが出来
るが、それ以下の場合には0.05μm〜5μmの範囲
で設置することが好ましい。
銀薄膜を除去する効率(即ち本発明の方法における平版
印刷版の感度と言える)は、銀薄膜の膜厚に依存する
が、薄いと耐刷性が低下する。このため描画に用いるレ
ーザ出力により、銀薄膜の厚みを決定することが好まし
い。出力が1W以上であれば厚めに設定することが出来
るが、それ以下の場合には0.05μm〜5μmの範囲
で設置することが好ましい。
【0055】本発明において、銀膜作製に用いられる銀
イオンの種類としては特に限定されるものではないが、
硝酸銀、及び塩化銀、臭化銀、ヨウ化銀、塩臭化銀、塩
ヨウ化銀、ヨウ臭化銀、塩臭ヨウ化銀等のハロゲン化銀
等から選択される。
イオンの種類としては特に限定されるものではないが、
硝酸銀、及び塩化銀、臭化銀、ヨウ化銀、塩臭化銀、塩
ヨウ化銀、ヨウ臭化銀、塩臭ヨウ化銀等のハロゲン化銀
等から選択される。
【0056】これら銀イオンの使用量は上で述べた銀膜
の膜厚に応じて使用する。
の膜厚に応じて使用する。
【0057】本発明において、銀膜作製に用いられる還
元剤の種類としては、ハイドロキノン、フェニレンジア
ミン、フェニドン、ジメチルフェニドン等を用いること
が出来る。
元剤の種類としては、ハイドロキノン、フェニレンジア
ミン、フェニドン、ジメチルフェニドン等を用いること
が出来る。
【0058】銀薄膜作製のための現像処理液としては、
pH調整の為のアルカリ性物質、例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナト
リウム等、酸性物質、例えば硫酸、硝酸、燐酸等、保恒
剤としての亜硫酸塩、ハロゲン化銀溶剤、例えばチオ硫
酸塩、チオシアン酸塩、環状イミド、2−メルカプト安
息香酸、アミン等、粘稠剤、例えばヒドロキシエチルセ
ルロース、カルボキシメチルセルロース等、カブリ防止
剤、例えば臭化カリウム、現像変性剤、例えばポリオキ
シアルキレン化合物、オニウム化合物等を含むことが出
来る。さらに現像処理液には、米国特許第3,776,
728号明細書に記載の如き、表面の銀薄膜のインキ乗
りを良くする化合物等を使用することが出来る。
pH調整の為のアルカリ性物質、例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナト
リウム等、酸性物質、例えば硫酸、硝酸、燐酸等、保恒
剤としての亜硫酸塩、ハロゲン化銀溶剤、例えばチオ硫
酸塩、チオシアン酸塩、環状イミド、2−メルカプト安
息香酸、アミン等、粘稠剤、例えばヒドロキシエチルセ
ルロース、カルボキシメチルセルロース等、カブリ防止
剤、例えば臭化カリウム、現像変性剤、例えばポリオキ
シアルキレン化合物、オニウム化合物等を含むことが出
来る。さらに現像処理液には、米国特許第3,776,
728号明細書に記載の如き、表面の銀薄膜のインキ乗
りを良くする化合物等を使用することが出来る。
【0059】本発明に係わる平版印刷原版の物理現像後
の銀薄膜は、任意の公知の表面処理剤でインキ受容性に
変換ないしは受容性を増強させることが好ましい。この
ような処理液としては、例えば特公昭48−29723
号公報、米国特許第3,721,559号明細書等に記
載されている。
の銀薄膜は、任意の公知の表面処理剤でインキ受容性に
変換ないしは受容性を増強させることが好ましい。この
ような処理液としては、例えば特公昭48−29723
号公報、米国特許第3,721,559号明細書等に記
載されている。
【0060】本発明に用いられる支持体の表面は、上層
として塗設される層との接着を良くするために表面処理
を行うこと、固形微粒子を含むことも可能である。
として塗設される層との接着を良くするために表面処理
を行うこと、固形微粒子を含むことも可能である。
【0061】本発明において、レーザ照射による銀薄膜
の除去を促進させ陽極酸化されたアルミ表面層を露出さ
せる効率(即ち本発明の方法における平版印刷原版の感
度と言える)を向上させるために、物理現像核層、もし
くは、支持体の何れかに光吸収剤を含有させることがで
きる。こうすることによって、銀薄膜をレーザ光の一部
が透過しても、その下層で吸収させることにより、熱効
率を向上させることが可能となる。
の除去を促進させ陽極酸化されたアルミ表面層を露出さ
せる効率(即ち本発明の方法における平版印刷原版の感
度と言える)を向上させるために、物理現像核層、もし
くは、支持体の何れかに光吸収剤を含有させることがで
きる。こうすることによって、銀薄膜をレーザ光の一部
が透過しても、その下層で吸収させることにより、熱効
率を向上させることが可能となる。
【0062】光吸収剤としては一般的に染料又は顔料で
あれば良く、例えばカーボンブラック、シアニン、無金
属又は金属フタロシアニン、金属ジチオレン、アントラ
キノン等を挙げることができる。
あれば良く、例えばカーボンブラック、シアニン、無金
属又は金属フタロシアニン、金属ジチオレン、アントラ
キノン等を挙げることができる。
【0063】また粗面化され陽極酸化処理されたアルミ
ベースに光吸収剤を含有させる場合においては、一般的
に黒染と呼ばれる、化学的あるいは電気化学的な金属着
色法を用いることができ、有機もしくは無機の染料を浸
漬染色により、陽極酸化膜が有する微細な多孔に染料を
導入し、後に封孔処理を行い染色することができる。
ベースに光吸収剤を含有させる場合においては、一般的
に黒染と呼ばれる、化学的あるいは電気化学的な金属着
色法を用いることができ、有機もしくは無機の染料を浸
漬染色により、陽極酸化膜が有する微細な多孔に染料を
導入し、後に封孔処理を行い染色することができる。
【0064】また、支持体の裏面には、描画装置などで
の搬送性を考慮してマット剤や帯電防止剤を含む層を設
けても良い。
の搬送性を考慮してマット剤や帯電防止剤を含む層を設
けても良い。
【0065】本発明の平版印刷原版の製版方法におい
て、陽極酸化された表面を露出させるために用いられる
レーザとしては、炭酸ガスレーザ、窒素レーザ、Arレ
ーザ、He/Neレーザ、He/Cdレーザ、Krレー
ザ等の気体レーザ、液体(色素)レーザ、ルビーレー
ザ、Nd/YAGレーザ等の固体レーザ、GaAs/G
aAlAs、InGaAsレーザ等の半導体レーザ、K
rFレーザ、XeClレーザ、XeFレーザ、Ar2等
のエキシマレーザ等を挙げることができる。
て、陽極酸化された表面を露出させるために用いられる
レーザとしては、炭酸ガスレーザ、窒素レーザ、Arレ
ーザ、He/Neレーザ、He/Cdレーザ、Krレー
ザ等の気体レーザ、液体(色素)レーザ、ルビーレー
ザ、Nd/YAGレーザ等の固体レーザ、GaAs/G
aAlAs、InGaAsレーザ等の半導体レーザ、K
rFレーザ、XeClレーザ、XeFレーザ、Ar2等
のエキシマレーザ等を挙げることができる。
【0066】
【実施例】以下本発明を実施例により詳説するが、本発
明はその主旨を超えない限り、下記実施例に限定される
ものではない。
明はその主旨を超えない限り、下記実施例に限定される
ものではない。
【0067】実施例1 幅300mm、厚み0.2mmのA1050タイプアルミニ
ウム板帯を1.3m/minの処理速度で移動させ、50
℃、4%水酸化ナトリウム水溶液に30秒間浸漬した
後、水洗し、間接給電方式の電解槽に、20℃の1.5
%塩酸を満たし、電源より20A/dm2、50Hzの
単相交流電流を60秒間流して、交流電解粗面化し、水
洗し、その後60℃、6%硝酸水溶液に30秒間浸漬し
てデスマットし、水洗し、その後25℃、20%硫酸中
に60秒間通して5A/dm2の直流電流で陽極酸化
し、水洗し、その後乾燥して、オフセット印刷版用アル
ミベース(アルミベース1)を得た。
ウム板帯を1.3m/minの処理速度で移動させ、50
℃、4%水酸化ナトリウム水溶液に30秒間浸漬した
後、水洗し、間接給電方式の電解槽に、20℃の1.5
%塩酸を満たし、電源より20A/dm2、50Hzの
単相交流電流を60秒間流して、交流電解粗面化し、水
洗し、その後60℃、6%硝酸水溶液に30秒間浸漬し
てデスマットし、水洗し、その後25℃、20%硫酸中
に60秒間通して5A/dm2の直流電流で陽極酸化
し、水洗し、その後乾燥して、オフセット印刷版用アル
ミベース(アルミベース1)を得た。
【0068】<平版印刷原版1の作製>このようにして
作製したアルミベース1を下記の物理現像液1に、23
℃1分間浸漬させた後30秒水洗したところ、0.61
g/m2の銀量を有する銀薄膜を得た。
作製したアルミベース1を下記の物理現像液1に、23
℃1分間浸漬させた後30秒水洗したところ、0.61
g/m2の銀量を有する銀薄膜を得た。
【0069】<平版印刷原版2の作製>平版印刷原版1
の作製の際に用いた例示化合物A10の代わりに例示化
合物AP2を120g用いる他は同様に行ったところ、
1.84g/m2の銀量を有する銀薄膜を得た。
の作製の際に用いた例示化合物A10の代わりに例示化
合物AP2を120g用いる他は同様に行ったところ、
1.84g/m2の銀量を有する銀薄膜を得た。
【0070】<平版印刷原版3の作製>銀薄膜1の作製
の際に用いた例示化合物A10の代わりに無水亜硫酸ソ
ーダを165g用いる他は同様に行ったところ、浸漬後
10分を経過しても銀薄膜を得ることが出来なかった。
の際に用いた例示化合物A10の代わりに無水亜硫酸ソ
ーダを165g用いる他は同様に行ったところ、浸漬後
10分を経過しても銀薄膜を得ることが出来なかった。
【0071】<平版印刷原版4の作製>銀薄膜1の作製
の際に用いた例示化合物A10を用いない他は同様に行
ったところ、浸漬後1分では銀膜を生じず、10分を経
過したところで、1.61g/m2の銀量を有する銀薄
膜を得た。
の際に用いた例示化合物A10を用いない他は同様に行
ったところ、浸漬後1分では銀膜を生じず、10分を経
過したところで、1.61g/m2の銀量を有する銀薄
膜を得た。
【0072】このようにして作製した、本発明の平版印
刷原版1、2、4を波長1064nmの8WのYAGレ
ーザで露光し、親水性層を露出させて平版印刷版を得
た。このようにして得られた平版印刷版を、オフセット
印刷機(リョウビイマジクス(株)製3200MCD)
に装着し、15万枚まで印刷を行ったところ、平版印刷
版1と2では非画像部汚れの無い印刷画質に優れた印刷
物が得られた。平版印刷版4では版がインキを受領せ
ず、印刷が行えなかった。
刷原版1、2、4を波長1064nmの8WのYAGレ
ーザで露光し、親水性層を露出させて平版印刷版を得
た。このようにして得られた平版印刷版を、オフセット
印刷機(リョウビイマジクス(株)製3200MCD)
に装着し、15万枚まで印刷を行ったところ、平版印刷
版1と2では非画像部汚れの無い印刷画質に優れた印刷
物が得られた。平版印刷版4では版がインキを受領せ
ず、印刷が行えなかった。
【0073】実施例2 実施例1で用いた例示化合物A10の代わりにA6、A
12、AP1、AP8を用いる他は同様に銀薄膜、製
版、印刷試験を行ったところ、15万枚まで非画像部汚
れの無い印刷画質に優れた印刷物が得られた。
12、AP1、AP8を用いる他は同様に銀薄膜、製
版、印刷試験を行ったところ、15万枚まで非画像部汚
れの無い印刷画質に優れた印刷物が得られた。
【0074】実施例3 <平版印刷原版5の作製>60℃、6%硝酸水溶液に3
0秒間浸漬してデスマットする代わりに、25℃、5%
炭酸ソーダ水溶液に30秒間浸漬してデスマットするこ
と以外は実施例1と同様にして、オフセット印刷版用ア
ルミベース(アルミベース3)を得た。このようにして
作製したアルミベース3を前記の物理現像液1に、23
℃30分間浸漬させたところ、0.52g/m2の銀量
の銀薄膜を得た。
0秒間浸漬してデスマットする代わりに、25℃、5%
炭酸ソーダ水溶液に30秒間浸漬してデスマットするこ
と以外は実施例1と同様にして、オフセット印刷版用ア
ルミベース(アルミベース3)を得た。このようにして
作製したアルミベース3を前記の物理現像液1に、23
℃30分間浸漬させたところ、0.52g/m2の銀量
の銀薄膜を得た。
【0075】以下実施例1と同様にして、平版印刷原版
5を作製し、印刷したところ、10万枚までは非画像部
汚れの無い印刷画質に優れた印刷物が得られたが、それ
以上では、画像のとびが発生した。この表面活性のレベ
ルが使用可能な下限と判明した。
5を作製し、印刷したところ、10万枚までは非画像部
汚れの無い印刷画質に優れた印刷物が得られたが、それ
以上では、画像のとびが発生した。この表面活性のレベ
ルが使用可能な下限と判明した。
【0076】
【発明の効果】以上説明したごとく、本発明の平版印刷
材料の製版方法は従来のジアゾ化合物やフォトポリマー
を用いた平版印刷原版の製版方法と異なり、明室下でも
作業が行え、かつ現像液を使用することがないので作業
環境が非常に良好である。また、レーザを用いての直接
描画方法に対応することができ、高解像性を有する画像
を低コストで得ることができるという秀逸な効果をもた
らす。
材料の製版方法は従来のジアゾ化合物やフォトポリマー
を用いた平版印刷原版の製版方法と異なり、明室下でも
作業が行え、かつ現像液を使用することがないので作業
環境が非常に良好である。また、レーザを用いての直接
描画方法に対応することができ、高解像性を有する画像
を低コストで得ることができるという秀逸な効果をもた
らす。
【図1】本発明に用いる平版印刷原版の一例を表す概念
図である。
図である。
1 アルミベース 2 粗面化処理され陽極酸化処理されたアルミ表面層 3 銀薄膜層
Claims (3)
- 【請求項1】 支持体上に、アミン類の存在下、銀薄膜
を設置してなる平版印刷版を、ヒートモードのレーザ露
光を用いて銀薄膜を除去することを特徴とする平版印刷
版の製版方法。 - 【請求項2】 アミン類が下記の一般式1で示す化合物
であることを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版の
製版方法。 【化1】 (式中R1〜R5の少なくとも一つは置換もしくは無置換
のアミノ基を示し、その他は水素原子、ハロゲン原子、
置換もしくは無置換の飽和もしくは不飽和の、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリール基、ア
ルカノイル基、アロイル基、複素環基を示し、これらは
互いに結合して環を形成していても良い。) - 【請求項3】 支持体が酸性処理液で処理した後、陽極
酸化処理したアルミベースであることを特徴とする請求
項1に記載の平版印刷版の製版方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10012642A JPH11208136A (ja) | 1998-01-26 | 1998-01-26 | 平版印刷版の製版方法 |
| US09/184,023 US6132938A (en) | 1997-11-06 | 1998-11-02 | Process for making lithographic printing plate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10012642A JPH11208136A (ja) | 1998-01-26 | 1998-01-26 | 平版印刷版の製版方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11208136A true JPH11208136A (ja) | 1999-08-03 |
Family
ID=11811029
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10012642A Pending JPH11208136A (ja) | 1997-11-06 | 1998-01-26 | 平版印刷版の製版方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11208136A (ja) |
-
1998
- 1998-01-26 JP JP10012642A patent/JPH11208136A/ja active Pending
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