JPH11209103A - モノゲルマンの精製方法 - Google Patents
モノゲルマンの精製方法Info
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- JPH11209103A JPH11209103A JP1434398A JP1434398A JPH11209103A JP H11209103 A JPH11209103 A JP H11209103A JP 1434398 A JP1434398 A JP 1434398A JP 1434398 A JP1434398 A JP 1434398A JP H11209103 A JPH11209103 A JP H11209103A
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- QUZPNFFHZPRKJD-UHFFFAOYSA-N germane Chemical compound [GeH4] QUZPNFFHZPRKJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 68
- 229910052986 germanium hydride Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 28
- 238000007670 refining Methods 0.000 title 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 29
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 7
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 abstract description 5
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 15
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 12
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910000078 germane Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 9
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium dioxide Chemical compound O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 229940119177 germanium dioxide Drugs 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 3
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N [Si].[Ge] Chemical compound [Si].[Ge] LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 ammonium halide Chemical class 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 238000005273 aeration Methods 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- VXGHASBVNMHGDI-UHFFFAOYSA-N digermane Chemical compound [Ge][Ge] VXGHASBVNMHGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 238000002309 gasification Methods 0.000 description 1
- SCCCLDWUZODEKG-UHFFFAOYSA-N germanide Chemical compound [GeH3-] SCCCLDWUZODEKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000011973 solid acid Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N tetrachlorogermane Chemical compound Cl[Ge](Cl)(Cl)Cl IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 低沸点成分の不純物を効率よく分離
し、かつ安全に高純度モノゲルマンを得る。 【解決手段】 低沸点成分を主たる不純物として含有
するモノゲルマンを容器内で冷却し、固化した状態で、
該容器内を真空排気する。
し、かつ安全に高純度モノゲルマンを得る。 【解決手段】 低沸点成分を主たる不純物として含有
するモノゲルマンを容器内で冷却し、固化した状態で、
該容器内を真空排気する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はモノゲルマンの精製
方法に関する。より詳しくは、モノゲルマン中に含まれ
る水素（Ｈ２）、窒素（Ｎ２）、一酸化炭素（ＣＯ）、
などの低沸点成分を除去し、電子材料、太陽電池素子等
の材料として使用されうる高純度のモノゲルマンを安全
かつ効率よく製造する方法に関する。
方法に関する。より詳しくは、モノゲルマン中に含まれ
る水素（Ｈ２）、窒素（Ｎ２）、一酸化炭素（ＣＯ）、
などの低沸点成分を除去し、電子材料、太陽電池素子等
の材料として使用されうる高純度のモノゲルマンを安全
かつ効率よく製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】モノゲルマンは主としてアモルファスシ
リコンゲルマニウム薄膜の原料として使用されている。
これはアモルファスシリコン薄膜より長波長側の光の吸
収効率が高いという特性があるため、今後長波長光の変
換効率の高い太陽電池や長波長光感度の高い感光ドラム
の開発が進むにつれ、モノゲルマンの需要も著しく伸び
てくるものと期待されている。このため、アモルファス
シリコンゲルマニウム薄膜の原料として使用できるよう
な高純度モノゲルマンが要求されている。ゲルマンの製
造は、古くは１９００年代の初頭にその報告があるが、
本格的に研究が始まったのは１９２０年代以降である。
リコンゲルマニウム薄膜の原料として使用されている。
これはアモルファスシリコン薄膜より長波長側の光の吸
収効率が高いという特性があるため、今後長波長光の変
換効率の高い太陽電池や長波長光感度の高い感光ドラム
の開発が進むにつれ、モノゲルマンの需要も著しく伸び
てくるものと期待されている。このため、アモルファス
シリコンゲルマニウム薄膜の原料として使用できるよう
な高純度モノゲルマンが要求されている。ゲルマンの製
造は、古くは１９００年代の初頭にその報告があるが、
本格的に研究が始まったのは１９２０年代以降である。
【０００３】これまでのゲルマン生成反応の型式は大き
く次の３つに分類される。 １）マグネシウムゲルマナイド（＝Ｍｇ２Ｇｅ）と酸も
しくはハロゲン化アンモニウムの反応 例えば、Krans、Carney, J.Am.Chem.Soc.; vol.56, P765
(1934) ２）四塩化ゲルマニウム（＝ＧｅＣｌ４）と水素化剤と
の反応 例えば、Finholt、Bond, J.Am.Chem.Soc.; vol.69, P269
2 (1947) ３）二酸化ゲルマニウム（＝ＧｅＯ２）と水素化剤との
反応 例えば、Piper、Wilson, J.Inorg.Nucl.Chem.; vol.4, P
22 (1957)
く次の３つに分類される。 １）マグネシウムゲルマナイド（＝Ｍｇ２Ｇｅ）と酸も
しくはハロゲン化アンモニウムの反応 例えば、Krans、Carney, J.Am.Chem.Soc.; vol.56, P765
(1934) ２）四塩化ゲルマニウム（＝ＧｅＣｌ４）と水素化剤と
の反応 例えば、Finholt、Bond, J.Am.Chem.Soc.; vol.69, P269
2 (1947) ３）二酸化ゲルマニウム（＝ＧｅＯ２）と水素化剤との
反応 例えば、Piper、Wilson, J.Inorg.Nucl.Chem.; vol.4, P
22 (1957)
【０００４】上記何れの方法を採用しても製造されたモ
ノゲルマンを主成分として含むガスを製造することがで
きる。しかしながら、本発明者らが得られた粗ゲルマン
ガス中の不純物について種々検討を行ったところ、反応
原料や条件によってその種類や量は多少ことなるが、殆
どの場合二酸化炭素（ＣＯ２）、や一酸化炭素（Ｃ
Ｏ）、水素（Ｈ２）、メタンエタン等の炭化水素類、Ｓ
Ｏ２やＨ２Ｓ含有硫黄化合物、ＨＣｌ等が含まれている
ことがわかった。また当然のことながら、Ｈｅや、Ｎ２
を、キャリアガスとした場合には、これを不純物として
含有することになる。
ノゲルマンを主成分として含むガスを製造することがで
きる。しかしながら、本発明者らが得られた粗ゲルマン
ガス中の不純物について種々検討を行ったところ、反応
原料や条件によってその種類や量は多少ことなるが、殆
どの場合二酸化炭素（ＣＯ２）、や一酸化炭素（Ｃ
Ｏ）、水素（Ｈ２）、メタンエタン等の炭化水素類、Ｓ
Ｏ２やＨ２Ｓ含有硫黄化合物、ＨＣｌ等が含まれている
ことがわかった。また当然のことながら、Ｈｅや、Ｎ２
を、キャリアガスとした場合には、これを不純物として
含有することになる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これま
で、モノゲルマン中の不純物の除去、精製に関する報告
は、全くなされていない。このため本発明者らが鋭意検
討行ったところ、上記モノゲルマン中の不純物のうち、
二酸化炭素、炭化水素類、含有硫黄化合物等は固体酸と
接触することにより、効率的に吸着除去できることを見
出し、この方法を特願平９−３３５８５５号公報に開示
した。しかしながらＨ２やＨｅ、Ｎ２等の低沸点成分は
一般に吸着では十分に分離除去を行うことができない。
このため目的の分離を行うためには深冷蒸留操作が必要
となるが、モノゲルマンは発火性であり、かつ自己分解
性があり、取り扱いが極めて難しい物質であるため蒸留
のような緊雑な操作はできるかぎり避けたい。本発明の
目的は前述低沸点成分の不純物を効率よく分離し、かつ
安全に高純度モノゲルマンを得る方法を提供することに
ある。
で、モノゲルマン中の不純物の除去、精製に関する報告
は、全くなされていない。このため本発明者らが鋭意検
討行ったところ、上記モノゲルマン中の不純物のうち、
二酸化炭素、炭化水素類、含有硫黄化合物等は固体酸と
接触することにより、効率的に吸着除去できることを見
出し、この方法を特願平９−３３５８５５号公報に開示
した。しかしながらＨ２やＨｅ、Ｎ２等の低沸点成分は
一般に吸着では十分に分離除去を行うことができない。
このため目的の分離を行うためには深冷蒸留操作が必要
となるが、モノゲルマンは発火性であり、かつ自己分解
性があり、取り扱いが極めて難しい物質であるため蒸留
のような緊雑な操作はできるかぎり避けたい。本発明の
目的は前述低沸点成分の不純物を効率よく分離し、かつ
安全に高純度モノゲルマンを得る方法を提供することに
ある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らが、粗ゲルマ
ンガス中の上記低沸点成分の除去方法について鋭意検討
を行ったところ、モノゲルマンを容器内で冷却固化した
後該容器を真空排気すれば極めて効率よく上記不純物が
除去できる事を見出し、本発明を完成するに至ったもの
である。
ンガス中の上記低沸点成分の除去方法について鋭意検討
を行ったところ、モノゲルマンを容器内で冷却固化した
後該容器を真空排気すれば極めて効率よく上記不純物が
除去できる事を見出し、本発明を完成するに至ったもの
である。
【０００７】即ち、本発明は低沸点成分を主たる不純物
として含有するモノゲルマンを容器内で冷却し、固化し
た状態で、該容器内を真空排気すること、または低沸点
成分を主たる不純物として含有するモノゲルマンを容器
内で冷却し、固化した状態で、該容器内を真空排気した
後モノゲルマンを容器内で気化せしめ、再度冷却し、固
化した状態で容器内を真空排気することを特徴とするモ
ノゲルマンの精製方法に関する。 〔発明の詳細な説明〕
として含有するモノゲルマンを容器内で冷却し、固化し
た状態で、該容器内を真空排気すること、または低沸点
成分を主たる不純物として含有するモノゲルマンを容器
内で冷却し、固化した状態で、該容器内を真空排気した
後モノゲルマンを容器内で気化せしめ、再度冷却し、固
化した状態で容器内を真空排気することを特徴とするモ
ノゲルマンの精製方法に関する。 〔発明の詳細な説明〕
【０００８】以下、本発明を詳細に説明する。一般に反
応で生成するモノゲルマン中には前述のごとく、高次ゲ
ルマンであるジゲルマン（Ｇｅ２Ｈ６）、トリゲルマン
（Ｇｅ３Ｈ８）、また、炭化水素類（ＴＨＣ）、二酸化
炭素（ＣＯ２）などの不純物が混入するが、本発明の方
法ではこれらの高沸点成分を直接対象としておらず、低
沸点成分を対象とする発明である。本発明にいう低沸点
成分とは、モノゲルマンに対する相対揮発度の高い成分
であり、厳密にはモノゲルマンの融点である−１６５℃
以下に常圧の沸点を有する成分と定義する。具体的に
は、Ｎ２、Ｈｅ、Ｈ２、Ｏ２、ＣＯ等が挙げられる。低
沸点成分を主たる不純物し含有するモノゲルマンの製法
には特に限定はなく、前述に挙げた例のごとき反応を好
適に採用できる。しかしながら、反応を行うに際しては
取り扱いの容易で安価な物質を使用することが好ましい
ことは言うまでもなく、大気中でＨＣｌミストを生成す
るような四塩化ゲルマニウムや高価な金属ゲルマニウム
を使用するよりも、二酸化ゲルマニウムと水素化剤とを
反応させる方法がより好ましい。
応で生成するモノゲルマン中には前述のごとく、高次ゲ
ルマンであるジゲルマン（Ｇｅ２Ｈ６）、トリゲルマン
（Ｇｅ３Ｈ８）、また、炭化水素類（ＴＨＣ）、二酸化
炭素（ＣＯ２）などの不純物が混入するが、本発明の方
法ではこれらの高沸点成分を直接対象としておらず、低
沸点成分を対象とする発明である。本発明にいう低沸点
成分とは、モノゲルマンに対する相対揮発度の高い成分
であり、厳密にはモノゲルマンの融点である−１６５℃
以下に常圧の沸点を有する成分と定義する。具体的に
は、Ｎ２、Ｈｅ、Ｈ２、Ｏ２、ＣＯ等が挙げられる。低
沸点成分を主たる不純物し含有するモノゲルマンの製法
には特に限定はなく、前述に挙げた例のごとき反応を好
適に採用できる。しかしながら、反応を行うに際しては
取り扱いの容易で安価な物質を使用することが好ましい
ことは言うまでもなく、大気中でＨＣｌミストを生成す
るような四塩化ゲルマニウムや高価な金属ゲルマニウム
を使用するよりも、二酸化ゲルマニウムと水素化剤とを
反応させる方法がより好ましい。
【０００９】このようにして生成したガス中には先に述
べたように、不純物として低沸成分以外に高次ゲルマン
や炭化水素、ＣＯ２等を含むが、事前に後者の成分を吸
着等の方法で除去してもよいしそのまま本発明を遂行し
てもよい。次に本発明の本質を述べる。モノゲルマンの
凝固点は常圧下で−１６５℃であり、この温度で固化す
る。本発明ではモノゲルマンが固化した状態で雰囲気を
真空排気する。この操作により、この温度で蒸気圧を有
する低沸点成分を除去することができる。
べたように、不純物として低沸成分以外に高次ゲルマン
や炭化水素、ＣＯ２等を含むが、事前に後者の成分を吸
着等の方法で除去してもよいしそのまま本発明を遂行し
てもよい。次に本発明の本質を述べる。モノゲルマンの
凝固点は常圧下で−１６５℃であり、この温度で固化す
る。本発明ではモノゲルマンが固化した状態で雰囲気を
真空排気する。この操作により、この温度で蒸気圧を有
する低沸点成分を除去することができる。
【００１０】モノゲルマンの冷却固化のために使用する
冷媒としては特に限定するものではないがコスト的には
液体窒素を使用するのが最も有利である。また排気用の
ポンプも特に限定しないが、モノゲルマンの物性を考え
るとオイルの混入を避けるべきであり真空排気はダイヤ
フラム式の真空ポンプが好ましい。
冷媒としては特に限定するものではないがコスト的には
液体窒素を使用するのが最も有利である。また排気用の
ポンプも特に限定しないが、モノゲルマンの物性を考え
るとオイルの混入を避けるべきであり真空排気はダイヤ
フラム式の真空ポンプが好ましい。
【００１１】また、真空排気時間は、容器の容量、処理
すべきモノゲルマンの充填量、低沸点成分の含有量、真
空ポンプの排気能力などによって異なるので一概に断定
出来ないが、概ね３〜３０分、好ましくは５〜２０分程
度の間で実施する。その際の容器内圧力は好ましくは１
０Ｔｏｒｒ以下、より好ましくは５Ｔｏｒｒ以下、最も
好ましくは２Ｔｏｒｒ以下になるまで排気を行う。この
理由は１０Ｔｏｒｒを超えると低沸成分を除去すること
はできるが高純度のモノゲルマンを得ることはできな
い。また、真空排気を終えたモノゲルマンを一旦ガス化
せしめ再度固化して真空排気すると更に低沸成分が効率
的に除去されることを本発明者らは実験的に確認した。
おそらく最初にモノゲルマンが固化する際に低沸成分を
とりこんで固化しているため一旦ガス化する効果があら
われるものと推定している。
すべきモノゲルマンの充填量、低沸点成分の含有量、真
空ポンプの排気能力などによって異なるので一概に断定
出来ないが、概ね３〜３０分、好ましくは５〜２０分程
度の間で実施する。その際の容器内圧力は好ましくは１
０Ｔｏｒｒ以下、より好ましくは５Ｔｏｒｒ以下、最も
好ましくは２Ｔｏｒｒ以下になるまで排気を行う。この
理由は１０Ｔｏｒｒを超えると低沸成分を除去すること
はできるが高純度のモノゲルマンを得ることはできな
い。また、真空排気を終えたモノゲルマンを一旦ガス化
せしめ再度固化して真空排気すると更に低沸成分が効率
的に除去されることを本発明者らは実験的に確認した。
おそらく最初にモノゲルマンが固化する際に低沸成分を
とりこんで固化しているため一旦ガス化する効果があら
われるものと推定している。
【００１２】かくして真空排気が終了すると、容器は密
閉したまま冷媒浴より取り出し、常温に戻して充填され
ているモノゲルマンを気化する。以上一連の操作で
Ｈ２、Ｎ ２、ＣＯなどの低沸点成分が除去された高純度
のモノゲルマンを得る事が出来るのである。尚、この様
にして得られた高純度モノゲルマンを、所望により、再
度本発明を繰り返す事によって、上記低沸点成分が更に
除去され、極めて高純度とすることも可能である。
閉したまま冷媒浴より取り出し、常温に戻して充填され
ているモノゲルマンを気化する。以上一連の操作で
Ｈ２、Ｎ ２、ＣＯなどの低沸点成分が除去された高純度
のモノゲルマンを得る事が出来るのである。尚、この様
にして得られた高純度モノゲルマンを、所望により、再
度本発明を繰り返す事によって、上記低沸点成分が更に
除去され、極めて高純度とすることも可能である。
【００１３】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。なお二酸化ゲルマニウム、ナトリウムボロハイドラ
イド、水酸化カリウム、硫酸はすべて関東化学社製の試
薬を、水はイオン交換水を使用した。以下、％は重量基
準を表す。 実施例１ 容量１Ｌのガラス製三角フラスコに２.８％の水酸化カ
リウム水溶液５６６ｇを調製し、これに二酸化ゲルマニ
ウム粉末７.９ｇとナトリウムボロハイドライド粉末１
６．５ｇを添加、攪拌、溶解して反応原料水溶液を調製
した。また、他の１Ｌガラス製三角フラスコに２７％の
硫酸水溶液（約３mol／ｌ）を調製した。容量１Ｌで密
閉のできる蓋付のテフロン製反応器に２７％の硫酸水溶
液１５０ｇを仕込んで蓋を閉め、反応原料水溶液供給ラ
イン、温度計、キャリヤ窒素、発生ガス出口ラインを接
続した。反応器はスターラーで攪拌ができるようにし、
また容器ごと温浴に浸して、反応温度を２５〜３５℃に
調節するようにした。
る。なお二酸化ゲルマニウム、ナトリウムボロハイドラ
イド、水酸化カリウム、硫酸はすべて関東化学社製の試
薬を、水はイオン交換水を使用した。以下、％は重量基
準を表す。 実施例１ 容量１Ｌのガラス製三角フラスコに２.８％の水酸化カ
リウム水溶液５６６ｇを調製し、これに二酸化ゲルマニ
ウム粉末７.９ｇとナトリウムボロハイドライド粉末１
６．５ｇを添加、攪拌、溶解して反応原料水溶液を調製
した。また、他の１Ｌガラス製三角フラスコに２７％の
硫酸水溶液（約３mol／ｌ）を調製した。容量１Ｌで密
閉のできる蓋付のテフロン製反応器に２７％の硫酸水溶
液１５０ｇを仕込んで蓋を閉め、反応原料水溶液供給ラ
イン、温度計、キャリヤ窒素、発生ガス出口ラインを接
続した。反応器はスターラーで攪拌ができるようにし、
また容器ごと温浴に浸して、反応温度を２５〜３５℃に
調節するようにした。
【００１４】また別途、図１に示すモノゲルマンの精製
装置を以下のように前準備した。先ず固化精製用ボンベ
１（容量１５０ｍｌ、材質ＳＵＳ−３１６製）を約１０
０℃に加熱した状態で内圧が１Torr以下に達する迄真空
ポンプ３にて排気した。しかる後、加熱を止め、室温ま
で冷却し、固化精製用ボンベ１を冷媒槽２（冷媒は液体
窒素を使用）中に浸漬して内温が−１９０℃以下になる
まで冷却した。次に、真空ポンプをストップし、Ｈｅガ
スを常圧まで導入した。
装置を以下のように前準備した。先ず固化精製用ボンベ
１（容量１５０ｍｌ、材質ＳＵＳ−３１６製）を約１０
０℃に加熱した状態で内圧が１Torr以下に達する迄真空
ポンプ３にて排気した。しかる後、加熱を止め、室温ま
で冷却し、固化精製用ボンベ１を冷媒槽２（冷媒は液体
窒素を使用）中に浸漬して内温が−１９０℃以下になる
まで冷却した。次に、真空ポンプをストップし、Ｈｅガ
スを常圧まで導入した。
【００１５】以上のように前準備したゲルマン発生装置
と、精製装置を用い、ゲルマン発生装置より発生した粗
ゲルマンガスを、シリカゲル及びモレキュラシーブと接
触させて高沸点を除去した後、導入配管（配管１３）よ
り固化精製用ボンベ１に通気する為、４時間通気しモノ
ゲルマンを固化した。尚、冷却固化精製中のボンベ内温
度は、−１９０〜−１９５℃で行い、固化精製ボンベ１
の後に、冷却固化ロス分のモノゲルマンを確認する為、
ガスクロマトグラフィーで分析を行えるようにした。４
時間後、モノゲルマンの発生をストップし、容器内にモ
ノゲルマンを固化した状態で、真空ポンプ３を起動し、
容器内気相部に残っている低沸点成分を除去した。上記
操作温度は−１９０〜−１９７℃、真空排気時間は１０
分とした。真空排気終了後、容器を密閉した状態で、冷
媒槽２より容器を取り出し、常温になるまで放置してモ
ノゲルマンを気化した。気化したモノゲルマン中の低沸
点成分をガスクロマトグラフィーにて成分分析した値を
表１に示した。
と、精製装置を用い、ゲルマン発生装置より発生した粗
ゲルマンガスを、シリカゲル及びモレキュラシーブと接
触させて高沸点を除去した後、導入配管（配管１３）よ
り固化精製用ボンベ１に通気する為、４時間通気しモノ
ゲルマンを固化した。尚、冷却固化精製中のボンベ内温
度は、−１９０〜−１９５℃で行い、固化精製ボンベ１
の後に、冷却固化ロス分のモノゲルマンを確認する為、
ガスクロマトグラフィーで分析を行えるようにした。４
時間後、モノゲルマンの発生をストップし、容器内にモ
ノゲルマンを固化した状態で、真空ポンプ３を起動し、
容器内気相部に残っている低沸点成分を除去した。上記
操作温度は−１９０〜−１９７℃、真空排気時間は１０
分とした。真空排気終了後、容器を密閉した状態で、冷
媒槽２より容器を取り出し、常温になるまで放置してモ
ノゲルマンを気化した。気化したモノゲルマン中の低沸
点成分をガスクロマトグラフィーにて成分分析した値を
表１に示した。
【００１６】
【表１】
【００１７】
【発明の効果】本発明は、モノゲルマンガス中に含有す
る不純物のうち、二酸化炭素（ＣＯ２）、炭化水素（Ｔ
ＨＣ）を、モレキュラシーブなどの吸着剤を使用する精
製方法で除去した後、水素（Ｈ２）、窒素（Ｎ２）、一
酸化炭素（ＣＯ）等を主たる不純物成分として含有する
モノゲルマンを、容器内で温度−１９７℃以下で冷却固
化した後、容器内を、１Ｔｏｒｒ以下まで真空排気する
という、極めて簡単な精製方法である。本発明の方法を
採用すれば、安全に、かつ高純度のモノゲルマンが得る
ことができる。以上を総合して考えると、本発明の効果
は大きいと考える。
る不純物のうち、二酸化炭素（ＣＯ２）、炭化水素（Ｔ
ＨＣ）を、モレキュラシーブなどの吸着剤を使用する精
製方法で除去した後、水素（Ｈ２）、窒素（Ｎ２）、一
酸化炭素（ＣＯ）等を主たる不純物成分として含有する
モノゲルマンを、容器内で温度−１９７℃以下で冷却固
化した後、容器内を、１Ｔｏｒｒ以下まで真空排気する
という、極めて簡単な精製方法である。本発明の方法を
採用すれば、安全に、かつ高純度のモノゲルマンが得る
ことができる。以上を総合して考えると、本発明の効果
は大きいと考える。
【００１８】
【図１】 本発明のモノゲルマンを精製する概略図
１ 固化精製用ボンベ ２ 冷媒槽 ３ 真空ポンプ ４ ガスクロマトグラフィー ５ 圧力計 ６ 温度計 ７ モノゲルマン導入配管 ８ Ｈｅ導入配管
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１０年２月１３日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００９】このようにして生成したガス中には先に述
べたように、不純物として低沸成分以外に高次ゲルマン
や炭化水素、ＣＯ２等を含むが、事前に後者の成分を吸
着等の方法で除去してもよいしそのまま本発明を遂行し
てもよい。次に本発明の本質を述べる。モノゲルマンの
融点は常圧下で−１６５℃であり、この温度で固化す
る。本発明ではモノゲルマンが固化した状態で雰囲気を
真空排気する。この操作により、この温度で蒸気圧を有
する低沸点成分を除去することができる。
べたように、不純物として低沸成分以外に高次ゲルマン
や炭化水素、ＣＯ２等を含むが、事前に後者の成分を吸
着等の方法で除去してもよいしそのまま本発明を遂行し
てもよい。次に本発明の本質を述べる。モノゲルマンの
融点は常圧下で−１６５℃であり、この温度で固化す
る。本発明ではモノゲルマンが固化した状態で雰囲気を
真空排気する。この操作により、この温度で蒸気圧を有
する低沸点成分を除去することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１４】また別途、図１に示すモノゲルマンの精製
装置を以下のように前準備した。先ず固化精製用ボンベ
１（容量１５０ｍｌ、材質ＳＵＳ−３１６製）を約１０
０℃に加熱した状態で内圧が１Ｔｏｒｒ以下に達する迄
真空ポンプ３にて排気した。しかる後、加熱を止め、室
温まで冷却し、固化精製用ボンベ１を冷媒槽２（冷媒は
液体窒素を使用）中に浸漬して内温が−１９０℃以下に
なるまで冷却した。次に、真空ポンプ３をストップし、
ＨｅガスをＨｅ導入配管８より常圧まで導入した。
装置を以下のように前準備した。先ず固化精製用ボンベ
１（容量１５０ｍｌ、材質ＳＵＳ−３１６製）を約１０
０℃に加熱した状態で内圧が１Ｔｏｒｒ以下に達する迄
真空ポンプ３にて排気した。しかる後、加熱を止め、室
温まで冷却し、固化精製用ボンベ１を冷媒槽２（冷媒は
液体窒素を使用）中に浸漬して内温が−１９０℃以下に
なるまで冷却した。次に、真空ポンプ３をストップし、
ＨｅガスをＨｅ導入配管８より常圧まで導入した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１５】以上のように前準備したゲルマン発生装置
と、精製装置を用い、ゲルマン発生装置より発生した粗
ゲルマンガスを、シリカゲル及びモレキュラシーブと接
触させて高沸点物を除去した後、モノゲルマン導入配管
７より固化精製用ボンベ１に通気する為、４時間通気し
モノゲルマンを固化した。尚、冷却固化精製中のボンベ
内温度は、−１９０〜−１９５℃で行い、固化精製ボン
ベ１の後に、冷却固化ロス分のモノゲルマンを確認する
為、ガスクロマトグラフィーで分析を行えるようにし
た。４時間後、モノゲルマンの発生をストップし、容器
内にモノゲルマンを固化した状態で、真空ポンプ３を起
動し、容器内気相部に残っている低沸点成分を除去し
た。上記操作温度は−１９０〜−１９７℃、真空排気時
間は１０分とした。真空排気終了後、容器を密閉した状
態で、冷媒槽２より容器を取り出し、常温になるまで放
置してモノゲルマンを気化した。気化したモノゲルマン
中の低沸点成分をガスクロマトグラフィーにて成分分析
した値を表１に示した。
と、精製装置を用い、ゲルマン発生装置より発生した粗
ゲルマンガスを、シリカゲル及びモレキュラシーブと接
触させて高沸点物を除去した後、モノゲルマン導入配管
７より固化精製用ボンベ１に通気する為、４時間通気し
モノゲルマンを固化した。尚、冷却固化精製中のボンベ
内温度は、−１９０〜−１９５℃で行い、固化精製ボン
ベ１の後に、冷却固化ロス分のモノゲルマンを確認する
為、ガスクロマトグラフィーで分析を行えるようにし
た。４時間後、モノゲルマンの発生をストップし、容器
内にモノゲルマンを固化した状態で、真空ポンプ３を起
動し、容器内気相部に残っている低沸点成分を除去し
た。上記操作温度は−１９０〜−１９７℃、真空排気時
間は１０分とした。真空排気終了後、容器を密閉した状
態で、冷媒槽２より容器を取り出し、常温になるまで放
置してモノゲルマンを気化した。気化したモノゲルマン
中の低沸点成分をガスクロマトグラフィーにて成分分析
した値を表１に示した。
Claims (6)
- 【請求項１】 低沸点成分を主たる不純物として含有
するモノゲルマンを容器内で冷却し、固化した状態で、
該容器内を真空排気することを特徴とするモノゲルマン
の精製方法。 - 【請求項２】 低沸点成分を主たる不純物として含有
するモノゲルマンを容器内で冷却し、固化した状態で、
該容器内を真空排気した後モノゲルマンを容器内で気化
せしめ、再度冷却し、固化した状態で容器内を真空排気
することを特徴とするモノゲルマンの精製方法。 - 【請求項３】 真空排気の際の容器内の圧力が１０Ｔ
ｏｒｒ以下である請求項１または２記載のモノゲルマン
の精製方法。 - 【請求項４】 真空排気の際の容器内の圧力が５Ｔｏ
ｒｒ以下である請求項１または２記載のモノゲルマンの
精製方法。 - 【請求項５】 真空排気の際の容器内の圧力が２Ｔｏ
ｒｒ以下である請求項１または２記載のモノゲルマンの
精製方法。 - 【請求項６】 真空排気の際の容器内の圧力が少なく
とも１回以上、１０Ｔｏｒｒ以下とする請求項１または
２記載のモノゲルマンの精製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1434398A JPH11209103A (ja) | 1998-01-27 | 1998-01-27 | モノゲルマンの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1434398A JPH11209103A (ja) | 1998-01-27 | 1998-01-27 | モノゲルマンの精製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11209103A true JPH11209103A (ja) | 1999-08-03 |
Family
ID=11858436
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1434398A Pending JPH11209103A (ja) | 1998-01-27 | 1998-01-27 | モノゲルマンの精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11209103A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006034802A1 (en) * | 2004-09-29 | 2006-04-06 | Umicore | Process for the production of ge by reduction of geci4, with liquid metal |
-
1998
- 1998-01-27 JP JP1434398A patent/JPH11209103A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006034802A1 (en) * | 2004-09-29 | 2006-04-06 | Umicore | Process for the production of ge by reduction of geci4, with liquid metal |
| US7682593B2 (en) | 2004-09-29 | 2010-03-23 | Umicore | Process for the production of Ge by reduction of GeCl4 with liquid metal |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20060628 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20060711 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20061107 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |