JPH11209717A

JPH11209717A - フィルム塗工用塗料及びそれを用いた反射防止材料及び偏光フィルム並びにフィルムへの塗工方法

Info

Publication number: JPH11209717A
Application number: JP10021526A
Authority: JP
Inventors: Tsutomu Murata; 力村田
Original assignee: Tomoegawa Paper Co Ltd
Current assignee: Tomoegawa Co Ltd
Priority date: 1998-01-19
Filing date: 1998-01-19
Publication date: 1999-08-03

Abstract

(57)【要約】【課題】透明基体との密着性を大幅に高めることがで
き、高温多湿の条件でも信頼性を有し、優れた光学的特
性と耐摩耗性、耐薬品性を得る。【解決手段】透明基体１１の片面もしくは両面に、少
なくとも粗面化層１２を設けた反射防止材料である。透
明基体は、ＴＡＣ、けん化ＴＡＣ、ポリカーボネートま
たはアクリル系の樹脂で構成され、粗面化層１２は、主
としてＭＩＢＫを溶剤とする塗料により塗工されてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は液晶ディスプレイ（ＬＣ
Ｄ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＣＲＴ、ＥＬ
等の画像表示体等に好適に用いられ、画像部の防汚性、
反射防止、耐薬品性、耐摩耗性に優れるとともに、特
に、車載用画像表示体のように高温、高湿の環境化での
耐久性を向上させる技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬに代表さ
れる画像表示装置（以下ディスプレイ）や、サングラ
ス、ゴーグル、ヘルメットのシールド等光学系の製品に
は、沢山のフィルム製品が使用されている。特にディス
プレイは、テレビ、コンピューター、携帯電話、ＰＨ
Ｓ、カーナビ等、様々な分野に応用され、フィルム製品
の大きな市場として期待されている。

【０００３】最近、この分野において、ノートパソコン
等のディスプレイ表面に使用されている反射防止フィル
ムが注目されている。反射防止に関しては、従来、磨り
ガラスのように、光を散乱もしくは拡散させて像をボカ
ス手法が一般的に行われている。光を散乱もしくは拡散
させるためには、光の入射面を粗面化することが基本と
なっており、この粗面化処理には、サンドブラスト法や
エンボス法等により透明基体表面を直接粗面化する方
法、透明基体表面にフィラーを含有させた塗工層を設け
る方法及び透明基体表面に海島構造による多孔質膜を形
成する方法等が採用されている。

【０００４】透明基体表面にフィラーを含有させた粗面
化層を設ける方法は、フィラーの粒径やその含有量等に
より粗面化層表面の凹凸の大きさを比較的簡単にコント
ロールでき、かつ製造が容易である等の利点から現在、
好んで用いられている。塗工剤に使用する樹脂として
は、透過性、耐熱性、耐摩耗性、耐薬品性等に優れたも
のが望ましいが、基材が耐熱性に乏しい高透明なプラス
チックフィルムである場合が多いことから、ＵＶ硬化型
樹脂が好んで使用されている。その例として、ＵＶ硬化
型樹脂とシリカ顔料を構成要素とする特開平１−１０５
７３８や特開平５−１６２２６１などが報告されてい
る。

【０００５】反射防止効果を更に向上するために、該粗
面化層上に、該粗面化層より屈折率の低い層を設けた
り、屈折率の高い材料と低い材料を交互に積層したりす
る方法が知られている。屈折率の低い材料としてはＭｇ
ＦやＳｉＯ₂など、屈折率が高い材料としてはＴｉＯ₂、
ＺｒＯ₂などがあげられ、通常これらの材料は蒸着やス
パッタリングなどの気相法や、ゾルゲル法等により形成
される。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、透明基体の
材料としては、従来、安価で、光学特性や各環境におけ
る信頼性等に優れていることから、トリアセチルセルロ
ース（以下、ＴＡＣと略称する）、ポリカーボネート、
アクリル樹脂が多用されているが、これらの透明基体と
粗面化層との密着性が問題となっていた。即ち、近年、
急速に普及しつつあるカーテレビやカーナビゲーション
用ディスプレイなどは、反射防止フィルムが使用されて
おり、乗用車の中で温度と湿度の極めて大きな変化が繰
り返される。ところが、これらの透明基体は、粗面化層
を構成する樹脂との密着性がもともと悪い上に、ＴＡＣ
などは、熱膨張率が高く、しかも吸湿性が大きいため、
温湿度変化で寸法変化し易いという欠点がある。そのた
め、耐摩耗性を高めるためにリジッドに構成された粗面
化層との間に高い応力が生じ、粗面化層の剥がれ等の重
大なトラブルが発生し、耐久性に問題を有するものであ
った。

【０００７】従来においては、粗面化層の材料である樹
脂を例えば、芳香族溶剤、あるいはアルコール系溶剤に
溶かして塗料とし、これを透明基体に塗工していたが、
そのような溶剤では透明基体への密着力が弱く、車載用
などの用途には信頼性の面で適していないことが判っ
た。一方、密着力を高めるためにメチルエチルケトンや
酢酸エチルなどの極性の大きな溶剤を用いることも考え
られるが、そのような溶剤では、密着力の面では問題は
ないものの、上記した透明基体の表面が冒されて反射防
止材料の光学的特性が劣化するという問題があった。

【０００８】また、ディスプレイの解像度が向上するに
伴い、上記粗面化層の凹凸の高さや間隔にも緻密化が要
求されるようになってきた。画像の高精細化は、主に画
像ドットの高密度化によるが、凹凸の間隔がこの画像ド
ットのピッチより小さい場合は良いが、大きい場合は干
渉によるギラツキが発生する。反射防止性が良好で、ギ
ラツキがない鮮明な画像を得るためには、まず、この凹
凸の高さおよび間隔を、小さくかつバラツキがないよう
コントロールしなければならない。

【０００９】しかしながら、ＵＶ硬化型樹脂とシリカ顔
料からなる系は、基材に塗料を塗布した後、ＵＶ照射に
より膜硬化するまでの間、低粘度の液状態を呈している
ため、粗面化層中のフィラーどうしが互いにくっつき合
ったりして、凝集（オレンジピール）を生じて解像度が
十分得られないという問題を有していた。特に、粗面化
層表面の凹凸を緻密化する目的で、フィラーの含有量を
増加させたり、粗面化層の厚さをコントロールするため
に粗面化層の塗料を溶剤等で希釈する場合には特に顕著
であった。

【００１０】本発明は、従来技術における上記した実情
に鑑みてなされたもので、ＴＡＣ、ＰＣ、アクリル樹脂
のフィルムに対する密着力が高く、しかもフィルム表面
を冒すことのないフィルム塗工用塗料およびフィルムへ
の塗工方法を提供することを目的としている。また、本
発明は、透明基体と粗面化層との密着強度が高く、車載
用として充分な信頼性を有することは勿論のこと、ディ
スプレイへの太陽光及び蛍光灯等の外部光の映り込みを
防止することにより、優れた反射防止性を発揮し、か
つ、画像コントラストを低下させることなく、ギラツキ
等のない鮮明な画像を得ることができ、光学的に安定で
優れた耐薬品性を示す反射防止材料を提供することを目
的としている。さらに、本発明は、上記反射防止材料を
使用した偏光フィルムを提供することにより、特に、フ
ルカラー液晶ディスプレイ等の性能を大幅に向上させる
ことを目的としている。

【００１１】

【課題を解決するための手段】Ａ．フィルム塗工用塗料
の内容本発明者は、まず、ＴＡＣ製透明基体とこれに塗工する
塗料との密着強度を高めるために、塗料の溶剤について
検討を重ねた結果、塗料の溶剤がメチルイソブチルケト
ン（以下、ＭＩＢＫと略称する）の場合には、透明基体
の表面が僅かに冒されるだけで光学的特性への影響は一
切なく、しかも、密着強度が大幅に高められることを見
出した。本発明者は、ＭＩＢＫのかかる特性に注目して
他の透明基体についても検討を重ねた結果、ポリカーボ
ネートおよびアクリル系の樹脂で構成された透明基体、
更には、こらら透明基体をケン化処理したものについて
も同等の効果が得られることを見出した。

【００１２】本発明は上記知見に基づいてなされたもの
で、ＴＡＣ系、ポリカーボネートまたはアクリル系の樹
脂で構成された透明基体、更には、前記透明基体をケン
化処理したものに塗工する塗料において、塗料の溶剤
を、ＭＩＢＫを主体とすることを特徴としている。な
お、溶剤は、ＭＩＢＫ単独でも良く、ＭＩＢＫにトルエ
ン、キシレン等の芳香族溶剤、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、エチルセロソルブ、ブチルセロ
ソルブ等のアルコール系溶剤の１種または２種以上を混
合したものであっても良い。ただし、上記フィルムとの
所望の密着性を得るためには、溶剤中のＭＩＢＫの含有
量は重量１０％以上、好ましくは４０％以上、必要であ
る。また、メチルエチルケトンや酢酸エチル等の極性の
大きな溶剤は混合しない方が好ましい。透明基体がＴＡ
Ｃ、けん化処理ＴＡＣの場合には、熱膨張率と吸湿性が
高いために本発明の効果が一層発揮される。以下、本発
明のフィルム塗工用塗料の好適な実施の形態を反射防止
材料の粗面化層を形成する塗料を例に説明する。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明において粗面化層を塗工す
る透明基体としては、ＴＡＣ系、ポリカーボネート、ア
クリル系の樹脂で構成された透明フィルムが用いられ
る。具体的には、ＴＡＣ、けん化処理されたＴＡＣ等の
ＴＡＣ系フィルム、ポリカーボネートフィルム、さらに
アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル、メタ
クリル酸エステル、アクリルアミド、アクリルニトリル
等の単独もしくは共重合体であるアクリル系フィルムが
挙げられる。粗面化層には、各種の樹脂を使用すること
ができるが、塗工時に加熱の必要がなく、耐摩耗性、耐
熱性、耐薬品性等の耐久性に優れていることから紫外線
硬化型樹脂が好ましく用いられる。透明基体がけん化Ｔ
ＡＣの場合には、塗料の主たる成分である樹脂にエポキ
シ化合物と光カチオン重合開始剤を含有する紫外線硬化
型樹脂を含めると一層効果的である。紫外線硬化型樹脂
の粘度、架橋密度、耐熱性、耐薬品性など塗料および塗
工膜の特性をコントロールするためには、アクリル系化
合物を混合することが好ましい。このような紫外線硬化
型樹脂を塗料に使用して粗面化層を形成した場合の利点
を、従来のラジカル反応型紫外線硬化型樹脂を塗料に用
いた場合と比較すると以下のようになる。

【００１４】透明基体との密着性が良好である。特
に、従来の粗面化層を形成する樹脂系では、ほとんど密
着しなかったけん化ＴＡＣ基体への密着性に優れている
ので、偏光基体、透明基体および粗面化層を強固に密着
させた積層体を得ることができる。酸素阻害が少ない。硬化収縮が非常に少ない。顔料の分散性に優れている。

【００１５】前記エポキシ系化合物としては、テトラメ
チレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレング
リコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコー
ルジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジ
ルエーテル等のグリシジルエーテル、２−ヒドロキシ−
３−フェノキシプロピルアクリレート、ビスフェノール
Ａ−ジエポキシ−アクリル酸付加物等のエポキシエステ
ルや、以下の化学式からなる脂環式エポキシ等のモノマ
ーおよびオリゴマーをあげることができる。

【００１６】

【化１】

【００１７】光カチオン重合開始剤としては、以下の化
学式からなる化合物をあげることができる。なお、これ
ら化合物は各単体で用いても良く、複数混合で使用して
も良い。

【００１８】

【化２】

【００１９】光カチオン重合開始剤の配合量は、主剤に
対し、０．１〜５．０重量％の範囲が望ましい。この配
合量は０．１より少なくても、５．０より多くても紫外
線硬化は不十分である。

【００２０】紫外線硬化型樹脂に混合するアクリル系化
合物としては、ラウリルアクリレート、エトキシジエチ
レングリコールアクリレート、メトキシトリエチレング
リコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニ
ルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、
２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ
−３−フェノキシアクリレート等の単官能アクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−
ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスリトールアクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロール
プロパンアクリル酸安息香酸エステル、トリメチロール
プロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート等の
アクリル酸誘導体、２−エチルヘキシルメタクリレー
ト、ｎ−ステアリルメタクリレート、シクロヘキシルメ
タクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シブチルアクリレート等の単官能メタクリレート、１，
６−ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチロー
ルプロパントリメタクリレート、グリセリンジメタクリ
レート等の多官能メタクリレート等のメタクリル酸誘導
体、グリセリンジメタクリレートヘキサメチレンジイソ
シアネート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘ
キサメチレンジイソシアネート等のウレタンアクリレー
ト等のモノマーおよびオリゴマーをあげることができ
る。

【００２１】前記紫外線硬化型樹脂を使用した粗面化層
の硬化に伴う体積収縮率（下記方法より算出）は、２０
％以下が望ましい。体積収縮率が２０％より大きくなる
と、透明基体が薄手のフィルムの場合はカールが著しく
なり、また厚手で剛度の高いフィルムやガラスのように
リジットな板状の透明基体の場合は粗面化層の密着性が
低下する。

【００２２】

【数１】体積収縮率：Ｄ＝（Ｓ−Ｓ'）／Ｓ×１００Ｓ：硬化前の比重Ｓ'：硬化後の比重（比重はＪＩＳＫ−７１１２のＢ法ピクノメーター法
により測定）

【００２３】また、紫外線硬化型樹脂の透明性は高いほ
ど良く、光線透過率（ＪＩＳＣ−６７１４）として
は、透明基体同様、８０％以上、好ましくは９０％以上
が好ましい。反射防止材料の透明性は該紫外線硬化型樹
脂の屈折率によって影響を受けるが、屈折率は、１．４
５〜１．７０の範囲が好ましく、この範囲を超えると反
射防止効果が損なわれる。

【００２４】塗料にはフィラーを含有させ、形成した粗
面化層表面を粗面化することで、反射防止効果を向上さ
せることができる。フィラーとしてはシリカ、炭酸カル
シウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、ク
レー、タルク、二酸化チタン等の無機系白色顔料、アク
リル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、エポ
キシ樹脂、シリコン樹脂、ビーズ等有機系の透明または
白色顔料等をあげることができる。特に、球状で給油性
を示さない有機フィラーが好ましく、球状のフィラーを
用いることによって、粗面化層の表面から突出する部分
がなだらかになり、油分等の汚れが付着し難くなるとと
もに付着した汚れを拭い易くなる。

【００２５】このようなフィラーの粒子径Ｄ（ＪＩＳ
Ｂ９９２１）は、０．５μｍ≦Ｄ≦６．０μｍの範囲の
ものが６０重量％以上、６．０μｍ＜Ｄ≦１０．０μｍ
の範囲のものが２０重量％未満、１０μｍ＜Ｄ≦１５．
０μｍの範囲のものが５重量％以下、１５．０μｍ＜Ｄ
であるものが１重量％以下であることが望ましい。さら
に、１５．０μｍ＜Ｄである粒子は、できれば含有され
ない（０％）ことが好ましく、特に、０．５μｍ≦Ｄ≦
６．０μｍの範囲のものが８０重量％以上、６．０μｍ
＜Ｄ≦１０．０μｍの範囲のものが１０重量％未満、１
０μｍ＜Ｄ≦１５．０μｍの範囲のものは全く含まない
ことが好ましい。０．５μｍ≦Ｄ≦６．０μｍの範囲に
あるフィラーの重量％と、６．０μｍ＜Ｄ≦１０．０μ
ｍの範囲にあるフィラーの重量％、さらに、１０μｍ＜
Ｄ≦１５．０μｍの範囲にあるフィラーの重量％が、そ
れぞれ６０％未満、２０％未満、５％未満の場合は、デ
ィスプレイの反射防止効果が悪くなり、６．０μｍ＜Ｄ
≦１０．０μｍの範囲にあるフィラーが２０重量％以上
もしくは、１０μｍ＜Ｄ≦１５．０μｍの範囲にあるフ
ィラーが５重量％以上の場合は、ディスプレイの画像に
ギラツキが発生する。フィラーの配合量については、粗
面化層の全固形分重量比で、０．５〜３０％の範囲が良
い。特に、１〜１５％の範囲が好ましい。配合量が０．
５％以下では、反射防止効果が不充分となり、３０％以
上では、透明性、画像のコントラストが劣るばかりでな
く、耐摩耗性や耐環境性等の耐久性が悪くなる。また、
フィラーの屈折率（ＪＩＳＫ−７１４２によるＢ法）
は、紫外線硬化型樹脂と同等であることが好ましい。フ
ィラーの屈折率が紫外線硬化型樹脂の屈折率と異なる場
合は、フィラーと樹脂界面で光が拡散し、透明性が損な
われる。紫外線硬化型樹脂と同等の屈折率を有するフィ
ラーの例としては、有機系のフィラー、特に、架橋アク
リルビーズが好適である。

【００２６】架橋アクリルビーズとしては、アクリル酸
及びそのエステル、メタクリル酸及びそのエステル、ア
クリルアミド、アクリルニトリル等のアクリル系モノマ
ーと過硫酸等の重合開始剤、エチレングリコールジメタ
クリレート等の架橋剤を用い、懸濁重合法等により重合
して得られる重合体及び共重合体からなる架橋アクリル
系ビーズが好適に使用できる。特にアクリル系のモノマ
ーとして、メチルメタクリレートを使用した構成が好ま
しい。この様にして得られた架橋アクリルビーズは球状
で吸油性を示さないことから、粗面化層に使用した場
合、優れた耐汚染性を発現できる。また、架橋アクリル
ビーズには、塗料の分散性を向上させるために油脂類、
シランカップリング剤、金属酸化物等の有機・無機材料
による表面改質を行っても良い。

【００２７】Ｂ．塗工方法の内容本発明のフィルムへの塗料の塗工方法は、ＴＡＣ、ポリ
カーボネートまたはアクリル系の樹脂で構成された透明
基体、更には、これら透明基体をケン化処理したもの
に、溶剤としてメチルイソブチルケトンを主体とする塗
料を用いることを特徴とする。具体的には、上記で述べ
た紫外線硬化型樹脂中に、本発明の溶剤と必要に応じて
架橋アクリルビーズ等のフィラーを混合し、これをペイ
ントシェーカー、サンドミル、パールミル、ボールミ
ル、アトライター、ロールミル、高速インペラー分散
機、ジェットミル、高速衝撃ミル、超音波分散機等によ
って分散して塗料またはインキとし、これをエアドクタ
ーコーティング、ブレードコーティング、ナイフコーテ
ィング、リバースコーティング、トランスファロールコ
ーティング、グラビアロールコーティング、キスコーテ
ィング、キャストコーティング、スプレーコーティン
グ、スロットオリフィスコーティング、カレンダーコー
ティング、電着コーティング、ディップコーティング、
ダイコーティング等のコーティングやフレキソ印刷等の
凸版印刷、ダイレクトグラビア印刷、オフセットグラビ
ア印刷等の凹版印刷、オフセット印刷等の平版印刷、ス
クリーン印刷等の孔版印刷等の印刷手法により透明基体
の片面もしくは両面上に単層もしくは多層に分けて設
け、溶剤を含んでいる場合は、熱乾燥工程を経て、紫外
線照射により塗工層もしくは印刷層を硬化させることに
よって得る方法等挙げられる。なお、照射する紫外線と
しては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カー
ボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等
の光線から発する紫外線等が利用できる。

【００２８】塗料の塗工適性または印刷適性を向上させ
るために、必要に応じ、シリコーンオイル等のレベリン
グ剤、ポリエチレンワックス、カルナバワックス、高級
アルコール、ビスアマイド、高級脂肪酸等の油脂、イソ
シアネート等の硬化剤、炭酸カルシウムやシリカゾル、
合成雲母等０．１μｍ以下の超微粒子等の添加剤を適宜
使用することができる。また、ディスプレイ表面に静電
的に付着するホコリ等の汚れを防止するために帯電防止
剤を添加しても良い。帯電防止剤は、後述の帯電防止層
の説明で例示する材料をそのまま適用できる。

【００２９】塗料を粗面化層として塗工するときの乾燥
状態での厚さは、０．５〜１０μｍの範囲が、好ましく
は１〜５μｍの範囲が良い。粗面化層が０．５μｍより
薄い場合は、粗面化層の耐摩耗性が悪くなったり、紫外
線硬化型樹脂を使用した場合など、酸素阻害により硬化
不良を起こす。１０μｍより厚い場合は、樹脂の硬化収
縮によりカールが発生したり、粗面化層にマイクロクラ
ックが発生したり、さらに、透明基体との密着性が低下
したりする。

【００３０】Ｃ．反射防止材料の内容透明基体の片面もしくは両面に、上記した塗料を塗工す
ることにより、本発明の反射防止材料を得ることができ
る。透明基体の透明性は高いもの程良好であるが、光線
透過率（ＪＩＳＣ−６７１４）としては８０％以上、よ
り好ましくは９０％以上が良い。透明基体の厚さは、軽
量化の観点から薄いほうが望ましいが、その生産性を考
慮すると、１μ〜５μｍの範囲のものを使用することが
好適である。また、透明基体に、コロナ処理、プラズマ
処理、フッ素処理、スパッタ処理等の表面処理や、界面
活性剤、シランカップリング剤等の塗布を行うと好適で
ある。このような処理を行うことにより、透明基体の表
面エネルギーが上昇し、粗面化層との密着強度を確実に
高めることができる。具体的には、透明基体の表面エネ
ルギーは、３０〜６０ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲が好まし
い。

【００３１】また、透明基体の表面には、ディスプレイ
表面に静電的に付着するホコリ等の汚れを防止するため
に帯電防止層を設けても良い。帯電防止層は、アルミ、
錫等の金属、ＩＴＯ等の金属酸化膜を蒸着、スパッタ等
で極めて薄く設ける方法、アルミ、錫等の金属微粒子や
ウィスカー、酸化錫等の金属酸化物にアンチモン等をド
ープした微粒子やウィスカー、７，７，８，８−テトラ
シアノキノジメタンと金属イオンや有機カチオンなどの
電子供与体（ドナー）との間でできた電荷移動錯体をフ
ィラー化したもの等をポリエステル樹脂、アクリル樹
脂、エポキシ樹脂等に分散し、ソルベントコーティング
等により設ける方法、ポリピロール、ポリアニリン等に
カンファースルホン酸等をドープしたものをソルベント
コーティング等により設ける方法等により設けることが
できる。帯電防止層の透過率は光学用途の場合、８０％
以上が好ましい。

【００３２】本発明においては、より優れた反射防止機
能を得るために、必要に応じて粗面化層上に表面層を設
けることができる。該表面層は、単層で設ける場合と複
数層積層する場合がある。単層の場合は粗面化層の屈折
率より、低い材料を使用し、複数層積層する場合は、粗
面化層上に、粗面化層より屈折率の高い材料と低い材料
が交互に設けられる。屈折率の低い材料からなる層を低
屈折率層と呼び、屈折率の高い材料からなる層を高屈折
率層と呼ぶ。以下これらの層について詳細説明する。

【００３３】(a)高屈折率層高屈折率層は、前記粗面化層の表面に直接あるいは接着
剤層など他の層を介して設けられる。屈折率を高くする
ためには高屈折率を持つバインダー樹脂を使用するか、
高い屈折率を有する超微粒子をバインダー樹脂に添加す
ることによって行うか、あるいはこれらを併用すること
によって行う。高屈折率層の屈折率は粗面化層より必ず
高く、１．５５〜２．７０の範囲にあることが好まし
い。屈折率が粗面化層より低い場合、もしくは前記範囲
外の場合は、反射防止効果が損なわれる。高屈折率層に
用いる樹脂は、透明なものであれば任意であり、熱硬化
型樹脂、熱可塑性樹脂、放射線（紫外線を含む）硬化型
樹脂などを用いることができる。熱硬化型樹脂として
は、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹
脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グアナミン樹
脂、不飽和ポリエステル樹脂、アミノアルキッド樹脂、
メラミン−尿素共縮合樹脂、グアナミン樹脂、珪素樹
脂、ポリシロキサン樹脂等を用いることができ、これら
の樹脂に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤等の硬化
剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えることがで
きる。

【００３４】放射線硬化型樹脂としては、ポリエステル
樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹
脂、アルキッド樹脂、ポリブタジエン樹脂、スピロール
アセタール樹脂、ウレタン樹脂、多価アルコール等の多
官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマーまた
はプレポリマーおよび反応性希釈剤としてエチル（メ
タ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレー
ト、スチレン、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニル
ピロリドン等の単官能モノマー及び多官能モノマー等を
用いることができる。

【００３５】上記樹脂を紫外線硬化型樹脂として用いる
場合には、光重合開始剤として、アセチフェノン類、ベ
ンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、ミヒラー
ベンゾイルベンゾエート、テトラメチルチウラムモノサ
ルファイド、チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−
ブチルアミン、トリエチルアミンなどを混合して用いる
ことができる。

【００３６】上記樹脂を高屈折率とするためには、芳香
環やＢｒ、Ｉ、Ｃｌ等のハロゲン化元素を含むものを選
定する。芳香環を含む樹脂の例としては、ポリスチレン
等のスチロール樹脂、ＰＥＴ、ビスフェノールＡのポリ
カーボネート等が挙げられる。また、ハロゲン化元素を
含む樹脂の例としては、ポリ塩化ビニル、ポリテトラブ
ロモビスフェノールＡグリシジルエーテル等が挙げられ
る。また、Ｓ、Ｎ、Ｐ等を含む樹脂も高屈折率であり、
例えば、ポリビニルピリジン、ポリビスフェノールＳグ
リシジルエーテル等が挙げられる。

【００３７】高屈折超微粒子としては、たとえば、Ｚｎ
Ｏ（屈折率ｎ＝１．９）、ＴｉＯ2（ｎ＝２．３〜２．
７）、ＣｅＯ２（ｎ＝１．９５）の微粒子を含有させる
ことで、紫外線遮蔽の効果を得ることができる。また、
アンチモンがドープされたＳｎＯ２（ｎ＝１．９５）ま
たはＩＴＯ（ｎ＝１．９５）の微粒子を含有させること
により、帯電防止効果が付与されて埃の付着を防止する
ことができる。その他の微粒子としては、Ａｌ２Ｏ３
（ｎ＝１．６３）、Ｌａ２Ｏ３（ｎ＝１．９５）、Ｚｒ
Ｏ２（ｎ＝２．０５）、Ｙ２Ｏ３（ｎ＝１．８７）等を
挙げることができる。これらの超微粒子は単独または混
合して使用され、有機溶剤または水に分散したコロイド
状になったものが分散性の点において良好であり、その
粒径としては、１〜１００ｎｍ、塗膜の透明性から好ま
しくは、５〜２０ｎｍであることが望ましい。

【００３８】高屈折率層は、例えば、上記で述べたＺｎ
Ｏなどの高屈折材料をＣＶＤ、スパッタリング、蒸着等
の気相法や、高屈折材料を例えば溶剤に希釈し、スピン
コーター、ロールコーター、印刷等の方法で粗面化層上
に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光
重合開始剤を使用する）等により硬化させる方法によっ
て粗面化層上に直接設けることができる。また、その際
には、乾燥後の高屈折率層の厚さが０．０５〜０．１５
μｍとなるように塗工厚さを調節する。高屈折率層の厚
さがこの範囲外となる場合は、反射防止の効果が損なわ
れる。

【００３９】(b)低屈折率層本発明においては、より優れた反射防止機能を得るため
に、高屈折率層上に、これよりも屈折率の小さい低屈折
率層を設けている。以下、低屈折率層について説明す
る。低屈折率層の組成は特に限定されるものではない
が、その臨界表面張力が２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下となる
ように構成されることが好ましい。臨界表面張力が２０
ｄｙｎｅ／ｃｍより大きい場合は、低屈折率層に付着し
た汚れが取れにくくなる。また、反射防止効果を向上さ
せるためには、低屈折率層の屈折率は、１．４５以下で
あることが好ましい。これらの特徴を有する材料として
は、例えばＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．４）、ＭｇＦ２（ｎ
＝１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ３（ｎ＝１．４）、Ａｌ
Ｆ３（ｎ＝１．４）Ｎａ３ＡｌＦ６（ｎ＝１．３３）Ｓ
ｉＯ２（ｎ＝１．４５）等の無機材料を微粒子化し、ア
クリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた無機系低
反射材料、フッ素系、シリコーン系の有機化合物、熱可
塑性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型樹脂等の有機低
反射材料を挙げることができる。その中で、特に、フッ
素系の含フッ素材料が汚れ防止の点において好ましい。

【００４０】前記含フッ素材料としては、有機溶剤に溶
解し、その取り扱いが容易であるフッ化ビニリデン系共
重合体や、フルオロオレフィン／炭化水素オレフィン共
重合体、含フッ素エポキシ樹脂、含フッ素エポキシアク
リレート、含フッ素シリコーン、含フッ素アルコキシシ
ラン、さらに、ＴＥＦＲＯＮＡＦ１６００（デュポン
社製、ｎ＝１．３０）、ＣＹＴＯＰ（旭硝子（株）社
製、ｎ＝１．３４）、１７ＦＭ（三菱レーヨン（株）社
製、屈折率ｎ＝１．３５）、オプスターＪＮ−７２１２
（日本合成ゴム（株）社製、ｎ＝１．４０）、ＬＲ２０
１（日産化学工業（株）社製、ｎ＝１．３８）等を挙げ
ることができる。これらは単独でも複数組み合わせて使
用することも可能である。

【００４１】また、２−（パーフルオロデシル）エチル
メタクリレート、２−（パーフロロ−７−メチルオクチ
ル）エチルメタクリレート、３−（パーフロロ−７−メ
チルオクチル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、２−（パーフロロ−９−メチルデシル）エチルメタ
クリレート、３−（パーフロロ−８−メチルデシル）２
−ヒドロキシプロピルメタクリレート等の含フッ素メタ
クリレート、３−パフロロオクチル−２−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチ
ルアクリレート、２−（パーフルオロ−９−メチルデシ
ル）エチルアクリレート等の含フッ素アクリレート、３
−パーフルオロデシル１，２−エポキシプロパン、３−
（パーフロロ−９−メチルデシル）−１，２−エポキシ
プロパン等のエポキサイド、エポキシアクリレート等の
放射線硬化型の含フッ素モノマー、オリゴマー、プレポ
リマー等を挙げることができる。これらは単独もしくは
複数種類混合して使用することも可能である。

【００４２】さらに、５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を
水もしくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素系の皮膜形
成剤を混合した低反射材料を使用することもできる。該
５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に
分散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イ
オンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸ア
ルカリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸
を縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシラ
ンを有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合
することにより得られる公知のシリカゾル、さらには上
記の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に
置換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル
（オルガノシリカゾル）が用いられる。これらのシリカ
ゾルは水系及び有機溶剤系のどちらでも使用することが
できる。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水
を有機溶剤に置換する必要はない。前記シリカゾルはＳ
ｉＯ２として０．５〜５０重量％濃度の固形分を含有す
る。シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針
状、板状等様々なものが使用可能である。

【００４３】また、被膜形成剤としては、アルコキシシ
ラン、金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリ
シロキサンをフッ素変性したものなどを用いることがで
きる。上記のような被膜形成剤を用いることにより、低
屈折率層の臨界表面張力が低下して油分の付着を抑制す
ることができる。本発明において低屈折率層は、上記で
述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーター、ロ
ールコーター、印刷等の方法で高屈折率層上に設けて乾
燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤
を使用する）等により硬化させることによって得ること
ができる。放射線硬化型の含フッ素モノマー、オリゴマ
ー、プレポリマーは耐汚染性には優れているが、ヌレ性
が悪いため、組成によっては高屈折率層上で低屈折率層
をはじくという問題や、低屈折率層が高屈折率層から剥
がれるという問題が生じるおそれがあるため、粗面化層
に使用する前述の放射線硬化型樹脂として説明した、ア
クリロイル基、メタアクリロイル基、アクリロイルオキ
シ基、メタアクリロイルオキシ基等重合性不飽和結合を
有するモノマー、オリゴマー、プレポリマーを適宜混合
し、使用することが望ましい。なお、透明基体がＴＡ
Ｃ、アクリル系等樹脂フィルムの場合は、熱によるダメ
ージを受けやすいことから、低屈折率層の材料は、放射
線硬化型樹脂が好ましい。

【００４４】低屈折率層はこれらの低反射材料を用い、
ロールコーティングや印刷等によるウェットコーティン
グ法や、真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ、
イオンプレーティング等による気相法により、高屈折率
層上に設けられる。ウェットコーティング法で設ける場
合は、塗工適性または印刷適性を向上させるために、必
要に応じ、粗面化層同様、シリコーンオイル等のレベリ
ング剤、ポリエチレンワックス、カルナバワックス、高
級アルコール、ビスアマイド、高級脂肪酸等の油脂、イ
ソシアネート等の硬化剤、炭酸カルシウムやシリカゾ
ル、合成雲母等０．０５μｍ以下の超微粒子等の添加剤
を適宜使用することができる。

【００４５】表面層が良好な反射防止機能を発揮するた
めの厚さについては、公知の計算式で算出することがで
きる。公知の文献（サイエンスライブラリ、物理学９
「光学」７０〜７２頁）によれば、入射光が表面層に垂
直に入射する場合に、表面層が光を反射せず、かつ１０
０％透過するための条件は次の関係式を満たせば良いと
されている。なお、式中Ｎ_Oは表面層の屈折率、Ｎｓは
粗面化層の屈折率、ｈは表面層の厚さ、λ_Oは光の波長
を示す。

【００４６】

【数２】Ｎ_O＝Ｎｓ^1/2 式（１）Ｎ_Oｈ＝λ_O／４式（２）

【００４７】前記（１）式によれば、光の反射を１００
％防止するためには、表面層の屈折率が下層（粗面化
層）の屈折率の平方根になるような材料を選択すればよ
いことが分かる。但し、実際は、この数式を完全に満た
す材料は見出し難く、限りなく近い材料を選択すること
になる。前記（２）式では（１）式で選択した表面層の
屈折率と、光の波長から表面層の反射防止膜としての最
適な厚さが計算される。たとえば、粗面化層、表面層の
屈折率をそれぞれ１．５０、１．３８、光の波長を５５
０ｎｍ（視感度の基準）とし、これらの値を前記（２）
式に代入すると、表面層の厚さは０．１μｍ前後の光学
膜厚、好ましくは０．１０±０．０１μｍの範囲が最適
であると計算される。

【００４８】このようにして作製した本発明の反射防止
材料のＪＩＳＫ７１０５によるＨＡＺＥ値は、３〜３
０の範囲、特に好ましくは５〜１５の範囲であることが
好ましい。この場合、この値が３未満では、光拡散の効
果が少なくそれ程大きな反射防止効果を得ることができ
ない。一方、ＨＡＺＥ値が３０を超えると、画像コント
ラストが悪く視認性不良となり、ディスプレイとしての
機能低下を招くことから好ましくない。なお、ＨＡＺＥ
値とは、曇価を意味するものであり、積分球式光線透過
率測定装置を用いて、拡散透過率（Ｈｄ％）と全光線透
過率（Ｈｔ％）を測定し、下記式にて算出する。

【００４９】

【数３】ＨＡＺＥ値＝Ｈｄ／Ｈｔ×１００

【００５０】Ｄ．偏光フィルムの内容上記構成の反射防止材料の透明基体の粗面化層が設けら
れていない他方の面に、偏光基体を介して保護材を積層
することによって、本発明の偏光フィルムを得ることが
できる。偏光基体は、透明性を有する材料で構成され、
具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニレン等が
使用できる。そして、このような材料を延伸させてフィ
ルム化することにより偏光基体を得ることができる。例
えば、２色性素子として沃素または染料を吸着させたポ
リビニルアルコールを一軸延伸して得られたポリビニル
アルコール（ＰＶＡ)フィルムを用いることが好まし
い。偏光基体は１０〜８０μｍの厚みを有するものが使
用される。具体的には、ＰＶＡフィルムを一軸方向に３
〜４倍程度延伸し、高次の沃素イオン中に延伸したＰＶ
Ａフィルムを含浸させることにより偏光基体を得ること
ができる。

【００５１】上記で得られるＰＶＡフィルムは、強度等
が不足していることから、裂け易く、湿度変化に対して
収縮率が大きいという欠点を有していることから、偏光
基体の両面に反射防止材料の透明基体及び保護材がそれ
ぞれ積層される。これらは偏光基体の両面に、ポリエス
テル系接着剤、ポリアクリル系接着剤、ポリウレタン系
接着剤、ポリ酢酸ビニル系接着剤等により接着される。

【００５２】保護材としては、透明な高分子化合物のフ
ィルム、例えば、ＴＡＣ等のセルロース系フィルム、ポ
リエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム等が使
用される。その中でも特にＴＡＣが好ましい。これらの
フィルムの厚さは１０〜２０００μｍが好ましい。ま
た、これらのフィルムには特にほう酸等のゲル化剤を使
用したり、熱処理やホルマール化を行うことによって、
フィルムの耐水性を向上させることが好ましい。また、
偏光基体との密着性を向上させるために、偏光基体との
接着面の表面エネルギーが５０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上にな
るように、けん化処理やコロナ処理等の表面処理を行う
ことが好ましい。

【００５３】以下図面を用いて、本発明の反射防止材料
と偏光フィルムをさらに詳細に説明する。図１は、本発
明の反射防止材料の構成を示す概略断面図であり、反射
防止材料１０は、透明基体１１の片面上に粗面化層１２
を有する構成である。なお、粗面化層１２の表面には表
面層が形成されているが、表面層は極めて薄いために図
示を省略している（以下においても同じ）。図２は、本
発明の偏光フィルム２０の構成を示す概略断面図であ
り、偏光基体２４の片面に、透明基体２１と粗面化層２
２とを有する反射防止材料２３が設けられ、偏光基体２
４の他の面に保護材２５が設けられていることを示して
いる。

【００５４】図３は本発明の反射防止材料により防眩性
を改善した液晶表示体３０の構成を示している。この液
晶表示体３０は、上面の液晶パネル３１と下面の導光板
装置（ＥＬ）やランプ等の背面光源３２とを積層して形
成されている。液晶パネル３１には、例えば、ツイステ
ッドネマチック（ＴＮ）液晶セルなどが使用可能であ
る。

【００５５】ＴＮ液晶セルは、所望のパターンからなる
透明電極付きの２枚のガラス基板３３，３４の透明電極
面３３'、及び３４'上に、ポリイミドの溶液を塗布して
配向膜を形成し、これをラビング操作により配向させ、
その後、このガラス基板３３，３４間にネマチック液晶
３５を注入し、ガラス基板３３，３４周辺部をエポキシ
樹脂等で封着することにより形成される。このネマチッ
ク液晶は、配向膜の作用により９０゜捻れ配向する。こ
のＴＮ液晶セルの２枚のガラス基板の背面光源とは反対
側には、図２に示される粗面化層２２を有する反射防止
材料２３と保護材２５とで偏光基体２４の両面を保護さ
れた偏光フィルム３６を、また、その背面光源側には、
粗面化層のない偏光フィルム３７を、偏光角度が互いに
９０゜捻れるように貼ることで液晶パネル３１が形成さ
れる。

【００５６】上記ＴＮ液晶パネル３１の透明電極に駆動
信号を印加すると信号が印加された電極間には電界が発
生する。その際、液晶分子の持つ電子的異方性により、
液晶分子の長軸が電界方向と平行になるため、液晶分子
による光の旋光性が失われることとなり、その結果、液
晶パネルには光が透過しない状態となる。画像の表示は
この時の光透過の差に基づくコントラストにより視覚情
報として認識される。上記液晶表示体３０においては、
液晶パネル３１に透過させ、液晶パネル３１の光の透過
する部分と透過しない部分にコントラストを持たせるこ
とにより画像表示を可能とするものである。

【００５７】図４は、本発明の反射防止材料１０を使用
した他の液晶表示体の構成を示す断面図である。図４に
おいて、液晶パネル４１は、２枚のガラス基板４３、４
４及びその間に介在するネマチック液晶４５と、ガラス
基板４３，４４の外側に位置する粗面化層を有しない上
部の偏光フィルム４６、粗面化層を有しない下部の偏光
フィルム４７及び該上部の偏光フィルム４６の上に積層
された反射防止材料１０より構成されている。また、液
晶表示体４０は、液晶パネル４１とその下面に位置する
背面光源３２を積層して形成されている。

【００５８】

【実施例】本発明を実施例によってさらに詳細に説明す
る。なお、以下の説明において「部」は「重量部」を意
味するものとする。＜実施例１＞まず、架橋アクリルビーズ、ＭＩＢＫ及び
トルエンの混合物をサンドミルにて３０分間分散するこ
とによって得られた下記分散液と、下記ベース塗料をデ
ィスパーにて１５分間撹拌、混合した塗料を、膜厚８０
μｍ、透過率９２％からなる透明基体であるけん化ＴＡ
Ｃの片面上に、リバースコーティング方式にて塗布し、
１００℃で２分間乾燥後、ＵＶランプ出力１２０ｗ／ｃ
ｍの集光型高圧水銀灯１灯を用いて、照射距離（ランプ
中心から塗工面までの距離）１０ｃｍ、処理速度（塗工
基体側のＵＶランプに対する速度）５ｍ／分でＵＶ照射
を行い、塗工膜を硬化させた。このようにして、厚さ
２．５μｍ、ＨＡＺＥ値１６．５の粗面化層を形成し
た。その後、下記配合からなる表面層塗料を前記粗面化
層上にリバースグラビアコーティングにより塗布し、１
２０℃で６時間乾燥キュアーして、厚さが０．１μｍの
表面層を形成して本発明の反射防止材料を得た。

【００５９】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ９部 (商品名：ＭＸ１５０、粒径１．５μｍ±０．５、綜研化学社製) ・ＭＩＢＫ１００部・トルエン１１０部

【００６０】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物ジペンタエリスリトールトリアクリレート４５部・エポキシ系化合物４５部（商品名：セロキサイト２０２１、ダイセル化学工業）・下記化学式の光カチオン重合開始剤２部

【００６１】

【化３】

【００６２】・イソプロピルアルコール５部 [表面層塗料の配合] ・シリカゾル１０部（粒子径１５ｎｍでＳｉＯ₂として３０重量％のシリカ粒子を含有するエタノール分散液）・被膜形成剤１５部（テトラエトキシシランの加水分解物：ＳｉＯ₂として計算して固形分濃度６％）・溶剤：エタノール５３部

【００６３】＜実施例２＞粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ３．６μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値２２．０の粗面化層を有する反射防止材料を得
た。

【００６４】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ１４部 (商品名：ＭＸ３００、粒径３．０μｍ±０．５、綜研化学社製) ・ＭＩＢＫ２１０部

【００６５】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物４５部（トリペンタエリスリトールポリアクリレート）・エポキシ系化合物４５部（商品名：サイラキュアＵＶＲ−６１１０、ユニオンカーバイド（株）社製）・光カチオン重合開始剤２部（商品名：サイラキュアＵＶＩ−６９９０、ユニオンカーバイド（株）社製）・イソプロピルアルコール５部

【００６６】＜実施例３＞粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ３．８μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値１３．０の粗面化層を有する反射防止材料を得
た。

【００６７】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ (商品名：ＭＸ３００、粒径１．５μｍ±０．５、綜研化学社製) ５部 (商品名：ＭＸ３００、粒径３．０μｍ±０．５、綜研化学社製) ５部・ＭＩＢＫ１００部・ＩＰＡ５０部・トルエン５０部

【００６８】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物テトラジペンタエリスリトールポリアクリレート１５部ネオペンチルグリコールジアクリレート３０部・エポキシ系化合物４５部（商品名：エピコート８２８、油化シェルエポキシ社製）・光カチオン重合開始剤２部（商品名：サイラキュアＵＶＩ−６９９０、ユニオンカーバイド社製）・イソプロピルアルコール５部

【００６９】＜実施例４＞粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ３．８μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値９．０の粗面化層を有する反射防止材料を得
た。

【００７０】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ（商品名：ＭＸ１５０、粒径１．５μｍ±０．５、綜研化学社製）３部（商品名：ＭＸ３００、粒径３．０μｍ±０．５、綜研化学社製）３部・ＭＩＢＫ２１０部

【００７１】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物ジペンタエリスリトールポリアクリレート１５部トリペンタエリスリトールポリアクリレート３０部・エポキシ系化合物４５部（商品名：ラピキュアＤＶＥ−３、ＩＳＰ社製）・光カチオン重合開始剤２部（商品名：ＢＢＩ−１０２、みどり化学社製）・イソプロピルアルコール５部

【００７２】＜実施例５＞粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ２．５μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値６．７の粗面化層を有する反射防止材料を得
た。

【００７３】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ３部（商品名：ＭＸ３００、粒径１．５μｍ±０．５、綜研化学社製）・ＭＩＢＫ８０部・エチルセロソルブ６０部・キシレン６０部

【００７４】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物１，６ヘキサンジオールジメタクリレート２０部ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネート３０部・エポキシ化合物４５部（商品名：エポライト４０Ｅ共栄社化学社製）・光カチオン重合開始剤２部（商品名：ＭＰＩ０３、みどり化学社製）・イソプロピルアルコール５部

【００７５】＜実施例６＞透明基体としてけん化ＴＡＣ
に代えてポリカーボネートフィルムを使用した以外は実
施例１と全く同様にして、反射防止材料を得た。

【００７６】＜実施例７＞透明基体としてけん化ＴＡＣ
に代えてアクリル系樹脂（メタクリル酸メチル−スチレ
ン共重合体）フィルムを使用した以外は実施例１と全く
同様にして、反射防止材料を得た。

【００７７】＜比較例１＞粗面化層の成分を下記に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ３．６μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値１１．０、の粗面化層を有する反射防止材料を
得た。

【００７８】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ３部 (商品名：ＭＸ３００粒径１．５μｍ±０．５、綜研化学社製) ・トルエン２００部

【００７９】 [ベース塗料の配合] ・アクリレート系化合物ジペンタエリスリトールポリアクリレート５０部ペンタエリスリトールテトラアクリレート２０部ヒドロキシエチルアクリレート２２部・ラジカル系光重合開始剤５部（商品名：イルガキュア１８４、チバガイギー社製）・イソプロピルアルコール５０部

【００８０】＜比較例２＞厚さ８０μｍ、透過率９２％
のＴＡＣをそのまま比較用の反射防止材料とした。

【００８１】＜比較例３＞粗面化層の組成を以下に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ４．２μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値１７．５の粗面化層を有する反射防止材料を得
た。 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ６部（商品名：ＭＲ−７Ｇ、綜研化学社製粒径：０．５〜６．０μｍの範囲のもの６０重量％粒径：６．０μｍを越えるもの２５重量％）・トルエン２１０部

【００８２】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物４２部ジペンタエリストリールトリアクリレート・トリメチロールプロパントリアクリレート４２部・下記化学式の光カチオン重合開始剤１０部

【００８３】

【化４】

【００８４】・イソプロピルアルコール５部

【００８５】＜比較例４＞粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例５と同様にして、厚さ３．０μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値１３．０の粗面化層を有する反射防止剤を得
た。 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ２部（商品名：ＭＸ３００、粒径３．０μｍ±０．５、綜研化学社製）・シクロヘキサノン１００部

【００８６】 [ベース塗料の配合] ・ポリエステル系熱可塑性樹脂４０部（商品名：バイロン２００、東洋紡社製）・トルエン７０部・メチルエチルケトン１００部

【００８７】実施例１〜７、比較例１〜４で得られた反
射防止材料１０を用いて図２に示される構成の偏光フィ
ルム２０を作製した。次いで、前記偏光フィルム２０
（図３では符号３６で示す）を図３に示されるようにガ
ラス基板３３に貼り付け、液晶表示体３０を得た。な
お、これらの各液晶表示体の画像サイズは例えば１０．
４インチとし、解像度は例えば８００ドット×６００ド
ットとして、下記方法によって、画像コントラスト、画
像ギラツキ、防眩性、各項目について、評価を行った。
また、反射防止材料の耐熱サイクル性、耐摩耗性、耐薬
品性の評価も下記方法に基づき行った。

【００８８】画像コントラストはＪＩＳＣ７０７２
１９８８に於ける液晶表示パネルのコントラスト比（Ｃ
Ｒ）測定方法に準拠し、評価した。画像コントラストの
評価における光源６０−液晶パネル６１−測光器６２の
位置関係を図５に示す。この場合、光源６０と液晶パネ
ル６１との間は例えば１ｃｍ、液晶パネル６１と測光器
６２との間は例えば５０ｃｍ、測光器６２の開口角は例
えば５゜に設定した。なお、光源６０には５ＷのＥＬを
使用し、測光器６２にはミノルタカメラ社製のＬＳ−１
００を使用した。ＣＲが４以上の場合を◎、３以上、４
未満の場合を○、２以上〜３未満を△、２未満を×とし
た。

【００８９】画像ギラツキについては、液晶表示体をウ
ィンドウズ、バージョン３．１のペイントブラシのオー
プニング画面が表示できるようにパーソナルコンピュー
タとの接続を行い、この白黒表示における画像ギラツキ
の有無を任意の１０人の目視判定により評価した。ギラ
ツキを感じた人が３人未満の場合を○、３人以上、７人
未満の人がギラツキを感じた場合を△、７人以上がギラ
ツキを感じた場合を×とした。

【００９０】防眩性については、スガ試験機社製の写像
性測定器ＩＣＭ−１ＤＰ（ＪＩＳＫ７１０５）を使用
し、透過モードで、光学クシ幅２ｍｍにおける写像性を
測定した。なお、この測定試験では、測定データの数値
が小さいほど防眩性が高い。ここでは、５０％未満を
○、５０％以上、７０％未満を△、７０％以上を×とし
て評価した。

【００９１】密着性については、６０℃温水に５００時
間浸漬放置後、クロスカット試験（ＪＩＳＫ−５４０
０）を行い、透明基体と粗面化層とが密着しているか否
かを観察し、剥離が全くない場合（１００／１００）を
○、９９／１００〜９０／１００の場合を△、８９／１
００以下を×として評価した。

【００９２】また、耐摩耗性の試験は、日本スチールウ
ール性のスチールウール＃００００を板紙耐摩耗試験機
（熊谷理機工業社製）に取り付け、反射防止材料の粗面
化層面を荷重２００ｇにて５０回往復させた。その後、
その部分のＨＡＺＥ値の変化δＨ（下記計算に基づく）
を東洋精機社製ＨＡＺＥメーターで測定した。この測定
試験では、測定値が大きいほど耐摩耗性が悪い。なお、
ＨＡＺＥ値の測定は反射防止材料単体で行った。また、
ＨＡＺＥ値変化δＨは、試験後のＨＡＺＥ値から試験前
のＨＡＺＥ値を除算して算出した。ＨＡＺＥ値変化δＨ＝試験後のＨＡＺＥ値−試験前のＨ
ＡＺＥ値

【００９３】また、耐薬品性については、粗面化層面を
イソプロピルアルコールを含ませた綿棒（ジョンソン社
製）で、５０往復擦った後に、粗面化層に剥がれ等著し
い変化があった場合を×、変化がない場合を○、その中
間を△として評価した。

【００９４】

【表１】

【００９５】表１から明らかなように、溶剤としてＭＩ
ＢＫを用いた実施例１〜５では熱サイクル試験を経ても
透明基体と粗面化層とが密着しており、また、防眩性等
の光学特性や耐久性も良好であった。これに対して、比
較例１及び３では、塗料の溶剤がトルエンのみであるた
めに、全て粗面化層が透明基体から剥離していた。ま
た、比較例４では、粗面化層の剥離は生じなかったが、
透明基体がメチルエチルケトンで冒されたために画像コ
ントラストが劣化していた。また、比較例１および３で
はフィラーの分散が悪くギラツキの問題を生じ、比較例
３及び４では耐薬品性に問題を生じた。

【００９６】なお、本発明の塗料は、上記のような反射
防止材料に限定されるものではなく、写真用フィルムや
アニメーション用動画フィルム等種々の透明フィルムに
適用可能である。

【００９７】

【発明の効果】以上説明したように本発明のフィルム塗
工用塗料によれば、透明基体への密着強度を高めること
ができ、高温多湿の過酷な条件で使用されても信頼性を
有するものである。また、本発明の反射防止材料および
偏光フィルムによれば、そのような効果に加えて、ディ
スプレイへの太陽光及び蛍光灯等の外部光の映り込みを
防止することにより優れた反射防止性を発揮し、画像コ
ントラストを低下させることなく、ギラツキ等のない鮮
明な画像を得ることができるとともに、光学的に安定で
優れた耐摩耗性、耐薬品性を示す等の優れた効果が得ら
れる。

【図面の簡単な発明】

【図１】本発明の反射防止材料の構成を示す概略断面
図である。

【図２】本発明の反射防止材料を使用した偏光フィル
ムの構成を示す概略断面図である。

【図３】反射防止材料を使用した偏光フィルムを具備
する液晶表示体の構成を示す概略断面図である。

【図４】反射防止材料を使用した偏光フィルムを具備
する他の液晶表示体の構成を示す概略断面図である。

【図５】画像コントラストの測定装置の配置図を示す
概略図である。

【符号の説明】

１０…反射防止材料、１１…透明基体、１２…粗面化
層、２０…粗面化層付偏光フィルム、２１…透明基体、
２２…粗面化層、２３…反射防止材料、２４…偏光基
体、２５…保護材、３０…液晶表示体、３１…液晶パネ
ル、３２…背面光源、３３，３４…ガラス基板、３３
´，３４´…透明電極面、３５…ネマチック液晶、３６
…偏光フィルム、４０…液晶表示体、４１…液晶パネ
ル、４２…背面光源、４３，４４…ガラス基板、４５…
ネマチック液晶、４６，４７…偏光フィルム、６０…光
源、６１…液晶パネル、６２…測光器。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＣ０９Ｄ 5/00 Ｃ０９Ｄ 5/00 ＣＣ０９Ｊ 133/00 Ｃ０９Ｊ 133/00 169/00 169/00 Ｇ０２Ｂ 1/11 Ｇ０２Ｂ 5/02 Ｂ 5/02 5/30 5/30 Ｇ０２Ｆ 1/1335 Ｇ０２Ｆ 1/1335 Ｇ０９Ｆ 9/30 ３１２ＺＧ０９Ｆ 9/30 ３１２３１４Ａ３１４３１７３１７Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】トリアセチルセルロース系、ポリカーボ
ネート系またはアクリル系の樹脂で構成された透明基体
に塗工する塗料が、少なくともメチルイソブチルケトン
を含有していることを特徴とするフィルム塗工用塗料。
【請求項２】トリアセチルセルロース系、ポリカーボ
ネート系またはアクリル系の樹脂で構成された透明基体
に塗工する塗工方法において、少なくともメチルイソブ
チルケトンを含有する塗料を用いることを特徴とするフ
ィルムへの塗工方法。
【請求項３】透明基体の片面もしくは両面に少なくと
も粗面化層を設けた反射防止材料において、前記透明基
体は、トリアセチルセルロース系、ポリカーボネート系
またはアクリル系の樹脂で構成され、前記粗面化層は、
少なくともメチルイソブチルケトンを含有する塗料で塗
工されていることを特徴とする反射防止材料。
【請求項４】前記透明基体は、けん化処理されたトリ
アセチルセルロースからなり、前記粗面化層はエポキシ
化合物と光カチオン重合開始剤を含有する紫外線硬化型
樹脂を含むことを特徴とする請求項３に記載の反射防止
材料。
【請求項５】前記粗面化層は、前記紫外線硬化型樹脂
と球状フィラーからなることを特徴とする請求項３また
は４に記載の反射防止材料。
【請求項６】前記球状フィラーの粒子径Ｄは、０．５
μｍ≦Ｄ≦６．０μｍの範囲の粒子が６０重量％以上、
６．０μｍ＜Ｄ≦１０．０μｍの範囲の粒子が２０重量
％未満、１０．０μｍ＜Ｄ≦１５．０μｍの範囲の粒子
が５重量％以下、さらに、１５μｍ＜Ｄである粒子が
１．０重量％以下である粒度分布を有することを特徴と
する請求項５記載の反射防止材料。
【請求項７】請求項３〜６のいずれかに記載の反射防
止材料の前記透明基体の前記粗面化層が設けられていな
い他方の面に、偏光基体を介して保護材を積層したこと
を特徴とする偏光フィルム。