JPH11211631A - 排気ガス希釈サンプリング装置 - Google Patents
排気ガス希釈サンプリング装置Info
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- JPH11211631A JPH11211631A JP10023772A JP2377298A JPH11211631A JP H11211631 A JPH11211631 A JP H11211631A JP 10023772 A JP10023772 A JP 10023772A JP 2377298 A JP2377298 A JP 2377298A JP H11211631 A JPH11211631 A JP H11211631A
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Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】排気ガスのサンプリング量を少なくして、希釈
空気の量をできるだけ少なくし、しかもＣＶＳ装置と同
様に希釈排気ガスの中の汚染成分の濃度を全排気ガス流
量の中の量に比例するようにすること 【解決手段】エンジンの排気ガスを露点以上の温度にお
いて一定の質量流量で連続的に抽出し、これにＮ2 また
は純空気を混合して希釈する時に、全排気ガス流量に比
例した希釈排気ガス流量になるようにＮ2 または純空気
の流量を制御して、希釈排気ガス３の中のある特定成分
の濃度が全排気ガス流量の中のある特定成分の排出量に
比例するよう構成し、さらにその希釈排気ガスを一定流
量でサンプリングすると、そのサンプリング時間内の排
出量に比例したある特定成分の濃度が得られるように構
成した排気ガス希釈サンプリング装置１００
空気の量をできるだけ少なくし、しかもＣＶＳ装置と同
様に希釈排気ガスの中の汚染成分の濃度を全排気ガス流
量の中の量に比例するようにすること 【解決手段】エンジンの排気ガスを露点以上の温度にお
いて一定の質量流量で連続的に抽出し、これにＮ2 また
は純空気を混合して希釈する時に、全排気ガス流量に比
例した希釈排気ガス流量になるようにＮ2 または純空気
の流量を制御して、希釈排気ガス３の中のある特定成分
の濃度が全排気ガス流量の中のある特定成分の排出量に
比例するよう構成し、さらにその希釈排気ガスを一定流
量でサンプリングすると、そのサンプリング時間内の排
出量に比例したある特定成分の濃度が得られるように構
成した排気ガス希釈サンプリング装置１００
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は自動車の排気ガス測
定などの環境技術分野に係わる。
定などの環境技術分野に係わる。
【０００２】
【従来の技術】自動車排気ガスによる大気汚染の防止技
術において、汚染成分の排出量を測定する方法として、
ＣＶＳ（Constant Volume Sampler)装置が１９７０年代
から広く世界中で利用されてきた。これは排気ガスの全
流量を清浄な空気で希釈して一定流量の希釈排気ガスと
し、水分などの凝縮を防ぎながら一定流量である運転時
間内の試料ガスをバッグにサンプリングしてガス分析す
る方法で、希釈排気ガスの中のある特定成分の濃度がそ
の排出量に比例する装置である。
術において、汚染成分の排出量を測定する方法として、
ＣＶＳ（Constant Volume Sampler)装置が１９７０年代
から広く世界中で利用されてきた。これは排気ガスの全
流量を清浄な空気で希釈して一定流量の希釈排気ガスと
し、水分などの凝縮を防ぎながら一定流量である運転時
間内の試料ガスをバッグにサンプリングしてガス分析す
る方法で、希釈排気ガスの中のある特定成分の濃度がそ
の排出量に比例する装置である。
【０００３】
【従来技術の問題点】ＣＶＳ装置は排気ガスの全量を希
釈するために多量の清浄な希釈空気を必要とする。装置
全体が大型となり、設置や配管のスペースやブロワーな
どの動力も大きくなりコストも問題となる。近年自動車
の排気ガス対策が進み、またＣＮＧやメタノ一ル燃料な
ど水分の割合の多い排気ガスへの対応やとくに低濃度の
汚染成分排出のエンジンに適応する測定装置には清浄度
の極めて高い乾燥希釈空気を多量に供給することが必要
であるが、その実現が困難となってきている。
釈するために多量の清浄な希釈空気を必要とする。装置
全体が大型となり、設置や配管のスペースやブロワーな
どの動力も大きくなりコストも問題となる。近年自動車
の排気ガス対策が進み、またＣＮＧやメタノ一ル燃料な
ど水分の割合の多い排気ガスへの対応やとくに低濃度の
汚染成分排出のエンジンに適応する測定装置には清浄度
の極めて高い乾燥希釈空気を多量に供給することが必要
であるが、その実現が困難となってきている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】排気ガスの汚染成分の
排出量を測定するための代表的試料をバッグにサンプリ
ングするにはＣＶＳ装置と同様に排気ガスを希釈して水
分などの凝縮を防ぐ必要がある。希釈排気ガスの量はガ
ス分析などに必要な量で良い訳で、排気ガスのサンプリ
ング量を少なくして、清浄度が極めて高いことが要求さ
れてコストなどで多くの難点がある希釈空気の量をでき
るだけ少なくし、しかもＣＶＳ装置と同様に希釈排気ガ
スの中の汚染成分の濃度を全排気ガス流量の中の量に比
例するようにすることが課題である。
排出量を測定するための代表的試料をバッグにサンプリ
ングするにはＣＶＳ装置と同様に排気ガスを希釈して水
分などの凝縮を防ぐ必要がある。希釈排気ガスの量はガ
ス分析などに必要な量で良い訳で、排気ガスのサンプリ
ング量を少なくして、清浄度が極めて高いことが要求さ
れてコストなどで多くの難点がある希釈空気の量をでき
るだけ少なくし、しかもＣＶＳ装置と同様に希釈排気ガ
スの中の汚染成分の濃度を全排気ガス流量の中の量に比
例するようにすることが課題である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決する手
段のーつとしてサンプリングする排気ガスの質量流量を
一定とし、希釈する空気もしくはＮ2 ガスの流量を可変
として希釈排気ガスの流量を全排気ガス流量に逆比例す
るように制御する手段を選んだ。
段のーつとしてサンプリングする排気ガスの質量流量を
一定とし、希釈する空気もしくはＮ2 ガスの流量を可変
として希釈排気ガスの流量を全排気ガス流量に逆比例す
るように制御する手段を選んだ。
【０００６】一般に石油系燃料の燃焼排気ガスの露点は
５５℃ないし６５℃であるが、この流量を制御するため
には圧力変化などが生じるので、８０℃程度以上に保つ
必要がある。こうした高温では熱式のマスフローコント
ローラは応答性などの点で適用に困難性を伴うことが多
い。質量流量を一定に制御するには一定温度・圧力にお
いてＣＦＶを用いることが容易である。こうした実際の
装置の特性を考慮して本発明では、排気ガスの質量流量
をＣＦＶで一定に制御し、希釈空気またはＮ2の流量を
熱式などの通常のマスフローコントローラで応答性良く
可変制御する手段を採用した。
５５℃ないし６５℃であるが、この流量を制御するため
には圧力変化などが生じるので、８０℃程度以上に保つ
必要がある。こうした高温では熱式のマスフローコント
ローラは応答性などの点で適用に困難性を伴うことが多
い。質量流量を一定に制御するには一定温度・圧力にお
いてＣＦＶを用いることが容易である。こうした実際の
装置の特性を考慮して本発明では、排気ガスの質量流量
をＣＦＶで一定に制御し、希釈空気またはＮ2の流量を
熱式などの通常のマスフローコントローラで応答性良く
可変制御する手段を採用した。
【０００７】さらに希釈排気ガスの露点が場合によって
は問題になることがあるが、本装置では流量が少なく装
置が小形化できるので容易に管系を４０℃以上に保つよ
うにして、１／２程度以下の希釈比にも対応できるよう
にした。
は問題になることがあるが、本装置では流量が少なく装
置が小形化できるので容易に管系を４０℃以上に保つよ
うにして、１／２程度以下の希釈比にも対応できるよう
にした。
【０００８】
【発明実施の形態】本発明では実際に希釈排気ガスに用
いる排気ガス流量は通常１Ｌ／ｍｉｎ以下と少ないの
で、排気ガスのサンプリング系での遅れ時間を少なくす
るためにバイパス流を利用する。サンプリング系の温度
は１１０℃程度に保ち、普通１０Ｌ／ｍｉｎ程度のバイ
パス流から０．４Ｌ／ｍｉｎないし３．０Ｌ／ｍｉｎ程
度の希釈に用いる排気ガスを抽出して一定の入り口温度
・圧カ条件にしてＣＦＶ（音速ノズル）で一定の質量流
量に制御して吸引する。この吸引負圧は絶対圧で６５ｋ
Ｐａ程度以下に制御され、小型のノズルでも十分に余裕
をもって音速にできる圧力とする。希釈空気またはＮ2
は最大流量３０Ｌ／ｍｉｎ程度の供給能力のある清浄な
標準空気発生装置または高圧ボンベから減圧して常圧・
常温として熱式のマスフローコントローラに入れる。
いる排気ガス流量は通常１Ｌ／ｍｉｎ以下と少ないの
で、排気ガスのサンプリング系での遅れ時間を少なくす
るためにバイパス流を利用する。サンプリング系の温度
は１１０℃程度に保ち、普通１０Ｌ／ｍｉｎ程度のバイ
パス流から０．４Ｌ／ｍｉｎないし３．０Ｌ／ｍｉｎ程
度の希釈に用いる排気ガスを抽出して一定の入り口温度
・圧カ条件にしてＣＦＶ（音速ノズル）で一定の質量流
量に制御して吸引する。この吸引負圧は絶対圧で６５ｋ
Ｐａ程度以下に制御され、小型のノズルでも十分に余裕
をもって音速にできる圧力とする。希釈空気またはＮ2
は最大流量３０Ｌ／ｍｉｎ程度の供給能力のある清浄な
標準空気発生装置または高圧ボンベから減圧して常圧・
常温として熱式のマスフローコントローラに入れる。
【０００９】一方、排気ガスの全流量は別な排気ガス流
量計で測定されてその信号が制御回路に利用される。排
気ガスの全質量流量をＸとし、希釈に用いる一定の排気
ガス質量流量をｃi とし、制御される希釈空気の質量流
量をｄa として、定数Ａと希釈比ｒとの関係を数式にす
ると次のようになる。
量計で測定されてその信号が制御回路に利用される。排
気ガスの全質量流量をＸとし、希釈に用いる一定の排気
ガス質量流量をｃi とし、制御される希釈空気の質量流
量をｄa として、定数Ａと希釈比ｒとの関係を数式にす
ると次のようになる。
【００１０】ｄa ＝（Ａ／Ｘ）−ｃi ， ｒ＝ｃi ／
（ｄ..＋ｃi ） i ＝１，２・・・ この式のｄa になるように、信号Ｘに応じてマスフロー
コントローラで希釈空気流量を制御する。
（ｄ..＋ｃi ） i ＝１，２・・・ この式のｄa になるように、信号Ｘに応じてマスフロー
コントローラで希釈空気流量を制御する。
【００１１】希釈排気ガス流量は排気ガスの全質量流量
に逆比例して変化するので、その中のある特定成分の濃
度はその成分の排出値に比例する。したがってこの方式
の希釈排気ガスから一定の流量でサンプリングしてバッ
グに捕集すれば、その運転時間内の排出量を代表する試
料が得られる。
に逆比例して変化するので、その中のある特定成分の濃
度はその成分の排出値に比例する。したがってこの方式
の希釈排気ガスから一定の流量でサンプリングしてバッ
グに捕集すれば、その運転時間内の排出量を代表する試
料が得られる。
【００１２】
【実施例】本発明の実施例を図１の装置解説図によって
説明する。エンジンの排気管系の末端であるテールパイ
プ５１に挿入した排気サンプリングプローブ２１から排
気ガス１をほぼ一定流量で抽出し、約１１０℃に保たれ
たサンプリング系２２を経由して１０Ｌ／ｍｉｎ程度の
流量の排気ガス試料がガスコネクタ−２３を通して本装
置１００に取り入れられる。高温フィルタ２４を経て、
排気ガス分流器２５において一定流量の希釈に用いる排
気ガス２が分流され、残余のガスはバッファータンク２
６とバイパスポンプ２７、およぴ流量調節弁２８、流量
モニタ−２９を経由し排気排出コネクター３０から装置
外に導かれ、エンジン排気系の下流側で排気サンプリン
グプローブに影響しない位置の排気排出ダクト３２に戻
される。このようにして排気サンプリング系での遅れは
ほぼ０．２抄以内にすることができる。希釈に用いる排
気ガス２は３方電磁弁１０を通して１００℃程度に正確
に温度制御されかつ合流部３７で合流するＣＦＶ１１ま
たは１１´のいずれかに入る。ここでは下流側の圧力が
ある圧力比０．７程度以下であればベンチュリーのスロ
ート部断面積で流量が決定されるので、容易に一定質量
流量ｃ1 またはｃ2 に自動的に制御される。希釈に用い
る清浄な空気またはＮ2 は本装置１００の外部から供給
されるが、例えば図に例示するようにボンベ４１から減
圧弁４２で一定圧力にして圧力計４５でモニターされな
がらガスコネク夕−４３から本装置１００に導入され、
電磁弁４４、３方電磁弁４６を経てマスフローコントロ
ーラ２０で流量制御されて希釈空気として供給される。
この流量はほぼ室温に近い温度で作動する熱式のマスフ
ローコントローラ２０で制御回路５０からの信号に応じ
て流量値ｄａに応答性良く制御される。
説明する。エンジンの排気管系の末端であるテールパイ
プ５１に挿入した排気サンプリングプローブ２１から排
気ガス１をほぼ一定流量で抽出し、約１１０℃に保たれ
たサンプリング系２２を経由して１０Ｌ／ｍｉｎ程度の
流量の排気ガス試料がガスコネクタ−２３を通して本装
置１００に取り入れられる。高温フィルタ２４を経て、
排気ガス分流器２５において一定流量の希釈に用いる排
気ガス２が分流され、残余のガスはバッファータンク２
６とバイパスポンプ２７、およぴ流量調節弁２８、流量
モニタ−２９を経由し排気排出コネクター３０から装置
外に導かれ、エンジン排気系の下流側で排気サンプリン
グプローブに影響しない位置の排気排出ダクト３２に戻
される。このようにして排気サンプリング系での遅れは
ほぼ０．２抄以内にすることができる。希釈に用いる排
気ガス２は３方電磁弁１０を通して１００℃程度に正確
に温度制御されかつ合流部３７で合流するＣＦＶ１１ま
たは１１´のいずれかに入る。ここでは下流側の圧力が
ある圧力比０．７程度以下であればベンチュリーのスロ
ート部断面積で流量が決定されるので、容易に一定質量
流量ｃ1 またはｃ2 に自動的に制御される。希釈に用い
る清浄な空気またはＮ2 は本装置１００の外部から供給
されるが、例えば図に例示するようにボンベ４１から減
圧弁４２で一定圧力にして圧力計４５でモニターされな
がらガスコネク夕−４３から本装置１００に導入され、
電磁弁４４、３方電磁弁４６を経てマスフローコントロ
ーラ２０で流量制御されて希釈空気として供給される。
この流量はほぼ室温に近い温度で作動する熱式のマスフ
ローコントローラ２０で制御回路５０からの信号に応じ
て流量値ｄａに応答性良く制御される。
【００１３】排気ガスと清浄な希釈空気とは混合部１２
で一定な圧カ条件で混合され、希釈排気ガスと３とな
る。この庄力は希釈排気ガス分流部１３で接続する吸引
ポンプ３８の入り口側バッファータンク３５に取り付け
られたリリーフ弁３６で制御されるが、ほぽ絶対圧６５
ｋＰａ程度に保たれ排気排出コネクター３４から排出さ
れる。希釈排気ガスの一部は流量調節弁１６で制御され
流量計１７でモニ夕一されながら一定流量でバッグサン
プリングポンプ１４で吸引され３方電磁弁１８を経由し
てバッグ６などに圧送され、捕集されてガス分析用の試
料５となる。
で一定な圧カ条件で混合され、希釈排気ガスと３とな
る。この庄力は希釈排気ガス分流部１３で接続する吸引
ポンプ３８の入り口側バッファータンク３５に取り付け
られたリリーフ弁３６で制御されるが、ほぽ絶対圧６５
ｋＰａ程度に保たれ排気排出コネクター３４から排出さ
れる。希釈排気ガスの一部は流量調節弁１６で制御され
流量計１７でモニ夕一されながら一定流量でバッグサン
プリングポンプ１４で吸引され３方電磁弁１８を経由し
てバッグ６などに圧送され、捕集されてガス分析用の試
料５となる。
【００１４】バッグ６は多くの場合複数個装着され、各
分岐管に電磁弁９を備えて切り替えて使用すると共に、
着脱容易なコネクタ−８を備えておく。また管路にはバ
ッグ６の安全を図るために圧力スイッチ７が配置設計さ
れている。
分岐管に電磁弁９を備えて切り替えて使用すると共に、
着脱容易なコネクタ−８を備えておく。また管路にはバ
ッグ６の安全を図るために圧力スイッチ７が配置設計さ
れている。
【００１５】バッグからの試料ガスの排出には排出ポン
プ４７と電磁弁４８，４９が備えられている。これらに
よって試料ガスは分析ガスコネクタ−３３から図に示し
ていないガス分析装置に送出される。各電磁弁の切り替
えによって試料ガスの導入やバッグを洗浄するパージ空
気の導入・排出などを行う。
プ４７と電磁弁４８，４９が備えられている。これらに
よって試料ガスは分析ガスコネクタ−３３から図に示し
ていないガス分析装置に送出される。各電磁弁の切り替
えによって試料ガスの導入やバッグを洗浄するパージ空
気の導入・排出などを行う。
【００１６】制御回路５０には全排気ガス流量の信号Ｘ
が入力され、ＣＦＶ１１，またはＣＦＶ１１´で設定さ
れる希釈に用いる排気ガス流量ｃ1 またはｃ2 がセット
され、希釈比に関係する定数Ａを設定する。制御回路５
０からは全排気ガス流量がある値より大きいときはＣＦ
Ｖ１１（例えば３Ｌ／ｍｉｎ）のセット信号が出され、
ある値より小さいときはＣＦＶ１１´（例えば０．４Ｌ
／ｍｉｎ）へのセット信号が電磁弁１０に発信されると
共に、マスフローコントローラ２０に流量ｄaの指示信
号が次の式により計算されて発信される。
が入力され、ＣＦＶ１１，またはＣＦＶ１１´で設定さ
れる希釈に用いる排気ガス流量ｃ1 またはｃ2 がセット
され、希釈比に関係する定数Ａを設定する。制御回路５
０からは全排気ガス流量がある値より大きいときはＣＦ
Ｖ１１（例えば３Ｌ／ｍｉｎ）のセット信号が出され、
ある値より小さいときはＣＦＶ１１´（例えば０．４Ｌ
／ｍｉｎ）へのセット信号が電磁弁１０に発信されると
共に、マスフローコントローラ２０に流量ｄaの指示信
号が次の式により計算されて発信される。
【００１７】ｄa ＝（Ａ／Ｘ）−ｃi （i は１ま
たは２でＣＦＶの選択による） このときＸの信号が入力されてからｄa の信号が発信さ
れるまでに遅延時間としてτL を設定できるようにして
おく。このτL はＸの関数として定義されエンジンの排
気系のデッドボリュームなどに基づくテールパイプから
の排気ガスの排出時間遅れと本装置の排気ガスサンプリ
ング系の遅れ時間を補正するもので、通常１秒以内の時
間である。
たは２でＣＦＶの選択による） このときＸの信号が入力されてからｄa の信号が発信さ
れるまでに遅延時間としてτL を設定できるようにして
おく。このτL はＸの関数として定義されエンジンの排
気系のデッドボリュームなどに基づくテールパイプから
の排気ガスの排出時間遅れと本装置の排気ガスサンプリ
ング系の遅れ時間を補正するもので、通常１秒以内の時
間である。
【００１８】制御回路５０には希釈比ｒを次の式によっ
て計算し表示するようにしてあり、 ｒ＝Ｃi ／（ｄa ＋ｃi ） 希釈排気ガスの露点とバッグ入り口までの温度に配慮で
きるようにしてある。通常はｒ≦１／２で配管系を４０
℃以上にして露点より高く保つ。
て計算し表示するようにしてあり、 ｒ＝Ｃi ／（ｄa ＋ｃi ） 希釈排気ガスの露点とバッグ入り口までの温度に配慮で
きるようにしてある。通常はｒ≦１／２で配管系を４０
℃以上にして露点より高く保つ。
【００１９】希釈排気ガスは吸引ポンプ３８によって一
部または場合によっては全量が吸引される。その吸引負
圧力は吸引ポンプ３８の入り口側に配置したバッファー
タンク３５に装着したリリーフ弁３６によって一定圧力
に制御されており、圧力計１９によってモニターされ
る。バッグ６への希釈排気ガス試料４の送入はサンプリ
ングポンプ１４と流量調節弁１６と流量計１７で必要流
量に設定し、３方電磁弁１８の切り替えによってバッグ
サンプリングが必要な時間だけ行われる。このサンプリ
ングポンプ１４の出・入り口に取り付けるバッファータ
ンク１５には実質的なガスの流れの遅れ時間が短いもの
を選ぶことが望ましい。
部または場合によっては全量が吸引される。その吸引負
圧力は吸引ポンプ３８の入り口側に配置したバッファー
タンク３５に装着したリリーフ弁３６によって一定圧力
に制御されており、圧力計１９によってモニターされ
る。バッグ６への希釈排気ガス試料４の送入はサンプリ
ングポンプ１４と流量調節弁１６と流量計１７で必要流
量に設定し、３方電磁弁１８の切り替えによってバッグ
サンプリングが必要な時間だけ行われる。このサンプリ
ングポンプ１４の出・入り口に取り付けるバッファータ
ンク１５には実質的なガスの流れの遅れ時間が短いもの
を選ぶことが望ましい。
【００２０】
【発明の効果】本発明によると極めて小型な装置によっ
て小流量の清浄な希釈用ガスを利用してエンジンの排気
ガスのある特定成分の排出量に比例した濃度の希釈排気
ガス試料が得られる。従来のＣＶＳ装置では全排気ガス
流量に対応する希釈用ガスを必要としたのに対比する
と、ほぼ１／１０００程度の希釈用ガスでガス分析に必
要なバッグ試料が得られる。とくに排気ガス対策が進ん
だエンジンに適用するとき希釈に用いるガスの清浄度が
重要になるが、本発明の装置では希釈用ガスが小流量で
あるために、高純度のボンベガスまたは清浄度の高いガ
ス精製装置からの水分を含まないガスを利用することが
可能となり、バックグランド濃度に影響されない信頼性
の高い測定ができる。
て小流量の清浄な希釈用ガスを利用してエンジンの排気
ガスのある特定成分の排出量に比例した濃度の希釈排気
ガス試料が得られる。従来のＣＶＳ装置では全排気ガス
流量に対応する希釈用ガスを必要としたのに対比する
と、ほぼ１／１０００程度の希釈用ガスでガス分析に必
要なバッグ試料が得られる。とくに排気ガス対策が進ん
だエンジンに適用するとき希釈に用いるガスの清浄度が
重要になるが、本発明の装置では希釈用ガスが小流量で
あるために、高純度のボンベガスまたは清浄度の高いガ
ス精製装置からの水分を含まないガスを利用することが
可能となり、バックグランド濃度に影響されない信頼性
の高い測定ができる。
【００２１】希釈排気ガスの露点に関連して、管路系の
温度を容易に高くできるので、希釈比を小さくすること
ができる。さらに、装置が全体として小形化できるため
に、測定室におけるスペースにも自由度が増し、排気ガ
スサンプリングについてのコストも大幅に低減できる。
温度を容易に高くできるので、希釈比を小さくすること
ができる。さらに、装置が全体として小形化できるため
に、測定室におけるスペースにも自由度が増し、排気ガ
スサンプリングについてのコストも大幅に低減できる。
【図１】本発明の希釈排気ガスサンプリング装置の構成
を示す装置解説図
を示す装置解説図
１ 装置に導入する試料排気ガス ２ 希釈に用いる試料排気ガス ３ 希釈排気ガス ４ バッグに捕集する希釈排気ガス試料 ５ バッグに捕集された希釈排気ガス試料 ６，６′，６ バッグ ７ 圧カスイッチ ８，８−，８ コネクター ９，９′，９ 電磁弁 １０ 高温３方電磁弁 １１ ＣＦＶ（クリティカル・フロー・ベンチュリ） １１´ ＣＦＶ １２ 排気ガス・希釈ガス混合部 １３ 希釈排気ガス分流部 ４１ 純空気ボ
ンベ １４ サンプリングポンプ ４２ 減圧弁 １５ バッファータンク ４３ ガスコネ
夕ター １６ 流量調節弁 ４４ 電磁弁 １７ 流量計 ４５ 圧力計 １８ ３方電磁弁 ４６ ３方電磁
弁 １９ 圧力計 ４７ 排出ポン
プ ２０ マスフローコントローラ ４８ 電磁弁 ２１ サンプリングプローブ ４９ 電磁弁 ２２ サンプリング系 ５０ 制御回路 ２３ ガスコネクター ５１ テールパ
イプ ２４ 高温フィルタ １００ 排気ガ
ス希釈サンプリング ２５ 分流器 装置 ２６ バッファータンク ２７ バイパスポンプ ２８ 流量調節弁 ２９ 流量モニター ３０ 排気排出コネクター ３１ サンプリングプローブホルダー ３２ 排気排出ダクト ３３ 分析ガスコネクター ３４ 排気排出コネクター ３５ バッファータンク ３６ リリーフ弁 ３７ 合流部 ３８ 吸引ポンプ
ンベ １４ サンプリングポンプ ４２ 減圧弁 １５ バッファータンク ４３ ガスコネ
夕ター １６ 流量調節弁 ４４ 電磁弁 １７ 流量計 ４５ 圧力計 １８ ３方電磁弁 ４６ ３方電磁
弁 １９ 圧力計 ４７ 排出ポン
プ ２０ マスフローコントローラ ４８ 電磁弁 ２１ サンプリングプローブ ４９ 電磁弁 ２２ サンプリング系 ５０ 制御回路 ２３ ガスコネクター ５１ テールパ
イプ ２４ 高温フィルタ １００ 排気ガ
ス希釈サンプリング ２５ 分流器 装置 ２６ バッファータンク ２７ バイパスポンプ ２８ 流量調節弁 ２９ 流量モニター ３０ 排気排出コネクター ３１ サンプリングプローブホルダー ３２ 排気排出ダクト ３３ 分析ガスコネクター ３４ 排気排出コネクター ３５ バッファータンク ３６ リリーフ弁 ３７ 合流部 ３８ 吸引ポンプ
Claims (2)
- 【請求項１】 エンジンの排気ガスを露点以上の温度に
おいて一定の質量流量で連続的に抽出し、これにＮ2 ま
たは純空気を混合して希釈する時に、全排気ガス流量に
比例した希釈排気ガス流量になるようにＮ2 または純空
気の流量を制御して、希釈排気ガスの中のある特定成分
の濃度が全排気ガス流量の中のある特定成分の排出量に
比例するようにした排気ガス希釈サンブリング装置であ
って、さらにその希釈排気ガスを一定流量でサンプリン
グすると、そのサンプリング時間内の排出量に比例した
ある特定成分の濃度が得られる排気ガス希釈サンプリン
グ装置。 - 【請求項２】 前項１の排気ガス希釈サンプリング装置
においてエンジンの排気ガスを一定の質量流量で連続的
に抽出するときに、サンプリングする排気ガスの流量を
全排気ガス流量の範囲またはエンジンの回転数などの範
囲に応じて段階的に２つ以上の流量設定値に切り換えて
希釈排気ガス流量の変化する範囲を適当に縮小しなが
ら、希釈排気ガスの中のある特定成分の濃度が全排気ガ
ス流量の中のある特定成分の排出量に比例するようにし
た排気ガス希釈サンプリング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10023772A JPH11211631A (ja) | 1998-01-21 | 1998-01-21 | 排気ガス希釈サンプリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10023772A JPH11211631A (ja) | 1998-01-21 | 1998-01-21 | 排気ガス希釈サンプリング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11211631A true JPH11211631A (ja) | 1999-08-06 |
Family
ID=12119642
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10023772A Pending JPH11211631A (ja) | 1998-01-21 | 1998-01-21 | 排気ガス希釈サンプリング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11211631A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002214082A (ja) * | 2001-01-24 | 2002-07-31 | Tsukasa Sokken Co Ltd | 排気ガス流量とガス組成の高速連続測定によるマスエミッシヨンまたは燃料消費量計測における同時性を確保する同時性補正装置 |
| JP2003075308A (ja) * | 2001-09-06 | 2003-03-12 | Tsukasa Sokken Co Ltd | ミニ・定流量サンプリング装置 |
| JP2007024730A (ja) * | 2005-07-19 | 2007-02-01 | Tsukasa Sokken Co Ltd | ラミナー型排気ガス流量計を用いた希釈排気サンプリング装置及び希釈排気サンプリング方法並びに加熱・冷却サージチューブ装置 |
| JP2015519585A (ja) * | 2012-06-11 | 2015-07-09 | エイヴィエル・テスト・システムズ・インコーポレーテッド | タイムアライメント及び時間遅れを同期させるための排気サンプリングシステム及び方法 |
| EP1467194B1 (de) | 2003-04-11 | 2015-08-19 | Testo AG | Verfahren und Vorrichtung zur Detektion, Charakterisierung und/oder Elimination von Schwebeteilchen |
-
1998
- 1998-01-21 JP JP10023772A patent/JPH11211631A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002214082A (ja) * | 2001-01-24 | 2002-07-31 | Tsukasa Sokken Co Ltd | 排気ガス流量とガス組成の高速連続測定によるマスエミッシヨンまたは燃料消費量計測における同時性を確保する同時性補正装置 |
| JP2003075308A (ja) * | 2001-09-06 | 2003-03-12 | Tsukasa Sokken Co Ltd | ミニ・定流量サンプリング装置 |
| EP1467194B1 (de) | 2003-04-11 | 2015-08-19 | Testo AG | Verfahren und Vorrichtung zur Detektion, Charakterisierung und/oder Elimination von Schwebeteilchen |
| EP2270465B2 (de) † | 2003-04-11 | 2016-06-29 | Testo AG | Verfahren und Vorrichtung zur Detektion, Charakterisierung und/oder Elimination von Schwebeteilchen |
| JP2007024730A (ja) * | 2005-07-19 | 2007-02-01 | Tsukasa Sokken Co Ltd | ラミナー型排気ガス流量計を用いた希釈排気サンプリング装置及び希釈排気サンプリング方法並びに加熱・冷却サージチューブ装置 |
| JP2015519585A (ja) * | 2012-06-11 | 2015-07-09 | エイヴィエル・テスト・システムズ・インコーポレーテッド | タイムアライメント及び時間遅れを同期させるための排気サンプリングシステム及び方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
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| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060927 |
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|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070612 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20071023 |