JPH1121262A - ナフトキノン誘導体及びその用途 - Google Patents
ナフトキノン誘導体及びその用途Info
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- JPH1121262A JPH1121262A JP9175404A JP17540497A JPH1121262A JP H1121262 A JPH1121262 A JP H1121262A JP 9175404 A JP9175404 A JP 9175404A JP 17540497 A JP17540497 A JP 17540497A JP H1121262 A JPH1121262 A JP H1121262A
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- Japan
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- formula
- compound
- mmol
- hydrogen atom
- naphthoquinone
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Pyridine Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】次式(I)
【化1】
(I)(式(I)中、R1及びR2は、同一又は異なっ
て、水素原子又は水酸基を表し、R3は、水素原子又は
ハロゲン原子を表し、R4は次式(II)等の置換基を
表す 【化2】 (II) (式(II)中、R5及びR6は、同一又は異なって、水
素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、R7は、
水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。)。)
で示されるナフトキノン誘導体又はその薬理学的に許容
される塩、及び式(I)で表されるナフトキノン誘導体
又はその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有
するさび菌防除剤。 【効果】本発明化合物(I)は、新規な化合物であり、
しかも植物にさび病害をひきおこすさび菌を防除する作
用を有するものである。従って、本発明の化合物は、例
えば、さび菌防除剤として利用することが可能である。
て、水素原子又は水酸基を表し、R3は、水素原子又は
ハロゲン原子を表し、R4は次式(II)等の置換基を
表す 【化2】 (II) (式(II)中、R5及びR6は、同一又は異なって、水
素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、R7は、
水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。)。)
で示されるナフトキノン誘導体又はその薬理学的に許容
される塩、及び式(I)で表されるナフトキノン誘導体
又はその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有
するさび菌防除剤。 【効果】本発明化合物(I)は、新規な化合物であり、
しかも植物にさび病害をひきおこすさび菌を防除する作
用を有するものである。従って、本発明の化合物は、例
えば、さび菌防除剤として利用することが可能である。
Description
【0001】
【発明の属する技術の分野】本発明は、さび菌防除作用
を有する新規化合物及びこれらの新規化合物を有効成分
とするさび菌防除剤に関するものである。詳しくは、長
期間効果を持続し、さび病の原因であるさび菌胞子の発
芽を阻害する等の作用を有するさび菌防除剤に関するも
のである。
を有する新規化合物及びこれらの新規化合物を有効成分
とするさび菌防除剤に関するものである。詳しくは、長
期間効果を持続し、さび病の原因であるさび菌胞子の発
芽を阻害する等の作用を有するさび菌防除剤に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】さび菌(rust)は植物にさび病害を
引き起こす病原菌であり、分類学上、担子菌類・さび菌
目に属する。さび菌は全世界で約150属約6000種
が報告されている膨大な菌群であり、いずれもが植物に
寄生することなしには生育することができないため、す
べてが植物病原菌である。このため、重要な作物、穀物
等に重大な病害をもたらすものも数多い。
引き起こす病原菌であり、分類学上、担子菌類・さび菌
目に属する。さび菌は全世界で約150属約6000種
が報告されている膨大な菌群であり、いずれもが植物に
寄生することなしには生育することができないため、す
べてが植物病原菌である。このため、重要な作物、穀物
等に重大な病害をもたらすものも数多い。
【0003】かかるさび菌の生活環は非常に複雑であ
り、多形成性の菌で、宿主輪廻が行われる。この特性よ
り、さび菌の防除には、2種類の宿主植物のうちで経済
価値の少ない方(中間宿主)を排除して、さび菌の生活
環を断ち切るという手法が実施されている。
り、多形成性の菌で、宿主輪廻が行われる。この特性よ
り、さび菌の防除には、2種類の宿主植物のうちで経済
価値の少ない方(中間宿主)を排除して、さび菌の生活
環を断ち切るという手法が実施されている。
【0004】一方、さび菌は一般的に、さび胞子、夏胞
子、担子胞子、小生子及び冬胞子と呼ばれる胞子を形成
し病気を伝播するが、これらの胞子のうち夏胞子及びさ
び胞子は、耐性が強く長距離の飛散が可能である。
子、担子胞子、小生子及び冬胞子と呼ばれる胞子を形成
し病気を伝播するが、これらの胞子のうち夏胞子及びさ
び胞子は、耐性が強く長距離の飛散が可能である。
【0005】これに対し、担子胞子は耐性が弱く、長距
離飛散中に死滅する。従って、経済的に有用な植物に感
染する胞子の型が担子胞子や小生子である場合には、栽
培地近郊の中間宿主植物を除くことによってさび病の発
生を抑制することが行われている。例えば、ナシ赤星病
やリンゴ赤星病を防除するため、畑の近くにこれらの原
因菌の中間宿主であるビャクシンを植えない措置がとら
れている。
離飛散中に死滅する。従って、経済的に有用な植物に感
染する胞子の型が担子胞子や小生子である場合には、栽
培地近郊の中間宿主植物を除くことによってさび病の発
生を抑制することが行われている。例えば、ナシ赤星病
やリンゴ赤星病を防除するため、畑の近くにこれらの原
因菌の中間宿主であるビャクシンを植えない措置がとら
れている。
【0006】しかし、さび胞子及び夏胞子が感染する作
物に関しては上記の方法は効果が薄い。例えば、コムギ
さび病の防除のために、中間宿主であるメギ属植物撲滅
の法令(ルアン1660年、マサチューセッツ1755
年)が出されたが、この方法は冬季に夏胞子が生き残れ
ない地域でのみ有効である。また、この方法の効果を減
じる他の原因として、夏胞子の移動距離が非常に長いこ
とが挙げられる。例えば、米国では、夏胞子が2000
マイルに達する距離を移動しながら、ミシシッピー三角
州国北部やカナダまでさび病害を広げてきた。
物に関しては上記の方法は効果が薄い。例えば、コムギ
さび病の防除のために、中間宿主であるメギ属植物撲滅
の法令(ルアン1660年、マサチューセッツ1755
年)が出されたが、この方法は冬季に夏胞子が生き残れ
ない地域でのみ有効である。また、この方法の効果を減
じる他の原因として、夏胞子の移動距離が非常に長いこ
とが挙げられる。例えば、米国では、夏胞子が2000
マイルに達する距離を移動しながら、ミシシッピー三角
州国北部やカナダまでさび病害を広げてきた。
【0007】また、他の防除方法として、当然殺菌剤の
使用が挙げられる。さび菌は発芽した後、宿主の組織内
に侵入し寄生関係を確立するため、サビ菌の防除に有効
な殺菌剤としては浸透性の高いものが考えられる。しか
し、これらの殺菌剤は当然残留性が高いと考えられ、農
薬を散布する部位、即ち、さび菌が寄生感染する部位で
ある葉や茎を食用に供するような農作物に対しては使用
が困難である。
使用が挙げられる。さび菌は発芽した後、宿主の組織内
に侵入し寄生関係を確立するため、サビ菌の防除に有効
な殺菌剤としては浸透性の高いものが考えられる。しか
し、これらの殺菌剤は当然残留性が高いと考えられ、農
薬を散布する部位、即ち、さび菌が寄生感染する部位で
ある葉や茎を食用に供するような農作物に対しては使用
が困難である。
【0008】さらに、品種改良による抵抗性品種の育成
が挙げられるが、さび菌に抵抗性のある遺伝子を有する
植物は、品種改良の進んでいるコムギ等の一部に限ら
れ、多くの作物においては未だそのような遺伝子は発見
されていない。
が挙げられるが、さび菌に抵抗性のある遺伝子を有する
植物は、品種改良の進んでいるコムギ等の一部に限ら
れ、多くの作物においては未だそのような遺伝子は発見
されていない。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】以上の経緯より、さび
病菌の防除剤の開発が望まれていたが、未だ有効なもの
が見いだされていないのが現状である。
病菌の防除剤の開発が望まれていたが、未だ有効なもの
が見いだされていないのが現状である。
【0010】そこで本発明の目的は、長期間効果を持続
し、さび病の原因であるさび菌胞子の発芽を阻害する等
の作用を有するさび菌防除剤を提供することにある。
し、さび病の原因であるさび菌胞子の発芽を阻害する等
の作用を有するさび菌防除剤を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、優れたさ
び菌防除剤を提供すべく種々の化合物を合成し、スクリ
ーニングした結果、下記式(I)で表されるナフトキノ
ン誘導体が強力なさび菌阻害活性を有し、長期間その効
果を持続することを見いだし本発明を完成した。
び菌防除剤を提供すべく種々の化合物を合成し、スクリ
ーニングした結果、下記式(I)で表されるナフトキノ
ン誘導体が強力なさび菌阻害活性を有し、長期間その効
果を持続することを見いだし本発明を完成した。
【0012】すなわち、本発明は次の式(I)
【0013】
【化20】 (I) (式(I)中、R1及びR2は、同一又は異なって、水素
原子又は水酸基を表し、R3は、水素原子又はハロゲン
原子を表し、R4は次式(II)、(III)、(I
V)、(V)、(VI)、(VII)又は(VIII)
を表す。
原子又は水酸基を表し、R3は、水素原子又はハロゲン
原子を表し、R4は次式(II)、(III)、(I
V)、(V)、(VI)、(VII)又は(VIII)
を表す。
【0014】
【化21】 (II) (式(II)中、R5及びR6は、同一又は異なって、水
素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、R7は、
水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。)、
素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、R7は、
水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。)、
【0015】
【化22】 (III) (式(III)中、R8は、水素原子又は炭素数1〜3
のアルキル基を表し、R9及びR10は、炭素数1〜6の
アルキル基を表す。)、
のアルキル基を表し、R9及びR10は、炭素数1〜6の
アルキル基を表す。)、
【0016】
【化23】 (IV) (式(IV)中、R11及びR12は、炭素数1〜3のアル
キル基を表す。)、
キル基を表す。)、
【0017】
【化24】 (V) (式(V)中R13は、次式(IX)を表す。
【0018】
【化25】 (IX) (式(IX)中、nは、0〜2の整数を表す。))、
【0019】
【化26】 (VI)、
【0020】
【化27】 (VII) (式(VII)中、R14及びR15は、同一又は異なっ
て、水素原子、炭素数1〜3のアルキル基又は次式
(X)もしくは(XI)を表す。)、
て、水素原子、炭素数1〜3のアルキル基又は次式
(X)もしくは(XI)を表す。)、
【0021】
【化28】 (X)
【0022】
【化29】 (XI)
【0023】
【化30】 (VIII) (式(VIII)中、R16は、酸素原子又は硫黄原子を
表し、R17及びR18は、炭素数1〜3のアルキル基を表
す。))で表されるナフトキノン誘導体及びその塩なら
びに上記式(I)で表されるナフトキノン誘導体及びそ
の薬理学的に許容される塩を有効成分として含有するさ
び菌防除剤である。
表し、R17及びR18は、炭素数1〜3のアルキル基を表
す。))で表されるナフトキノン誘導体及びその塩なら
びに上記式(I)で表されるナフトキノン誘導体及びそ
の薬理学的に許容される塩を有効成分として含有するさ
び菌防除剤である。
【0024】前記式中のアルキル基は、定義された炭素
数を有する直鎖もしくは分岐状のアルキル基を意味し、
例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプ
ロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、1−メチルプ
ロピル基、tert-ブチル基、n−ペンチル基、イソアミ
ル基、1−エチルプロピル基、n−ヘキシル基等を意味
する。
数を有する直鎖もしくは分岐状のアルキル基を意味し、
例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプ
ロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、1−メチルプ
ロピル基、tert-ブチル基、n−ペンチル基、イソアミ
ル基、1−エチルプロピル基、n−ヘキシル基等を意味
する。
【0025】ハロゲン原子としては、例えば、ヨウ素原
子、臭素原子又は塩素原子等が挙げられる。
子、臭素原子又は塩素原子等が挙げられる。
【0026】フェニル基又はベンジル基の置換基として
は、例えば、炭素数1〜6のアルキル基等が挙げられ
る。
は、例えば、炭素数1〜6のアルキル基等が挙げられ
る。
【0027】本発明の前記式(I)のナフトキノン誘導
体の製造法は種々の方法により製造することができるが
その代表的方法としては、下記(1)〜(10)の方法
を例示できる。
体の製造法は種々の方法により製造することができるが
その代表的方法としては、下記(1)〜(10)の方法
を例示できる。
【0028】(1) 式(I)においてR4が式(I
I)の場合、下記式(A−1)
I)の場合、下記式(A−1)
【0029】
【化31】 (A−1) (式中、R44、R45及びR46は、同一又は異なって、水
素原子又はメチル基、ベンジル基、メトキシメチル基も
しくはメトキシエトキシメチル基等で保護された水酸基
を表し、R47は、メチル基、ベンジル基、メトキシメチ
ル基もしくはメトキシエトキシメチル基等の水酸基の保
護基を表す。)で表される置換されたナフタレンをn−
ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド等のリ
チウム化合物、水素化ナトリウム等のナトリウム化合物
等の塩基と反応させ金属塩とした後、下記式(A−2)
素原子又はメチル基、ベンジル基、メトキシメチル基も
しくはメトキシエトキシメチル基等で保護された水酸基
を表し、R47は、メチル基、ベンジル基、メトキシメチ
ル基もしくはメトキシエトキシメチル基等の水酸基の保
護基を表す。)で表される置換されたナフタレンをn−
ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド等のリ
チウム化合物、水素化ナトリウム等のナトリウム化合物
等の塩基と反応させ金属塩とした後、下記式(A−2)
【0030】
【化32】 (A−2) (式中のR5,R6は前記の意味を有する)で表されるカ
ルボニル化合物と反応させ対応する下記式(A−3)
ルボニル化合物と反応させ対応する下記式(A−3)
【0031】
【化33】 (A−3) (式中、R5、R6及びR44〜R47は前記の意味を有す
る。)で表される置換されたナフタレンを得、次いで酸
化反応及び水酸基の保護基を除去し、目的物質の一つで
ある下記式(A−4)
る。)で表される置換されたナフタレンを得、次いで酸
化反応及び水酸基の保護基を除去し、目的物質の一つで
ある下記式(A−4)
【0032】
【化34】 (A−4) (式中のR1、R2、R5及びR6は、前記の意味を有す
る。)の化合物を得ることが出来る。
る。)の化合物を得ることが出来る。
【0033】水酸基の保護基の除去及び酸化の方法は、
保護基の種類によって異なるが、硝酸二アンモニウムセ
リウム、ジクロロジシアノキノン等を用い、酸化及び脱
保護を同時に行う方法及び、パラジウム−炭素等を触媒
とする接触還元又は酸加水分解の後に硝酸二アンモニウ
ムセリウム、ジクロロジシアノキノン、フレミー塩、サ
ルコミン−酸素等の適当な酸化剤で酸化する方法等があ
げられる。
保護基の種類によって異なるが、硝酸二アンモニウムセ
リウム、ジクロロジシアノキノン等を用い、酸化及び脱
保護を同時に行う方法及び、パラジウム−炭素等を触媒
とする接触還元又は酸加水分解の後に硝酸二アンモニウ
ムセリウム、ジクロロジシアノキノン、フレミー塩、サ
ルコミン−酸素等の適当な酸化剤で酸化する方法等があ
げられる。
【0034】反応に用いる溶媒としては、テトラヒドロ
フラン、エーテル、ベンゼン、ジオキサン、トルエンな
どから適宜選択した反応に関与しない溶媒を使用でき
る。また、反応温度は、特に限定されないが、−78℃
以下では反応が殆ど進行せず、50℃以上では不純物が
増加するため、−78℃〜50℃の範囲で実施すること
が好ましい。反応終了後は常法により置換されたナフタ
レン(A−3)を単離する。
フラン、エーテル、ベンゼン、ジオキサン、トルエンな
どから適宜選択した反応に関与しない溶媒を使用でき
る。また、反応温度は、特に限定されないが、−78℃
以下では反応が殆ど進行せず、50℃以上では不純物が
増加するため、−78℃〜50℃の範囲で実施すること
が好ましい。反応終了後は常法により置換されたナフタ
レン(A−3)を単離する。
【0035】(2) 式(I)においてR4が式(I
I)の場合、前記(1)で得られた式(A−1)で表さ
れる置換されたナフタレンの金属塩と任意のクロル炭酸
エステルとを反応させ、式(B−1)
I)の場合、前記(1)で得られた式(A−1)で表さ
れる置換されたナフタレンの金属塩と任意のクロル炭酸
エステルとを反応させ、式(B−1)
【0036】
【化35】 (B−1) (式中、R44〜R47は前記の意味を有し、R48は任意の
アルキル基を表す。) (式中)で表される化合物を得た後、任意のグリニア試
薬又はアルキルリチウムと反応させることによっても式
(A−3)で表される化合物を得ることもできる。得ら
れた化合物(A−3)は(1)と同様の方法によって、
式(A−4)で表される化合物へ変換することが出来
る。
アルキル基を表す。) (式中)で表される化合物を得た後、任意のグリニア試
薬又はアルキルリチウムと反応させることによっても式
(A−3)で表される化合物を得ることもできる。得ら
れた化合物(A−3)は(1)と同様の方法によって、
式(A−4)で表される化合物へ変換することが出来
る。
【0037】(3) 式(I)においてR4が式(II
I)の場合、前記(1)で用いた式(A−1)で表され
る置換されたナフタレンの金属塩とジメチルホルムアミ
ドもしくは任意の酸無水物を反応させ、式(C−1)
I)の場合、前記(1)で用いた式(A−1)で表され
る置換されたナフタレンの金属塩とジメチルホルムアミ
ドもしくは任意の酸無水物を反応させ、式(C−1)
【0038】
【化36】 (C−1) (式中、R8及びR44〜R47は前記の意味を有する。)
で表される化合物とした後、任意のウイッテッヒ試薬又
はホーナーエモンズ試薬と反応させて、一般式(C−
2)
で表される化合物とした後、任意のウイッテッヒ試薬又
はホーナーエモンズ試薬と反応させて、一般式(C−
2)
【0039】
【化37】 (C−2) (式中、R8〜R10及びR44〜R47は前記の意味を有す
る。)で表される化合物とし、さらに(1)と同様な酸
化及び脱保護によって、目的物質の一つである下記式
(C−3)
る。)で表される化合物とし、さらに(1)と同様な酸
化及び脱保護によって、目的物質の一つである下記式
(C−3)
【0040】
【化38】 (C−3) (式中、R1〜R2及びR8〜R10は前記の意味を有す
る。)の化合物を得ることが出来る。
る。)の化合物を得ることが出来る。
【0041】(4)式(I)においてR4が式(IV)
の場合、前記(1)で用いた式(A−1)で表される置
換されたナフタレンの金属塩と任意のハロゲン化アルキ
ルを反応させ、式(D−1)
の場合、前記(1)で用いた式(A−1)で表される置
換されたナフタレンの金属塩と任意のハロゲン化アルキ
ルを反応させ、式(D−1)
【0042】
【化39】 (D−1) (式中、R11〜R12及びR44〜R47は前記の意味を有す
る。)で表される化合物とした後、(1)と同様な酸化
及び脱保護によって、目的物質の一つである下記式(D
−2)
る。)で表される化合物とした後、(1)と同様な酸化
及び脱保護によって、目的物質の一つである下記式(D
−2)
【0043】
【化40】 (D−2) (式中のR1〜R2、R11〜R12は前記の意味を有する)
の化合物を得ることが出来る。
の化合物を得ることが出来る。
【0044】(5)式(I)においてR4が式(V)の
場合、上記(1)で用いた式(A−1)で表される置換
されたナフタレンの金属塩にテトラキストリフェニルホ
スフィンパラジウム等の0価のパラジウム触媒又はビス
(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)クロラ
イド等の2価のパラジウム触媒及び塩化亜鉛等の金属塩
を作用させた後、任意のハロゲン化アルケニルを反応さ
せ、式(E−1)
場合、上記(1)で用いた式(A−1)で表される置換
されたナフタレンの金属塩にテトラキストリフェニルホ
スフィンパラジウム等の0価のパラジウム触媒又はビス
(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)クロラ
イド等の2価のパラジウム触媒及び塩化亜鉛等の金属塩
を作用させた後、任意のハロゲン化アルケニルを反応さ
せ、式(E−1)
【0045】
【化41】 (E−1) (式中のR13及びR44〜R47は前記の意味を有する。)
で表される化合物とした後、(1)と同様な酸化及び脱
保護によって、目的物質の一つである下記式(E−2)
で表される化合物とした後、(1)と同様な酸化及び脱
保護によって、目的物質の一つである下記式(E−2)
【0046】
【化42】 (E−2) (式中のR1〜R2、R13は前記の意味を有する。)の化
合物を得ることが出来る。
合物を得ることが出来る。
【0047】(6)式(I)においてR4が式(VI)
の場合、前記(1)で用いた式(A−1)で表される置
換されたナフタレンの金属塩とヨウ素などのハロゲン分
子を反応させ、一般式(F−1)
の場合、前記(1)で用いた式(A−1)で表される置
換されたナフタレンの金属塩とヨウ素などのハロゲン分
子を反応させ、一般式(F−1)
【0048】
【化43】 (F−1) (式中R44〜R47は前記と同様の意味を有し、R49はハ
ロゲン原子を意味する。)で表される化合物とした後、
ペンチン及びビス(トリフェニルホスフィン)パラジウ
ム(II)クロライド等の2価のパラジウム触媒及びヨ
ウ化銅(I)などの金属塩及びトリエチルアミン等の塩
基存在下反応させて、一般式(F−2)
ロゲン原子を意味する。)で表される化合物とした後、
ペンチン及びビス(トリフェニルホスフィン)パラジウ
ム(II)クロライド等の2価のパラジウム触媒及びヨ
ウ化銅(I)などの金属塩及びトリエチルアミン等の塩
基存在下反応させて、一般式(F−2)
【0049】
【化44】 (F−2) で表される化合物とする。反応の際、溶媒としては、無
溶媒もしくはテトラヒドロフラン、ベンゼン、ジオキサ
ン、トルエンなどから適宜選択した反応に関与しない溶
媒を使用できる。
溶媒もしくはテトラヒドロフラン、ベンゼン、ジオキサ
ン、トルエンなどから適宜選択した反応に関与しない溶
媒を使用できる。
【0050】また、反応温度は、特に限定されないが、
室温〜150℃が好ましく、反応終了後は常法により式
(F−2)で表される化合物を単離する。さらに(1)
と同様な酸化及び脱保護によって、目的物質の一つであ
る次式(F−3)
室温〜150℃が好ましく、反応終了後は常法により式
(F−2)で表される化合物を単離する。さらに(1)
と同様な酸化及び脱保護によって、目的物質の一つであ
る次式(F−3)
【0051】
【化45】 (F−3) (式中のR1〜R2は前記の意味を有する。)の化合物を
得ることが出来る。 (7) 式(I)においてR4が式(VII)の場合、
上記(3)で得られた式(C−1)(R8が水素)で表
される化合物を水素化ホウ素ナトリウム又は水素化アル
ミニウムリチウム等の還元剤を用いて還元し、式(G−
1)
得ることが出来る。 (7) 式(I)においてR4が式(VII)の場合、
上記(3)で得られた式(C−1)(R8が水素)で表
される化合物を水素化ホウ素ナトリウム又は水素化アル
ミニウムリチウム等の還元剤を用いて還元し、式(G−
1)
【0052】
【化46】 (G−1) (式中、R44〜R47は前記の意味を有する。)で表され
る化合物とした後、トリフェニルホスフィンと四臭化炭
素又は四塩化炭素もしくは塩化スルフリルなどのハロゲ
ン化試薬を用い、式(G−2)
る化合物とした後、トリフェニルホスフィンと四臭化炭
素又は四塩化炭素もしくは塩化スルフリルなどのハロゲ
ン化試薬を用い、式(G−2)
【0053】
【化47】 (G−2) (式中、R44〜R47は前記の意味を有し、R50はハロゲ
ン原子を意味する。)で表される化合物とする。本化合
物を任意の金属アルコキシドと反応させ、次式(G−
3)
ン原子を意味する。)で表される化合物とする。本化合
物を任意の金属アルコキシドと反応させ、次式(G−
3)
【0054】
【化48】 (G−3) (式中のR44〜R47及びR14〜R15は、前記の意味を有
する。)で表される化合物とした後、(1)と同様の方
法によって、式(G−4)
する。)で表される化合物とした後、(1)と同様の方
法によって、式(G−4)
【0055】
【化49】 (G−4) (式中のR1〜R2、R14及びR15は、前記の意味を有す
る。)で表される化合物へ変換することが出来る。反応
の際、溶媒としては、テトラヒドロフラン、エーテル、
ベンゼン、ジオキサン、トルエン、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシドなどから適宜選択した反応に
関与しない溶媒を使用できる。
る。)で表される化合物へ変換することが出来る。反応
の際、溶媒としては、テトラヒドロフラン、エーテル、
ベンゼン、ジオキサン、トルエン、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシドなどから適宜選択した反応に
関与しない溶媒を使用できる。
【0056】また、反応温度は、特に限定されないが、
−30℃〜150℃が好ましく、反応終了後は常法によ
り化合物(G−3)を単離する。反応温度が−30℃よ
り低温になると反応が非常に遅くなり、150℃より高
温になると溶媒の沸点を越えてしまうことになる。
−30℃〜150℃が好ましく、反応終了後は常法によ
り化合物(G−3)を単離する。反応温度が−30℃よ
り低温になると反応が非常に遅くなり、150℃より高
温になると溶媒の沸点を越えてしまうことになる。
【0057】以上、化合物(G−4)を製造する代表的
方法を説明したが、本化合物のうちR14が水素原子であ
り、R15が下記式A又はBの場合、
方法を説明したが、本化合物のうちR14が水素原子であ
り、R15が下記式A又はBの場合、
【0058】
【化50】
【0059】
【化51】
【0060】窒素原子をさらにメチル化などにより変換
することで式(I)のR4が式(VII)であり、かつ
R14が水素原子、R15が上記式(X)又は(XI)の化
合物へ導くことが出来る。
することで式(I)のR4が式(VII)であり、かつ
R14が水素原子、R15が上記式(X)又は(XI)の化
合物へ導くことが出来る。
【0061】反応の際、溶媒としては、テトラヒドロフ
ラン、エーテル、ベンゼン、ジオキサン、トルエン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジクロロ
メタンなどから適宜選択した反応に関与しない溶媒を使
用できる。
ラン、エーテル、ベンゼン、ジオキサン、トルエン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジクロロ
メタンなどから適宜選択した反応に関与しない溶媒を使
用できる。
【0062】また、反応温度は、特に限定されないが、
反応速度及び溶媒の沸点を考慮すると0℃〜100℃が
好ましく、反応終了後は常法により目的化合物を単離す
る。 (8) 式(I)のR4が式(VIII)においてR16
が硫黄原子の場合、前記(1)で得られた式(A−1)
で表される置換されたナフタレンの金属塩と任意のジス
ルフィドを反応させ、下記式(H−1)
反応速度及び溶媒の沸点を考慮すると0℃〜100℃が
好ましく、反応終了後は常法により目的化合物を単離す
る。 (8) 式(I)のR4が式(VIII)においてR16
が硫黄原子の場合、前記(1)で得られた式(A−1)
で表される置換されたナフタレンの金属塩と任意のジス
ルフィドを反応させ、下記式(H−1)
【0063】
【化52】 (H−1) (式中、R17、R18及びR44〜R47は前記の意味を有す
る。)で表される化合物とした後、前記(1)と同様の
酸化及び脱保護によって、目的物質の一つである下記式
(H−2)
る。)で表される化合物とした後、前記(1)と同様の
酸化及び脱保護によって、目的物質の一つである下記式
(H−2)
【0064】
【化53】 (H−2) (式中のR1〜R2、及びR17〜R18は前記の意味を有す
る。)の化合物を得ることが出来る。
る。)の化合物を得ることが出来る。
【0065】(9) 前記式(I)のR4が式(VII
I)においてR16が酸素原子の場合、下記式(I−1)
I)においてR16が酸素原子の場合、下記式(I−1)
【0066】
【化54】 (I−1) (式中、R1及びR2は前記の意味を有する。)で表され
るナフトキノンを任意のアルコール溶媒中で、酢酸銅
(II)等の無機塩類及びヨウ素などのハロゲン存在下
反応させ、目的物の一つである下記式(I−2)
るナフトキノンを任意のアルコール溶媒中で、酢酸銅
(II)等の無機塩類及びヨウ素などのハロゲン存在下
反応させ、目的物の一つである下記式(I−2)
【0067】
【化55】 (I−2) (式中のR1、R2、R17及びR18は前記の意味を有す
る。)の化合物を得ることが出来る。反応温度は、特に
限定されないが、反応速度及び溶媒の沸点を考慮して、
0℃〜100℃が好ましく、反応終了後は常法により目
的化合物(I−2)を単離する。
る。)の化合物を得ることが出来る。反応温度は、特に
限定されないが、反応速度及び溶媒の沸点を考慮して、
0℃〜100℃が好ましく、反応終了後は常法により目
的化合物(I−2)を単離する。
【0068】(10) 式(I)においてR3がハロゲ
ン原子の場合、一般式(A−3),(C−2),(D−
1),(E−1),(F−2),(G−3)及び(H−
1)で表される化合物をブチルリチウムなどの塩基を用
いて金属塩とした後、臭素などのハロゲン原子もしくは
ジブロモエタン等のハロゲン化剤と反応させ、さらに
(1)と同様な酸化及び脱保護によって、R3がハロゲ
ン原子である目的物質を得る事が出来る。
ン原子の場合、一般式(A−3),(C−2),(D−
1),(E−1),(F−2),(G−3)及び(H−
1)で表される化合物をブチルリチウムなどの塩基を用
いて金属塩とした後、臭素などのハロゲン原子もしくは
ジブロモエタン等のハロゲン化剤と反応させ、さらに
(1)と同様な酸化及び脱保護によって、R3がハロゲ
ン原子である目的物質を得る事が出来る。
【0069】実施例1−1 常法により得られる1,4,5,8−テトラキスメトキ
シメトキシナフタレン736mg(2.0mmol)を
テトラヒドロフラン30mlに溶解し−10℃に冷却し
た。1.66M n−ブチルリチウムのヘキサン溶液
1.8ml(3.0mmol)を加え同温度で1時間攪
拌した。2,8−ジメチルノナン−5−オン511mg
(3.0mmol)の5mlテトラヒドロフラン溶液を
加え、室温で2時間攪拌した。反応液に水を加えエーテ
ルで抽出し、水、飽和食塩水の順に洗浄後硫酸マグネシ
ウムで乾燥後濾過し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより5
−(1,4,5,8−テトラキスメトキシメトキシナフ
タレン−2−イル)−2,8−ジメチル−5−ノナノー
ル810mg(1.50mmol 収率75%)を得
た。
シメトキシナフタレン736mg(2.0mmol)を
テトラヒドロフラン30mlに溶解し−10℃に冷却し
た。1.66M n−ブチルリチウムのヘキサン溶液
1.8ml(3.0mmol)を加え同温度で1時間攪
拌した。2,8−ジメチルノナン−5−オン511mg
(3.0mmol)の5mlテトラヒドロフラン溶液を
加え、室温で2時間攪拌した。反応液に水を加えエーテ
ルで抽出し、水、飽和食塩水の順に洗浄後硫酸マグネシ
ウムで乾燥後濾過し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより5
−(1,4,5,8−テトラキスメトキシメトキシナフ
タレン−2−イル)−2,8−ジメチル−5−ノナノー
ル810mg(1.50mmol 収率75%)を得
た。
【0070】得られた5−(1,4,5,8−テトラキ
スメトキシメトキシナフタレン−2−イル)−2,8−
ジメチル−5−ノナノール(742mg、1.38mm
ol)をアセトニトリル15mlに溶解後、硝酸二アン
モニウムセリウム(IV)2.27g(4.14mmo
l)の3.0ml水溶液を加え室温で15時間攪拌し
た。反応液に水を加えクロロホルムで抽出し、水で洗浄
後硫酸ナトリウムで乾燥後濾過した。溶媒を減圧留去
後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
し、ヘキサンから晶析することにより5,8−ジヒドロ
キシ−2−[1−ヒドロキシ−4−メチル−1−(3−
メチルブチル)ペンチル]−1,4−ナフトキノン(以
下、「化合物1」という。)236mg(0.653m
mol 収率47%)を得た。
スメトキシメトキシナフタレン−2−イル)−2,8−
ジメチル−5−ノナノール(742mg、1.38mm
ol)をアセトニトリル15mlに溶解後、硝酸二アン
モニウムセリウム(IV)2.27g(4.14mmo
l)の3.0ml水溶液を加え室温で15時間攪拌し
た。反応液に水を加えクロロホルムで抽出し、水で洗浄
後硫酸ナトリウムで乾燥後濾過した。溶媒を減圧留去
後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
し、ヘキサンから晶析することにより5,8−ジヒドロ
キシ−2−[1−ヒドロキシ−4−メチル−1−(3−
メチルブチル)ペンチル]−1,4−ナフトキノン(以
下、「化合物1」という。)236mg(0.653m
mol 収率47%)を得た。
【0071】1H−NMR(CDCl3) 0.84(d,J=6.5Hz,6H),0.86
(d,J=6.6Hz,6H),0.95(m,2
H),1.20(m,2H),1.47(m,2H),
1.76(dt,J=4.3,12.6Hz,2H),
2.17(dt,J=4.7,12.6Hz,2H),
2.40(s,1H),7.20(s,1H),7.2
3(s,2H),12.52(s,1H),12.82
(s,1H)
(d,J=6.6Hz,6H),0.95(m,2
H),1.20(m,2H),1.47(m,2H),
1.76(dt,J=4.3,12.6Hz,2H),
2.17(dt,J=4.7,12.6Hz,2H),
2.40(s,1H),7.20(s,1H),7.2
3(s,2H),12.52(s,1H),12.82
(s,1H)
【0072】実施例1−2 実施例1−1で用いた1,4,5,8−テトラキスメト
キシメトキシナフタレンの代わりに1,4,5,8−テ
トラメトキシナフタレンと4−メチル−3−ペンテナー
ルを反応させる事により2−(1−ヒドロキシ−4−メ
チル−3−ペンテニル)−5,8−ジメトキシ−1,4
−ナフトキノン(以下、「化合物2」という。)を得
た。
キシメトキシナフタレンの代わりに1,4,5,8−テ
トラメトキシナフタレンと4−メチル−3−ペンテナー
ルを反応させる事により2−(1−ヒドロキシ−4−メ
チル−3−ペンテニル)−5,8−ジメトキシ−1,4
−ナフトキノン(以下、「化合物2」という。)を得
た。
【0073】1H−NMR(CDCl3) 1.63(s,3H),1.73(s,3H),2.6
0(m,2H),3.97(s,3H),3.97
(s,3H),4.74(m,1H),5.26(m,
1H),6.80(d,J=1.2Hz,1H),7.
32(s,2H)
0(m,2H),3.97(s,3H),3.97
(s,3H),4.74(m,1H),5.26(m,
1H),6.80(d,J=1.2Hz,1H),7.
32(s,2H)
【0074】実施例1−3 また、実施例1−1で用いた2,8−ジメチルノナン−
5−オンの代わりに対応するケトンもしくはアルデヒド
を反応させる事により以下に示す化合物を得た。
5−オンの代わりに対応するケトンもしくはアルデヒド
を反応させる事により以下に示す化合物を得た。
【0075】5,8−ジヒドロキシ−2−(1−ヒドロ
キシ−4−メチル−4−ペンテニル)−1,4−ナフト
キノン(以下、「化合物3」という。)
キシ−4−メチル−4−ペンテニル)−1,4−ナフト
キノン(以下、「化合物3」という。)
【0076】1H−NMR(CDCl3) 1.78(s,3H),1.73−2.10(m,2
H),2.18−2.29(m,2H),2.35
(d,J=2.7Hz,1H),4.79(s,2
H),4.88−4.96(m,1H),7.17
(s,1H),7.20(s,2H),12.49
(s,1H),12.60(s,1H)
H),2.18−2.29(m,2H),2.35
(d,J=2.7Hz,1H),4.79(s,2
H),4.88−4.96(m,1H),7.17
(s,1H),7.20(s,2H),12.49
(s,1H),12.60(s,1H)
【0077】5,8−ジヒドロキシ−2−(1−ヒドロ
キシ−3−ブテニル)−1,4−ナフトキノン(以下、
「化合物4」という。)
キシ−3−ブテニル)−1,4−ナフトキノン(以下、
「化合物4」という。)
【0078】1H−NMR(CDCl3) 2.32−2.47(m,2H),2.68−2.81
4(m,1H),4.94−5.03(m,1H),
5.17−5.21(m,1H),5.26(s,1
H),5.75−5.96(m,1H),7.19
(d,J=1.0Hz,1H),7.20(s,2
H),12.49(s,1H),12.60(s,1
H)
4(m,1H),4.94−5.03(m,1H),
5.17−5.21(m,1H),5.26(s,1
H),5.75−5.96(m,1H),7.19
(d,J=1.0Hz,1H),7.20(s,2
H),12.49(s,1H),12.60(s,1
H)
【0079】5,8−ジヒドロキシ−2−ヒドロキシメ
チル−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物5」とい
う。)
チル−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物5」とい
う。)
【0080】1H−NMR(CDCl3) 2.14(t,J=5.9Hz,1H),4.75(d
d,J=1.6,5.9Hz,2H),7.16(t,
J=1.6Hz,1H),7.21(s,1H),7.
22(s,1H),12.46(s,1H),12.4
8(s,1H)
d,J=1.6,5.9Hz,2H),7.16(t,
J=1.6Hz,1H),7.21(s,1H),7.
22(s,1H),12.46(s,1H),12.4
8(s,1H)
【0081】5,8−ジヒドロキシ−2−(1−ヒドロ
キシ−2−プロペニル)−1,4−ナフトキノン(以
下、「化合物6」という。)
キシ−2−プロペニル)−1,4−ナフトキノン(以
下、「化合物6」という。)
【0082】1H−NMR(CDCl3) 2.53(d,J=4.9Hz,1H),5.29−
5.34(m,1H),5.41−5.54(m,2
H),5.97−6.14(m,1H),7.17
(d,J=1.0Hz,1H),7.21(s,2
H),12.47(s,1H),12.56(s,1
H)
5.34(m,1H),5.41−5.54(m,2
H),5.97−6.14(m,1H),7.17
(d,J=1.0Hz,1H),7.21(s,2
H),12.47(s,1H),12.56(s,1
H)
【0083】5,8−ジヒドロキシ−2−(1−ヒドロ
キシシクロヘキシル)−1,4−ナフトキノン(以下、
「化合物7」という。)
キシシクロヘキシル)−1,4−ナフトキノン(以下、
「化合物7」という。)
【0084】1H−NMR(CDCl3) 1.57−2.18(m,10H),3.46(s,1
H),7.06(s,1H),7.24(s,2H),
12.49(s,1H),12.77(s,1H)
H),7.06(s,1H),7.24(s,2H),
12.49(s,1H),12.77(s,1H)
【0085】5,8−ジヒドロキシ−2−(1−ヒドロ
キシプロピル)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合
物8」という。)
キシプロピル)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合
物8」という。)
【0086】1H−NMR(CDCl3) 1.04(t,J=7.4Hz,3H),1.63−
2.02(m,2H),2.30(d,J=5.3H
z,1H),4.81−4.92(m,1H),7.1
3(d,J=0.7Hz,1H),7.20(s,2
H),12.49(s,1H),12.60(s,1
H)
2.02(m,2H),2.30(d,J=5.3H
z,1H),4.81−4.92(m,1H),7.1
3(d,J=0.7Hz,1H),7.20(s,2
H),12.49(s,1H),12.60(s,1
H)
【0087】5,8−ジヒドロキシ−2−(1−ヒドロ
キシエチル)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物
9」という。)
キシエチル)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物
9」という。)
【0088】1H−NMR(CDCl3) 1.54(d,J=6.5Hz,3H),2.38
(d,J=2.3Hz,1H),5.03−5.11
(m,1H),7.16(d,J=1.1Hz,1
H),7.21(s,2H),12.48(s,1
H),12.59(s,1H)
(d,J=2.3Hz,1H),5.03−5.11
(m,1H),7.16(d,J=1.1Hz,1
H),7.21(s,2H),12.48(s,1
H),12.59(s,1H)
【0089】5,8−ジヒドロキシ−2−[ヒドロキシ
−(3−メチルフェニル)メチル]−1,4−ナフトキ
ノン(以下、「化合物10」という。)
−(3−メチルフェニル)メチル]−1,4−ナフトキ
ノン(以下、「化合物10」という。)
【0090】1H−NMR(CDCl3) 3.70(s,3H),5.98(s,1H),7.1
7−7.36(m,7H),12.47(s,2H)
7−7.36(m,7H),12.47(s,2H)
【0091】5,8−ジヒドロキシ−2−[1−ヒドロ
キシ−2−(2−メチルフェニル)エチル]−1,4−
ナフトキノン(以下、「化合物11」という。)
キシ−2−(2−メチルフェニル)エチル]−1,4−
ナフトキノン(以下、「化合物11」という。)
【0092】1H−NMR(CDCl3) 2.45(s,3H),2.72(dd,J=9.6,
13.7Hz,1H),3.35(dd,J=3.2,
13.7Hz,1H),5.11(m,1H),7.1
6−7.26(m,7H),12.51(s,1H),
12.67(s,1H)
13.7Hz,1H),3.35(dd,J=3.2,
13.7Hz,1H),5.11(m,1H),7.1
6−7.26(m,7H),12.51(s,1H),
12.67(s,1H)
【0093】5,8−ジヒドロキシ−2−[1−ヒドロ
キシ−1−(プロパン−2−エニル)ブタン−3−エニ
ル]−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物12」と
いう。)
キシ−1−(プロパン−2−エニル)ブタン−3−エニ
ル]−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物12」と
いう。)
【0094】1H−NMR(CDCl3) 2.61(dd,J=7.4,13.8Hz,2H),
2.64(s,1H),3.00(dd,J=7.1,
13.8Hz,2H),5.05−5.15(m,4
H),5.58−5.79(m,2H),7.22
(s,3H),12.49(s,1H),12.84
(s,1H)
2.64(s,1H),3.00(dd,J=7.1,
13.8Hz,2H),5.05−5.15(m,4
H),5.58−5.79(m,2H),7.22
(s,3H),12.49(s,1H),12.84
(s,1H)
【0095】5,8−ジヒドロキシ−2−[1−ヒドロ
キシ−4−メチル−1−(3−メチルブタン−3−エニ
ル)ペンタン−4−エニル]−1,4−ナフトキノン
(以下、「化合物13」という。)
キシ−4−メチル−1−(3−メチルブタン−3−エニ
ル)ペンタン−4−エニル]−1,4−ナフトキノン
(以下、「化合物13」という。)
【0096】1H−NMR(CDCl3) 1.70(s,6H),1.82−2.15(m,4
H),2.32−2.44(m,2H),2.62
(s,1H),4.66(s,2H),4.71(s,
2H),7.23(s,2H),7.28(s,1
H),12.52(s,1H),12.83(s,1
H)
H),2.32−2.44(m,2H),2.62
(s,1H),4.66(s,2H),4.71(s,
2H),7.23(s,2H),7.28(s,1
H),12.52(s,1H),12.83(s,1
H)
【0097】5,8−ジヒドロキシ−2−[1−ヒドロ
キシ−3−フェニル−1−(2−フェニルエチル)プロ
ピル]−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物14」
という。)
キシ−3−フェニル−1−(2−フェニルエチル)プロ
ピル]−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物14」
という。)
【0098】1H−NMR(CDCl3) 2.08−2.73(m,9H),7.08−7.26
(m,13H),12.49(s,1H),12.75
(s,1H)
(m,13H),12.49(s,1H),12.75
(s,1H)
【0099】実施例1−4 また、実施例1−1で用いた1,4,5,8−テトラキ
スメトキシメトキシナフタレンの代わりに常法により得
られる1,5−ジヒドロキシナフタレンと2,8−ジメ
チルノナン−5−オンの代わりに対応するケトンもしく
はアルデヒドを反応させる事により以下に示す化合物を
得た。
スメトキシメトキシナフタレンの代わりに常法により得
られる1,5−ジヒドロキシナフタレンと2,8−ジメ
チルノナン−5−オンの代わりに対応するケトンもしく
はアルデヒドを反応させる事により以下に示す化合物を
得た。
【0100】5−ヒドロキシ−2−[1−ヒドロキシ−
4−メチル−1−(3−メチルブチル)ペンチル]−
1,4−ナフトキノン(以下、「化合物15」とい
う。)
4−メチル−1−(3−メチルブチル)ペンチル]−
1,4−ナフトキノン(以下、「化合物15」とい
う。)
【0101】1H−NMR(CDCl3) 0.83(d,J=3.7Hz,6H),0.86
(d,J=3.7Hz,6H),0.91−1.04
(m,2H),1.13−1.33(m,2H),1.
38−1.55(m,2H),1.74(dt,J=
4.4,13.7Hz,2H),2.11(dt,J=
4.8,13.7Hz,2H),2.51(s,1
H),7.05(s,1H),7.24−7.29
(m,1H),7.59−7.68(m,2H)
(d,J=3.7Hz,6H),0.91−1.04
(m,2H),1.13−1.33(m,2H),1.
38−1.55(m,2H),1.74(dt,J=
4.4,13.7Hz,2H),2.11(dt,J=
4.8,13.7Hz,2H),2.51(s,1
H),7.05(s,1H),7.24−7.29
(m,1H),7.59−7.68(m,2H)
【0102】5−ヒドロキシ−2−ヒドロキシメチル−
1,4−ナフトキノン(以下、「化合物16」とい
う。)
1,4−ナフトキノン(以下、「化合物16」とい
う。)
【0103】1H−NMR(CDCl3) 2.12(t,J=5.8Hz,1H),4.70(d
d,J=1.9,5.8Hz,2H),7.01(t,
J=1.9Hz,1H),7.25−7.33(m,1
H),7.61−7.64(m,2H),11.98
(s,1H)
d,J=1.9,5.8Hz,2H),7.01(t,
J=1.9Hz,1H),7.25−7.33(m,1
H),7.61−7.64(m,2H),11.98
(s,1H)
【0104】実施例1−5 さらには、実施例1−1で用いた1,4,5,8−テト
ラキスメトキシメトキシナフタレンの代わりに常法によ
り得られる1,4−ジヒドロキシナフタレンと2,8−
ジメチルノナン−5−オンの代わりに対応するケトンも
しくはアルデヒドを反応させる事により以下に示す化合
物を得た。
ラキスメトキシメトキシナフタレンの代わりに常法によ
り得られる1,4−ジヒドロキシナフタレンと2,8−
ジメチルノナン−5−オンの代わりに対応するケトンも
しくはアルデヒドを反応させる事により以下に示す化合
物を得た。
【0105】2−(1−ヒドロキシ−4−メチル−3−
ペンテニル)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物
17」という。)
ペンテニル)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物
17」という。)
【0106】1H−NMR(CDCl3) 1.65(s,3H),1.75(s,3H),2.2
9−2.44(m,2H),2.56−2.69(m,
1H),4.78−4.93(m,1H),5.17−
5.25(m,1H),7.03(d,J=1.3H
z,1H),7.71−7.80(m,2H),8.0
5−8.13(m,2H)
9−2.44(m,2H),2.56−2.69(m,
1H),4.78−4.93(m,1H),5.17−
5.25(m,1H),7.03(d,J=1.3H
z,1H),7.71−7.80(m,2H),8.0
5−8.13(m,2H)
【0107】2−(1−ヒドロキシ−3−ブテニル)−
1,4−ナフトキノン(以下、「化合物18」とい
う。)
1,4−ナフトキノン(以下、「化合物18」とい
う。)
【0108】1H−NMR(CDCl3) 2.32−2.47(m,2H),2.65−2.78
(m,1H),4.87−4.96(m,1H),5.
15−5.19(m,1H),5.24(s,1H),
5.76−5.97(m,1H),7.04(d,J=
1.4Hz,1H),7.71−7.80(m,2
H),8.05−8.13(m,2H)
(m,1H),4.87−4.96(m,1H),5.
15−5.19(m,1H),5.24(s,1H),
5.76−5.97(m,1H),7.04(d,J=
1.4Hz,1H),7.71−7.80(m,2
H),8.05−8.13(m,2H)
【0109】2−(1−ヒドロキシ−4−メチルペンチ
ル)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物19」と
いう。)
ル)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物19」と
いう。)
【0110】1H−NMR(CDCl3) 1.78(s,3H),1.70−2.07(m,2
H),2.12−2.33(m,2H),2.41
(d,J=5.6Hz,1H),4.78−4.89
(m,3H),7.02(d,J=1.2Hz,1
H),7.71−7.80(m,2H),8.05−
8.16(m,2H)
H),2.12−2.33(m,2H),2.41
(d,J=5.6Hz,1H),4.78−4.89
(m,3H),7.02(d,J=1.2Hz,1
H),7.71−7.80(m,2H),8.05−
8.16(m,2H)
【0111】2−(1−ヒドロキシ−4−メチル−4−
ペンテニル)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物
20」という。)
ペンテニル)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物
20」という。)
【0112】1H−NMR(CDCl3) 0.90(d,J=7.2Hz,6H),1.21−
1.50(m,2H),1.53−1.92(m,3
H),2.33(d,J=5.8Hz,1H),4.7
6−4.84(m,1H),6.99(d,J=1.2
Hz,1H),7.72−7.80(m,2H),8.
07−8.12(m,2H)
1.50(m,2H),1.53−1.92(m,3
H),2.33(d,J=5.8Hz,1H),4.7
6−4.84(m,1H),6.99(d,J=1.2
Hz,1H),7.72−7.80(m,2H),8.
07−8.12(m,2H)
【0113】2−ヒドロキシメチル−1,4−ナフトキ
ノン(以下、「化合物21」という。)
ノン(以下、「化合物21」という。)
【0114】1H−NMR(CDCl3) 2.19(br,1H),4.70(s,2H),7.
03(t,J=1.7Hz,1H),7.60−7.8
1(m,2H),8.07−8.12(m,2H)
03(t,J=1.7Hz,1H),7.60−7.8
1(m,2H),8.07−8.12(m,2H)
【0115】2−[1−ヒドロキシ−4−メチル−1−
(3−メチルブチル)ペンチル]−1,4−ナフトキノ
ン(以下、「化合物22」という。)
(3−メチルブチル)ペンチル]−1,4−ナフトキノ
ン(以下、「化合物22」という。)
【0116】1H−NMR(CDCl3) 0.83(d,J=6.5Hz,6H),0.85
(d,J=6.6Hz,6H),1.00(m,2
H),1.26(m,2H),1.48(m,2H),
1.76(dt,J=4.4,12.5Hz,2H),
2.07(dt,J=4.4,12.5Hz,2H),
6.99 and 7.06(s,1H),7.73−
7.79(m,2H),8.06−8.14(m,2
H)
(d,J=6.6Hz,6H),1.00(m,2
H),1.26(m,2H),1.48(m,2H),
1.76(dt,J=4.4,12.5Hz,2H),
2.07(dt,J=4.4,12.5Hz,2H),
6.99 and 7.06(s,1H),7.73−
7.79(m,2H),8.06−8.14(m,2
H)
【0117】実施例1−6
【0118】実施例1−1で得られた5−(1,4,
5,8−テトラキスメトキシメトキシナフタレン−2−
イル)−2,8−ジメチル−5−ノナノール808mg
(1.5mmol)をジメチルホルムアミド10mlに
溶解し、60%水素化ナトリウム120mg(3.0m
mol)及びヨウ化メチル0.4ml(6.43mmo
l)を加えた後、室温で16時間攪拌した。反応液に水
を加えエーテルで抽出し、水、飽和食塩水の順に洗浄後
硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、溶媒を減圧留去後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する
ことにより5−(1,4,5,8−テトラキスメトキシ
メトキシナフタレン−2−イル−)−2,8−ジメチル
−5−ノナイル メチル エーテル756mg(1.3
7mmol収率91%)を得た。
5,8−テトラキスメトキシメトキシナフタレン−2−
イル)−2,8−ジメチル−5−ノナノール808mg
(1.5mmol)をジメチルホルムアミド10mlに
溶解し、60%水素化ナトリウム120mg(3.0m
mol)及びヨウ化メチル0.4ml(6.43mmo
l)を加えた後、室温で16時間攪拌した。反応液に水
を加えエーテルで抽出し、水、飽和食塩水の順に洗浄後
硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、溶媒を減圧留去後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する
ことにより5−(1,4,5,8−テトラキスメトキシ
メトキシナフタレン−2−イル−)−2,8−ジメチル
−5−ノナイル メチル エーテル756mg(1.3
7mmol収率91%)を得た。
【0119】得られた5−(1,4,5,8−テトラキ
スメトキシメトキシナフタレン−2−イル)−2,8−
ジメチル−5−ノナイル メチル エーテル 756m
g(1.37mmol)をアセトニトリル10mlに溶
解後、硝酸二アンモニウムセリウム(IV)2.25g
(4.10mmol)の5.0ml水溶液を加え室温で
15時間攪拌した。反応液に水を加えクロロホルムで抽
出し、水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥後濾過した。溶
媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、ヘキサンから晶析することにより5,
8−ジヒドロキシ−2−[1−メトキシ−4−メチル−
1−(3−メチルブチル)ペンチル]−1,4−ナフト
キノン(以下、「化合物23」という。)214mg
(0.572mmol 収率42%)を得た。
スメトキシメトキシナフタレン−2−イル)−2,8−
ジメチル−5−ノナイル メチル エーテル 756m
g(1.37mmol)をアセトニトリル10mlに溶
解後、硝酸二アンモニウムセリウム(IV)2.25g
(4.10mmol)の5.0ml水溶液を加え室温で
15時間攪拌した。反応液に水を加えクロロホルムで抽
出し、水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥後濾過した。溶
媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、ヘキサンから晶析することにより5,
8−ジヒドロキシ−2−[1−メトキシ−4−メチル−
1−(3−メチルブチル)ペンチル]−1,4−ナフト
キノン(以下、「化合物23」という。)214mg
(0.572mmol 収率42%)を得た。
【0120】1H−NMR(CDCl3) 0.72(m,2H),0.80(d,J=8.6H
z,6H),0.83(d,J=8.6Hz,6H),
1.10(m,2H),1.94(m,2H),1.8
6(ddd,J=4.0,12.5,14.5Hz,2
H),2.17(ddd,J=5.0,12.5,1
4.5Hz,2H),3.22(S,3H),7.21
(s,2H),7.35(s,1H),12.53
(s,1H),12.90(s,1H)
z,6H),0.83(d,J=8.6Hz,6H),
1.10(m,2H),1.94(m,2H),1.8
6(ddd,J=4.0,12.5,14.5Hz,2
H),2.17(ddd,J=5.0,12.5,1
4.5Hz,2H),3.22(S,3H),7.21
(s,2H),7.35(s,1H),12.53
(s,1H),12.90(s,1H)
【0121】実施例2 原料化合物の合成(1) 常法により得られる1,4,5,8−テトラキスメトキ
シメトキシナフタレン3.68g(10.0mmol)
をテトラヒドロフラン150mlに溶解し、−10℃に
冷却した。1.66M n−ブチルリチウムのヘキサン
溶液6ml(9.96mmol)を加えて1時間攪拌し
た。この溶液に−20℃冷却攪拌下、ジメチルホルムア
ミド1.5ml(19.4mmol)を加え、その後室
温で3時間攪拌した。反応液に水を加え、エーテルで抽
出し、水、飽和食塩水の順に洗浄後無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後濾過した。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより2
−ホルミル−1,4,5,8−テトラキスメトキシメト
キシナフタレン2.96g(7.47mmol 収率7
5.2%)を得た。
シメトキシナフタレン3.68g(10.0mmol)
をテトラヒドロフラン150mlに溶解し、−10℃に
冷却した。1.66M n−ブチルリチウムのヘキサン
溶液6ml(9.96mmol)を加えて1時間攪拌し
た。この溶液に−20℃冷却攪拌下、ジメチルホルムア
ミド1.5ml(19.4mmol)を加え、その後室
温で3時間攪拌した。反応液に水を加え、エーテルで抽
出し、水、飽和食塩水の順に洗浄後無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後濾過した。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより2
−ホルミル−1,4,5,8−テトラキスメトキシメト
キシナフタレン2.96g(7.47mmol 収率7
5.2%)を得た。
【0122】原料化合物の合成(2) また、1,4,5,8−テトラキスメトキシメトキシナ
フタレンの代わりに実施例2で得た1,5−ビスメトキ
シメトキシナフタレンを原料に同様の反応を行い、2−
ホルミル−1,5−ビスメトキシメトキシナフタレンを
得た。
フタレンの代わりに実施例2で得た1,5−ビスメトキ
シメトキシナフタレンを原料に同様の反応を行い、2−
ホルミル−1,5−ビスメトキシメトキシナフタレンを
得た。
【0123】原料化合物の合成(3) また、常法により得られる1,4−ビスメトキシメトキ
シナフタレンを原料に同様の反応を行い、2−ホルミル
−1,4−ビスメトキシメトキシナフタレンを得た。
シナフタレンを原料に同様の反応を行い、2−ホルミル
−1,4−ビスメトキシメトキシナフタレンを得た。
【0124】原料化合物の合成(4) 常法により得られる1,4,5,8−テトラキスメトキ
シメトキシナフタレン1.84g(5.0mmol)を
テトラヒドロフラン75mlに溶解し、−10℃に冷却
した。1.66M n−ブチルリチウムのヘキサン溶液
3ml(5mmol)を加えて30分間攪拌した。この
溶液を0℃に冷却した無水酢酸1.4ml(14.9m
mol)の25mlテトラヒドロフラン溶液に滴下後、
0℃で1.5時間攪拌した。反応液に水を加え、エーテ
ルで抽出し、水、飽和食塩水の順に洗浄後無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後濾過した。溶媒を減圧留去後、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することに
より2−アセチル−1,4,5,8−テトラキスメトキ
シメトキシナフタレン835mg(2.04mmol
収率40.7%)を得た。
シメトキシナフタレン1.84g(5.0mmol)を
テトラヒドロフラン75mlに溶解し、−10℃に冷却
した。1.66M n−ブチルリチウムのヘキサン溶液
3ml(5mmol)を加えて30分間攪拌した。この
溶液を0℃に冷却した無水酢酸1.4ml(14.9m
mol)の25mlテトラヒドロフラン溶液に滴下後、
0℃で1.5時間攪拌した。反応液に水を加え、エーテ
ルで抽出し、水、飽和食塩水の順に洗浄後無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後濾過した。溶媒を減圧留去後、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することに
より2−アセチル−1,4,5,8−テトラキスメトキ
シメトキシナフタレン835mg(2.04mmol
収率40.7%)を得た。
【0125】原料化合物の合成(5) また、1,4,5,8−テトラキスメトキシメトキシナ
フタレンの代わりに常法により得られる1,4−ビスメ
トキシメトキシナフタレンを原料に同様の反応を行い、
2−アセチル−1,4−ビスメトキシメトキシナフタレ
ンを得た。
フタレンの代わりに常法により得られる1,4−ビスメ
トキシメトキシナフタレンを原料に同様の反応を行い、
2−アセチル−1,4−ビスメトキシメトキシナフタレ
ンを得た。
【0126】実施例2−1 臭化シクロヘキシルトリフェニルホスホニウム1.70
g(4.0mmol)をテトラヒドロフラン8mlに懸
濁し、0℃に冷却した。1.66M n−ブチルリチウ
ムのヘキサン溶液2.4ml(4mmol)を加えて3
0分間攪拌した。原料化合物の合成(1)で得た2−ホ
ルミル−1,4,5,8−テトラキスメトキシメトキシ
ナフタレン792mg(2.0mmol)の6mlテト
ラヒドロフラン溶液を加え、室温で2時間攪拌した。反
応液に水を加え、エーテルで抽出し、飽和食塩水で洗浄
後無水硫酸マグネシウムで乾燥後濾過した。溶媒を減圧
留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
精製することにより2−シクロヘキシリデンメチル−
1,4,5,8−テトラキスメトキシメトキシナフタレ
ン899mg(1.95mmol 収率97.2%)を
得た。
g(4.0mmol)をテトラヒドロフラン8mlに懸
濁し、0℃に冷却した。1.66M n−ブチルリチウ
ムのヘキサン溶液2.4ml(4mmol)を加えて3
0分間攪拌した。原料化合物の合成(1)で得た2−ホ
ルミル−1,4,5,8−テトラキスメトキシメトキシ
ナフタレン792mg(2.0mmol)の6mlテト
ラヒドロフラン溶液を加え、室温で2時間攪拌した。反
応液に水を加え、エーテルで抽出し、飽和食塩水で洗浄
後無水硫酸マグネシウムで乾燥後濾過した。溶媒を減圧
留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
精製することにより2−シクロヘキシリデンメチル−
1,4,5,8−テトラキスメトキシメトキシナフタレ
ン899mg(1.95mmol 収率97.2%)を
得た。
【0127】得られた2−シクロヘキシリデンメチル−
1,4,5,8−テトラキスメトキシメトキシナフタレ
ン889mg(1.92mmol)をアセトニトリル1
0mlに溶解し、硝酸二アンモニウムセリウム(IV)
2.64g(4.82mmol)の10ml水溶液を滴
下し、室温で13時間攪拌した。反応液に水を加え、ク
ロロホルムで抽出し、飽和食塩水で洗浄後無水硫酸ナト
リウムで乾燥後濾過した。溶媒を減圧留去後、残渣をヘ
キサンから晶析することにより2−シクロヘキシリデン
メチル−5,8−ジヒドロキシ−1,4−ナフトキノン
(以下、「化合物24」という。)307mg(1.0
8mmol 収率56.1%)を得た。
1,4,5,8−テトラキスメトキシメトキシナフタレ
ン889mg(1.92mmol)をアセトニトリル1
0mlに溶解し、硝酸二アンモニウムセリウム(IV)
2.64g(4.82mmol)の10ml水溶液を滴
下し、室温で13時間攪拌した。反応液に水を加え、ク
ロロホルムで抽出し、飽和食塩水で洗浄後無水硫酸ナト
リウムで乾燥後濾過した。溶媒を減圧留去後、残渣をヘ
キサンから晶析することにより2−シクロヘキシリデン
メチル−5,8−ジヒドロキシ−1,4−ナフトキノン
(以下、「化合物24」という。)307mg(1.0
8mmol 収率56.1%)を得た。
【0128】1H−NMR(CDCl3) 1.56−1.66(m,6H),2.64−2.42
(m,4H),6.29(s,1H),6.85(s,
1H),7.21(s,2H),12.57(s,1
H),12.64(s,1H)
(m,4H),6.29(s,1H),6.85(s,
1H),7.21(s,2H),12.57(s,1
H),12.64(s,1H)
【0129】実施例2−2 また、臭化シクロヘキシルトリフェニルホスホニウムの
代わりに対応するホスホニウム塩を反応させることによ
り以下に示す化合物を得た。
代わりに対応するホスホニウム塩を反応させることによ
り以下に示す化合物を得た。
【0130】5,8−ジヒドロキシ−2−(2−メチル
−1−プロペニル)−1,4−ナフトキノン(以下、
「化合物25」という。)
−1−プロペニル)−1,4−ナフトキノン(以下、
「化合物25」という。)
【0131】1H−NMR(CDCl3) 1.98(d,J=1.0Hz,3H),2.04
(d,J=1.0Hz,3H),6.41−6.43
(m,1H),6.88(s,1H),7.22(s,
2H),12.58(s,1H),12.63(s,1
H)
(d,J=1.0Hz,3H),6.41−6.43
(m,1H),6.88(s,1H),7.22(s,
2H),12.58(s,1H),12.63(s,1
H)
【0132】5,8−ジヒドロキシ−2−(4−メチル
−1−ペンテニル)−1,4−ナフトキノン(以下、
「化合物26」という。)
−1−ペンテニル)−1,4−ナフトキノン(以下、
「化合物26」という。)
【0133】1H−NMR(CDCl3) 0.96(d,J=6.6Hz,6H),1.70−
1.90(m,1H),2.21(t,J=6.4H
z,2H),6.57−6.74(m,2H),7.0
4(s,1H),7.21(s,2H),12.58
(s,1H),12.69(s,1H)
1.90(m,1H),2.21(t,J=6.4H
z,2H),6.57−6.74(m,2H),7.0
4(s,1H),7.21(s,2H),12.58
(s,1H),12.69(s,1H)
【0134】5,8−ジヒドロキシ−2−(2−プロピ
ル−1−ペンテニル)−1,4−ナフトキノン(以下、
「化合物27」という。)
ル−1−ペンテニル)−1,4−ナフトキノン(以下、
「化合物27」という。)
【0135】1H−NMR(CDCl3) 0.97(t,J=7.3Hz,3H),0.97
(t,J=7.3Hz,3H),1.45−1.67
(m,4H),2.14−2.31(m,4H),6.
38(s,1H),6.84(s,1H),7.22
(s,1H),12.57(s,1H),12.63
(s,1H)
(t,J=7.3Hz,3H),1.45−1.67
(m,4H),2.14−2.31(m,4H),6.
38(s,1H),6.84(s,1H),7.22
(s,1H),12.57(s,1H),12.63
(s,1H)
【0136】実施例2−3 また、2−ホルミル−1,4,5,8−テトラキスメト
キシメトキシナフタレンの代わりに原料化合物の合成
(2)で得た2−ホルミル−1,5−ビスメトキシメト
キシナフタレンと対応するホスホニウム塩を反応させる
ことにより以下に示す化合物を得た。
キシメトキシナフタレンの代わりに原料化合物の合成
(2)で得た2−ホルミル−1,5−ビスメトキシメト
キシナフタレンと対応するホスホニウム塩を反応させる
ことにより以下に示す化合物を得た。
【0137】5−ヒドロキシ−2−(2−メチル−1−
プロペニル)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物
28」という。)
プロペニル)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物
28」という。)
【0138】1H−NMR(CDCl3) 1.99(d,J=0.9Hz,3H),2.04
(d,J=0.9Hz,3H),6.40−6.42
(m,1H),6.79(s,1H),7.20−7.
31(m,1H),7.56−7.67(m,2H),
12.10(s,1H)
(d,J=0.9Hz,3H),6.40−6.42
(m,1H),6.79(s,1H),7.20−7.
31(m,1H),7.56−7.67(m,2H),
12.10(s,1H)
【0139】2−シクロヘキシリデンメチル−5−ヒド
ロキシ−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物29」
という。)
ロキシ−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物29」
という。)
【0140】1H−NMR(CDCl3) 1.58−1.65(m,6H),2.33−2.44
(m,4H),6.28(d,J=1.1Hz,1
H),6.75(s,1H),7.20−7.31
(m,1H),7.56−7.67(m,2H),1
2.09(s,1H)
(m,4H),6.28(d,J=1.1Hz,1
H),6.75(s,1H),7.20−7.31
(m,1H),7.56−7.67(m,2H),1
2.09(s,1H)
【0141】実施例2−4 また、2−ホルミル−1,4,5,8−テトラキスメト
キシメトキシナフタレンの代わりに原料化合物の合成
(3)で得た2−ホルミル−1,4−ビスメトキシメト
キシナフタレンと対応するホスホニウム塩を反応させる
ことにより以下に示す化合物を得た。
キシメトキシナフタレンの代わりに原料化合物の合成
(3)で得た2−ホルミル−1,4−ビスメトキシメト
キシナフタレンと対応するホスホニウム塩を反応させる
ことにより以下に示す化合物を得た。
【0142】2−(2−メチル−1−プロペニル)−
1,4−ナフトキノン(以下、「化合物30」とい
う。)
1,4−ナフトキノン(以下、「化合物30」とい
う。)
【0143】1H−NMR(CDCl3) 1.97(s,3H),2.01(s,3H),6.4
1(d,J=1.3Hz,1H),6.84(s,1
H),7.68−7.78(m,2H),8.04−
8.15(m,2H)
1(d,J=1.3Hz,1H),6.84(s,1
H),7.68−7.78(m,2H),8.04−
8.15(m,2H)
【0144】2−シクロヘキシリデンメチル−1,4−
ナフトキノン(以下、「化合物31」という。)
ナフトキノン(以下、「化合物31」という。)
【0145】1H−NMR(CDCl3) 1.57−1.64(m,6H),2.33−2.43
(m,4H),6.29(d,J=1.1Hz,1
H),6.80(d,J=0.7Hz,1H),7.6
8−7.77(m,2H),8.01−8.15(m,
2H)
(m,4H),6.29(d,J=1.1Hz,1
H),6.80(d,J=0.7Hz,1H),7.6
8−7.77(m,2H),8.01−8.15(m,
2H)
【0146】2−(2−プロピル−1−ペンテニル)−
1,4−ナフトキノン(以下、「化合物32」とい
う。)
1,4−ナフトキノン(以下、「化合物32」とい
う。)
【0147】1H−NMR(CDCl3) 0.96(t,J=7.3Hz,6H),1.44−
1.66(m,4H),2.17−2.31(m,4
H),6.38(s,1H),6.80(s,1H),
7.70−7.85(m,2H),8.06−8.18
(m,2H)
1.66(m,4H),2.17−2.31(m,4
H),6.38(s,1H),6.80(s,1H),
7.70−7.85(m,2H),8.06−8.18
(m,2H)
【0148】実施例2−5 また、2−ホルミル−1,4,5,8−テトラキスメト
キシメトキシナフタレンの代わりに原料化合物の合成
(5)で得た2−アセチル−1,4−ビスメトキシメト
キシナフタレンと対応するホスホニウム塩を反応させる
ことにより以下に示す化合物を得た。
キシメトキシナフタレンの代わりに原料化合物の合成
(5)で得た2−アセチル−1,4−ビスメトキシメト
キシナフタレンと対応するホスホニウム塩を反応させる
ことにより以下に示す化合物を得た。
【0149】5,8−ジヒドロキシ−2−(1,2−ジ
メチル−1−プロペニル)−1,4−ナフトキノン(以
下、「化合物33」という。)
メチル−1−プロペニル)−1,4−ナフトキノン(以
下、「化合物33」という。)
【0150】1H−NMR(CDCl3) 1.64(s,3H),1.86(s,3H),1.9
1(s,3H),6.80(s,1H),7.20
(s,1H),12.51(s,1H),12.68
(s,1H)
1(s,3H),6.80(s,1H),7.20
(s,1H),12.51(s,1H),12.68
(s,1H)
【0151】2−(1,2−ジメチル−1−プロペニ
ル)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物34」と
いう。)
ル)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物34」と
いう。)
【0152】1H−NMR(CDCl3) 1.65(d,J=1.4Hz,3H),1.85
(s,1H),1.88(d,J=1.0Hz,3
H),6.70(s,1H),7.70−7.79
(m,2H),8.04−8.15(m,2H)
(s,1H),1.88(d,J=1.0Hz,3
H),6.70(s,1H),7.70−7.79
(m,2H),8.04−8.15(m,2H)
【0153】実施例3−1 常法により得られる1,4,5,8−テトラキスメトキ
シメトキシナフタレン3.68g(10.0mmol)
をテトラヒドロフラン150mlに溶解し−10℃に冷
却した。1.64M n−ブチルリチウムのヘキサン溶
液7.3ml(12mmol)を加え同温度で1時間攪
拌した。4−ブロモ−1−ブテン2.0ml(19.7
mmol)を加え、室温で4時間攪拌した。反応液に水
を加えエーテルで抽出し、水、飽和食塩水の順に洗浄後
硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、溶媒を減圧留去後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する
ことにより2−(3−ブテニル)−1,4,5,8−テ
トラキスメトキシメトキシナフタレン117mg(0.
28mmol 収率2.8%)を得た。
シメトキシナフタレン3.68g(10.0mmol)
をテトラヒドロフラン150mlに溶解し−10℃に冷
却した。1.64M n−ブチルリチウムのヘキサン溶
液7.3ml(12mmol)を加え同温度で1時間攪
拌した。4−ブロモ−1−ブテン2.0ml(19.7
mmol)を加え、室温で4時間攪拌した。反応液に水
を加えエーテルで抽出し、水、飽和食塩水の順に洗浄後
硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、溶媒を減圧留去後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する
ことにより2−(3−ブテニル)−1,4,5,8−テ
トラキスメトキシメトキシナフタレン117mg(0.
28mmol 収率2.8%)を得た。
【0154】得られた2−(3−ブテニル)−1,4,
5,8−テトラキスメトキシメトキシナフタレン117
mg(0.28mmol)をアセトニトリル5mlに溶
解後、硝酸二アンモニウムセリウム(IV)461mg
(0.84mmol)の1.0ml水溶液を加え室温で
15時間攪拌した。反応液に水を加えクロロホルムで抽
出し、水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥後濾過した。溶
媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、ヘキサンから晶析することにより2−
(3−ブテニル)−5,8−ジヒドロキシ−1,4−ナ
フトキノン(以下、「化合物35」という。)50.5
mg(0.21mmol 収率74%)を得た。
5,8−テトラキスメトキシメトキシナフタレン117
mg(0.28mmol)をアセトニトリル5mlに溶
解後、硝酸二アンモニウムセリウム(IV)461mg
(0.84mmol)の1.0ml水溶液を加え室温で
15時間攪拌した。反応液に水を加えクロロホルムで抽
出し、水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥後濾過した。溶
媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、ヘキサンから晶析することにより2−
(3−ブテニル)−5,8−ジヒドロキシ−1,4−ナ
フトキノン(以下、「化合物35」という。)50.5
mg(0.21mmol 収率74%)を得た。
【0155】1H−NMR(CDCl3) 2.41(m,2H),2.73(m,2H),4.9
8−5.13(m,2H),5.74−5.94(m,
1H),6.87(s,1H),7.21(s,2
H),12.47(s,1H),12.62(s,1
H)
8−5.13(m,2H),5.74−5.94(m,
1H),6.87(s,1H),7.21(s,2
H),12.47(s,1H),12.62(s,1
H)
【0156】実施例3−2 また、4−ブロモ−1−ブテンの代わりに対応するハロ
ゲン化アルキルもしくはハロゲン化アルケニルを用い以
下に示す化合物を合成した。
ゲン化アルキルもしくはハロゲン化アルケニルを用い以
下に示す化合物を合成した。
【0157】5,8−ジヒドロキシ−2−ペンチル−
1,4−ナフトキノン(以下、「化合物36」とい
う。)
1,4−ナフトキノン(以下、「化合物36」とい
う。)
【0158】1H−NMR(CDCl3) 0.88−0.95(m,3H),1.25−1.64
(m,6H),2.61(t,J=7.4Hz,2
H),6.86(s,1H),7.21(s,2H),
12.48(s,1H),12.63(s,1H)
(m,6H),2.61(t,J=7.4Hz,2
H),6.86(s,1H),7.21(s,2H),
12.48(s,1H),12.63(s,1H)
【0159】5,8−ジヒドロキシ−2−(4−メチル
ペンチル)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物3
7」という。)
ペンチル)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物3
7」という。)
【0160】1H−NMR(CDCl3) 0.90(d,J=6.6Hz,6H),1.26−
1.67(m,5H),2.51−2.65(m,2
H),6.86(s,1H), 7.21(s,2
H),12.47(s,1H),12.63(s,1
H)
1.67(m,5H),2.51−2.65(m,2
H),6.86(s,1H), 7.21(s,2
H),12.47(s,1H),12.63(s,1
H)
【0161】5,8−ジヒドロキシ−2−(4−メチル
−4−ペンテニル)−1,4−ナフトキノン(以下、
「化合物38」という。)
−4−ペンテニル)−1,4−ナフトキノン(以下、
「化合物38」という。)
【0162】1H−NMR(CDCl3) 1.53(m,2H),1.56(s,3H),2.1
3(m,2H),2.66(m,2H),4.73
(s,1H),4.77(s,1H),6.88(s,
1H),7.21(s,2H),12.48(s,1
H),12.63(s,1H)
3(m,2H),2.66(m,2H),4.73
(s,1H),4.77(s,1H),6.88(s,
1H),7.21(s,2H),12.48(s,1
H),12.63(s,1H)
【0163】実施例4−1 常法により得られる1,4,5,8−テトラキスメトキ
シメトキシナフタレン1.10g(3.0mmol)を
テトラヒドロフラン45mlに溶解し−10℃に冷却し
た。1.64M n−ブチルリチウムのヘキサン溶液
2.75ml(4.5mmol)を加え同温度で1時間
攪拌した。反応液を−75℃まで冷却後、塩化亜鉛49
0mg(3.6mmol)を加え同温度で1時間攪拌し
た。テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム34
7mg(0.30mmol)及びゲラニルゲラニルブロ
マイド1.59g(4.5mmol)の5mlテトラヒ
ドロフラン溶液を加え、室温で17時間攪拌した。反応
液に水を加えエーテルで抽出し、水、飽和食塩水の順に
洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、溶媒を減圧留
去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製することにより1,4,5,8−テトラキスメトキシ
メトキシ−2−(3,7,11,15−テトラメチルヘ
キサデカ−2,6,10,14−テトラエニル)ナフタ
レン715mg(1.12mmol 収率37.2%)
を得た。得られた1,4,5,8−テトラキスメトキシ
メトキシ−2−(3,7,11,15−テトラメチルヘ
キサデカ−2,6,10,14−テトラエニル)ナフタ
レン694mg(1.08mmol)をアセトニトリル
50mlに溶解後、硝酸二アンモニウムセリウム(I
V)1.49g(2.72mmol)の20ml水溶液
を加え室温で16時間攪拌した。反応液に水を加えクロ
ロホルムで抽出し、水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥後
濾過した。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製し、ヘキサンから晶析するこ
とにより5,8−ジヒドロキシ−2−(3,7,11,
15−テトラメチルヘキサデカ−2,6,10,14−
テトラエニル)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合
物39」という。)256mg(0.55mmol 収
率51%)を得た。
シメトキシナフタレン1.10g(3.0mmol)を
テトラヒドロフラン45mlに溶解し−10℃に冷却し
た。1.64M n−ブチルリチウムのヘキサン溶液
2.75ml(4.5mmol)を加え同温度で1時間
攪拌した。反応液を−75℃まで冷却後、塩化亜鉛49
0mg(3.6mmol)を加え同温度で1時間攪拌し
た。テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム34
7mg(0.30mmol)及びゲラニルゲラニルブロ
マイド1.59g(4.5mmol)の5mlテトラヒ
ドロフラン溶液を加え、室温で17時間攪拌した。反応
液に水を加えエーテルで抽出し、水、飽和食塩水の順に
洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、溶媒を減圧留
去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製することにより1,4,5,8−テトラキスメトキシ
メトキシ−2−(3,7,11,15−テトラメチルヘ
キサデカ−2,6,10,14−テトラエニル)ナフタ
レン715mg(1.12mmol 収率37.2%)
を得た。得られた1,4,5,8−テトラキスメトキシ
メトキシ−2−(3,7,11,15−テトラメチルヘ
キサデカ−2,6,10,14−テトラエニル)ナフタ
レン694mg(1.08mmol)をアセトニトリル
50mlに溶解後、硝酸二アンモニウムセリウム(I
V)1.49g(2.72mmol)の20ml水溶液
を加え室温で16時間攪拌した。反応液に水を加えクロ
ロホルムで抽出し、水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥後
濾過した。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製し、ヘキサンから晶析するこ
とにより5,8−ジヒドロキシ−2−(3,7,11,
15−テトラメチルヘキサデカ−2,6,10,14−
テトラエニル)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合
物39」という。)256mg(0.55mmol 収
率51%)を得た。
【0164】1H−NMR(CDCl3) 1.59(s,3H),1.61(s,3H),1.6
7(s,6H),1.99−2.20(m,12H),
3.32(d,J=7.3Hz,2H),5.10
(m,3H),5.24(m,1H),6.82(t,
J=1.4Hz,1H),7.21(s,2H),1
2.48(s,1H),12.60(s,1H)
7(s,6H),1.99−2.20(m,12H),
3.32(d,J=7.3Hz,2H),5.10
(m,3H),5.24(m,1H),6.82(t,
J=1.4Hz,1H),7.21(s,2H),1
2.48(s,1H),12.60(s,1H)
【0165】実施例4−2 また、ゲラニルゲラニルブロマイドの代わりに対応する
ゲラニルブロマイドもしくはファルネシルブロマイドを
用い以下に示す化合物を合成した。
ゲラニルブロマイドもしくはファルネシルブロマイドを
用い以下に示す化合物を合成した。
【0166】5,8−ジヒドロキシ−2−(3,7−ジ
メチルオクタン−2,6−ジエニル)−1,4−ナフト
キノン(以下、「化合物40」という。)
メチルオクタン−2,6−ジエニル)−1,4−ナフト
キノン(以下、「化合物40」という。)
【0167】1H−NMR(CDCl3) 1.62(s,3H),1.67(s,3H),1.7
1(s,3H),2.11(m,4H),3.32
(d,J=7.3Hz,2H),5.10(m,1
H),5.23(m,1H),6.82(t,J=1.
6Hz,1H),7.21(s,2H),12.49
(s,1H),12.60(s,1H)
1(s,3H),2.11(m,4H),3.32
(d,J=7.3Hz,2H),5.10(m,1
H),5.23(m,1H),6.82(t,J=1.
6Hz,1H),7.21(s,2H),12.49
(s,1H),12.60(s,1H)
【0168】5,8−ジヒドロキシ−2−(3,7,1
1−トリメチルドデカ−2,6,10−トリエニル)−
1,4−ナフトキノン(以下、「化合物41」とい
う。)
1−トリメチルドデカ−2,6,10−トリエニル)−
1,4−ナフトキノン(以下、「化合物41」とい
う。)
【0169】1H−NMR(CDCl3) 1.59(s,3H),1.61(s,3H),1.6
7(s,6H),2.01−2.11(m,8H),
3.32(d,J=7.1Hz,2H),5.08
(m,2H),5.11(m,1H),6.83(t,
J=1.5Hz,1H),7.21(s,2H),1
2.49(s,1H),12.60(s,1H)
7(s,6H),2.01−2.11(m,8H),
3.32(d,J=7.1Hz,2H),5.08
(m,2H),5.11(m,1H),6.83(t,
J=1.5Hz,1H),7.21(s,2H),1
2.49(s,1H),12.60(s,1H)
【0170】実施例5−1 常法により得られる1,4,5,8−テトラキスメトキ
シメトキシナフタレン368mg(1.0mmol)を
テトラヒドロフラン15mlに溶解し−10℃に冷却し
た。1.68M n−ブチルリチウムのヘキサン溶液
0.89ml(1.5mmol)を加え同温度で1時間
攪拌した。ヨウ素381mg(1.5mmol)の5m
lテトラヒドロフラン溶液を加え、室温で2時間攪拌し
た。反応液に水を加えエーテルで抽出し、水、飽和食塩
水の順に洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、溶媒
を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製することにより2−ヨード−1,4,5,8
−テトラキスメトキシメトキシナフタレン349mg
(0.71mmol 収率71%)を得た。
シメトキシナフタレン368mg(1.0mmol)を
テトラヒドロフラン15mlに溶解し−10℃に冷却し
た。1.68M n−ブチルリチウムのヘキサン溶液
0.89ml(1.5mmol)を加え同温度で1時間
攪拌した。ヨウ素381mg(1.5mmol)の5m
lテトラヒドロフラン溶液を加え、室温で2時間攪拌し
た。反応液に水を加えエーテルで抽出し、水、飽和食塩
水の順に洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、溶媒
を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製することにより2−ヨード−1,4,5,8
−テトラキスメトキシメトキシナフタレン349mg
(0.71mmol 収率71%)を得た。
【0171】得られた2−ヨード−1,4,5,8−テ
トラキスメトキシメトキシナフタレン168mg(0.
34mmol)、ヨウ化銅(I)13mg(0.068
mmol)及びビス(トリフェニルホスフィン)パラジ
ウム(II)クロライド24mg(0.034mmo
l)を臭化プロパギル0.7ml(7.1mmol)に
懸濁しトリエチルアミン1.0mlを加え40℃で40
時間加熱攪拌した。反応液に水を加えエーテルで抽出
し、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水の
順に洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、溶媒を減
圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製することにより1,4,5,8−テトラキスメト
キシメトキシ−2−(1−ペンチニル)ナフタレン13
8mg(0.32mmol 収率93%)を得た。
トラキスメトキシメトキシナフタレン168mg(0.
34mmol)、ヨウ化銅(I)13mg(0.068
mmol)及びビス(トリフェニルホスフィン)パラジ
ウム(II)クロライド24mg(0.034mmo
l)を臭化プロパギル0.7ml(7.1mmol)に
懸濁しトリエチルアミン1.0mlを加え40℃で40
時間加熱攪拌した。反応液に水を加えエーテルで抽出
し、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水の
順に洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、溶媒を減
圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製することにより1,4,5,8−テトラキスメト
キシメトキシ−2−(1−ペンチニル)ナフタレン13
8mg(0.32mmol 収率93%)を得た。
【0172】得られた1,4,5,8−テトラキスメト
キシメトキシ−2−(1−ペンチニル)ナフタレン12
3mg(0.28mmol)をアセトニトリル5mlに
溶解後、硝酸二アンモニウムセリウム(IV)467m
g(0.85mmol)の1.0ml水溶液を加え室温
で3時間攪拌した。反応液に水を加えクロロホルムで抽
出し、水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥後濾過した。溶
媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、ペンタンから晶析することにより5,
8−ジヒドロキシ−2−(1−ペンチニル)−1,4−
ナフトキノン12mg(0.045mmol 収率16
%)を得た。
キシメトキシ−2−(1−ペンチニル)ナフタレン12
3mg(0.28mmol)をアセトニトリル5mlに
溶解後、硝酸二アンモニウムセリウム(IV)467m
g(0.85mmol)の1.0ml水溶液を加え室温
で3時間攪拌した。反応液に水を加えクロロホルムで抽
出し、水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥後濾過した。溶
媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、ペンタンから晶析することにより5,
8−ジヒドロキシ−2−(1−ペンチニル)−1,4−
ナフトキノン12mg(0.045mmol 収率16
%)を得た。
【0173】実施例5−2 また、1,4,5,8−テトラキスメトキシメトキシナ
フタレンの代わりに常法により得られる1,5−ビスメ
トキシメトキシナフタレン及び1,4−ビスメトキシメ
トキシナフタレンを用いる事により以下に示す化合物を
得た。
フタレンの代わりに常法により得られる1,5−ビスメ
トキシメトキシナフタレン及び1,4−ビスメトキシメ
トキシナフタレンを用いる事により以下に示す化合物を
得た。
【0174】2−(1−ペンチニル)−1,4−ナフト
キノン(以下、「化合物42」という。)
キノン(以下、「化合物42」という。)
【0175】1H−NMR(CDCl3) 1.08(t,3H,J=7.4Hz),1.69
(m,2H),2.52(t,2H,J=7.0H
z),7.06(s,1H),7.74−7.79
(m,2H),8.04−8.14(m,2H) 5−ヒドロキシ−2−(1−ペンチニル)−1,4−ナ
フトキノン
(m,2H),2.52(t,2H,J=7.0H
z),7.06(s,1H),7.74−7.79
(m,2H),8.04−8.14(m,2H) 5−ヒドロキシ−2−(1−ペンチニル)−1,4−ナ
フトキノン
【0176】1H−NMR(CDCl3) 1.07(t,3H,J=7.3Hz),1.69
(m,2H),2.52(t,2H,J=7.0H
z),7.02(s,1H),7.25−7.30
(m,1H),7.57−7.68(m,2H)
(m,2H),2.52(t,2H,J=7.0H
z),7.02(s,1H),7.25−7.30
(m,1H),7.57−7.68(m,2H)
【0177】実施例6−1 公知の物質である2−ホルミル−1,4−ジメトキシナ
フタレン1.08g(5.0mmol)をメタノール1
5mlに溶解し、水素化ホウ素ナトリウム283mg
(7.5mmol)を加え、室温で30分間攪拌し
た。。反応液に水を加えエーテルで抽出し、水、飽和食
塩水の順に洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、溶
媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製することにより2−ヒドロキシメチル−
1,4−ジメトキシナフタレン1.08g(4.95m
mol 収率99%)を得た。
フタレン1.08g(5.0mmol)をメタノール1
5mlに溶解し、水素化ホウ素ナトリウム283mg
(7.5mmol)を加え、室温で30分間攪拌し
た。。反応液に水を加えエーテルで抽出し、水、飽和食
塩水の順に洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、溶
媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製することにより2−ヒドロキシメチル−
1,4−ジメトキシナフタレン1.08g(4.95m
mol 収率99%)を得た。
【0178】得られた2−ヒドロキシメチル−1,4−
ジメトキシナフタレン1.08g(4.95mmol)
を塩化メチレン50mlに溶解し−10℃に冷却した。
四臭化炭素4.97g(15mmol)及びトリフェニ
ルホスフィン3.93g(15mmol)を加え、同温
度で1時間攪拌した。反応液に水を加え塩化メチレンで
抽出し、水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥後濾過した。
溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、2−ブロモメチル−1,4−ジメト
キシナフタレン1.29g(4.57mmol 収率9
1.4%)を得た。
ジメトキシナフタレン1.08g(4.95mmol)
を塩化メチレン50mlに溶解し−10℃に冷却した。
四臭化炭素4.97g(15mmol)及びトリフェニ
ルホスフィン3.93g(15mmol)を加え、同温
度で1時間攪拌した。反応液に水を加え塩化メチレンで
抽出し、水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥後濾過した。
溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、2−ブロモメチル−1,4−ジメト
キシナフタレン1.29g(4.57mmol 収率9
1.4%)を得た。
【0179】イソブタノール675mg(9.1mmo
l)をジメチルホルムアミド15mlに溶解し、60%
水素化ナトリウム546mg(13.7mmol)を加
え、30分間攪拌した。2−ブロモメチル−1,4−ジ
メトキシナフタレン1.28g(4.6mmol)の5
mlジメチルホルムアミド溶液を加え1時間攪拌した。
反応液に水を加えエーテルで抽出し、水、飽和食塩水の
順に洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、溶媒を減
圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製することにより2−(2−メチルプロポキシメチ
ル)−1,4−ジメトキシナフタレン943mg(3.
4mmol 収率76%)を得た。
l)をジメチルホルムアミド15mlに溶解し、60%
水素化ナトリウム546mg(13.7mmol)を加
え、30分間攪拌した。2−ブロモメチル−1,4−ジ
メトキシナフタレン1.28g(4.6mmol)の5
mlジメチルホルムアミド溶液を加え1時間攪拌した。
反応液に水を加えエーテルで抽出し、水、飽和食塩水の
順に洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、溶媒を減
圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製することにより2−(2−メチルプロポキシメチ
ル)−1,4−ジメトキシナフタレン943mg(3.
4mmol 収率76%)を得た。
【0180】得られた2−イソブトキシメチル−1,4
−ジメトキシナフタレン943mg(3.4mmol)
をアセトニトリル50mlに溶解後、硝酸二アンモニウ
ムセリウム(IV)5.65g(10mmol)の5.
0ml水溶液を加え室温で30分間攪拌した。反応液に
水を加えクロロホルムで抽出し、水で洗浄後硫酸ナトリ
ウムで乾燥後濾過した。溶媒を減圧留去後、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ペンタンか
ら晶析することにより2−(2−メチルプロポキシメチ
ル)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物44」と
いう。)455mg(1.86mmol 収率54%)
を得た。
−ジメトキシナフタレン943mg(3.4mmol)
をアセトニトリル50mlに溶解後、硝酸二アンモニウ
ムセリウム(IV)5.65g(10mmol)の5.
0ml水溶液を加え室温で30分間攪拌した。反応液に
水を加えクロロホルムで抽出し、水で洗浄後硫酸ナトリ
ウムで乾燥後濾過した。溶媒を減圧留去後、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ペンタンか
ら晶析することにより2−(2−メチルプロポキシメチ
ル)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物44」と
いう。)455mg(1.86mmol 収率54%)
を得た。
【0181】1H−NMR(CDCl3) 0.97(d,6H,J=6.7Hz),1.96
(m,1H),3.36(d,2H,J=6.6H
z),4.50(s,2H),7.08(t,1H,J
=2.2Hz),7.72−7.76(m,2H),
8.06−8.11(m,2H)
(m,1H),3.36(d,2H,J=6.6H
z),4.50(s,2H),7.08(t,1H,J
=2.2Hz),7.72−7.76(m,2H),
8.06−8.11(m,2H)
【0182】実施例6−3 また、2−ホルミル−1,4−ジメトキシナフタレンの
代わりに実施例5で得られた2−ホルミル−1,4,
5,8−テトラキスメトキシメトキシナフタレンを用い
る事により2−(2−メチルプロポキシメチル)−5,
8−ジヒドロキシ−1,4−ナフトキノン(以下、「化
合物45」という。)を得た。
代わりに実施例5で得られた2−ホルミル−1,4,
5,8−テトラキスメトキシメトキシナフタレンを用い
る事により2−(2−メチルプロポキシメチル)−5,
8−ジヒドロキシ−1,4−ナフトキノン(以下、「化
合物45」という。)を得た。
【0183】1H−NMR(CDCl3) 0.97(d,J=6.7Hz,6H),1.97
(m,1H),3.37(d,J=6.6Hz,2
H),4.54(s,2H),7.18(s,1H),
7.20(s,2H),12.46(s,1H),1
2.51(s,1H) 2−(2−ピリジル)エタノール739mg(6.0m
mol)をジメチルホルムアミド10mlに溶解し、6
0%水素化ナトリウム360mg(9.0mmol)を
加え、30分間攪拌した。実施例6−1で得られた2−
ブロモメチル−1,4−ジメトキシメトキシナフタレン
843g(3.0mmol)の3mlジメチルホルムア
ミド溶液を加え1時間攪拌した。反応液に水を加えエー
テルで抽出し、水、飽和食塩水の順に洗浄後硫酸マグネ
シウムで乾燥後濾過し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより
2−[2−(2−ピリジル)エトキシメチル]−1,4
−ジメトキシメトキシナフタレン99mg(0.31m
mol 収率10%)を得た。
(m,1H),3.37(d,J=6.6Hz,2
H),4.54(s,2H),7.18(s,1H),
7.20(s,2H),12.46(s,1H),1
2.51(s,1H) 2−(2−ピリジル)エタノール739mg(6.0m
mol)をジメチルホルムアミド10mlに溶解し、6
0%水素化ナトリウム360mg(9.0mmol)を
加え、30分間攪拌した。実施例6−1で得られた2−
ブロモメチル−1,4−ジメトキシメトキシナフタレン
843g(3.0mmol)の3mlジメチルホルムア
ミド溶液を加え1時間攪拌した。反応液に水を加えエー
テルで抽出し、水、飽和食塩水の順に洗浄後硫酸マグネ
シウムで乾燥後濾過し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより
2−[2−(2−ピリジル)エトキシメチル]−1,4
−ジメトキシメトキシナフタレン99mg(0.31m
mol 収率10%)を得た。
【0184】得られた2−[2−(2−ピリジル)エト
キシメチル]−1,4−ジメトキシメトキシナフタレン
99mg(0.3mmol)をアセトニトリル5mlに
溶解後、硝酸二アンモニウムセリウム(IV)493m
g(0.9mmol)の1ml水溶液を加え室温で30
分間攪拌した。反応液に水を加えクロロホルムで抽出
し、水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥後濾過した。溶媒
を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製し2−[2−(2−ピリジル)エトキシメチ
ル]−1,4−ナフトキノン78mg(0.27mmo
l 収率89%)を得た。
キシメチル]−1,4−ジメトキシメトキシナフタレン
99mg(0.3mmol)をアセトニトリル5mlに
溶解後、硝酸二アンモニウムセリウム(IV)493m
g(0.9mmol)の1ml水溶液を加え室温で30
分間攪拌した。反応液に水を加えクロロホルムで抽出
し、水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥後濾過した。溶媒
を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製し2−[2−(2−ピリジル)エトキシメチ
ル]−1,4−ナフトキノン78mg(0.27mmo
l 収率89%)を得た。
【0185】得られた2−[2−(2−ピリジル)エト
キシメチル]−1,4−ナフトキノン78mg(0.2
7mmol)を塩化メチレン3mlに溶解しヨウ化メチ
ル1.5mlを加え、50℃で16時間加熱環流した。
反応液を0℃に冷却し、析出した結晶を濾別する事によ
り1−メチル−2−(1,4−ナフトキノン−2−イル
メトキシエチル)ピリジニウム ヨージド(以下、「化
合物46」という。)84mg(0.19mmol 収
率70%)を得た。
キシメチル]−1,4−ナフトキノン78mg(0.2
7mmol)を塩化メチレン3mlに溶解しヨウ化メチ
ル1.5mlを加え、50℃で16時間加熱環流した。
反応液を0℃に冷却し、析出した結晶を濾別する事によ
り1−メチル−2−(1,4−ナフトキノン−2−イル
メトキシエチル)ピリジニウム ヨージド(以下、「化
合物46」という。)84mg(0.19mmol 収
率70%)を得た。
【0186】1H−NMR(DMSO−d6) 3.48(t,2H,J=5.9Hz),4.05
(t,2H,J=5.9Hz),4.33(s,3
H),4.54(s,2H),6.78(t,1H,J
=1.9Hz),7.84−8.03(m,5H),
8.11(m,1H),8.52(m,1H),9.0
0(m,1H)
(t,2H,J=5.9Hz),4.33(s,3
H),4.54(s,2H),6.78(t,1H,J
=1.9Hz),7.84−8.03(m,5H),
8.11(m,1H),8.52(m,1H),9.0
0(m,1H)
【0187】実施例6−4 また、2−(2−ピリジル)エタノールの代わりに3−
ジメチルアミノプロパノールを用いる事によりトリメチ
ル−3−(1,4−ナフトキノン−2−イルメトキシ)
プロピルアンモニウム ヨ−ジド(以下、「化合物4
7」という。)を得た。
ジメチルアミノプロパノールを用いる事によりトリメチ
ル−3−(1,4−ナフトキノン−2−イルメトキシ)
プロピルアンモニウム ヨ−ジド(以下、「化合物4
7」という。)を得た。
【0188】1H−NMR(DMSO−d6) 2.50(m,2H),3.34(s,9H),3.4
3(dd,1H,J=7.9,8.9Hz),3.43
(dd,1H,J=4.7,12.1Hz),3.65
(t,2H,J=5.9Hz),4.49(s,2
H),6.95(t,1H,J=2.0Hz),7.8
5−7.91(m,2H),7.99−8.05(m,
2H)
3(dd,1H,J=7.9,8.9Hz),3.43
(dd,1H,J=4.7,12.1Hz),3.65
(t,2H,J=5.9Hz),4.49(s,2
H),6.95(t,1H,J=2.0Hz),7.8
5−7.91(m,2H),7.99−8.05(m,
2H)
【0189】実施例7−1 1,4−ナフトキノン1.58g(10mmol)をメ
タノール50mlに懸濁し、酢酸銅(II)2.0g
(10mmol)及びヨウ素127mg(1.0mmo
l)を加え、80℃で40時間加熱攪拌した。反応液に
水を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和チオ硫酸ナトリウ
ム水溶液、水、飽和食塩水の順に洗浄後硫酸ナトリウム
で乾燥後濾過し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製することにより2−メ
トキシ−1,4−ナフトキノン486mg(2.6mm
ol 収率26%)を得た。
タノール50mlに懸濁し、酢酸銅(II)2.0g
(10mmol)及びヨウ素127mg(1.0mmo
l)を加え、80℃で40時間加熱攪拌した。反応液に
水を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和チオ硫酸ナトリウ
ム水溶液、水、飽和食塩水の順に洗浄後硫酸ナトリウム
で乾燥後濾過し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製することにより2−メ
トキシ−1,4−ナフトキノン486mg(2.6mm
ol 収率26%)を得た。
【0190】2−メトキシ−1,4−ナフトキノン32
0mg(1.7mmol)を塩化メチレンに溶解し、イ
ソアミルアルコール5ml及び硫酸0.2mlを加え、
3時間攪拌した。反応液に水を加え塩化メチレンで抽出
し、水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥後濾過した。溶媒
を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製し塩化メチレンヘキサン混合溶液より晶析す
ることにより2−(3−メチルブトキシ)−1,4−ナ
フトキノン(以下、「化合物48」という。)246m
g(1.0mmol 収率59%)を得た。
0mg(1.7mmol)を塩化メチレンに溶解し、イ
ソアミルアルコール5ml及び硫酸0.2mlを加え、
3時間攪拌した。反応液に水を加え塩化メチレンで抽出
し、水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥後濾過した。溶媒
を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製し塩化メチレンヘキサン混合溶液より晶析す
ることにより2−(3−メチルブトキシ)−1,4−ナ
フトキノン(以下、「化合物48」という。)246m
g(1.0mmol 収率59%)を得た。
【0191】1H−NMR(CDCl3) 0.98(d,6H,J=6.6Hz),1.75−
1.86(m,3H),4.05(t,2H,J=6.
6Hz),6.14(s,1H),7.67−7.78
(m,2H),8.06−8.15(m,2H)
1.86(m,3H),4.05(t,2H,J=6.
6Hz),6.14(s,1H),7.67−7.78
(m,2H),8.06−8.15(m,2H)
【0192】実施例7−2 また、1,4−ナフトキノンの代わりにナフタザリンを
用いる事により2−(3−メチルブトキシ)−5,8−
ジヒドロキシ−1,4−ナフトキノンを(以下、「化合
物49」という。)得た。
用いる事により2−(3−メチルブトキシ)−5,8−
ジヒドロキシ−1,4−ナフトキノンを(以下、「化合
物49」という。)得た。
【0193】1H−NMR(CDCl3) 0.99(d,6H,J=6.2Hz),1.25
(m,1H),1.82(m,2H),4.07(t,
2H,J=6.5Hz),6.15(s,1H),7.
22(d,1H,J=9.4Hz),7.27(d,1
H,J=9.4Hz),12.22(s,1H),1
2.67(s,1H)
(m,1H),1.82(m,2H),4.07(t,
2H,J=6.5Hz),6.15(s,1H),7.
22(d,1H,J=9.4Hz),7.27(d,1
H,J=9.4Hz),12.22(s,1H),1
2.67(s,1H)
【0194】実施例7−3 常法により得られる1,4−ビスメトキシメトキシナフ
タレン1.24g(5.0mmol)をテトラヒドロフ
ラン50mlに溶解し−10℃に冷却した。1.63M
n−ブチルリチウムのヘキサン溶液4.6ml(7.
5mmol)を加え同温度で1時間攪拌した。ジイソア
ミルジスルフィド1.55g(7.5mmol)の5m
lテトラヒドロフラン溶液を加え、室温で1時間攪拌し
た。反応液に水を加えエーテルで抽出し、水、飽和食塩
水の順に洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、溶媒
を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製することにより1,4−ビスメトキシメトキ
シ−2−(3−メチルブチルチオ)ナフタレン1.72
g(4.9mmol 収率98%)を得た。
タレン1.24g(5.0mmol)をテトラヒドロフ
ラン50mlに溶解し−10℃に冷却した。1.63M
n−ブチルリチウムのヘキサン溶液4.6ml(7.
5mmol)を加え同温度で1時間攪拌した。ジイソア
ミルジスルフィド1.55g(7.5mmol)の5m
lテトラヒドロフラン溶液を加え、室温で1時間攪拌し
た。反応液に水を加えエーテルで抽出し、水、飽和食塩
水の順に洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥後濾過し、溶媒
を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製することにより1,4−ビスメトキシメトキ
シ−2−(3−メチルブチルチオ)ナフタレン1.72
g(4.9mmol 収率98%)を得た。
【0195】得られた1,4−ビスメトキシメトキシ−
2−(3−メチルブチルチオ)ナフタレン1.72g
(4.9mmol)をアセトニトリル50mlに溶解
後、硝酸二アンモニウムセリウム(IV)13.4g
(24.4mmol)の10ml水溶液を加え室温で1
時間攪拌した。反応液に水を加えクロロホルムで抽出
し、水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥後濾過した。溶媒
を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製し、ヘキサンから晶析することにより2−
(3−メチルブチルチオ)−1,4−ナフトキノン(以
下、「化合物50」という。)745mg(2.6mm
ol 収率51%)を得た。
2−(3−メチルブチルチオ)ナフタレン1.72g
(4.9mmol)をアセトニトリル50mlに溶解
後、硝酸二アンモニウムセリウム(IV)13.4g
(24.4mmol)の10ml水溶液を加え室温で1
時間攪拌した。反応液に水を加えクロロホルムで抽出
し、水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥後濾過した。溶媒
を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製し、ヘキサンから晶析することにより2−
(3−メチルブチルチオ)−1,4−ナフトキノン(以
下、「化合物50」という。)745mg(2.6mm
ol 収率51%)を得た。
【0196】1H−NMR(CDCl3) 0.98(d,6H,J=6.4Hz),1.60−
1.83(m,3H),2.83(t,2H,J=7.
6Hz),6.62(s,1H),7.70−7.76
(m,2H),8.07−8.14(m,2H)
1.83(m,3H),2.83(t,2H,J=7.
6Hz),6.62(s,1H),7.70−7.76
(m,2H),8.07−8.14(m,2H)
【0197】実施例7−4 また、1,4−ビスメトキシメトキシナフタレンの代わ
りに常法により得られる1,4,5,8−テトラキスメ
トキシメトキシナフタレン及び常法により得られる1,
5−ビスメトキシメトキシナフタレンを用いる事により
以下に示す化合物を合成した。
りに常法により得られる1,4,5,8−テトラキスメ
トキシメトキシナフタレン及び常法により得られる1,
5−ビスメトキシメトキシナフタレンを用いる事により
以下に示す化合物を合成した。
【0198】5,8−ジヒドロキシ−2−(3−メチル
ブチルチオ)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物
51」という。)
ブチルチオ)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物
51」という。)
【0199】1H−NMR(CDCl3) 0.98(d,6H,J=6.4Hz),1.66
(m,2H),1.78(m,1H),2.86(t,
2H,J=7.6Hz),7.21(d,1H,J=
9.4Hz),7.27(d,1H,J=9.4H
z),12.17(s,1H),12.66(s,1
H)
(m,2H),1.78(m,1H),2.86(t,
2H,J=7.6Hz),7.21(d,1H,J=
9.4Hz),7.27(d,1H,J=9.4H
z),12.17(s,1H),12.66(s,1
H)
【0200】5−ヒドロキシ−2−(3−メチルブチル
チオ)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物52」
という。)
チオ)−1,4−ナフトキノン(以下、「化合物52」
という。)
【0201】1H−NMR(CDCl3) 0.98(d,6H,J=6.4Hz),1.65
(m,2H),1.78(m,1H),2.84(m,
2H),6.54(s,1H),7.29(dd,1
H,J=1.4,8.1Hz),7.60(dd,1
H,J=7.5,8.1Hz),7.65(dd,1
H,J=1.4,7.5Hz)
(m,2H),1.78(m,1H),2.84(m,
2H),6.54(s,1H),7.29(dd,1
H,J=1.4,8.1Hz),7.60(dd,1
H,J=7.5,8.1Hz),7.65(dd,1
H,J=1.4,7.5Hz)
【0202】実施例7−5 実施例7−3で得られた1,4−ビスメトキシメトキシ
−2−(3−メチルブチルチオ)ナフタレン1.72g
(4.9mmol)をテトラヒドロフラン50mlに溶
解し−10℃に冷却した。1.63M n−ブチルリチ
ウムのヘキサン溶液3.3ml(5.4mmol)を加
え同温度で3時間攪拌した。臭素0.5ml(9.7m
mol)を加え、室温で2時間攪拌した。反応液にチオ
硫酸ナトリウム水溶液を加えエーテルで抽出し、水、飽
和食塩水の順に洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥後濾過
し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで精製することにより2−ブロモ−1,4
−ビスメトキシメトキシ−3−(3−メチルブチルチ
オ)ナフタレン1.30g(3.0mmol 収率62
%)を得た。
−2−(3−メチルブチルチオ)ナフタレン1.72g
(4.9mmol)をテトラヒドロフラン50mlに溶
解し−10℃に冷却した。1.63M n−ブチルリチ
ウムのヘキサン溶液3.3ml(5.4mmol)を加
え同温度で3時間攪拌した。臭素0.5ml(9.7m
mol)を加え、室温で2時間攪拌した。反応液にチオ
硫酸ナトリウム水溶液を加えエーテルで抽出し、水、飽
和食塩水の順に洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥後濾過
し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで精製することにより2−ブロモ−1,4
−ビスメトキシメトキシ−3−(3−メチルブチルチ
オ)ナフタレン1.30g(3.0mmol 収率62
%)を得た。
【0203】得られた2−ブロモ−1,4−ビスメトキ
シメトキシ−3−(3−メチルブチル)ナフタレン40
0mg(0.93mmol)をアセトニトリル10ml
に溶解後、硝酸二アンモニウムセリウム(IV)2.0
g(3.65mmol)の2.0ml水溶液を加え室温
で1時間攪拌した。反応液に水を加えクロロホルムで抽
出し、水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥後濾過した。溶
媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、ペンタンから晶析することにより2−
ブロモ−3−(3−メチルブチルチオ)−1,4−ナフ
トキノン(以下、「化合物53」という。)99mg
(0.43mmol 収率46%)を得た。
シメトキシ−3−(3−メチルブチル)ナフタレン40
0mg(0.93mmol)をアセトニトリル10ml
に溶解後、硝酸二アンモニウムセリウム(IV)2.0
g(3.65mmol)の2.0ml水溶液を加え室温
で1時間攪拌した。反応液に水を加えクロロホルムで抽
出し、水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥後濾過した。溶
媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、ペンタンから晶析することにより2−
ブロモ−3−(3−メチルブチルチオ)−1,4−ナフ
トキノン(以下、「化合物53」という。)99mg
(0.43mmol 収率46%)を得た。
【0204】1H−NMR(CDCl3) 0.94(d,6H,J=6.5Hz),1.58
(m,2H),1.74(m,1H),3.43(t,
1H,J=7.8Hz),3.43(dd,1H,J=
6.0,9.6Hz),7.68−7.85(m,2
H),8.05−8.16(m,2H)
(m,2H),1.74(m,1H),3.43(t,
1H,J=7.8Hz),3.43(dd,1H,J=
6.0,9.6Hz),7.68−7.85(m,2
H),8.05−8.16(m,2H)
【0205】以下、実験例を挙げて本発明の化合物の有
用性について詳細に説明するが、本発明はこれらに何ら
限定されるものではない。
用性について詳細に説明するが、本発明はこれらに何ら
限定されるものではない。
【0206】実験例1 圃場において展開してから一週間以内の紫蘇葉を採集
し、流水下で良く洗浄して葉表面に付着している雑菌を
除いた葉を90mmシャーレに入れ、20℃、8hr−
light/16hr−dark、400luxの条件
で培養した。培養開始後、一週間目以降に葉裏面に夏胞
子堆が出現し、夏胞子が得られた。この夏胞子を新鮮な
紫蘇葉裏面に植えつけた後、シャーレに入れ、同条件下
にて培養した。培養後2週間目に再び夏胞子堆が形成さ
れ夏胞子を得た。以後、この夏胞子を2週間毎に、新鮮
な紫蘇葉に継代し新たに形成されてくる夏胞子を実験に
用いた。1/2ツァペック無機塩類(pH6.0)及び
0.6%低融点アガロースに各被験化合物をそれぞれの
濃度で添加し、このうち10μlを滅菌カバーグラス上
に滴下し常温にて固化させた(以下、この培養基を発芽
床と称す。)これに夏胞子100〜200個を筆を用い
て接種した。接種後のカバーガラスは下向きにしてパラ
フィンでミニシャーレ(φ1cm直径)の口に固着さ
せ、18℃で発芽せしめ、約17時間培養後に検鏡し、
各試験区の発芽胞子と未発芽胞子を測定した。被験薬物
を含まない発芽床を用いて培養したものを比較対照とし
て、次式に従って発芽阻害率を算出した。
し、流水下で良く洗浄して葉表面に付着している雑菌を
除いた葉を90mmシャーレに入れ、20℃、8hr−
light/16hr−dark、400luxの条件
で培養した。培養開始後、一週間目以降に葉裏面に夏胞
子堆が出現し、夏胞子が得られた。この夏胞子を新鮮な
紫蘇葉裏面に植えつけた後、シャーレに入れ、同条件下
にて培養した。培養後2週間目に再び夏胞子堆が形成さ
れ夏胞子を得た。以後、この夏胞子を2週間毎に、新鮮
な紫蘇葉に継代し新たに形成されてくる夏胞子を実験に
用いた。1/2ツァペック無機塩類(pH6.0)及び
0.6%低融点アガロースに各被験化合物をそれぞれの
濃度で添加し、このうち10μlを滅菌カバーグラス上
に滴下し常温にて固化させた(以下、この培養基を発芽
床と称す。)これに夏胞子100〜200個を筆を用い
て接種した。接種後のカバーガラスは下向きにしてパラ
フィンでミニシャーレ(φ1cm直径)の口に固着さ
せ、18℃で発芽せしめ、約17時間培養後に検鏡し、
各試験区の発芽胞子と未発芽胞子を測定した。被験薬物
を含まない発芽床を用いて培養したものを比較対照とし
て、次式に従って発芽阻害率を算出した。
【0207】 発芽阻害率(%)={(A−B)/A}×100 A:被験薬物を含まない試験区の発芽率 B:被験薬物を含む試験区の発芽率 その結果を表1に示す。
【0208】
【表1】
【0209】以上の結果より、本発明の上記式(I)で
表される化合物がさび病の原因であるさび菌胞子の発芽
を阻害する等の作用を有するさび菌防除剤として有用で
あることが示された。 以上
表される化合物がさび病の原因であるさび菌胞子の発芽
を阻害する等の作用を有するさび菌防除剤として有用で
あることが示された。 以上
Claims (9)
- 【請求項1】 次式(I): 【化1】 (I) (式(I)中、R1及びR2は、同一又は異なって、水素
原子又は水酸基を表し、R3は、水素原子又はハロゲン
原子を表し、R4は次式(II)、(III)、(I
V)、(V)、(VI)、(VII)又は(VIII)
を表す。 【化2】 (II) (式(II)中、R5及びR6は、同一又は異なって、水
素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、R7は、
水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。)、 【化3】 (III) (式(III)中、R8は、水素原子又は炭素数1〜3
のアルキル基を表し、R9及びR10は、炭素数1〜6の
アルキル基を表す。)、 【化4】 (IV) (式(IV)中、R11及びR12は、炭素数1〜3のアル
キル基を表す。)、 【化5】 (V) (式(V)中、R13は、次式(IX)を表す。 【化6】 (IX) (式(IX)中、nは、0〜2の整数を表す。))、 【化7】 (VI)、 【化8】 (VII) (式(VII)中、R14及びR15は、同一又は異なっ
て、水素原子、炭素数1〜3のアルキル基又は次式
(X)もしくは(XI)を表す。)、 【化9】 (X) 【化10】 (XI) 【化11】 (VIII) (式(VIII)中、R16は、酸素原子又は硫黄原子を
表し、R17及びR18は、炭素数1〜3のアルキル基を表
す。))で表されるナフトキノン誘導体及びその塩。 - 【請求項2】 次式(XII): 【化12】 (XII) (式(XII)中、R19及びR20は、同一又は異なっ
て、水素原子又は水酸基を表し、R21及びR22は、同一
又は異なって、炭素数1〜5のアルキル基又は置換基を
有していてもよいフェニル基若しくはベンジル基を表
し、R23は、水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を
表す。)で表されるナフトキノン誘導体及びその塩。 - 【請求項3】 次式(XIII): 【化13】 (XIII) (式(XIII)中、R24及びR25は、同一又は異なっ
て、水素原子又は水酸基を表し、R26及びR27は、同一
又は異なって、炭素数1〜3のアルキル基を表し、R28
は、水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。)
で表されるナフトキノン誘導体及びその塩。 - 【請求項4】 次式(XIV): 【化14】 (XIV) (式(XIV)中、R29及びR30は、同一又は異なっ
て、炭素数1〜3のアルキル基を表す。)で表されるナ
フトキノン誘導体及びその塩。 - 【請求項5】 次式(XV): 【化15】 (XV) (式(XV)中、R31は、次式(XVI)を表す。 【化16】 (XVI) (式(XVI)中、nは、0〜2の整数を表す。))で
表されるナフトキノン誘導体及びその塩。 - 【請求項6】 次式(XVII): 【化17】 (XVII) (式(XVII)中、R32及びR33は、同一又は異なっ
て、水素原子又は水酸基を表す。)で表されるナフトキ
ノン誘導体及びその塩。 - 【請求項7】 次式(XVIII): 【化18】 (XVIII) (式(XVIII)中、R34及びR35は、同一又は異な
って、水素原子又は水酸基を表し、R36及びR37は、同
一又は異なって、水素原子もしくは炭素数1〜3のアル
キル基又は請求項1記載の式(X)もしくは式(XI)
を表す。)で表されるナフトキノン誘導体及びその塩。 - 【請求項8】 次式(XIX): 【化19】 (XIX) (式(XIX)中、R38及びR39は、同一又は異なっ
て、水素原子又は水酸基を表し、R40は、水素原子又は
ハロゲン原子を表し、R41は、酸素原子又は硫黄原子を
表し、R42及びR43は、炭素数1〜3のアルキル基を表
す。)で表されるナフトキノン誘導体及びその塩。 - 【請求項9】請求項1記載の式(I)で表されるナフト
キノン誘導体及びその薬理学的に許容される塩を有効成
分として含有するさび菌防除剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9175404A JPH1121262A (ja) | 1997-07-01 | 1997-07-01 | ナフトキノン誘導体及びその用途 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9175404A JPH1121262A (ja) | 1997-07-01 | 1997-07-01 | ナフトキノン誘導体及びその用途 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1121262A true JPH1121262A (ja) | 1999-01-26 |
Family
ID=15995510
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9175404A Pending JPH1121262A (ja) | 1997-07-01 | 1997-07-01 | ナフトキノン誘導体及びその用途 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1121262A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20060110655A (ko) * | 2005-04-21 | 2006-10-25 | 이회선 | 살비성을 나타내는 화합물 |
| WO2018147439A1 (ja) * | 2017-02-10 | 2018-08-16 | 株式会社 メニコン | 植物ストレス耐性誘導剤 |
-
1997
- 1997-07-01 JP JP9175404A patent/JPH1121262A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20060110655A (ko) * | 2005-04-21 | 2006-10-25 | 이회선 | 살비성을 나타내는 화합물 |
| WO2018147439A1 (ja) * | 2017-02-10 | 2018-08-16 | 株式会社 メニコン | 植物ストレス耐性誘導剤 |
| JP6395244B1 (ja) * | 2017-02-10 | 2018-09-26 | 株式会社メニコン | 植物ストレス耐性誘導剤 |
| US11638425B2 (en) | 2017-02-10 | 2023-05-02 | National University Corporation Shizuoka University | Agent for inducing stress tolerance in plants |
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|
| A02 | Decision of refusal |
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