JPH11213932A - 荷電粒子ビーム装置における試料装置 - Google Patents
荷電粒子ビーム装置における試料装置Info
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- JPH11213932A JPH11213932A JP10011305A JP1130598A JPH11213932A JP H11213932 A JPH11213932 A JP H11213932A JP 10011305 A JP10011305 A JP 10011305A JP 1130598 A JP1130598 A JP 1130598A JP H11213932 A JPH11213932 A JP H11213932A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 傾斜機構上で２次元的に移動する試料の位置
合わせをレーザ測長器を用いて行うことができる荷電粒
子ビーム装置における試料装置を実現する。 【解決手段】 試料台１に移動鏡２３を固定し、更に、
移動台１を傾斜させる傾斜枠１５に測定光と参照光を干
渉させる干渉計２２，２６を一体的に配置した。その結
果、試料台１の傾斜によってもレーザー光軸がずれるこ
とがなく、試料台１の移動距離をレーザー測長器を用い
て正確に測定することが可能となり、試料の位置決めを
正確に行うことができる。
合わせをレーザ測長器を用いて行うことができる荷電粒
子ビーム装置における試料装置を実現する。 【解決手段】 試料台１に移動鏡２３を固定し、更に、
移動台１を傾斜させる傾斜枠１５に測定光と参照光を干
渉させる干渉計２２，２６を一体的に配置した。その結
果、試料台１の傾斜によってもレーザー光軸がずれるこ
とがなく、試料台１の移動距離をレーザー測長器を用い
て正確に測定することが可能となり、試料の位置決めを
正確に行うことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、走査電子顕微鏡や
電子ビーム測長装置等に用いて好適な試料装置に関す
る。
電子ビーム測長装置等に用いて好適な試料装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】走査電子顕微鏡では、電子銃から発生し
加速された電子ビームをコンデンサレンズと対物レンズ
によって細く集束し、試料に照射している。そして、試
料の任意の２次元領域を電子ビームで走査し、試料から
発生した２次電子や反射電子を検出し、検出信号を電子
ビームの走査に同期した陰極線管に供給して試料の走査
像を得るようにしている。
加速された電子ビームをコンデンサレンズと対物レンズ
によって細く集束し、試料に照射している。そして、試
料の任意の２次元領域を電子ビームで走査し、試料から
発生した２次電子や反射電子を検出し、検出信号を電子
ビームの走査に同期した陰極線管に供給して試料の走査
像を得るようにしている。
【０００３】このような走査電子顕微鏡において、試料
の観察時には、試料をＸ，Ｙ方向に移動させたり、回転
させたり、更には傾斜させたりしている。そのため、試
料をＸ，Ｙ方向の移動機構、回転機構、傾斜機構が備え
られた試料ステージ上に載せるようにしている。
の観察時には、試料をＸ，Ｙ方向に移動させたり、回転
させたり、更には傾斜させたりしている。そのため、試
料をＸ，Ｙ方向の移動機構、回転機構、傾斜機構が備え
られた試料ステージ上に載せるようにしている。
【０００４】図１は試料装置の平面図であり、１は試料
が載せられる試料台である。試料台１はＹ方向レール２
の上にＹ方向に移動できるように配置されているが、Ｙ
方向レール２はＸ方向レール３上にＸ方向に移動できる
ように配置されている。
が載せられる試料台である。試料台１はＹ方向レール２
の上にＹ方向に移動できるように配置されているが、Ｙ
方向レール２はＸ方向レール３上にＸ方向に移動できる
ように配置されている。
【０００５】Ｙ方向レール２上には送りネジ４が設けら
れ、送りネジ４は試料室壁５の外部に配置されたモータ
６によって回転させられる。モータ６の回転は、ユニバ
ーサルジョイントを含む駆動軸７によって送りネジ４に
伝えられる。
れ、送りネジ４は試料室壁５の外部に配置されたモータ
６によって回転させられる。モータ６の回転は、ユニバ
ーサルジョイントを含む駆動軸７によって送りネジ４に
伝えられる。
【０００６】送りネジ４は試料台１の底部に固定された
ナット（図示せず）に噛み合わされており、送りネジ４
を回転させることにより、ナットに固定された試料台１
はＹ方向に移動する。
ナット（図示せず）に噛み合わされており、送りネジ４
を回転させることにより、ナットに固定された試料台１
はＹ方向に移動する。
【０００７】Ｘ方向レール３には送りネジ８が設けら
れ、送りネジ８は試料室壁５の外部に配置されたモータ
９によって回転させられる。モータ９の回転は、ユニバ
ーサルジョイントを含む駆動軸１０によって送りネジ８
に伝えられる。
れ、送りネジ８は試料室壁５の外部に配置されたモータ
９によって回転させられる。モータ９の回転は、ユニバ
ーサルジョイントを含む駆動軸１０によって送りネジ８
に伝えられる。
【０００８】送りネジ８はＹ方向レール２の底部に固定
されたナット（図示せず）に噛み合わされており、送り
ネジ８を回転させることにより、ナットに固定されたＹ
方向レール２はＸ方向に移動する。
されたナット（図示せず）に噛み合わされており、送り
ネジ８を回転させることにより、ナットに固定されたＹ
方向レール２はＸ方向に移動する。
【０００９】Ｙ方向の送りネジ４およびＸ方向の送りネ
ジ８には、それぞれエンコーダ１１，１２が取り付けら
れており、それぞれの送りネジの回転数に応じた信号が
得られる。このエンコーダ１１，１２からの信号によ
り、試料台１のＸ方向、Ｙ方向の移動距離が求められ、
この距離に応じて試料台１の位置決めが行われる。
ジ８には、それぞれエンコーダ１１，１２が取り付けら
れており、それぞれの送りネジの回転数に応じた信号が
得られる。このエンコーダ１１，１２からの信号によ
り、試料台１のＸ方向、Ｙ方向の移動距離が求められ、
この距離に応じて試料台１の位置決めが行われる。
【００１０】なお、図示していないが、Ｘ方向レール３
は試料台１を傾斜させる傾斜枠上に載せられており、傾
斜枠を傾斜させる中空の傾斜軸が試料室壁５に設けられ
ている。そして、中空の傾斜軸の内部を貫通して、駆動
軸７と駆動軸１０とが設けられている。
は試料台１を傾斜させる傾斜枠上に載せられており、傾
斜枠を傾斜させる中空の傾斜軸が試料室壁５に設けられ
ている。そして、中空の傾斜軸の内部を貫通して、駆動
軸７と駆動軸１０とが設けられている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】上記した構成で、試料
台１の位置決めをエンコーダ１１と１２の出力によって
行う場合、送りネジ４，８のリード誤差（ピッチむ
ら）、Ｘ，Ｙ方向レール３，２の歪等により、５〜１０
μｍの位置決め誤差が発生してしまう。これらは各構成
部品の精度を厳しく製作したとしても、改善されないも
のである。
台１の位置決めをエンコーダ１１と１２の出力によって
行う場合、送りネジ４，８のリード誤差（ピッチむ
ら）、Ｘ，Ｙ方向レール３，２の歪等により、５〜１０
μｍの位置決め誤差が発生してしまう。これらは各構成
部品の精度を厳しく製作したとしても、改善されないも
のである。
【００１２】試料台１の精密な位置合わせのために、レ
ーザ測長器が広く使用されている。しかしながら、図１
の構成で傾斜枠上にレーザ測長器の必要な構成部品を配
置した場合、傾斜枠の中心に沿って干渉光を試料室壁外
部に取り出す必要があるが、傾斜中心には傾斜枠の傾斜
軸７，１０が配置されているので、実際には干渉光を外
部に取り出すことができない。したがって、傾斜機構が
備えられたステージにおけるレーザ測長器を用いた試料
の位置合わせは困難である。
ーザ測長器が広く使用されている。しかしながら、図１
の構成で傾斜枠上にレーザ測長器の必要な構成部品を配
置した場合、傾斜枠の中心に沿って干渉光を試料室壁外
部に取り出す必要があるが、傾斜中心には傾斜枠の傾斜
軸７，１０が配置されているので、実際には干渉光を外
部に取り出すことができない。したがって、傾斜機構が
備えられたステージにおけるレーザ測長器を用いた試料
の位置合わせは困難である。
【００１３】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、傾斜機構を備えた試料装置におい
て試料の位置合わせをレーザ測長器を用いて行うことが
できる試料装置を実現するにある。
もので、その目的は、傾斜機構を備えた試料装置におい
て試料の位置合わせをレーザ測長器を用いて行うことが
できる試料装置を実現するにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】第１の発明に基づく荷電
粒子ビーム装置における試料装置は、荷電粒子ビームを
細く絞って試料上に照射すると共に、試料上で荷電粒子
ビームを２次元的に走査し、試料への荷電粒子ビームの
照射によって得られた信号を検出し、検出信号に基づい
て試料の走査像を表示すると共に、試料を傾斜機構上に
載置し、傾斜機構によって試料を傾斜させるようにした
荷電粒子ビーム装置において、試料が載せられる試料台
を傾斜枠の上に配置し、傾斜枠上で試料台をＸ方向とＹ
方向に移動できるように構成すると共に、試料台にＸ方
向とＹ方向の移動鏡を配置し、傾斜枠と一体的に移動す
るＸ方向の干渉計とＹ方向の干渉計を設け、Ｘ方向の干
渉計からの測定光をＸ方向移動鏡に照射し、Ｙ方向の干
渉計からの測定光をＹ方向移動鏡に照射するように構成
したことを特徴としている。
粒子ビーム装置における試料装置は、荷電粒子ビームを
細く絞って試料上に照射すると共に、試料上で荷電粒子
ビームを２次元的に走査し、試料への荷電粒子ビームの
照射によって得られた信号を検出し、検出信号に基づい
て試料の走査像を表示すると共に、試料を傾斜機構上に
載置し、傾斜機構によって試料を傾斜させるようにした
荷電粒子ビーム装置において、試料が載せられる試料台
を傾斜枠の上に配置し、傾斜枠上で試料台をＸ方向とＹ
方向に移動できるように構成すると共に、試料台にＸ方
向とＹ方向の移動鏡を配置し、傾斜枠と一体的に移動す
るＸ方向の干渉計とＹ方向の干渉計を設け、Ｘ方向の干
渉計からの測定光をＸ方向移動鏡に照射し、Ｙ方向の干
渉計からの測定光をＹ方向移動鏡に照射するように構成
したことを特徴としている。
【００１５】第１の発明では、レーザー測長器を構成す
る移動鏡を試料台上に設け、Ｘ方向とＹ方向の干渉計を
試料台を傾斜させる傾斜枠上に配置し、試料台の傾斜に
よっても干渉計と移動鏡との位置関係が変化しないよう
にした。
る移動鏡を試料台上に設け、Ｘ方向とＹ方向の干渉計を
試料台を傾斜させる傾斜枠上に配置し、試料台の傾斜に
よっても干渉計と移動鏡との位置関係が変化しないよう
にした。
【００１６】第２の発明では、第１の発明において、傾
斜枠を傾斜させるための傾斜軸を試料台が配置される試
料室の壁部分を貫通して配置し、試料室の外側部分の傾
斜軸上にレーザー干渉計を構成するレーザー光源とＸ方
向干渉計とＹ方向の干渉計からの干渉光を検出する検出
器を配置し、中空とされた傾斜軸の中をレーザー光源か
らの光と干渉計からの光を通すように構成した。
斜枠を傾斜させるための傾斜軸を試料台が配置される試
料室の壁部分を貫通して配置し、試料室の外側部分の傾
斜軸上にレーザー干渉計を構成するレーザー光源とＸ方
向干渉計とＹ方向の干渉計からの干渉光を検出する検出
器を配置し、中空とされた傾斜軸の中をレーザー光源か
らの光と干渉計からの光を通すように構成した。
【００１７】第２の発明では、レーザー測長器を構成す
るレーザー光源、干渉計、移動鏡、検出器を傾斜枠と一
体的に傾斜するように構成し、試料台の傾斜によっても
各構成要素の位置関係が変化しないようにした。
るレーザー光源、干渉計、移動鏡、検出器を傾斜枠と一
体的に傾斜するように構成し、試料台の傾斜によっても
各構成要素の位置関係が変化しないようにした。
【００１８】第３の発明では、第１の発明において、傾
斜枠を傾斜させるための傾斜軸を試料台が配置される試
料室の壁部分を貫通して配置し、試料室の外側部分にレ
ーザー干渉計を構成するレーザー光源とＸ方向干渉計と
Ｙ方向の干渉計からの干渉光を検出する検出器を配置
し、中空とされた傾斜軸の中を干渉計からの光を検出器
に導く光ファイバーを通すように構成した。
斜枠を傾斜させるための傾斜軸を試料台が配置される試
料室の壁部分を貫通して配置し、試料室の外側部分にレ
ーザー干渉計を構成するレーザー光源とＸ方向干渉計と
Ｙ方向の干渉計からの干渉光を検出する検出器を配置
し、中空とされた傾斜軸の中を干渉計からの光を検出器
に導く光ファイバーを通すように構成した。
【００１９】第３の発明では、干渉計と検出器との間を
光ファイバーで結び、検出器の設置位置の自由度を持た
せるようにした。第４の発明では、第１〜第３のいずれ
かの発明において、傾斜枠を傾斜させる傾斜軸を傾斜枠
の両端に設け、それぞれの傾斜軸が試料室の壁部分に支
持されるように構成した。
光ファイバーで結び、検出器の設置位置の自由度を持た
せるようにした。第４の発明では、第１〜第３のいずれ
かの発明において、傾斜枠を傾斜させる傾斜軸を傾斜枠
の両端に設け、それぞれの傾斜軸が試料室の壁部分に支
持されるように構成した。
【００２０】第５の発明では、第１〜第３のいずれかの
発明において、傾斜枠を傾斜させる傾斜軸を傾斜枠の一
方の端部に設け、その傾斜軸が試料室の壁部分に支持さ
れるように構成した。
発明において、傾斜枠を傾斜させる傾斜軸を傾斜枠の一
方の端部に設け、その傾斜軸が試料室の壁部分に支持さ
れるように構成した。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図２は、本発明に基づく試
料装置の平面図、図３はその側面図を示しており、図１
に示した従来装置と同一ないしは類似の構成要素には同
一番号を付してある。図において１は試料が載せられる
試料台である。試料台１はＹ方向レール２の上にＹ方向
に移動できるように配置されているが、Ｙ方向レール２
は傾斜枠１５上のＸ方向レール３上にＸ方向に移動でき
るように配置されている。
施の形態を詳細に説明する。図２は、本発明に基づく試
料装置の平面図、図３はその側面図を示しており、図１
に示した従来装置と同一ないしは類似の構成要素には同
一番号を付してある。図において１は試料が載せられる
試料台である。試料台１はＹ方向レール２の上にＹ方向
に移動できるように配置されているが、Ｙ方向レール２
は傾斜枠１５上のＸ方向レール３上にＸ方向に移動でき
るように配置されている。
【００２２】Ｙ方向レール２上にはＹ方向送りネジ４が
設けられ、送りネジ４は試料室壁５の外部に配置された
モータによって回転させられる。なお、図２において
は、このＹ方向送りネジ、モータ、モータの回転を伝達
するユニバーサルジョイントを含む駆動軸は図示されて
いない。
設けられ、送りネジ４は試料室壁５の外部に配置された
モータによって回転させられる。なお、図２において
は、このＹ方向送りネジ、モータ、モータの回転を伝達
するユニバーサルジョイントを含む駆動軸は図示されて
いない。
【００２３】Ｙ方向送りネジ４は試料台１の底部に固定
されたナット（図示せず）に噛み合わされており、Ｙ方
向送りネジ４を回転させることにより、ナットに固定さ
れた試料台１はＹ方向に移動する。
されたナット（図示せず）に噛み合わされており、Ｙ方
向送りネジ４を回転させることにより、ナットに固定さ
れた試料台１はＹ方向に移動する。
【００２４】Ｘ方向レール３が設けられた傾斜枠１５上
には送りネジ８が設けられ、送りネジ８は試料室壁５の
外部に配置されたモータ９によって回転させられる。モ
ータ９の回転は、ユニバーサルジョイントを含む駆動軸
１０によって送りネジ８に伝えられる。
には送りネジ８が設けられ、送りネジ８は試料室壁５の
外部に配置されたモータ９によって回転させられる。モ
ータ９の回転は、ユニバーサルジョイントを含む駆動軸
１０によって送りネジ８に伝えられる。
【００２５】送りネジ８はＹ方向レール２の底部に固定
されたナット１６に噛み合わされており、送りネジ８を
回転させることにより、ナット１６に固定されたＹ方向
レール２および試料台１はＸ方向に移動する。
されたナット１６に噛み合わされており、送りネジ８を
回転させることにより、ナット１６に固定されたＹ方向
レール２および試料台１はＸ方向に移動する。
【００２６】傾斜枠１５は、傾斜軸１７に接続されてお
り、傾斜軸１７を回転させることにより、試料台１上に
載置される試料１８の表面を軸として傾斜できるように
構成されている。
り、傾斜軸１７を回転させることにより、試料台１上に
載置される試料１８の表面を軸として傾斜できるように
構成されている。
【００２７】傾斜軸１７は中空軸とされており、その内
部には、傾斜軸１７と一体的に回転するレーザー光源１
９からのレーザー光Ｌ１が通される。なお、このレーザ
ー光源１９からのレーザー光Ｌ１の軸は、傾斜枠１５の
傾斜中心軸と一致されている。
部には、傾斜軸１７と一体的に回転するレーザー光源１
９からのレーザー光Ｌ１が通される。なお、このレーザ
ー光源１９からのレーザー光Ｌ１の軸は、傾斜枠１５の
傾斜中心軸と一致されている。
【００２８】レーザー光源１９からの光Ｌ１は、ガラス
窓２０を透過して試料室内に入り、傾斜枠１５に固定さ
れ傾斜枠１５と一体的に移動する台１５ａの上に配置さ
れたビームスプリッター２１によって２つの光に分割さ
れる。分割された一方の光Ｌ２（透過した光）は、台１
５ａ上に配置されたＸ方向干渉計２２に入射する。干渉
計２２を透過した光は試料台１上のＬ字状の移動鏡２３
に入射して反射される。
窓２０を透過して試料室内に入り、傾斜枠１５に固定さ
れ傾斜枠１５と一体的に移動する台１５ａの上に配置さ
れたビームスプリッター２１によって２つの光に分割さ
れる。分割された一方の光Ｌ２（透過した光）は、台１
５ａ上に配置されたＸ方向干渉計２２に入射する。干渉
計２２を透過した光は試料台１上のＬ字状の移動鏡２３
に入射して反射される。
【００２９】干渉計２２においては、ビームスプリッタ
２１から入射した光Ｌ２を分割し、一方の透過した光を
移動鏡２３に照射し、他方の反射された光を参照光と
し、それぞれの光を干渉させている。干渉した光は、ビ
ームスプリッタ２１を透過し、試料室壁５の外側に配置
された検出器２４に入射して検出される。
２１から入射した光Ｌ２を分割し、一方の透過した光を
移動鏡２３に照射し、他方の反射された光を参照光と
し、それぞれの光を干渉させている。干渉した光は、ビ
ームスプリッタ２１を透過し、試料室壁５の外側に配置
された検出器２４に入射して検出される。
【００３０】レーザー光源１９から発生しビームスプリ
ッタ２１によって反射された他方の光Ｌ３は、台１５ａ
上に固定された反射鏡２５によって反射され、台１５ａ
上のＹ方向干渉計２６に入射する。干渉計２６によって
反射された光は、試料台１上のＬ字状の移動鏡２３に入
射して反射される。
ッタ２１によって反射された他方の光Ｌ３は、台１５ａ
上に固定された反射鏡２５によって反射され、台１５ａ
上のＹ方向干渉計２６に入射する。干渉計２６によって
反射された光は、試料台１上のＬ字状の移動鏡２３に入
射して反射される。
【００３１】干渉計２６においては、ビームスプリッタ
２１から入射した光Ｌ３を分割し、一方の反射した光を
移動鏡２３に照射し、他方の透過した光を参照光とし、
それぞれの光を干渉させている。干渉した光は、反射鏡
２５によって反射され、ビームスプリッタ２１によって
反射され、試料室壁５の外側に配置された検出器２７に
入射して検出される。
２１から入射した光Ｌ３を分割し、一方の反射した光を
移動鏡２３に照射し、他方の透過した光を参照光とし、
それぞれの光を干渉させている。干渉した光は、反射鏡
２５によって反射され、ビームスプリッタ２１によって
反射され、試料室壁５の外側に配置された検出器２７に
入射して検出される。
【００３２】図４は、上記したレーザー光源１９からの
レーザー光Ｌ１と、ビームスプリッタ２１によって分割
された２種の光Ｌ２、Ｌ３、Ｘ方向干渉計２２、移動鏡
２３を示している。
レーザー光Ｌ１と、ビームスプリッタ２１によって分割
された２種の光Ｌ２、Ｌ３、Ｘ方向干渉計２２、移動鏡
２３を示している。
【００３３】上記した構成で、試料１８のＸ方向の移動
は、モータ９を回転させ、送りネジ８を回転させること
により送りネジ８と噛み合わされたナットを駆動し、Ｙ
レール２をＸ方向に移動させることによって行われる。
また、Ｙ方向の移動は、送りネジ４を回転させ試料台１
をＹ方向に移動させることによって行われる。更に、試
料１８の傾斜は、傾斜軸１７を回転させ、傾斜枠１５を
傾けることにより、傾斜枠１５上に載せられた各構成要
素を傾斜させることによって行われる。
は、モータ９を回転させ、送りネジ８を回転させること
により送りネジ８と噛み合わされたナットを駆動し、Ｙ
レール２をＸ方向に移動させることによって行われる。
また、Ｙ方向の移動は、送りネジ４を回転させ試料台１
をＹ方向に移動させることによって行われる。更に、試
料１８の傾斜は、傾斜軸１７を回転させ、傾斜枠１５を
傾けることにより、傾斜枠１５上に載せられた各構成要
素を傾斜させることによって行われる。
【００３４】ここで、送りネジ８を回転させ、試料１８
（試料台１）をＸ方向に移動させた場合、Ｘ方向干渉計
２２における測定光（移動鏡２３によって反射された
光）の長さが変化し、干渉計２２における参照光との干
渉光の強度が変化する。干渉計２２における干渉光は、
検出器２４によって検出される。検出信号は図示してい
ない測長演算器に供給され、試料台１のＸ方向の移動距
離が測定される。
（試料台１）をＸ方向に移動させた場合、Ｘ方向干渉計
２２における測定光（移動鏡２３によって反射された
光）の長さが変化し、干渉計２２における参照光との干
渉光の強度が変化する。干渉計２２における干渉光は、
検出器２４によって検出される。検出信号は図示してい
ない測長演算器に供給され、試料台１のＸ方向の移動距
離が測定される。
【００３５】次に、送りネジ４を回転させ、試料１８
（試料台１）をＹ方向に移動させた場合、Ｙ方向干渉計
２６における測定光（移動鏡２３によって反射された
光）の長さが変化し、干渉計２６における参照光との干
渉光の強度が変化する。干渉計２６における干渉光は、
検出器２７によって検出される。検出信号は図示してい
ない測長演算器に供給され、試料台１のＹ方向の移動距
離が測定される。
（試料台１）をＹ方向に移動させた場合、Ｙ方向干渉計
２６における測定光（移動鏡２３によって反射された
光）の長さが変化し、干渉計２６における参照光との干
渉光の強度が変化する。干渉計２６における干渉光は、
検出器２７によって検出される。検出信号は図示してい
ない測長演算器に供給され、試料台１のＹ方向の移動距
離が測定される。
【００３６】このように、上記した構成では、試料台１
に移動鏡２３を固定し、更に、移動台１を傾斜させる傾
斜枠１５に測定光と参照光を干渉させる干渉計２２，２
６を一体的に配置したので、試料台１の傾斜によっても
レーザー光軸がずれることがない。したがって、試料台
１の移動距離をレーザー測長器を用いて正確に測定する
ことが可能となり、試料の位置決めを正確に行うことが
できる。
に移動鏡２３を固定し、更に、移動台１を傾斜させる傾
斜枠１５に測定光と参照光を干渉させる干渉計２２，２
６を一体的に配置したので、試料台１の傾斜によっても
レーザー光軸がずれることがない。したがって、試料台
１の移動距離をレーザー測長器を用いて正確に測定する
ことが可能となり、試料の位置決めを正確に行うことが
できる。
【００３７】図５は本発明の他の実施の形態を示してい
る。図５において、Ｘ方向干渉計２２において干渉され
た光は、光ファイバー３０を介して検出器２４に供給さ
れ、Ｙ方向干渉計２６において干渉された光は、光ファ
イバー３１を介して検出器２７に供給される。なお、こ
の図５においてレーザー光源と、光源から各干渉計２
２，２６に供給される光の光路については除かれてい
る。
る。図５において、Ｘ方向干渉計２２において干渉され
た光は、光ファイバー３０を介して検出器２４に供給さ
れ、Ｙ方向干渉計２６において干渉された光は、光ファ
イバー３１を介して検出器２７に供給される。なお、こ
の図５においてレーザー光源と、光源から各干渉計２
２，２６に供給される光の光路については除かれてい
る。
【００３８】この図５の構成では、傾斜枠１５の大気側
に配置する検出器２４，２７、レーザー光源等は、傾斜
枠と一体的に回転する台の上に載せる必要がなくなり、
それらを試料室の回りの自由な位置に配置することがで
きる。もちろん、傾斜枠と一体的に回転する台の上に載
せたとしても、それらの配置は自由にできる。
に配置する検出器２４，２７、レーザー光源等は、傾斜
枠と一体的に回転する台の上に載せる必要がなくなり、
それらを試料室の回りの自由な位置に配置することがで
きる。もちろん、傾斜枠と一体的に回転する台の上に載
せたとしても、それらの配置は自由にできる。
【００３９】図６は本発明の更に他の実施の形態を示し
ており、この形態では、傾斜枠１５の両端を試料室壁５
で支持した図２，図３の両持ちの構成に代え、傾斜枠１
５の一方の端部のみを支持した片持ちの構成としてい
る。
ており、この形態では、傾斜枠１５の両端を試料室壁５
で支持した図２，図３の両持ちの構成に代え、傾斜枠１
５の一方の端部のみを支持した片持ちの構成としてい
る。
【００４０】以上本発明の実施の形態を詳述したが、本
発明はこの形態に限定されない。例えば、本発明は走査
電子顕微鏡等の電子ビーム装置のみならず、試料上で細
く絞ったイオンビームを走査するようにしたに走査型イ
オンビーム装置にも適用することができる。また、試料
台を２次元的に移動させ、更に傾斜させる場合について
説明したが、傾斜枠上に試料台の回転機構を設けるよう
に構成しても良い。
発明はこの形態に限定されない。例えば、本発明は走査
電子顕微鏡等の電子ビーム装置のみならず、試料上で細
く絞ったイオンビームを走査するようにしたに走査型イ
オンビーム装置にも適用することができる。また、試料
台を２次元的に移動させ、更に傾斜させる場合について
説明したが、傾斜枠上に試料台の回転機構を設けるよう
に構成しても良い。
【００４１】
【発明の効果】以上説明したように、第１の発明では、
試料が載せられる試料台を傾斜枠の上に配置し、傾斜枠
上で試料台をＸ方向とＹ方向に移動できるように構成す
ると共に、試料台にＸ方向とＹ方向の移動鏡を配置し、
傾斜枠と一体的に移動するＸ方向の干渉計とＹ方向の干
渉計を配置し、Ｘ方向の干渉計からの測定光をＸ方向移
動鏡に照射し、Ｙ方向の干渉計からの測定光をＹ方向移
動鏡に照射するように構成した。この結果、試料台の傾
斜によっても干渉計と移動鏡との位置関係が変化しない
ので、傾斜機構を用いた試料装置であっても、レーザー
測長器によって試料の２次元的な位置合わせを正確に行
うことができる。
試料が載せられる試料台を傾斜枠の上に配置し、傾斜枠
上で試料台をＸ方向とＹ方向に移動できるように構成す
ると共に、試料台にＸ方向とＹ方向の移動鏡を配置し、
傾斜枠と一体的に移動するＸ方向の干渉計とＹ方向の干
渉計を配置し、Ｘ方向の干渉計からの測定光をＸ方向移
動鏡に照射し、Ｙ方向の干渉計からの測定光をＹ方向移
動鏡に照射するように構成した。この結果、試料台の傾
斜によっても干渉計と移動鏡との位置関係が変化しない
ので、傾斜機構を用いた試料装置であっても、レーザー
測長器によって試料の２次元的な位置合わせを正確に行
うことができる。
【００４２】第２の発明では、第１の発明において、傾
斜枠を傾斜させるための傾斜軸を試料台が配置される試
料室の壁部分を貫通して配置し、試料室の外側部分の傾
斜軸上にレーザー干渉計を構成するレーザー光源とＸ方
向干渉計とＹ方向の干渉計からの干渉光を検出する検出
器を配置し、中空とされた傾斜軸の中をレーザー光源か
らの光と干渉計からの光を通すように構成した。この結
果、レーザー測長器を構成するレーザー光源、干渉計、
移動鏡、検出器が傾斜枠と一体的に傾斜するので、試料
台の傾斜によっても各構成要素の位置関係が変化せず、
レーザー測長器によって試料の２次元的な位置合わせを
正確に行うことができる。
斜枠を傾斜させるための傾斜軸を試料台が配置される試
料室の壁部分を貫通して配置し、試料室の外側部分の傾
斜軸上にレーザー干渉計を構成するレーザー光源とＸ方
向干渉計とＹ方向の干渉計からの干渉光を検出する検出
器を配置し、中空とされた傾斜軸の中をレーザー光源か
らの光と干渉計からの光を通すように構成した。この結
果、レーザー測長器を構成するレーザー光源、干渉計、
移動鏡、検出器が傾斜枠と一体的に傾斜するので、試料
台の傾斜によっても各構成要素の位置関係が変化せず、
レーザー測長器によって試料の２次元的な位置合わせを
正確に行うことができる。
【００４３】第３の発明では、第１の発明において、傾
斜枠を傾斜させるための傾斜軸を試料台が配置される試
料室の壁部分を貫通して配置し、試料室の外側部分にレ
ーザー干渉計を構成するレーザー光源とＸ方向干渉計と
Ｙ方向の干渉計からの干渉光を検出する検出器を配置
し、中空とされた傾斜軸の中を干渉計からの光を検出器
に導く光ファイバーを通すように構成した。この結果、
干渉計と検出器との間が柔軟性のある光ファイバーで結
ばれるので、検出器の設置位置の自由度を持たせること
ができる。
斜枠を傾斜させるための傾斜軸を試料台が配置される試
料室の壁部分を貫通して配置し、試料室の外側部分にレ
ーザー干渉計を構成するレーザー光源とＸ方向干渉計と
Ｙ方向の干渉計からの干渉光を検出する検出器を配置
し、中空とされた傾斜軸の中を干渉計からの光を検出器
に導く光ファイバーを通すように構成した。この結果、
干渉計と検出器との間が柔軟性のある光ファイバーで結
ばれるので、検出器の設置位置の自由度を持たせること
ができる。
【００４４】第４の発明では、第１〜第３のいずれかの
発明において、傾斜枠を傾斜させる傾斜軸を傾斜枠の両
端に設け、それぞれの傾斜軸が試料室の壁部分に支持さ
れるように構成したので、第１の発明と同様な効果を有
する。
発明において、傾斜枠を傾斜させる傾斜軸を傾斜枠の両
端に設け、それぞれの傾斜軸が試料室の壁部分に支持さ
れるように構成したので、第１の発明と同様な効果を有
する。
【００４５】第５の発明では、第１〜第３のいずれかの
発明において、傾斜枠を傾斜させる傾斜軸を傾斜枠の一
方の端部に設け、その傾斜軸が試料室の壁部分に支持さ
れるように構成したので、第１の発明と同様な効果を有
する。
発明において、傾斜枠を傾斜させる傾斜軸を傾斜枠の一
方の端部に設け、その傾斜軸が試料室の壁部分に支持さ
れるように構成したので、第１の発明と同様な効果を有
する。
【図１】従来の走査電子顕微鏡等の試料装置を示す図で
ある。
ある。
【図２】本発明に基づく試料装置の平面図である。
【図３】図２の試料装置の側面図である。
【図４】図２の構成におけるビームスプリッタ、干渉
計、移動鏡を示す図である。
計、移動鏡を示す図である。
【図５】本発明の他の実施の形態を示す図である。
【図６】本発明に基づく更に他の実施の形態を示す図で
ある。
ある。
１ 試料台 ２ Ｙレール ３ Ｘレール ４，８ 送りネジ ５ 試料室壁 ６，９ モータ ７，１０ 駆動軸 １５ 傾斜枠 １７ 傾斜軸 １８ 試料 １９ レーザー光源 ２０ ガラス窓 ２１ ビームスプリッタ ２２，２６ 干渉計 ２３ 移動鏡 ２４，２７ 検出器
Claims (5)
- 【請求項１】 荷電粒子ビームを細く絞って試料上に照
射すると共に、試料上で荷電粒子ビームを２次元的に走
査し、試料への荷電粒子ビームの照射によって得られた
信号を検出し、検出信号に基づいて試料の走査像を表示
すると共に、試料を傾斜機構上に載置し、傾斜機構によ
って試料を傾斜させるようにした荷電粒子ビーム装置に
おいて、試料が載せられる試料台を傾斜枠の上に配置
し、傾斜枠上で試料台をＸ方向とＹ方向に移動できるよ
うに構成すると共に、試料台にＸ方向とＹ方向の移動鏡
を配置し、傾斜枠と一体的に移動するＸ方向の干渉計と
Ｙ方向の干渉計を設け、Ｘ方向の干渉計からの測定光を
Ｘ方向移動鏡に照射し、Ｙ方向の干渉計からの測定光を
Ｙ方向移動鏡に照射するように構成した荷電粒子ビーム
装置における試料装置。 - 【請求項２】 傾斜枠を傾斜させるための傾斜軸を試料
台が配置される試料室の壁部分を貫通して配置し、試料
室の外側部分の傾斜軸上にレーザー干渉計を構成するレ
ーザー光源とＸ方向干渉計とＹ方向の干渉計からの干渉
光を検出する検出器を配置し、中空とされた傾斜軸の中
をレーザー光源からの光と干渉計からの光を通すように
構成した請求項１記載の荷電粒子ビーム装置における試
料装置。 - 【請求項３】 傾斜枠を傾斜させるための傾斜軸を試料
台が配置される試料室の壁部分を貫通して配置し、試料
室の外側部分にレーザー干渉計を構成するレーザー光源
とＸ方向干渉計とＹ方向の干渉計からの干渉光を検出す
る検出器を配置し、中空とされた傾斜軸の中を干渉計か
らの光を検出器に導く光ファイバーを通すように構成し
た請求項１記載の荷電粒子ビーム装置における試料装
置。 - 【請求項４】 傾斜枠を傾斜させる傾斜軸が傾斜枠の両
端に設けられ、それぞれの傾斜軸が試料室の壁部分に支
持される請求項１〜３のいずれかに記載の荷電粒子ビー
ム装置における試料装置。 - 【請求項５】 傾斜枠を傾斜させる傾斜軸が傾斜枠の一
方の端部に設けられ、その傾斜軸が試料室の壁部分に支
持される請求項１〜３のいずれかに記載の荷電粒子ビー
ム装置における試料装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01130598A JP3774558B2 (ja) | 1998-01-23 | 1998-01-23 | 荷電粒子ビーム装置における試料装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01130598A JP3774558B2 (ja) | 1998-01-23 | 1998-01-23 | 荷電粒子ビーム装置における試料装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11213932A true JPH11213932A (ja) | 1999-08-06 |
| JP3774558B2 JP3774558B2 (ja) | 2006-05-17 |
Family
ID=11774305
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01130598A Expired - Fee Related JP3774558B2 (ja) | 1998-01-23 | 1998-01-23 | 荷電粒子ビーム装置における試料装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3774558B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006252800A (ja) * | 2005-03-08 | 2006-09-21 | Jeol Ltd | 走査型電子顕微鏡 |
| WO2022042779A1 (en) | 2020-08-27 | 2022-03-03 | Tescan Brno, S.R.O. | Tilting element of manipulation stage |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59146145A (ja) * | 1983-02-09 | 1984-08-21 | Akashi Seisakusho Co Ltd | 試料移動装置 |
| JPS63159706U (ja) * | 1987-04-08 | 1988-10-19 | ||
| JPH06283124A (ja) * | 1993-03-25 | 1994-10-07 | Agency Of Ind Science & Technol | 荷電ビーム装置 |
| JPH07272661A (ja) * | 1994-03-29 | 1995-10-20 | Hitachi Ltd | 走査形電子顕微鏡の試料微動装置 |
| JPH07296759A (ja) * | 1994-04-26 | 1995-11-10 | Hitachi Ltd | 半導体素子の観察方法及びそれに用いる走査形電子顕微鏡 |
| JPH08180826A (ja) * | 1994-12-21 | 1996-07-12 | Nikon Corp | 走査型電子顕微鏡 |
| JPH09223477A (ja) * | 1996-02-14 | 1997-08-26 | Hitachi Ltd | 走査型電子顕微鏡 |
| JPH09244718A (ja) * | 1996-03-13 | 1997-09-19 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 数値制御工作機械の全自動測定システム、全自動測定方法及び数値制御工作機械 |
-
1998
- 1998-01-23 JP JP01130598A patent/JP3774558B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59146145A (ja) * | 1983-02-09 | 1984-08-21 | Akashi Seisakusho Co Ltd | 試料移動装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006252800A (ja) * | 2005-03-08 | 2006-09-21 | Jeol Ltd | 走査型電子顕微鏡 |
| WO2022042779A1 (en) | 2020-08-27 | 2022-03-03 | Tescan Brno, S.R.O. | Tilting element of manipulation stage |
| CZ309523B6 (cs) * | 2020-08-27 | 2023-03-22 | Tescan Brno, S.R.O. | Naklápěcí prvek manipulačního stolku |
| CN116018664A (zh) * | 2020-08-27 | 2023-04-25 | 特斯坎布尔诺公司 | 操控台的倾斜元件 |
| CN116018664B (zh) * | 2020-08-27 | 2024-10-11 | 特斯坎集团股份有限公司 | 操控台的倾斜元件 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3774558B2 (ja) | 2006-05-17 |
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