JPH11214771A - ガスレーザ発振装置 - Google Patents
ガスレーザ発振装置Info
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- H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
- H01S3/225—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex
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- Optics & Photonics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 レーザガスの流れを整えることで、放電生成
物が滞留し再び主放電空間中に放出されるのを防ぎ、主
放電空間中のレーザガスの純度を維持させ、主放電を安
定させてレーザ出力のばらつきを小さくする。 【解決手段】 主放電電極（１）と１対のコロナ予備電
離電極（１２）との間の隙間（Ｓ１，Ｓ２）に、支持盤
（６）の上面から起点（１１）の高さまで導体（１０）
を介在させるようにする。
物が滞留し再び主放電空間中に放出されるのを防ぎ、主
放電空間中のレーザガスの純度を維持させ、主放電を安
定させてレーザ出力のばらつきを小さくする。 【解決手段】 主放電電極（１）と１対のコロナ予備電
離電極（１２）との間の隙間（Ｓ１，Ｓ２）に、支持盤
（６）の上面から起点（１１）の高さまで導体（１０）
を介在させるようにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、コロナ放電によ
る紫外光予備電離を用いた放電励起型ガスレーザ発振装
置に関し、特にコロナ放電および主放電発生部の構造の
改良に関する。
る紫外光予備電離を用いた放電励起型ガスレーザ発振装
置に関し、特にコロナ放電および主放電発生部の構造の
改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＴＥＡ（ Transversly Excited Atmosph
eric）レーザは、一対の対向する主電極によって構成さ
れる主放電空間に存在する１気圧以上の気体に、均一な
グロー放電を発生させることにより、レーザ発振に必要
な反転分布領域を形成してレーザ発振を行う方式であ
る。このＴＥＡレーザにおいて、主放電空間中の気体全
体に均一なグロー放電を得るには、主放電を開始する前
に、主放電空間中の気体全体を予備電離させる必要があ
る。特に、エキシマレーザの場合は、主放電に用いられ
る希ガス中での電子の寿命が短いため、寿命時間内に励
起を行わない限り、反転分布が形成されないことから、
主放電の直前にできるだけ多く主放電空間中の希ガス全
体を電離させておく必要がある。現在、予備電離方式と
しては、Ｘ線、スパーク放電、コロナ放電などを使った
様々な方式があるが、中でもコロナ放電を使った方式
は、比較的簡便で主放電空間中の気体への汚染が少ない
ことから、容量移行型の予備電離方式として広く使用さ
れている。
eric）レーザは、一対の対向する主電極によって構成さ
れる主放電空間に存在する１気圧以上の気体に、均一な
グロー放電を発生させることにより、レーザ発振に必要
な反転分布領域を形成してレーザ発振を行う方式であ
る。このＴＥＡレーザにおいて、主放電空間中の気体全
体に均一なグロー放電を得るには、主放電を開始する前
に、主放電空間中の気体全体を予備電離させる必要があ
る。特に、エキシマレーザの場合は、主放電に用いられ
る希ガス中での電子の寿命が短いため、寿命時間内に励
起を行わない限り、反転分布が形成されないことから、
主放電の直前にできるだけ多く主放電空間中の希ガス全
体を電離させておく必要がある。現在、予備電離方式と
しては、Ｘ線、スパーク放電、コロナ放電などを使った
様々な方式があるが、中でもコロナ放電を使った方式
は、比較的簡便で主放電空間中の気体への汚染が少ない
ことから、容量移行型の予備電離方式として広く使用さ
れている。
【０００３】図１１は、従来のコロナ予備電離電極を用
いたエキシマレーザ装置の構成を示すものである。
いたエキシマレーザ装置の構成を示すものである。
【０００４】このエキシマレーザ装置は、互いに対向配
置した一対の主放電電極１，２を備える放電発生部と、
Ｋｒ＋Ｎｅ＋Ｆ2 等のレーザガスＧを矢印の方向へ循環
させるファン８と、レーザガスＧを冷却する熱交換器９
とから構成されている。
置した一対の主放電電極１，２を備える放電発生部と、
Ｋｒ＋Ｎｅ＋Ｆ2 等のレーザガスＧを矢印の方向へ循環
させるファン８と、レーザガスＧを冷却する熱交換器９
とから構成されている。
【０００５】放電発生部においては、一方の主放電電極
１の両側方にそれぞれ長手方向に沿って延びる幅Ｗの隙
間Ｓ１，Ｓ２をおいて対向するよう配した一対のコロナ
予備電離電極１２を主放電電極１とともに支持盤６の上
面に配設している。この隙間Ｓ１，Ｓ２は、予備電離電
極１２と各主放電電極１，２との距離の差を縮め、一方
の主放電電極１の近傍における放電空間の予備電離強度
と、他方の主放電電極２の近傍における放電空間の予備
電離強度との差を小さくして主放電空間を均一に予備電
離し、レーザ出力を安定させるために設けている。
１の両側方にそれぞれ長手方向に沿って延びる幅Ｗの隙
間Ｓ１，Ｓ２をおいて対向するよう配した一対のコロナ
予備電離電極１２を主放電電極１とともに支持盤６の上
面に配設している。この隙間Ｓ１，Ｓ２は、予備電離電
極１２と各主放電電極１，２との距離の差を縮め、一方
の主放電電極１の近傍における放電空間の予備電離強度
と、他方の主放電電極２の近傍における放電空間の予備
電離強度との差を小さくして主放電空間を均一に予備電
離し、レーザ出力を安定させるために設けている。
【０００６】コロナ予備電離電極１２は、それぞれ円柱
形の背後電極４が、円筒形の誘電体パイプ３の中空部に
配され、各誘電体パイプ３の外表面に断面Ｌ字形のコロ
ナ電極５の端部が接触する構成となっている。
形の背後電極４が、円筒形の誘電体パイプ３の中空部に
配され、各誘電体パイプ３の外表面に断面Ｌ字形のコロ
ナ電極５の端部が接触する構成となっている。
【０００７】かかる構成においては、主放電電極１，２
間で放電を発生させる前に、まず、背後電極４とコロナ
電極５との間に高電圧を印加し、コロナ電極５と誘電体
パイプ３との接触部を起点１１として誘電体パイプ３の
外表面に生じるコロナ放電によって、紫外光を発生させ
る。この紫外光中の高電圧によって加速された電子によ
り、主放電空間に満たされたレーザガスＧを予備電離す
る。次に、一対の主放電電極１，２相互間に高電圧が印
加されると、予備電離されたレーザガスＧが絶縁破壊を
起こし、主放電７が開始される。また、ファン８により
ガス流を作ってレーザガスＧを循環させ、前の放電で発
生した主放電空間中の荷電粒子や不均質な媒質を次の放
電までに流し去るようにして、高繰り返し周波数でのパ
ルス発振を可能にしている。
間で放電を発生させる前に、まず、背後電極４とコロナ
電極５との間に高電圧を印加し、コロナ電極５と誘電体
パイプ３との接触部を起点１１として誘電体パイプ３の
外表面に生じるコロナ放電によって、紫外光を発生させ
る。この紫外光中の高電圧によって加速された電子によ
り、主放電空間に満たされたレーザガスＧを予備電離す
る。次に、一対の主放電電極１，２相互間に高電圧が印
加されると、予備電離されたレーザガスＧが絶縁破壊を
起こし、主放電７が開始される。また、ファン８により
ガス流を作ってレーザガスＧを循環させ、前の放電で発
生した主放電空間中の荷電粒子や不均質な媒質を次の放
電までに流し去るようにして、高繰り返し周波数でのパ
ルス発振を可能にしている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のレーザ装置では、一方の主放電電極１と予備電離電
極１２との間に存在する隙間Ｓ１，Ｓ２にレーザガスＧ
の渦Ｇ′が発生するため、コロナ放電および主放電によ
って生じたフッ化金属等の放電生成物が隙間Ｓ１，Ｓ２
に滞留し、この放電生成物が再び主放電空間中に放出さ
れると、レーザガスＧの純度が低下して主放電７が不安
定になり、結果としてレーザ出力のばらつきが大きくな
るという問題があった。
来のレーザ装置では、一方の主放電電極１と予備電離電
極１２との間に存在する隙間Ｓ１，Ｓ２にレーザガスＧ
の渦Ｇ′が発生するため、コロナ放電および主放電によ
って生じたフッ化金属等の放電生成物が隙間Ｓ１，Ｓ２
に滞留し、この放電生成物が再び主放電空間中に放出さ
れると、レーザガスＧの純度が低下して主放電７が不安
定になり、結果としてレーザ出力のばらつきが大きくな
るという問題があった。
【０００９】本発明は、こうした実状に鑑みてなされた
もので、レーザガスの流れを整えることで、放電生成物
が滞留し再び主放電空間中に放出されるのを防ぎ、主放
電空間中のレーザガスの純度を維持させ、主放電を安定
させてレーザ出力のばらつきを小さくすることができる
ガスレーザ発振装置を提供することを目的とする。
もので、レーザガスの流れを整えることで、放電生成物
が滞留し再び主放電空間中に放出されるのを防ぎ、主放
電空間中のレーザガスの純度を維持させ、主放電を安定
させてレーザ出力のばらつきを小さくすることができる
ガスレーザ発振装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段および作用効果】上記目的
を達成するため第１の発明では、対向するよう配された
第１および第２の主放電電極と、中空状の誘電体パイプ
と、この誘電体パイプの中空部に配される背後電極と、
この誘電体パイプの外表面に接触されるように配される
コロナ電極とを有して成り、前記第１および第２の主放
電電極のうちの第１の主放電電極の側方で該第１の主放
電電極を挟むように該第１の主放電電極と所定の隙間を
それぞれおいて配設されるとともに、前記コロナ電極お
よび前記背後電極間に高電圧が印加されることによりコ
ロナ電極と前記誘電体パイプとの当接部を起点としたコ
ロナ放電を発生させて前記主放電空間に予備電離を発生
させる対の予備電離電極と、前記第１の主放電電極およ
び対の予備電離電極を固定支持する支持盤と、一方の予
備電離電極の側方から前記第１および第２の主放電電極
との間の主放電空間を経由して他方の予備電離電極の側
方へ流れるレーザガスと、を具え、前記誘電体パイプ表
面のコロナ放電の起点が前記第１の主放電電極の頂上部
の高さより低くなるようにコロナ電極を配置するように
したガスレーザ発振装置において、前記第１の主放電電
極と前記対の予備電離電極との間の各隙間に、前記支持
盤の上面から前記起点の高さまで物体を介在させるよう
にしている。
を達成するため第１の発明では、対向するよう配された
第１および第２の主放電電極と、中空状の誘電体パイプ
と、この誘電体パイプの中空部に配される背後電極と、
この誘電体パイプの外表面に接触されるように配される
コロナ電極とを有して成り、前記第１および第２の主放
電電極のうちの第１の主放電電極の側方で該第１の主放
電電極を挟むように該第１の主放電電極と所定の隙間を
それぞれおいて配設されるとともに、前記コロナ電極お
よび前記背後電極間に高電圧が印加されることによりコ
ロナ電極と前記誘電体パイプとの当接部を起点としたコ
ロナ放電を発生させて前記主放電空間に予備電離を発生
させる対の予備電離電極と、前記第１の主放電電極およ
び対の予備電離電極を固定支持する支持盤と、一方の予
備電離電極の側方から前記第１および第２の主放電電極
との間の主放電空間を経由して他方の予備電離電極の側
方へ流れるレーザガスと、を具え、前記誘電体パイプ表
面のコロナ放電の起点が前記第１の主放電電極の頂上部
の高さより低くなるようにコロナ電極を配置するように
したガスレーザ発振装置において、前記第１の主放電電
極と前記対の予備電離電極との間の各隙間に、前記支持
盤の上面から前記起点の高さまで物体を介在させるよう
にしている。
【００１１】かかる構成によれば、前記第１の主放電電
極と前記対の予備電離電極との間の各隙間に、前記支持
盤の上面から前記起点の高さまで物体を介在させるよう
にしたことで、前記隙間でのレーザガスの渦の発生が抑
制され、コロナ放電および主放電によって生じる放電生
成物の前記隙間への滞留を防ぐことができる。
極と前記対の予備電離電極との間の各隙間に、前記支持
盤の上面から前記起点の高さまで物体を介在させるよう
にしたことで、前記隙間でのレーザガスの渦の発生が抑
制され、コロナ放電および主放電によって生じる放電生
成物の前記隙間への滞留を防ぐことができる。
【００１２】これにより、放電生成物が再び主放電空間
中のレーザガスへ放出されることがなくなり、レーザガ
スの純度の低下を防ぐことができ、主放電を安定させる
ことができるので、結果としてレーザ出力のばらつきを
小さくすることができる。
中のレーザガスへ放出されることがなくなり、レーザガ
スの純度の低下を防ぐことができ、主放電を安定させる
ことができるので、結果としてレーザ出力のばらつきを
小さくすることができる。
【００１３】また、第２の発明では、対向するよう配さ
れた第１および第２の主放電電極と、前記第１および第
２の主放電電極のうちの第１の主放電電極の側方で該第
１の主放電電極を挟むように該第１の主放電電極と所定
の隙間をそれぞれおいて配設される対の予備電離電極
と、前記第１の主放電電極および対の予備電離電極を固
定支持する支持盤と、を具え、一方の予備電離電極の側
方から前記第１および第２の主放電電極との間の主放電
空間を経由して他方の予備電離電極の側方へレーザガス
を流すようにしたガスレーザ発振装置において、前記第
１の主放電電極に前記隙間の一方と他方とを結ぶ貫通孔
を形成するようにしている。
れた第１および第２の主放電電極と、前記第１および第
２の主放電電極のうちの第１の主放電電極の側方で該第
１の主放電電極を挟むように該第１の主放電電極と所定
の隙間をそれぞれおいて配設される対の予備電離電極
と、前記第１の主放電電極および対の予備電離電極を固
定支持する支持盤と、を具え、一方の予備電離電極の側
方から前記第１および第２の主放電電極との間の主放電
空間を経由して他方の予備電離電極の側方へレーザガス
を流すようにしたガスレーザ発振装置において、前記第
１の主放電電極に前記隙間の一方と他方とを結ぶ貫通孔
を形成するようにしている。
【００１４】かかる構成によれば、前記第１の主放電電
極に前記予備電離電極の一方と他方とを結ぶ貫通孔を形
成するようにしたので、この貫通孔をレーザガスが通り
抜けることにより、前記隙間でのレーザガスの渦の発生
が抑制され、コロナ放電および主放電によって生じる放
電生成物の前記隙間への滞留を防ぐことができる。
極に前記予備電離電極の一方と他方とを結ぶ貫通孔を形
成するようにしたので、この貫通孔をレーザガスが通り
抜けることにより、前記隙間でのレーザガスの渦の発生
が抑制され、コロナ放電および主放電によって生じる放
電生成物の前記隙間への滞留を防ぐことができる。
【００１５】これにより、放電生成物が再び主放電空間
中のレーザガスへ放出されることがなくなり、レーザガ
スの純度の低下を防ぐことができ、主放電を安定させる
ことができるので、結果としてレーザ出力のばらつきを
小さくすることができる。
中のレーザガスへ放出されることがなくなり、レーザガ
スの純度の低下を防ぐことができ、主放電を安定させる
ことができるので、結果としてレーザ出力のばらつきを
小さくすることができる。
【００１６】また、第３の発明では、対向するよう配さ
れた第１および第２の主放電電極と、前記第１および第
２の主放電電極のうちの第１の主放電電極の側方で該第
１の主放電電極を挟むように該第１の主放電電極と所定
の隙間をそれぞれおいて配設される対の予備電離電極
と、前記第１の主放電電極および対の予備電離電極を固
定支持する支持盤と、を具え、一方の予備電離電極の側
方から前記第１および第２の主放電電極との間の主放電
空間を経由して他方の予備電離電極の側方へレーザガス
を流すようにしたガスレーザ発振装置において、前記支
持盤のうち前記隙間が存在する２つの領域に当該支持盤
の下面から上面を結ぶ貫通孔をそれぞれ形成するように
している。
れた第１および第２の主放電電極と、前記第１および第
２の主放電電極のうちの第１の主放電電極の側方で該第
１の主放電電極を挟むように該第１の主放電電極と所定
の隙間をそれぞれおいて配設される対の予備電離電極
と、前記第１の主放電電極および対の予備電離電極を固
定支持する支持盤と、を具え、一方の予備電離電極の側
方から前記第１および第２の主放電電極との間の主放電
空間を経由して他方の予備電離電極の側方へレーザガス
を流すようにしたガスレーザ発振装置において、前記支
持盤のうち前記隙間が存在する２つの領域に当該支持盤
の下面から上面を結ぶ貫通孔をそれぞれ形成するように
している。
【００１７】かかる構成によれば、前記支持盤のうち前
記隙間が存在する２つの領域に支持盤の下面から上面を
結ぶ貫通孔をそれぞれ形成するようにしたことで、この
貫通孔をレーザガスが通り抜けることにより、前記隙間
でのレーザガスの渦の発生を抑制することができ、コロ
ナ放電および主放電によって生じる放電生成物の前記隙
間への滞留を防ぐことができる。
記隙間が存在する２つの領域に支持盤の下面から上面を
結ぶ貫通孔をそれぞれ形成するようにしたことで、この
貫通孔をレーザガスが通り抜けることにより、前記隙間
でのレーザガスの渦の発生を抑制することができ、コロ
ナ放電および主放電によって生じる放電生成物の前記隙
間への滞留を防ぐことができる。
【００１８】これにより、放電生成物が再び主放電空間
中のレーザガスへ放出されることがなくなり、レーザガ
スの純度の低下を防ぐことができ、主放電を安定させる
ことができるので、結果としてレーザ出力のばらつきを
小さくすることができる。
中のレーザガスへ放出されることがなくなり、レーザガ
スの純度の低下を防ぐことができ、主放電を安定させる
ことができるので、結果としてレーザ出力のばらつきを
小さくすることができる。
【００１９】さらに、第４の発明では、対向するよう配
された第１および第２の主放電電極と、中空状の誘電体
パイプと、この誘電体パイプの中空部に配される背後電
極と、この誘電体パイプの外表面に接触されるように配
されるコロナ電極とを有して成り、前記第１および第２
の主放電電極のうちの第１の主放電電極の側方で該第１
の主放電電極を挟むように該第１の主放電電極と所定の
隙間をそれぞれおいて配設される対の予備電離電極と、
前記第１の主放電電極および対の予備電離電極を固定支
持する支持盤と、を具え、前記第１および第２の主放電
電極との間の主放電空間を経由して一方の予備電離電極
側から他方の予備電離電極側へ向けてレーザガスを流す
ようにしたガスレーザ発振装置において、前記支持盤の
上面における前記第１の主放電電極と前記予備電離電極
との間の各間隙に、該第１の主放電電極よりも高さの低
い導体を介在させるとともに、前記誘電体パイプがこの
導体に圧接される態様で該誘電体パイプに対して前記コ
ロナ電極を配設し、これら導体およびコロナ電極の間に
おいてそれぞれ誘電体パイプを挟持するようにしてい
る。
された第１および第２の主放電電極と、中空状の誘電体
パイプと、この誘電体パイプの中空部に配される背後電
極と、この誘電体パイプの外表面に接触されるように配
されるコロナ電極とを有して成り、前記第１および第２
の主放電電極のうちの第１の主放電電極の側方で該第１
の主放電電極を挟むように該第１の主放電電極と所定の
隙間をそれぞれおいて配設される対の予備電離電極と、
前記第１の主放電電極および対の予備電離電極を固定支
持する支持盤と、を具え、前記第１および第２の主放電
電極との間の主放電空間を経由して一方の予備電離電極
側から他方の予備電離電極側へ向けてレーザガスを流す
ようにしたガスレーザ発振装置において、前記支持盤の
上面における前記第１の主放電電極と前記予備電離電極
との間の各間隙に、該第１の主放電電極よりも高さの低
い導体を介在させるとともに、前記誘電体パイプがこの
導体に圧接される態様で該誘電体パイプに対して前記コ
ロナ電極を配設し、これら導体およびコロナ電極の間に
おいてそれぞれ誘電体パイプを挟持するようにしてい
る。
【００２０】かかる構成によれば、前記第１の主放電電
極と前記対の予備電離電極との間の各隙間に、前記第１
の主放電電極よりも高さの低い導体を介在させるように
したことで、前記隙間でのレーザガスの渦の発生が抑制
され、コロナ放電および主放電によって生じる放電生成
物の前記隙間への滞留を防ぐことができる。
極と前記対の予備電離電極との間の各隙間に、前記第１
の主放電電極よりも高さの低い導体を介在させるように
したことで、前記隙間でのレーザガスの渦の発生が抑制
され、コロナ放電および主放電によって生じる放電生成
物の前記隙間への滞留を防ぐことができる。
【００２１】これにより、放電生成物が再び主放電空間
中のレーザガスへ放出されることがなくなり、レーザガ
スの純度の低下を防ぐことができ、主放電を安定させる
ことができるので、結果としてレーザ出力のばらつきを
小さくすることができる。
中のレーザガスへ放出されることがなくなり、レーザガ
スの純度の低下を防ぐことができ、主放電を安定させる
ことができるので、結果としてレーザ出力のばらつきを
小さくすることができる。
【００２２】さらに、前記導体および前記コロナ電極
を、それぞれ前記誘電体パイプの側方外表面を覆う態様
で該誘電体パイプの表面に面接触させた場合、コロナ予
備電離電極においてレーザ発振に寄与しない不要な発光
がほとんどなくなり、コロナ予備電離電極からの発光光
量のほとんどが、主放電空間に向けたものとなり、レー
ザ発振効率を著しく向上させることができるようにな
る。
を、それぞれ前記誘電体パイプの側方外表面を覆う態様
で該誘電体パイプの表面に面接触させた場合、コロナ予
備電離電極においてレーザ発振に寄与しない不要な発光
がほとんどなくなり、コロナ予備電離電極からの発光光
量のほとんどが、主放電空間に向けたものとなり、レー
ザ発振効率を著しく向上させることができるようにな
る。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。図１に、本発明の第１の実
施形態を示す。
て図面を参照して説明する。図１に、本発明の第１の実
施形態を示す。
【００２４】この実施形態において、一対の主放電電極
１，２を対向させ、一方の主放電電極１の側方に長手方
向に沿って延びる幅Ｗの隙間Ｓ１，Ｓ２を確保して対向
するよう配した一対のコロナ予備電離電極１２を主放電
電極１とともに支持盤６の上面に配設している点、およ
びコロナ予備電離電極１２は、円柱形の背後電極４が、
円筒形の誘電体パイプ３の中空部に配され、各誘電体パ
イプ３の外表面に断面Ｌ字形のコロナ電極５の端部が接
触する点は先の図１１に示した従来技術と同様である。
また、レーザガスＧは、図１１に示したファン８によっ
て循環され、矢印に示した経路に沿って流れる。
１，２を対向させ、一方の主放電電極１の側方に長手方
向に沿って延びる幅Ｗの隙間Ｓ１，Ｓ２を確保して対向
するよう配した一対のコロナ予備電離電極１２を主放電
電極１とともに支持盤６の上面に配設している点、およ
びコロナ予備電離電極１２は、円柱形の背後電極４が、
円筒形の誘電体パイプ３の中空部に配され、各誘電体パ
イプ３の外表面に断面Ｌ字形のコロナ電極５の端部が接
触する点は先の図１１に示した従来技術と同様である。
また、レーザガスＧは、図１１に示したファン８によっ
て循環され、矢印に示した経路に沿って流れる。
【００２５】この第１の実施形態では、主放電電極１と
コロナ予備電離電極１２との間に確保した隙間Ｓ１，Ｓ
２にそれぞれ導体１０を介在させるようにしている。導
体１０の高さｈは、誘電体パイプ３とコロナ電極５との
接触部を起点１１として発生される紫外光が主放電空間
に照射されるのを遮蔽しないように、最大でも前記起点
１１までの高さを埋めるようにする。
コロナ予備電離電極１２との間に確保した隙間Ｓ１，Ｓ
２にそれぞれ導体１０を介在させるようにしている。導
体１０の高さｈは、誘電体パイプ３とコロナ電極５との
接触部を起点１１として発生される紫外光が主放電空間
に照射されるのを遮蔽しないように、最大でも前記起点
１１までの高さを埋めるようにする。
【００２６】なお、本実施形態装置においては、各コロ
ナ予備電離電極１２の高さ方向の配置位置は、その高さ
の最も高い部分が、主放電電極１の頂上部の高さより低
くなるようにしており、これによって、レーザガスの流
れをコロナ予備電離電極１２によって乱さないようにし
ている。
ナ予備電離電極１２の高さ方向の配置位置は、その高さ
の最も高い部分が、主放電電極１の頂上部の高さより低
くなるようにしており、これによって、レーザガスの流
れをコロナ予備電離電極１２によって乱さないようにし
ている。
【００２７】このレーザガスの流れを考慮した主放電電
極１とコロナ予備電離電極１２との配置関係において、
誘電体パイプ３とコロナ電極５との接触部を起点１１に
発生される紫外光を主放電空間に向けて照射する必要が
あるので、前記起点１１の高さ位置は主放電電極１の頂
上部よりも低い位置に配置するようにしている。
極１とコロナ予備電離電極１２との配置関係において、
誘電体パイプ３とコロナ電極５との接触部を起点１１に
発生される紫外光を主放電空間に向けて照射する必要が
あるので、前記起点１１の高さ位置は主放電電極１の頂
上部よりも低い位置に配置するようにしている。
【００２８】かかる第１の実施形態によれば、隙間Ｓ
１，Ｓ２の支持盤６の上面から起点１１までの空間に導
体１０を介在させるようにしたので、レーザ出力を安定
させた状態で、つまり一方の主放電電極１の近傍におけ
る放電空間の予備電離強度と、他方の主放電電極２の近
傍における放電空間の予備電離強度との差を小さくして
主放電空間を均一に予備電離させた状態で、隙間Ｓ１，
Ｓ２でのレーザガスの渦の発生を抑制することができ、
コロナ放電および主放電によって生じる放電生成物の隙
間Ｓ１，Ｓ２への滞留を防ぐことができる。これによ
り、放電生成物が再び主放電空間中のレーザガスへ放出
されることがなくなり、レーザガスの純度の低下を防ぐ
ことができ、主放電を安定させることができるので、結
果としてレーザ出力のばらつきを小さくすることができ
る。また、主放電空間で均一なガスの流れが実現できる
ことから、高繰り返しパルス動作が可能となる。
１，Ｓ２の支持盤６の上面から起点１１までの空間に導
体１０を介在させるようにしたので、レーザ出力を安定
させた状態で、つまり一方の主放電電極１の近傍におけ
る放電空間の予備電離強度と、他方の主放電電極２の近
傍における放電空間の予備電離強度との差を小さくして
主放電空間を均一に予備電離させた状態で、隙間Ｓ１，
Ｓ２でのレーザガスの渦の発生を抑制することができ、
コロナ放電および主放電によって生じる放電生成物の隙
間Ｓ１，Ｓ２への滞留を防ぐことができる。これによ
り、放電生成物が再び主放電空間中のレーザガスへ放出
されることがなくなり、レーザガスの純度の低下を防ぐ
ことができ、主放電を安定させることができるので、結
果としてレーザ出力のばらつきを小さくすることができ
る。また、主放電空間で均一なガスの流れが実現できる
ことから、高繰り返しパルス動作が可能となる。
【００２９】なお、隙間Ｓ１，Ｓ２に介在させる物体と
して、上述した導体１０の代わりに絶縁体を適用しても
よい。
して、上述した導体１０の代わりに絶縁体を適用しても
よい。
【００３０】図２に、本発明の第２の実施形態を示す。
なお、図１と同一の構成要素には、同一の符号を付して
いる。
なお、図１と同一の構成要素には、同一の符号を付して
いる。
【００３１】この図２の実施形態においては、先の実施
形態の導体１０と主放電電極１とを一体的に構成にし
て、主放電電極１′を構成するようにしており、部品点
数を削減することができる。なお、主放電電極１とコロ
ナ電極５とを、双方とも接地側に接続する場合には、主
放電電極１′とコロナ電極５とを含めて一体構造にして
もよい。
形態の導体１０と主放電電極１とを一体的に構成にし
て、主放電電極１′を構成するようにしており、部品点
数を削減することができる。なお、主放電電極１とコロ
ナ電極５とを、双方とも接地側に接続する場合には、主
放電電極１′とコロナ電極５とを含めて一体構造にして
もよい。
【００３２】図３（ａ）および図３（ｂ）に、本発明の
第３の実施形態を示す。なお、図１と同一の構成要素に
は、同一の符号を付している。
第３の実施形態を示す。なお、図１と同一の構成要素に
は、同一の符号を付している。
【００３３】この第３の実施形態では、主放電電極１に
隙間Ｓ１，Ｓ２相互間を結ぶ貫通孔Ｈを形成するように
している。
隙間Ｓ１，Ｓ２相互間を結ぶ貫通孔Ｈを形成するように
している。
【００３４】この場合、貫通孔Ｈはその長辺が主放電電
極１の長手方向に沿った１個の直方体形状となってい
る。
極１の長手方向に沿った１個の直方体形状となってい
る。
【００３５】かかる構成によれば、繰り返しパルス発振
させるために前記ファンによりガス流を作りレーザガス
を循環させると、放電発生部へ流入してくるレーザガス
Ｇ１は、主放電空間を流れるＧ２と隙間Ｓ１へ流入する
Ｇ３に分流される。レーザガスＧ３は隙間Ｓ１へ流入す
ると、主放電電極１に形成された貫通孔Ｈを通過し、隙
間Ｓ２へ流出する。そして、このレーザガスＧ３とレー
ザガスＧ２とは再び合流しレーザガスＧ４として放電発
生部から流出していく。
させるために前記ファンによりガス流を作りレーザガス
を循環させると、放電発生部へ流入してくるレーザガス
Ｇ１は、主放電空間を流れるＧ２と隙間Ｓ１へ流入する
Ｇ３に分流される。レーザガスＧ３は隙間Ｓ１へ流入す
ると、主放電電極１に形成された貫通孔Ｈを通過し、隙
間Ｓ２へ流出する。そして、このレーザガスＧ３とレー
ザガスＧ２とは再び合流しレーザガスＧ４として放電発
生部から流出していく。
【００３６】この第３の実施形態によれば、主放電電極
１に隙間Ｓ１，Ｓ２相互間を結ぶ貫通孔Ｈを形成するよ
うにしたので、隙間Ｓ１，Ｓ２でのレーザガスの渦の発
生を抑制することができ、また、貫通孔Ｈを介して隙間
Ｓ１から隙間Ｓ２へレーザガスＧ３が流れるので、コロ
ナ放電および主放電によって生じる放電生成物の隙間Ｓ
１，Ｓ２への滞留を防ぐことができる。これにより、放
電生成物が再び主放電空間中のレーザガスへ放出される
ことがなくなり、レーザガスの純度の低下を防ぐことが
でき、主放電を安定させることができるので、結果とし
てレーザ出力のばらつきを小さくすることができる。ま
た、主放電空間で均一なガスの流れが実現できることか
ら、高繰り返しパルス動作が可能となる。
１に隙間Ｓ１，Ｓ２相互間を結ぶ貫通孔Ｈを形成するよ
うにしたので、隙間Ｓ１，Ｓ２でのレーザガスの渦の発
生を抑制することができ、また、貫通孔Ｈを介して隙間
Ｓ１から隙間Ｓ２へレーザガスＧ３が流れるので、コロ
ナ放電および主放電によって生じる放電生成物の隙間Ｓ
１，Ｓ２への滞留を防ぐことができる。これにより、放
電生成物が再び主放電空間中のレーザガスへ放出される
ことがなくなり、レーザガスの純度の低下を防ぐことが
でき、主放電を安定させることができるので、結果とし
てレーザ出力のばらつきを小さくすることができる。ま
た、主放電空間で均一なガスの流れが実現できることか
ら、高繰り返しパルス動作が可能となる。
【００３７】図４（ａ）および図４（ｂ）に、本発明の
第４の実施形態を示す。なお、図１と同一の構成要素に
は、同一の符号を付している。
第４の実施形態を示す。なお、図１と同一の構成要素に
は、同一の符号を付している。
【００３８】この第４の実施形態では、経路形状がＵ字
状（円弧状）の貫通孔Ｈを主放電電極１に形成するよう
にしている。
状（円弧状）の貫通孔Ｈを主放電電極１に形成するよう
にしている。
【００３９】この第４の実施形態によれば、貫通孔Ｈの
形状をＵ字状にすることで貫通孔Ｈの経路の中心部の位
置を貫通孔Ｈの両開口部の位置よりも主放電電極１の放
電面と反対方向へ下げるようにしたので、隙間Ｓ１，Ｓ
２相互間を結ぶ貫通孔Ｈの経路を直線状に形成した場合
よりも、レーザガスＧ３を通り抜けやすくすることがで
きる。
形状をＵ字状にすることで貫通孔Ｈの経路の中心部の位
置を貫通孔Ｈの両開口部の位置よりも主放電電極１の放
電面と反対方向へ下げるようにしたので、隙間Ｓ１，Ｓ
２相互間を結ぶ貫通孔Ｈの経路を直線状に形成した場合
よりも、レーザガスＧ３を通り抜けやすくすることがで
きる。
【００４０】図５（ａ）および図５（ｂ）に、本発明の
第５の実施形態を示す。なお、図１と同一の構成要素に
は、同一の符号を付している。
第５の実施形態を示す。なお、図１と同一の構成要素に
は、同一の符号を付している。
【００４１】この第５の実施形態では、経路形状がＶ字
状の貫通孔Ｈを主放電電極１に形成するようにしてい
る。
状の貫通孔Ｈを主放電電極１に形成するようにしてい
る。
【００４２】この第５の実施形態によれば、貫通孔Ｈの
経路形状をＶ字状に形成するようにしたので、隙間Ｓ
１，Ｓ２相互間を結ぶ貫通孔Ｈの経路を直線状に形成し
た場合よりも、レーザガスＧ３が貫通孔Ｈを通り抜けや
すくなる。さらに、主放電電極１に貫通孔Ｈを形成する
場合に、前記経路形状をＵ字状にするよりも主放電電極
１に対する加工を容易に行うことができる。
経路形状をＶ字状に形成するようにしたので、隙間Ｓ
１，Ｓ２相互間を結ぶ貫通孔Ｈの経路を直線状に形成し
た場合よりも、レーザガスＧ３が貫通孔Ｈを通り抜けや
すくなる。さらに、主放電電極１に貫通孔Ｈを形成する
場合に、前記経路形状をＵ字状にするよりも主放電電極
１に対する加工を容易に行うことができる。
【００４３】図６（ａ）乃至図６（ｃ）に、本発明の第
６の実施形態を示す。
６の実施形態を示す。
【００４４】この第６の実施形態では、上記各実施形態
に示した各経路形状の貫通孔Ｈを主放電電極１の長手方
向に沿って列設された複数個の孔として形成するように
している。
に示した各経路形状の貫通孔Ｈを主放電電極１の長手方
向に沿って列設された複数個の孔として形成するように
している。
【００４５】この第６の実施形態によれば、貫通孔Ｈを
主放電電極１の長手方向に沿って複数に列設したことに
より主放電電極１の強度を高めることが可能となる。
主放電電極１の長手方向に沿って複数に列設したことに
より主放電電極１の強度を高めることが可能となる。
【００４６】また、貫通孔Ｈを円柱状とすれば加工が容
易となる。
易となる。
【００４７】図７に、本発明の第７の実施形態を示す。
なお、図１と同一の構成要素には、同一の符号を付して
いる。
なお、図１と同一の構成要素には、同一の符号を付して
いる。
【００４８】この第７の実施形態では、支持盤６のうち
隙間Ｓ１，Ｓ２が存在する２つの領域に支持盤６の下面
から上面を結ぶ貫通孔Ｈ１′，Ｈ２′を形成するように
している。
隙間Ｓ１，Ｓ２が存在する２つの領域に支持盤６の下面
から上面を結ぶ貫通孔Ｈ１′，Ｈ２′を形成するように
している。
【００４９】この場合、貫通孔Ｈ１′，Ｈ２′は、主放
電電極１の長手方向に沿った長辺を有する直方体形状と
なっている。
電電極１の長手方向に沿った長辺を有する直方体形状と
なっている。
【００５０】かかる構成によれば、レーザガスを循環さ
せると、放電発生部へ流入してくるレーザガスは、主放
電空間へ流れるＧ１と支持盤６に形成された貫通孔Ｈ
１′を介して隙間Ｓ１へ流入するＧ１′とに分流される
が、これらのガスは主放電空間内で再び合流してＧ２′
となり、さらに放電発生部外へ流出していくＧ４′と隙
間Ｓ２を介して支持盤６に形成された貫通孔Ｈ２′から
放電発生部外へ流出していくＧ３′とに分流される。
せると、放電発生部へ流入してくるレーザガスは、主放
電空間へ流れるＧ１と支持盤６に形成された貫通孔Ｈ
１′を介して隙間Ｓ１へ流入するＧ１′とに分流される
が、これらのガスは主放電空間内で再び合流してＧ２′
となり、さらに放電発生部外へ流出していくＧ４′と隙
間Ｓ２を介して支持盤６に形成された貫通孔Ｈ２′から
放電発生部外へ流出していくＧ３′とに分流される。
【００５１】従って、この第７の実施形態によれば、隙
間Ｓ１，Ｓ２でのレーザガスの渦の発生を抑制するとと
もに、コロナ放電および主放電によって生じる放電生成
物の隙間Ｓ１，Ｓ２への滞留を防ぐことができる。これ
により、放電生成物が再び主放電空間中のレーザガスへ
放出されることがなくなり、レーザガスの純度の低下を
防ぐことができ、主放電を安定させることができるの
で、結果としてレーザ出力のばらつきを小さくすること
ができる。また、主放電空間で均一なガスの流れが実現
できることから、高繰り返しパルス動作が可能となる。
間Ｓ１，Ｓ２でのレーザガスの渦の発生を抑制するとと
もに、コロナ放電および主放電によって生じる放電生成
物の隙間Ｓ１，Ｓ２への滞留を防ぐことができる。これ
により、放電生成物が再び主放電空間中のレーザガスへ
放出されることがなくなり、レーザガスの純度の低下を
防ぐことができ、主放電を安定させることができるの
で、結果としてレーザ出力のばらつきを小さくすること
ができる。また、主放電空間で均一なガスの流れが実現
できることから、高繰り返しパルス動作が可能となる。
【００５２】また、貫通孔Ｈ１′，Ｈ２′の幅を隙間Ｓ
１，Ｓ２の幅Ｗと同じにしたことで、支持盤６の上面の
うち貫通孔Ｈ１′，Ｈ２′の開口部周辺に塵や埃等が溜
まるのを防ぐこともできる。
１，Ｓ２の幅Ｗと同じにしたことで、支持盤６の上面の
うち貫通孔Ｈ１′，Ｈ２′の開口部周辺に塵や埃等が溜
まるのを防ぐこともできる。
【００５３】図８に、本発明の第８の実施形態を示す。
なお、図１と同一の構成要素には、同一の符号を付して
いる。
なお、図１と同一の構成要素には、同一の符号を付して
いる。
【００５４】この第８の実施形態では、貫通孔Ｈ１′，
Ｈ２′の支持盤６の下面側の開口部の位置を、支持盤６
の上面の開口部の位置よりも主放電電極１から遠くに離
間させるようにしている。
Ｈ２′の支持盤６の下面側の開口部の位置を、支持盤６
の上面の開口部の位置よりも主放電電極１から遠くに離
間させるようにしている。
【００５５】この第８の実施形態によれば、レーザガス
の流れに沿った方向に貫通孔Ｈ１′，Ｈ２′を形成する
ようにしたので、貫通孔Ｈ１′，Ｈ２′を直方体に形成
した場合よりも、レーザガスＧ１′，Ｇ３′が貫通孔
Ｈ′１，Ｈ２′を通り抜けやすくなる。
の流れに沿った方向に貫通孔Ｈ１′，Ｈ２′を形成する
ようにしたので、貫通孔Ｈ１′，Ｈ２′を直方体に形成
した場合よりも、レーザガスＧ１′，Ｇ３′が貫通孔
Ｈ′１，Ｈ２′を通り抜けやすくなる。
【００５６】図９（ａ）および図９（ｂ）に、本発明の
第９の実施形態を示す。
第９の実施形態を示す。
【００５７】この第９の実施形態では、上記図７および
図８の実施形態に示した各経路形状の貫通孔Ｈ１′，Ｈ
２′を主放電電極１の長手方向に沿って複数個形成する
ようにしており、これにより先の実施形態に比べ支持盤
６の強度を高めることが可能となる。
図８の実施形態に示した各経路形状の貫通孔Ｈ１′，Ｈ
２′を主放電電極１の長手方向に沿って複数個形成する
ようにしており、これにより先の実施形態に比べ支持盤
６の強度を高めることが可能となる。
【００５８】この場合においても、貫通孔Ｈを円柱状と
すれば加工が容易となる。
すれば加工が容易となる。
【００５９】図１０に、本発明の第１０の実施形態を示
す。
す。
【００６０】この実施形態において、一対の主放電電極
１，２を対向させ、一方の主放電電極１の側方に長手方
向に沿って延びる幅Ｗの隙間Ｓ１，Ｓ２を確保して対向
するよう配した一対のコロナ予備電離電極１２′を主放
電電極１とともに支持盤６の上面に配設している点、お
よびレーザガスＧが矢印に示した経路に沿って流れる点
は先の各実施形態と同様であるものの、コロナ予備電離
電極１２′の詳細構成においてこれら先の実施形態と相
違している。
１，２を対向させ、一方の主放電電極１の側方に長手方
向に沿って延びる幅Ｗの隙間Ｓ１，Ｓ２を確保して対向
するよう配した一対のコロナ予備電離電極１２′を主放
電電極１とともに支持盤６の上面に配設している点、お
よびレーザガスＧが矢印に示した経路に沿って流れる点
は先の各実施形態と同様であるものの、コロナ予備電離
電極１２′の詳細構成においてこれら先の実施形態と相
違している。
【００６１】すなわち、この第１０の実施形態で適用す
るコロナ予備電離電極１２′は、それぞれ中空状の誘電
体パイプ３′と、該誘電体パイプ３′の中空部に配され
る背後電極４′と、基端部が支持盤６の上面において外
方側から一方の主放電電極１に向けて延在し、かつ中間
部が上方に向けて屈曲し、さらに先端部が誘電体パイプ
３′の互いに離反した側の外表面に沿って湾曲したコロ
ナ電極５′とを備えて構成している。
るコロナ予備電離電極１２′は、それぞれ中空状の誘電
体パイプ３′と、該誘電体パイプ３′の中空部に配され
る背後電極４′と、基端部が支持盤６の上面において外
方側から一方の主放電電極１に向けて延在し、かつ中間
部が上方に向けて屈曲し、さらに先端部が誘電体パイプ
３′の互いに離反した側の外表面に沿って湾曲したコロ
ナ電極５′とを備えて構成している。
【００６２】コロナ電極５′は、弾性に富んだ材質から
成形したもので、基端部を介して支持盤６の上面に取り
付けられているとともに、先端部が誘電体パイプ３′の
外表面に面接触しており、その弾性によって各誘電体パ
イプ３′を一方の主放電電極１に向けて押圧している。
ここで、コロナ電極５′が弾性体であれば、誘電体パイ
プ３に対して不必要に大きな力を加えることなく、該誘
電体パイプ３′の長手方向に亘ってコロナ電極５′と誘
電体パイプ３′とを互いに隙間なく接触させることがで
き、従って、ほとんど弾性のない誘電体パイプ３′に破
損を来す虞れがない。
成形したもので、基端部を介して支持盤６の上面に取り
付けられているとともに、先端部が誘電体パイプ３′の
外表面に面接触しており、その弾性によって各誘電体パ
イプ３′を一方の主放電電極１に向けて押圧している。
ここで、コロナ電極５′が弾性体であれば、誘電体パイ
プ３に対して不必要に大きな力を加えることなく、該誘
電体パイプ３′の長手方向に亘ってコロナ電極５′と誘
電体パイプ３′とを互いに隙間なく接触させることがで
き、従って、ほとんど弾性のない誘電体パイプ３′に破
損を来す虞れがない。
【００６３】また、この第１０の実施形態では、主放電
電極１とコロナ予備電離電極１２′との間に確保した隙
間Ｓ１，Ｓ２にそれぞれ導体１０′を介在させるように
している。導体１０′は、支持盤６の上面からの高さが
主放電電極１よりも低くなるように構成したもので、主
放電電極１に対向する面が平坦状を成し、該平坦面を介
して主放電電極１に当接している一方、コロナ予備電離
電極１２′に対向する面が誘電体パイプ３′の外表面に
合致する円弧凹状を成し、該円弧凹状面を介して各誘電
体パイプ３′の互いに対向する側の外表面に面接触して
おり、支持盤６の上面において上述した隙間Ｓ１，Ｓ２
を埋める機能を有しているとともに、上述したコロナ電
極５′との間において各誘電体パイプ３′を押圧挟持す
る機能を有している。
電極１とコロナ予備電離電極１２′との間に確保した隙
間Ｓ１，Ｓ２にそれぞれ導体１０′を介在させるように
している。導体１０′は、支持盤６の上面からの高さが
主放電電極１よりも低くなるように構成したもので、主
放電電極１に対向する面が平坦状を成し、該平坦面を介
して主放電電極１に当接している一方、コロナ予備電離
電極１２′に対向する面が誘電体パイプ３′の外表面に
合致する円弧凹状を成し、該円弧凹状面を介して各誘電
体パイプ３′の互いに対向する側の外表面に面接触して
おり、支持盤６の上面において上述した隙間Ｓ１，Ｓ２
を埋める機能を有しているとともに、上述したコロナ電
極５′との間において各誘電体パイプ３′を押圧挟持す
る機能を有している。
【００６４】なお、本実施形態装置においても、各コロ
ナ予備電離電極１２′の高さ方向の配置位置は、その高
さの最も高い部分が、主放電電極１の頂上部の高さ以下
となるようにしており、これによって、レーザガスＧの
流れをコロナ予備電離電極１２′によって乱さないよう
にしている。
ナ予備電離電極１２′の高さ方向の配置位置は、その高
さの最も高い部分が、主放電電極１の頂上部の高さ以下
となるようにしており、これによって、レーザガスＧの
流れをコロナ予備電離電極１２′によって乱さないよう
にしている。
【００６５】かかる第１０の実施形態によれば、支持盤
６の上面に確保した隙間Ｓ１，Ｓ２が導体１０′によっ
て埋められることになるため、隙間Ｓ１，Ｓ２でのレー
ザガスＧの渦の発生を抑制することができ、コロナ放電
および主放電によって生じる放電生成物の隙間Ｓ１，Ｓ
２への滞留を防ぐことができる。これにより、放電生成
物が再び主放電空間中のレーザガスＧへ放出されること
がなくなり、レーザガスＧの純度の低下を防ぐことがで
き、主放電を安定させることができるので、結果として
レーザ出力のばらつきを小さくすることができる。ま
た、主放電空間で均一なレーザガスＧの流れが実現でき
ることから、高繰り返しパルス動作が可能となる。
６の上面に確保した隙間Ｓ１，Ｓ２が導体１０′によっ
て埋められることになるため、隙間Ｓ１，Ｓ２でのレー
ザガスＧの渦の発生を抑制することができ、コロナ放電
および主放電によって生じる放電生成物の隙間Ｓ１，Ｓ
２への滞留を防ぐことができる。これにより、放電生成
物が再び主放電空間中のレーザガスＧへ放出されること
がなくなり、レーザガスＧの純度の低下を防ぐことがで
き、主放電を安定させることができるので、結果として
レーザ出力のばらつきを小さくすることができる。ま
た、主放電空間で均一なレーザガスＧの流れが実現でき
ることから、高繰り返しパルス動作が可能となる。
【００６６】さらに、この第１０の実施形態では、誘電
体パイプ３′の外表面において互いに対向する部位が導
体１０′によって覆われ、かつ互いに離反する部位がコ
ロナ電極５′によって覆われることになるため、コロナ
予備電離電極１２′においてレーザ発振に寄与しない不
要な発光がほとんどなくなる。この結果、コロナ予備電
離電極１２′からの発光光量のほとんどが、主放電空間
に向けたものとなり、レーザ発振効率を著しく向上させ
ることができるようになる。
体パイプ３′の外表面において互いに対向する部位が導
体１０′によって覆われ、かつ互いに離反する部位がコ
ロナ電極５′によって覆われることになるため、コロナ
予備電離電極１２′においてレーザ発振に寄与しない不
要な発光がほとんどなくなる。この結果、コロナ予備電
離電極１２′からの発光光量のほとんどが、主放電空間
に向けたものとなり、レーザ発振効率を著しく向上させ
ることができるようになる。
【００６７】なお、上述した各実施形態においてコロナ
予備電離電極は１対に限らず、複数対にしてもよい。
予備電離電極は１対に限らず、複数対にしてもよい。
【００６８】また、上述した各実施形態では、本発明を
エキシマレーザに適用するようにしているが、予備電離
を行うものであれば、他の任意のガスレーザに適用する
ようにしてもよい。
エキシマレーザに適用するようにしているが、予備電離
を行うものであれば、他の任意のガスレーザに適用する
ようにしてもよい。
【図１】本発明の第１の実施形態を示す図。
【図２】本発明の第２の実施形態を示す図。
【図３】本発明の第３の実施形態を示す図。
【図４】本発明の第４の実施形態を示す図。
【図５】本発明の第５の実施形態を示す図。
【図６】本発明の第６の実施形態を示す図。
【図７】本発明の第７の実施形態を示す図。
【図８】本発明の第８の実施形態を示す図。
【図９】本発明の第９の実施形態を示す図。
【図１０】本発明の第１０の実施形態を示す図。
【図１１】従来の装置を示す図。
１，１′，２…主放電電極、３，３′…誘電体パイプ、
４，４′…背後電極、５，５′…コロナ電極、６…支持
盤、１０，１０′…導体、１１…起点、１２，１２′…
コロナ予備電離電極、Ｇ…レーザガス、Ｈ…貫通孔。
４，４′…背後電極、５，５′…コロナ電極、６…支持
盤、１０，１０′…導体、１１…起点、１２，１２′…
コロナ予備電離電極、Ｇ…レーザガス、Ｈ…貫通孔。
Claims (15)
- 【請求項１】 対向するよう配された第１および第２の
主放電電極と、 中空状の誘電体パイプと、この誘電体パイプの中空部に
配される背後電極と、この誘電体パイプの外表面に接触
されるように配されるコロナ電極とを有して成り、前記
第１および第２の主放電電極のうちの第１の主放電電極
の側方で該第１の主放電電極を挟むように該第１の主放
電電極と所定の隙間をそれぞれおいて配設されるととも
に、前記コロナ電極および前記背後電極間に高電圧が印
加されることによりコロナ電極と前記誘電体パイプとの
当接部を起点としたコロナ放電を発生させて前記主放電
空間に予備電離を発生させる対の予備電離電極と、 前記第１の主放電電極および対の予備電離電極を固定支
持する支持盤と、 一方の予備電離電極の側方から前記第１および第２の主
放電電極との間の主放電空間を経由して他方の予備電離
電極の側方へ流れるレーザガスと、 を具え、前記誘電体パイプ表面のコロナ放電の起点が前
記第１の主放電電極の頂上部の高さより低くなるように
コロナ電極を配置するようにしたガスレーザ発振装置に
おいて、 前記第１の主放電電極と前記対の予備電離電極との間の
各隙間に、前記支持盤の上面から前記起点の高さまで物
体を介在させるようにしたことを特徴とするガスレーザ
発振装置。 - 【請求項２】 前記物体を導体にしたことを特徴とする
請求項１記載のガスレーザ発振装置。 - 【請求項３】 前記導体を前記第１の主放電電極と一体
構造にしたことを特徴とする請求項２記載のガスレーザ
発振装置。 - 【請求項４】 対向するよう配された第１および第２の
主放電電極と、 前記第１および第２の主放電電極のうちの第１の主放電
電極の側方で該第１の主放電電極を挟むように該第１の
主放電電極と所定の隙間をそれぞれおいて配設される対
の予備電離電極と、 前記第１の主放電電極および対の予備電離電極を固定支
持する支持盤と、 を具え、一方の予備電離電極の側方から前記第１および
第２の主放電電極との間の主放電空間を経由して他方の
予備電離電極の側方へレーザガスを流すようにしたガス
レーザ発振装置において、 前記第１の主放電電極に前記隙間の一方と他方とを結ぶ
貫通孔を形成するようにしたことを特徴とするガスレー
ザ発振装置。 - 【請求項５】 前記貫通孔の経路の中心部の位置を該貫
通孔の両開口部の位置よりも前記第１の主放電電極の放
電面と反対方向へ下げるようにしたことを特徴とする請
求項４記載のガスレーザ発振装置。 - 【請求項６】 前記貫通孔の経路形状をＵ字状にしたこ
とを特徴とする請求項５記載のガスレーザ発振装置。 - 【請求項７】 前記貫通孔の経路形状をＶ字状にしたこ
とを特徴とする請求項５記載のガスレーザ発振装置。 - 【請求項８】 前記貫通孔は、前記第１の主放電電極の
長手方向に沿って一体形成された１個の孔である請求項
４から請求項７のいずれか１項記載のガスレーザ発振装
置。 - 【請求項９】 前記貫通孔は、前記第１の主放電電極の
長手方向に沿って列設される複数の孔である請求項４か
ら請求項７のいずれか１項記載のガスレーザ発振装置。 - 【請求項１０】 対向するよう配された第１および第２
の主放電電極と、 前記第１および第２の主放電電極のうちの第１の主放電
電極の側方で該第１の主放電電極を挟むように該第１の
主放電電極と所定の隙間をそれぞれおいて配設される対
の予備電離電極と、 前記第１の主放電電極および対の予備電離電極を固定支
持する支持盤と、 を具え、一方の予備電離電極の側方から前記第１および
第２の主放電電極との間の主放電空間を経由して他方の
予備電離電極の側方へレーザガスを流すようにしたガス
レーザ発振装置において、 前記支持盤のうち前記隙間が存在する２つの領域に当該
支持盤の下面から上面を結ぶ貫通孔をそれぞれ形成する
ようにしたことを特徴とするガスレーザ発振装置。 - 【請求項１１】 前記各貫通孔における支持盤の下面側
開口部の位置を、前記支持盤の上面側開口部の位置より
も前記第１の主放電電極から遠くに離間させるようにし
たことを特徴とする請求項１０記載のガスレーザ発振装
置。 - 【請求項１２】 前記各貫通孔は、前記第１の主放電電
極の長手方向に沿って一体形成された１個の孔である請
求項１０または請求項１１記載のガスレーザ発振装置。 - 【請求項１３】 前記各貫通孔は、前記第１の主放電電
極の長手方向に沿って列設される複数の孔である請求項
１０または請求項１１記載のガスレーザ発振装置。 - 【請求項１４】 対向するよう配された第１および第２
の主放電電極と、 中空状の誘電体パイプと、この誘電体パイプの中空部に
配される背後電極と、この誘電体パイプの外表面に接触
されるように配されるコロナ電極とを有して成り、前記
第１および第２の主放電電極のうちの第１の主放電電極
の側方で該第１の主放電電極を挟むように該第１の主放
電電極と所定の隙間をそれぞれおいて配設される対の予
備電離電極と、 前記第１の主放電電極および対の予備電離電極を固定支
持する支持盤と、 を具え、前記第１および第２の主放電電極との間の主放
電空間を経由して一方の予備電離電極側から他方の予備
電離電極側へ向けてレーザガスを流すようにしたガスレ
ーザ発振装置において、 前記支持盤の上面における前記第１の主放電電極と前記
予備電離電極との間の各間隙に、該第１の主放電電極よ
りも高さの低い導体を介在させるとともに、前記誘電体
パイプがこの導体に圧接される態様で該誘電体パイプに
対して前記コロナ電極を配設し、これら導体およびコロ
ナ電極の間においてそれぞれ誘電体パイプを挟持するこ
とを特徴とするガスレーザ発振装置。 - 【請求項１５】 前記導体および前記コロナ電極を、そ
れぞれ前記誘電体パイプの側方外表面を覆う態様で該誘
電体パイプの表面に面接触させることを特徴とする請求
項１４記載のガスレーザ発振装置。
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| JP04362198A JP3796038B2 (ja) | 1997-11-18 | 1998-02-25 | ガスレーザ発振装置 |
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|---|---|---|---|
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| JP31738297 | 1997-11-18 | ||
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| JPH11214771A true JPH11214771A (ja) | 1999-08-06 |
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|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|---|
| US4064465A (en) * | 1973-05-30 | 1977-12-20 | Westinghouse Electric Corporation | Laser cavities with gas flow through the electrodes |
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-
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- 1998-02-25 JP JP04362198A patent/JP3796038B2/ja not_active Expired - Lifetime
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- 1998-11-17 DE DE19853076A patent/DE19853076A1/de not_active Withdrawn
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19853076A1 (de) | 1999-05-20 |
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