JPH11216435A - 閉ループ圧力洗浄システム及び方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 携帯が可能で、安全に物体を洗浄すると共
に、洗浄器への給水を制御して洗浄する物体から汚染物
を回収する。 【解決手段】 汚染物を回収する装置１０の支持フロア
は洗浄する物体及び同フロアの下方の槽１４を支持す
る。槽１４は清水室、水室、オイル閉込め室及び汚染水
収容室等に分割される。収容室は物体の汚染物を除去す
べく物体上へ流された汚染水を収容する。汚染水は収容
室に収容された後、閉込め室及び水室を通過して清水室
に至る。清水室は作動水位近傍の第１の流路により水室
に、水室は槽の底近傍の第２の流路により閉込め室に各
々連通される。閉込め室は作動水位近傍の第３の流路に
て収容室に連通される。装置１０は水室から水を汲み上
げて濾過した後，水室へ戻すポンプを有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、全体的には、圧力
洗浄で使用される方法及び装置に関する。より詳細に
は、本発明は、循環即ち閉ループ圧力洗浄機または類似
の装置を使用して物体を安全に洗浄すると共に、該物体
から汚染物を除去する方法及び装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】人造物質による環境汚染は長い間重大な
問題として考えられてきた。近年、オイル、有毒化学物
質及びその他の危険廃棄物による土壌、空気及び地下水
の汚染を危惧する動きが大規模産業以外へも広がって、
自動車のサービスステーションやその他多くを含んだ多
くの小規模事業体の活動をも巻き込むようになってきて
いる。政府による規制及び社会の厳しい要求が多大な圧
力となってこれらの事業体にかかってきており、通常の
業務活動において危険廃棄物を回りの環境へ排出するこ
とが困難になってきている。

【０００３】多くの事業体は、その活動を通して環境に
危害を与えるような廃棄物をたいてい生み出している。
例えば、自動車のサービスステーションでは、自動車の
エンジン等の自動車部品を洗浄または蒸気洗浄をする
が、この時エンジンオイル、ガソリン及びその他の化学
物質が雨水排水システムやその他の水路に流れ込み、こ
れが潜在的に地下水を汚染することとなる。更に、遠隔
に配置された装置のサービスを行う者は、一般に、危険
廃棄物を環境へ排出せずに斯かる装置を洗浄する必要が
ある。例えば、潤滑用の石油化学製品、捕捉された汚染
物またはその他の化学物質を含んだ屋根に設置されたエ
アコンをサービスする者は斯かる化学物質が屋根を下っ
て周りの環境へ流れ出さないようにエアコンを洗浄しな
ければならない。

【０００４】例えば、自動車部品を洗浄するのに使用さ
れるような高圧洗浄装置は一般的に利用されている。し
かしながら、多くの圧力洗浄機は危険物を閉じ込めて置
くことができない。従って、斯かる圧力洗浄機では危険
物が周りの環境へ進入して行くのを防止することはでき
そうもない。ある一定の圧力洗浄機は幾分かの洗浄液を
回収することができるが、これとて危険廃棄物を濾過し
ない場合がしばしばあるし、濾過したとしても洗浄液か
ら全ての危険廃棄物を十分に濾過するものではない。従
って、圧力洗浄装置はしばしば比較的大量の排水を発生
し、斯かる排水は別途処理されるか、または、処分用の
樽にいれられる。更に、斯かる圧力洗浄装置はしばしば
大量の排水を扱う必要があることから、容易に移動する
ことが難しくなる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、携帯ができて、排出を一切しない、洗浄中の物体か
らオイル、化学物質及びその他の危険物を回収できる洗
浄装置を提供することである。更に、本発明の目的は、
洗浄剤を十分に循環すると共に濾過して、洗浄工程中に
生じる廃棄物の量を最小限する洗浄装置を提供すること
である。更に、本発明の目的は、携帯が可能で、自動車
のエンジンまたは部品等の物体をその内に閉じ込めて、
利便良く、十分に且つ安全に斯かる物体を洗浄すると共
に、調整可能な圧力洗浄機への給水を制御して洗浄する
物体から汚染物を回収できる方法を提供することであ
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、物体から汚染
物を除去する閉ループ方法及び装置に関する。１態様に
よれば、汚染物を含んだ物体を洗浄する、洗浄する物体
を支持するサブフロア集成体を含んだ圧力洗浄装置が提
供される。該サブフロア集成体は、物体上を流れて汚染
物を除去する汚染液を流出部へ向けて指向するようにさ
れている。沈降室がサブフロア集成体の下方に配置さ
れ、該沈降室には回収端即ちコレクション端と堆積端即
ちアキュミュレーション端とが設けられている。コレク
ション端は前記の流出部と液連絡してサブフロア集成体
から流出する流出汚染液のほぼ全てを受けるようにされ
ており、一方アキュミュレーション端はコレクション端
の下流に配置されると共に、比較的長い第１の流路を介
してコレクション端に流動連結されている。第１の流路
はほぼ均一で、比較的緩やかな非乱流の流れをコレクシ
ョン端からアキュミュレーション端へ流して、汚染液中
の比較的重量汚染物から汚染液中の比較的軽量汚染物を
分離するようにされている。この均一で非乱流の流れに
より、重量汚染物は第１の流路に沿って流れて行く内に
沈降室の底に向けてほぼ沈降して行く一方で、軽量汚染
物が沈降室の作動液レベルまで実質的に浮上してくる。
ポンプ集成体がアキュミュレーション端から液体をくみ
出し濾過して、濾過した液体を別体の清液室内へ戻すよ
うに配置されている。最後に、清液室からくみ出された
液体は物体から汚染物を洗い流すのに使用することが可
能であり、沈降室により画成される循環流路が回収した
流出汚染液から汚染物を除去するのを促進する。

【０００７】一実施の形態では、第１の流路は全体とし
てＵ字状にされており、上流脚部と下流脚部とを有し、
該２つの脚部は中間の湾曲部により分離されている。ア
キュミュレーション端は、下流脚部の先端に隣接して配
置され、一方、コレクション端は上流脚部に沿って配置
されている。コレクション端が上流脚部の先端に隣接し
て配置されるのが好適である。

【０００８】本発明の別の態様では、スキマー集成体が
沈降室のアキュミュレーション端に隣接して且つ該沈降
室内の回収液の作動液面と液連絡するように配置され
る。このスキマー集成体は沈降室内の回収液の頂面から
浮遊した軽量汚染物を除去するようにされたベルト装置
を含んでいる。

【０００９】本実施の形態の更に別の態様では、サブフ
ロア集成体がベースフレーム集成体を含んでおり、該ベ
ースフレーム集成体は作動位置と保守位置との間を移動
自在となるように沈降室に連結されている。ベースフレ
ーム集成体は、作動位置にあると、沈降室上において作
動して使用される位置に着き、一方、保守位置では、沈
降室へのアクセスが可能となる。サブフロア集成体は複
数のローラ装置を含むのが好適であり、これらのローラ
装置はベースフレーム集成体上に取り付けられると共
に、空気シリンダを有しており、該空気シリンダは、引
っ込み位置と伸展位置との間で選択的に移動可能とな
り、サブフロア集成体が作動位置にある時には、引っ込
み位置にある。伸展位置にある時には、ベースフレーム
集成体がローラ装置状で転動自在に支持されて、ベース
フレーム集成体が作動位置と保守位置との間を移動でき
るようになっている。

【００１０】汚染物を含んだ物体を洗浄するユニット式
の圧力洗浄装置が提供される。該洗浄装置は、第１のユ
ニット式サブフロア集成体を含んでおり、該集成体は第
１のプラットフォームを有すると共に、第１の支持フロ
アを含んでおり、該第１の支持フロアは、洗浄される物
体上を流れて汚染物を除去する汚染液を流出部へ向けて
指向するようにされている。第２のプラットフォームを
有した第２のユニット式サブフロア集成体が含まれ、該
第２のプラットフォームは前記サブフロア集成体の第１
のプラットフォームに移動自在に連結されると共に、該
第１のプラットフォームに隣接して配置される。第１の
プラットフォーム及び第２のプラットフォームは協働し
て洗浄される物体を支持する拡張洗浄プラットフォーム
を形成する。第２のサブフロア集成体は、更に、第２の
支持フロアを含み、該第２の支持フロアは回収した汚染
液を第１のサブフロア集成体の流出部へ向けて指向して
該流出部内へ流入させる。沈降室は第１のサブフロア集
成体の下方へ配置されると共に、上流回収端即ち上流コ
レクション端を有しており、該上流コレクション端は流
出部と液連絡されて、第１のサブフロア集成体からの流
出汚染液をほぼ全部受けるようにされている。沈降室は
更に堆積端即ちアキュミュレーション端を含んでおり、
該アキュミュレーション端はコレクション端の下流に配
置されると共に、比較的長い第１の流路を介してコレク
ション端に流動自在に連結されている。第１の流路はほ
ぼ均一で比較的緩やかな非乱流の流れをコレクション端
からアキュミュレーション端へ向けて流して汚染液中の
比較的軽量汚染物を汚染液中の比較的重量汚染物から分
離するようにされている。軽量汚染物は沈降室内の作動
液面に向けてほぼ浮上させられる一方で、重量汚染物は
第１の流路に沿って流れて行く中に沈降室の底に向かっ
てほぼ沈降させられる。ポンプ集成体が、アキュミュレ
ーション端から液体をくみ出し濾過すると共に、濾過し
た液体を別体の清液室へ戻すように配置される。これに
より、清液室からくみ出された液体を使用して物体から
汚染物を洗い落とすことが可能となると共に、沈降室に
より画成される循環流路が回収した流出汚染液からの汚
染物の除去を促進する。

【００１１】本発明の更に別の態様では、汚染物を含ん
だ物体を水で洗浄する方法が提供され、該方法は、流出
部を有する支持フロアを含んだサブフロア集成体を介し
て沈降室上に物体を支持する段階と、該物体上に水を流
して該物体から汚染物を除去する段階とを備えている。
方法発明の方法は、更に、支持フロアに回収した汚染水
を流出部へ向けて指向して、沈降室の回収端即ちコレク
ション端内へ流入させる段階と、回収した汚染水をコレ
クション端から比較的長い第１の流路に沿って沈降室の
アキュミュレーション端へ流す段階とを備えている。こ
の流路はほぼ均一で、比較的緩やかな、非乱流の流れを
コレクション端からアキュミュレーション端まで流すよ
うにされている。本発明の方法は、更に、汚染水の比較
的軽量汚染物を汚染水の比較的重量汚染物から分離する
段階を含んでいる。軽量汚染物は沈降室内の作動液面に
向けてほぼ浮上させられる一方で、重量汚染物はほぼ均
一で、比較的緩やかな、非乱流の流れに乗って第１の流
路に沿って流れて行くうちに沈降室の底に向かって沈降
させられる。本発明の方法は、更に、アキュミュレーシ
ョン端から水をくみ出し濾過して、再循環させてこれま
でと同一の段階で使用する段階を含んでいる。

【００１２】

【発明の実施の形態】高圧洗浄装置は、該圧力洗浄装置
により洗浄されている物体から汚染物を除去するのに使
用されることがしばしばある。しかしながら、圧力洗浄
装置は危険物を含んだ汚染物を物体から除去するのに効
果的であるが、多くの圧力洗浄装置は汚染物を閉じ込め
るようには設計されていない。その結果、斯かる圧力洗
浄装置では、危険物が圧力洗浄装置の周りの環境へ進入
するのを防止することはできない。幾つかの圧力洗浄装
置は洗浄液を少なくとも一部閉じ込めることはできるか
も知れないが、危険廃棄物は洗浄液から濾過されない
し、または、洗浄液から着実または効率良く濾過される
ことはない。

【００１３】例えばオイル等の汚染物を含んだ洗浄液を
水盤に回収して水盤ないで循環させると、汚染物は洗浄
液の表面に浮かんでくるようになる。従って、汚染物が
洗浄液から効率良く「分離」するのを容易にする流れの
パターンを水盤ないで作り出せば、汚染物を洗浄液から
容易に濾過することが可能となる。斯かる流れのパター
ンにより汚染された洗浄液を循環させて、汚染物を容易
に洗浄液面の頂部まで浮上させて洗浄液から濾過するさ
せることが可能となる。汚染物が洗浄液から濾過される
一方で、残余の「きれいな」洗浄液のリサイクルが可能
となる。

【００１４】図１、図２及び図３は本発明の第１の実施
の形態による圧力閉ループ洗浄装置または洗浄ラック１
０を図示しており、該装置は、ベースフレーム１２と、
閉じ込め槽１４と、壁フレーム１６とを含んでいる。前
壁及び後壁１８、２０及び左及び右側壁２２、２４が壁
フレーム１６に取り付けられて、物体を設置して洗浄す
る矩形の閉じ込め体が形成される。図１では、前壁１８
及び右側壁２４のは、槽の詳細を図示するために一部破
断して図示してある。

【００１５】ベースフレーム１２は全体的に矩形の構造
体であり、４つのベースサイドフレームを備えている
が、ベースフレーム１２の形状は任意の適当な形状とす
ることが可能である。前面ベースサイドフレーム２６及
び右側ベースサイドフレーム２８を図１に図示する。同
様な後面及び左側ベースサイドフレームも当然設けられ
る。ベースサイドフレームの各々は水平梁即ち水平ビー
ム３０から形成され、該水平ビーム３０は垂直柱即ち垂
直ポスト３２に接合される。ビーム３０及びポスト３２
は溶接アルミ管材、例えばＭＭＦＧから市販されている
ＥＸＴＲＥＮＡＥ等の構造ガラス繊維またはその他の軽
量で堅牢な、本質的には非導電性で非腐蝕性の材料から
形成することが可能である。

【００１６】ポスト３２のサイズは任意の適当なサイズ
とすることが可能であるが、本実施の形態では、ポスト
３２の高さは約２０ｃｍ（約９−１／２インチ）であ
り、これであれば槽１４をベースサイドフレーム２６、
２８中に吊り下げ支持できる。前面ベースサイドフレー
ム２６は一対の平行な横断方向のフォークポケット３４
を有しており、該ポケットはフォークリフトのフォーク
またはパレットジャッキ用の隙間を画成し、装置全体１
０を容易に作業場所または任意の所望の場所へ移動させ
るのを可能にしている。耐荷重ブレース３３が各フォー
クポケット３４を横断して伸長している。ブレース３３
は、例えば、フォークリフトのフォークやパレットジャ
ッキに接触して装置の重量を支える機能を果たす。後面
ベースフレーム（図１では見えない）は垂直のポストを
有しており、該ポストはフォークポケットを横断して取
り付けられており、フォークリフトのオペレータが後面
フレームからフォークリフトのフォークを差し込もうと
するのを防止するようにしている。一実施の形態では、
槽１４は一対の成形したフォーク隙間チャネルを有して
おり、該チャネルはフォークポケット３４と整列して後
方へ伸長してフォークを通すようにされている。また、
この方法で洗浄装置を高い場所へ持ち上げることも可能
となる。

【００１７】同様に、壁フレーム１６は水平梁即ち水平
ビーム３６と垂直柱即ち垂直ポスト３８とを備えてお
り、該ビームとポストは矩形の直立構造体を構成するよ
うに配置されている。図１で分かる如く、壁フレーム１
６を形成する前記ビーム及びポストは溶接アルミニウム
管材、構造ガラス繊維またはその他の任意の適当な軽量
且つ強度のある材料から形成することが可能である。

【００１８】一実施の形態では、壁フレームは分離可能
な左側、右側、前及び後壁部分で構成して、フレームを
各壁が積み重なるように潰して槽及びブースフレームの
上に畳んで運搬できるようにされている。ビーム及びポ
ストはネジの切ったファスナを有しており、壁部分を互
いに且つベースフレームに固定して、密閉した閉じ込め
体を形成するようにされている。密閉した閉じ込め体は
物体から洗い流された汚染物が周りの環境へ進入するの
を防止する。ネジの切ったファスナを使用することで、
洗浄装置を平らな壁部分に分解して、コンパクトに積み
重ねて運搬することが可能になり、ナットをなくすこと
で一人で洗浄装置を組み立てることが可能になり、且
つ、通しボルト用の穴を使用した場合に起きる水漏れの
道筋を排除することが可能となる。

【００１９】ベースフレームと壁部分との密閉を確実に
するためにガスケット２５が壁ポスト及びベースフレー
ムに固着される。該ガスケットは発泡テープまたはその
他の任意の適当な弾性材料とすることが可能であり、ポ
スト及びビームの全長に亘って取り付けられる。壁１
８、２０、２２及び２４はねじ１５で壁フレーム１６へ
固定される。壁はＨＹＺＯＤポリカーボネートのシート
または非導電でオイル、溶液及びその他の危険物に晒さ
れても実質的に影響を受けない同等の材料で製造される
のが典型的である。本実施の形態では、壁１８、２０、
２２及び２４の高さは約１ｍ（約４０インチ）である。
しかしながら、一般には、壁１８、２０、２２、２４の
高さは、洗浄剤の飛散を壁内で十分に封じ込めることが
でき且つオペレータが物体を洗浄する上で壁を越えて該
物体に到達するのを可能するまたは装置内に乗り出すの
を可能にする高さであれば任意とすることが可能であ
る。壁１８、２０、２２及び２４はオペレータが洗浄装
置内で作業中に該装置から落ちるのを防止するのに十分
な高さにされる。幾つかの実施の形態では、壁を透明な
材料から形成してオペレータが洗浄装置をフォークリフ
ト、パレットジャッキまたはその他の移動装置に載せて
移動中に該壁を通して前方が見えて該洗浄装置の舵取が
できるようにすることも可能である。

【００２０】槽１４は任意の適当な材料から形成するこ
とが可能である。例として、槽１４をステンレススチー
ルで形成することが可能である。或いは、槽１４を少な
くとも部分的に成形高密度ポリプロピレン水盤、また
は、水を入れるのに十分な強度の高い周壁を備えた同等
の密閉されたプールまたは水盤で形成することが可能で
ある。槽１４自体はそれにかかる高荷重を支持すること
がないことから、一実施の形態では、槽１４は複数の縦
方向の耐荷重ビームまたは壁４０と、複数の横方向のビ
ームまたは壁４２とを有している。第２の閉じ込め槽を
槽１４の内側または外側へ設けて、危険物の流出に備え
て予備の安全策をとることが可能である。

【００２１】ビーム４０、４２はバッフルまたはバッフ
ル壁としも公知であるり、ぴったりとかみ合って、該ビ
ームに穴を開けなければ液体が該ビームを通り抜けでき
ないようにされており、これにより槽１４が図４におい
て符号Ａ乃至Ｊで示した複数の閉じ込め室へ小分けされ
ている。物体が洗浄装置内で洗浄剤を使用して洗浄され
ると、槽及びその閉じ込め室が洗浄材及び物体から洗い
ながされた一切の危険物を受ける。槽１４はその周囲に
フランジ４１を有しており、該フランジはベースフレー
ムのビーム３０を越えて伸長すると共に該ビーム上に載
置される。側壁の下部ビーム３６が槽ガスケット２７及
びフランジ上に載置すると共に、ネジの切ったファスナ
を利用してビーム３０に固定されて、汚染物の解放を防
止する密閉サンドイッチ構造を形成する。

【００２２】装置１０においては、適当なものであれば
任意の槽１４及び支持ビームを使用することが可能であ
る。例としては、槽１４及び支持ビームは、米国カリフ
ォルニア州アラニトス市（Ｌｏｓ Ａｌａｒｎｉｔｏ
ｓ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ，ＵＳＡ）のコンテインメン
ト社（Ｃｏｎｔａｉｎｍｅｎｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏ
ｎ）より市販されているコンテイン・イト・プラス（Ｃ
ＯＮＴＡＩＮ−ＩＴ ＰＬＵＳ）等の修正閉じ込めシス
テムまたは米国特許第４，９３０，６３２号及び５，０
３６，９７６号に記載のタイプの物を使用することが可
能である。尚、前記の米国特許は双方ともエッカート
（Ｅｃｋｅｒｔ）に対して発行されたものであり、双方
ともそっくりそのまま参考として本書に組み込んであ
る。斯かる閉じ込めシステムはパレットで運搬する樽か
ら汚染物が流出するのを防止するためになされたもので
あり、閉ループの洗浄装置内で使用するのを目的とした
ものではない。一実施の形態では、このタイプの閉じ込
め装置に例えば入口及び出口を追加して修正を加えてい
る。斯かる閉じ込め装置は、槽の周囲の下方へ垂れ下が
ったリップを取り外すと共に、下記に説明するその他の
必要な変更を加えることで更に修正することが可能であ
る。また、ビームを、該ビームに例えば穴等の開口部を
開けて閉じ込め室間を水が流れるようにすることで修正
することが可能である。一実施の形態では、穴は洗浄装
置内に入れられた液体のほぼ表面レベルに配置されるよ
うに配列される。液体の表面となるビームの部位に穴を
配列することで、液体の表面に位置するオイルの流れが
閉じ込め室間で容易となる。或いは、別の実施の形態で
は、穴のあるものは洗浄装置内に閉じ込められた液体の
ほぼ表面レベルに配置され、他の穴は槽のほぼ底に配置
されるように配列される。

【００２３】図３に図示した如く、サブフロア５０はビ
ーム４０、４２の上に載置される。サブフロア５０は少
なくとも壁１８、２０、２２、２４のある壁から該壁１
８、２０、２２、２４の下部内側に取り付けられた複数
のスペーサ５２により隔置するように保持される。従っ
て、一実施の形態では約１６ｍｍ（約３／４インチ）と
される狭い間隙５４がサブフロア５０の３方面に設けら
れて洗浄液及び汚物が槽１４内へ流入するようにされて
いる。一般に、狭い間隙を設けるサブフロア５０の面の
数は任意である。サブフロア５０は全体としてビーム４
０、４２に平らに載置されて、槽１４上に堅牢な表面を
画成すると共に、水が加熱状態にある場合には熱損失を
低減する。

【００２４】安定化棒即ちスタビライズバー５１はサブ
フロア５０の後縁を横断して伸長する。バー５１は、装
置を持ち上げる時の装置の重量を補強用横木即ちクリー
ト１７へ伝達する。槽は圧縮強度をほとんど持たない
が、ビーム４０、４２及びフレームが実質的な重量を支
持することが可能である。装置の重量をフレームへ伝達
するのを助けるために一対のクリート１７が後壁２０を
介して後壁フレームに固定される。装置が持ち上げられ
た時及び重い物体が装置内に設置された時には、受領が
ビームからバー５１へ、次いでクリートへと伝達され
る。特に、ビーム４０の後端４０′による上方向への圧
力がクリート１７に加えられて、従って、レール３６、
ポスト３８及びベースフレームへと伝達される。要する
に、クリート１７が槽１４、ビーム４０、４２及び槽１
４内の水の全ての重量を効果的に受けて且つフレームへ
伝達する。

【００２５】サブフロア５０は取り外し自在であって、
槽１４へのアクセスを画成する。サブフロアはガラス繊
維や複合材料等の非導電性の堅牢な材料で形成される。
非導電性で滑らないフロアマット６０がサブフロア５０
上に敷かれて洗浄中の物体及び装置内に立つ者をサブフ
ロアより若干高い位置に据える。これにより、洗浄液が
フロアマットの下方に回収されて、圧力洗浄中に洗浄液
が溜まったり飛散の跳ね返りを低減することが可能とな
る。従って、フロアマット６０は危険物が装置外へ飛散
するのを防止するのを助長すると共に、オペレータの安
全を向上させる。フロアマットはＦＬＥＸＭＡＴ成形格
子板または同等の可撓性のある滑らないマットから形成
することが可能である。

【００２６】ランプ６２は前壁１８間でベースフレーム
にヒンジで止められる。ランプはランプ壁６６を備えて
おり、該ランプ壁はビーム６４の溶接されたフレームに
固定される。穴６３がポスト６５から内側へ突出した車
軸（不可視の）に重なり、ランプ６２のヒンジ運動を可
能にしている。その他のタイプの耐久性のあるヒンジを
使用することが可能である。ランプは図２に図示する如
く倒して重い物体を装置内へ転がして運び入れるか、ま
たは、手で運び込むことが可能となる。矢印６８で示す
如く、物体の洗浄が始まる前にランプを上方へ動かして
前壁フレーム１６のポスト６５から突出したフランジ６
７に載接する。ランプ６２は２つのラッチ（図示なし）
により所定の位置に保持される。ランプ６２は槽１４に
使用されたのと同様なサブフロア及び滑らない格子板で
覆われる。一般にランプ６２の形状はその他多くの適当
な形状にすることが可能である。

【００２７】コントロールユニット７０は後壁フレーム
に取り付けられ、下記に説明をする制御装置を囲繞す
る。コントロールユニット７０は取り外し自在であっ
て、洗浄される特定の物体に適した寸法の閉じ込め体に
取り付けることが可能である。例えば、閉じ込め体及び
槽を細長い矩形の形状にして自動二輪車等の物体を収容
するようにすることが可能である。一実施の形態では、
コントロールユニット７０を取り外して装置の潰したフ
レームの上に積み重ねて運搬することが可能である。一
般に、コントロールユニット７０の特定の寸法及び構造
は様々に変えることが可能である。更に、コントロール
ユニット７０は、例えば、アルミニウム管またはガラス
繊維等の材料から製造したフレーム７２を利用して形成
することが可能である。コントロールユニット７０は後
壁７４とフロア７６を有し、図５、図６及び図７に図示
した構成要素が取り付けられる。これらの構成要素はコ
ントロールユニット７０内の特定の場所に取り付ける必
要はない。コントロールパネル７８にはコントロールユ
ニットに関係した計器、コントロールノブ、及びダイヤ
ル等が取り付けられる。

【００２８】図６は流体システム、即ち、本発明の第１
の実施の形態による、水を装置内で移動するのに使用さ
れる構成要素及び流路を図示している。本システムの説
明において、「水」なる語は物体から汚染物を洗い落と
すのに使用される洗浄剤を示すのに使用される。しかし
ながら、洗剤またはその他の適当な洗浄剤を使用する場
合もある。従って、本発明は洗浄剤としての水に限定さ
れるものではない。

【００２９】図４に槽を貫通する水の機械的な流れの一
実施の形態を図示しており、図中矢印は水流の方向を表
している。明確にするために、下記の説明においては図
４及び図６に図示した本発明の態様を一緒に説明する。
最初に、槽１４に所定の深さまで水９１を満たす。所定
の深さは様々に変化するが、一実施の形態では約１８ｃ
ｍ（約７インチ）である。一般に、当該装置の準備及び
適切なポンプの作動や適切な濾過を確実にするのに適し
た深さが適当な深さである。同様に、槽１４内の水の量
も様々に変化するものであり、槽１４が使用される用途
により決定される。一実施の形態では、槽１４を満たす
のに使用される水の量は約１８９リットル（約５０ガロ
ン）乃至約２２７リットル（約６０ガロン）の範囲であ
る。

【００３０】上記に説明した如く、ビーム４０、４２は
槽１４内に設置され互いにぴったりと嵌合して複数のせ
き止めた閉じ込め室Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ、Ｈ、
Ｉ、Ｊを形成している。図６に図示する如く、圧力洗浄
機８６がホース８７を通してワンド９６まで高圧の水流
をもたらす。ワンド９６は洗浄する物体上に掃動されて
矢印９８で示す如く水をサブフロア５０状へなだれ落と
す。本実施の形態では、サブフロアの間隙はサブフロア
の側部及び前面にのみ設けられていることから、水は全
体として室Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ及びＦへのみ進入する。
また、本実施の形態では、水は室Ｆへ続く間隙１１４を
通る以外は横方向へは流れない。

【００３１】インレットパイプ１１２が槽の後部に設け
られてと共に、第１のポンプ１０４に連結され、該ポン
プはインレットパイプ１１２を介して槽１４から水９１
を汲み上げる。インレットパイプ１１２はピックアップ
スクリーンを有しており、該スクリーンはインレットパ
イプの槽１４内の開口端を覆って比較的大きな粒子がポ
ンプ１０４内へ進入するのを防止する。作動すると、ポ
ンプ１０４がほぼ連続してインレットパイプ１１２を介
して汲み上げを行う。その結果、物体の洗浄中は、例え
ば、汚染スラリー流等の流出水と汚染物が典型的には最
初に室Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ及びＥへ入る。これらの室では、
水は矢印で図示した如くビーム４２の端部に配置した間
隙４３を通ってそれぞれの室を出て行くまで渦を巻いて
いる。各ビーム４２は垂直の堰として作用して浮遊した
固体の分解を促進し、斯かる固体は槽１４の底へ落ちて
行く。

【００３２】次いで、水及び汚染物は間隙１１４を通っ
て室Ｆ内へ入って行く。本実施の形態では、ビームの一
方の穴１１８がポンプ１０４からの吸込みが室Ｆから水
をくみ出すのを可能にすると共に、室Ｇに配置した第１
の水／オイル分離器１００を通って流れるのも可能にす
る。複数の穴１１８ａが分離器１００のインレット点と
対応するように設けられている。室Ｇ内の矢印が示す如
く、分離器１００は浄化されたスラリー水がアウトレッ
トパイプ１１２へ向かって流れるのを可能にする。一
方、オイル及びその他の汚染物は分離器１００の表面ま
で浮上して分離器１００の側部へ排出される。オイル及
びその他の汚染物は分離器１００の側部へ排出されるこ
とから、オイル及びその他の汚染物は一対の毛管吸収体
「ソックス」１１６または同等の吸収装置内へ流れ落ち
る。ソックス１１６は一般に毛管作用を介してその重量
の何倍ものオイル及び汚染物を吸収する。重量粒子は分
離器１００の外へ落ちるのが典型的であり、槽１４の床
に沈降する。一実施の形態では、フィルタを使用して重
量粒子を回収する。図９及び図１０を参照して、フィル
タを含んだ槽の実施の形態を説明する。

【００３３】ポンプ１０４からの吸込みにより分離器１
００を出てくる浄化された水が更に穴１１８ｂを通って
室Ｈ内に配置された分離器１０２内へ流れ込み、該分離
器内でオイル／水分離工程が繰り返される。更に多くの
オイルまたは汚染物が分離器１０２ないで浮上して別の
対の吸収体ソックス１１６内へ排出される。分離された
水は穴１１８ｃを通って流れて清水室Ｊ内へ流入する。
ポンプ１０４からの吸込みが浄化した水を室Ｊからイン
レットパイプ１１２内へとくみ出す。インレットパイプ
１１２は最後部のビーム４２内の低位置に配置され、残
ったオイルは一切浮上しているからインレットパイプ１
１２内へは汲みこまれることはない。

【００３４】この時点で、浄化された水はポンプ１０４
によりくみ出されて、加圧されてホース１０５を通って
圧力計１０６まで送られる。該圧力計はコントロールパ
ネル７８に取り付けられることが可能である。従って、
圧力計がポンプ１０４の出力圧力を読む。次に、水は少
なくとも１つのフィルタ１０８を通って流れる。該フィ
ルタは流入口即ちインレット１０９と流出口即ちアウト
レット１１１とを有している。より多くのフィルタを使
用して小さな粒子や分子を連続して水から取り除くよう
にすることも可能である。例えば、フィルタ１０８を約
１００ミクロンのフィルタから約１５０ミクロンの範囲
にあるフィルタを直列にしたものとし、約３０ミクロン
から１００ミクロンの範囲にあるストリングの巻いた
（ｓｔｒｉｎｇ−ｗｏｕｎｄ）フィルタを直列にしたス
トリングの巻いたフィルタに連結し、前記ストリングの
巻いたフィルタを今度は約１０ミクロンから３０ミクロ
ンのポリプロピレン製のフィルタに連結する。これらの
フィルタを全体的に融合濾過が行えるように配列して、
未濾過の水をフィルタの中心へ送くり、濾過した水をフ
ィルタの側部からくみ出すことで融合濾過を行う。フィ
ルタの数を変更しても本発明の範囲に影響を与えること
はない。フィルタにはストリングの巻いたフィルタカー
トリッジ、セルロースをひだ状にしたフィルタカートリ
ッジまたはポリプロピレンのフィルタカートリッジ等米
国ペンシルバニア州ハットフィールド市（Ｈａｔｆｉｅ
ｌｄ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ，ＵＳＡ）のメトプロ
社（ＭｅｔＰｒｏ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）のキース
トン・フィルタ部門（Ｋｅｙｓｔｏｎｅ Ｆｉｌｔｅｒ
Ｄｉｖｉｓｉｏｎ）から市販されているものを含む
が、それらに限定されるものではない。

【００３５】水位計１０６及び気圧計が示す圧力差はフ
ィルタにより負わせられる制限及び水ホース、槽及びパ
イプ内の経路摩擦（ｌｉｎｅ ｆｒｉｃｔｉｏｎ）を表
しものであり、下記に図７を参照して説明する。斯かる
制限は、フィルタの濾過能力及びタイプにより決定され
るが、清浄なフィルタであれば約１０３乃至１４０ｋＰ
ａ（約１５乃至２０ＰＳＩ）であるのが典型的である。
計器は一般に圧力差または制限の変化を観察することで
フィルタの汚れ具合を決定する一助として使用すること
が可能である。

【００３６】濾過されたフィルタアウトレット１１１を
出てくる水はヒータ８８へ供給される。該ヒータは供給
された水を所定の温度、例えば、約摂氏６０乃至８２度
（約華氏１４０乃至１８０度）の範囲の所定温度まで加
熱する。この温度の水では洗浄効果が著しく高められて
いる。加熱された水はのぞきガラスタイプの温度計１１
０を通過するが、斯かる温度計によりオペレータは加熱
された水の温度を読み取ることができるばかりでなく、
濾過された水の透明度を確認することができる。冷水で
満たされた槽１４を加熱するには数時間が必要である。
従って、洗浄装置はディジタルクロックを含んでおり、
該ディジタルクロックは洗浄装置に連結されており、装
置全体を再循環モードにするスイッチを入れて、オペレ
ータが洗浄装置を使用して作業を開始する数時間前に水
の予備加熱を開始するようにする。

【００３７】水は、温度計１１０を出ると直ぐにバルブ
１３０に到着する。該バルブは２つの出力路１３２、１
３４を有している。バルブ１３０は、例えば、３方シュ
ローダ（Ｓｃｈｒａｄｅｒ）空気起動バルブとすること
が可能である。下記に説明する如く、空気圧を制御し
て、バルブ１３０を再循環路１３２または洗浄路１３４
に出力するように設定することが可能である。最循環路
が選択されると、水は流れて槽１４に戻り再使用され
る。特に、最循環路１３２はアウトレットパイプ１５８
を含んでおり、該アウトレットパイプによりバルブ１３
０が槽１４内の室Ａに接続される。従って、路１３２に
より装置が濾過した水を一切排出せずに閉ループで作動
するのが可能となる。これにより、確実に如何なる残留
毒素もシステム内に留まって地下水や雨水排水システム
へ進入することがなくなる。また、水を室内循環サイク
ルの開始点へ強制的に至らしめることで分離工程の効率
を向上させることができる。更に、最循環路１３２は濾
過した水を槽へ戻して再利用を可能にする。これにより
排水の量を著しく低減することができる。濾過した水を
残留汚染物と一緒に槽内へ残して置くことも可能であ
る。汚染物は拭い取るかまたは槽から吸引して取り出す
ことで、実質的に排水の排出をゼロにすることが可能と
なる。その他の汚染物は毛管ソックス内に捕捉して、ソ
ックスを例えば危険廃棄物として処理する。

【００３８】洗浄路１３４を選択すると、バルブ１３０
が加熱された水を圧力洗浄機８６としての第２のポンプ
へ送り、該ポンプにより高圧水を発生して手動操作され
る洗浄ワンド９６へ送る。洗剤または洗浄用化学製品の
別個の流れをワンドを介して送ることが可能である。

【００３９】ある一定の条件下では、第２のポンプを出
る水の流量を調整するのが望ましい。例えば、装置内の
化学洗浄剤または洗剤が水の熱伝導率または比熱を変化
させることがあり、ヒータを流れる水の量を減らしてヒ
ータが水を十分に加熱できるようにする必要がある。従
って、手動調整の流量調整バルブ１５０を設けてポンプ
を出た後の水の流量を調整する。

【００４０】閉ループ洗浄装置は、また、槽１４ないの
水をオゾン化するオゾン化装置を含むことが可能であ
る。オゾン化装置は再循環ポンプ１６０を含み、該再循
環ポンプは清水室Ｊから水をくみ出して流入パイプ即ち
インレットパイプ１６２へ送る。再循環ポンプ１６０の
典型的な動作パラメータは約１９リットル乃至約３８リ
ットル（約５乃至約１０ガロン）の範囲の流量を含み、
例えば、毎分約２３リットル（約６ガロン）で約６９乃
至約１３８ｋＰａ（約１０乃至約２０ＰＳＩ）の範囲の
圧力、例えば１０３ｋＰａ（約１５ＰＳＩ）の圧力であ
る。水は再循環ポンプからベンチュリ式のインジェクタ
１６４等の気液混合装置を通って流れる。インジェクタ
１６４はオゾン発生器１６６に接続されている。水がイ
ンジェクタ１６４を通って流れると、低圧力の領域がベ
ンチュリの狭窄部により発生する。インジェクタ１６４
内の低圧力がオゾン発生器１６６からオゾンを引き出し
て水と混合する。オゾン化された水は次いで流出パイプ
即ちアウトレットパイプ１６８を通って槽１４内の室の
１つＡへ流入する。

【００４１】オゾン発生器１６６は酸素を大気から引き
入れて、引き入れた酸素に紫外線を照射することにより
作動する。オゾン発生器１６６は、毎時０．２５グラム
のオゾンを発生することのできるクリアウォータ・テク
ノロジーズ（Ｃｌｅａｒｗａｔｅｒ Ｔｅｃｈｎｏｌｏ
ｇｉｅｓ）社から市販されているモデルＣＳ−１２００
オゾン発生器を使用することが可能である。オゾンは高
度に酸化を行い、水中のほぼ如何なる汚染にでも攻撃を
加える。しかしながら、槽内に入った水の総量が典型的
な量である場合、例えば、約１８９リットル乃至２２７
リットル（約５０乃至６０ガロン）の水が槽内に入って
いる場合には、毎時０．２５グラムのオゾン発生率は概
ね洗浄装置の構成要素を損傷せずに汚染物をオゾン化す
るのに十分なものである。オゾン発生器１６６及び再循
環ポンプ１６０の双方とも洗浄機の電源が入っている時
にはいつでも起動するようにすることが可能である。オ
ゾンの半減期は約２０分なので、再循環モードは絶え間
無く水中のオゾンを補給するのに使用される。一実施の
形態では、槽１４に入っている水量が約２０８リットル
（約５５ガロン）の場合には、水をインレットパイプ１
６２を介してくみ出して清水室Ｊへ戻すのに約９分かか
るのが一般的である。

【００４２】蛇口またはホース等の外部の水源９２を別
途差圧バルブ１２０を介して槽１４に連結することが可
能である。外部の水源９２は蒸発により失った水の代わ
りに新たな補給水を供給する。この構成では、バルブ１
２０は槽１４内に浸清しておき、該バルブの上方の圧力
を感知する。圧力が所定のしきい値まで低下すると、低
水位が表示されてバルブ１２０が開き、補給水が槽１４
に入って該槽を満たすこととなる。加熱した水を洗浄装
置に使用することから、蒸発により大気へ失う水量が増
えるため、外部の水源９２を含めることはしばしば望ま
れる。

【００４３】洗浄装置と一緒に使用するオイル−水分離
器及び毛管ソックスの数は、それに限定されるものでは
ないが、洗浄される物体の汚染レベルを含んだ多くの要
素により変化する。従って、各装置は特定の物体または
産業の洗浄要求に合致するように製造される。例である
が、一実施の形態では、ポンプ１０４をＡＲＯ６６６０
２ｘシリーズの１／４インチ（約０．６３５ｃｍ）ポー
ト空気作動ダイヤフラムポンプとすることが可能であ
る。該ポンプは米国オハイオ州のブライアン市（Ｂｒｙ
ａｎ，Ｏｈｉｏ，ＵＳＡ）のＡＲＯフリュイド・プロダ
クト部門（ＦｌｕｉｄＰｒｏｄｕｃｔ Ｄｉｖｉｓｉｏ
ｎ）から市販されている。空気作動ポンプは可燃性の汚
染物を点火させる可能性を低減すると共に電気ショック
を防止することができる点で有益である。或いは、ダイ
ヤフラムポンプは、潜在的に破損の恐れのあるインペラ
を有していないことから有益となる。空気作動ポンプで
もポンプによっては接地をする必要があり、接地するこ
とで洗浄中に蓄積される静電荷の散逸の一助となる。

【００４４】一般に、洗浄装置には任意の適当なオイル
−水分離器及び毛管ソックスを使用することが可能であ
る。適当なオイル−水分離器はＭＰＡＫ融合プレート分
離器を含むことが可能であるがそれに限定されるもので
はない。該ＭＰＡＫ融合プレート分離器は米国オクラホ
マ州のタルサ市（Ｔｕｌｓａ，Ｏｋｌａｈｏｍａ，ＵＳ
Ａ）のファセット・インタナショナル社（Ｆａｃｅｔ
Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｉｎｃ．）から市販され
ている。適当な吸収体毛管ソックスはＳＰＩＬＣＡＴ毛
管吸収剤を含み、該毛管吸収剤は米国カリフォルニア州
のウォルナットクリーク市（Ｗａｌｎｕｔ Ｃｒｅｅ
ｋ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ，ＵＳＡ）のハイテック・エ
ンバイロンメント・イクィップメント（ＨＹＴＥＣ Ｅ
ｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔ Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ）社から市
販されている。

【００４５】図５は本発明の一実施の形態による電気結
線を図示したものである。全体的に、電気システムは、
物体から洗い落とされる可燃性物を点火させる可能性を
低減すると共に感電の危険性を低減するために最小限に
される。プラグ８０は例えば交流１２０ボルトまたは交
流２２０ボルトの交流電源に連結される。主電源スイッ
チ８２により電源を断路することができる。回路はレビ
トン（Ｌｅｖｉｔｏｎ）のカタログ番号６８９５等の高
電流（８０アンペア）漏電遮断器８４により保護される
のが好適である。少なくとも５つの装置が電圧源を横断
して接続されている。電気圧力洗浄機８６は交流電流を
使用して低圧力入力流から水等の液体の高圧流を発生さ
せる。ヒータ８８は液体を加熱して洗浄効果を高める。
ヒータ８８は３０００ワットのホット・タブ／スパ・ヒ
ータを備えることが可能であり、例えば、米国メイン州
のケツァル・フォール市（Ｋｅｚａｒ Ｆａｌｌ，Ｍａ
ｉｎ，ＵＳＡ）のバルカン・エレクトリック社（Ｖｕｌ
ｃａｎ ＥｌｅｃｔｒｉｃＣｏ．）から市販されている
モデルＨＴＴＲ、ＨＴＨＸまたはＳＴＸ等のヒータを使
用することが可能である。時間使用カウンタ９０により
オペレータは洗浄装置の使用時間を監視することができ
る。オゾン発生器１６６及び再循環ポンプ１６０の双方
とも電圧源を横断して接続して、主電源スイッチ８２が
閉じられた時にはいつでも起動されるようにすることが
可能である。

【００４６】槽１４に大量の冷水が入っている時には、
全体の量を洗浄力を高めるのに十分な温度に加熱するに
は数時間が必要となる。水はオペレータが作業場所に到
着する前に、プログラム可能なクロックを含んだ構成に
より自動的に予備加熱される。適当なクロックはスパヒ
ータにしばしば使用されるタイプのクロックとすること
が可能である。１つの適当なクロックは３０アンペアの
電流切換え負荷及びオーバーライド特徴を含んでおり、
ＢＲＫインダストリーズ（Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ）社か
ら市販されている。斯かるクロックは更にディジタルク
ロックモジュールを含んでおり、該モジュールはソレノ
イド駆動空気バルブに連結されており、該バルブは、一
実施の形態では、図７に図示した如く、空気圧源２００
と直列に接続されている。１日の現在の時間が事前に設
定され、所望の開始時間がクロックに設定される。事前
に設定した時間になると、クロックがソレノイドを起動
させてバルブを開放する。斯かるシステムはクロックが
作動している間は循環モードにされている。従って、事
前に設定した時間になると、クロックがバルブを開放
し、空気がシステムを起動し、それにより水の循環とヒ
ータのスイッチがＯＮにされる。

【００４７】洗浄装置は、本発明の第１の実施の形態に
より図７に図示の如く、空気圧制御及び信号方式を利用
して制御される。空気圧信号法は数々の異なる理由によ
り電気方式より好適とされる。例としては、空気圧信号
法は単純であり、出火の危険性が少なく且つ感電の可能
性を低減することができる。コントロールユニット７０
を含めた圧力洗浄装置全体が洗浄工程中に濡れる可能性
があると言った事実があるため、感電の危険性を低減す
るのは特に望まれることである。

【００４８】空気圧源２００は外部コンプレッサまたは
圧縮ガスボトルから好適には約２５６ｋＰａ（約４０Ｐ
ＳＩ）乃至約６９０ｋＰａ（約１００ＰＳＩ）の範囲の
圧力で空気システムに空気を供給する。本実施の形態で
は、空気厚源２００は迅速遮カプリング２０２へ連結さ
れている。該カプリング２０２の一方の分岐は洗浄した
物体をブロー乾燥するのに使用することが可能な外部の
乾燥機のワンドへ空気を送るように構成されている。カ
プリング２０２の別の分岐２０６はアルファバルブ２０
８及びロータリコントロールバルブ２１０へ連結されて
いる。コントロールバルブ２１０は「オフ」、「洗浄」
及び「循環」の３つの設定を有している。オフの設定で
は、空気圧源２００は遮断され、空気圧システムは作動
しない。循環の設定では、空気圧システムが水を循環さ
せるが圧力洗浄機は作動せず、物体は洗浄されない。洗
浄の設定では、ポンプ１０４が作動して、水をヒータを
通して流して圧力洗浄機の流入口まで至らしめる。

【００４９】コントロールバルブ２１０が循環の設定に
ある時には、コントロールバルブ２１０が空気信号２１
２をアルファバルブ２０８へ送り、該バルブを開放して
空気を路２１４からシャトルバルブ２１６まで流す。次
いで、空気が流れ調整装置即ちフローレギュレータ３１
０へ進入する。該レギュレータ３１０は手動で調整され
て、ポンプ１０４を駆動するレギュレータからの空気圧
の下流への流れをを変化させる。ポンプ１０４は入力空
気圧と同一圧力の水を出力する。従って、オペレータは
レギュレータ３１０を調整してポンプの水の流量を変化
することが可能となる。

【００５０】レギュレータ３１０を出る空気はまたＡＮ
Ｄ論理装置２２２へ連結される。図６に関連して上記に
説明した如く、ポンプ１０４はパイプ１１２を介して槽
１４から入力水を受け取り、該水をライン１０５に送り
出す。圧力センサ２２４がＡＮＤ装置２２２に連結され
且つ水のライン１０５に隣接して配置される。ＡＮＤ装
置はライン２２６内の空気圧が十分であると圧力センサ
が感知した時にのみＯＮにされる。これは安全機構とし
て作用して、空気ポンプ１０４が空気圧がゼロまたは不
十分なままで作動するのを防止するものであり、従っ
て、装置が「ドライライン（ｄｒｙ ｌｉｎｅ）」を圧
力洗浄器８６へ送るのを防止する。空気は、ＡＮＤ装置
を出ると、シュローダバルブ２４０へ送られる。従っ
て、コントロールバルブ２１０が再循環の位置にある且
つライン１０５内に十分な水圧が存在する場合には、シ
ュローダバルブが作動して、水をライン１０５からニー
ドルバルブ１１４を介して最循環路１３２まで通過させ
る。

【００５１】コントロールバルブ２１０が洗浄位置にあ
る時には、空気信号がライン２３０に乗ってリミットバ
ルブ２３２まで送られる。リミットバルブ２３２はラン
プ６２に隣接して取り付けられており、ランプが閉じら
れると、リミットバルブが空気をアルファバルブ２０８
へ送り、アルファバルブが開放される。これにより、オ
ペレータがランプが上げられて、汚染された物体が完全
に装置内に閉じ込められる前に該物体を洗い始めること
が防止される。リミットバルブは、また、空気をライン
２３６に乗せてＡＮＤ論理要素２２２及びシュローダバ
ルブ２４０まで送る。シュローダバルブが起動される
と、水流が洗浄路１３４を介して圧力洗浄器へ進入する
のが可能となる。従って、コントロールバルブが洗浄の
位置にあり、且つランプが閉じられている時には、空気
圧システムが圧力洗浄器を起動させる。リミットバルブ
２３２は、コントロールバルブ２１０が循環位置にある
時には、空気信号２１２を遮断しない。従って、水はラ
ンプが降ろされても槽内を循環する。これは水の循環が
オペレータや環境には何ら安全上のリスクとなるもので
はないからである。

【００５２】上記に説明した装置にはポンプ性能の技術
分野における著しい先進性が組み込まれている。図８は
本発明の一実施の形態による圧力洗浄器等の液体ポンプ
３４０の性能を最適化する方法を図示している。第１の
加圧流体源３００が設けられ、該加圧流体源はエアコン
プレッサと、圧縮ガスボトルからの空気または同等のも
のとを備えている。一般に、流体源３００の圧力は約２
７８乃至約６９０ｋＰａ（約４０乃至１００ＰＳＩ）で
ある。加圧された流体は供給ライン３０４でレギュレー
タ３１０へ連結される。該レギュレータは手動ダイヤル
作動の空気レギュレータを使用することが可能である。
レギュレータ３１０は手動可変の圧力の空気を出力ライ
ン３１２を介して供給する。

【００５３】出力ライン３１２は第２のポンプ３２０へ
連結されており、該ポンプは第２の液体を駆動する。第
２のポンプ３２０は供給口３２６を有しており、該供給
口で供給ライン３２４を介して送られる水供給３２２等
からの第２の液体の流れを受ける。第２の液体は第２の
ポンプを介して駆動されて、高圧にされて出力口３２８
を通って出て行く。第２のポンプとして、例えば、空気
作動ダイヤフラムタイプのポンプを使用することが可能
である。このタイプのポンプは電気を一切必要とせず、
従って可燃性の液体をくみ上げるのに使用するには安全
である。ダイヤフラムポンプの出力水圧は入力空気圧の
大きさにより決定される。

【００５４】より高圧の出力口３２８は液体ライン３３
０により液体ポンプ３４０の入力口３３２に連結され
る。液体ポンプは、例えば、圧力洗浄器とすることが可
能であり、本質的には高性能電気水ポンプである。外部
電源がラインコード３４２により液体ポンプ３４０へ提
供され、液体ポンプ中の電気モータに動力を供給する。
液体ポンプは高圧出力流３５０を加圧出力口３４４を介
して出力する。該流３５０を圧力洗浄器ワンドへ連結し
て流れを洗浄する物体上へ指向する。

【００５５】普通は、圧力洗浄器等の液体ポンプ３４０
は別のポンプへ連結されることはないが、ホースを使用
して水供給へ単純に連結される。水供給は平均圧力及び
瞬間圧力で大幅に変化し、特定の圧力洗浄器が水源の質
及び稠度に応じて異なる効率及び信頼性で作動する。実
際、水供給の圧力が過度に低い場合には、圧力洗浄器は
「不足（ｓｔａｒｖｅ）」状態で作動し、電気モータは
高圧入力流の時より仕事量を増大させて所定の出力圧力
を得るようにされる。これにより一般に電流消費が増大
し、ポンプの寿命及びポンプ内部の構成要素の寿命も著
しく短くされる。高品質圧力洗浄器はかなり硬化である
ことから、モータ及び／またはポンプの初期破損は大変
な不運となる。

【００５６】上記に説明したポンプの制御方法により上
記の問題を克服できる。レギュレータ３１０を制御して
第２のポンプ３２０の出力圧力を変化させることで、液
体ポンプ３４０への入力流３３０を正確に制御または
「調整（ｔｕｎｅｄ）」して、ポンプ３４０が最適の状
態で作動するようにされる。システムが作動し、ポンプ
３４０が高圧流３５０を発生すると、オペレータはポン
プ３４０のたてる音を聞いてレギュレータ３１０を手動
で調節または調整して、ポンプ３４０がスタービング
（ｓｔａｒｖｉｎｇ）されるのが防止される。経験を積
んだオペレータはポンプのストレスのあるまたは非最適
の性能を示すポンプの音の変化を聞き分けることが可能
である。オペレータは、また、レイン３１２及びライン
３３０内の圧力を示した計器を観察してライン３３０内
の圧力をポンプ３４０の製造業者の推奨する圧力に調整
することが可能である。

【００５７】或いは、オペレータがレギュレータ３１０
に最適の設定を判断するの一助とすべくライン３３０に
は圧力スイッチが配置されている。該圧力スイッチは、
また、水圧が不十分である時にヒータを遮断してヒータ
を保護する。スイッチに連結されたランプは、水圧が十
分あり且つヒータのスイッチが入っていると点灯する。
圧力スイッチは液体ポンプ３４０に対する理想の入力圧
力を代表するものであると公知のライン圧力になるとス
イッチが入るように事前に設定されている。この構成で
は、オペレータはランプが点灯するまでレギュレータを
調整すれば良いことになる。従って、ランプを目視する
ことで最適の入力水圧がポンプ３４０に供給されている
ことを確認できるようにされている。

【００５８】一般に、図１乃至図７に図示した構成要素
もまた図８に図示し且つ上記に説明した最適化の方法に
従って作動するようにすることが可能である。コントロ
ールバルブ２１０が洗浄位置にある時には、オペレータ
はレギュレータ３１０を調整して最適の空気流をポンプ
１０４に送り、該ポンプが一定且つ確かな圧力でライン
１０５に水の出力流を発生させる。この流が圧力洗浄器
８６に送られる。従って、オペレータはレギュレータ３
１０を調整することで迅速且つ正確に圧力洗浄器の性能
を調整してその最適化を図ることが可能となる。

【００５９】図５乃至図７の電気的構成要素、液圧構成
要素及び空気圧構成要素は、それぞれ、図４を参照して
説明した液体流路を有する圧力洗浄装置の一部として使
用するのにてきしたものとして概ね説明してきた。しか
しながら、一般には、それらの構成要素はその他数多く
の圧力洗浄装置に組み込むことが可能である。特に、槽
内の壁即ちビームまたはバッフルが様々な異なる形状を
取る圧力洗浄装置に使用することが可能である。

【００６０】一般には、槽内に設けられたバッフルは数
多くの形状を取ることが可能である。例として、図９を
参照して下記に説明するが、開口部を壁の頂部近傍に配
置して、壁により画成された室間で槽内の水の表面近傍
で浮遊する汚染物の通過を容易にすることが可能であ
る。或いは、図１０及び図１１を参照して下記に説明す
るが、ある壁の頂部近傍に開口部を設けると共に、その
他の壁は、該壁を収容する槽の底と協働して槽の底の近
傍に開口部を画成するような形状にすることが可能であ
る。

【００６１】図９は、本発明の第２の実施の形態によ
る、残骸即ちデブリ用のフィルタを備えた閉ループ洗浄
装置内に配置されたビームまたはバッフルの平面図であ
る。閉ループ洗浄装置内で洗浄する物体が汚染されてい
る上に特に汚れている時には、デブリを物体から洗い落
とす。デブリは重い粒子を含んでいることがあり、例と
して、金属の削り屑やゴムの残留物とうが挙げられる。
洗浄装置内に配置されたサブフロアの３つの側部に設け
られた間隙は、図３を参照して上記に説明したごとく、
洗浄液及びデブリが槽内へ流入するのを可能にする。デ
ブリは槽の床に沈降する場合があり、これに就いては図
４を参照して上記に既に説明をした通りである。しかし
ながら、一実施の形態では、デブリフィルタまたは側溝
即ち「ガタ（ｇｕｔｔｅｒ）」が洗浄装置に追加され、
該デブリフィルタはサブフロアの側部の間隙を通って流
れる時にデブリの少なくとも一部を捕捉する機能を果た
すようにされている。

【００６２】ビーム４０、４４２が槽１４内に載置さ
れ、且つ、互いにぴったりと嵌合して複数の綴じ込め室
Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ、Ｈ及びＪを形成し、これ
らは図４を参照して上記に説明した閉じ込め室と類似の
ものである。本実施の形態では、サブフロアの間隙がほ
ぼ無くされて水の表面レベルでビーム４４２内に開口部
４４０が設けられて、水の表面へ浮上してくるオイル及
びその他の汚染物が室Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ及びＦ内へ流
入するのが可能にされている。ある実施の形態では、開
口部がビーム４０にも設けられて、オイルが例えば室Ｇ
へ容易に通過できるようにされている。

【００６３】既に説明した如く、物体の洗浄中は、流出
水及び汚染物が先ず室Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ及びＥへ進入す
る。水は次いで、矢印で示す如く、例えば矢印４４８で
示す如く、ビーム４４２端の間隙４４３を通って室を出
て行くまで渦をまいている。開口部４４０が水位の頂部
近傍に配列されて、水位の頂部近傍へ浮上してくる傾向
にあるオイル及びその他の汚染物が容易に室間を流動で
きるようにされている。オイル及び汚染物が開口部４４
０を通って例えば室Ｃ内へ流入すると、オイル及び汚染
物のあるものが室Ｃ内に配置された吸収体ソックス１１
６により吸収される。一方、水はビーム４４２の端部の
間隙４４３を通って流れ続ける。

【００６４】水の流れは図４を参照して上記に説明した
水の流れとほぼ同一である。しかしながら、図９に図示
する如く、水はパイプ４６１を通って室Ｊから取り出さ
れて、フィルタポンプ４６２及びカートリッジフィルタ
４６３で処理され、清水がパイプ４６４を通って室Ｊへ
戻される。フィルタポンプ４６２は、許容レベルの圧力
を発生することができるポンプであれば任意のものとす
ることが可能であり、空気圧ポンプとすることも可能で
あるが、それに限定されるものではない。室Ｊには更に
加熱要素４６５が含まれており、該ヒータは室Ｊ内でほ
ぼ所望の温度レベルを維持するのに使用される。また、
本実施の形態では、また、オゾン発生器４６６及び混合
器即ちミキサ４６７が配置されて、気液混合体をパイプ
４６８を通して室Ａ内へくみ上げるようにされている。
パイプ４６８は、該ポンプを通してくみ上げられた気液
混合体がほぼ同等の力負荷即ちフォースロード（ｆｏｒ
ｃｅｌｏａｄ）を洗浄装置の両側部の室Ａへ加えるよう
に分割されている。

【００６５】本実施の形態では、吸収体ソックス４１６
が室Ｃ及びＧに配置されており、槽４１４内の水の流れ
から、オイル及びその他の汚染物が室Ｃ及びＧ内に集ま
る傾向があることが観察されていた。従って、吸収体ソ
ックス４１６を室Ｃ及びＧに配置することで、実質的な
量のオイルが水の表面から吸収されるのを可能にしてい
る。しかしながら、吸収体ソックス４１６を任意の適当
な室内に配置できることは理解できることである。

【００６６】オイル−水分離器は本実施の形態には含ま
れていないが、必要に応じてオイル−水分離器を含める
ことは可能である。既に説明した如く、オイル−水分離
器はオイル及びその他の汚染物が該分離器の表面まで浮
上してくるのを可能すると共に、オイルを一方向へ排出
する一方で水を別の方向へ流すのを可能にしている。槽
１４内の水流だけではオイルと水との分離を促進するに
は不十分である実施の形態に関しては、オイル−水分離
器を含めることが可能である。例として、室Ｇ内に於け
るオイル−水分離器の配向を、室Ｇ内のソックス１１６
がオイル−水分離器から排出されたオイルを吸収できる
ようにする。

【００６７】デブリフィルタ４６０は間隙４４３内に配
置して少なくとも重量大型の粒子、例えば、流出水中に
存在するデブリ等の一部を捕捉するようにする。一般
に、デブリフィルタ４６０は、水がデブリフィルタ４６
０を通って流れる一方で、デブリが該デブリフィルタ４
６０により捕捉されるように配置される。デブリフィル
タ４６０の形状は適当な任意の形状とすることができる
が、本実施の形態では、デブリフィルタ４６０は金属メ
ッシュ材料から形成するとともに、細長い「Ｖ字状」片
の形状にされる。デブリフィルタ４６０は、図示の如
く、ビーム４０、４４２上に設置されるのが典型的であ
るサブフロアの側部を越えて流れる流出水の少なくとも
一部がデブリフィルタ４６０を通って流れるように配置
される。デブリをデブリフィルタ４６０に回収すること
で例えば重量粒子がインレットパイプ１１２を閉塞する
可能性が低減される。

【００６８】概して言えば、上記に説明した洗浄装置の
特徴は特定の利用者の要求によって辺かする場合があ
る。例としては、洗浄装置全体のサイズは該装置を使用
して洗浄する物体のサイズに応じて大きくもなれば小さ
くもなる。更に、洗浄装置に関連した個々の構成要素も
また変化する。例えば、図２及び図３を参照して言及し
た如く、洗浄装置のベースフレームにヒンジで止められ
たランプはその他の様々な形状を取ることが可能であ
る。或いは、該ランプを除去して、ランプの代わりにゲ
ートを配置することが可能である。

【００６９】閉ループ洗浄装置内のビームの構成やビー
ム内の開口部の相対的配置も変化する可能性がある。例
えば、図１０を参照すると、槽内のビーム配列の第３の
実施の形態が図示されている。バッフル５２０、５２４
は槽または水盤５１４内に配置され、該バッフル５２
０、５２４が互いに対してかみ合って複数の室Ｍ、Ｎ、
Ｏ、Ｐ、Ｑ、Ｒ、Ｓ及びＴを槽５１４内に画成する。本
実施の形態では、バッフル５２０、５２４は槽５１４の
側部５２８にほぼ当接している。即ち、各バッフル５２
０、５２４の各端が槽５１４の側部５２８に当接してい
る。

【００７０】確実にバッフル５２０、５２４と槽５１４
の側部５２８との間にほぼ間隙が無くなるようにするに
は、バッフル５２０、５２４の端部を槽５１４の側部５
２８に概ね結合させる、例えば、溶接してしまうことで
ある。槽５１４の底に接触するバッフル５２０、５２４
の部分も溶接して、バッフル５２０、５２４と槽５１４
の底との間で確実に密封がなされるようにするのが典型
的である。斯かる密封が本質的に１つの室内の水が突発
的に漏れて別の室へ流入するのを防止する。バッフル５
２０、５２４及び槽５１４は任意の適当な材料から製造
することが可能であるが、本実施の形態では、バッフル
５２０、５２４及び槽５１４は、ステンレススチールが
溶接が簡単で防錆特性を有していることから、ステンレ
ススチールで形成される。

【００７１】槽５１４上に設置されるのが典型的である
サブフロア（図示なし）は、物体が洗浄される時には、
流出水がデブリフィルタ５３２のみを通って槽５１４内
へ流入するように配置される。デブリフィルタ５３２は
デブリ例えば金属の削り屑等を捕捉してデブリが潜在的
にフィルタポンプ５６２内へ汲み込まれて該ポンプ５６
２に損傷を与えるのを防止するのを目的としている。デ
ブリフィルタ５３２は、全体的には、流出水を通過させ
つつもデブリを回収できるような細かな、即ち小さな開
口部（図示なし）含んだ構造である。沈降物または粒状
物質、例えば、砂等のデブリもまたデブリフィルタ５３
２を通過するようにされ、最後に槽５１４の底に沈降す
る。一実施の形態では、デブリフィルタ５３２は金属メ
ッシュから形成され、その断面は略Ｕ字状にされてい
る。

【００７２】バッフル５２４の端部は、デブリフィルタ
５３２がバッフル５２４と槽５１４の側部５２８との間
に嵌合できるような形状にされており、図１１（ａ）乃
至図１１（ｃ）を参照して下記に説明する通りである。
特に、バッフル５２４の端部は、デブリフィルタ５３２
を支持しつつ、槽５１４の側部５２８に当接するように
配置されている。

【００７３】洗浄剤または水は室Ｍ、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｑ、
Ｒ、Ｓ及びＴを通って矢印５３６が示す方向へ流れる。
水のフローパターンは、洗浄中の物体上を流されなが
ら、室Ｍ、Ｎ、Ｏ及びＰに進入するようにされている。
水は室Ｑから室Ｒ内へ流入するが、本実施の形態では、
室Ｑにはオイル及びその他の汚染物を吸収するために配
置された毛管ソックス５４０が含まれている。

【００７４】水は室Ｒから室Ｓまで流れ、該室Ｓは、水
が一旦室Ｓへ到達すると該水と混合されるオイル及び沈
降物の量で言えば、「第２番にきれいな」室と考えられ
るのが典型的である。水は室Ｓからパイプ５６１を通っ
て取り出されて、フィルタポンプ５６２により処理さ
れ、該ポンプが室Ｓ及びフィルタ５６３から連続して水
をくみ出す。フィルタポンプ５６２は電気ダイヤフラム
ポンプまたは空気圧ポンプであり、該フィルタポンプ及
びポンプ５６３が依然として水に残った即ち槽５１４の
底に沈降していない残留沈降物をほぼすべて取り除く機
能を果たす。一実施の形態では、フィルタポンプ５６２
及びフィルタ５６３は、濾過される最小粒度は様々に変
化する可能性があるが、粒度がサイズで約５ミクロンを
超える一切の沈降物を取り除くように配置されている。
概ね、フィルタ５６３は任意の適当なフィルタであって
良く、例えば、バッグフィルタまたはカートリッジフィ
ルタであっても良い。浄化された水はフィルタ５６３か
らパイプ５６４を通って室Ｔへ戻される。この結果、室
Ｔ内に槽５１４内で最も浄化された水が保持されること
になる。

【００７５】ポンプ／ワンドインタフェース５７０が次
いで室Ｔから水をくみ上げまたは吸引して同一の水が循
環されて物体の洗浄に使用される。即ち、槽５１４を含
んだ洗浄装置は閉ループシステムであると考えられる。
ポンプ／ワンドインタフェース５７０は全体として室Ｔ
からパイプ５７２、物体を洗浄する水が吐き出されるワ
ンド及びワンドを出て行く水の圧力を調整する圧力調整
装置即ちプレッシャレギュレータを介して水を吸い上げ
るポンプを含むことが可能である。一実施の形態では、
ポンプ／ワンドインタフェース５７０は更に外部の水源
装置を含むことが可能であり、該水源装置は、必要な場
合、例えば、最初に槽５１４には水が張っていない場合
または水が槽５１４から蒸発してしまって場合に、水を
外部の水源からくみ上げるのを可能にする。斯かる外部
の水源装置は図７を参照して上記に説明をした外部水源
９２及びバルブ１２０と同様なものである。

【００７６】フィルタポンプ５６２が連続して水をくみ
上げることで少なくとも部分的に生じる水のフローパタ
ーンでは、概ね、流出水が室Ｍ、Ｎ、Ｏ及びＰにおいて
槽５１４内へ進入するのが可能となる。流出水は次いで
室Ｍ、Ｎ、Ｏ及びＰを通って循環して室Ｑへ流入し、室
Ｑが本質的に集結準備室となる。流出水は、室Ｑから室
Ｒ内へ循環流入して、室Ｒでポンプ５６２により室Ｓ内
へ吸引されて濾過される。一旦洗浄されると、水は順次
室Ｔ内へ吐き出されて行く。

【００７７】流出水は室Ｍ、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｑ、Ｒ、Ｓ及
びＴを通って流れる時に、該水は概ね水位の頂部近傍ま
たは水位の底部近傍で室間を流れる。オイル及びその他
の汚染物は、流出水が槽５１４を通って流れる間に水か
ら分離されることから、例えば、流出水がソックス５４
０を含んだ室内を通過する時の如く、オイルの通過を最
大限にすることが望まれる場合には、流出水は水位、例
えば、作動水位の頂部近傍で室間を通過することが可能
となる。或いは、オイルの通過を最小限にすることが望
まれる場合には、流出水は水位の底部近傍で室間を通過
させられる。流出水が流れるバッフル５２０、５２４内
の開口部の配置一実施の形態を図１１（ａ）、図１１
（ｂ）、図１１（ｃ）及び図１２を参照して下記に説明
する。

【００７８】加熱した水を使用して物体を洗浄使用とす
る場合には、加熱要素５７６を室Ｔ内に含めて室Ｔ内の
水を所望の温度まで加熱することが可能である。しかし
ながら、槽５１４内の水を特定の温度まで加熱する必要
がない実施の形態では、加熱要素５７６を除去すること
が可能である。

【００７９】本実施の形態では、オゾン発生器５８０及
び混合器即ちミキサ５８２を配置して気液混合体をパイ
プ５８４を通して室Ｍへ汲み込むことが可能である。パ
イプ５８４は該パイプを通して汲み上げられた気液混合
体が洗浄装置の両側で室Ｍにほぼ同等の力負荷即ちフォ
ースロードをもたらすように分割されている。オゾン発
生器５８０は大気から酸素を引き込んで該酸素に紫外線
を照射する作動を行う。

【００８０】ソックス５４０は、図示の如く、室Ｒに配
置されるばかりでなく、室Ｏにも配置される。これは、
槽５１４内の水の流れにより、オイル及びその他の汚染
物が室Ｏ及びＲに集まる傾向が観察されたからである。
従って、吸収体ソックス５４０を室Ｏ及び室Ｒに配置す
ることで水の表面から実質的な量のオイルを吸収するこ
とが可能となる。一実施の形態では、必要があれば、オ
イル−水分離器（図示なし）を含めることが可能であ
り、これにより更にオイル−水の分離が促進されること
になる。例ではあるが、オイル−水分離器は、室Ｏ及び
室Ｒに配置したソックス５４０がオイル−水分離器から
排出されたオイルを吸収するような配向に室Ｏ及び室Ｒ
内に配置される。

【００８１】図１１（ａ）を参照して、図１０のバッフ
ル５２０ａを本発明の第３の実施の形態に従って説明す
る。バッフル５２０ａはスロット６０４を含み、該スロ
ットがバッフル５２０が図１０に示す如くバッフル５２
４上に設置されるのを可能にする。バッフル５２０ａの
底６０８は槽５１４の底に嵌合してバッフル５２０ａが
槽５１４の底に対して実質的に密封されるのを可能にす
るように配置される。密封バッフル５２０ａ及び槽５１
４の底は水がバッフル５２０ａの下を流れるの防止す
る。バッフル５２０ａの側部６１０はデブリフィルタ５
３２が、上記に説明した如く、バッフル５２０ａにより
槽５１４のそくぐに対して支持されるような形状にされ
ている。

【００８２】バッフル５２０ａは開口部６１４、６１
６、６１８を含み、該開口部はバッフル５２０ａ内で該
開口部がほぼ槽５１４内の想定水位の頂部またはその近
傍となるように配置されている。開口部６１４、６１６
は室Ｍ及びＮの界面に配置され、該室Ｍ及びＮは洗浄さ
れた物体からの流出水を受けるようにされている。従っ
て、流出水は概ね室Ｍから室Ｎへ流れる。開口部６１６
は室Ｓ及び室Ｔの界面に配置されると共に、室Ｔから流
出した洗浄水が室Ｓへ流入するのを可能にするように配
列されている。斯かる流出は室Ｔへ追加する水の量が多
すぎる一方で室Ｔからくみ出される水の量が十分でない
場合に生じる。

【００８３】開口部６１４、６１６、６１８のサイズは
様々に変化する一方で、本実施の形態では、開口部６１
６は広くされてはいるが、開口部６１４６１８よりは幅
狭にされている。開口部６１４、６１６、６１８のサイ
ズは概ね槽５１４内の室のサイズ、槽５１４を通しての
水の流量、及び槽５１４の想定水位であるが、それらに
限定されるものではない。一般に、バッフル５２０Ａは
概ねパイプ５６１等のパイプを支持する開口部を含んで
いるが、開口部は例示を容易にするために図示されてな
い。

【００８４】図１１（ｂ）は本発明の第３の実施の形態
による図１０のバッフル５２０ｂの側面図である。図１
１（ａ）を参照して上記に説明したバッフル５２０ａと
同様に、バッフル５２０ｂの側部６３０は槽５１４の側
部に当接して密封されるように構成されている。バッフ
ル５２０ｂはまたスロット６３４を含んでおり、該スロ
ットは図１０の槽５１４内にバッフル５２０ｂを位置決
めするのを容易にする。バッフル５２０ｂの角部６３２
は該バッフル５２０ｂがデブリフィルタ５３２を槽５１
４の側部に対して支持するの可能にするような形状にさ
れている。

【００８５】バッフル５２０ｂの底６３８は「段差がつ
けられて」おり、底部分６３８ａが槽５１４の底に対し
て密封される、例えば、溶接されるような構成にされて
いる。或いは、底部分６３８ｂが槽５１４の底と一体と
なって槽５１４の底近傍で開口部を画成するように構成
されている。一実施の形態では、槽５１４の底近傍の開
口部はバッフル５２０ｂによりほぼ完全に画成されるよ
うにされている。底部分６３８ｂ及び槽５１４により画
成される開口部は水が室Ｒから室Ｓへ流れるのを可能に
する。初期の段階で論じた如く、室Ｒが水の表面からオ
イル及びその他の汚染物をすくい取るソックス５４０を
含んでいるのが典型的であって、それにより比較的きれ
いな水が室Ｓ内へ流入すると共に、流入した水はフィル
タポンプにより該室からくみ出される。水が槽５１４を
通って循環している最中にオイルが分離されると、オイ
ル及びその他の汚染物は水の頂面近傍へ浮上してくるこ
とから、槽５１４の底近傍に位置する水は、仮にあった
として、非常に小さなオイル及び汚染物を含む傾向があ
る。従って、底部分６３８ｂ及び槽５１４の底により画
成される開口部を水が通過するのを可能にするというこ
とは、本質的に、室Ｒ内の最もきれいな水のみを室Ｓ内
へ確実に通過させるということになる。

【００８６】バッフル５２０ｂの開口部６４４はが開口
部６４４が槽５１４内を循環する水の想定頂面となるよ
うに設置される。開口部６４４は水及び更にはオイル及
び汚染物が室Ｎから室Ｏへ流れるのを可能にする。本実
施の形態では、室Ｏにソックス５４０が配置される。開
口部６４４は、水が循環すると、オイル及びその他の汚
染物は水の頂面まで浮上してくる傾向にあることから、
水の頂面に配置される。従って、オイル及びその他の汚
染物は室Ｎから開口部６４４を通って室Ｏまで流れ、室
Ｏにてソックス５４０がオイル及びその他の汚染物を吸
収する。

【００８７】図１１（ｃ）を参照して、本発明の第３の
実施の形態に従って図１０のビーム５２０ｃを説明す
る。バッフル５２０ｃの側部６３０は槽５１４の側部に
当接して密封されるように構成されている。スロット６
７４はバッフル５２０ｃが図１０に図示した如くバッフ
ル５２４とかみ合うのを可能にするような配向にされて
いる。バッフル５２０ｃの角部６７２はデブリフィルタ
５３２を槽５１４の側部に当接させてバッフル５２０ｃ
で支持できるような形状にされている。

【００８８】バッフル５２０ｃの底部分６７８ａは槽５
１４の底を関連して槽５１４の底近傍に開口部を画成す
るような構成にされている。底部分６７８ａと槽５１４
の底とにより画成される開口部は水が室Ｏから室Ｐへ流
れるのを可能にする。本実施の形態では、室Ｏがソック
ス５４０を含み、該ソックスは槽５１４内を流れる水の
表面近傍からオイル及びその他の汚染物を吸収するよう
に構成されている。流出水が槽５１４を通って循環する
と、該水中のオイル及びその他の汚染物が水から分離し
始める。この分離によりオイルは、例えば、水が槽５１
４を通って循環する最中に水の頂面近傍まで浮上させら
れてくる。従って、底部分６７８ｂ及び槽５１４の底に
より画成される開口部を通って水が流れるのを可能にす
るということは、室Ｏ内に存する最もきれいな水を室Ｐ
へ流入させるということになる。

【００８９】バッフル５２０ｃの開口部６８２は槽５１
４を循環する水の想定頂面に位置決めされる。開口部６
８２は水及び更にはいずれのオイル及び汚染物が室Ｑか
ら室Ｒへ流れるのを可能にする。室Ｒにはソックス５４
０が含まれている。室Ｒがソックス５４０を含んでいる
ことから、オイル及び水は流出水が槽５１４を通って流
れる際に分離する傾向にあり、開口部６８２を水位の表
面に位置決めすることはオイル及びその他の汚染物が室
Ｒ内へ通過するのを促進し、室Ｒにおいてはオイル及び
その他の汚染物はソックス５４０によりほぼ吸収され
る。

【００９０】図１２は本発明の第３の実施の形態による
図１０のバッフル５２４の平面図である。バッフル５２
４はスロット７０４を含んでおり、該スロットは、図１
１（ａ）乃至図１１（ｃ）を参照して上記に説明した如
く、バッフル５２４が他のバッフル、例えばバッフル５
２０とかみ合うのを可能にしている。バッフル５２４は
開口部７０８を含んでおり、該開口部は流出水が室Ｐか
ら室Ｑ内へ循環するのを可能にしている。図示した如
く、開口部７０８は、図１０の槽５１４の底へ沈降して
いく傾向のある沈降物の量を低減するように構成されて
いる。即ち、本実施の形態では、開口部７０８は水の
「上」水位部分を室Ｐ及び室Ｑ間で通過させるようにす
る一方で水の「下」水位部分が室Ｐ及び室Ｑ間で通過を
するのを本質的に防止するような位置決めにされてい
る。

【００９１】概ね、上記に説明した圧力洗浄器は様々の
異なった洗浄用途に修正することが可能である。特にフ
ローパターン、例えば、図１０を参照して説明したフロ
ーパターンは数多くの異なる目的に併せて構成した洗浄
装置の一部として使用することが可能である。例とし
て、物体から硬化した沈降物を取り除くように構成され
た圧力洗浄装置は図１０を参照して上記に説明したフロ
ーパターンと同様のフローパターンを使用することが可
能である。

【００９２】図１３は本発明の第４の実施の形態による
グリットブラスト圧力洗浄システムを表した図である。
グリットブラスト圧力洗浄システムは概ねグリットを洗
浄剤内へ混合して、洗浄剤が洗浄中の物体上へ流される
ときに、グリットで硬化した沈降物例えば炭素堆積物を
物体から取り除くように構成されている。炭素堆積物は
加圧した液体だけを使用して除去するには一般に難しい
ので、グリットを含めて炭素堆積物を「削り」取るよう
にまたはその他のやり方で除去しようとするものであ
る。換言すれば、グリットで「ブラスト」して物体から
堆積物を除去するものである。

【００９３】水盤８０４はバッフル８２０、８２４を含
んでおり、該バッフルは互いにかみ合って複数の室Ｍ
１、Ｎ１、Ｏ１、Ｐ１、Ｑ１、Ｒ１、Ｓ１及びＴ１を水
盤８０４内に画成するように構成されている。本実施の
形態では、グリット８２６が室Ｍ１ａ内に入っている。
グリット８２６は概ね本質的に、物体に強制的に当てら
れた時に物体から堆積物を削り取るのに適した任意の粒
状材料から形成することが可能である。例としては、グ
リット８２６を酸化アルミニウムの粒子から形成するこ
とが可能である。グリット８２６に使用する粒子の粒度
は様々である。一実施の形態では、グリット８２６は約
２００グリット乃至４００グリットの範囲の粒度、例え
ば、２４０グリットの粒度を有するのが可能である。

【００９４】ポンプ８２７は室Ｍ１ａからの流入口即ち
インレット８２８と、室Ｍ１ａへの流出口即ちアウトレ
ット８３０を有しており、洗浄剤例えば水と室Ｍ１ａ内
で混合した状態にされている。ポンプ８２７は概ね任意
の適当な室とすることが可能であるが、一実施の形態で
は遠心ポンプである。グリット８２６が室Ｍ１ａから開
口部８１４を通って室Ｎ１内へ流入するのを防止するた
めに、フィルタ機構８１５を配置してグリット８２６が
室Ｎ１へ通過するのを実質的に防止する一方で、水が室
Ｍ１ａから室Ｎ１へ流れるのは可能にする。フィルタ機
構８１５は様々な異なる構成を取ることが可能であり、
例えば、４０００メッシュスクリーン等のワイヤクロス
とすることが可能であり、該スクリーンは約４００グリ
ットより大きなグリットを有する粒子の通過を妨げるよ
うに配置される。

【００９５】フロー機構８３２がグリットと混合された
水または清水例えば室Ｔ１からの水を物体（図示なし）
上に流して該物体を洗浄するように配置されている。特
に、本実施の形態では、バルブ８４０がフロー機構８３
２を室Ｍ１ａ、Ｔ１へ連結させて、「グリットの入った
（ｇｒｉｔｔｙ）」水を物体上へ流すか、清水を物体上
に流すかいずれかの選択をするようにされている。バル
ブ８４０は概ね任意の適当なバルブであって良く、本実
施の形態ではバルブ８４０は３方電気起動ソレノイドバ
ルブである。例えば、グリットの入った水を流れ機構８
３２内へ導入する選択をするには、利用者がトグルスイ
ッチ（図示なし）をパチンと入れるか、フロー機構８３
２のトリガ（図示なし）を引くか、あるいは、双方を行
うかすると、バルブ８４０が起動される。

【００９６】フロー機構８３２は一般的にアンローダ８
３６に連結されたポンプ８３４を含んでおり、該アンロ
ーダはスイッチ８３８へ連結されている。アウトレット
８４４は水がフロー機構８３２を通過し、且つ、物体上
へ流れるように配置されている。ポンプ８３４は任意の
適当な標準のポンプであって良い。しかしながら、ポン
プ８３４の耐摩耗性を増大するために、ポンプ８３４は
ステンレススチール及びセラミックから形成する。アン
ローダ８３６は、ワンド８４６が「ＯＮ」の時、すなわ
ちグリットの入った水または清水がポンプ８３４を介し
て汲み上げられている時には、水は、トリガが引かれて
水がアウトレット８４４から流出するようにされてなけ
れば、アウトレット８４２を通って室Ｍ１ａへ戻る。ス
イッチ８３８はフロースイッチであり、ワンド８４６が
「ＯＮ」の時、水がフロー機構８３２を通って流れて電
気回路を閉じる。

【００９７】図示した如く、水は矢印８５６により示す
如く室Ｍ１、Ｎ１、Ｏ１、Ｐ１、Ｑ１、Ｒ１、Ｓ１及び
Ｔ１を通って流れる。フローパターンは、水が洗浄中の
物体の上を流れると、ほぼ室Ｍ１ａにのみ進入する。水
が物体から流出してその他の室へ直接流入するのを防止
するために、サブフロア例えば図３のサブフロア５０を
水盤８０４上へ配置してサブフロアが本質的に水盤８０
４の室Ｍ１ａと近傍を除いた側部８５７と面一になるよ
うにする。室Ｍ１ａの近傍ではサブフロアと側部８５７
との間で空間を利用して流出水がほぼ室Ｍ１ａのみへ流
入するのを可能にする。従って、フィルタ機構８１５が
グリット８２６が室Ｎ１内へ実質的に流入するのを防止
すれば、流出水中のグリットも室Ｍ１ａから流出するの
を防止される。

【００９８】水は順次室Ｍ１ａから室Ｎ１ａ、Ｏ１ａ及
びＰ１ａへと流れる。最後に、水は室Ｑ１内へ流入す
る。水は、室Ｑから室Ｒ１内へ流入し、本実施の形態で
は室Ｒ１に毛管ソックス８５８が含まれており、該ソッ
クスはオイル及びその他の水に含まれている汚染物、例
えば、炭素を吸収するように配置されている。その他の
実施の形態では、例えば、本質的に吸収するオイルが無
い場合には、毛管ソックス８５８を取り除くことが可能
である。

【００９９】水は室Ｒ１から室Ｓ１へ流れ、室Ｓ１は、
水が一旦室Ｓへ到達すると水と一緒に混合される汚染物
の量から見れば「第２番目にきれいな」室と考えられる
のが典型的である。水は室Ｓ１からパイプ８９０を通っ
て取り出されて、フィルタポンプ８９４により処理され
る。該フィルタポンプは室Ｓ１及びフィルタ８９４から
連続して水を吸い上げる。フィルタポンプ８９２は電気
ダイヤフラムポンプまたは空気圧ポンプであって良く、
フィルタ８９４は水に依然として残っている、即ち槽８
０４の底に沈降しなかった沈降物ほぼ一切取り除くよう
に配置されている。一実施の形態では、フィルタ８９４
はバッグフィルタである。浄化された水はフィルタ８９
４からパイプ８９６を通って室Ｔ１へ戻され、室Ｔ１に
おいて水は加熱要素８９８により加熱することが可能と
なる。

【０１００】水例えば流出水が室Ｍ１ａ、Ｎ１ａ、Ｏ１
ａ、Ｐ１ａ、Ｑ１、Ｒ１、Ｓ１及びＴ１を通って流れる
時、流出水は概ね水位の頂部近傍または水位の底部近傍
で室間を通過する。流出水が水盤８０４を通って流れる
間に汚染物が水から分離することから、例えば、流出水
がソックス８５８を含んだ室内を通過する時の如く、汚
染物の通過を最大限にすることが望まれる場合には、流
出水は水位、例えば、作動水位の頂部近傍で室間を通過
することが可能となる。或いは、汚染物の通過を最小限
にすることが望まれる場合には、流出水は水位の底部近
傍で室間を通過させられる。一実施の形態では、バッフ
ル８２０及び８２４は図１０のバッフル５２０及び５２
４とそれぞれほぼ同一である。

【０１０１】図１４乃至図１８を参照すると、本発明の
第５の実施の形態の汚染物を有する物体を洗浄する全体
として符号９００で示した圧力洗浄装置が例示されてい
る。洗浄する物体を支持するサブフロア集成体９１５
（図１６及び図１８）が設けられており、汚染物を除去
するために物体から流れ出た汚染液を該フロアの流出部
９１４へ向けて指向するようにされている。沈降室は全
体に符号９１３で示されており、サブフロア集成体９１
５の下方に配置されている。該沈降室は回収端であるコ
レクション端９１７と、堆積端であるアキュミュレーシ
ョン端９２０とを有している。コレクション端９１７は
流出部９１４と液連絡するようにして、サブフロア集成
体９１５からのほぼ全ての流出汚染液を受けるように構
成されており、一方、アキュミュレーション端９２０は
コレクション端９１７の下流に配置されると共に、比較
的長い第１の流路（矢印９１８により表されている）を
介して前記コレクション端９１７と流動自在に連結され
ている。第１の流路９１８はほぼ均一で、比較的緩やか
な、非乱流の流れをコレクション端９１７からアキュミ
ュレーション端９２０を向けて流して、汚染液中の比較
的重量汚染物（図示なし）から汚染液中の比較的軽量汚
染物９５８（図２０）を分離するようにされている。こ
の均一な非乱流の流れにより軽量汚染物９５８が沈降室
９１３内で作動液水位に向かって浮上するのを可能にす
る一方で、重量汚染物は第１の流路に沿って流れる間に
沈降室９１３の底へ向かってほぼ沈降させられる。全体
として９２６で示したポンプ集成体はアキュミュレーシ
ョン端９２０からの液を汲み上げて濾過して、濾過した
液を別体の清液室９１１内へ戻すように配置されてい
る。最後に、清液室９１２から汲み上げた液体は物体か
ら汚染物を洗い落とすのに使用することが可能であると
共に、沈降室９１３により画成される循環流路が回収し
た流出汚染液から汚染物を除去するのを促進する。

【０１０２】従って、本実施の形態では、コレクション
端からアキュミュレーション端までの第１の流路に沿っ
て流れる間に沈降室内の回収した液体または水９５７に
懸濁した汚染物中の重量成分から汚染物の軽量成分が自
然に分離される。比較的緩やかで（約２リットル／分乃
至約３２リットル／分（約０．５ガロン／分乃至約８．
５ガロン／分）より好適には約７．５リットル／分（約
２．０ガロン／分））比較的非乱流且つ均一の流れを設
けることで、液体がアキュミュレーション端へ向けて流
れる間に汚染物の分離が自然に発生する。

【０１０３】沈降室９１３の第１の流路９１８はＵ字状
をしているのが好適であり、上流脚部９１９と下流脚部
９２４とを有しており、これらの２つの脚部はその中間
にある湾曲部９２９により分離されている。このＵ字状
の形状は脚部の周りの水の流れがより均一で非乱流の流
れを発生させて汚染物の分離を促進させるという点で有
益である。（何れでも追加可）図１４に図示するごと
く、閉ループ圧力洗浄装置９００は同様にベースフレー
ム集成体９０１を含み、該ベースフレームは別体の汚染
槽９０２上を伸長するようにされている。ベースフレー
ム集成体９０１の支持フレーム部材９０３が汚染槽９０
２の周りを伸長して全長に亘って開口部９０５を画成す
る。槽９０２は内壁９０６、９０７、９０８及び９１０
を含み、該内壁は全体で内部インレット室９１１と、中
央加熱または清浄室９１２とＵ字状の沈降物沈降室９１
３とを画成する。

【０１０４】サブフロア集成体９１５（図１６及び図１
８）は開口部９０５上に伸長するように支持フレーム部
材９０３の上に配置されると共に支持されている。金属
またはガラス繊維の格子集成体９０９が次いでサブフレ
ーム集成体９１５上に配置されると共に、更に開口部上
で支持フレーム部材９０３により支持される。従って、
洗浄する物品はこの格子上で且つサブフロア集成体９１
５及び閉じ込め槽９０２上方に支持して洗浄することが
できる。

【０１０５】汚染洗浄水を流出部９１４に向かって指向
するには、支持床９０４を格子集成体９０９の下に配置
して、支持フレーム部材９０３上で支持する。図１６及
び図１８において最も良く例示されている如く、支持床
９０４は回収した洗浄水が重力で流出部９１４へ向かっ
て流れるようにするかまたは流出部９１４に向かって送
るようにして、最終的には、沈降室のコレクション端９
１７の漏斗状開口部９３４を介してへ回収した洗浄水を
送るように構成されるのが好適である。回収した流出洗
浄水は沈降室９１３のコレクション端９１７に据え付け
られるのが好適である漏斗状の開口部９３４を介して送
られる。この濾過バスケット９１６は任意の目の粗い濾
過装置を使用することが可能であり、典型的には約１．
２７ｍｍ（約１０００分の５０インチ）オーダ以上の非
常に粗い汚染物を濾過するように構成されている。次
に、事前に濾過されている流出洗浄剤はＵ字状の沈降室
９１３の上流コレクション端９１７内へ分与され、そこ
で該コレクション端９１７から沈降室９１３の反対側の
アキュミュレーション端９２０へ向かって矢印９１８
（図１５）の方向へ流れが開始される。従って、沈降室
９１３に回収された流出水のコレクション口からアキュ
ミュレーション端への緩やか流れはインレットオリフィ
ス９２１を介してインレット室９１１内へ吸い込まれ
る。

【０１０６】上記に記載した如く且つ図１５に例示した
如く、Ｕ字状の沈降室は上流脚部９１９と、下流脚部９
２４とを備えており、該２つの脚部は中間の弯曲部９２
９により分離されている。コレクション端９１７は上流
脚部９１９に沿って配置され、一方アキュミュレーショ
ン端９２０は下流脚部９２４の先端隣接して配置されて
いる。コレクション端９１７もまた上流脚部の先端に隣
接して配置されて、コレクション端からアキュミュレー
ション端までの沈降室９１３の第１の流路９１８の長さ
を最大となるようにするのが好適である。更に、この第
５の実施の形態のＵ字状のデザインは、それ以前の実施
の形態と比較すると、より大量の流出水が沈降室９１３
に回収されるのを可能にしている。この構成により矢印
９１８の方向へ流れが発生し、斯かる流れは究極的には
より非乱流となり且つより多くの沈降物が沈降室に沈降
するのを可能にしている。更に、沈降室９１３を通るコ
レクション端９１７からアキュミュレーション端９２０
までの流路がより長くなり、重量沈降物とオイル等の軽
量沈降物が流出水から分離するための時間がより長く取
れるようになっている。

【０１０７】好適な実施の形態では、沈降室９１３の容
量は約５６８リットル乃至約７５７リットル（約１５０
ガロン乃至約２００ガロン）の範囲にあるが、約６８１
リットル（約１８０ガロン）であるのが好適である。下
記に説明するが、オゾン化ポンプ９２３を含んだオゾン
化システム９２２と、フィルタポンプ９２６を含んだ濾
過集成体９２５とは一体となって沈降室内で水の均一な
流れを発生させ、圧力ワンドが作動している間の該流れ
の流量は毎分約２３リットル乃至毎分約４５リットル
（毎分約６ガロン乃至毎分約１２ガロン）であるのが好
適である。しかしながら、圧力ワンドがアイドリング中
はフィルタポンプからの水の流れは停まるが、オゾンポ
ンプはオゾン化システムが作動していれば水の循環を継
続する。

【０１０８】図１４に最も良く図示している如く、イン
レットオリフィス９２１は内部側壁９０８を貫通して伸
長しており、該内部側壁の底部に隣接して配置されて、
アキュミュレーション端９２０から汲み上げられた水が
軽量汚染物を実質的に含まないのを確実にするのが好適
である。軽量汚染物はアキュミュレーション端において
水位の上部表面に集まるおとから、これらの汚染物の大
半はインレット室９１１内へは吸い込まれない。

【０１０９】上記に記載した如く、オゾン化システム９
２２のオゾン化ポンプ９２３及び濾過集成体９２５のフ
ィルタポンプ９２６はインレット室９１１に連結されて
おり、一体となって沈降室９１３を通る水の均一な流れ
を生み出す。オゾン化ポンプ９２３は第１のインレット
口９２７を介してインレット室９１１から水を汲み上げ
て上記に説明した如きオゾン化装置９２８を通過させ
る。しかしながら、前記の実施の形態とは違い、オゾン
された水は第１のアウトレット口９３０を介して沈降室
９１３の上流脚部９１９の先端部のコレクション端９１
７内へ分与される。この構成では、オゾン化された水は
直接沈降室内の流出水からのバクテリアや関係した匂い
を攻撃するようにされる。従って、オゾン化された水が
より効果的に利用される。時間装置を含めるようにし
て、流出水が冷却されている時にオゾン化した水を自動
的に循環させるようにするのが好適である。

【０１１０】図１５はフィルタポンプ９２６が第２のイ
ンレット口９３１を介してインレット室９３１へ連結さ
れているのを最も良く例示している。このフィルタポン
プ９２６は流入水を少なくとも１つのフィルタユニット
またはカプセル９３２を通過させ、該フィルタカプセル
が代わって濾過した水を第２のアウトレット口９３５を
介して中央加熱室または清液室９１２内へ分与する。一
連または連続したフィルタカプセル９３２、９３３を協
働して使用して約１ミクロン乃至約５ミクロン以上の範
囲の汚染粒子を濾過してしまうのが好適である。例え
ば、５ミクロンのフィルタで第１のフィルタカプセル９
３２を画成する一方で、１ミクロンのフィルタで第２の
フィルタカプセル９３３を画成する。

【０１１１】より詳細に下記に論じる如く、オゾン化シ
ステム９２２及び濾過集成体９２５は取り外し可能に支
持ハウジング９３６に取り付けられており、該支持ハウ
ジングは代わって閉じ込め槽９０２へ連結されている。
従って、ベースフレーム集成体９０１が閉じ込め槽上に
サブフロア集成体９１５及び格子集成体９０９を支持す
ると共に、従ってそれらの構成要素から分離することが
できる。別の実施の形態では、ベースフレーム及び閉じ
込め槽９０２は１つのユニットとして連結することが可
能である一方で、支持ハウジングはそれらの構成要素か
ら分離するようにすることが可能である。

【０１１２】ところで、濾過集成体９２５は、フィルタ
カプセル９３２、９３３の内圧が所定の量、好適には約
４１４ｋＰａ（約６０ＰＳＩ）であるが、を超えるとこ
の濾過ポンプ集成体が自動的に停止するような構成にさ
れている。斯かる内圧はフィルタカプセルが能力の限界
に来たかまたは閉塞を起こしているかのいずれかを暗示
するものである。

【０１１３】中央の清液室９１２はその他の室から密封
されており、濾過集成体９２５の第２のアウトレット口
９３５から分与される浄化した水以外のその他の一切の
水が該室内へ流入しないようにされている。これまでの
実施の形態と同様に、加熱コイル９３７が加熱室の底に
隣接して配置されて濾過した水を選択的に加熱するよう
にされている。

【０１１４】加圧ポンプ集成体９３８は少なくとも約６
８９５ｋＰａ乃至約２０６８５ｋＰａ（約１０００ＰＳ
Ｉ乃至約３０００ＰＳＩ）、好適には約１７２３７ｋＰ
ａ（約２５００ＰＳＩ）の能力を有しており、第３のイ
ンレット口９４０を介して中央の清液室９１２へ連絡自
在に連結されている。圧力ワンド（図示なし）が加圧ポ
ンプ集成体９３８に連結され、該加圧ポンプ集成体が加
熱濾過した水を該集成体を通して上記に説明した方法で
分与するようにされている。圧力ワンドを使用しない時
には、濾過集成体９２５を依存として作動させてインレ
ット室９１１内に入っている水を濾過することが可能で
ある。しかしながら、加熱濾過した水は加圧ポンプを通
って汲み上げられない一方で、濾過集成体９２５からの
濾過した水は第２のアウトレット口９３５を介して清液
室９１２内へ分与され続けることから、清液室９１２内
の濾過した水は該清液室の容量一杯に満たされることと
なる。

【０１１５】周りのＵ字状の沈降室内への流出を防止す
るためには、再循環スロット９４１を設けて、中央内壁
９１０を貫通して伸長させて、流出した加熱濾過した水
をインレット室９１１内へ戻すようにする。これらの再
循環スロット９４１は所定の高さで配置すると共に、イ
ンレット室から濾過集成体９２５を介して加熱室へ入
り、インレット室９１１へ戻るといった連続した再循環
を可能にする十分なサイズにすることが好適である。フ
ィルタポンプ９２６は圧力ポンプ９３８と並列に連結さ
れて、圧力ポンプが作動中には清浄な濾過した水のみが
循環されるようにするのが好適である。

【０１１６】従って、加圧ポンプ集成体９３８の圧力ワ
ンドが作動していない時には、Ｕ字状の沈降室内の流出
水の流れは停止する。これにより、使用されない時の沈
降室内での沈降物及び汚染物の分離が可能となる。しか
しながら、沈降室内に入っている水の流れを起こすのが
所望であれば、オゾン化装置９２２を作動することで達
成される。

【０１１７】図１９を参照すると、図１４の第５の実施
の形態の代替の構成が例示されており、そこでは、コレ
クション端９１７はほぼ沈降室９１３の上流脚部９１９
の全長に沿って配置されている。この実施の形態では、
支持フロア９０４が４つの別体のチャネル９０４−９０
４（図２２）に分割されるのが好適である。各チャネル
は流出水を４つのそれぞれの予備濾過バスケット９１
６、９１６′、９１６″及び９１６″′に送って予備の
濾過が行われる。

【０１１８】本発明の別の実施の形態では、図１７に図
示した如く、スキマ集成体９４２が沈降室９１３のアキ
ュミュレーション端９２０に隣接して位置決めされてお
り、沈降室９１３の回収液の作動水位と液連絡するよう
にされている。このスキマ集成体９４２は、ウエイン・
プロダクツ社（ＷＡＹＮＥ ＰＲＯＤＵＣＴＳ，ＩＮ
Ｃ）から供給されるものと同様なベルトスキマであるの
が好適であり、沈降室９１３の回収液の頂面９５６から
浮遊している軽量汚染物を除去するようにされたスキマ
ベルト装置９５５を含んでいる。

【０１１９】ベルトスキマ集成体９４２はモータ装置９
４３を含んでおり、該モータ装置は作動自在に一対の隔
置されたプーリ９４４、９４４′に連結されており、該
一対のプーリがスキマベルト装置９５５を駆動する。閉
じ込め槽９０２の後壁９４５はアキュミュレーション端
９２０にアクセス部を画成しており、該アクセス部が流
出水９５７の頂面９５６へのアクセスを可能にしてい
る。プーリ９４４、９４４′が図１７に図示する如く時
計方向に回転すると、前記の如く構成されたスキマベル
ト９５５が浮遊している汚染物９５８を汲み上げるかま
たはすくい取って漏斗装置９６０へ搬送する。次いで、
これらのすくい上げられた汚染物は閉じ込め槽９０２の
後壁９４５の後方に位置決めされた保持室９４６内へ投
入される。従って、これにより沈降室のアキュミュレー
ション端に体積された軽量汚染物９５８が流出水９５７
の頂面９５６からすくい取られるのが可能となる。オイ
ル当の軽量汚染物の大半がこのように沈降室から容易に
取り出されて、保持室９４６内へ投入される。次いで、
濾過集成体９２５が残留汚染物を濾過して、濾過した汚
染物が沈降室９１３からインレット室９１１へ送られ
る。

【０１２０】保持室９４６内の汲み上げられた汚染物が
その他のポンプ集成体及び関連の機器を収容した支持ハ
ウジングの他の室へ流出を防止するために、流出通路即
ちオーバフロ通路９４７が後壁９４５に設けられる。こ
のオーバフロー通路は汚染物が流出しえ沈降室９１３の
アキュミュレーション端９２０の上部へて戻るのを可能
にする。また、スプラッシュフード９６１を設けて飛び
はねが低減される。最後に、スキマポンプ装置９６２
（図１５）を設けて保持室９４６から汚染物を排出す
る。

【０１２１】図１８、図２０（ａ）及び図２０（ｂ）
は、本実施の形態の更に別の態様を最も良く例示してお
り、サブフロア集成体９１５を有しており、該サブフロ
ア集成体はベースフレーム集成体９０１を含み、該ベー
スフレーム集成体は作動位置（図２０（ａ））と保守位
置（図２０（ｂ））との間を移動できるように前記沈降
室９１３に連結されている。作動位置では、ベースフレ
ーム９０１が閉じ込め槽９０２の上で作動して使用でき
るよう位置決めされており、一方保守位置では、沈降室
９１３へのアクセスが可能にされる。サブフロア集成体
９１５は複数のローラ装置を含んでいるのが好適であ
り、該複数のローラ装置は全体として９５１で示されて
おり、ベースフレーム集成体９０１に取り付けられてい
る。該ベースフレーム集成体は空気圧リフト装置または
シリンダ９５０を有しており、該シリンダは、サブフロ
ア集成体が作動位置にある引っ込み位置（図２０
（ａ））と、伸展位置（図２０（ｂ））との間で選択的
に移動自在となる。伸展位置では、ベースフレーム集成
体９０１はローラ装置９５１上を転動自在に支持され
て、作動位置と保守位置との間を移動すること可能にな
る。

【０１２２】ベースフレーム集成体９０１、サブフロア
集成体９１５及び格子集成体９０９は１つのユニットと
して一体に連結された閉じ込め槽９０２及び支持ハウジ
ング９３６から分離するように構成されるのが好適であ
る。上記に記載した如く、ベースフレーム集成体９０１
は少なくとも４つの空気圧リフトシリンダ９５０を含ん
でおり、該空気圧リフトシリンダはベースフレーム集成
体の角部に配置されており、伸展位置に移動されると、
ベースフレーム集成体９０１及び支持構造体を閉じ込め
槽９０２から上方へ持ち上げるように地面と係合するよ
うに形成されている。好適な実施の形態では、ローラ装
置９５１は足車即ちキャスタホイール９５１により画成
されるのが好適であり、該キャスタホイールは前記リフ
ト装置のピストン部材９５２の先端に取り付けられてい
る。従って、空気圧リフト装置９５０が圧縮空気源を介
して起動（図２０（ｂ））されると、ピストン部材９５
２が引っ込み位置から伸展位置まで外側に伸長して、地
面からベースフレーム集成体９０１及び支持構造体を持
ち上げて、キャスタホイール９５１が該ベースフレーム
集成体９０１及び該支持構造体を転動支持する。次い
で、ベースフレーム集成体９０１及び支持構造体は転動
されて閉じ込め槽９０２及び支持ハウジング９３６から
分離されて、作動位置（図２０（ａ））から保守位置
（図２０（ｂ））へ移動されてどちらの構成要素も保守
が可能となる。

【０１２３】更に、本構成はコントローラボックス９５
３（図１８）に連結された電源を閉じ込め槽９０２及び
ポンプ集成体と言った構成要素から分離できると言う利
点を含んでいる。ベースフレームが閉じ込め槽９０２上
に適切に位置決めされると共に、該閉じ込め槽の後壁に
適切に接近させて位置決めされた時に圧力洗浄器の作動
を可能にすることのみに使用される起動スイッチ（図示
なし）を含めることが可能である。

【０１２４】逆に、リフト装置をコントローラ集成体上
に取り付けて、ハウジングフレームがベースフレーム集
成体９０１から分離できるようにすることが可能であ
る。水位センサまたはフロートスイッチ（図示なし）を
インレット室９１１内に設けることが可能である。該セ
ンサまたはスイッチは、清液室から日当たり推定約１９
リットル（５ガロン）の水が蒸発してしまって加熱した
濾過水の水位が所定量以下に低下した場合に自動補給機
能を起動する。清液室内の水位が低く低下し過ぎた場合
には、加熱コイルが露出して危険となる場合がある。更
に、沈降室内の流出水の水位が低下すると本実施の形態
の特徴である分離機能の効率が低下する。更に、スキマ
集成体９４２のインレット部材９４３がアキュミュレー
ション端の水の頂面にアクセスするのが困難になる。第
２の水位センサまたはフロートスイッチ（図示なし）を
設けることが可能である。該センサまたはスイッチは起
動されると本システムを停止して加熱コイルの露出を防
止する。

【０１２５】一旦水位センサが水位が低すぎると感知す
ると、自動補給機能が自動的に清液室９１２に清液を補
給し、これにより沈降室９１３の水位が所定の水位まで
上昇させられる。好適な実施の形態では、第３または補
給アウトレット口９４８が清液室と連絡連結されて、加
熱濾過水を所定の水位に保持するようにされる。

【０１２６】加熱室には自動排水機能も設けられてお
り、該加熱室の後壁に収容された別の水位センサ（図示
なし）に連結されている。インレット室９１１の水位が
所定の量を越えると、即ち、再循環特徴の容量を越える
と、ソレノイドが作動して水位が所定の範囲に低下する
まで、清液室の液が排水される。同様に、同様な自動排
水機能または警音機能を沈降室に設けて潜在的なオーバ
ーフローの問題に対して排水を行うかまたは警告を発す
るようにすることが可能である。

【０１２７】加圧ポンプ集成体９３８を清液室９１２の
再循環洗浄水に加えて外部水源に連結する。例えば、外
部水源に清い水洗水または特別の溶液を使用することが
可能である。一対のソレノイドまたは同様のもの（図示
なし）を作動して所望の水源から選択的に水を汲み上げ
ることが可能である。

【０１２８】上記に述べた如く、支持ハウジング９３６
を閉じ込め室９０２の後部に設けて全てのポンプ集成体
及び関連の機器を収容する。しかしながら、このハウジ
ングは閉じ込め室のどの面に配置しても良い。

【０１２９】図２１乃至図２３を参照すると、本発明の
第６の実施の形態が例示されており、該実施の形態は実
質的にはモジュラ式の設計にされており、複数の圧力洗
浄装置９００、９００′が一体に連結されて、洗浄領域
または室９３９を増大させたものである。本実施の形態
では、汚染物を有した物体を洗浄するモジュラ閉ループ
圧力洗浄装置９００が提供され、該モジュラ洗浄装置は
第１のサブフロア集成体９１５と、独立した第２のサブ
フロア集成体９１５とを有しており、該独立した第２の
サブフロア集成体は前記第１のサブフロア集成体に移動
自在に連結されると共に、該第１のサブフロア集成体に
隣接して配置される。第１のサブフロア集成体９１５は
第１の支持プラットフォーム９０９と、該第１の支持プ
ラットフォーム９０９の下の第１の支持フロア９０４と
を含んでいる。第２のサブフロア集成体９１５′は更に
第２の支持プラットフォーム９０９′の下に第２の支持
フロア９０４′を含んでいる。第１及び第２のプラット
フォームは共同して拡張した洗浄プラットフォーム領域
９３９を形成して該領域上で洗浄される物体を支持す
る。沈降室９１３は第１のサブフロア集成体９１５の下
方に配置されると共に、該第１のサブフロア集成体９１
５から流れる前記物体上を流された汚染液の流出のほぼ
全てを収容するように形成されている。この沈降室は更
に前記第２のサブフロア集成体９１５と液連絡されて、
前記第２のサブフロア集成体９１５から流れる前記物体
上をながされた汚染液の流出のほぼ全てを収容するよう
にされている。第１のポンプ集成体９２６が前記第１の
サブフロア集成体９１５と連結されており、且つ、前記
沈降室９１３から汚染液を汲み上げて濾過し、濾過した
液を別体の清液室９１２（図１５及び図１９）へ戻すよ
うに配置されている。清液室９１２から汲み上げた液は
前記物体から汚染物を洗い落とすのに使用されることが
可能であり、且つ、前記沈降室により画成される循環流
路が回収した流出汚染液から汚染物を除去するのを促進
する。

【０１３０】従って、モジュラ洗浄装置は２つ以上の独
立したサブフロア集成体を一体に並べて取り付けて、サ
イズを増大した連続した洗浄領域を形成するように設け
られるものである。更に、第２のサブフロア集成体から
回収される汚染流出液は沈降室内へ指向されることか
ら、主または第１のサブフロア集成体の水濾過洗浄集成
体を双方のサブフロア集成体に使用することが可能であ
る。

【０１３１】本第６の実施の形態の好適な形態では、沈
降室９１３は第１のサブフロア集成体９１５の下方に配
置されると共に、図１４及び図１５に例示された本発明
の第５の実施の形態とほぼ同様に形成及び作動される。
概略を述べれば、沈降室９１３はコレクション端９１７
を含んでおり、該コレクション端は第１のサブフロア集
成体９１５の第１の支持フロア９０４の流出部９１４と
液連絡して該第１のサブフロア集成体から回収した流出
汚染液のほぼ全てを収容する。沈降室は更にアキュミュ
レーション端を含んでおり、該アキュミュレーション端
は前記コレクション９１７から下流に配置されると共
に、比較的長い第１の流路を介して前記コレクション端
９１７に流動自在に連結されており、前記比較的長い第
１の流路はほぼ均一で、比較的緩やかで非乱流の流れを
前記コレクション端９１７から前記アキュミュレーショ
ン端まで流して、汚染液の比較的重量汚染物から汚染液
の比較的軽量汚染物を分離するようにされている。同様
に、前記第１の流路に沿って流れる間に、前記軽量汚染
物は沈降室９１３内の作動液水位に向かってほぼ浮上さ
せられ、一方、比較的重量汚染物は沈降室の底に向かっ
てほぼ沈降させられる。

【０１３２】図２２の分解図に図示するごとく、独立し
たサブフロア集成体９１５、９１５′の支持プラットフ
ォーム９０９、９０９′を囲繞する対向する側壁９６
３、９６３′及び垂直ポスト９６５、９６５′の一方を
取り除くと、洗浄室の洗浄領域９３９を共同で囲繞する
ように２つの圧力洗浄装置を並べて配置することが可能
となる。次に、ブラケット及びファスナ（図示なし）を
使用して第１のサブフロア集成体９１５の第１のベース
フレーム集成体９０１を第２のサブフロア集成体９１
５′の第２のベースフレーム集成体９０１に連結するこ
とが可能となる。このように、比較的堅牢な一体構造を
形成して洗浄する物体を支持することが可能となる。一
旦ベースフレームを適切に一体に取り付けると、第１の
支持プラットフォーム９０９及び第２の支持プラットフ
ォーム９０９′（図２３）を対応するベースフレーム宗
世帯９０１、９０１′の上に配置して拡張した連続洗浄
プラットフォーム領域９３９が形成される。

【０１３３】１つの構成では、第１のサブフロア集成体
９１５の第２の支持フロア９０４′を該支持フロアに捕
捉された流出水を第１のサブフロア集成体９１５（図示
なし）の第１の支持フロア９０４のいずれかの沈降室９
１３内へ排水するように形成することができる。例え
ば、第２の支持フロア９０４′が複数のチャネルを含
み、該チャネルを回収した流出水を重力で第１のサブフ
ロア集成体９１５の対応する部分へ送るようにすること
ができる。次に、第１の支持フロア９０４を双方のサブ
フロア集成体からの回収流出水を第１のサブフロア集成
体の流出部へ向けて送るように形成する。

【０１３４】より好適には、各サブフロア集成体９１
５、９１５′が独立した支持フロア９０４、９０４を含
み、各支持フロアがそれぞれ回収した汚染液をそれぞれ
の流出部９１４、９１４′へ向けて送ってそれぞれに流
入させるようにする。図２２に最も良く分かる如く、支
持フロア９０４、９０４′を図１９の実施の形態に組み
合わせる４つのチャネル漏斗を構成した形態とすること
が可能である。しかしながら、図１５及び図１６に使用
した単一漏斗構成も使用することが可能である。

【０１３５】ともかく、第２のサブフロア集成体９１
５′は回収室即ちコレクション室９６６′（図２１）を
含むのが好適であり、該コレクション室は第２の支持フ
ロア９０４′の流出部９１４′の下方に配置される。コ
レクション室９６６′は第２のサブフロア集成体から流
れる物体の上へ流された汚染液の流出のほぼ全てを収容
するように形成される。汚染流出液が一旦コレクション
室９６６′内に回収されると、該液は沈降室９１３へ液
搬送されて、ぢ２のサブフロア集成体９１５の流出汚染
液が沈降室９１３内に収容される。

【０１３６】これは搬送ポンプ装置９６７（図１６及び
図１９）により実施される。該ポンプ装置は第１のサブ
フロア集成体９１５とぢ２のサブフロア集成体９１５と
の間に連結されて、コレクション室９６６の汚染流出液
を沈降室９１３内へ汲み上げ及び／または吸い上げる。
搬送ポンプ装置９６７は第１のサブフロア集成体９１５
の支持ハウジング９３６内に収容される。該搬送ポンプ
装置は第１のポンプ集成体９２６が作動すると同時にま
たはコレクション室９６６内に汚染液が回収されたのを
感知すると同時に自動的に作動するように構成されるの
が好適である。第１のホース９６８がコレクション室９
６６を搬送ポンプ装置に液連結するのが好適であり、一
方、第２のホース９７０が搬送ポンプ装置９６７を沈降
室９１３のアキュミュレーション端９２０へ液連結して
いる。

【０１３７】いずれの構成でも、単一の濾過集成体、オ
ゾン化集成体、スキマ集成体等を上記の結合ユニットに
使用することが可能である。斯かるモジュール方式は、
別個の閉じ込め槽や県警する水洗浄集成体を必要とせず
に洗浄室を容易に拡張または削減できることから、利点
がある。

【０１３８】本発明のほんの２、３の実施の形態のみを
説明してきたが、本発明は、本発明の趣旨及び範囲を逸
脱することなく、その他の多くの特定の形態に使用でき
る点は理解されることである。例として、オイルを吸収
する吸収体ソックスに代えて任意の適当な機構を使用す
ることが可能である。更に、これらの機構の位置及び吸
収体ソックスの位置は様々に変更することが可能であ
る。同様にオイル−水分離器の位置も変更することが可
能である。オイル−水分離器の位置を変更することに加
えて、オイル−水分離器を使用しないことも可能であ
り、これとて本発明の趣旨及び範囲を逸脱するものでは
ないことは理解すべき点である。

【０１３９】一実施の形態では、洗浄装置を蒸気クリー
ナと一緒に使用するように修正することが可能となる。
蒸気クリーナはしばしば通常の、例えば、公共の給水を
利用して使用される場合があり、従って、上水道から水
を汲み上げることとなる。従って、本発明による洗浄装
置と一緒に使用される場合には、該洗浄装置を同一の給
水源に接続させて必要な場合には水を汲みあげて、洗浄
サイクルの最後で発生する清水を処理する。蒸気はフィ
ルタポンプやカートリッジフィルタに悪影響を与える傾
向があることから、洗浄装置を修正してフロージェット
（Ｆｌｏ−Ｊｅｔ）ポンプを含めるようにすることが可
能であり、該ポンプは流出水をインレットから洗浄装置
の槽へ、例えば、インレットから第２番目にきれいな水
の入った室へ汲み上げる。ポンプから分離されるフィル
タは、水を槽または外部の給水源へ戻す前に、流出水を
濾過して沈降物を除去する。流出水が既に説明した如き
フローパターンで流れることから流出水中のほぼ全ての
オイルを回収することが可能である。

【０１４０】上記に説明した如く、ランプを洗浄装置の
一部として含めて、洗浄装置を使用して洗浄する物体の
積み降ろしを容易にすることが可能である。しかしなが
ら、別体のランプまたは本洗浄装置の一部でないランプ
を代わりに使用して洗浄装置への物体の出し入れを行う
ことも可能なことは理解しておく必要がある。例として
は、洗浄装置がゲート、例えば、ドアを含み、該ドアを
介して物体を移動させる。外部のランプまたはフォーク
リフト装置を使用して洗浄装置の斯かるゲートを介して
の物体の移動を容易にすることも可能である。一実施の
形態では、係るゲートを９０度以上に開放できるように
して、洗浄装置内外への物体の移動を容易に行えるよう
にすることも可能である。

【０１４１】更に、物体の洗浄を容易にするために、洗
浄する物体を載せる回転板即ちターンテーブルを配置す
ることが可能であり、圧力洗浄装置のサブフロア上に配
置することが可能である。物体の洗浄中にターンテーブ
ルが物体を回転することから、ターンテーブルを含めれ
ば、多くの場合洗浄工程を改良することになる。

【０１４２】飛びはね防止カバーを洗浄装置に取り付け
て水の量、如いては、洗浄装置がへ飛び出す汚染物の量
を低減することができる。飛びはね防止カバーは単純に
洗浄装置上に配置して、ネジやロック等の装置を使用し
て取り付ける。或いは、飛びはね防止カバーをサスペン
ションシステムを利用して取り付けることが可能であ
り、該サスペンションシステムを利用すれば、飛びはね
防止カバー及び飛びはね防止シールドを洗浄装置に対し
て枢動させることができ、例えば、飛びはね防止カバー
シールドを洗浄装置へヒンジで止めることも可能であ
る。

【０１４３】洗浄装置及び該洗浄装置の特徴の寸法も、
本発明の趣旨及び範囲を逸脱することなく、様々に変更
することが可能である。例として、ここに説明した洗浄
装置より大きな航空機のエンジン等の物体を洗浄する場
合には、洗浄装置の寸法を該物体を収容できるように修
正することが可能である。同様に、洗浄装置の寸法はま
た小型の物体を収容するようにも修正可能である。

【０１４４】更に、上記に説明した洗浄装置を製造する
のに使用される材料は、洗浄装置と一緒に使用する洗浄
剤及び洗浄対象の物体のタイプを含んだ要素により変わ
る。洗浄装置の全ての構成要素はポンプも含め脱イオン
水を洗浄剤として使用する場合には、当業者には自明の
ことであるが、ステンレススチール等の材料をから製造
することが可能である。

【０１４５】オイルの含有量が非常に少ない物体を洗浄
するのに使用されるグリッドブラスト圧力洗浄装置で
は、循環中に循環してオイルを分離する必要がなくなる
ことから、洗浄装置は２、３の室のみを含めばよくな
る。斯かる装置では、グリットの保持と流出水の収容用
に１つの室を配置し、グリットの入っていない水を保持
するために第２の室を配置する。第３の室を中間の「集
結準備（ｓｔａｇｉｎｇ）」室として設けるが、これと
て、本発明の趣旨及び範囲を逸脱するものではない。従
って、本例は例示のためのものであって、何ら限定され
るものではなく、本発明は本書に記載した詳細に限定さ
れるものではなく、冒頭の特許請求の範囲の範囲内で修
正ができるものである。

【０１４６】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば携
帯ができて、排出を一切することなく、洗浄中の物体か
らオイル、化学物質及びその他の危険物を回収できると
いう優れた効果を発揮する。更に、本発明は洗浄剤を十
分に循環すると共に濾過して、洗浄工程中に生じる廃棄
物の量を最小限するという効果を奏する。加えて、本発
明においては携帯が可能で、自動車のエンジンまたは部
品等の物体を内部に収納して、利便良く、十分に且つ安
全に斯かる物体を洗浄すると共に、調整可能な圧力洗浄
機への給水を制御して洗浄する物体から汚染物を回収で
きるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１の実施の形態の閉ループ洗浄装
置の斜視図。

【図２】 本発明の第１の実施の形態の図１に示した閉
ループ洗浄装置の側面図。

【図３】 本発明の第１の実施の形態の図１に示した閉
ループ洗浄装置の平面図。

【図４】 本発明の第１の実施の形態の液流路の平面
図。

【図５】 本発明の第１の実施の形態の電気的構成を示
す電気回路図。

【図６】 本発明の第１の実施の形態の流体圧力要素を
説明する液体回路図。

【図７】 本発明の第１の実施の形態の空気圧を説明す
る空気回路図。

【図８】 本発明の第１の実施の形態の流体ポンプの性
能を最適化する方法を説明する流体回路図。

【図９】 本発明の第２の実施の形態のデブリフィルタ
を備えた洗浄装置のビーム配列の平面図。

【図１０】 本発明の第３の実施の形態のデブリフィル
タを備えた洗浄装置のビーム配列の平面図。

【図１１】 （ａ）図１０示したビームの側面図。
（ｂ）図１０に示した別のビーム側面図。（ｃ）図１０
に示した更に別のビームの側面図。

【図１２】 図１０に示した上下に延びるビーム５２４
の側面図。

【図１３】 本発明の第４の実施の形態におけるグリッ
トブラスト圧力洗浄装置の平面図。

【図１４】 本発明の第５の実施の形態における閉ルー
プ洗浄装置の斜視図。

【図１５】 図１４に示した閉ループ洗浄装置の平面
図。

【図１６】 図１５における１６−１６線に略沿った閉
ループ洗浄装置の側断面図。

【図１７】 図１４に示した閉ループ洗浄装置のスキマ
装置の正面図。

【図１８】 図１５に示した閉ループ洗浄装置の正面
図。

【図１９】 図１４に示した閉ループ洗浄装置の別例を
示す平面図。

【図２０】 （ａ）図１４に示した洗浄装置の側面図。
（ｂ）同じく図１４の洗浄装置において空気リフト装置
が作動した状態を示す側面図。

【図２１】 本発明の第６の実施の形態におけるモジュ
ラ閉ループ洗浄装置を正面から見た一部破断斜視図。

【図２２】 図２１に示したモジュラ洗浄装置を正面か
ら見た分解斜視図。

【図２３】 図２１に示したモジュラ洗浄装置を後面か
ら見た斜視図。

【符号の説明】

１０…閉ループ洗浄装置、１２…ベースフレーム、１４
…閉じ込め槽、１５…ねじ、１６…壁フレーム、１７…
クリート、１８…前壁、２０…後壁、２２…左側壁、２
４…右側壁、２６…前面ベースサイドフレーム、２７…
ガスケット、２８…側面ベースサイドフレーム、３０…
ビーム、３２…ポスト、３３…ブレース、３４…フォー
クポケット、３６…水平ビーム、３８…垂直ポスト、４
０…縦方向ビーム、４１…フランジ、４２…横方向ビー
ム、５０…サブフロア、５１…バー、６２…ランプ、７
０…コントロールユニット、８０…プラグ、８２…電源
スイッチ、８４…漏電遮断器、８６…電気圧力洗浄器、
８８…ヒータ、９０…カウンター、９２…水源、１００
…分離器、１０４…ポンプ、１０６…計器、１０８…フ
ィルタ、１１０…温度計、１１６…吸収体ソックス、１
２０…バルブ、１３０…バルブ、１６０…循環ポンプ、
１６６…オゾン発生器。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 エデュアルド エム．ガルシア アメリカ合衆国 83676 アイダホ州 ワ イルダー ビー アヴェニュー 212 (72)発明者 スコット エリアソン アメリカ合衆国 97060 オレゴン州 ト ラウトデイル サウスイースト ストット アヴェニュー 3904 (72)発明者 ルドルフ ダブリュ．ドリスコル ジュニ ア アメリカ合衆国 94025 カリフォルニア 州 メンロ パーク エディソン ウェイ 3345

Claims (43)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 汚染物を有した物体を洗浄し、汚染物を
   回収する閉ループ洗浄装置において、 前記汚染物を除去するために前記物体に洗浄剤を流すよ
   うにされたフロー機構と、 前記洗浄剤及び前記汚染物を受けて回収するように構成
   された水盤であって、前記フロー機構が前記水盤から前
   記洗浄剤を吸い上げて閉ループを形成する水盤と、 前記洗浄剤を第１のインレットから前記水盤まで汲み上
   げ、且つ、前記洗浄剤を第１のアウトレットを介して前
   記水盤まで戻す第１のポンプとを備えていることを特徴
   とする閉ループ洗浄装置。
2. 【請求項２】 前記水盤が、前記洗浄剤が前記物体上を
   流された後で該洗浄剤を収容するように配置された少な
   くとも１つの収容室及び前記洗浄剤が前記物体上を流さ
   れた後で該洗浄剤を直接に収容することはないが、前記
   収容室と液連絡されている少なくとも１つの集結準備室
   を含んだ複数の相互連結された室を含み、該複数の室
   が、前記洗浄剤が前記少なくとも１つの収容室から前記
   少なくとも１つの集結準備室へ通過する間に概ね前記洗
   浄剤の汚染度がより低くなるように配置されていること
   を特徴とする請求項１に記載の装置。
3. 【請求項３】 前記洗浄中に前記デブリを回収するよう
   に配置されたフィルタを備えていることを特徴とする請
   求項２に記載の装置。
4. 【請求項４】 汚染物を有した物体を洗浄し、汚染物を
   回収する閉ループ洗浄装置において、 前記汚染物を除去するために前記物体に洗浄剤を流すよ
   うにされたフロー機構と、 前記洗浄剤及び前記汚染物を受けて回収するように構成
   された水盤であって、前記フロー機構が前記水盤から前
   記洗浄剤を吸い上げて閉ループを形成する水盤と、 オゾン発生器と、 前記オゾン発生器に連結されて、前記洗浄剤中にオゾン
   を注入する気液ミキサと、 前記洗浄剤を第１のインレットから前記水盤まで汲み上
   げ、前記洗浄剤を強制的に前記ミキサを貫通させ、且
   つ、前記洗浄剤を第１のアウトレットを介して前記水盤
   まで戻す第１のポンプとを備えていることを特徴とする
   閉ループ洗浄装置。
5. 【請求項５】 前記水盤が、前記インレットと前記アウ
   トレットとの間の循環路を画成する複数のバッフル壁を
   含み、前記装置が更に前記循環路内に配置された汚染物
   分離器を備えていることを特徴とする請求項４に記載の
   装置。
6. 【請求項６】 前記洗浄剤を前記循環路を通して循環さ
   せる第２のポンプを備えていることを特徴とする請求項
   ５に記載の装置。
7. 【請求項７】 前記第２のポンプが、前記第２のインレ
   ットから前記水盤まで前記洗浄剤を汲み上げ、該洗浄剤
   を強制的にフィルタに通すことを特徴とする請求項６に
   記載の装置。
8. 【請求項８】 前記物体がデブリを含み、前記装置が更
   に前記物体の下方に取り付けられたフィルタを含み、該
   フィルタが前記洗浄中に前記デブリを回収するように配
   置されていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
9. 【請求項９】 汚染物及びデブリを有した物体を洗浄剤
   で洗浄する方法において、 前記物体をフィルタを含んだ水盤上に配置する段階と、 前記物体上へ洗浄剤を流し、前記汚染物及び前記デブリ
   を除去する段階と、 前記フィルタ中のデブリを捕捉し、前記フィルタが前記
   洗浄剤及び前記取り除いた汚染物が該フィルタを通って
   流れるように配置されている段階と、 前記水盤中にオゾンを注入する段階と、 前記洗浄剤を第１のインレットから前記水盤まで汲み上
   げる段階と、 前記洗浄剤を第１のアウトレットを介して前記水盤まで
   戻す段階とを備えていることを特徴とする汚染物及びデ
   ブリを有した物体を洗浄剤で洗浄する方法。
10. 【請求項１０】 汚染物を有した物体を洗浄する閉ルー
    プ洗浄装置において、 洗浄する物体を支持するサブフロア集成体であって、前
    記汚染物を取り除くために前記物体上に流された汚染液
    を前記サブフロア集成体の流出部へ指向するようにされ
    たサブフロア集成体と、 前記流出部と液連絡されて、前記サブフロア集成体から
    のほぼ全ての流出汚染液を収容するコレクション端、及
    び、該コレクション端から下流に配置されると共に、比
    較的長い第１の流路を介して前記コレクション端と流動
    自在に連結されたアキュミュレーション端を有した、前
    記サブフロアの下方に配置された沈降室であって、前記
    比較的長い第１の流路が、ほぼ均一で、比較的緩やかな
    非乱流の流れを前記コレクション端から前記アキュミュ
    レーション端まで流して、前記汚染液の比較的重量汚染
    物から前記汚染液の比較的軽量汚染物を分離するように
    されており、前記第１の流路に沿って流れる間に、前記
    軽量汚染物は前記沈降室内の作動液水位に向かってほぼ
    浮上させられ、一方、重量汚染物は前記沈降室の底に向
    かって沈降させられるようにされている沈降室と、 前記アキュミュレーション端から液体を汲み上げて濾過
    すると共に、濾過した液体を別体の清液室へ戻すように
    配置されたポンプ集成体とを備え、 前記清液室から汲み上げた液体を前記物体から汚染物を
    洗い落とすのに使用することが可能であると共に、前記
    沈降室により画成された循環流路が前記回収した流出汚
    染液からの前記汚染物の除去を促進することを特徴とす
    る閉ループ洗浄装置。
11. 【請求項１１】 前記第１の流路が、全体的にＵ字状に
    されていると共に、中間の湾曲部により分離された上流
    脚部及び下流脚部を有し、前記アキュミュレーション端
    が前記下流脚部の先端に隣接して配置され、一方、前記
    コレクション端が前記上流脚部に沿って配置されている
    ことを特徴とする請求項１０に記載の圧力洗浄装置。
12. 【請求項１２】 前記サブフロア集成体が、流出した汚
    染液を前記沈降室の前記コレクション端のほぼ上方に据
    え付けられた前記流出部に向かって送るようにされてい
    ることを特徴とする請求項１１に記載の圧力洗浄装置。
13. 【請求項１３】 前記サブフロア集成体の前記流出部か
    ら前記沈降室の前記コレクション端へ通過する前記回収
    した流出汚染液と液連絡して、比較的粗い汚染物を濾過
    するフィルタ装置を備えていることを特徴とする請求項
    １２に記載の圧力洗浄装置。
14. 【請求項１４】 前記沈降室の前記アキュミュレーショ
    ン端に隣接して配置されると共に、前記沈降室の回収液
    の作動液水位と液連絡して、該回収液から前記軽量汚染
    物を取り除くようにされたスキマ集成体を備えているこ
    とを特徴とする請求項１０乃至１３のいずれかに記載の
    圧力洗浄装置。
15. 【請求項１５】 前記スキマ集成体が、前記沈降室内の
    回収した液の頂面から浮遊している前記軽量汚染物を取
    り除くようにされたベルト装置を含んでいることを特徴
    とする請求項１４に記載の圧力洗浄装置。
16. 【請求項１６】 前記沈降室内の前記回収した液の作動
    液水位より十分下方に配置された少なくとも１つのイン
    レットオリフィスを介して前記ポンプ集成体と前記沈降
    室の前記アキュミュレーション端との間で流動自在に連
    結されて、液を汲み上げ保持するインレット室を含んで
    いることを特徴とする請求項１０に記載の圧力洗浄装
    置。
17. 【請求項１７】 オゾン発生器と、 該オゾン発生器に接続された気液ミキサとを含み、該気
    液ミキサが前記沈降室の前記コレクション端に隣接した
    液中にオゾンを注入するように配置されていることを特
    徴とする請求項１０に記載の圧力洗浄装置。
18. 【請求項１８】 前記サブフロア集成体が、前記沈降室
    の上で作動して使用されるよう位置決めされた作動位置
    と、前記沈降室にアクセス可能な保守位置との間を移動
    自在となるように前記沈降室に連結されたベースフレー
    ム集成体を含んでいることを特徴とする請求項１０に記
    載の圧力洗浄装置。
19. 【請求項１９】 前記サブフロア集成体が、前記ベース
    フレーム集成体に取り付けられると共に、前記サブフロ
    ア集成体が作動位置にある時の引っ込み位置と、前記作
    動位置と前記保守位置との間で前記ベースフレーム集成
    体を転動支持できる伸展位置との間を移動自在された複
    数のローラ装置を含んでいることを特徴とする請求項１
    ８に記載の圧力洗浄装置。
20. 【請求項２０】 前記ローラ装置が、前記引っ込み位置
    と前記伸展位置との間で選択的に移動自在となる空気圧
    シリンダにより画成されることを特徴とする請求項１９
    に記載の圧力洗浄装置。
21. 【請求項２１】 汚染物を有した物体を洗浄するモジュ
    ラ圧力洗浄装置において、 第１のプラットフォームを画成し、該第１のプラットフ
    ォームの下に第１の支持フロアを含んでいる独立した第
    １のサブフロア集成体と、 前記第１のサブフロアの前記第１のプラットフォームと
    共同して一体に拡張した洗浄プラットフォームを形成し
    て該プラットフォーム上で洗浄される物体を支持するよ
    うに、前記第１のサブフロアの前記第１のプラットフォ
    ームに取り外し自在に連結されると共に、該プラットフ
    ォームに隣接して配置される第２のプラットフォームを
    画成すると共に、該第２のプラットフォームの下に第２
    の支持フロアを含んでいる独立した第２のサブフロア集
    成体と、 前記第１のサブフロア集成体の下方に配置されると共
    に、前記第１のサブフロア集成体からの前記物体上に流
    された汚染液の流出をほぼ全て収容するように形成さ
    れ、且つ、更に、前記第２のサブフロア集成体と液連絡
    して、前記第２のサブフロア集成体からの前記物体上に
    流された汚染液の流出をほぼ全て収容するようにされた
    沈降室と、 前記第１のサブフロア集成体に連結されると共に、前記
    沈降室からの前記汚染液を汲み上げ濾過し且つ濾過した
    液を別体の清液室へ戻すように配置された第１のポンプ
    集成体とを備え、 前記清液室から汲み上げられた液が前記物体から汚染物
    を洗い落とすのに使用することが可能となり、且つ、前
    記沈降室により画成される循環流路が回収した流出汚染
    液からの汚染物の除去を促進することを特徴とするモジ
    ュラ圧力洗浄装置。
22. 【請求項２２】 前記第１の支持フロアが、前記第１の
    サブフロア集成体の流出汚染液を前記沈降室のコレクシ
    ョン端のほぼ上方に位置決めされた流出部に向けて送る
    ようにされていることを特徴とする請求項２１に記載の
    モジュラ圧力洗浄装置。
23. 【請求項２３】 前記第２の支持フロアが、回収した汚
    染液を前記第１の支持フロアの前記流出部へ向けて指向
    し且つ該流出部内へ流入させるようにされていることを
    特徴とする請求項２２に記載のモジュラ圧力洗浄装置。
24. 【請求項２４】 前記第２のサブフロア集成体が、更に
    前記第２のプラットフォームの下方に配置され、且つ、
    前記第２のサブフロア集成体からの前記物体上に流され
    た汚染液の流出をほぼ全て収容するように形成されてい
    ると共に、前記沈降室と液連絡して、前記第２のサブフ
    ロア集成体の前記流出汚染液を前記沈降室内へ収容する
    ようにされているコレクション室を含んでいることを特
    徴とする請求項２２及び２３のいずれかに記載のモジュ
    ラ圧力洗浄装置。
25. 【請求項２５】 前記第１のサブフロア集成体と前記第
    ２のサブフロア集成体との間に連結されて、前記第２の
    サブフロア集成体の前記流出汚染液を前記沈降室内へ汲
    み上げる搬送ポンプ装置を含んでいることを特徴とする
    請求項２４に記載のモジュラ圧力洗浄装置。
26. 【請求項２６】 前記第２の支持フロアが、前記第２の
    サブフロア集成体の前記流出汚染液を前記コレクション
    室のコレクション端のほぼ上方に位置決めされた前記第
    ２のサブフロア集成体の流出部へ向けて送るようにされ
    ていることを特徴とする請求項２５に記載のモジュラ圧
    力洗浄装置。
27. 【請求項２７】 前記沈降室が、前記コレクション端か
    ら下流に配置されると共に、比較的長い第１の流路を介
    して前記コレクション端と流動自在に連結されたアキュ
    ミュレーション端を有し、前記比較的長い第１の流路
    が、ほぼ均一で、比較的緩やかな非乱流の流れを前記コ
    レクション端から前記アキュミュレーション端まで流し
    て、前記汚染液の比較的重量汚染物から前記汚染液の比
    較的軽量汚染物を分離するようにされており、前記第１
    の流路に沿って流れる間に、前記軽量汚染物は前記沈降
    室内の作動液水位に向かってほぼ浮上させられ、一方、
    重量汚染物は前記沈降室の底に向かって沈降させられる
    ようにされていることを特徴とする請求項２２に記載の
    モジュラ圧力洗浄装置。
28. 【請求項２８】 前記第１の流路が、全体的にＵ字状に
    されていると共に、中間の湾曲部により分離された上流
    脚部及び下流脚部を有し、前記アキュミュレーション端
    が前記下流脚部の先端に隣接して配置され、一方、前記
    コレクション端が前記上流脚部にほぼ沿って配置されて
    いることを特徴とする請求項２７に記載のモジュラ圧力
    洗浄装置。
29. 【請求項２９】 オゾン発生器と、 該オゾン発生器に接続された気液ミキサとを含み、該気
    液ミキサが前記沈降室の前記コレクション端に隣接した
    液中にオゾンを注入するように配置されていることを特
    徴とする請求項２２に記載のモジュラ圧力洗浄装置。
30. 【請求項３０】 汚染物を有した物体を水で洗浄する方
    法において 流出部を有した支持フロアを含んだサブフロア集成体を
    介して沈降室上に前記物体を支持する段階と、 前記物体上に水を通過させて該物体から前記汚染物を取
    り除く段階と、 前記支持フロアに回収された前記汚染水を前記支持フロ
    アの前記流出部へ向けて指向して前記沈降室のコレクシ
    ョン端内へ流入させる段階と、 前記コレクション端から回収した汚染水を、ほぼ均一
    で、比較的緩やかで、非乱流の流れを前記コレクション
    端から前記アキュミュレーション端へ流すようにされた
    比較的長い第１の流路に沿って前記沈降室のアキュミュ
    レーション端へ流す段階と、 前記汚染水の比較的重量汚染物から前記汚染水の比較的
    軽量汚染物を分離する段階であって、前記第１の流路に
    沿った前記ほぼ均一で、比較的緩やかで、非乱流の流れ
    により、前記軽量汚染物は前記沈降室内の作動水位に向
    かってほぼ浮上させられ、一方、前記重量汚染物は前記
    沈降室の底に向かってほぼ沈降させられる分離段階と、 前記アキュミュレーション端からの水を汲み上げて濾過
    して、前段階を通して循環使用する段階とを備えている
    ことを特徴とする汚染物を有した物体を水で洗浄する方
    法。
31. 【請求項３１】 前記汲み上げ濾過する段階が、濾過さ
    れた水を清水室へ戻して、前記前段階に使用するための
    清水の溜めを画成する段階を含んでいることを特徴とす
    る請求項３０に記載の物体を洗浄する方法。
32. 【請求項３２】 前記汲み上げ濾過する段階が、前記濾
    過段階及び前記戻し段階の前に、前記アキュミュレーシ
    ョン端からインレット室へ水を汲み上げる段階を含んで
    いることを特徴とする請求項３１に記載の物体を洗浄す
    る方法。
33. 【請求項３３】 前記第１の流路が、全体的にＵ字状に
    されていると共に、中間の湾曲部により分離された上流
    脚部及び下流脚部を有し、前記アキュミュレーション端
    が前記下流脚部の先端に隣接して配置され、一方、前記
    コレクション端が前記上流脚部に沿って配置されている
    ことを特徴とする請求項３０に記載の物体を洗浄する方
    法。
34. 【請求項３４】 前記沈降室の前記アキュミュレーショ
    ン端内の前記回収された水の頂面から前記軽量汚染物を
    すくい取る段階を含んでいることを特徴とする請求項３
    ０に記載の物体を洗浄する方法。
35. 【請求項３５】 オゾンを前記コレクション端近傍の前
    記水盤内へ注入する段階を含んでいることを特徴とする
    請求項３０に記載の物体を洗浄する方法。
36. 【請求項３６】 汚染物を有した物体を洗浄する圧力洗
    浄装置において、 前記物体上を流された汚染液の流出のほぼ全てを収容す
    るように形成された沈降室と、 前記沈降室に連結されて該沈降室からの液を汲み上げ濾
    過して、濾過した液を別体の清液室へ戻すポンプ集成体
    であって、前記清液室から汲み上げた液を前記物体から
    前記汚染物を洗い落とすのに使用することが可能であ
    り、且つ、前記沈降室により画成される循環流路が前記
    回収した流出汚染液からの前記汚染物の除去を促進する
    ポンプ集成体と、 ベースフレーム及び洗浄する前記物体を支持するプラッ
    トフォームを有すると共に、前記沈降室上で作動して使
    用されるように位置決めされた作動位置と、前記沈降室
    にアクセス可能となる保守位置との間で移動自在となる
    ように前記沈降室に連結されたサブフロア集成体とを備
    えていることを特徴とする汚染物を有した物体を洗浄す
    る圧力洗浄装置。
37. 【請求項３７】 前記サブフロア集成体が、前記ベース
    フレーム集成体に取り付けられると共に、前記サブフロ
    ア集成体が作動位置にある時の引っ込み位置と、前記サ
    ブフロア集成体を前記沈降室から持ち上げ離間させて、
    前記沈降室から前記保守位置へ転動支持且つ移動する伸
    展位置との間を移動自在された複数のローラ装置を含ん
    でいることを特徴とする請求項３６に記載の圧力洗浄装
    置。
38. 【請求項３８】 前記ローラ装置が、前記引っ込み位置
    と前記伸展位置との間で選択的に移動自在となる空気圧
    シリンダにより画成されることを特徴とする請求項３７
    に記載の圧力洗浄装置。
39. 【請求項３９】 前記サブフロア集成体が、前記ベース
    フレームにより支持され且つ前記プラットフォームの下
    に配置されると共に、前記洗浄される物体上に流された
    汚染液を前記サブフロア集成体の流出部に向けて指向し
    て、作動位置にある前記沈降室内へ送り込むようにされ
    た支持フロアを含んでいることを特徴とする請求項３６
    に記載の圧力洗浄装置。
40. 【請求項４０】 前記支持フロアが、前記サブフロア集
    成体の前記流出汚染液を前記沈降室のコレクション端の
    ほぼ上方に位置決めされた前記サブフロア集成体の流出
    部へ向けて送るようにされていることを特徴とする請求
    項３９に記載の圧力洗浄装置。
41. 【請求項４１】 前記沈降室が、前記コレクション端か
    ら下流に配置されると共に、比較的長い第１の流路を介
    して前記コレクション端と流動自在に連結されたアキュ
    ミュレーション端を有し、前記比較的長い第１の流路
    が、ほぼ均一で、比較的緩やかな非乱流の流れを前記コ
    レクション端から前記アキュミュレーション端まで流し
    て、前記汚染液の比較的重量汚染物から前記汚染液の比
    較的軽量汚染物を分離するようにされており、前記第１
    の流路に沿って流れる間に、前記軽量汚染物は前記沈降
    室内の作動液水位に向かってほぼ浮上させられ、一方、
    重量汚染物は前記沈降室の底に向かって沈降させられる
    ようにされていることを特徴とする請求項４０に記載の
    圧力洗浄装置。
42. 【請求項４２】 前記第１の流路が、全体的にＵ字状に
    されていると共に、中間の湾曲部により分離された上流
    脚部及び下流脚部を有し、前記アキュミュレーション端
    が前記下流脚部の先端に隣接して配置され、一方、前記
    コレクション端が前記上流脚部にほぼ沿って配置されて
    いることを特徴とする請求項４１に記載の圧力洗浄装
    置。
43. 【請求項４３】 前記沈降室の前記アキュミュレーショ
    ン端に隣接して配置され且つ前記沈降室内の前記回収し
    た液の前記作動液水位と液連絡していると共に、前記回
    収した液から前記軽量汚染物を取り除くようにされてい
    るスキマ集成体を含んでいること特徴とする請求項４１
    に記載の圧力洗浄装置。