JPH11217666A - 窒素含有Ｃｒ被膜とその製造方法およびこの被膜を有する機械部材 - Google Patents
窒素含有Ｃｒ被膜とその製造方法およびこの被膜を有する機械部材Info
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- JPH11217666A JPH11217666A JP33024198A JP33024198A JPH11217666A JP H11217666 A JPH11217666 A JP H11217666A JP 33024198 A JP33024198 A JP 33024198A JP 33024198 A JP33024198 A JP 33024198A JP H11217666 A JPH11217666 A JP H11217666A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来の機械部材は耐摩耗性、耐焼き付き性及
び耐腐蝕性に劣る欠点があった。 【解決手段】 本発明の窒素含有Ｃｒ被膜においては、
窒素を含有するＣｒ膜中に１００原子当たり５０〜９９
のクロム原子及び５０〜１の窒素原子を含むＣｒX ＮY
結晶を点在せしめる。この被膜は窒素の雰囲気中でクロ
ムをスパッタリングすることによって形成する。また、
このスパッタリングを行う際、イオンボンバード処理を
行う。また、機械部材、特に自動２輪車、自動３輪車、
自動４輪車等の摩擦摩耗部品の表面に被膜を設ける。
び耐腐蝕性に劣る欠点があった。 【解決手段】 本発明の窒素含有Ｃｒ被膜においては、
窒素を含有するＣｒ膜中に１００原子当たり５０〜９９
のクロム原子及び５０〜１の窒素原子を含むＣｒX ＮY
結晶を点在せしめる。この被膜は窒素の雰囲気中でクロ
ムをスパッタリングすることによって形成する。また、
このスパッタリングを行う際、イオンボンバード処理を
行う。また、機械部材、特に自動２輪車、自動３輪車、
自動４輪車等の摩擦摩耗部品の表面に被膜を設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、窒素含有Ｃｒ被膜
とその製造方法およびこの被膜を有する機械部材に関す
るものである。
とその製造方法およびこの被膜を有する機械部材に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】金型をはじめとする多くの機械部材は過
酷な条件下で使用されるが、これらの機械部材に求めら
れる特性としては、耐摩耗性に優れること、耐食性に優
れること、耐焼き付き性に優れることなどが挙げられ
る。
酷な条件下で使用されるが、これらの機械部材に求めら
れる特性としては、耐摩耗性に優れること、耐食性に優
れること、耐焼き付き性に優れることなどが挙げられ
る。
【０００３】このような特性を付与するために、通常は
このような機械部材の母材であるＳＫＤ（工具鋼）など
に様々な表面処理を施している。その一つに硬質クロム
メッキがある。硬質クロムメッキは表面の硬度が平均Ｈ
ｖ１０００〜１１００と高いものの、処理廃水に含まれ
る六価クロムが水質汚染の原因になっている。また、メ
ッキ被膜と母材との密着性に問題があった。
このような機械部材の母材であるＳＫＤ（工具鋼）など
に様々な表面処理を施している。その一つに硬質クロム
メッキがある。硬質クロムメッキは表面の硬度が平均Ｈ
ｖ１０００〜１１００と高いものの、処理廃水に含まれ
る六価クロムが水質汚染の原因になっている。また、メ
ッキ被膜と母材との密着性に問題があった。
【０００４】また、ＰＶＤ処理方法によって機械部材の
母材表面にＣｒ単層被膜を形成した場合、母材と被膜と
の密着性は優れているものの、膜の硬度がＨｖ５００〜
６００と低いなどの問題点があった。
母材表面にＣｒ単層被膜を形成した場合、母材と被膜と
の密着性は優れているものの、膜の硬度がＨｖ５００〜
６００と低いなどの問題点があった。
【０００５】また、自動２輪車や自動４輪車等のエンジ
ンおよび変速機に使用される摩擦摩耗部品などの機械部
材には、高速回転体との摺動接触や打撃を繰り返し受け
るために高靱性、高い表面硬度及び低摩擦係数等の特性
が要求される。
ンおよび変速機に使用される摩擦摩耗部品などの機械部
材には、高速回転体との摺動接触や打撃を繰り返し受け
るために高靱性、高い表面硬度及び低摩擦係数等の特性
が要求される。
【０００６】これらの部品には、一般に低炭素鋼或いは
中炭素鋼等が用いられ、上記特性を付与するために、浸
炭、焼き入れ、窒化などの表面処理が施されているが、
更に、硬質クロムメッキやニッケル−リンメッキ、ショ
ットピーニング、各種金属の溶射などが行われ、耐摩耗
性、耐焼き付き性、潤滑性の改善を図っている。
中炭素鋼等が用いられ、上記特性を付与するために、浸
炭、焼き入れ、窒化などの表面処理が施されているが、
更に、硬質クロムメッキやニッケル−リンメッキ、ショ
ットピーニング、各種金属の溶射などが行われ、耐摩耗
性、耐焼き付き性、潤滑性の改善を図っている。
【０００７】然しながら、昨今の軽量化やエンジン出力
の増大化により、より過酷な環境下で使用されるように
なり、上記のような表面処理では要求特性を満足し得な
くなりつつある。また、以上の特性を満足するためにＰ
ＶＤ法のうちイオンプレーティング法によるＴｉＮ膜や
ＣｒＮ膜が使用されつつあるが、この方法では処理温度
が４００℃以上と高いために母材の硬度が低下し、満足
な特性が得られないという問題があった。
の増大化により、より過酷な環境下で使用されるように
なり、上記のような表面処理では要求特性を満足し得な
くなりつつある。また、以上の特性を満足するためにＰ
ＶＤ法のうちイオンプレーティング法によるＴｉＮ膜や
ＣｒＮ膜が使用されつつあるが、この方法では処理温度
が４００℃以上と高いために母材の硬度が低下し、満足
な特性が得られないという問題があった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記のように従来の機
械部材への表面処理方法やそれによって得られた表面被
膜では、耐摩耗性や耐食性、耐焼き付き性、潤滑性など
に問題があったため、部材自体の寿命が劣るという問題
があった。
械部材への表面処理方法やそれによって得られた表面被
膜では、耐摩耗性や耐食性、耐焼き付き性、潤滑性など
に問題があったため、部材自体の寿命が劣るという問題
があった。
【０００９】本発明はこのようなこれまでの表面処理方
法および被膜の問題点を解決すべくなされたものであ
る。
法および被膜の問題点を解決すべくなされたものであ
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の窒素含有Ｃｒ被
膜は、ＣｒX ＮY 結晶が点在することを特徴とする。
膜は、ＣｒX ＮY 結晶が点在することを特徴とする。
【００１１】上記被膜の製造方法は、窒素の雰囲気中で
クロムをスパッタリングすることによって形成すること
を特徴とする。
クロムをスパッタリングすることによって形成すること
を特徴とする。
【００１２】また、上記スパッタリングを行うに際し、
イオンボンバード処理を行うことを特徴とする。
イオンボンバード処理を行うことを特徴とする。
【００１３】また、本発明の機械部材は、ＣｒX ＮY 結
晶が点在する窒素含有Ｃｒ被膜をその表面に形成したこ
とを特徴とする。
晶が点在する窒素含有Ｃｒ被膜をその表面に形成したこ
とを特徴とする。
【００１４】上記ＣｒX ＮY 結晶は１００原子当たり５
０〜９９のクロム原子及び５０〜１の窒素原子を含むこ
とを特徴とする。
０〜９９のクロム原子及び５０〜１の窒素原子を含むこ
とを特徴とする。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下図面によって本発明の被膜お
よびその製造方法、さらに被膜を有する機械部材の一例
として金型について説明する。
よびその製造方法、さらに被膜を有する機械部材の一例
として金型について説明する。
【００１６】図１は本発明の被膜を金型上に形成するた
めのスパッタリング装置の概略図を示し、１は円筒状ま
たは角形状の真空処理室、２はこの真空処理室１内を真
空とするための真空ポンプ、３は上記真空処理室１内の
中心部に配置した回転テーブル、４はこの回転テーブル
３上に治具５を介して載置した被処理部材である金型、
６はこの被処理金型４を取り囲むように配置した蒸発源
としてのクロムターゲット、７はこのクロムターゲット
６に夫々接続した直流のスパッタ電源、８は上記回転テ
ーブル３に接続した直流のイオンボンバード及びバイア
ス電源、９は上記真空処理室１内にアルゴン及び窒素ガ
スを導入するためのガス導入パイプである。
めのスパッタリング装置の概略図を示し、１は円筒状ま
たは角形状の真空処理室、２はこの真空処理室１内を真
空とするための真空ポンプ、３は上記真空処理室１内の
中心部に配置した回転テーブル、４はこの回転テーブル
３上に治具５を介して載置した被処理部材である金型、
６はこの被処理金型４を取り囲むように配置した蒸発源
としてのクロムターゲット、７はこのクロムターゲット
６に夫々接続した直流のスパッタ電源、８は上記回転テ
ーブル３に接続した直流のイオンボンバード及びバイア
ス電源、９は上記真空処理室１内にアルゴン及び窒素ガ
スを導入するためのガス導入パイプである。
【００１７】本発明においては、スパッタリングプロセ
スの前に真空脱ガスを実施せしめる。
スの前に真空脱ガスを実施せしめる。
【００１８】また、本発明においては真空処理室１内に
窒素ガスとアルゴンガスをガス導入パイプ９を介して導
入した後、被処理部材、例えば金型の表面にクロムをス
パッタリングし、金型の表面に窒素を含有するＣｒ膜と
して１００原子当たり５０〜９９のクロム原子及び５０
〜１の窒素原子を含むＣｒX ＮY 結晶が点在した膜を生
成せしめる。上記スパッタリングに際しては、上記被膜
の厚さを均一ならしめるため、且つ被処理部材の温度を
その焼戻し温度以下に維持するため、ターゲットと被処
理材料間の間隔を例えば７０ｍｍに保つのが好ましい。
窒素ガスとアルゴンガスをガス導入パイプ９を介して導
入した後、被処理部材、例えば金型の表面にクロムをス
パッタリングし、金型の表面に窒素を含有するＣｒ膜と
して１００原子当たり５０〜９９のクロム原子及び５０
〜１の窒素原子を含むＣｒX ＮY 結晶が点在した膜を生
成せしめる。上記スパッタリングに際しては、上記被膜
の厚さを均一ならしめるため、且つ被処理部材の温度を
その焼戻し温度以下に維持するため、ターゲットと被処
理材料間の間隔を例えば７０ｍｍに保つのが好ましい。
【００１９】本発明においては、上記スパッタリングプ
ロセス前に必要に応じてイオンボンバード処理を行い、
かつプロセス温度を３００℃未満とし、所定の被膜の厚
みに応じて処理時間を定め、被膜の組織調整はプロセス
中の圧力やバイアス電圧の変更によって行うようにす
る。なおプロセス温度が３００℃以上になると、母材自
体の軟化が生じるので、本処理についてはなるべく低い
温度が好ましいが、室温以下で行うことは密着性の確保
が困難なので実用上得策でない。
ロセス前に必要に応じてイオンボンバード処理を行い、
かつプロセス温度を３００℃未満とし、所定の被膜の厚
みに応じて処理時間を定め、被膜の組織調整はプロセス
中の圧力やバイアス電圧の変更によって行うようにす
る。なおプロセス温度が３００℃以上になると、母材自
体の軟化が生じるので、本処理についてはなるべく低い
温度が好ましいが、室温以下で行うことは密着性の確保
が困難なので実用上得策でない。
【００２０】なお、上記被膜の厚みは、最大１００μｍ
までとするのが好ましい。
までとするのが好ましい。
【００２１】ＥＰＭＡによって表面の膜の化学組成を調
べたところ、Ｃｒ７２，Ｎ２８及びＣｒ５２，Ｎ４８な
どの比を示した。膜の特性については、耐焼き付き性、
耐摩耗性、摩擦係数、密着性などについて調査した。
べたところ、Ｃｒ７２，Ｎ２８及びＣｒ５２，Ｎ４８な
どの比を示した。膜の特性については、耐焼き付き性、
耐摩耗性、摩擦係数、密着性などについて調査した。
【００２２】（比較例）
【００２３】比較例１，２としてはイオンプレーティン
グしたＴｉＮ膜および電解硬質クロムメッキの膜を用い
た。
グしたＴｉＮ膜および電解硬質クロムメッキの膜を用い
た。
【００２４】耐焼き付け性については、図２に示すよう
なファビリー試験機を用いて行った。即ち、直径約６．
４ｍｍのＳＣＭ４１５に浸炭焼き入れ焼き戻し研磨仕上
げしたテストピン１０に、それぞれ６μｍの本発明被膜
を付け、ＳＣＭ４１５に浸炭焼き入れ焼き戻し表面研磨
仕上げしたＶブロック１１を用い、締め付け加重を６０
０Ｋｇｆ一定として断続運転を行った。断続運転は２秒
ＯＮ，１０秒ＯＦＦ、すべり速度０．１ｍ／ｓｅｃ，無
潤滑の条件である。評価の方法は、膜が破壊するまでの
断続回数を焼き付き性として評価した。
なファビリー試験機を用いて行った。即ち、直径約６．
４ｍｍのＳＣＭ４１５に浸炭焼き入れ焼き戻し研磨仕上
げしたテストピン１０に、それぞれ６μｍの本発明被膜
を付け、ＳＣＭ４１５に浸炭焼き入れ焼き戻し表面研磨
仕上げしたＶブロック１１を用い、締め付け加重を６０
０Ｋｇｆ一定として断続運転を行った。断続運転は２秒
ＯＮ，１０秒ＯＦＦ、すべり速度０．１ｍ／ｓｅｃ，無
潤滑の条件である。評価の方法は、膜が破壊するまでの
断続回数を焼き付き性として評価した。
【００２５】なお、１２はテストピン１０を例えば３０
０ｒｐｍで回転せしめる駆動機、１３は駆動機１２にテ
ストピン１０を固定するためのシアーピンである。
０ｒｐｍで回転せしめる駆動機、１３は駆動機１２にテ
ストピン１０を固定するためのシアーピンである。
【００２６】また、摩耗特性としては、耐アグレッシブ
特性を評価した。スガ式摩耗試験器（ＮＵＳ−ＩＳＯ−
３型）を用いて、＃４００のダイヤモンド電着研磨布を
用いて、往復運動摩耗試験を行った。母材はいずれもＳ
ＵＳ４４０Ｃを鏡面仕上げしたものである。試験片の総
荷重は９．８Ｎであり往復のストローク長さは６０ｍｍ
である。摩耗特性の評価はサンプルの摩耗量（×１０-5
ｇ／ｃｍ）として評価した。
特性を評価した。スガ式摩耗試験器（ＮＵＳ−ＩＳＯ−
３型）を用いて、＃４００のダイヤモンド電着研磨布を
用いて、往復運動摩耗試験を行った。母材はいずれもＳ
ＵＳ４４０Ｃを鏡面仕上げしたものである。試験片の総
荷重は９．８Ｎであり往復のストローク長さは６０ｍｍ
である。摩耗特性の評価はサンプルの摩耗量（×１０-5
ｇ／ｃｍ）として評価した。
【００２７】表１にその結果を示す。
【００２８】
【表１】
【００２９】なお、表１において、例えば破壊までの回
数３０＜とは３０回以上を示し、５＞とは５回以下を示
す。
数３０＜とは３０回以上を示し、５＞とは５回以下を示
す。
【００３０】さらに、本発明被膜を有する部材の一例と
して、金型にスパッタリング処理を施した。
して、金型にスパッタリング処理を施した。
【００３１】本発明におけるイオンボンバード処理は、
Ａｒ雰囲気中で２×１０-2ｔｏｒｒとして、１２５０Ｖ
×０．０１ｍＡで約４０分行った。
Ａｒ雰囲気中で２×１０-2ｔｏｒｒとして、１２５０Ｖ
×０．０１ｍＡで約４０分行った。
【００３２】また、スパッタリング処理は、雰囲気中の
ガス分圧をＡｒ：１．２×１０-3ｔｏｒｒ，Ｎ２：０．
２×１０-3ｔｏｒｒ，バイアス電圧：−９０〜−１００
Ｖとし、処理時間を約１００分とした。
ガス分圧をＡｒ：１．２×１０-3ｔｏｒｒ，Ｎ２：０．
２×１０-3ｔｏｒｒ，バイアス電圧：−９０〜−１００
Ｖとし、処理時間を約１００分とした。
【００３３】本発明においては以上の条件で母材である
工具鋼にスパッタリングターゲット処理を施した金型を
作成した。
工具鋼にスパッタリングターゲット処理を施した金型を
作成した。
【００３４】なお、上記の条件については、母材の材
料、寸法や形状によって変更される。本実施例の場合は
上記条件をはずれると、被膜の密着性や膜の特性が劣
る。
料、寸法や形状によって変更される。本実施例の場合は
上記条件をはずれると、被膜の密着性や膜の特性が劣
る。
【００３５】この条件によって得られた膜は、硬度がＨ
ｖ＝１７００〜２０００であり、得られた膜の厚さは１
０μｍであった。
ｖ＝１７００〜２０００であり、得られた膜の厚さは１
０μｍであった。
【００３６】表２に従来の金型との使用上の比較例を示
す。寿命については実際にパンチをした際に金型の離れ
が悪くなった際の成型品のショット数で本発明と従来金
型の比較を行ったものである。
す。寿命については実際にパンチをした際に金型の離れ
が悪くなった際の成型品のショット数で本発明と従来金
型の比較を行ったものである。
【００３７】表２は、種々の材質の金型及びパンチの使
用寿命を示す。
用寿命を示す。
【００３８】
【表２】
【００３９】なお、表２において、例えば寿命倍率１０
＜とは従来のものに比べ寿命が１０倍延びたことを示
す。また、ＳＫＤ（ＨＱＴ）は、焼入・焼戻しのＳＫＤ
材を示す。
＜とは従来のものに比べ寿命が１０倍延びたことを示
す。また、ＳＫＤ（ＨＱＴ）は、焼入・焼戻しのＳＫＤ
材を示す。
【００４０】以下本発明の被膜を自動２輪車及び自動４
輪車等のエンジン及び変速機に使用される摩擦摩耗部品
に適用した本発明の他の実施例を説明する。
輪車等のエンジン及び変速機に使用される摩擦摩耗部品
に適用した本発明の他の実施例を説明する。
【００４１】比較例３，４，５としてはイオンプレーテ
ィングしたＴｉＮ膜とＣｒＮ膜及び電解硬質クロムメッ
キの膜を用いた。
ィングしたＴｉＮ膜とＣｒＮ膜及び電解硬質クロムメッ
キの膜を用いた。
【００４２】摩擦係数及び耐焼き付き性については、図
２に示すような、ファビリー試験機を用いて行った。即
ち、直径６．４ｍｍのＳＣＭ４１５に浸炭焼き入れ、焼
き戻し研磨仕上げしたテストピン１０に、夫々１０μｍ
の本発明被膜を着け、ＳＣＭ４１５に浸炭焼き入れ、焼
き戻し表面研磨仕上げしたＶブロック１１を用い、締付
け荷重を０から２５ｋｇ／秒で増加する試験を行った。
試験は油中で実施し、このときの摩擦係数と耐焼付き荷
重を評価した。表３にその結果を示す。
２に示すような、ファビリー試験機を用いて行った。即
ち、直径６．４ｍｍのＳＣＭ４１５に浸炭焼き入れ、焼
き戻し研磨仕上げしたテストピン１０に、夫々１０μｍ
の本発明被膜を着け、ＳＣＭ４１５に浸炭焼き入れ、焼
き戻し表面研磨仕上げしたＶブロック１１を用い、締付
け荷重を０から２５ｋｇ／秒で増加する試験を行った。
試験は油中で実施し、このときの摩擦係数と耐焼付き荷
重を評価した。表３にその結果を示す。
【００４３】
【表３】
【００４４】また、本発明被膜を摩擦摩耗部品である自
動２輪車用シフトフォークに適用することを考慮して、
摩擦摩耗試験を行ない、本発明品の摩耗量を比較例６〜
９のそれと比較した。この時の被膜条件は、母材がＳＣ
Ｍ４１５の浸炭焼き入れ焼き戻し品を研磨ラップ仕上し
表面粗さをＲａ０．２に調整し、この上に本発明被膜を
５〜１０μｍ厚さで処理した。また、摩擦摩耗試験は実
際の自動２輪車ではシフトフォークの相手方の材料（シ
フター）との摩擦摩耗を調べるのであるが、ここでは、
摩擦摩耗試験としてプレイトオンディスク試験を行な
い、シフターに相当する部分の表面処理は、機械加工
し、浸炭し，ショットブラスト処理したものを用いた。
動２輪車用シフトフォークに適用することを考慮して、
摩擦摩耗試験を行ない、本発明品の摩耗量を比較例６〜
９のそれと比較した。この時の被膜条件は、母材がＳＣ
Ｍ４１５の浸炭焼き入れ焼き戻し品を研磨ラップ仕上し
表面粗さをＲａ０．２に調整し、この上に本発明被膜を
５〜１０μｍ厚さで処理した。また、摩擦摩耗試験は実
際の自動２輪車ではシフトフォークの相手方の材料（シ
フター）との摩擦摩耗を調べるのであるが、ここでは、
摩擦摩耗試験としてプレイトオンディスク試験を行な
い、シフターに相当する部分の表面処理は、機械加工
し、浸炭し，ショットブラスト処理したものを用いた。
【００４５】本発明で用いた摩擦摩耗試験では、シフタ
ーに相当するターンテーブルの上に、シフトフォークに
相当する被処理品を所定の荷重で押圧した状態でターン
テーブルのみを所定時間回転させた後、被処理品の摩耗
量を測定し、この摩耗量を試験片の摩擦面の被膜の膜厚
の減少量として評価する。
ーに相当するターンテーブルの上に、シフトフォークに
相当する被処理品を所定の荷重で押圧した状態でターン
テーブルのみを所定時間回転させた後、被処理品の摩耗
量を測定し、この摩耗量を試験片の摩擦面の被膜の膜厚
の減少量として評価する。
【００４６】具体的には、被処理品：ＳＣＭ４１５の母
材を浸炭焼き入れ焼き戻しした後に、研磨ラップ仕上げ
し、表面粗さをＲａ＝０．２に調整し、この上に本発明
の方法によって得られる窒素含有被膜を５μｍ厚さでつ
けたものを試験品として用い、相手方のターンテーブル
には、被処理品と接触する面の表面を機械加工仕上げの
後、浸炭を行ない、ショットブラスト処理によって得ら
れたものを用いた。なお、荷重負荷は８０Ｋｇｆ，すべ
り速度は１３ｍ／ｓｅｃ，時間は２０時間とした。
材を浸炭焼き入れ焼き戻しした後に、研磨ラップ仕上げ
し、表面粗さをＲａ＝０．２に調整し、この上に本発明
の方法によって得られる窒素含有被膜を５μｍ厚さでつ
けたものを試験品として用い、相手方のターンテーブル
には、被処理品と接触する面の表面を機械加工仕上げの
後、浸炭を行ない、ショットブラスト処理によって得ら
れたものを用いた。なお、荷重負荷は８０Ｋｇｆ，すべ
り速度は１３ｍ／ｓｅｃ，時間は２０時間とした。
【００４７】摩擦条件は、最大荷重８０ｋｇｆ、すべり
速度最大１３ｍ／秒で２０時間の耐久試験を実施した。
速度最大１３ｍ／秒で２０時間の耐久試験を実施した。
【００４８】試験後の評価は、摩擦面の摩耗量を膜厚の
減少量として評価した。本評価結果を表４に示す。
減少量として評価した。本評価結果を表４に示す。
【００４９】
【表４】
【００５０】表４中に比較例６として硬質クロムメッキ
（膜厚３０μｍ）、比較例７としてイオンプレーティン
グ製（以下ＩＰと略す）ＴｉＮ（膜厚５μｍ）、比較例
８としてＩＰ製ＣｒＮ（膜厚６μｍ）及び比較例９とし
てＭｏ溶射（膜厚１００μｍ）品を用いた。
（膜厚３０μｍ）、比較例７としてイオンプレーティン
グ製（以下ＩＰと略す）ＴｉＮ（膜厚５μｍ）、比較例
８としてＩＰ製ＣｒＮ（膜厚６μｍ）及び比較例９とし
てＭｏ溶射（膜厚１００μｍ）品を用いた。
【００５１】
【発明の効果】上記のように本発明の機械部材によれ
ば、機械部材の寿命を大きく延ばすことができるのみな
らず、その離型性も向上し、資源の有効的活用と公害問
題の軽減にも大きく貢献できる等大きな利益がある。
ば、機械部材の寿命を大きく延ばすことができるのみな
らず、その離型性も向上し、資源の有効的活用と公害問
題の軽減にも大きく貢献できる等大きな利益がある。
【図１】本発明の機械部材の表面処理装置の説明図であ
る。
る。
【図２】ファビリー試験機の説明図である。
１ 真空処理室 ２ 真空ポンプ ３ 回転テーブル ４ 被処理金型 ５ 治具 ６ クロムターゲット ７ スパッタ電源 ８ 直流のバイアス電源 ９ ガス導入パイプ １０ テストピン １１ Ｖブロック １２ 駆動機 １３ シアーピン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山形 博 神奈川県横浜市泉区中田北三丁目３−８− 104号 (72)発明者 野上 曜 神奈川県横浜市泉区中田北三丁目３−８− 205号
Claims (6)
- 【請求項１】 ＣｒX ＮY 結晶が点在することを特徴と
する窒素含有Ｃｒ被膜。 - 【請求項２】 上記ＣｒX ＮY 結晶は１００原子当たり
５０〜９９のクロム原子及び５０〜１の窒素原子を含む
ことを特徴とする請求項１記載の窒素含有Ｃｒ被膜。 - 【請求項３】 窒素の雰囲気中でクロムをスパッタリン
グすることによってＣｒX ＮY 結晶が点在する窒素含有
Ｃｒ被膜を形成することを特徴とする窒素含有Ｃｒ被膜
の製造方法。 - 【請求項４】 上記スパッタリングを行うに際し、イオ
ンボンバード処理を行うことを特徴とする請求項３記載
の窒素含有Ｃｒ被膜の製造方法。 - 【請求項５】 ＣｒX ＮY 結晶が点在する窒素含有Ｃｒ
被膜をその表面に形成したことを特徴とする機械部材。 - 【請求項６】 上記ＣｒX ＮY 結晶は１００原子当り５
０〜９９のクロム原子及び５０〜１の窒素原子を含むこ
とを特徴とする請求項５記載の機械部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33024198A JP3954739B2 (ja) | 1997-11-06 | 1998-11-06 | 窒素含有Ｃｒ被膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
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