JPH11218418A - インライン蛍光x線膜厚モニタ - Google Patents

インライン蛍光x線膜厚モニタ

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JPH11218418A
JPH11218418A JP10022250A JP2225098A JPH11218418A JP H11218418 A JPH11218418 A JP H11218418A JP 10022250 A JP10022250 A JP 10022250A JP 2225098 A JP2225098 A JP 2225098A JP H11218418 A JPH11218418 A JP H11218418A
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JP
Japan
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ray
film thickness
fluorescent
ray film
line
Prior art date
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Pending
Application number
JP10022250A
Other languages
English (en)
Inventor
Masao Sato
正雄 佐藤
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Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
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Publication date
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    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/223—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
    • G01N2223/076—X-ray fluorescence

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 インラインに設置するため小型でライン特性
の優れた検出効率と角度特性を向上させた蛍光X線モニ
タを提供する。 【解決手段】 蛍光X線法を原理とし,エンドウィンド
ウ型のX線管球からの一次X線照射ビームと同軸で環状
の検出面を有する検出器を配置する。

Description

【発明の詳細な説明】
【発明の属する技術分野】本発明はハードディスクの無
電解ニッケルメッキの膜厚をモニタするためインライン
に設置する小型な蛍光X線膜厚モニタに関する。
【従来の技術】ハードディスクの高密度化に伴い、ベー
スの平坦度やサブストレートの無電解ニッケルメッキの
表裏膜厚の均一性等が問題となってきており、無電解ニ
ッケルメッキ直後や研磨ライン前後での無電解ニッケル
膜厚のモニタが重要となってきている。従来はオフライ
ンの蛍光X線膜厚計で抜き取り検査を行っていた。
【発明が解決しようとする課題】従来の抜き取り検査で
は不合格品が発生するとロット単位での不合格品とな
り、近年の厳しい基準では不良率が大きくなる問題を抱
えていた。そのためにインラインで測定して直ぐフィー
ドバックすることによって加工条件を調整して不良率を
下げる必要があった。インラインに蛍光X線膜厚計を設
置するにはX線発生系の寸法上の問題や、測定試料のバ
タツキ等の問題を抱えていた。そこで本発明は、インラ
インに設置するため小型でライン特性の優れた蛍光X線
モニタを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】従来、図2(a)に示す
ように、サイドウィンドウ型X線管球では、高圧を使用
するゆえに放電防止、冷却の目的で絶縁オイル(油)に
浸す方式を採用していたため、寸法的にも小さくするこ
とがず、重量的にも軽量化が図れなかった。この問題に
関しては、図2(b)に示すようなシリコン樹脂25等
でモールドしたエンドウィンドウ型のX線管球を採用す
る事によって、寸法的にも小型化、そして軽量化を図
り、さらにサイドウィンドウ型に比べX線発生点を試料
に近づける事が出来るため励起効率も向上させることが
出来る。測定試料のバタツキ等に関しては、従来、図3
(a)に示すように一次X線の照射軸に対してある角度
をもって検出していたため角度特性を有していたが、図
3(b)に示すように照射軸に同軸に環状の検出器を配
置させることによって解決できる。また、環状型で検出
の立体角を大きく取れ、効率を向上できているため、照
射・検出距離、すなわち検出面から試料までの距離を離
すことによって生じる距離の逆二乗則の影響差を小さく
することが出来るため、距離特性も改善できる。
【発明の実施の形態】図1に実施例を示す。ハードディ
スクの表裏無電解ニッケルメッキの膜厚を測定するため
ハードディスクのハンドリングを容易にする目的でハー
ドディスク測定面はX線センサから離れている方が良
い。そういう意味でもX線発生側はエンドウィンドウ型
X線管球2で試料までの距離を短くし、検出側は環状型
X線検出器3を用いて立体角を稼ぐことによって、逆に
距離を離すことができる図1の実施例のような配置が好
ましい。一次X線4はエンドウィンドウ型のX線管球2
から所定の照射寸法になるようにコリメートされて環状
型検出器の中央部を突き抜けて照射され、ハードディス
クすなわちアルミニウムに施された無電解ニッケルメッ
キの膜厚に比例した蛍光X線(Ni−Kα)5の強度を
環状型X線検出器3で計測する。環状型X線検出器3に
はSiを利用した半導体検出器やNaI等のシンチレー
タを利用したシンチレーションカウンターが採用でき
る。シリコン樹脂モールドされたエンドウィンドウ型X
線管球は数十ワットの熱量を発生させるため後部に冷却
ファン1を配置して冷却する。
【発明の効果】以上の組み合わせ配置によって、従来の
構成による場合に比べて半分以下の寸法にでき、角度特
性、距離特性のようなライン特性に対して良好な性能が
得られるので、設置スペースの少ないインラインに設置
でき、正確で迅速な膜厚のモニタが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例である。
【図2】(a)はサイドウィンドウ型X線管球、(b)
はエンドウィンドウ型X線管球を示す図である。
【図3】(a)(b)は、X線検出器の配置例を示す図
である。
【符号の説明】
1 冷却ファン 2 エンドウィンドウ型X線管球 3 環状X線検出器 4 一次X線 5 蛍光X線(Ni−Kα)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 蛍光X線法を原理とし,エンドウィンド
    ウ型のX線管球からのX線照射ビームと同軸で環状の検
    出面を有する検出器を配置することによって検出効率と
    角度特性を向上させたことを特徴とする小型な蛍光X線
    膜厚モニタ。
JP10022250A 1998-02-03 1998-02-03 インライン蛍光x線膜厚モニタ Pending JPH11218418A (ja)

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US6175612B1 (en) 2001-01-16

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Effective date: 20040106