JPH11218709A - Optical scanning device - Google Patents
Optical scanning deviceInfo
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- JPH11218709A JPH11218709A JP2061098A JP2061098A JPH11218709A JP H11218709 A JPH11218709 A JP H11218709A JP 2061098 A JP2061098 A JP 2061098A JP 2061098 A JP2061098 A JP 2061098A JP H11218709 A JPH11218709 A JP H11218709A
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- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザービームプ
リンター、レーザープロジェクター、レーザー走査型映
像表示装置等において光を走査するために用いられる光
走査装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical scanning device used for scanning light in a laser beam printer, a laser projector, a laser scanning type image display device and the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の光走査装置として、例えば特開平
8−152575号公報に開示されているものがある。
この装置においては、圧電素子の変位をてこの原理を利
用して拡大し、これを接線方向の移動量として直接的に
反射鏡を回転振動し光を走査する。2. Description of the Related Art As a conventional optical scanning device, there is one disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-152575.
In this device, the displacement of the piezoelectric element is enlarged by utilizing this principle, and the light is scanned by directly rotating and vibrating the reflecting mirror using the displacement as a tangential movement amount.
【0003】また、従来の光走査装置の他の例として、
特開平5−100175号公報に開示されているものが
ある。この装置は、弾性変形部材の一端に反射ミラーを
設け、他端の振動入力部に圧電素子の直線振動を入力
し、弾性変形部材の共振状態においての曲げ振動やねじ
り振動によってミラーを偏向し光を走査するものであ
る。As another example of a conventional optical scanning device,
There is one disclosed in JP-A-5-100175. In this apparatus, a reflection mirror is provided at one end of an elastic deformation member, linear vibration of a piezoelectric element is input to a vibration input section at the other end, and the mirror is deflected by bending vibration or torsional vibration in a resonance state of the elastic deformation member. Is scanned.
【0004】他にも、電磁力によって弾性変形部材に駆
動力を与え、弾性変形部材の共振振動によって反射ミラ
ーを振動し光を走査する光走査装置や、電磁誘導で強制
振動させるガルバノミラーを備えた光走査装置もある。In addition, there are provided an optical scanning device which applies a driving force to the elastically deformable member by electromagnetic force and vibrates the reflection mirror by the resonance vibration of the elastically deformable member to scan light, and a galvano mirror which forcibly vibrates by electromagnetic induction. There are also optical scanning devices.
【0005】上記の光走査装置をレーザービームプリン
タ、レーザープロジェクタ、レーザー走査型HMD等に
用いるためには、大きな振幅、振動数を得ることができ
る反射ミラーを備えた構成が望ましい。そのために、反
射ミラーには、軽く、固い素材を用いる必要がある。具
体的な素材としては、一般的にはベリリウムが用いられ
ている。In order to use the above-described optical scanning device in a laser beam printer, a laser projector, a laser scanning HMD, or the like, it is desirable that the optical scanning device be provided with a reflecting mirror capable of obtaining a large amplitude and a large frequency. Therefore, it is necessary to use a light and hard material for the reflection mirror. As a specific material, beryllium is generally used.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】ある程度の厚みと表面
積を有する反射ミラーを駆動軸の先端部分に備え、これ
を振動させると、振動による往復運動から反射ミラーに
たわみが生じる。以下、図面を用いてたわみ発生の原理
について具体的に説明する。図13に、反射ミラー1の
断面図を示す。16は、回転中心軸である。図13にお
いては、回転中心軸16が反射ミラー1の中心軸と一致
する光走査装置について例示する。光走査装置において
は、回転中心軸と反射ミラーの中心軸が一致するものに
限られないが、たわみ発生の原理は同じであるので、本
光走査装置を用いて説明することとする。When a reflecting mirror having a certain thickness and surface area is provided at the tip of a drive shaft and is vibrated, the reflecting mirror is bent by reciprocating motion caused by the vibration. Hereinafter, the principle of deflection generation will be specifically described with reference to the drawings. FIG. 13 shows a sectional view of the reflection mirror 1. Reference numeral 16 denotes a rotation center axis. FIG. 13 illustrates an optical scanning device in which the rotation center axis 16 coincides with the center axis of the reflection mirror 1. The optical scanning device is not limited to the one in which the center axis of rotation and the central axis of the reflection mirror coincide with each other. However, since the principle of the deflection is the same, the description will be made using the present optical scanning device.
【0007】図13(a)のように、反射ミラー1が水
平位置50からある角度動くとする。50は、反射ミラ
ー1が水平状態にあるときの水平位置である。反射ミラ
ー1が水平位置50からある角度動くと、反射ミラー1
の各位置ではその動きを止めようとする慣性力が反射ミ
ラー1面の鉛直方向52に働く。その力は、水平位置か
ら離れているほど、大きくなる。つまり、回転軸16に
対して垂直方向51各位置で異なる慣性力が働くことに
なる。そして、その慣性力は、回転軸16から離れてい
る程(水平位置50から離れているので)大きくなる。As shown in FIG. 13A, it is assumed that the reflection mirror 1 moves by a certain angle from the horizontal position 50. Reference numeral 50 denotes a horizontal position when the reflection mirror 1 is in a horizontal state. When the reflection mirror 1 moves at an angle from the horizontal position 50, the reflection mirror 1
In each of the positions (1) and (2), an inertial force for stopping the movement acts in the vertical direction 52 of the reflecting mirror 1 surface. The force increases as the distance from the horizontal position increases. In other words, different inertial forces act on the rotating shaft 16 at each position in the vertical direction 51. The inertia force increases as the distance from the rotation shaft 16 increases (because the distance from the horizontal position 50 increases).
【0008】よって、反射ミラー1にはたわみが生じて
しまう。反射ミラー1の振動としては、図13(a)に
示す状態から水平位置50方向に戻る際に、たわむこと
なく中心軸の各点が常に垂直軸51上にある振動が理想
的な振動である。しかし、実際には図13(b)に示す
ように回転軸16の垂直方向51に対して鉛直方向52
にたわみが生じてしまう。これは、先述の通り、反射ミ
ラー1の垂直方向51各点で異なる慣性力が生じている
からである。また、垂直方向51の回転軸16を中心と
する対称点では、逆向きに慣性力が働くので、発生する
たわみも逆向きである。尚、図13(b)のようなたわ
みを有する振動によると、有効な反射面積は小さくな
る。Accordingly, the reflecting mirror 1 is bent. As the vibration of the reflection mirror 1, when returning from the state shown in FIG. 13A to the horizontal position 50, the vibration in which each point of the central axis is always on the vertical axis 51 without bending is the ideal vibration. . However, in practice, as shown in FIG.
Deflection occurs. This is because, as described above, different inertial forces are generated at each point in the vertical direction 51 of the reflection mirror 1. In addition, at the symmetric point about the rotation axis 16 in the vertical direction 51, the inertia force acts in the opposite direction, so that the generated bending is also in the opposite direction. According to the vibration having the bending as shown in FIG. 13B, the effective reflection area becomes small.
【0009】例えば、映像表示装置に構成される光走査
装置においては、大きなビーム径の光を観察者の眼に与
えるために、できるだけ大きなビーム径を走査する必要
がある。しかし、反射ミラーが大きいと先述の通りたわ
みが大きくなり、実際の反射面積は反射ミラーの大きさ
より小さくなる。また、慣性が大きくなり、大きな振動
数と振幅を確保できなくなる。For example, in an optical scanning device provided in an image display device, it is necessary to scan a beam as large as possible in order to give light having a large beam diameter to an observer's eyes. However, if the reflection mirror is large, the deflection becomes large as described above, and the actual reflection area becomes smaller than the size of the reflection mirror. In addition, the inertia increases, and it becomes impossible to secure a large frequency and amplitude.
【0010】本発明は、上記のような問題点を鑑み、大
きな反射面を確保しつつ振幅、振動数の低下に与える影
響が小さい反射ミラーを備えた光走査装置を提供するこ
とを目的とする。The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide an optical scanning device including a reflection mirror which has a large reflection surface and has a small influence on a decrease in amplitude and frequency. .
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1に記載の発明は、回転振動することにより
光を走査する反射ミラーを有する光走査装置において、
前記反射ミラーのたわみを補正する補正手段が前記反射
ミラーに具備されている構成とする。According to an aspect of the present invention, there is provided an optical scanning device having a reflection mirror that scans light by rotating and vibrating.
The reflection mirror is provided with a correction means for correcting the deflection of the reflection mirror.
【0012】上記構成においては、反射ミラーにたわみ
を補正する補正手段が構成されているので、この補正手
段により簡単な方法で反射ミラーのたわみが補正される
ことになる。つまり、回転振動してもたわみが発生しな
い反射ミラーを備えた光走査装置を構成するこが可能と
なる。尚、補正手段が反射ミラーに構成されていない場
合は、たわみ補正のための(回転振動を与える)駆動手
段の制御が複雑となってしまう。In the above configuration, since the correction means for correcting the deflection of the reflection mirror is provided, the deflection of the reflection mirror is corrected by the correction means in a simple manner. That is, it is possible to configure an optical scanning device including a reflection mirror that does not generate deflection even when it is rotated. If the correcting means is not provided in the reflection mirror, the control of the driving means for correcting deflection (giving rotational vibration) becomes complicated.
【0013】尚、前記たわみは例えば回転軸に対する回
転方向に発生するたわみであることとする。回転振動す
る反射ミラーのたわみとしては、さまざまな方向のたわ
みが考えられるが、最も大きなたわみ量は、回転軸の垂
直方向に対して鉛直方向に発生するものである。その他
の方向のたわみに関しては、反射ミラーの反射面積に影
響を与えるほど大きくない。よって、回転軸に対する回
転方向に発生するたわみについて補正する補正手段を設
けることで、反射ミラーにおいて、たわみによる反射面
積の低下を防ぐことができる。The deflection is, for example, a deflection generated in a rotation direction with respect to a rotation axis. The deflection of the reflecting mirror that rotates and oscillates may be in various directions, but the largest amount of deflection occurs in the direction perpendicular to the rotation axis. The deflection in other directions is not so large as to affect the reflection area of the reflection mirror. Therefore, by providing a correction unit that corrects the deflection generated in the rotation direction with respect to the rotation axis, it is possible to prevent the reflection mirror from reducing the reflection area due to the deflection.
【0014】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の光走査装置において、前記補正手段は前記反射ミラー
のたわみを検出するたわみ検出機能を備えており前記た
わみ検出機能の検出結果に基づいてたわみを補正する構
成とする。According to a second aspect of the present invention, in the optical scanning device according to the first aspect, the correction means has a deflection detecting function for detecting the deflection of the reflection mirror, and the detection result of the deflection detecting function is used. The deflection is corrected based on the deflection.
【0015】上記構成においては、前記補正手段がたわ
み検出機能を備えているので、たわみを検出するための
手段をあえて構成する必要がなく、簡易な構成とするこ
とができる。In the above configuration, since the correcting means has the deflection detecting function, it is not necessary to arbitrarily configure a means for detecting the deflection, so that the configuration can be simplified.
【0016】請求項3に記載の発明は、請求項1に記載
の光走査装置において、前記反射ミラーのたわみを検出
するたわみ検出機能を備えたたわみ検出手段が前記補正
手段とは別に前記反射ミラーに具備されており、前記補
正手段は前記たわみ検出手段の検出結果に基づいて前記
反射ミラーのたわみを補正する構成とする。According to a third aspect of the present invention, in the optical scanning device according to the first aspect, the deflection detecting means having a deflection detecting function for detecting deflection of the reflection mirror is provided separately from the correction means. Wherein the correction means corrects the deflection of the reflection mirror based on the detection result of the deflection detection means.
【0017】上記構成においては、たわみ検出手段がた
わみ補正手段とは別体で反射ミラーに備えられているの
で、リアルタイムのたわみ補正が可能となる。つまり、
たわみ検出手段で検出されるたわみ量が0となるように
たわみ補正手段を制御することができる。このような方
法によると、たわみ補正がより確実に行われることにな
る。In the above configuration, since the deflection detecting means is provided on the reflection mirror separately from the deflection correcting means, real-time deflection correction can be performed. That is,
The deflection correcting means can be controlled so that the deflection amount detected by the deflection detecting means becomes zero. According to such a method, the deflection correction is performed more reliably.
【0018】請求項4に記載の発明は、請求項1乃至3
いずれかに記載の光走査装置において、前記補正手段は
前記反射ミラーの反射手段の裏面に一体に設けられた圧
電手段からなる構成とする。The invention described in claim 4 is the first to third aspects of the present invention.
In any one of the optical scanning devices, the correction unit may include a piezoelectric unit integrally provided on a back surface of the reflection unit of the reflection mirror.
【0019】上記構成においては、反射手段と補正手段
が一体成形なので、反射ミラーをコンパクトに形成でき
る。また、補正手段が圧電手段よりなるので、軽く、さ
らに電気信号を与えることによって簡単にたわみ補正を
することができる。In the above configuration, since the reflecting means and the correcting means are integrally formed, the reflecting mirror can be formed compact. Further, since the correcting means is composed of the piezoelectric means, the deflection can be corrected easily by applying an electric signal lightly.
【0020】請求項5に記載の発明は、光走査装置にお
いて、平板上の反射手段と、前記反射手段の裏面側に配
された基材を挟んで対向する2対の圧電手段と、前記圧
電手段にたわみ補正信号を与える手段とを備えた構成と
する。According to a fifth aspect of the present invention, in the optical scanning device, the reflecting means on a flat plate, two pairs of piezoelectric means opposed to each other across a base material arranged on the back side of the reflecting means, and Means for providing a deflection correction signal to the means.
【0021】上記構成においては、反射ミラーで両端に
逆方向に力がかかることにより発生するたわみに対し
て、2対の圧電手段により両端別々に補正することがで
きるので、確実なたわみ補正を行うことができる。In the above configuration, the deflection caused by the force applied to the opposite ends of the reflecting mirror in opposite directions can be corrected separately at both ends by two pairs of piezoelectric means, so that the deflection can be reliably corrected. be able to.
【0022】[0022]
【発明の実施の形態】〈第1の実施形態〉図1は、本実
施形態の光走査装置の全体構成を示す上面斜視図であ
る。1は光を走査する反射ミラー、2は反射ミラー1を
回転振動させる弾性変形部材(ここではねじりばね)で
ある。3a、3bは左右の電磁石コイル、4は磁性体平
板で電磁石コイル3a、3b、磁性体平板4を合わせて
駆動手段という。駆動手段は弾性変形部材2に共振振動
数近傍の回転振動を与える。弾性変形部材2は、駆動手
段により与えられた回転振動にねじり共振する。5は基
台、6はコネクタ、7はケーブル、8は制御手段であ
る。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First Embodiment FIG. 1 is a top perspective view showing the overall configuration of an optical scanning device according to the present embodiment. Reference numeral 1 denotes a reflection mirror that scans light, and reference numeral 2 denotes an elastic deformation member (here, a torsion spring) that rotationally vibrates the reflection mirror 1. Reference numerals 3a and 3b denote left and right electromagnet coils, 4 denotes a magnetic plate, and the electromagnet coils 3a and 3b and the magnetic plate 4 are collectively referred to as driving means. The driving means gives the elastic deformation member 2 rotational vibration near the resonance frequency. The elastically deformable member 2 resonates torsionally with the rotational vibration given by the driving means. 5 is a base, 6 is a connector, 7 is a cable, and 8 is control means.
【0023】反射ミラー1は弾性変形部材2の一端に固
着されている。弾性変形部材2の他端は、基台5に固着
されている。駆動手段において、左右の電磁石コイル3
a、3bは、弾性変形部材2の基台5側近傍部分を挟む
ように、基台5上に固着されている。磁性体平板4は、
その長手方向中心軸を、鉛直方向下向きに平行移動させ
ると、左右の電磁石コイル3a、3bの上部を結ぶよう
な弾性変形部材2の上面の位置に固着されている。The reflection mirror 1 is fixed to one end of the elastic deformation member 2. The other end of the elastic deformation member 2 is fixed to the base 5. In the driving means, the left and right electromagnet coils 3
Reference numerals a and 3b are fixed on the base 5 so as to sandwich the portion of the elastic deformation member 2 near the base 5 side. The magnetic plate 4 is
When the central axis in the longitudinal direction is translated downward in the vertical direction, it is fixed to a position on the upper surface of the elastically deformable member 2 that connects the upper portions of the left and right electromagnet coils 3a and 3b.
【0024】磁性体平板4が長手方向の両端が異なる磁
極を有する永久磁石である場合、左右の電磁石コイル3
a、3bには、同一方向の磁界が発生するように電流を
流す。このようにすると、磁性体平板4の一端とその下
方に位置する電磁石コイル3a又は3bとの間には引力
が生じ、磁性体平板4の他端とその下方に位置する電磁
石コイル3b又は3aの間には斥力が生じることにな
る。つまり、磁性体平板4は水平位置から傾くことにな
り、これを固着する弾性変形部材2には回転方向に力が
かかることになる。When the magnetic plate 4 is a permanent magnet having different magnetic poles at both ends in the longitudinal direction, the left and right electromagnet coils 3
A current is supplied to a and 3b so that a magnetic field in the same direction is generated. In this way, an attractive force is generated between one end of the magnetic plate 4 and the electromagnet coil 3a or 3b located thereunder, and the other end of the magnetic plate 4 and the electromagnet coil 3b or 3a located therebelow. There will be a repulsion between them. That is, the magnetic plate 4 is inclined from the horizontal position, and a force is applied to the elastically deformable member 2 to which it is fixed in the rotational direction.
【0025】左右の電磁石コイル3a、3bに発生する
磁界の方向は、弾性変形部材2の共振振動数近傍で、切
り替わるようにする。このように制御することにより、
弾性変形部材2には、共振振動数近傍の回転振動が与え
られる。弾性変形部材2はこの回転振動にねじり共振す
る。よって、弾性変形部材2の一端に固着されている反
射ミラー1は弾性変形部材2の長手方向中心軸を回転中
心軸として回転振動する。The directions of the magnetic fields generated in the left and right electromagnet coils 3 a and 3 b are switched near the resonance frequency of the elastic deformation member 2. By controlling in this way,
Rotational vibration near the resonance frequency is applied to the elastic deformation member 2. The elastically deformable member 2 resonates with the rotational vibration. Therefore, the reflection mirror 1 fixed to one end of the elastic deformation member 2 rotates and vibrates around the longitudinal center axis of the elastic deformation member 2 as the rotation center axis.
【0026】尚、磁性体平板4が永久磁石でない場合
は、左右の電磁石コイル3a、3bの一方のみに電流を
流し磁界を発生させる。磁界が発生した方の電磁石コイ
ル3a又は3bと、これの上方に位置する磁性体平板4
の一端の間には引力が働く。よって、磁性体平板4は水
平位置から傾くことになる。磁界を発生させる電磁石コ
イル3a、3bは弾性変形部材2の共振振動数近傍で切
り替わるようにする。このようにすることで、磁性体平
板4は共振振動数近傍の回転振動をする。この回転振動
が弾性変形部材2に与えられる。When the magnetic plate 4 is not a permanent magnet, a current flows through only one of the left and right electromagnet coils 3a and 3b to generate a magnetic field. The electromagnet coil 3a or 3b in which the magnetic field is generated, and the magnetic plate 4 located above the electromagnet coil 3a or 3b
An attractive force acts between one ends of the. Therefore, the magnetic plate 4 is inclined from the horizontal position. The electromagnet coils 3a and 3b for generating a magnetic field are switched near the resonance frequency of the elastic deformation member 2. By doing so, the magnetic plate 4 performs rotational vibration near the resonance frequency. This rotational vibration is applied to the elastic deformation member 2.
【0027】従って、弾性変形部材2は磁性体平板4に
より与えられる回転振動にねじり共振する。よって、弾
性変形部材2の一端に固着されている反射ミラー1は回
転振動する。次に、各構成要素について詳細に説明す
る。図2に反射ミラー1と弾性変形部材2の一部を含む
詳細図を、図3に反射ミラー1の部品構成図を示す。Accordingly, the elastically deformable member 2 resonates with the rotational vibration given by the magnetic flat plate 4. Therefore, the reflection mirror 1 fixed to one end of the elastic deformation member 2 rotates and vibrates. Next, each component will be described in detail. FIG. 2 is a detailed view including a part of the reflection mirror 1 and a part of the elastic deformation member 2, and FIG.
【0028】反射ミラー1は、軽くて固い素材よりなる
ミラー基材13の上面と下面のそれぞれに回転中心軸1
6を中心として左右に2枚ずつ計4枚の圧電膜(上面圧
電膜12a、12b、下面圧電膜12c、12d)が接
着されている構成となっており、さらに上面圧面膜12
a、12bの上面には反射手段14がミラーコーティン
グにより膜状に施されている。ミラー基材13は、上面
と下面それぞれの左右の圧電膜12a、12bと12
c、12dが接触しないように、回転中心軸上が両凸形
状13aとなっている。The reflection mirror 1 has a rotation center axis 1 on each of an upper surface and a lower surface of a mirror base material 13 made of a light and hard material.
A total of four piezoelectric films (upper surface piezoelectric films 12a, 12b, lower surface piezoelectric films 12c, 12d) are bonded to each other, two on the left and right around the center 6.
Reflecting means 14 is provided on the upper surfaces of a and 12b in a film shape by mirror coating. The mirror substrate 13 includes left and right piezoelectric films 12a, 12b and 12
The center axis of rotation has a biconvex shape 13a so that c and 12d do not come into contact with each other.
【0029】4枚の圧電膜12a、12b、12c、1
2dの上面と下面にはそれぞれ電極11a、11a’、
11b、11b’、11c、11c’、11d、11
d’、が施されている。尚、図3においては電極を省略
してある。上面の圧電膜12a、12bの上面電極11
a、11bは、反射手段14部分が電極となるように構
成してもよい。この場合、電極11a、11bが接触し
ないように2つの電極11a、11bの間に絶縁部材を
設けるようにする。また、反射手段14は、本実施形態
のようなミラーコーティングによる反射膜ではなく、反
射部材などを用いるようにしてももよい。The four piezoelectric films 12a, 12b, 12c, 1
The electrodes 11a, 11a ',
11b, 11b ', 11c, 11c', 11d, 11
d '. The electrodes are omitted in FIG. Upper surface electrode 11 of upper piezoelectric films 12a and 12b
A and 11b may be configured such that the reflection means 14 part becomes an electrode. In this case, an insulating member is provided between the two electrodes 11a and 11b so that the electrodes 11a and 11b do not contact each other. Further, the reflecting means 14 may use a reflecting member or the like instead of the reflecting film formed by the mirror coating as in the present embodiment.
【0030】圧電膜12a、12b、12c、12dは
電気機械変換素子といわれる材料からなり、電圧を印加
すると材料自身が機械的・物理的に変化する(回転・伸
縮・傾きなどを起こす)。圧電膜としては、例えば圧電
セラミックや有機圧電フィルムなどを用いることが可能
である。圧電セラミックは、PZTからなるものが一般
的である。The piezoelectric films 12a, 12b, 12c, and 12d are made of a material called an electromechanical transducer, and when a voltage is applied, the material itself mechanically and physically changes (rotates, expands, contracts, and the like). As the piezoelectric film, for example, a piezoelectric ceramic or an organic piezoelectric film can be used. The piezoelectric ceramic is generally made of PZT.
【0031】本実施形態においては、A−A’方向(図
1参照)に伸縮する圧電膜を用いている。つまり、反射
ミラー1の回転中心軸16垂直方向に伸縮する。圧電膜
12a、12b、12c、12dは、回転軸16に対し
て左右それぞれで上下の圧電膜12a、12cと12
b、12dを一対とみるといわゆるバイモルフ変位素子
といわれる構造となっている。In this embodiment, a piezoelectric film that expands and contracts in the AA ′ direction (see FIG. 1) is used. That is, it expands and contracts in the vertical direction of the rotation center axis 16 of the reflection mirror 1. The piezoelectric films 12 a, 12 b, 12 c, and 12 d include upper and lower piezoelectric films 12 a, 12 c, 12
When b and 12d are considered as a pair, the structure is a so-called bimorph displacement element.
【0032】各圧電膜に適当な電圧をかけることで各圧
電膜が伸縮し、ミラー基材13もその動きに連動するこ
とになる。つまり、反射ミラー1全体の変位が補正され
る。具体的には、反射ミラー1の回転軸16垂直方向に
発生するたわみが補正される。尚、本実施形態におい
て、圧電膜は左右に上下どちらか一方の1枚ずつが配さ
れたユニモルフ変位素子の構造でもよい。この場合は、
バイモルフ変位素子を構成した場合よりも補正力が小さ
くなる。しかし、圧電膜全体の重量が小さくなるので、
反射ミラー1の振動に与える影響は小さくなる。By applying an appropriate voltage to each of the piezoelectric films, each of the piezoelectric films expands and contracts, and the mirror substrate 13 also moves in accordance with the movement. That is, the displacement of the entire reflecting mirror 1 is corrected. Specifically, the deflection that occurs in the direction perpendicular to the rotation axis 16 of the reflection mirror 1 is corrected. In this embodiment, the piezoelectric film may have a unimorph displacement element structure in which one of the left and right upper and lower piezoelectric films is disposed. in this case,
The correction force is smaller than when a bimorph displacement element is configured. However, since the weight of the entire piezoelectric film is reduced,
The influence on the vibration of the reflection mirror 1 is reduced.
【0033】反射ミラー1に施されている電極には制御
手段8から電圧が印加される。この電極と制御回路8は
配線21により接続されている。配線21の配置がわか
りやすいように、図4に、弾性変形部材2、コネクタ
6、ケーブル7の接合部分の詳細図を示す。A voltage is applied to the electrodes provided on the reflection mirror 1 from the control means 8. This electrode and the control circuit 8 are connected by a wiring 21. FIG. 4 shows a detailed view of a joint portion between the elastically deformable member 2, the connector 6, and the cable 7 so that the arrangement of the wiring 21 can be easily understood.
【0034】反射ミラー1の電極に接続されている配線
21は、弾性変形部材2の表面と基台5の表面に微細加
工プロセスを使ってアルミなどにより形成されている。
そして、コネクタ6を介してケーブル7に接続されてい
る。ケーブル7は制御手段8に接続されている。弾性変
形部材2と基台5もしくは反射ミラー1との接合部分
は、ねじり量が小さいので、ねじりにより配線21が断
線することはない。The wiring 21 connected to the electrode of the reflection mirror 1 is formed on the surface of the elastically deformable member 2 and the surface of the base 5 with aluminum or the like by using a fine processing process.
And it is connected to the cable 7 via the connector 6. The cable 7 is connected to the control means 8. Since the joint between the elastically deformable member 2 and the base 5 or the reflection mirror 1 has a small amount of twist, the wire 21 does not break due to the twist.
【0035】図5に、本実施形態の制御手段8のブロッ
ク図を示す。尚、図5においては、反射ミラー1の右側
部の圧電膜12b、12dに対する制御手段8内の回路
部分のみを示すが、左側の圧電膜12a、12cに対す
る回路も同様である。以下、圧電膜が圧電セラミックよ
り構成されている場合のたわみ検出について説明する。FIG. 5 shows a block diagram of the control means 8 of this embodiment. In FIG. 5, only the circuit portion in the control means 8 for the piezoelectric films 12b and 12d on the right side of the reflection mirror 1 is shown, but the circuit for the piezoelectric films 12a and 12c on the left side is also the same. Hereinafter, the detection of deflection when the piezoelectric film is made of a piezoelectric ceramic will be described.
【0036】圧電セラミック結晶内は面裏方向に分極し
ており、金属電極表面に逆極性の電荷が引きつけられ帯
電している。つまり、図6(a)に示すように、電極1
1b、11dの電位と、電極11b’、11d’の電位
の差を検出するたわみ検出手段82ではある電位差v1
が検出される。この電位差v1を通常電位差ということ
にする。The inside of the piezoelectric ceramic crystal is polarized in the direction opposite to the surface, and charges of opposite polarity are attracted to the surface of the metal electrode and charged. That is, as shown in FIG.
The deflection detecting means 82 for detecting the difference between the potential of the electrodes 1b and 11d and the potential of the electrodes 11b 'and 11d' has a potential difference v 1.
Is detected. It will be the potential difference v 1 that the normal potential difference.
【0037】反射ミラー1にたわみが生じると、それぞ
れの圧電膜12b、12dの一方の面は引っ張られ他面
は圧縮される。よって、圧電膜内の電荷密度が変化し、
表面の束縛電荷も変化することになる。従って、たわみ
検出手段82で検出される電位差に違いが生じる。例え
ば、図6(b)に示すようなたわみが生じると、上面は
引っ張られ、下面は圧縮される。このとき、たわみ検出
手段82では通常電位差v1とは異なる電位差v2が検出
されることになる。When deflection occurs in the reflection mirror 1, one surface of each of the piezoelectric films 12b and 12d is pulled and the other surface is compressed. Therefore, the charge density in the piezoelectric film changes,
The bound charge on the surface will also change. Therefore, a difference occurs in the potential difference detected by the deflection detecting means 82. For example, when the bending as shown in FIG. 6B occurs, the upper surface is pulled and the lower surface is compressed. At this time, a different potential v 2 is detected from the detection means 82 Normal potential difference v 1 in flexure.
【0038】電位差がv2から通常電位差v1となるよう
な電圧を印加すると、圧電セラミックはたわみを補正す
る方向に伸縮し、たわみが補正されることになる。具体
的な制御方法は、たわみ検出手段82で電位差v2を測
定することで、まずたわみ量を算出する。反射ミラー1
の振動が定常状態になり、回転振動を与える駆動信号に
対するたわみ量の周期的変化が計測されると、計測結果
に基づいて駆動信号生成手段83によってたわみを補正
するための周期的な駆動信号(たわみ補正信号)が作成
・メモリーされる。When a voltage is applied such that the potential difference changes from v 2 to the normal potential difference v 1 , the piezoelectric ceramic expands and contracts in a direction for correcting the deflection, and the deflection is corrected. As a specific control method, first, the deflection amount is calculated by measuring the potential difference v 2 by the deflection detecting means 82. Reflection mirror 1
Is in a steady state, and the periodic change in the amount of deflection with respect to the drive signal that gives the rotational vibration is measured, the drive signal generation unit 83 corrects the periodic drive signal ( A deflection correction signal) is created and stored.
【0039】そして、計測モードから駆動モードにスイ
ッチ81が切り替えられる(具体的には電極と電圧印加
手段84を接続するようにスイッチ81が切り替えられ
る)。電圧印加手段(駆動回路)84では、計測モード
において駆動信号生成手段83で作成された駆動信号に
基づいて、電極に電圧を印加する。つまり、たわみ量の
周期的な変化に対応する電圧振幅変化を電圧波形の強度
変調にのせ、共振振動に同期して圧電セラミックの電極
に印加することで、たわみのない共振振動をさせること
ができる。Then, the switch 81 is switched from the measurement mode to the drive mode (specifically, the switch 81 is switched so as to connect the electrode and the voltage applying means 84). The voltage application unit (drive circuit) 84 applies a voltage to the electrodes based on the drive signal generated by the drive signal generation unit 83 in the measurement mode. That is, by applying a voltage amplitude change corresponding to a periodic change in the amount of deflection to the intensity modulation of the voltage waveform and applying it to the piezoelectric ceramic electrode in synchronization with the resonance vibration, resonance vibration without deflection can be achieved. .
【0040】尚、反射ミラー1の回転振動は回転軸16
を中心として対称性をもっているのでたわみ検出手段8
2で検出する電位差は4枚の圧電膜12a、12b、1
2c、12dの内の1枚のものであってもよい。しか
し、4枚の圧電膜12a、12b、12c、12dの電
位差を検出する方が検出感度は高くなる。Incidentally, the rotational vibration of the reflection mirror 1 is
Deflection detecting means 8 having symmetry about
The potential difference detected in 2 is equivalent to four piezoelectric films 12a, 12b, 1
One of 2c and 12d may be used. However, detecting the potential difference between the four piezoelectric films 12a, 12b, 12c, and 12d has higher detection sensitivity.
【0041】〈第2の実施形態〉本実施形態の光走査装
置においては、反射ミラー1にひずみ検出用の圧電素子
と、たわみ補正用の圧電素子が別個に構成されている。
また、制御手段8の回路構成もこのような構成に合わせ
たものとなっている。図7に、反射ミラー1の全体構成
図を、図8に反射ミラー1の部品構成図を、図9に制御
手段8のブロック図を示す。全体構成やその他の構成要
素については第1の実施形態とほぼ同様であるので図面
とその説明を省略する。<Second Embodiment> In the optical scanning device of this embodiment, a piezoelectric element for detecting distortion and a piezoelectric element for correcting deflection are separately provided on the reflection mirror 1.
The circuit configuration of the control means 8 is also adapted to such a configuration. FIG. 7 shows an overall configuration diagram of the reflection mirror 1, FIG. 8 shows a component configuration diagram of the reflection mirror 1, and FIG. 9 shows a block diagram of the control means 8. Since the overall configuration and other components are almost the same as those of the first embodiment, the drawings and the description are omitted.
【0042】図7、図8に示すように、反射ミラー1に
おいて第1の実施形態と異なる点は、ミラー基材13の
上面の左右の圧電膜12a、12bの奥側(弾性変形部
材2の接合部分とは逆側)にさらに圧電膜15a、15
bが接着されている点である。また、これらの圧電膜1
5a、15bの上下面にも他の圧電膜12a、12b、
12c、12dと同様に電極17a、17a’、17
b、17b’が配されている。As shown in FIGS. 7 and 8, the difference between the reflection mirror 1 and the first embodiment is that the depths of the left and right piezoelectric films 12a and 12b on the upper surface of the mirror substrate 13 (the elastic deformation member 2) are different. The piezoelectric films 15a, 15
b is adhered. In addition, these piezoelectric films 1
Other piezoelectric films 12a, 12b, 5a, 15b
The electrodes 17a, 17a ', and 17 are the same as 12c and 12d.
b, 17b '.
【0043】圧電膜15a、15bはたわみ検出用の圧
電膜である。その他の圧電膜12a、12b、12c、
12dはたわみ補正用の圧電膜である。次に図9の回路
ブロック図について説明する。尚、図9においては図5
と同様に右側の圧電膜15b、12b、12dに対する
制御手段8内の回路部分のみを示すが、左側の圧電膜1
5a、12a、12cに対する回路も同様である。The piezoelectric films 15a and 15b are piezoelectric films for detecting deflection. Other piezoelectric films 12a, 12b, 12c,
Reference numeral 12d denotes a deflection correction piezoelectric film. Next, the circuit block diagram of FIG. 9 will be described. In FIG. 9, FIG.
Similarly, only the circuit portion in the control means 8 for the right piezoelectric films 15b, 12b, 12d is shown, but the left piezoelectric film 1
The same applies to the circuits for 5a, 12a and 12c.
【0044】たわみ検出手段82は、二つの電極17
b、17b’の電位差v2’を検出する。次に、予め検
出してメモリーしてあるたわみがない状態での電位差v
1を基にたわみ量を算出する。そして、たわみを補正す
るための印加電圧を算出しその情報を含む制御信号を電
圧印加手段84に送る。The deflection detecting means 82 includes two electrodes 17
b, to detect the 'potential difference v 2 of' 17b. Next, the potential difference v in a state where there is no deflection, which is detected and stored in advance, is stored.
Calculate the amount of deflection based on 1 . Then, an applied voltage for correcting the deflection is calculated, and a control signal including the information is sent to the voltage applying means 84.
【0045】電圧印加手段84は、制御信号に基づいて
圧電素子12b、12dの各電極に電圧を印加する。こ
のような制御を行うことで、たわみが補正される。尚、
以上の制御を所定の時間間隔で行うことでリアルタイム
の補正が可能となる。The voltage applying means 84 applies a voltage to each electrode of the piezoelectric elements 12b and 12d based on the control signal. By performing such control, the deflection is corrected. still,
Performing the above control at predetermined time intervals enables real-time correction.
【0046】上記二つの実施形態の光走査装置において
は、弾性変形部材2の駆動手段として電磁力を発生する
駆動手段を用いたが、この駆動手段に限らない。弾性変
形部材2に回転振動を与えるような駆動手段であればど
のようなものでもよい。例えば、圧電素子の直線振動を
弾性変形部材2に与え弾性変形部材2をねじり共振させ
るような構成としてもよい。In the optical scanning devices of the above two embodiments, the driving means for generating the electromagnetic force is used as the driving means for the elastic deformation member 2, but the invention is not limited to this driving means. Any drive means may be used as long as it provides rotational vibration to the elastic deformation member 2. For example, a configuration may be employed in which linear vibration of the piezoelectric element is applied to the elastic deformation member 2 to cause the elastic deformation member 2 to resonate.
【0047】〈第3の実施形態〉図10に、本実施形態
の光走査装置の上面斜視図を示す。本実施形態の光走査
装置の反射ミラー1は上下方向(矢印34の方向)に振
動するものである。反射ミラー30は弾性変形部材31
の一端に固着されている。弾性変形部材31の他端は基
台33に固着されている。<Third Embodiment> FIG. 10 is a top perspective view of an optical scanning device according to this embodiment. The reflection mirror 1 of the optical scanning device according to the present embodiment oscillates vertically (in the direction of arrow 34). The reflection mirror 30 is an elastic deformation member 31
At one end. The other end of the elastic deformation member 31 is fixed to the base 33.
【0048】弾性変形部材31は2枚の圧電膜32に挟
まれている。圧電膜32が弾性変形部材31の駆動手段
となる。2枚の圧電膜32は、一方が伸びるとき他方が
縮むように制御される。伸縮方向は軸35の方向(弾性
変形部材31の長手方向中心軸と一致する)である。圧
電膜32は、弾性変形部材31の曲げ振動数近傍の振動
数で伸縮振動をする。弾性変形部材31は、この伸縮運
動に共振して曲げ振動する。よって、弾性変形部材31
に支持されている反射ミラー30は矢印34に示す方向
つまり上下方向に振動をする。The elastic deformation member 31 is sandwiched between two piezoelectric films 32. The piezoelectric film 32 serves as driving means for the elastic deformation member 31. The two piezoelectric films 32 are controlled such that one expands while the other contracts. The direction of expansion and contraction is the direction of the shaft 35 (coinciding with the longitudinal central axis of the elastic deformation member 31). The piezoelectric film 32 expands and contracts at a frequency near the bending frequency of the elastic deformation member 31. The elastically deformable member 31 bends and vibrates in resonance with the expansion and contraction movement. Therefore, the elastic deformation member 31
The reflection mirror 30 vibrated in the direction indicated by the arrow 34, that is, in the vertical direction.
【0049】ここでいう上下方向の振動とは、弾性変形
部材31と基台33の接合部分を通る軸46を中心とし
て振動することと略同一である。反射ミラー30はこの
ような上下方向の振動において、軸35方向の鉛直方向
53にかかる慣性力が軸35方向の各点で異なるために
たわみが生じる。本実施形態の光走査装置においては、
このたわみを補正する補正手段を有する。The vertical vibration here is substantially the same as the vibration about the axis 46 passing through the joint between the elastic deformation member 31 and the base 33. In such a vertical vibration, the reflecting mirror 30 bends because the inertial force applied in the vertical direction 53 in the direction of the axis 35 differs at each point in the direction of the axis 35. In the optical scanning device of the present embodiment,
There is a correction means for correcting this deflection.
【0050】補正手段は、反射ミラー30上の圧電膜3
6、37よりなる。補正手段については、図11を用い
て後述する。圧電膜32と圧電膜36、37には、基台
5と弾性変形部材31の表面に形成さている配線が接続
されている。配線39は圧電膜36、37に接続されて
いる。配線40は圧電膜32に接続されている。各配線
39、40の他端はコネクタ41とケーブル43を介し
て制御手段42に接続されている。The correcting means includes the piezoelectric film 3 on the reflection mirror 30.
6, 37. The correction means will be described later with reference to FIG. Wirings formed on the surface of the base 5 and the elastically deformable member 31 are connected to the piezoelectric film 32 and the piezoelectric films 36 and 37. The wiring 39 is connected to the piezoelectric films 36 and 37. The wiring 40 is connected to the piezoelectric film 32. The other end of each of the wires 39 and 40 is connected to a control means 42 via a connector 41 and a cable 43.
【0051】圧電膜32には、制御手段42により共振
振動数近傍の振動数で伸縮振動するような電圧が印加さ
れる。また、圧電膜36、38に関しても、制御手段4
2によりたわみを補正するような電圧が印加される。A voltage is applied to the piezoelectric film 32 by the control means 42 such that the piezoelectric film 32 expands and contracts at a frequency near the resonance frequency. The control means 4 also controls the piezoelectric films 36 and 38.
2 applies a voltage that corrects the deflection.
【0052】図11は反射ミラー1の部品構成図であ
る。反射ミラー1は、軽くて硬いミラー基材38の上下
面に2枚の圧電膜36、37が接着されている構成とな
っている。また、図中では省略したが、それぞれの圧電
膜36、37の上下面には電極が配されている。反射ミ
ラー30の上面は反射手段44が施されている。尚、圧
電膜36の上面電極が反射手段44を兼ねる構成であっ
てもよい。FIG. 11 is a view showing a component configuration of the reflection mirror 1. As shown in FIG. The reflection mirror 1 has a configuration in which two piezoelectric films 36 and 37 are adhered to upper and lower surfaces of a light and hard mirror base material 38. Although omitted in the figure, electrodes are arranged on the upper and lower surfaces of each of the piezoelectric films 36 and 37. The reflection means 44 is provided on the upper surface of the reflection mirror 30. Note that a configuration in which the upper surface electrode of the piezoelectric film 36 also functions as the reflecting means 44 may be employed.
【0053】制御手段42内では、圧電膜36、37の
電位差を検出することによりたわみ量を算出し、たわみ
補正するための印加電圧を各圧電膜36、37の電極に
印加するような構成となっている。各圧電膜36、37
は印加電圧によって軸35方向に伸縮する。この伸縮に
より、反射ミラー1において中心軸46の垂直方向35
の鉛直方向53に発生するたわみが補正されることにな
る。圧電膜36、37を制御する制御手段42内の構成
については、図5に示した第1の実施形態の制御手段8
とほぼ同様なので説明を省略する。The control means 42 calculates the amount of deflection by detecting the potential difference between the piezoelectric films 36 and 37, and applies an applied voltage for correcting the deflection to the electrodes of the piezoelectric films 36 and 37. Has become. Each piezoelectric film 36, 37
Expands and contracts in the direction of the axis 35 by the applied voltage. Due to this expansion and contraction, the reflection mirror 1 has a vertical direction 35 of the central axis 46.
Is corrected in the vertical direction 53. Regarding the configuration inside the control means 42 for controlling the piezoelectric films 36 and 37, the control means 8 of the first embodiment shown in FIG.
Therefore, the description is omitted.
【0054】尚、上記においては、圧電膜36、37は
たわみ検出とたわみ補正をともに行うように構成されて
いるが、第2の実施形態と同様に、たわみ検出用の圧電
膜とたわみ補正用の圧電膜が別個に構成されていてもよ
い。図12に、たわみ検出用の圧電膜とたわみ補正用の
圧電膜が別個に配されている場合の反射ミラー30の部
品構成図を示す。In the above description, the piezoelectric films 36 and 37 are configured to perform both deflection detection and deflection correction. However, as in the second embodiment, the piezoelectric films for deflection detection and deflection correction are used. May be separately formed. FIG. 12 shows a component configuration diagram of the reflection mirror 30 when the deflection detecting piezoelectric film and the deflection correcting piezoelectric film are separately provided.
【0055】図12においては、図11に示した反射ミ
ラー30の構成部品に加えてミラー基材38の上面に圧
電膜45が接着されている。圧電膜45の上下面にも圧
電膜36の電極と接することがないように電極が配され
ている。In FIG. 12, in addition to the components of the reflection mirror 30 shown in FIG. Electrodes are also arranged on the upper and lower surfaces of the piezoelectric film 45 so as not to contact the electrodes of the piezoelectric film 36.
【0056】圧電膜36、37はたわみ補正用の圧電膜
である。圧電膜45は、他の圧電膜36、37と同様に
軸35方向に伸縮するたわみ検出用の圧電膜である。制
御回路42では、圧電膜45の電位差を検出することに
よりたわみ量を算出する。そして、算出したたわみ量に
基づいて圧電膜36、37の電極に印加する電圧を制御
する。圧電膜36、37、45を制御する制御手段42
内の構成については、図9に示した第2の実施形態の制
御手段8とほぼ同様なので説明を省略する。The piezoelectric films 36 and 37 are piezoelectric films for deflection correction. The piezoelectric film 45 is a deflection detecting piezoelectric film that expands and contracts in the direction of the axis 35 like the other piezoelectric films 36 and 37. The control circuit 42 calculates the amount of deflection by detecting the potential difference of the piezoelectric film 45. Then, the voltage applied to the electrodes of the piezoelectric films 36 and 37 is controlled based on the calculated deflection amount. Control means 42 for controlling piezoelectric films 36, 37, 45
The internal configuration is almost the same as that of the control means 8 of the second embodiment shown in FIG.
【0057】このようにたわみ検出用の圧電膜とたわみ
補正用の圧電膜を別体で構成した場合には、リアルタイ
ムの補正が可能となる。When the deflection detecting piezoelectric film and the deflection correcting piezoelectric film are formed separately, real-time correction can be performed.
【0058】[0058]
【発明の効果】本発明の光走査装置によると、反射ミラ
ーの反射面を有効に使用できる。ひいては、走査する光
束を略光束の面積の反射ミラー走査することが可能とな
る。従って、大きな径の光束を走査する光走査装置にお
いても、ミラー面積が略光束程度でよいため、ミラーサ
イズの大型化による振動数や振幅の低下を最小限に防ぐ
ことが可能となる。According to the optical scanning device of the present invention, the reflecting surface of the reflecting mirror can be used effectively. As a result, the light beam to be scanned can be scanned by a reflection mirror having a substantially light beam area. Accordingly, even in an optical scanning device that scans a light beam having a large diameter, the mirror area may be approximately the same as the light beam, and it is possible to minimize a decrease in frequency and amplitude due to an increase in the size of the mirror.
【0059】上記の効果により、本発明の光走査装置を
映像表示装置に用いた場合には、十分なビーム径を有す
る光を観察者に提示できるとともに、高精細できれいな
映像を提示することができることになる。According to the above effects, when the optical scanning device of the present invention is used for an image display device, light having a sufficient beam diameter can be presented to an observer, and a high-definition and beautiful image can be presented. You can do it.
【図1】 第1の実施形態の光走査装置の全体構成を示
す上面斜視図。FIG. 1 is a top perspective view showing the overall configuration of an optical scanning device according to a first embodiment.
【図2】 図1の反射ミラーと弾性変形部材の部分の詳
細図。FIG. 2 is a detailed view of a reflection mirror and an elastic deformation member of FIG. 1;
【図3】 第1の実施形態の反射ミラーの部品構成図。FIG. 3 is a component configuration diagram of a reflection mirror according to the first embodiment.
【図4】 図1の弾性変形部材、コネクタ、ケーブル部
分の詳細図。FIG. 4 is a detailed view of an elastic deformation member, a connector, and a cable portion of FIG. 1;
【図5】 第1の実施形態の制御手段のブロック図。FIG. 5 is a block diagram of a control unit according to the first embodiment.
【図6】 (a)たわみが発生していない場合と(b)
たわみが発生している場合の電位差を示す図。FIGS. 6A and 6B show a case where no deflection has occurred and FIG.
The figure which shows the electric potential difference in case the bending has arisen.
【図7】 第2の実施形態の光走査装置の反射ミラーと
弾性変形部材の詳細図。FIG. 7 is a detailed view of a reflection mirror and an elastic deformation member of the optical scanning device according to the second embodiment.
【図8】 第2の実施形態の反射ミラーの部品構成図。FIG. 8 is a view illustrating a component configuration of a reflection mirror according to a second embodiment.
【図9】 第2の実施形態の制御手段のブロック図。FIG. 9 is a block diagram of a control unit according to the second embodiment.
【図10】 第3の実施形態の光走査装置の全体構成を
示す上面斜視図。FIG. 10 is a top perspective view showing the overall configuration of the optical scanning device according to the third embodiment.
【図11】 第3の実施形態の反射ミラーの部品構成
図。FIG. 11 is a diagram illustrating a component configuration of a reflection mirror according to a third embodiment.
【図12】 第3の実施形態の図11とは異なる反射ミ
ラーの部品構成図。FIG. 12 is a view showing a component configuration of a reflection mirror different from FIG. 11 of the third embodiment.
【図13】 たわみの発生の原理を説明するための図。FIG. 13 is a view for explaining the principle of generation of deflection.
1、30 反射ミラー 2、31 弾性変形部材 3a、3b 電磁石コイル 4 磁性体平板 5、33 基台 6、41 コネクタ 7、43 ケーブル 8、42 制御手段 12a、12b、12c、12d、36、37 圧電
膜 13、38 ミラー基材 14、44 反射手段 16 回転中心軸 32 圧電膜(駆動手段) 82 たわみ検出手段 83 駆動信号生成手段 84 電圧印加手段1, 30 Reflecting mirror 2, 31 Elastic deformation member 3a, 3b Electromagnet coil 4 Magnetic plate 5, 33 Base 6, 41 Connector 7, 43 Cable 8, 42 Control means 12a, 12b, 12c, 12d, 36, 37 Piezoelectric Film 13, 38 Mirror base material 14, 44 Reflecting means 16 Center of rotation 32 Piezoelectric film (driving means) 82 Deflection detecting means 83 Drive signal generating means 84 Voltage applying means
Claims (5)
射ミラーを有する光走査装置において、 前記反射ミラーのたわみを補正する補正手段が前記反射
ミラーに具備されていることを特徴とする光走査装置。1. An optical scanning device having a reflection mirror that scans light by rotating and oscillating, wherein the reflection mirror includes correction means for correcting deflection of the reflection mirror. .
を検出するたわみ検出機能を備えており前記たわみ検出
機能の検出結果に基づいてたわみを補正することを特徴
とする請求項1に記載の光走査装置。2. The light according to claim 1, wherein said correcting means has a deflection detecting function for detecting deflection of said reflection mirror, and corrects deflection based on a detection result of said deflection detecting function. Scanning device.
み検出機能を備えたたわみ検出手段が前記補正手段とは
別に前記反射ミラーに具備されており、前記補正手段は
前記たわみ検出手段の検出結果に基づいて前記反射ミラ
ーのたわみを補正することを特徴とする請求項1に記載
の光走査装置。3. A deflection detecting means having a deflection detecting function for detecting deflection of the reflecting mirror is provided on the reflecting mirror separately from the correcting means, and the correcting means detects a deflection result of the deflection detecting means. The optical scanning device according to claim 1, wherein the deflection of the reflection mirror is corrected based on the correction.
段の裏面に一体に設けられた圧電手段からなることを特
徴とする請求項1乃至3いずれかに記載の光走査装置。4. An optical scanning device according to claim 1, wherein said correction means comprises a piezoelectric means integrally provided on a back surface of said reflection means of said reflection mirror.
に配された基材を挟んで対向する2対の圧電手段からな
る反射ミラーと、 前記圧電手段にたわみ補正信号を与える手段とを備えた
ことを特徴とする光走査装置。5. A reflecting mirror comprising a reflecting means on a flat plate, two pairs of piezoelectric means opposed to each other with a substrate disposed on the back side of the reflecting means interposed therebetween, and means for giving a deflection correction signal to the piezoelectric means. An optical scanning device comprising:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2061098A JPH11218709A (en) | 1998-02-02 | 1998-02-02 | Optical scanning device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2061098A JPH11218709A (en) | 1998-02-02 | 1998-02-02 | Optical scanning device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11218709A true JPH11218709A (en) | 1999-08-10 |
Family
ID=12032044
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2061098A Pending JPH11218709A (en) | 1998-02-02 | 1998-02-02 | Optical scanning device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11218709A (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003075757A (en) * | 2001-09-03 | 2003-03-12 | Canon Inc | Optical system vibration controller |
| JP2011022368A (en) * | 2009-07-16 | 2011-02-03 | Shinano Kenshi Co Ltd | Optical scanner |
| JP2011154196A (en) * | 2010-01-27 | 2011-08-11 | Hitachi Via Mechanics Ltd | Galvano scanner and laser beam machining device |
| JP2012068424A (en) * | 2010-09-24 | 2012-04-05 | Brother Ind Ltd | Two-dimensional optical scanner and image projection device |
| WO2012115264A1 (en) * | 2011-02-25 | 2012-08-30 | 日本電気株式会社 | Light scanning device |
-
1998
- 1998-02-02 JP JP2061098A patent/JPH11218709A/en active Pending
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