JPH11220949A - 植物育成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】簡易な構成でマイクロ波ランプにおける結露を
確実に防止でき、結露に起因するマイクロ波ランプの光
量低下や漏電を未然に防止することが可能な植物育成装
置を提供する。 【解決手段】マイクロ波ランプ２０を構成するハウジン
グ２１のベース台座２１ａに、結露防止用の発熱手段と
してＰＴＣヒータ３０を取り付けた。育成室１５内を常
温から高温・高湿に設定変更する時や、低温制御時にマ
イクロ波ランプ２０を消灯した時等に、ＰＴＣヒータ３
０に通電し発熱させることにより、ユニット２１内の結
露を防止する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、人工光源としての
マイクロ波ランプによって、植物に光照射して育成する
植物育成装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の植物育成装置は、その内
部が植物を収納する育成室と、外部から取り入れた空気
の温湿度を調整する空気調和装置を配した機械室とに仕
切られ、機械室で調整された空気を育成室へ導入するよ
うになっている。育成室の天井部位には、植物に光照射
するための人工光源が設けられていた。

【０００３】人工光源としては、メタルハライドランプ
等のＨＩＤランプ（高強度放電灯）が一般的であった
が、太陽光に近似した連続スペクトルの可視光を得られ
ることや、真夏の昼間のような高光強度が得られるこ
と、熱線が少ないこと等の理由により、最近では、マイ
クロ波ランプが人工光源として注目されている。

【０００４】このようなマイクロ波ランプを用いた植物
育成装置としては、本出願人が先に出願した特開平６−
４４４４４７号公報に示すようなものがある。これは、
マイクロ波ランプを含むランプユニット外壁に循環空気
を当てるようにして、ランプユニット全体の発熱を抑え
るように構成されていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
たような従来の植物育成装置では、前記育成室内を常温
から高温・高湿に設定変更する時や、低温制御時にラン
プを消した時等に、ランプユニット内に結露が生じる場
合があった。

【０００６】例えば、ランプユニットを構成する金属製
のマイクロ波遮蔽スクリーンに結露が生じると、該スク
リーンに錆が発生して光の反射率が低下してしまい、光
量低下を招くという不都合があった。また、高圧電圧が
印加されるマグネトロン（マイクロ波管）や、高圧電圧
を生成するプリント基板（ランプ駆動回路）等に結露が
生じると、絶縁抵抗が低下してしまい、漏電する可能性
が高くなるという不都合があった。

【０００７】このように、植物育成装置を構成するラン
プユニット内に結露が生じると、様々な問題点が生じる
ため、ランプユニット内における結露を防止するための
工夫が切望されていた。本発明は、以上のような従来技
術が有する問題点に着目してなされたもので、簡易な構
成でランプユニット内における結露を確実に防止でき、
結露に起因するマイクロ波ランプの光量低下や漏電を未
然に防止することが可能な植物育成装置を提供すること
を目的としている。

【０００８】

【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ための本発明の要旨とするところは、次の各項の発明に
存する。 ［１］人工光源としてのマイクロ波ランプ（２０）によ
って、植物に光照射して育成する植物育成装置（１０）
において、前記マイクロ波ランプ（２０）は、電圧を生
成するランプ駆動回路（１００）と、電圧の印加により
マイクロ波を生成するマイクロ波管（２２）と、マイク
ロ波を受けると発光する発光バルブ（２３）とを少なく
とも含むユニットから成り、前記マイクロ波ランプ（２
０）に、前記発光バルブ（２３）を発光させる光照射に
伴う発熱とは別に、ユニット内の結露を防止すべく発熱
させる発熱手段を設けたことを特徴とする植物育成装置
（１０）。

【０００９】［２］前記発熱手段をヒータ部材（３０，
３５）により構成したことを特徴とする［１］記載の植
物育成装置（１０）。

【００１０】［３］前記マイクロ波ランプ（２０）は、
更にユニット内に前記マイクロ波管（２２）で生成され
たマイクロ波を一定方向に導く導波管（２１ｂ）と、前
記発光バルブ（２３）を囲む金属製のマイクロ波遮蔽ス
クリーン（２４）とを有し、前記発熱手段であるヒータ
部材（３０，３５）を、前記導波管（２１ｂ）またはマ
イクロ波遮蔽スクリーン（２４）の要所に設けたことを
特徴とする［２］記載の植物育成装置（１０）。

【００１１】［４］前記ヒータ部材（３０，３５）は、
ＰＴＣヒータ（３０）またはヒータ線（３５）であるこ
とを特徴とする［２］または［３］記載の植物育成装置
（１０）。

【００１２】［５］前記マイクロ波管（２２）を構成す
る陰極（２２ａ）または該陰極（２２ａ）側に設けられ
たヒータ部（２２ｃ）を前記発熱手段として設定し、前
記陰極（２２ａ）またはヒータ部（２２ｃ）に通電する
ことで発熱させることを特徴とする［１］記載の植物育
成装置（１０）。

【００１３】［６］前記陰極（２２ａ）またはヒータ部
（２２ｃ）に、前記ランプ駆動回路（１００）とは別に
設けられた陰極ヒータ回路（１０３）から通電するよう
に構成したことを特徴とする［５］記載の植物育成装置
（１０）。

【００１４】［７］前記マイクロ波管（２２）自体を前
記発熱手段として設定し、前記マイクロ波管（２２）を
構成する陰極（２２ａ）及び陽極（２２ｂ）に対し前記
ランプ駆動回路（１００）によって、マイクロ波が生成
しない程度の電圧を印加して発熱させることを特徴とす
る［１］記載の植物育成装置（１０）。

【００１５】次に前述した解決手段に基づく作用を説明
する。本発明に係る植物育成装置（１０）によれば、マ
イクロ波ランプ（２０）に、その発光バルブ（２３）に
よる光照射に伴う発熱とは別に、任意に発熱させること
ができる発熱手段を設けたから、該発熱手段によってマ
イクロ波ランプ（２０）のユニット内の結露を防止する
ことができる。

【００１６】すなわち、例えば植物育成装置（１０）内
を常温から高温・高湿に設定変更する時や、低温制御時
にランプを消した時等に、前記発熱手段を発熱させるこ
とにより、その熱によって結露を防止する。それによ
り、特に、金属製のマイクロ波遮蔽スクリーン（２４）
が錆付くのを防いで光量低下を防止でき、また、マイク
ロ波管（２２）等における絶縁抵抗が低下するのを防い
で漏電の虞を解消することができる。

【００１７】前記発熱手段は、マイクロ波ランプ（２
０）とは別体であるヒータ部材（３０，３５）により構
成すればよく、かかるヒータ部材（３０，３５）は、具
体的には例えば、ＰＴＣヒータ（３０）やヒータ線（３
５）等とすればよい。ここでＰＴＣヒータ（３０）を選
択すれば、その自己温度の制御作用により簡易な構成で
所定温度に維持することができる。また、ヒータ線（３
５）を選択すれば、様々な箇所に沿うよう自由な形状に
して配置させることができる。

【００１８】前述したヒータ部材（ＰＴＣヒータ（３
０）、ヒータ線（３５）等）は、マイクロ波ランプ（２
０）を構成する導波管（２１ｂ）またはマイクロ波遮蔽
スクリーン（２４）の要所に設ければ、前述した結露に
起因する光量低下や漏電を確実に防止することができ
る。

【００１９】また、前記発熱手段として、マイクロ波ラ
ンプ（２０）の構成要素を利用することもできる。具体
的には例えば、マイクロ波管（２２）を構成する陰極
（２２ａ）または該陰極（２２ａ）側に設けられたヒー
タ部（２２ｃ）を発熱手段として設定し、これら陰極
（２２ａ）またはヒータ部（２２ｃ）に通電することで
発熱させることができる。

【００２０】かかる場合、発熱手段に関する構成要素の
増加を招くことなく、特にマイクロ波管（２２）におけ
る結露を確実に防止でき、絶縁抵抗の低下による漏電を
防ぐことが可能となる。前記陰極（２２ａ）またはヒー
タ部（２２ｃ）には、前記ランプ駆動回路（１００）と
は別に設けられた陰極ヒータ回路（１０３）から通電す
るようにするとよい。

【００２１】ここで前記陰極ヒータ回路（１０３）のみ
を時々作動させることで、陰極（２２ａ）またはヒータ
部（２２ｃ）を断続的に発熱させてもよく、あるいは陰
極ヒータ回路（１０３）をパワーダウンさせる回路を別
途設けて、陰極（２２ａ）またはヒータ部（２２ｃ）を
継続して弱く発熱させるようにしてもよい。

【００２２】更にまた、マイクロ波管（２２）自体を前
記発熱手段として設定し、マイクロ波管（２２）を構成
する陰極（２２ａ）及び陽極（２２ｂ）に対し前記ラン
プ駆動回路（１００）によって、マイクロ波が生成しな
い程度の電圧を印加して発熱させるようにしてもよい。
この場合には、電圧を印加する時間をごく短時間に設定
する必要がある。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、図面に基づき、本発明を代
表する各種実施の形態を説明する。図１〜図３は本発明
の第１実施の形態に係る植物育成装置１０を示してい
る。図１に示すように、植物育成装置１０は、その箱型
本体１１の内部が仕切板１２と床板１３とによって、育
成室１５と機械室１６とに仕切られている。

【００２４】育成室１５は植物の育成実験を行う空間で
あり、その床板１３には、機械室１６で温湿度が調整さ
れた空気を導入する多数の吹出孔１４，１４…が穿設さ
れている。一方、育成室１５の天井部には、人工光源と
してのマイクロ波ランプ２０が配設されている。

【００２５】マイクロ波ランプ２０は、太陽光に近似し
た連続スペクトルの可視光を発すると共に、日本におけ
る真夏の昼間のような高光強度が得られ、かつ熱線が少
ないという特性を有している。かかるマイクロ波ランプ
２０には、その光照射に伴う発熱とは別に、ユニット内
の結露を防止すべく発熱させる発熱手段が設けられてい
る。本実施の形態における発熱手段はＰＴＣヒータ３０
から成るが、詳しくは後述する。

【００２６】マイクロ波ランプ２０は、高電圧を生成す
るランプ駆動回路１００と、高電圧の印加によりマイク
ロ波を生成するマイクロ波管としてのマグネトロン２２
と、マイクロ波を一定方向に導く導波管２１ｂと、マイ
クロ波を受けると発光する発光バルブ２３、それにマイ
クロ波遮蔽スクリーン２４等を有し、ユニットとして構
成されている。

【００２７】図２に示すように、マグネトロン２２や、
ランプ駆動回路１００（図３参照）を含むプリント基板
２５等は、ハウジング２１に収納されている。ハウジン
グ２１の箱型のカバー本体は合成樹脂から成形されてい
るが、ベース台座２１ａはアルミダイカストにより成形
されている。ベース台座２１ａには、マグネトロン２２
から出力されたマイクロ波を発光バルブ２３に導く導波
管２１ｂが一体に設けられている。

【００２８】また、ベース台座２１ａの上面側に、前記
プリント基板２５は接するよう取り付けられている。更
に、ハウジング２１内には、光反射笠２５の内側より循
環空気の一部をハウジング２１内に吸引するための吸気
手段２６が設けられている。吸気手段２６は小型のブロ
ワー等で構成すればよい。なお、ハウジング２１の上面
部には排気孔２１ｃが開設されている。

【００２９】マグネトロン２２は、図３に示すランプ駆
動回路１００から直流高電圧が印加されると発振し、電
子流を速度変調した２．４５ＧＨｚのマイクロ波を出力
するものである。詳しく言えば、マグネトロン２２は、
円筒形の陰極２２ａが、同じく円筒形に配置された陽極
２２ｂに同心的に配置され、この軸心方向に磁場をかけ
たものである。かかるマグネトロンは、磁場の作用によ
り電子軌道を円形に曲げて、円形軌道上でバンチング
（集群作用）を起こさせるようになっている。

【００３０】ランプ駆動回路１００は、高圧トランス１
０１と全波整流回路１０２とから成り、全波整流回路１
０２の出力は、マグネトロン２２の陰極２２ａに接続さ
れる。一方、マグネトロン２２の陽極２２ｂは接地され
ている。また、マグネトロン２２の陰極２２ａ側にはヒ
ータ部２２ｃが設けられており、このヒータ部２２ｃに
は、陰極ヒータ回路を成すヒータートランス１０３から
電流が供給されるように設定されている。

【００３１】ランプ駆動回路１００の具体的構成は、図
３に示す回路に限定されるものではなく、例えば、前記
高圧トランス１０１の一次側に供給される交流をオン・
オフ制御する交流電力調整回路を付加して、中抜きする
サイクル数の割合を増減することで前記マイクロ波ラン
プの発光量を調光可能に構成してもよく、あるいは、Ｐ
ＷＭインバータ回路等によって構成してもよい。

【００３２】発光バルブ２３は、石英ガラス製の球管内
に硫黄等の有極分子を封入して成り、マイクロ波を受け
ると、硫黄等の有極分子が加熱されてプラズマ状態にな
り、プラズマ発光するものである。かかる発光バルブ２
３は、円筒状のマイクロ波遮蔽スクリーン２４で囲まれ
ており、その外側には、発光バルブ２３を囲むように拡
径しつつ開口する光反射笠２５が配設されている。

【００３３】マイクロ波遮蔽スクリーン２４は、マイク
ロ波が外部に漏れないように電磁遮蔽する機能を果たす
ものであり、銀等の金属によって成形される。また、光
反射笠２５の基端はハウジング２１内に連通しており、
前記マグネトロン２２から出力されたマイクロ波は、導
波管２２ａを通って光反射笠２５の基端から発光バルブ
２３に伝送されるように設定されている。

【００３４】図２に示すように、ハウジング２１のベー
ス台座２１ａの下面側に、本実施の形態の発熱手段であ
るＰＴＣヒータ３０が取り付けられている。ＰＴＣヒー
タ３０は、所定温度以上で抵抗値が急激に上昇する性質
を持つチタン酸バリウムを主成分とする半導体セラミッ
ク抵抗体から成る。

【００３５】このようなＰＴＣヒータ３０は、電圧を印
加すると電流が流れ、ジュール熱により自己発熱し、温
度が上昇するが、所定のスイッチング温度に達すると急
激に抵抗値が増大して電流が減少して一定となる。すな
わち、自動的にある温度以上は上がらなくなり、温度を
一定に保ち続けるという機能を有している。

【００３６】前記ＰＴＣヒータ３０を、アルミ製のベー
ス台座２１ａに直接取り付けることで、ＰＴＣヒータ３
０の熱はベース台座２１ａを伝わって、マイクロ波遮蔽
スクリーン２４や導波管２１ｂに伝導し、更にはプリン
ト基板２５をも加熱することができるようになってい
る。

【００３７】図１に示すように、前記機械室１６の壁に
は、外部から新鮮な空気を取り込んだり、上部から循環
空気の少なくとも一部を取り込む空気取入口１７が開設
されている。この空気取入口１７には、空気中の塵や埃
を除去する図示しないエアーフィルタが装着されてい
る。機械室１６には、前記空気取入口１７から取り入れ
た空気の温度や湿度を調整して、一定方向に送る空気調
和装置４０が配設されている。

【００３８】空気調和装置４０は、具体的には送風機４
１、冷却コイル４２、電熱ヒータ４３、それに加湿ノズ
ル４４を組み合わせてなる。空気調和装置４０は図示し
ない制御装置により稼働が制御される。空気調和装置４
０により温湿度が調整された空気は、前記床板１３にあ
る多数の吹出孔１４を通じて育成室１５内に吹き出され
る。なお、育成室１５内を通る循環空気の少なくとも一
部はマイクロ波ランプ２０へ向かうように設定されてい
る。

【００３９】次に作用を説明する。図１において、空気
取入口１７から機械室１６内に取り込まれた空気は、空
気調和装置４０の冷却コイル４２や電熱ヒータ４３によ
り所望の温度に調整され、加湿ノズル４４により所望の
湿度に調整される。温湿度が調整された空気は、送風機
４１の稼動により、床板１３にある多数の吹出孔１４を
通って育成室１５内へ吹き出される。また、マイクロ波
ランプ２０は所定サイクルおきに、点灯と消灯を繰り返
すよう制御される。

【００４０】このような植物育成装置１０の稼働中にお
いて、例えば空気調和装置４０により育成室１５内を常
温から高温・高湿に設定変更する時や、低温制御時にマ
イクロ波ランプ２０を消灯した時等には、発熱手段であ
るＰＴＣヒータ３０に通電し発熱させることにより、そ
の熱によって結露を防止することができる。

【００４１】ＰＴＣヒータ３０に通電すると、ＰＴＣヒ
ータ３０はジュール熱により自己発熱する。この熱がベ
ース台座２１ａに直接伝導して、導波管２１ｂはもちろ
ん、ベース台座２１ａに取り付けられたマイクロ波遮蔽
スクリーン２４や、プリント基板２５も加熱することに
なる。特にマイクロ波遮蔽スクリーン２４が持つ熱容量
は小さいので、熱伝導による僅かの加熱でも確実な結露
防止効果を期待することができる。

【００４２】以上のように、マイクロ波ランプ２０に、
その発光バルブ２３による光照射に伴う発熱とは別に、
任意に発熱させることができるＰＴＣヒータ３０を設け
たことで、ユニット２１内の結露を防止することができ
る。従って、マイクロ波遮蔽スクリーン２４が錆付くの
を防いで光量低下を防止でき、また、導波管２１ｂやプ
リント基板２５等における絶縁抵抗が低下するのを防い
で、漏電の虞を解消することができる。

【００４３】また、本実施の形態では、発熱手段にＰＴ
Ｃヒータ３０を用いたことにより、マイクロ波ランプ２
０の大型化を招くことなく、ハウジング２１の要所にコ
ンパクトに配設できる。しかも、ＰＴＣヒータ３０の持
つ自己温度の制御作用によって、簡易な構成で発熱中は
予め設定された所定温度に維持することができる。

【００４４】図４は本発明の第２実施の形態を示してい
る。本実施の形態では、マイクロ波ランプ２０に設ける
発熱手段を、ヒータ線３５で構成したものである。な
お、第１実施の形態と同種の部位には、同一符号を付し
て重複した説明を省略する。

【００４５】図４に示すように、ヒータ線３５は、ハウ
ジング２１のベース台座２１ａの周囲に沿うように配線
されている。ヒータ線３５は具体的にはシリコンヒータ
線であり、ベース台座２１ａの表面には、シリコン系接
着剤あるいは耐熱テープによって直接止着されている。

【００４６】また、本実施の形態の場合には、ヒータ線
３５による過度の加熱を防止するためにサーモスタット
が別途配設されている。このサーモスタットのバイメタ
ル部３７は、取付ブラケット３６を介して前記ベース台
座２１ａに止着されており、サーモ本体３８は、例えば
ハウジング２１の上面部内側等に配設するとよい。

【００４７】このように発熱手段をヒータ線３５とすれ
ば、様々な箇所に沿うような自由な形状に折曲させて、
ヒータ線３５を配設させることができる。なお、サーモ
本体３８により、前記ヒータ線３５の加熱が途切れる温
度は、例えば４５度位に設定するとよい。

【００４８】次に図３に基づいて、本発明の第３実施の
形態を説明する。本実施の形態は、元々マイクロ波ラン
プ２０の構成要素の一部であるマグネトロン２２を構成
する陰極２２ａ側のヒータ部２２ｃを、前記発熱手段と
して設定したものである。

【００４９】すなわち、前記ヒータ部２２ｃに、ランプ
駆動回路１００とは別にあるヒータートランス１０３
（陰極ヒータ回路）より通電することにより、発熱させ
ることができる。かかる場合、発熱手段に関する構成要
素の増加を招くことなく、特にマグネトロン２２自体に
おける結露を確実に防止でき、絶縁抵抗の低下による漏
電を防ぐことが可能となる。

【００５０】具体的には、前記ヒータートランス１０３
のみを時々作動させることで、ヒータ部２２ｃを、結露
を防止できる程度に断続的に発熱させてもよく、あるい
はまた、ヒータートランス１０３をパワーダウンさせる
回路（図示せず）を別途設けて、ヒータ部２２ｃを継続
して弱く発熱させるように設定してもよい。なお、本実
施の形態では、前記発熱手段を、マグネトロン２２の陰
極２２ａ側に設けたヒータ部２２ｃではなく、陰極２２
ａ自体として設定してもかまわない。

【００５１】次に図３に基づいて、本発明の第４実施の
形態を説明する。本実施の形態は、前記第３実施の形態
と同様にマグネトロン２２を発熱手段とするが、陰極２
２ａ側だけでなく、マグネトロン２２全体を発熱手段と
して設定している。

【００５２】すなわち、マグネトロン２２の陰極２２ａ
及び陽極２２ｂに対して、前記ランプ駆動回路１００よ
りマイクロ波が生成しない程度の電圧を印加して発熱さ
せるようにしたものである。この場合には、ランプ駆動
回路１００より電圧を印加する時間をごく短時間に設定
することで、マグネトロン２２が発振する前の状態を形
成し、発熱させるようになっている。

【００５３】本実施の形態によっても、前記第３実施の
形態と同様に、発熱手段に関する構成要素の増加を招く
ことなく、特にマグネトロン２２自体における結露を確
実に防止でき、絶縁抵抗の低下による漏電を防ぐことが
可能となる。なお、本発明に係る植物育成装置は、前述
した実施の形態に限定されるものではない。

【００５４】

【発明の効果】本発明に係る植物育成装置によれば、
人工光源としてのマイクロ波ランプに、その発光バルブ
の光照射に伴う発熱とは別に、ユニット内を発熱させる
発熱手段を設けたから、例えば装置内を常温から高温・
高湿に設定変更する時や、低温制御時にランプを消した
時等に、前記発熱手段を発熱させることで、その熱によ
り結露を防止することができる。

【００５５】それにより、マイクロ波ランプを構成する
金属製のマイクロ波遮蔽スクリーンが錆付くのを防い
で、光量が低下するのを防止でき、また、マイクロ波管
等における絶縁抵抗が低下するのを防いで、漏電の虞を
解消することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施の形態に係る植物育成装置の
内部構造を示す断面図である。

【図２】本発明の第１実施の形態に係る植物育成装置に
装備するマイクロ波ランプを示す正面図である。

【図３】本発明の第１実施の形態に係る植物育成装置に
装備するマイクロ波ランプを駆動するランプ駆動回路を
示す回路図である。

【図４】本発明の第２実施の形態に係る植物育成装置に
装備するマイクロ波ランプを示す正面図である。

【符号の説明】

１０…植物育成装置 １１…箱型本体 １２…仕切板 １３…床板 １４…吹出孔 １５…育成室 １６…機械室 １７…空気取入口 ２０…マイクロ波ランプ ２１…ハウジング ２１ａ…ベース台座 ２１ｂ…導波管 ２２…マグネトロン ２２ａ…陰極 ２２ｂ…陽極 ２２ｃ…ヒータ部 ２３…発光バルブ ２４…マイクロ波遮蔽スクリーン ２５…プリント基板 ３０…ＰＴＣヒータ ３５…ヒータ線 ３８…サーモ本体 ４０…空気調和装置 ４１…送風機 ４２…冷却コイル ４３…電熱ヒータ ４４…加湿ノズル １００…ランプ駆動回路 １０１…高圧トランス １０２…全波整流回路 １０３…ヒータートランス

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】人工光源としてのマイクロ波ランプによっ
   て、植物に光照射して育成する植物育成装置において、 前記マイクロ波ランプは、電圧を生成するランプ駆動回
   路と、電圧の印加によりマイクロ波を生成するマイクロ
   波管と、マイクロ波を受けると発光する発光バルブとを
   少なくとも含むユニットから成り、 前記マイクロ波ランプに、前記発光バルブを発光させる
   光照射に伴う発熱とは別に、ユニット内の結露を防止す
   べく発熱させる発熱手段を設けたことを特徴とする植物
   育成装置。
2. 【請求項２】前記発熱手段を、ヒータ部材により構成し
   たことを特徴とする請求項１記載の植物育成装置。
3. 【請求項３】前記マイクロ波ランプは、更にユニット内
   に前記マイクロ波管で生成されたマイクロ波を一定方向
   に導く導波管と、前記発光バルブを囲む金属製のマイク
   ロ波遮蔽スクリーンとを有し、 前記発熱手段であるヒータ部材を、前記導波管またはマ
   イクロ波遮蔽スクリーンの要所に設けたことを特徴とす
   る請求項２記載の植物育成装置。
4. 【請求項４】前記ヒータ部材は、ＰＴＣヒータまたはヒ
   ータ線であることを特徴とする請求項２または３記載の
   植物育成装置。
5. 【請求項５】前記マイクロ波管を構成する陰極または該
   陰極側に設けられたヒータ部を前記発熱手段として設定
   し、 前記陰極またはヒータ部に通電することで発熱させるこ
   とを特徴とする請求項１記載の植物育成装置。
6. 【請求項６】前記陰極またはヒータ部に、前記ランプ駆
   動回路とは別に設けられた陰極ヒータ回路から通電する
   ように構成したことを特徴とする請求項５記載の植物育
   成装置。
7. 【請求項７】前記マイクロ波管自体を前記発熱手段とし
   て設定し、 前記マイクロ波管を構成する陰極及び陽極に対し前記ラ
   ンプ駆動回路によって、マイクロ波が生成しない程度の
   電圧を印加して発熱させることを特徴とする請求項１記
   載の植物育成装置。