JPH11223807A - 液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
晶オフ状態からオン状態に移行させる際の液晶の応答速
度を向上させる。 【解決手段】 第1基板と第2基板との間に挟持された
垂直配向された液晶の傾斜方角を電界によって制御する
ノーマリブラックモードの液晶表示パネルを駆動する場
合に、黒表示のために液晶層に印加する電圧を0ボルト
より大きく、より好ましくは液晶の光学特性変化電圧V
th以上であって、コントラストが50以下とならない
限度の電圧の範囲に設定する。
Description
を電界によって制御する電圧制御複屈折方式などの液晶
表示装置、特にその駆動回路に関する。
に電圧を印加して所望の表示を行う液晶表示装置は、小
型、薄型であるという利点があり、また低消費電力化が
容易であるため、現在、各種OA機器、AV機器或いは
携帯用、車載用情報機器などのディスプレイ等として実
用化が進んでいる。
異方性を有した液晶を用い、垂直配向膜を用いて液晶分
子の初期配向を垂直方向に制御するDAP(deformatio
n ofvertically aligned phase)型の液晶表示装置が提
案されている。DAP型は、電圧制御複屈折(ECB:
electrically controlled birefringence)方式の一種
であり、液晶分子の長軸と短軸との屈折率の差、つまり
複屈折現象を利用して、液晶層へ入射した光の透過率及
び表示色を制御するものである。DAP型液晶表示装置
では、一対の基板の外側にそれぞれその偏光方向が直交
するように偏光板が配置され、液晶層への電圧印加時に
は、液晶層に一方の偏光板を通過して入射した直線偏光
がその複屈折により楕円偏光、円偏光となり、一部が他
方の偏光板から射出される。液晶層への印加電圧、即ち
液晶層中における電界強度に従って、液晶層の複屈折
量、つまり入射直線偏光の常光成分と異常光成分との位
相差(リタデーション量)が決定するため、液晶層への
印加電圧を各画素毎に制御することで、画素毎に第2の
偏光板からの射出光量を制御でき、全体として所望のイ
メージ表示が可能となっている。
晶表示装置は、複屈折を利用しているため本来的に光の
透過効率が良く、また表示装置のパネル構造等の改良を
行うことによりラビング工程を省略することが可能であ
り、さらに表示装置の視野角向上を図ることも可能であ
るという特徴を有する。しかし、垂直配向した液晶に電
圧を印加した場合に、液晶分子の傾斜角度は同じでもそ
の傾斜方角にバラツキが生ずるため、1画素領域内の液
晶分子の傾斜方角がそろうまでに多少の時間を有し、印
加電圧に対する液晶分子の応答速度が劣るという問題が
あった。
は、液晶の配向の垂直方向成分及び平面方向成分を電界
によって制御する液晶表示装置において、液晶の応答速
度を向上させることの可能な駆動回路の提供を目的とす
る。
にこの発明は、液晶駆動用の電極を備えた第1基板と第
2基板との間に挟持された液晶の配向の垂直方向成分及
び平面方向成分を電界によって制御する液晶表示装置で
あり、液晶に印加する駆動電圧の範囲の下限を0ボルト
より大きく設定することを特徴とするものである。ま
た、液晶に印加する駆動電圧の範囲の下限は、より好ま
しくは、液晶の光学特性変化電圧以上に設定する。
囲の下限は、温度依存性を有する液晶の光学特性変化電
圧の温度変化による電圧変化に追従させることとしても
よい。
の下限は、0ボルトより大きく、かつ、表示コントラス
ト50以上を満たす電圧の範囲内とすることがより好ま
しい。
晶は、初期傾斜角がほぼ0度の垂直又は水平に初期配向
されていることを特徴とするものである。
駆動用の電極には、所定形状の電極不在領域が設けら
れ、該電極の端部に発生する斜め方向の電界により、前
記液晶の配向の平面方向成分を制御することを特徴とす
るものである。
液晶駆動用の電極は、該基板上にマトリクス状に設けら
れた複数の画素電極であり、能動層に低温で形成された
多結晶シリコン層を利用した多結晶シリコン薄膜トラン
ジスタが対応する前記画素電極に接続されるように形成
され、前記複数の画素電極のぞれぞれと、前記第2基板
上の液晶駆動用電極である共通電極との間で液晶層を画
素電極毎に駆動して表示を行うタイプのものを用いるこ
とができる。
適な実施の形態(以下実施形態という)について説明す
る。本実施形態の液晶表示装置は、電界により液晶の配
向を制御するDAP型の液晶表示パネルを駆動する場合
に、電圧非印加における色表示(ここでは黒表示)のた
めに液晶層に印加する駆動電圧の範囲の下限が0ボルト
まで低下しないように制御することで、DAP型液晶表
示パネルの応答速度の向上を図っている。
駆動対象であるDAP型の液晶表示パネルの構成につい
て図1及び図2を用いて説明する。図1は液晶表示パネ
ルの平面構成の一例、図2は図1のA−A線に沿った概
略断面の一例を示している。この実施形態に係る液晶表
示装置は、低温多結晶シリコンTFTが形成され、画素
電極26がTFTの上層に配置されたTFT基板(第1
基板)10を有し、さらに、間に液晶層40を挟んでT
FT基板10と対向配置され、かつ配向制御窓34を備
えた共通電極32が形成された対向基板(第2基板)3
0を備え、各基板10及び30の外側にはそれぞれ互い
にその透過偏光方向が直交するよう配置された偏光板4
4、46が設けられている。
は、この例では、Cr、Ta、Mo等の金属をパターニ
ングして得られたゲート電極12及びゲート電極12と
一体のゲート電極配線12Lを備え、これらゲート電極
12、ゲート電極配線12Lを覆うように、例えばSi
Nx及びSiO2の積層構造又はいずれか一方よりなる
ゲート絶縁膜14が形成されている。ゲート絶縁膜14
上には、TFTの能動層として機能する多結晶シリコン
薄膜20が形成されている。この多結晶シリコン薄膜2
0は、非晶質シリコン薄膜にレーザアニール及びランプ
アニールの組み合わせ又はいずれか一方のアニール処理
などを用いた低温アニール処理を施すことによって多結
晶化し、その後、島状にパターニングして得たものであ
る。
等からなる注入ストッパ23が形成されている。この注
入ストッパ23は、ゲート電極12をマスクとしてTF
T基板10の裏面(図2の下側)から露光することで、
自己整合的にゲート電極12とほぼ同一形状にパターニ
ングして形成されている。そして、この注入ストッパ2
3を利用して多結晶シリコン薄膜20にリン、砒素等の
不純物を低濃度に注入することにより、多結晶シリコン
薄膜20の注入ストッパ23の直下領域の両側には、自
己整合的にこれらの不純物を低濃度に含む低濃度ソース
領域20LS及び低濃度ドレイン領域20LDがそれぞ
れ形成されている。また、注入ストッパ23の直下領域
は、注入ストッパ23がマスクとなって不純物が注入さ
れないため、実質的に不純物を含有しない真性領域とな
り、この真性領域がTFTのチャネル領域20CHとし
て機能する。低濃度ソース領域20LS、低濃度ドレイ
ン領域20LDの外側には、同じ不純物をさらに高濃度
に注入することによりソース領域20S、ドレイン領域
20Dが形成されている。
20S、20D)が形成された多結晶シリコン薄膜20
及び注入ストッパ23上にはこれらを覆うようにSiN
x等からなる層間絶縁膜22が形成されている。この層
間絶縁膜22上には、Al、Mo等からなるソース電極
16、ドレイン電極18及びドレイン電極18と一体の
ドレイン電極配線18Lが形成されている。また、ソー
ス電極16及びドレイン電極18は、層間絶縁膜22に
設けられたコンタクトホールにおいて上記多結晶シリコ
ン薄膜20に形成されたソース領域20S、ドレイン領
域20Dに接続されている。
FTは、上記ゲート電極12、ゲート絶縁膜14、多結
晶シリコン薄膜20(20CH、20LS、20LD、
20S、20D)、ソース電極16、ドレイン電極18
を備え、低温プロセスで形成された多結晶シリコン薄膜
20を能動層として有し、またゲート電極12が素子下
側に位置する逆スタガ型のTFTによって構成されてい
る。但し、TFT形状は逆スタガ型に限定されることは
なく、ゲート電極が多結晶シリコン薄膜よりも上層に配
置されるスタガ型の構成であってもよい。
2を覆うようにTFT基板10のほぼ全面には、さらに
平坦化のための平坦化層間絶縁膜24が1μm程度或い
はそれ以上の厚さに形成されている。平坦化層間絶縁膜
24は、例えばSOG(SpinOn Grass)、BPSG(Bo
ro-phospho-Silicate Glass)、アクリル樹脂等が用い
られている。平坦化層間絶縁膜24上には、表示装置が
透過型の場合にはITO(Indium Tin Oxide)等の透明
導電膜を用いた液晶駆動用の画素電極26がTFT形成
領域上を覆うように形成され、この画素電極26は、平
坦化層間絶縁膜24に設けられたコンタクトホールを介
してソース電極16に接続されている。なお、表示装置
が反射型の場合にはこの画素電極26としてAl等の導
電性反射材料が用いられる。
板10のほぼ全面には、ラビング工程なしで液晶分子を
垂直方向に配向させるための配向膜として、例えばポリ
イミド等を用いた垂直配向膜28が形成されている。
板10と液晶層40を挟んで対向配置される対向基板
(第2基板)30は、TFT基板10と同様にガラス等
から構成されており、TFT基板10との対向側表面に
はRGBのカラーフィルタ38が形成され、さらにその
上にはアクリル樹脂などの保護膜36を介し、対向する
画素電極26とで液晶を駆動するためのITOなどから
なる共通電極32が形成されている。そして、本実施形
態では、後述するように、この共通電極32にはその各
画素電極26と対向する領域に配向制御窓34として、
例えば図1に示すようなX字状の電極不在部が形成され
ている。また、共通電極32及びこの配向制御窓34上
にはこれらを覆うようにTFT基板10側と同様の垂直
配向膜28が形成されている。
に設定された基板間の間隙に封入され、液晶材料として
は、液晶分子42の長軸方向の誘電率よりも短軸方向の
誘電率が大きい、いわゆる負の誘電率異方性を有する液
晶材料が用いられている。本実施形態において液晶層4
0に用いられている液晶材料は、側鎖にフッ素を有する
下記化学式(1)〜(6)で示される構造を備えた液晶
分子を所望の割合で混合して作製したものであり、少な
くとも、これら化学式(1)〜(6)の内1種類の液晶
分子を含むように混合されている。
度の低い非晶質シリコンを能動層に利用したTFT液晶
表示装置用として、側鎖にシアノ(CN−)基を有する
液晶分子が主に用いられている。しかし、シアノ基を側
鎖に備える液晶分子は、低電圧駆動では残留直流電圧の
影響が大きくなるため、十分高い電圧で駆動する必要が
あり、電圧保持率が低く、また液晶の焼き付きの可能性
がある。しかし、本実施形態ではTFTとして低温プロ
セスによって作製され、低電圧駆動可能な多結晶シリコ
ンTFTを用いている。従って、現在用いられているシ
アノ基を側鎖に備えた液晶材料を用いたのでは、低電圧
駆動ができるという多結晶シリコンTFTの特性を活か
すことができないこととなる。そこで、液晶材料として
上述のように側鎖にフッ素を有する液晶分子を配合する
ことにより、液晶層40は、例えば2V程度の低電圧で
の駆動が可能となり、さらに、多結晶シリコンTFTに
よる低電圧駆動でも十分高い電圧保持率を備え、焼き付
きが防止されている。また、液晶表示装置を低電圧で駆
動することができるため、非晶質シリコンTFTを用い
た液晶表示装置と比較してより低消費電力の装置とする
ことを可能としている。
誘電異方性を有するフッ素系液晶分子を含有する液晶材
料を用い、かつ垂直配向膜28を用いることにより、液
晶分子の初期配向を垂直方向に制御するノーマリブラッ
クモードのDAP型液晶表示装置を採用し、液晶分子の
長軸と短軸における屈折率の差、つまり複屈折現象を利
用して、液晶層へ入射した光の透過率を制御している。
示すように共通電極32に電極不在部としての配向制御
窓34を設けることにより、液晶分子を配向制御窓34
を基準として所定の方角に傾け、液晶分子の応答性の向
上を図ると共に、画素内で配向方向を分割することによ
って液晶表示の視角依存性を緩和し、広い視野角の表示
装置を実現している。
おいて、図1に示す画素電極26の各辺のエッジ部分に
は、図2に点線で示すように共通電極32との間にそれ
ぞれ異なる方角に斜めの電界が発生し、画素電極26の
辺のエッジ部分において、液晶分子は垂直配向状態から
斜め電界と反対の方向に傾く。液晶分子42は連続体性
を有しているため、画素電極26のエッジ部分で斜め電
界で液晶分子の傾き方角が決定すると(傾き角度は電界
強度によって決定)、画素電極26の中央付近の液晶分
子の傾く方角は、該画素電極26の各辺における液晶分
子の傾き方角に追従して変化し、画素駆動時において、
最終的に1つの画素領域内には、液晶分子の傾き方角の
異なる複数の領域が発生することとなる。
値未満の電圧しか印加されないため、図2に示すように
配向制御窓34に位置する液晶分子は、垂直配向したま
まとなる。このため、配向制御窓34が、常に上記液晶
分子の傾き方角の異なる領域の境界となる。例えば、図
1に示すように配向制御窓34をX字状とすれば、それ
ぞれ傾き方角の異なる領域A、B、C、Dの境界は、こ
のX字状の配向制御窓34上に固定されることとなる。
従って、一つの画素領域内で配向分割が行われると共
に、複数の異なる方角に傾く領域の境界を配向制御窓3
4の上に固定でき、優先視角方向を複数設けることがで
き(本実施形態の場合、上下左右の4つ)、広視野角の
液晶表示装置とすることが可能となる。
縁膜22及び24を介してTFT及びその電極配線(ゲ
ート電極配線、ドレイン電極配線)等の形成領域上を覆
うように形成することで、TFT及び電極配線による電
界が液晶層40に漏れ、液晶分子の配向に悪影響を与え
ることが防止されている。さらに、平坦化層間絶縁膜2
4により画素電極26の表面の平坦性を向上させること
が可能であるため、画素電極26の表面の凹凸による液
晶分子の配向の乱れも防止することが可能となってい
る。また、TFTや電極配線による電界の漏洩や画素電
極26表面の凹凸などを低減することが可能な構成であ
るため、画素電極26のエッジ部と配向制御窓34の電
界作用により液晶分子の配向を制御することで、垂直配
向膜28に対するラビング工程は不要となっている。
線を覆うように形成することにより、TFTや配線との
余分なアライメントマージンが不要となり、開口率をよ
り高くすることを可能としている。
ーマリブラックモードのDAP型液晶表示パネルの応答
速度向上のための駆動回路及びその駆動方法について説
明する。
構成を示しており、装置は、液晶表示パネル50とその
駆動回路60を備える。
すようにTFT基板と対向基板との間に液晶層を挟持
し、TFT基板側に、表示部TFTとして、自己整合に
よってチャネル、ソース、ドレインを作製可能な低温多
結晶シリコンTFTが形成された表示部52を有する。
またパネル50のTFT基板上の表示部52の周囲に
は、各表示部TFTを水平方向に選択するHドライバ5
4と、該表示部TFTを垂直方向に選択するVドライバ
56が形成されている。これらH、Vドライバ54、5
6は、表示部52の多結晶シリコンTFTとほぼ同一の
工程で形成したCMOS構造の多結晶シリコンTFTが
用いられている。なお、上述のようなパネル構造の特徴
によって、これらのTFTが密集したドライバ54、5
6の多結晶シリコンTFTに悪影響を与えるラビング工
程を省略可能としているため、液晶表示装置としての歩
留まり向上が図られている。
デオクロマ処理回路62、タイミングコントローラ64
などが集積されて構成されている。ビデオクロマ処理回
路62は、入力されるコンポジットビデオ信号からR、
G、Bの映像信号を作成する。タイミングコントローラ
64は、入力されるビデオ信号に基づいてVCO66の
発生する基準発振信号から各種タイミング制御信号を形
成し、これを上記ビデオクロマ処理回路62や、RGB
ドライバ処理回路70、レベルシフタ68などに供給す
る。RGBドライバ処理回路70は、ビデオクロマ処理
回路62から供給されるRGB毎の映像信号から、TF
TLCDの特性に応じたRGB毎の交流駆動信号を作成
し、これを液晶表示パネル50に出力する。
液晶表示パネルに対し、駆動電圧の範囲の下限、つまり
黒表示のために液晶層に印加する駆動電圧を0ボルトよ
り大きく設定するが、このような黒表示のための駆動電
圧の制御は、例えば、後述するように上記RGBドライ
バ処理回路70において行うことができる。
AP型液晶表示パネルにおける液晶層へのOFF印加電
圧[V]とその時のコントラスト[TON(透過率オン
時)/TOFF(透過率オフ時)]との関係、及びOFF
印加電圧と、液晶の応答時間[msec]との関係を表
している。ここで、OFF印加電圧は液晶がOFF状
態、すなわち非動作状態を維持する電圧であり、このO
FF印加電圧が0Vから2V程度の範囲では、上記液晶
分子は初期配向状態である垂直配向を維持するため透過
率は十分に低く、コントラストは900以上の高い値を
示す。そして、液晶の光学特性が変化する電圧(以下光
学特性変化電圧という)Vth(図4の例では印加電圧
2V付近)を超えるとコントラストが低下し、図4の例
では3.5V程度になると、コントラストは一般的な表
示品質下限と考えられる50程度まで低下する。
に示されるように、黒表示状態から白表示状態に移行す
る場合(図中□)と、白表示状態から黒表示状態に移行
する場合(図中△)とで、その特性が大きく異なる。白
表示状態から黒表示状態へ移行する時、つまりノーマリ
ブラックモードの液晶においてオン状態からオフ状態へ
移行する時は、その応答時間は、5〜10msecと短
時間である。ところが、黒表示状態から白表示状態へと
移行させる場合、つまりオフ状態からオン状態への移行
時においては、OFF印加電圧が0Vから光学特性変化
電圧Vth(図4では2V付近)の間の電圧範囲と、V
th以上の電圧範囲の場合とで、要する応答時間、つま
り応答速度は大きく異なる。具体的には、0V〜Vth
未満の電圧範囲では、液晶の応答時間は75msec〜
30msecと非常に長いが、Vth以上になると応答
時間は20msec程度以下となる。
のOFF印加電圧がVth付近より低いと、黒表示から
白表示への切替時に十分な応答速度が得られず、高い品
質の表示を行うことが困難になることが予想される。し
かし、DAP型液晶表示パネルに対して、印加電圧の下
限を0Vより大きく設定すれば、黒表示から白表示への
移行時の応答速度を高めることが可能となる。十分速い
応答速度として、例えば応答時間20msec以下程度
を満足するには、OFF印加電圧は、液晶の光学特性変
化電圧Vth以上の電圧とすることが好ましい。さら
に、OFF印加電圧の上限は、例えばコントラスト50
程度以上が満足できる電圧とすることが好適である。コ
ントラストが50以上あれば、ある程度の表示品質を満
足することができるからである。そして、以上のように
OFF印加電圧を設定することにより、高コントラスト
で高速応答の液晶表示が可能となる。また、液晶の光学
特性変化電圧Vthは温度依存性を備えている。従っ
て、液晶表示装置の環境温度の変化に適合させて常に最
適な液晶表示を行うには、黒表示の印加電圧の下限をこ
のVthを基準として決定する場合、黒表示の印加電圧
を温度変化によるVthの変化に追従させて変化させる
ことが好ましい。
ドライバ処理回路70のRGBのいずれか一つについて
の構成例を示している。なお、RGBドライバ処理回路
70は、図5と同一構成をRGBそれぞれについて備え
ている。図6は、図5のリミットレベル発生回路84の
一例を示している。また、図7は、図5のRGBドライ
バ処理回路70における信号波形を表している。
されるRGB毎の映像信号は、それぞれ対応する差動出
力アンプ73に供給され、ここでバイアス回路72の電
圧に基づいたDC電位となることでブライト調整され
る。差動出力アンプ73からは第1バッファ74、第2
バッファ75に非反転、反転出力信号がそれぞれ供給さ
れ、第1バッファ74は図7(a)に点線で示すような
非反転出力信号a’を出力し、第2バッファ75は図7
(b)に点線で示すよう反転出力信号b’を出力する。
これらの非反転出力信号a及び反転出力信号bは、第1
及び第2リミット回路78及び80でそれぞれの出力レ
ベルの下限及び上限が1周期(T)毎に制限されてマル
チプレクサ82に供給される(図7(a)、(b)の実
線)。マルチプレクサ82は、反転制御信号に基づいて
1周期(期間T1、T2)毎に、非反転出力信号(a)
と反転出力信号(b)とを交互に選択し、これがバッフ
ァを介して液晶駆動用の交流駆動信号(c)として液晶
表示パネル50に出力される。
4とマルチプレクサ82との信号経路中に設けられたト
ランジスタQ1と、第2バッファ75とマルチプレクサ
82との信号経路中に設けられたトランジスタQ2とか
らなる。トランジスタQ1及びQ2のベースには、後述
するリミットレベル発生回路84からの図7(d)に示
すような第1レベル制御信号(d)が供給されている。
また、第2リミット回路80は、第1バッファ74とマ
ルチプレクサ82との信号経路中に設けられたトランジ
スタQ3と、第2バッファ75とマルチプレクサ82と
の信号経路中に設けられたトランジスタQ4とからな
る。トランジスタQ3及びQ4のベースには、図7
(e)に示すようなリミットレベル発生回路84からの
第2レベル制御信号(e)が供給されている。そして、
この第1及び第2レベル制御信号(d)、(e)によっ
て決定される電圧に応じて、第1リミット回路78のト
ランジスタQ1及び第2リミット回路80のQ4が動作
することで、非反転出力信号a及び反転出力信号bのレ
ベルが制限され、液晶層に印加される電圧(絶対値)の
黒レベルが0Vより大きい所定レベル未満にならないよ
うにしている。
タQ2と第2リミット回路80のトランジスタQ3が動
作し、非反転出力信号a及び反転出力信号bのレベルが
制限され、液晶層に印加される電圧(絶対値)の白レベ
ルが所望のレベルを超えないようにしている。なお、第
1、第2リミット回路78及び80のトランジスタQ2
とQ3は本実施形態においては必ずしも必要ではない
が、これらを設けて非反転、反転出力信号の上下レベル
が所定範囲内となるように制御することで、白レベルが
制御できると共にマルチプレクサ82に過大な電圧が印
加されることを防止すると共に、交流駆動信号(c)の
上下レベルの対称性を高めている。
回路84の構成について説明する。このリミットレベル
発生回路84は、端子100に供給される1周期(T)
毎にレベルの変化する反転制御信号に応じて、レベルが
切り替わる第1レベル制御信号(d)をトランジスタQ
11のエミッタ側から出力し、また同様に第2レベル制
御信号(e)をトランジスタQ10のエミッタ側から出
力する。
号の反転信号の電圧が基準電源86の電圧Vref’より
高いHレベルの場合、トランジスタQ19がオンする。
この際、端子200に印加される反転制御信号がLレベ
ルであるので基準電源90−2(Vref2)が選択され
る。したがって、第1カレントミラー回路CC1によ
り、定電流源92の流す定電流I2とほぼ等しい電流I
が抵抗R1に流れ、トランジスタQ10のベース電位は
「Vref2+R1・I2」となり、トランジスタQ10のエ
ミッタ側から対応する第2レベル制御信号(e)が出力
される。また、この際、トランジスタQ14がオフして
いるので、第2カレントミラー回路CC2には電流が流
れず、トランジスタQ11のベース電位は基準電源90
−2と同じ「Vref2」となり、対応する第1レベル制御
信号(d)がトランジスタQ11のエミッタ側から出力
される。
信号の反転信号の電圧が基準電源86の電圧Vref’よ
り低いLレベルの場合、差動対を構成するPNPトラン
ジスタQ13及びQ14のうちのトランジスタQ14が
オンする。そして、第2カレントミラー回路CC2によ
り電流源88から供給される電流I1とほぼ等しい電流
Iが抵抗R2に流れる。この際、端子200に印加され
る反転制御信号がHレベルであるので基準電源90−1
(Vref1)が選択され、抵抗R2に接続される。よっ
て、この抵抗R2に接続されたトランジスタQ11のベ
ース電位は、抵抗R2における電圧降下により「Vref1
−R2・I1」となり(図7(d))、トランジスタQ1
1のエミッタから対応する第1レベル制御信号(d)が
出力される。また、この際、差動対をなすNPNトラン
ジスタQ19及びQ20の内のトランジスタQ19がオ
フしているため、第1カレントミラー回路CC1には電
流が流れておらず、この第1カレントミラー回路CC1
の出力側トランジスタと抵抗R1との間に接続されたト
ランジスタQ10のベース電位は、抵抗R1の他端に接
続されている基準電源90−1と同じ「Vref1」とな
る。よって、トランジスタQ10のエミッタからは図7
(e)に示すような第2レベル制御信号(e)が出力さ
れる。
(d)、(e)の波形は、図7(d)、(e)の二点鎖
線で波形であり、図7(d)、(e)の実線の波形は、
トランジスタQ11、Q10のベース波形であってこれ
が非反転、反転信号(a)、(b)のリミットレベルと
なる。
82において非反転出力信号(a)が選択されていると
き(図7の期間T1)、第1リミット回路78のトラン
ジスタQ1のリミットレベルは「Vref2」であり、従っ
て、非反転出力信号aの下限レベル(期間T1における
黒表示レベル)は「Vref2」より低くならないように制
御されることとなる。一方、第2リミット回路80のト
ランジスタQ3のリミットレベルは、「Vref2+R1・
I2」であり、非反転出力信号aの上限レベル(期間T
1における白表示レベル)は「Vref2+R1・I2」を超
えないように制御される。また、この際、第1リミット
回路78のトランジスタQ2がマルチプレクサ82で選
択されていない反転出力信号bに対して、そのレベルを
「Vref2」に固定するため、マルチプレクサ82の切替
端子間に過大な電圧が発生することが防止される。
レクサ82において反転出力信号(b)が選択されてい
るとき(図7の期間T2)、第1リミット回路78のト
ランジスタQ2のリミットレベルは「Vref1−R2・
I1」であり、反転出力信号(b)の下限レベル(期間
T2における白レベルに対応)が「Vref1−R2・I1」
より低くならないように制御される。第2リミット回路
80のトランジスタQ4のリミットレベルは「Vref1」
であり、反転出力信号bの上限レベル(期間T2におけ
る黒表示レベル)がこの「Vref1」を超えないように制
御される。なお、この際、第2リミット回路80のトラ
ンジスタQ3が、マルチプレクサ82で選択されていな
い非反転出力信号aに対して、そのレベルが「Vref1」
に固定されるため、この場合にも、マルチプレクサ82
の切替端子間に過大な電圧が発生することが防止され
る。
0へバッファを介してマルチプロクサ82から供給され
る信号は、図7(c)に示すように、常にそれぞれ各期
間T1、T2における黒表示レベルがVref2以下となる
か、またはVref1以下になるように制御される。
圧の黒表示レベルが0Vより大きくなるように、より好
ましくは該レベルがVth〜Vc50(Vc50:コントラス
ト50を満たす印加電圧)の範囲内になるように制御す
るが、これは、例えば、図6に示すリミットレベル発生
回路84の抵抗R1及びR2の抵抗値や、基準電源90
−1及び90−2の電圧Vref1(=Vcen−ΔV)、Vr
ef2(=Vcen+ΔV)を所望の値に調整することにより
達成することができる。また、温度変化によるVthの
変化に黒表示レベルの電圧を追従させるためには、例え
ば、温度変化に応じて基準電源90−1、90−2の電
圧Vref1、Vref2を変更するなどにより行うことができ
る。
晶表示パネルとして垂直配向されたノーマリブラックモ
ードのDAP型液晶表示パネルを例に挙げているが、液
晶初期傾斜角0度で水平配向されたツイストネマティッ
ク型の液晶表示パネルやNW(ノーマリホワイト)LC
Dなど、液晶オフ状態とオン状態間の移行速度が遅い液
晶表示パネルについても同様な効果を有する。即ち、液
晶を駆動する印加電圧範囲の下限を0Vより大きく設定
することによりその応答速度を向上することが可能とな
る。
晶表示装置を構成する場合には、R,G,Bの各色成分
に対し、液晶表示装置の印加電圧(液晶ON印加電圧、
白表示レベル)と透過率と関係が異なるため、このよう
な各成分毎の透過率の相違を補正するために第1リミッ
ト回路78のトランジスタQ2と上記第2リミット回路
80のトランジスタQ3によって各色成分毎に白表示レ
ベルを制御してもよい。図8は、液晶表示装置のRGB
各色ごとの印加電圧[V]と透過率[T]との関係を表
している。図8から理解できるように、ECB型の液晶
表示装置は波長依存性を有しており、RGB各色成分の
透過量を概ね等しくするためには、各色についての設定
最大透過率に対する液晶駆動電圧レベル、つまり、ノー
マリブラックモードの該当液晶画素をオン状態とするた
めに設定する白表示電圧レベルを、例えば図8のような
特性の場合に、R用は7.8V付近、G用は7V付近、
B用は4.9V付近に設定する。これにより、RGB光
の合成により白色を表示するカラー表示の場合に、白色
を忠実に表示することが可能となる。
は、液晶層に印加する駆動電圧範囲の下限を0ボルトよ
り大きい所望の範囲に設定することで、高コントラスト
を満たしつつ液晶の応答速度を向上させることができ
る。また、オフ表示のために液晶層に印加する電圧の下
限を液晶の光学特性変化電圧以上に設定する場合に、表
示装置の周囲温度に応じた光学特性変化電圧の変化に該
下限を追従させることにより、様々な温度環境下におい
ても常時、高品質な表示を行うことが可能となる。
の一例を示す概念図である。
略断面を示す図である。
ブロック図である。
圧とコントラスト及び応答時間の関係を示す図である。
成を示す図である。
示す図である。
る。
圧と透過率の波長依存性を示す図である。
4 ゲート絶縁膜、16 ソース電極、18 ドレイン
電極、20 多結晶シリコン薄膜、20S ソース領
域、20LS 低濃度ソース領域、20CH チャネル
領域、20D ドレイン領域、20LD 低濃度ドレイ
ン領域、22 層間絶縁膜、23 注入ストッパ、24
平坦化層間絶縁膜(SOG)、26 画素電極、28
垂直配向膜、30 対向基板(第2基板)、32 共
通電極、34 配向制御窓、36保護膜、38 カラー
フィルタ、40 液晶層、42 液晶分子、50 液晶
表示パネル、60 駆動回路、62 ビデオクロマ処理
回路、64 タイミングコントローラ、66 VCO、
70 RGBドライバ処理回路、78 第1リミット回
路、80 第2リミット回路、82 マルチプレクサ、
84 リミットレベル発生回路。
Claims (7)
- 【請求項1】 液晶駆動用の電極を備えた第1基板と第
2基板との間に挟持された液晶の配向の垂直方向成分及
び平面方向成分を電界によって制御する液晶表示装置で
あり、 液晶に印加する駆動電圧の範囲の下限を0ボルトより大
きく設定することを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項2】 液晶駆動用の電極を備えた第1基板と第
2基板との間に挟持された液晶の配向の垂直方向成分及
び平面方向成分を電界によって制御する液晶表示装置で
あり、 液晶に印加する駆動電圧の範囲の下限を液晶の光学特性
変化電圧以上に設定することを特徴とする液晶表示装
置。 - 【請求項3】 請求項1又は請求項2のいずれかに記載
の液晶表示装置において、 液晶層に印加する前記駆動電圧の範囲の下限は表示コン
トラスト50以上を満たす電圧の範囲内とすることを特
徴とする液晶表示装置。 - 【請求項4】 請求項2に記載の液晶表示装置におい
て、 前記駆動電圧の範囲の下限を温度依存性を有する液晶の
光学特性変化電圧の温度変化による電圧変化に追従させ
ることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項5】 請求項1〜請求項4のいずれか一つに記
載の液晶表示装置において、 液晶は、初期傾斜角がほぼ0度の垂直又は水平に初期配
向されていることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項6】 請求項1〜請求項5のいずれかに記載の
液晶表示装置において、 前記液晶駆動用の電極には、所定形状の電極不在領域が
設けられ、該電極の端部に発生する斜め方向の電界によ
り、前記液晶の配向の平面方向成分を制御することを特
徴とする液晶表示装置。 - 【請求項7】 請求項1〜請求項6のいずれかに記載の
液晶表示装置において、 前記第1基板上の液晶駆動用の電極は、該基板上にマト
リクス状に設けられた複数の画素電極であり、 能動層に低温で形成された多結晶シリコン層を利用した
多結晶シリコン薄膜トランジスタが対応する前記画素電
極に接続されるように形成され、 前記複数の画素電極のぞれぞれと、前記第2基板上の液
晶駆動用電極である共通電極との間で液晶層を画素電極
毎に駆動して表示を行うことを特徴とする液晶表示装
置。
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