JPH11229056A - 高純度ニッケル水溶液の製造方法 - Google Patents
高純度ニッケル水溶液の製造方法Info
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- JPH11229056A JPH11229056A JP10037860A JP3786098A JPH11229056A JP H11229056 A JPH11229056 A JP H11229056A JP 10037860 A JP10037860 A JP 10037860A JP 3786098 A JP3786098 A JP 3786098A JP H11229056 A JPH11229056 A JP H11229056A
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Abstract
これら元素を除去し、高純度のニッケル水溶液を製造す
る方法を提供する。 【解決手段】 不純物として亜鉛および鉄を含有する酸
性のニッケル水溶液、たとえば、ニッケル原料溶解液に
酸化剤および中和剤を添加してpHを上昇させ、鉄とと
もに亜鉛を殿物として除去して、高純度のニッケル水溶
液を回収する。一方、生成した前記殿物を酸性溶液で洗
浄することにより、殿物中のニッケルを酸洗浄液中に溶
解回収し、さらに得られた酸洗浄液とアルキルホスホン
酸エステルとを接触させ、酸洗浄液中の亜鉛を抽出した
後、酸洗浄液をニッケル原料溶解液に繰り返すことを特
徴とする高純度ニッケル水溶液を製造する方法である。
このとき抽出剤として使用する、アルキルホスホン酸エ
ステルは、2−エチルヘキシルホスホン酸モノ2−エチ
ルヘキシルエステルであることが好ましく、また、得ら
れる前記高純度ニッケル水溶液が、硫酸ニッケル水溶液
であるとき効果的である。
Description
純物として含有するニッケル水溶液からこれら不純物元
素を除去し、高純度のニッケル水溶液を製造する方法に
関する。
ウムの発色剤、各種の触媒、電池材料などの原料として
使用されており、近年の技術革新とともに、より高純度
なニッケル塩類が望まれるようになってきた。このよう
な用途に使用されるニッケル塩類は、純度の高いものほ
どよく、特に鉄、銅、亜鉛などが含まれていない高純度
なものが望まれており、そのための製造プロセスが必要
とされている。
ニッケルは、以下の方法で製造されている。ニッケルを
含む硫化物やメタル屑などの原料を硫酸に溶解したの
ち、鉄、銅、コバルトなどの不純物を除去する。この液
を加熱蒸発させることにより濃縮し、続いて冷却させ、
硫酸ニッケルの結晶を析出させる。高純度の硫酸ニッケ
ルを製造するためには、原料の溶解方法や結晶を析出さ
せる晶析工程の条件設定も重要であるが、晶析前の硫酸
ニッケル水溶液中の不純物を低下させることがもっとも
重要である。
タル屑などには、ニッケルの他に鉄、銅、亜鉛などの不
純物が含まれている。これら不純物は、原料を溶解する
ときにニッケルとともに液に浸出される。高純度な硫酸
ニッケルを製造するためにはこれら元素を液から何らか
の方法で除去する必要がある。
原料を溶解し晶析させるが、この場合も純度の高い塩化
ニッケルを製造するためには、晶析前に溶液から不純物
を除去する必要がある。
ッケルも、近年では、高純度のものが望まれており、電
解操作前に不純物を完全に除去した電解液が必要であ
る。
せることにより水酸化物として除去できることが知られ
ている。したがって原料の溶解液から鉄を除去すること
は比較的容易に達成できる。この際、溶液のpHが充分
高ければ、鉄のみならず比較的加水分解しやすい亜鉛や
銅も沈殿し溶液から除去される。しかしながら、このよ
うな条件では、回収目的であるニッケルも多量に沈殿
し、ニッケル含有率の高い殿物が生成してしまう。この
殿物を何ら処理せずそのまま系外に抜き出してしまう
と、殿物に含まれているニッケルは回収できないことに
なり、ロスとなる。
浄することが行われている。ニッケルを中和殿物から充
分回収するためには、洗浄液のpHを低下させることが
必要であるが、低pHでの洗浄では、殿物に含有される
亜鉛などの不純物をも再度溶解する。したがって、ニッ
ケルのみだけではなく、亜鉛などの不純物を含有した溶
液となる。このニッケルおよび亜鉛などを含む溶液は、
ニッケルを回収するため、原料の溶解液に混ぜることが
望ましい。しかしながら、洗浄液は亜鉛などの不純物を
含むため、直接ニッケル溶解液に混ぜ、繰り返すとこれ
ら不純物を系外へ抜き出すことができない。そのためこ
れまではこの酸洗浄液の処理ができないでいた。
属であることから金属の酸化還元電位差を利用したセメ
ンテーションによりニッケル原料溶解液から直接除去す
ることも考えられる。一般には鉄メタルを使用すること
が多いが、反応が進行するに従い鉄が溶液に溶解する。
そのため、鉄除去の浄液負荷が上昇する。
ともできる。この反応は金属との接触面積が律速であ
り、表面積の確保が重要である。板や塊状の金属ニッケ
ルでは十分に反応せず、反応性を増加させるためには、
粉状のニッケルを用いることが必要となり不利である。
また、亜鉛はニッケルに比べ卑な金属であるため、セメ
ンテーションでは除去できない。
れる。この場合には銅のみならず亜鉛も除去されるので
好都合である。しかしながら、溶液中の銅および亜鉛を
充分な濃度まで低下させるためには、硫化水素ガス等の
硫化剤を多量加える必要があり、その結果として多量の
ニッケルの共沈が避けられない。また、硫化水素等の硫
化剤は、反応終了後も微量残留し、後工程で徐々に硫化
物沈殿が生成し反応槽などにスケーリングしたり、ある
いは硫化水素の臭気を除くための脱気操作が必要であっ
たりと煩雑である。
抽出が開発されている。近年選択性の高い溶媒が開発さ
れており、溶媒抽出は有効な手段である。溶媒抽出剤に
は大別して、酸性抽出剤、中性抽出剤、塩基性抽出剤な
どがあるが、銅や亜鉛の抽出には、2−エチルヘキシル
ホスホン酸モノ2−エチルヘキシルエステルなどのリン
酸系の酸性抽出剤が適している。溶媒抽出では、選択抽
出性が重要であるが、水溶液へ溶解あるいは懸濁する有
機溶媒の量をいかに低減できるかがプロセスとして成立
するためにきわめて重要である。これまでの提案されて
いる処理法では、ニッケル原料の溶解液すべてに対して
溶媒抽出操作が必要である。このように多量の溶液を対
象すると、水溶液への溶媒ロスがきわめて多くなり、結
果として溶媒抽出を採用することができない。
鉛、銅を含有する硫酸ニッケル水溶液からこれら元素を
除去し、高純度なニッケル水溶液を製造することができ
なかった。
を解決し、亜鉛および鉄を含有するニッケル水溶液から
これら元素を除去し、高純度のニッケル水溶液を製造す
る方法を提供することを課題とする。
亜鉛および鉄を含有する酸性のニッケル水溶液、たとえ
ば、ニッケル原料溶解液に酸化剤および中和剤を添加し
てpHを上昇させ、鉄とともに亜鉛を殿物として除去し
て、高純度のニッケル水溶液を回収する。
することにより、殿物中のニッケルを酸洗浄液中に溶解
回収し、さらに得られた酸洗浄液とアルキルホスホン酸
エステルとを接触させ、酸洗浄液中の亜鉛を抽出した
後、酸洗浄液をニッケル原料溶解液に繰り返すことを特
徴とする高純度ニッケル水溶液を製造する方法である。
ホスホン酸エステルは、2−エチルヘキシルホスホン酸
モノ2−エチルヘキシルエステルであることが好まし
く、また、得られる前記高純度ニッケル水溶液が、硫酸
ニッケル水溶液であるとき効果的である。
が鉄とともに沈澱し、また亜鉛がニッケルに比べアルキ
ルホスホン酸エステルに抽出されやすい性質を利用す
る。すでに述べたように、溶液中に存在する鉄イオン
は、3価に酸化することで、水酸化物として溶液から除
去できる。よって、ニッケル原料溶解液に酸化剤ととも
に中和剤を加えれば、鉄は容易に水酸化物として沈殿す
る。鉄イオンの酸化は、過酸化水素、塩素、酸素、空気
などの一般的な酸化剤を用いて行えば良い。溶液のpH
の上昇にしたがって、溶液中の鉄濃度は低下するが、一
般にはpH4以上でこの反応は、進み、0.001g/
リットル以下の鉄濃度とすることができる。
殿する傾向があり、この性質を利用すれば溶液から除去
できる。亜鉛の除去は、pHが高いほど効率的であり、
pH5.0以上、好ましくは5.5以上とする。pHを
上げることによって鉄、亜鉛の除去は向上する。しかし
ながら、このとき、同時にニッケルも一部沈殿し殿物に
含有されることとなる。よって、鉄および亜鉛を酸化中
和することにより除去し、高純度なニッケル水溶液を回
収することと、沈殿へのニッケルの移行率を低減させる
ことを両立させることは、相反する現象であり、中和時
のpHのきめ細かな管理を行っても困難である。
塩酸や硫酸によってpHを調整した低pHの溶液で洗浄
し、ニッケルを酸洗浄液中に回収する。このpHが低け
れば低いほど、ニッケル回収率は向上するが、鉄が再溶
解し始める。よって、通常は、pH3以上、望ましく
は、すでに述べたように鉄イオンがpH4以上で効率的
に水酸化物として沈殿することを考えると、4以上のp
Hの液で洗浄すればよい。
およそ90%が溶出し回収できるが、この際、鉄とともに
除去されていた亜鉛も洗浄液に溶出する。pH4で酸洗
浄したとき、殿物中の亜鉛の82%が溶出する。したがっ
て、この溶液をこのままニッケル溶解液に戻すことはで
きないので、さらにニッケルと亜鉛を分離することが必
要である。この分離に、溶媒抽出法を適用する。
スフィン酸は、鉄、亜鉛に対して高い抽出能力を示す。
特に2−エチルヘキシルホスホン酸モノ2−エチルヘキ
シルエステルは本発明の目的に合致した抽出剤である。
この抽出剤はニッケルも抽出する。しかし、本抽出剤の
ニッケルに対する抽出性は他の金属イオンに比べると低
く、水溶液のpHを高くすることによってはじめて達成
される。したがって、ニッケルを抽出しないように、水
溶液のpHを調整することにより、酸洗浄液中の亜鉛を
選択的に抽出できる。
は、液量の少ない中和殿物の酸洗浄液を対象とするた
め、有機溶媒のロスは最小限に抑えることができる。
2−エチルヘキシルエステルのような酸性抽出剤は、抽
出が進むにつれてpHが低下し、抽出をさらに進行させ
るためには中和剤が必要となる。2−エチルヘキシルホ
スホン酸モノ2−エチルヘキシルエステルでは、亜鉛は
pH1〜3程度で抽出される。
た際に溶解した亜鉛のみを抽出除去すればよいのであっ
て、抽出すべき金属イオン量はわずかである。したがっ
て中和剤を添加しなくても有機溶媒とpH4の酸洗浄液
とを混合接触すれば、水相のpHは2〜3になり、亜鉛
の抽出に適したpHとなる。このように処理液が少ない
こと、また中和剤の添加が必要ないことから、始液であ
る、たとえばニッケル原料溶解液全量に対して溶媒抽出
操作を適用した場合に比べ、非常に簡素化した装置で亜
鉛を抽出することができる。
ルは粘度が高いため、通常、希釈して使用する。高濃度
の抽出剤が使用できれば、少ない有機溶媒量で多量の不
純物を抽出できるが、粘度が上昇し抽出操作に支障とな
る。希釈率は特に規定されるものではなく、不純物濃度
に応じて使用すれば良いが、抽出剤濃度が1〜50体積%
の範囲で使用することが望ましい。
ではないが、高温ほど水溶液および抽出剤の粘度が下が
り、抽出反応後の水相と有機相の2相分離に要する時間
が短縮でき、抽出反応は高温で行うことが望ましい。た
だし、抽出剤や抽出剤の粘度を低下させるために加えら
れる希釈剤が温度とともに揮発したり、引火の可能性が
あるため20〜60℃での操作が望ましい。
製造でき、この溶液を加熱蒸発などにより濃縮すること
により高純度のニッケル塩類が回収できる。あるいは溶
液を電解すれば高純度の金属ニッケルを製造することが
できる。以下、本発明の実施例について説明する。
ケルの溶液に、空気を吹き込みながら、水酸化カルシウ
ムを添加しpHを上げ、鉄を主成分とする殿物を生成さ
せた。60℃で1時間反応させた後、溶液を濾過し殿物と
水溶液に分離し、水溶液は、高純度硫酸ニッケル水溶液
として回収した。この操作により鉄のみならず亜鉛およ
び銅も沈殿し、溶液から除去された。溶液のpHが高い
ほど効率的にこれら不純物が除去でき、pH5.98では、
不純物の濃度が非常に低い高純度硫酸ニッケル水溶液が
得られた。この結果を表1に示す。
洗浄した。洗浄は中和殿物 200gを1リットルの酸溶液
を用いて、50℃の条件で1時間行った。表2に示すよう
に、洗浄時のpHが低下するほどニッケルの回収率は高
かった。pH4の酸洗浄では中和澱物中のニッケルの87
%および亜鉛の82%が溶出したが、鉄の溶出は認められ
なかった。
キシルエステルを芳香族系希釈剤で20体積%に希釈した
有機溶媒と、上記操作で得られた酸洗浄液とを接触混合
した。接触混合は室温で行い、有機溶媒と水溶液との容
積比は、1:1あるいは1:3で行った。なお、水酸化
ナトリウムなどの中和剤は一切添加しなかった。これら
の結果を表3に示すが、酸洗浄液中の亜鉛を抽出除去す
ることができ、高純度のニッケル水溶液が得られた。得
られた高純度のニッケル水溶液は、高純度ニッケル水溶
液として、使用することも可能であるが、原料溶解工程
のニッケル溶解液に繰り返して使用した。
て、亜鉛および鉄を含有するニッケル水溶液から、効率
よく前記不純物を除去することが可能で、高純度のニッ
ケル水溶液を製造することできる。
Claims (3)
- 【請求項1】 亜鉛および鉄を不純物として含有する酸
性のニッケル水溶液に酸化剤および中和剤を添加し、鉄
とともに亜鉛を殿物として除去して高純度ニッケル水溶
液を回収し、生成した前記殿物を酸性溶液で洗浄するこ
とにより殿物中のニッケルを酸洗浄液中に溶解回収し、
さらに得られた酸洗浄液とアルキルホスホン酸エステル
とを接触させ亜鉛を抽出した後、酸洗浄液を始液である
ニッケル水溶液の一部として繰り返すことを特徴とする
高純度ニッケル水溶液の製造方法。 - 【請求項2】 アルキルホスホン酸エステルが2−エチ
ルヘキシルホスホン酸モノ2−エチルヘキシルエステル
であることを特徴とする請求項1記載の高純度ニッケル
水溶液の製造方法。 - 【請求項3】 高純度ニッケル水溶液が硫酸ニッケル水
溶液であることを特徴とする請求項1または2に記載の
高純度ニッケル水溶液の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03786098A JP3722254B2 (ja) | 1998-02-20 | 1998-02-20 | 高純度ニッケル水溶液の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03786098A JP3722254B2 (ja) | 1998-02-20 | 1998-02-20 | 高純度ニッケル水溶液の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11229056A true JPH11229056A (ja) | 1999-08-24 |
| JP3722254B2 JP3722254B2 (ja) | 2005-11-30 |
Family
ID=12509311
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03786098A Expired - Lifetime JP3722254B2 (ja) | 1998-02-20 | 1998-02-20 | 高純度ニッケル水溶液の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3722254B2 (ja) |
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-
1998
- 1998-02-20 JP JP03786098A patent/JP3722254B2/ja not_active Expired - Lifetime
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