JPH11231128A - 高吸収性を有する光吸収被覆部 - Google Patents
高吸収性を有する光吸収被覆部Info
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- JPH11231128A JPH11231128A JP10341980A JP34198098A JPH11231128A JP H11231128 A JPH11231128 A JP H11231128A JP 10341980 A JP10341980 A JP 10341980A JP 34198098 A JP34198098 A JP 34198098A JP H11231128 A JPH11231128 A JP H11231128A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
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- H01J29/86—Vessels; Containers; Vacuum locks
- H01J29/89—Optical or photographic arrangements structurally combined or co-operating with the vessel
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- G—PHYSICS
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- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
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-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
- G11B7/135—Means for guiding the beam from the source to the record carrier or from the record carrier to the detector
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 吸収体被覆部の層中の応力に関係する機械的
不安定化の危険を最小にしながら、可視光線ないし近赤
外線範囲において９５％を越える吸光度を持つ多層被覆
部を提供する。 【解決手段】 基体上に形成され、可視光線ないし近赤
外線の所定のスペクトル範囲の光を吸収する被覆部にお
いて、所定のスペクトル範囲において吸収性を持つ金属
薄層と、所定のスペクトル範囲において透過性を有し、
上記金属薄層上に形成された誘電体層とを具備せしめ、
金属薄層を、光学的に不連続、つまりその屈折率がバル
ク状態の金属の屈折率より大きく、その吸光係数がバル
ク状態の金属の吸光係数よりも小さいものとする。
不安定化の危険を最小にしながら、可視光線ないし近赤
外線範囲において９５％を越える吸光度を持つ多層被覆
部を提供する。 【解決手段】 基体上に形成され、可視光線ないし近赤
外線の所定のスペクトル範囲の光を吸収する被覆部にお
いて、所定のスペクトル範囲において吸収性を持つ金属
薄層と、所定のスペクトル範囲において透過性を有し、
上記金属薄層上に形成された誘電体層とを具備せしめ、
金属薄層を、光学的に不連続、つまりその屈折率がバル
ク状態の金属の屈折率より大きく、その吸光係数がバル
ク状態の金属の吸光係数よりも小さいものとする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光吸収性の被覆部
に関する。これは可視光線及び／又は近赤外線スペクト
ル範囲で吸収機能を有する薄い多層被覆部である。本発
明は、寄生反射を制限し、異なる検出チャンネル、表示
スクリーン及び光学ディスクにおける分離を改善するた
めに、特に影像に利用できるもので、ここでの被覆部の
機能はコントラストを改善することにある。
に関する。これは可視光線及び／又は近赤外線スペクト
ル範囲で吸収機能を有する薄い多層被覆部である。本発
明は、寄生反射を制限し、異なる検出チャンネル、表示
スクリーン及び光学ディスクにおける分離を改善するた
めに、特に影像に利用できるもので、ここでの被覆部の
機能はコントラストを改善することにある。
【０００２】本発明は、特に： − 宇宙での利用のために設計された光学システム、 − 高精度影像（遠隔計測）、 − 平面液晶ディスプレイ又はマイクロチップディスプ
レイ、及び − 高解像度テレビに利用できる。
レイ、及び − 高解像度テレビに利用できる。
【０００３】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】吸収体
コーティング（可視光線ないし近赤外線の範囲におけ
る）を形成する従来の一つの方法は、被覆層に侵入する
光の最大量をトラップし、できれば反射光を制限するこ
とからなる。大抵の場合、寄生反射は広いスペクトル範
囲を持つ反射防止（ＡＲ）層を吸収体層上に付着せしめ
ることにより制限されている。このようにして形成され
た全体構造は、基体側あるいは空気側からの光の反射を
制限するために必要に応じて対称なものとされる。
コーティング（可視光線ないし近赤外線の範囲におけ
る）を形成する従来の一つの方法は、被覆層に侵入する
光の最大量をトラップし、できれば反射光を制限するこ
とからなる。大抵の場合、寄生反射は広いスペクトル範
囲を持つ反射防止（ＡＲ）層を吸収体層上に付着せしめ
ることにより制限されている。このようにして形成され
た全体構造は、基体側あるいは空気側からの光の反射を
制限するために必要に応じて対称なものとされる。
【０００４】要求される性能に応じて、３種の主な範疇
の構造に区別される： １） 基体／吸収体層／空気タイプの構造、 ２） 基体／吸収体層／ＡＲ層／空気タイプの構造、 ３） 基体／ＡＲ層／吸収体層／ＡＲ層／空気タイプの
構造、である。
の構造に区別される： １） 基体／吸収体層／空気タイプの構造、 ２） 基体／吸収体層／ＡＲ層／空気タイプの構造、 ３） 基体／ＡＲ層／吸収体層／ＡＲ層／空気タイプの
構造、である。
【０００５】高度に反射性の不透光な金属層が基体上に
前もって付着せしめられ、これらの構造を通過する光の
伝播が制限される。非常に広範囲の技術と材料が、しば
しば「ブラックマトリックス」と称される吸収体層を形
成するために使用される。最も頻繁に用いられる製造方
法は、吸収体顔料が加えられた（高分子、樹脂又はガラ
ス製の）母層を用いるものである。これらの吸収体顔料
は、例えば酸化鉄、アルミン酸コバルト又はグラファイ
ト系の化合物である。
前もって付着せしめられ、これらの構造を通過する光の
伝播が制限される。非常に広範囲の技術と材料が、しば
しば「ブラックマトリックス」と称される吸収体層を形
成するために使用される。最も頻繁に用いられる製造方
法は、吸収体顔料が加えられた（高分子、樹脂又はガラ
ス製の）母層を用いるものである。これらの吸収体顔料
は、例えば酸化鉄、アルミン酸コバルト又はグラファイ
ト系の化合物である。
【０００６】この種の複合吸収体層を付着するために用
いられる技術には非常にしばしば圧延が含まれる。しか
し、表面の吸収性を改善するには、電着、真空蒸着、あ
るいはアノード酸化、か焼あるいはレーザアニーリング
のような他の方法がある。一つの既知の方法は、得られ
る色が黒色となるように調整された組成物で電解槽を用
いて行なう電着により得られる黒色クロム製の吸収体層
を用いるものである。
いられる技術には非常にしばしば圧延が含まれる。しか
し、表面の吸収性を改善するには、電着、真空蒸着、あ
るいはアノード酸化、か焼あるいはレーザアニーリング
のような他の方法がある。一つの既知の方法は、得られ
る色が黒色となるように調整された組成物で電解槽を用
いて行なう電着により得られる黒色クロム製の吸収体層
を用いるものである。
【０００７】この技術は、他の文献と同様に本明細書の
最後に参考文献として記載した文献１に記載されてい
る。我々は特に真空蒸着法を考える。
最後に参考文献として記載した文献１に記載されてい
る。我々は特に真空蒸着法を考える。
【０００８】この場合、吸収体層は、誘電性材料、特に
酸化物をベースとした薄い積層を持つ干渉構造中に一般
に挿入される。構造としてはタイプ２とタイプ３があ
る。反射防止機能は、常套的には高い屈折率と低い屈折
率（optical index）ｎを交互に有する複数層によって
もたらされる。これは、例えばＴｉＯ２層（ｎはおよそ
２．４に等しい）とＳｉＯ２層（ｎはおよそ１．５に等
しい）又はＭｇＦ２層（ｎはおよそ１．３９に等しい）
を用いてなされる。
酸化物をベースとした薄い積層を持つ干渉構造中に一般
に挿入される。構造としてはタイプ２とタイプ３があ
る。反射防止機能は、常套的には高い屈折率と低い屈折
率（optical index）ｎを交互に有する複数層によって
もたらされる。これは、例えばＴｉＯ２層（ｎはおよそ
２．４に等しい）とＳｉＯ２層（ｎはおよそ１．５に等
しい）又はＭｇＦ２層（ｎはおよそ１．３９に等しい）
を用いてなされる。
【０００９】これらの層の層厚は数十ミクロンのオーダ
であり、スペクトル幅と帯域の中心波長又は反射防止機
能はこれらの積層方法に支配される。実際の吸収体層の
製造に対して幾つかの解決方法が提案されている。吸収
体層はしばしば自然に吸収性を持つ酸化物あるいは付着
時に酸素欠乏を作り出すことにより吸収性とされた酸化
物（サブ化学量論的酸化物）からなる。例えば、本来的
に吸収性の化合物には、酸化インジウム、酸化タングス
テン、酸化クロム、酸化スズが含まれ（文献２参照）、
又は酸化バナジウムさえも含まれる。
であり、スペクトル幅と帯域の中心波長又は反射防止機
能はこれらの積層方法に支配される。実際の吸収体層の
製造に対して幾つかの解決方法が提案されている。吸収
体層はしばしば自然に吸収性を持つ酸化物あるいは付着
時に酸素欠乏を作り出すことにより吸収性とされた酸化
物（サブ化学量論的酸化物）からなる。例えば、本来的
に吸収性の化合物には、酸化インジウム、酸化タングス
テン、酸化クロム、酸化スズが含まれ（文献２参照）、
又は酸化バナジウムさえも含まれる。
【００１０】これらの様々な化合物のなかでもＣｒ
Ｏ２、Ｉｎ２Ｏ及びＳｎＯ酸化物が黒色であることが特
に留意されるべきである。サブ化学量論的酸化物に関し
ては、その安定な形態で透過性である大抵の化合物が、
化合物に酸素欠乏を形成すると吸収性になる。例えば、
文献３において推奨されているニッケル酸化物ＮｉＯｘ
がしかりであり、これは反射防止構造の二重ＴｉＯ２／
ＳｉＯ２／ＮｉＯｘ／ＴｉＯ２／ＳｉＯ２タイプに挿入
される。
Ｏ２、Ｉｎ２Ｏ及びＳｎＯ酸化物が黒色であることが特
に留意されるべきである。サブ化学量論的酸化物に関し
ては、その安定な形態で透過性である大抵の化合物が、
化合物に酸素欠乏を形成すると吸収性になる。例えば、
文献３において推奨されているニッケル酸化物ＮｉＯｘ
がしかりであり、これは反射防止構造の二重ＴｉＯ２／
ＳｉＯ２／ＮｉＯｘ／ＴｉＯ２／ＳｉＯ２タイプに挿入
される。
【００１１】Ｃｒ／誘電性吸収体／ＡＲ層からなる複数
の積層構造からなる文献４において提案されている構造
もまた参照のこと。そして、吸収体層は、好ましくは酸
化マンガン又は酸化クロムもしくは酸化鉄あるいは場合
によっては分散クロムを含むシリカからなる。窒化物
（文献３に記載されたＴｉＮとＺｒＮ）のような他の材
料が有用な吸収体層を形成しうる。
の積層構造からなる文献４において提案されている構造
もまた参照のこと。そして、吸収体層は、好ましくは酸
化マンガン又は酸化クロムもしくは酸化鉄あるいは場合
によっては分散クロムを含むシリカからなる。窒化物
（文献３に記載されたＴｉＮとＺｒＮ）のような他の材
料が有用な吸収体層を形成しうる。
【００１２】特に、窒化チタン層ＴｉＮｘは、ｘの値に
応じて、緑−青銅色から黄金色の広い範囲の色を呈する
ことはよく知られている。例えばＳｉＧｅ化合物のよう
な更に変わった吸収体材料の使用もまた考えられる（文
献５参照）。
応じて、緑−青銅色から黄金色の広い範囲の色を呈する
ことはよく知られている。例えばＳｉＧｅ化合物のよう
な更に変わった吸収体材料の使用もまた考えられる（文
献５参照）。
【００１３】吸収体積層体Ｃｒ／Ｃｒ２Ｏ３／Ｃｒ／Ｃ
ｒ２Ｏ３もまた液晶スクリーンのコントラストを改善す
るために使用され（文献６参照）、これは１０ｎｍから
数１０ｎｍまで変わる厚みを持つ層を含む。
ｒ２Ｏ３もまた液晶スクリーンのコントラストを改善す
るために使用され（文献６参照）、これは１０ｎｍから
数１０ｎｍまで変わる厚みを持つ層を含む。
【００１４】吸光係数ｋが可視光線ないし近赤外線範囲
において通常は約１０−１以下である多かれ少なかれ吸
収性である材料を用いて一般に光は吸収される（ｋは透
過性の誘電体に対しては１０−４から１０−５のオーダ
ーである）。この場合、擬似全吸収性の層を形成するこ
とが必要とされる場合は、少なくとも１μｍに等しい厚
みの層を用い、これに空気／層界面における反射を制限
する反射防止層を設けなければならない。
において通常は約１０−１以下である多かれ少なかれ吸
収性である材料を用いて一般に光は吸収される（ｋは透
過性の誘電体に対しては１０−４から１０−５のオーダ
ーである）。この場合、擬似全吸収性の層を形成するこ
とが必要とされる場合は、少なくとも１μｍに等しい厚
みの層を用い、これに空気／層界面における反射を制限
する反射防止層を設けなければならない。
【００１５】吸収率を最大にするより良い方法は、クロ
ムの吸光係数ｋが高いので（ｋは可視光線範囲で４であ
る）、ＮのＣｒ２Ｏ３層とＮのＣｒ層を交互に形成した
吸収構造を用いることである。可視光線範囲の入射光線
の少なくとも９５％を吸収するには数対のＣｒ／Ｃｒ ２
Ｏ３対が積層される必要があり（Ｎ＞２）、クロムと酸
化クロムの総厚は少なくとも１００ｎｍから２００ｎｍ
である。
ムの吸光係数ｋが高いので（ｋは可視光線範囲で４であ
る）、ＮのＣｒ２Ｏ３層とＮのＣｒ層を交互に形成した
吸収構造を用いることである。可視光線範囲の入射光線
の少なくとも９５％を吸収するには数対のＣｒ／Ｃｒ ２
Ｏ３対が積層される必要があり（Ｎ＞２）、クロムと酸
化クロムの総厚は少なくとも１００ｎｍから２００ｎｍ
である。
【００１６】この構造の厚みは、必要とされる吸収率が
１００％に近くなればなるほど増加しなければならな
い。従って、機械強度の問題のため性能には限界があ
る。クロムの薄層は最も応力を受ける金属の層であり、
このためその厚みは典型的には２００ｎｍが限界である
ことがよく知られている（文献７参照）。この厚みを越
えると、層にひびが入り分離する。
１００％に近くなればなるほど増加しなければならな
い。従って、機械強度の問題のため性能には限界があ
る。クロムの薄層は最も応力を受ける金属の層であり、
このためその厚みは典型的には２００ｎｍが限界である
ことがよく知られている（文献７参照）。この厚みを越
えると、層にひびが入り分離する。
【００１７】従って、吸収体の機械的安定性を確保する
には、可能な限り最も薄い多層構造を用い、低応力の材
料を用いることが必要である。
には、可能な限り最も薄い多層構造を用い、低応力の材
料を用いることが必要である。
【００１８】本発明の目的は、吸収体被覆部の層中の応
力に関係する機械的不安定化の危険を最小にしながら、
可視光線ないし近赤外線範囲において高吸収性能（９５
％を越える吸光度）を持つ多層被覆部を設計することで
ある。本発明は、光学的に不連続である特定の特徴を持
つ、吸収部材として少なくとも一の金属薄層を具備する
吸収体多層構造を達成する。特に、以下の実施例でみる
ように、これは、可視光線ないし近赤外線範囲において
９７％と９９％の間の吸光度をもたらしながら、吸収体
の全体厚を２００ｎｍ未満に制限する。
力に関係する機械的不安定化の危険を最小にしながら、
可視光線ないし近赤外線範囲において高吸収性能（９５
％を越える吸光度）を持つ多層被覆部を設計することで
ある。本発明は、光学的に不連続である特定の特徴を持
つ、吸収部材として少なくとも一の金属薄層を具備する
吸収体多層構造を達成する。特に、以下の実施例でみる
ように、これは、可視光線ないし近赤外線範囲において
９７％と９９％の間の吸光度をもたらしながら、吸収体
の全体厚を２００ｎｍ未満に制限する。
【００１９】
【課題を解決するための手段】特に、本発明の目的は、
基体上に形成され、可視光線ないし近赤外線の所定のス
ペクトル範囲の光を吸収する被覆部であって、− 上記
所定のスペクトル範囲において吸収性を有する少なくと
も一の金属薄層と、− 上記所定のスペクトル範囲にお
いて透過性を有し、上記金属薄層上に形成された少なく
とも一の誘電体層とを具備し、上記金属薄層が、上記所
定のスペクトル範囲において、光学的に不連続、つまり
その屈折率がバルク状態の金属の屈折率より大きく、そ
の吸光係数がバルク状態の金属の吸光係数よりも小さい
ものとされた被覆部にある。
基体上に形成され、可視光線ないし近赤外線の所定のス
ペクトル範囲の光を吸収する被覆部であって、− 上記
所定のスペクトル範囲において吸収性を有する少なくと
も一の金属薄層と、− 上記所定のスペクトル範囲にお
いて透過性を有し、上記金属薄層上に形成された少なく
とも一の誘電体層とを具備し、上記金属薄層が、上記所
定のスペクトル範囲において、光学的に不連続、つまり
その屈折率がバルク状態の金属の屈折率より大きく、そ
の吸光係数がバルク状態の金属の吸光係数よりも小さい
ものとされた被覆部にある。
【００２０】「バルク状態の金属」とは、少なくとも１
μｍの厚みを持つ該金属の非常に薄い層を意味する。本
発明に係る被覆部の特定の一実施態様にあって、被覆部
の吸収性を増大させるために、該被覆部には、少なくと
も２層の光学的に不連続な金属薄層が具備せしめられ、
誘電体層が基体から最も離れた金属薄層上に形成されて
いる。
μｍの厚みを持つ該金属の非常に薄い層を意味する。本
発明に係る被覆部の特定の一実施態様にあって、被覆部
の吸収性を増大させるために、該被覆部には、少なくと
も２層の光学的に不連続な金属薄層が具備せしめられ、
誘電体層が基体から最も離れた金属薄層上に形成されて
いる。
【００２１】本発明に係る被覆部は、基体と該基体に最
も近い金属薄層の間に光学的に連続な厚い金属層を更に
具備する。この関連するスペクトル範囲では、この薄層
の屈折率は対応するバルク状態の金属の屈折率にほぼ等
しく、この薄層の吸光係数は対応するバルク状態の金属
の吸光係数にほぼ等しい。
も近い金属薄層の間に光学的に連続な厚い金属層を更に
具備する。この関連するスペクトル範囲では、この薄層
の屈折率は対応するバルク状態の金属の屈折率にほぼ等
しく、この薄層の吸光係数は対応するバルク状態の金属
の吸光係数にほぼ等しい。
【００２２】基体上に形成された光学的に連続なこの金
属層の機能は、光の透過を防止し吸収体層（１層又は複
数層）に向けて光を反射させることである。この光学的
に連続な金属層がアルミニウムで形成されているとき、
アルミニウムの厚みが５０ｎｍ以上であると、可視光線
範囲において１０−３未満の透過係数が得られる。
属層の機能は、光の透過を防止し吸収体層（１層又は複
数層）に向けて光を反射させることである。この光学的
に連続な金属層がアルミニウムで形成されているとき、
アルミニウムの厚みが５０ｎｍ以上であると、可視光線
範囲において１０−３未満の透過係数が得られる。
【００２３】基体側と空気側で同じ光学的機能を果たす
ように、「対称」である本発明に係る被覆部を形成する
ことができる；本発明に係る被覆部は、基体から順に第
１の誘電体層、第１の光学的に不連続な金属薄層、第２
の誘電体層、光学的に連続な厚い金属層、第２の光学的
に不連続な金属薄層及び第３の誘電体層を具備するもの
とできる。
ように、「対称」である本発明に係る被覆部を形成する
ことができる；本発明に係る被覆部は、基体から順に第
１の誘電体層、第１の光学的に不連続な金属薄層、第２
の誘電体層、光学的に連続な厚い金属層、第２の光学的
に不連続な金属薄層及び第３の誘電体層を具備するもの
とできる。
【００２４】光学的に連続な厚い金属層は、好ましくは
所定のスペクトル範囲で透過性の酸化物ＭｘＯｙを含む
金属Ｍである。光学的に連続な厚い金属層におけるこの
金属は、チタン、ハフニウム、クロム、ニオブからなる
群から選択されるが、アルミニウムが（可視光線範囲で
５から８のオーダーの）高吸光係数を有しているので、
より好ましい。
所定のスペクトル範囲で透過性の酸化物ＭｘＯｙを含む
金属Ｍである。光学的に連続な厚い金属層におけるこの
金属は、チタン、ハフニウム、クロム、ニオブからなる
群から選択されるが、アルミニウムが（可視光線範囲で
５から８のオーダーの）高吸光係数を有しているので、
より好ましい。
【００２５】本発明に係る被覆部において、各誘電体層
は考慮下のスペクトル範囲で誘電性と透過性を有する酸
化物層から選択することができる。しかし、これら酸化
物以外の化合物も、利用する必要があれば使用すること
ができる。例えば、所定のスペクトル範囲において透過
性を有する誘電性フッ化物を用いることができる。
は考慮下のスペクトル範囲で誘電性と透過性を有する酸
化物層から選択することができる。しかし、これら酸化
物以外の化合物も、利用する必要があれば使用すること
ができる。例えば、所定のスペクトル範囲において透過
性を有する誘電性フッ化物を用いることができる。
【００２６】本発明の性能上好適な一実施態様では、光
学的に不連続な各金属薄層は、約１５ｎｍ以下の厚みの
アルミニウム層であり、被覆部は光学的に不連続な該層
が上に形成されているアルミナ層を更に含む。本発明に
係る被覆部を得るためになされる積層構造の選択は、最
大の吸収率が必要とされるスペクトル帯域に依存するこ
とに留意すべきである。
学的に不連続な各金属薄層は、約１５ｎｍ以下の厚みの
アルミニウム層であり、被覆部は光学的に不連続な該層
が上に形成されているアルミナ層を更に含む。本発明に
係る被覆部を得るためになされる積層構造の選択は、最
大の吸収率が必要とされるスペクトル帯域に依存するこ
とに留意すべきである。
【００２７】この選択は、考慮されている用途において
許容される残留反射レベルにも依存する。従って、本発
明の一つの特徴は、被覆部の光学的性能が特定の要求に
応じて調節し得ることである。上述の好適な実施態様の
場合においては、次のタイプの本発明に係る被覆部が形
成される：基体／光学的に連続な金属層／アルミナ層／
光学的に不連続なアルミニウム層／誘電体層。次のタイ
プの被覆部が吸光度を増大させるために本発明に従って
形成される：基体／光学的に連続な金属層／アルミナ層
／光学的に不連続なアルミニウム層／・・・／アルミナ
層／光学的に不連続なアルミニウム層／誘電体層で、こ
こで「アルミナ層／光学的に不連続なアルミニウム層」
パターンが少なくとも２回繰返される。
許容される残留反射レベルにも依存する。従って、本発
明の一つの特徴は、被覆部の光学的性能が特定の要求に
応じて調節し得ることである。上述の好適な実施態様の
場合においては、次のタイプの本発明に係る被覆部が形
成される：基体／光学的に連続な金属層／アルミナ層／
光学的に不連続なアルミニウム層／誘電体層。次のタイ
プの被覆部が吸光度を増大させるために本発明に従って
形成される：基体／光学的に連続な金属層／アルミナ層
／光学的に不連続なアルミニウム層／・・・／アルミナ
層／光学的に不連続なアルミニウム層／誘電体層で、こ
こで「アルミナ層／光学的に不連続なアルミニウム層」
パターンが少なくとも２回繰返される。
【００２８】次のタイプの「対称」構造を持つ本発明に
係る被覆部が形成される：基体／誘電体層／アルミナ層
／光学的に不連続なアルミニウム層／誘電体層／光学的
に連続な金属層／アルミナ層／光学的に不連続なアルミ
ニウム層／誘電体層。
係る被覆部が形成される：基体／誘電体層／アルミナ層
／光学的に不連続なアルミニウム層／誘電体層／光学的
に連続な金属層／アルミナ層／光学的に不連続なアルミ
ニウム層／誘電体層。
【００２９】本発明に係る被覆部は、好ましくは層の真
空蒸着により形成される。これらの層の典型的な厚み
は、光学的に不連続なアルミニウム層に対しては数ナノ
メータであり、例えばＡｌ２Ｏ３のような各誘電体層と
光学的に連続な金属層では数十もしくは数百ナノメータ
である。金属の薄い厚さを制御するには、ゆっくりした
安定な付着法が用いられなければならない。
空蒸着により形成される。これらの層の典型的な厚み
は、光学的に不連続なアルミニウム層に対しては数ナノ
メータであり、例えばＡｌ２Ｏ３のような各誘電体層と
光学的に連続な金属層では数十もしくは数百ナノメータ
である。金属の薄い厚さを制御するには、ゆっくりした
安定な付着法が用いられなければならない。
【００３０】イオンアトマイゼーション法（陰極又はイ
オンビーム）が本発明に特によく適合する。均一な「ア
ルミナ層／光学的に不連続なアルミニウム層」タイプの
吸収構造を用いる利点は、金属層から酸化物層への変更
が、被覆部が形成されている格納容器中に酸素を加える
ことにより容易にできることにある。この場合、層付着
装置は、希ガス雰囲気及び希ガスと酸素の混合雰囲気中
でアトマイゼーションが引き続いてなされる真空容器中
に配される一つの金属アトマイゼーション標的を具備す
れば足りるので、特に簡易である。
オンビーム）が本発明に特によく適合する。均一な「ア
ルミナ層／光学的に不連続なアルミニウム層」タイプの
吸収構造を用いる利点は、金属層から酸化物層への変更
が、被覆部が形成されている格納容器中に酸素を加える
ことにより容易にできることにある。この場合、層付着
装置は、希ガス雰囲気及び希ガスと酸素の混合雰囲気中
でアトマイゼーションが引き続いてなされる真空容器中
に配される一つの金属アトマイゼーション標的を具備す
れば足りるので、特に簡易である。
【００３１】本発明の進歩性ある特徴の一つは、一又は
幾つかの光学的に不連続な金属薄層の使用にあり、ここ
で、光学的定数ｎ及びｋはバルク金属のものあるいは該
金属の薄層のもの（バルク金属の値とはあまり異ならな
い）とは非常に異なる。文献８はアルミニウムの薄層に
対する光学的定数についての情報を含む。
幾つかの光学的に不連続な金属薄層の使用にあり、ここ
で、光学的定数ｎ及びｋはバルク金属のものあるいは該
金属の薄層のもの（バルク金属の値とはあまり異ならな
い）とは非常に異なる。文献８はアルミニウムの薄層に
対する光学的定数についての情報を含む。
【００３２】少なくとも一つの光学的に不連続な金属薄
層を用いると、光学的に連続な金属層を用いた場合より
も顕著に高い高吸光度を誘起する。本発明に係る被覆部
の他の利点は、それが薄いことにある。アルミニウム及
びアルミナを好適に用いると被覆部層の機械応力も制限
する。従って、次の処理が損傷なしに行なえる完全な結
合構造が得られる。例えば、被覆部に開口部のイオンエ
ッチング又は「リフトオフ」タイプのエッチングを行な
い、よって局所ダイアフラムの境界を特定することが可
能である。
層を用いると、光学的に連続な金属層を用いた場合より
も顕著に高い高吸光度を誘起する。本発明に係る被覆部
の他の利点は、それが薄いことにある。アルミニウム及
びアルミナを好適に用いると被覆部層の機械応力も制限
する。従って、次の処理が損傷なしに行なえる完全な結
合構造が得られる。例えば、被覆部に開口部のイオンエ
ッチング又は「リフトオフ」タイプのエッチングを行な
い、よって局所ダイアフラムの境界を特定することが可
能である。
【００３３】吸光機能を著しく変更させることなく３０
０℃から４００℃のオーダーまでの温度で熱処理を行な
うこともでき、アルミナが拡散障壁として作用する。本
発明に係る被覆部の薄い厚みからもたらされる他の効果
は、可視光線範囲では典型的には１％未満である表面拡
散の制限である。これは、目的が光学システムにおける
寄生光の制限である場合は重要である。
０℃から４００℃のオーダーまでの温度で熱処理を行な
うこともでき、アルミナが拡散障壁として作用する。本
発明に係る被覆部の薄い厚みからもたらされる他の効果
は、可視光線範囲では典型的には１％未満である表面拡
散の制限である。これは、目的が光学システムにおける
寄生光の制限である場合は重要である。
【００３４】
【発明の実施の形態】光学的に不連続なアルミニウム薄
層の好適な例を考えると、この層の不連続性により、あ
る与えられた波長においてバルクのアルミニウムの屈折
率より非常に大なる屈折率ｎとなる。図１は、波長６３
２．８ｎｍに対する薄層の厚みｅの関数としての、アル
ミニウム層の屈折率ｎの変化を示す。
層の好適な例を考えると、この層の不連続性により、あ
る与えられた波長においてバルクのアルミニウムの屈折
率より非常に大なる屈折率ｎとなる。図１は、波長６３
２．８ｎｍに対する薄層の厚みｅの関数としての、アル
ミニウム層の屈折率ｎの変化を示す。
【００３５】黒い四角はガラス製の基体のタイプＢＫ７
上のアルミニウム層に該当し、白い四角はガラス製の基
体のタイプＢＫ７上にそれ自身が形成されたアルミナ層
上のアルミニウム層に該当する。黒丸は、５０ｎｍより
大きい厚みｔを持つ不透光なアルミニウム薄層の屈折率
に該当する（文献８参照）。
上のアルミニウム層に該当し、白い四角はガラス製の基
体のタイプＢＫ７上にそれ自身が形成されたアルミナ層
上のアルミニウム層に該当する。黒丸は、５０ｎｍより
大きい厚みｔを持つ不透光なアルミニウム薄層の屈折率
に該当する（文献８参照）。
【００３６】基体又は光学的に不連続な層が上に形成さ
れた層の性質とともに変動する光学的不連続性が所定の
厚みに対して見られることが分かる。アルミニウムがガ
ラス上に付着せしめられれば、アルミニウム層は、その
厚みが１０ｎｍを超えると光学的に連続である。
れた層の性質とともに変動する光学的不連続性が所定の
厚みに対して見られることが分かる。アルミニウムがガ
ラス上に付着せしめられれば、アルミニウム層は、その
厚みが１０ｎｍを超えると光学的に連続である。
【００３７】アルミニウムが、それ自身がガラス層上に
付着せしめられたアルミナ層上に付着せしめられれば、
アルミニウム層は１５ｎｍ未満で光学的に不連続にな
る。換言すれば、アルミナ層上にアルミニウム層を形成
するとアルミニウム層の光学的不連続性を改善する。
付着せしめられたアルミナ層上に付着せしめられれば、
アルミニウム層は１５ｎｍ未満で光学的に不連続にな
る。換言すれば、アルミナ層上にアルミニウム層を形成
するとアルミニウム層の光学的不連続性を改善する。
【００３８】図１において、白い三角は、ガラス製の基
体のタイプＢＫ７上にそれ自身が形成されたＴｉＯ２層
上に形成されたアルミニウム層に該当する。対応する屈
折率は、ガラス上に形成された同じ厚みのアルミニウム
層の屈折率と非常に類似していることが分かる。
体のタイプＢＫ７上にそれ自身が形成されたＴｉＯ２層
上に形成されたアルミニウム層に該当する。対応する屈
折率は、ガラス上に形成された同じ厚みのアルミニウム
層の屈折率と非常に類似していることが分かる。
【００３９】例えばＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＡｌＯ２又は
Ｃｒ２Ｏ３のような酸化物の層上に付着せしめられたア
ルミニウム層を持つ本発明に係る非常に吸光性の高い被
覆部を得るには、このアルミニウム層の厚みが１０ｎｍ
を越えてはならない。図２は、波長６３２．８ｎｍに対
するアルミニウム層の厚みｔの関数としての吸光係数ｋ
の変化を表す。
Ｃｒ２Ｏ３のような酸化物の層上に付着せしめられたア
ルミニウム層を持つ本発明に係る非常に吸光性の高い被
覆部を得るには、このアルミニウム層の厚みが１０ｎｍ
を越えてはならない。図２は、波長６３２．８ｎｍに対
するアルミニウム層の厚みｔの関数としての吸光係数ｋ
の変化を表す。
【００４０】黒い四角はガラス製の基体のタイプＢＫ７
上のアルミニウム層に該当し、白い四角はガラス製の基
体のタイプＢＫ７上にそれ自身が形成されたアルミナ層
上のアルミニウム層に該当する。黒丸は、５０ｎｍより
小さい厚みｔを持つ不透光なアルミニウム薄層の屈折率
に該当する（文献８参照）。
上のアルミニウム層に該当し、白い四角はガラス製の基
体のタイプＢＫ７上にそれ自身が形成されたアルミナ層
上のアルミニウム層に該当する。黒丸は、５０ｎｍより
小さい厚みｔを持つ不透光なアルミニウム薄層の屈折率
に該当する（文献８参照）。
【００４１】アルミニウム層が光学的に不連続になる
と、アルミニウム層の吸光係数の急激な降下が見られ
る。この係数ｋはバルクのアルミニウムの値よりも非常
に少なくなる。ｎとｋの測定は表面プラズマ法を用いて
なされ、この方法は文献９に詳細に記載されている。
と、アルミニウム層の吸光係数の急激な降下が見られ
る。この係数ｋはバルクのアルミニウムの値よりも非常
に少なくなる。ｎとｋの測定は表面プラズマ法を用いて
なされ、この方法は文献９に詳細に記載されている。
【００４２】図３は、３００ｎｍから１３００ｎｍまで
変化するスペクトル範囲の波長λの関数としてのアルミ
ニウム層の屈折率の変化を示す。白丸は５０ｎｍより大
きい（対応する値が文献８に示されている）厚みを持つ
アルミニウム層に該当し、黒い四角はガラス基体のタイ
プＢＫ７上に形成された１０ｎｍ厚のアルミニウム層に
該当し、白い四角は、ガラス製の基体ＢＫ７上にそれ自
身が形成された１００ｎｍ厚のアルミナ層上に形成され
た１０ｎｍ厚のアルミニウム層に該当する。
変化するスペクトル範囲の波長λの関数としてのアルミ
ニウム層の屈折率の変化を示す。白丸は５０ｎｍより大
きい（対応する値が文献８に示されている）厚みを持つ
アルミニウム層に該当し、黒い四角はガラス基体のタイ
プＢＫ７上に形成された１０ｎｍ厚のアルミニウム層に
該当し、白い四角は、ガラス製の基体ＢＫ７上にそれ自
身が形成された１００ｎｍ厚のアルミナ層上に形成され
た１０ｎｍ厚のアルミニウム層に該当する。
【００４３】図４は、同じスペクトル範囲（３００ｎｍ
から１３００ｎｍ）の波長λの関数としてガラス層タイ
プＢＫ７上に付着せしめられたアルミニウム層の吸光係
数ｋの変化を示している。白丸は５０ｎｍより大きい厚
みｔを持つアルミニウム層に該当し（文献８）、白い四
角は２７ｎｍ厚のアルミニウム層に該当し、白い三角は
光学的に不連続と思われる７．５ｎｍ厚のアルミニウム
層に該当する。
から１３００ｎｍ）の波長λの関数としてガラス層タイ
プＢＫ７上に付着せしめられたアルミニウム層の吸光係
数ｋの変化を示している。白丸は５０ｎｍより大きい厚
みｔを持つアルミニウム層に該当し（文献８）、白い四
角は２７ｎｍ厚のアルミニウム層に該当し、白い三角は
光学的に不連続と思われる７．５ｎｍ厚のアルミニウム
層に該当する。
【００４４】バルクのアルミニウム（あるいは厚いアル
ミニウム層）と比較して屈折率及び吸光係数の間の大な
る差異は考慮下の全スペクトル範囲に対して一致してい
る。
ミニウム層）と比較して屈折率及び吸光係数の間の大な
る差異は考慮下の全スペクトル範囲に対して一致してい
る。
【００４５】図５は本発明に係る被覆部の部分的な概略
断面図である。図５の被覆部は、数十ナノメーターオー
ダーの厚みの厚い金属層４と、二三十ナノメーターオー
ダーの厚みのアルミナ層６と、１５ｎｍ以下の厚みの光
学的に不連続な薄いアルミニウム吸収体層８と、誘電体
層１０とを順に基体２上に含んでなるものである。この
例では、光Ｉは誘電体層１０を通って被覆部内に侵入す
る。被覆部の吸光性のために、反射光Ｒの量は非常に少
ない。
断面図である。図５の被覆部は、数十ナノメーターオー
ダーの厚みの厚い金属層４と、二三十ナノメーターオー
ダーの厚みのアルミナ層６と、１５ｎｍ以下の厚みの光
学的に不連続な薄いアルミニウム吸収体層８と、誘電体
層１０とを順に基体２上に含んでなるものである。この
例では、光Ｉは誘電体層１０を通って被覆部内に侵入す
る。被覆部の吸光性のために、反射光Ｒの量は非常に少
ない。
【００４６】吸光被覆部のスペクトル応答は誘電体層１
０とアルミナ層の厚みを選択することにより調節でき
る。例えば、４５０ｎｍから９５０ｎｍのスペクトル範
囲内で完全に不透光で反射しない図５の被覆を、タイプ
ＢＫ７のガラス製基体２上に行なうことができ、アルミ
ニウム層４とアルミナ層１０が選択され、層４、６、８
及び１０の厚みは、それぞれ５０ｎｍ、６４ｎｍ、８ｎ
ｍ及び７０ｎｍである。
０とアルミナ層の厚みを選択することにより調節でき
る。例えば、４５０ｎｍから９５０ｎｍのスペクトル範
囲内で完全に不透光で反射しない図５の被覆を、タイプ
ＢＫ７のガラス製基体２上に行なうことができ、アルミ
ニウム層４とアルミナ層１０が選択され、層４、６、８
及び１０の厚みは、それぞれ５０ｎｍ、６４ｎｍ、８ｎ
ｍ及び７０ｎｍである。
【００４７】これにより、９８％以上のスペクトル範囲
の吸光度を持ち、２％以下の反射係数を持つ被覆部が得
られる。８ｎｍ厚の層８がバルクのアルミニウムの光学
的定数を持つと仮定したことを除いて、この被覆部と同
一の被覆部の吸光度を、この種の被覆部の効果を実証す
るために計算した。
の吸光度を持ち、２％以下の反射係数を持つ被覆部が得
られる。８ｎｍ厚の層８がバルクのアルミニウムの光学
的定数を持つと仮定したことを除いて、この被覆部と同
一の被覆部の吸光度を、この種の被覆部の効果を実証す
るために計算した。
【００４８】これらの条件下で、層８の光学的不連続性
は、平均で５５％、吸光度を増大させ得ることが見出さ
れた。図５の本発明に係る被覆部の積分光学拡散値が測
定され、得られた値は波長６３３ｎｍで０．９７％であ
った。比較すると、黒色の吸収体ペイントが５％の典型
的なレベルで光を拡散する。
は、平均で５５％、吸光度を増大させ得ることが見出さ
れた。図５の本発明に係る被覆部の積分光学拡散値が測
定され、得られた値は波長６３３ｎｍで０．９７％であ
った。比較すると、黒色の吸収体ペイントが５％の典型
的なレベルで光を拡散する。
【００４９】本発明に係る他のより吸収性の被覆部が図
６に模式的に示されており、この被覆部と図５に示した
被覆部の間の唯一の差異は、層８と層１０の間に例えば
６４ｎｍ厚のまた他のアルミナ層７が層８上に形成され
ており、例えば８ｎｍ厚の光学的に不連続なアルミニウ
ムの薄層９が層７上に形成され、ついで層１０が層９上
に形成されていることである。
６に模式的に示されており、この被覆部と図５に示した
被覆部の間の唯一の差異は、層８と層１０の間に例えば
６４ｎｍ厚のまた他のアルミナ層７が層８上に形成され
ており、例えば８ｎｍ厚の光学的に不連続なアルミニウ
ムの薄層９が層７上に形成され、ついで層１０が層９上
に形成されていることである。
【００５０】アルミニウム層４は、例えば７０ｎｍ厚の
クロムの不透光層に置き換えることができる。これらの
条件下で、図５の構造の吸光度は、４５０ｎｍと９５０
ｎｍの間の全スペクトル範囲にわたって少なくとも９
８．７％に等しくすることができ、被覆部の反射応答
は、入射角が４０度未満のままであれば、入射角に対し
て特に感度が高くはないことも見出された。
クロムの不透光層に置き換えることができる。これらの
条件下で、図５の構造の吸光度は、４５０ｎｍと９５０
ｎｍの間の全スペクトル範囲にわたって少なくとも９
８．７％に等しくすることができ、被覆部の反射応答
は、入射角が４０度未満のままであれば、入射角に対し
て特に感度が高くはないことも見出された。
【００５１】ある応用では、寄生反射を制限するには金
属バッフルが処理されることが必要である。これらのバ
ッフルは、例えばステンレス鋼又はアルミニウムからな
り、本発明に係る被覆部により効果的に処理することが
できる。
属バッフルが処理されることが必要である。これらのバ
ッフルは、例えばステンレス鋼又はアルミニウムからな
り、本発明に係る被覆部により効果的に処理することが
できる。
【００５２】この被覆部は図７の断面図に模式的に示さ
れており、そこではバッフルは参照番号１２で示されて
いる。図５の説明において記載されている３つの層６、
８、１０の積層体はこのバッフル１２上に形成される。
れており、そこではバッフルは参照番号１２で示されて
いる。図５の説明において記載されている３つの層６、
８、１０の積層体はこのバッフル１２上に形成される。
【００５３】この積層体に対して上記した厚みでは、１
４２ｎｍの厚みの極めて薄い層が得られ、これが拡散に
よる光学的損失を制限し、金属バッフルの板の非常に固
着性の処理をもたらすが、これは厚い黒色ペイントタイ
プの処理では起こらない。
４２ｎｍの厚みの極めて薄い層が得られ、これが拡散に
よる光学的損失を制限し、金属バッフルの板の非常に固
着性の処理をもたらすが、これは厚い黒色ペイントタイ
プの処理では起こらない。
【００５４】本発明に係る他の被覆部は図８に断面図と
して模式的に示されている。図８のこの被覆部はサファ
イア基体１４上に形成されており、この基体１４から始
まって、順にＴｉＯ２層１６、アルミナ層１８、薄い光
学的不連続アルミニウム層２０、アルミナ層２２、そし
て更に図５に記載されたアルミニウム層４、アルミナ層
６、光学的に不連続なアルミニウム層８及びアルミナ層
１０を含む。図８の例では、層１６、１８、２０、２
２、４、６、８及び１０の厚みは、それぞれ２６ｎｍ、
２０ｎｍ、８ｎｍ、８３ｎｍ、５０ｎｍ、６４ｎｍ、８
ｎｍ及び７０ｎｍに等しい。
して模式的に示されている。図８のこの被覆部はサファ
イア基体１４上に形成されており、この基体１４から始
まって、順にＴｉＯ２層１６、アルミナ層１８、薄い光
学的不連続アルミニウム層２０、アルミナ層２２、そし
て更に図５に記載されたアルミニウム層４、アルミナ層
６、光学的に不連続なアルミニウム層８及びアルミナ層
１０を含む。図８の例では、層１６、１８、２０、２
２、４、６、８及び１０の厚みは、それぞれ２６ｎｍ、
２０ｎｍ、８ｎｍ、８３ｎｍ、５０ｎｍ、６４ｎｍ、８
ｎｍ及び７０ｎｍに等しい。
【００５５】図８に示される該吸収体の第２の部分（空
気側の層４から１０）は図５の例の吸収体と同一であ
り、よって空気側の光学的応答は同じである。サファイ
ア側では、サファイアにおける反射係数が４５０ｎｍと
９５０ｎｍの間では３．５％を越えない。図８の吸収体
の厚みは少なく、３３８ｎｍに等しく、この二重吸収体
は、この薄い厚みと用いられる材料における限られた機
械応力のために彫り込まれてもよい。
気側の層４から１０）は図５の例の吸収体と同一であ
り、よって空気側の光学的応答は同じである。サファイ
ア側では、サファイアにおける反射係数が４５０ｎｍと
９５０ｎｍの間では３．５％を越えない。図８の吸収体
の厚みは少なく、３３８ｎｍに等しく、この二重吸収体
は、この薄い厚みと用いられる材料における限られた機
械応力のために彫り込まれてもよい。
【００５６】本発明により、次のものが得られる： − なお非常に吸収性のある、非常に薄い多層被覆部
（０．２５μｍ未満の厚み）、 − 可視光線範囲から近赤外線範囲まで変化する非常に
広いスペクトル範囲、特に４５０ｎｍから９５０ｎｍの
スペクトル範囲にわたる（９５％を越える吸収損失を持
つ）完全に不透光な被覆部で、その光学的性能が入射角
に対してあまり感度がない、 − 光学的性能とスペクトル範囲の幅がその層の積層方
法を変更することにより調節される吸収体被覆部、 − 僅かに拡散が残る非常に吸収性の被覆（拡散係数は
可視範囲で１％未満）、及び − アルミニウム及びアルミナのような僅かに応力を受
けた金属及び誘電性材料の使用のためにプラズマ又は
「リフトオフ」法により彫り込むことができる非常に吸
収性の被覆部。
（０．２５μｍ未満の厚み）、 − 可視光線範囲から近赤外線範囲まで変化する非常に
広いスペクトル範囲、特に４５０ｎｍから９５０ｎｍの
スペクトル範囲にわたる（９５％を越える吸収損失を持
つ）完全に不透光な被覆部で、その光学的性能が入射角
に対してあまり感度がない、 − 光学的性能とスペクトル範囲の幅がその層の積層方
法を変更することにより調節される吸収体被覆部、 − 僅かに拡散が残る非常に吸収性の被覆（拡散係数は
可視範囲で１％未満）、及び − アルミニウム及びアルミナのような僅かに応力を受
けた金属及び誘電性材料の使用のためにプラズマ又は
「リフトオフ」法により彫り込むことができる非常に吸
収性の被覆部。
【００５７】次の文献が本明細書において言及されてい
る。 １． 欧州特許出願第８８３０００４８号，COUNCIL SC
IE IND RES (１９８９) ２． 日本特許第５４１３３１３４号，CANON KK (１９
７９) ３． R.E. Laird, J.D. Wolfe, C.K. Carniglia, Proc
eedings of Optical Interference Coatings Conferenc
e, Tucson, １９９５年６月，３６４頁 ４． フランス特許第２６４７２５９号，THOMSON TUBE
S ELTRN (１９８９) ５． 英国特許第２２４０２０４号，SAMSUNG ELECTRON
ICS CO (１９９１) ６． 欧州特許出願公開第０７１６３３４号，AT&T Cor
p.(１９９６) ７． H.K. Pulker,「Coatings on glass」, Thin Film
s Science and Technology, ELSEVIER (１９８４) ８． E.D. PALIK, Handbook of Optical Constants of
Solids, Academic Press (１９８５) ９． W.P. Chen, J.M. Chen: Use of surface plasma
waves for determination of the thickness and optic
al constants of thin metallic films, Opt. Soc. of
America, 第７１巻、第２号、１９８１年２月
る。 １． 欧州特許出願第８８３０００４８号，COUNCIL SC
IE IND RES (１９８９) ２． 日本特許第５４１３３１３４号，CANON KK (１９
７９) ３． R.E. Laird, J.D. Wolfe, C.K. Carniglia, Proc
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ICS CO (１９９１) ６． 欧州特許出願公開第０７１６３３４号，AT&T Cor
p.(１９９６) ７． H.K. Pulker,「Coatings on glass」, Thin Film
s Science and Technology, ELSEVIER (１９８４) ８． E.D. PALIK, Handbook of Optical Constants of
Solids, Academic Press (１９８５) ９． W.P. Chen, J.M. Chen: Use of surface plasma
waves for determination of the thickness and optic
al constants of thin metallic films, Opt. Soc. of
America, 第７１巻、第２号、１９８１年２月
【図１】光学的に不連続な金属層と光学的に連続な同じ
金属の層に対しての、所定の波長での厚みの関数として
表した屈折率の値を示す。
金属の層に対しての、所定の波長での厚みの関数として
表した屈折率の値を示す。
【図２】光学的に不連続な金属層と光学的に連続な同じ
金属の層に対しての、所定の波長での厚みの関数として
表した吸光係数の値を示す。
金属の層に対しての、所定の波長での厚みの関数として
表した吸光係数の値を示す。
【図３】所定の金属の厚みでの波長の関数として表した
屈折率の値を示す。
屈折率の値を示す。
【図４】所定の金属の厚みでの波長の関数として表した
吸光係数の値を示す。
吸光係数の値を示す。
【図５】本発明に係る吸収体被覆部の一部を示す概略断
面図である。
面図である。
【図６】本発明に係る吸収体被覆部の一部を示す概略断
面図である。
面図である。
【図７】本発明に係る吸収体被覆部の一部を示す概略断
面図である。
面図である。
【図８】本発明に係る吸収体被覆部の一部を示す概略断
面図である。
面図である。
２，１２，１４ 基体 ７，１０，２２ 誘電体層 ８，９，２０ 金属薄層
Claims (10)
- 【請求項１】 基体（２，１２，１４）上に形成され、
可視光線ないし近赤外線の所定のスペクトル範囲の光を
吸収する被覆部において、 − 上記所定のスペクトル範囲において吸収性を持つ少
なくとも一の金属薄層（８，９，２０）と、 − 上記所定のスペクトル範囲において透過性を有し、
上記金属薄層上に形成された少なくとも一の誘電体層
（７，１０，２２）とを具備し、 上記金属薄層が、上記所定のスペクトル範囲において、
光学的に不連続、つまりその屈折率がバルク状態の金属
の屈折率より大きく、その吸光係数がバルク状態の金属
の吸光係数よりも小さいことを特徴とする被覆部。 - 【請求項２】 少なくとも２層の光学的に不連続な金属
薄層（８，９）を具備し、上記誘電体層（１０）が基体
（２）から最も離れた金属薄層上に形成されている、請
求項１に記載の被覆部。 - 【請求項３】 基体（２）と該基体に最も近い金属薄層
（８）の間に光学的に連続な厚い金属層（４）を更に具
備する、請求項１に記載の被覆部。 - 【請求項４】 基体（１４）から順に第１の誘電体層
（１６）、第１の光学的に不連続な金属薄層（２０）、
第２の誘電体層（２２）、光学的に連続な厚い金属層
（４）、第２の光学的に不連続な金属薄層（８）及び第
３の誘電体層（１０）を具備する、請求項１に記載の被
覆部。 - 【請求項５】 光学的に連続な厚い金属層（４）は所定
のスペクトル範囲で透過性の酸化物ＭｘＯｙを持つ金属
Ｍである、請求項３に記載の被覆部。 - 【請求項６】 光学的に連続な厚い金属層（４）におけ
る金属は、チタン、ハフニウム、クロム、ニオブ及びア
ルミニウムからなる群から選択される、請求項５に記載
の被覆部。 - 【請求項７】 各誘電体層（１０，１６，２２）は考慮
下のスペクトル範囲で誘電性と透過性を有する酸化物層
とフッ化物層から選択される、請求項１に記載の被覆
部。 - 【請求項８】 光学的に不連続な各金属薄層は約１５ｎ
ｍ以下の厚みのアルミニウム層（８，９，２０）であ
り、被覆部は光学的に不連続な該層が上に形成されてい
るアルミナ層（６，７，１８）を更に含む、請求項１に
記載の被覆部。 - 【請求項９】 光学的に連続な厚い金属層における金属
（４）は、所定のスペクトル範囲で透過性の金属酸化物
ＭｘＯｙを含む金属Ｍである、請求項４に記載の被覆
部。 - 【請求項１０】 光学的に連続な厚い金属層（４）にお
ける金属は、チタン、ハフニウム、クロム、ニオブ及び
アルミニウムからなる群から選択される、請求項９に記
載の被覆部。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9715482 | 1997-12-08 | ||
| FR9715482A FR2772141B1 (fr) | 1997-12-08 | 1997-12-08 | Revetement absorbeur de lumiere a haut pouvoir absorbant |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11231128A true JPH11231128A (ja) | 1999-08-27 |
Family
ID=9514300
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10341980A Pending JPH11231128A (ja) | 1997-12-08 | 1998-12-01 | 高吸収性を有する光吸収被覆部 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6335142B1 (ja) |
| EP (1) | EP0921419A1 (ja) |
| JP (1) | JPH11231128A (ja) |
| FR (1) | FR2772141B1 (ja) |
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| KR20160135126A (ko) * | 2015-05-08 | 2016-11-25 | 울산과학기술원 | 박막형 적외선 흡수체 제조방법 |
| JP2018517938A (ja) * | 2015-06-03 | 2018-07-05 | サン−ゴバン パフォーマンス プラスティックス コーポレイション | ソーラーコントロールフィルム |
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| AT410732B (de) * | 1999-07-07 | 2003-07-25 | Femtolasers Produktions Gmbh | Dispersiver mehrschichtiger spiegel |
| GB2352050A (en) * | 1999-07-13 | 2001-01-17 | Coherent Optics | Interference filters |
| FR2806479A1 (fr) * | 2000-07-03 | 2001-09-21 | Commissariat Energie Atomique | Procede et dispositif de detection de couches minces |
| US6858287B2 (en) * | 2001-08-10 | 2005-02-22 | Soliant Llc | Formable bright film having discontinuous metallic layers |
| US7059335B2 (en) * | 2002-01-31 | 2006-06-13 | Novartis Ag | Process for treating moulds or mould halves for the production of ophthalmic lenses |
| US7063893B2 (en) | 2002-04-29 | 2006-06-20 | Cardinal Cg Company | Low-emissivity coating having low solar reflectance |
| US7122252B2 (en) * | 2002-05-16 | 2006-10-17 | Cardinal Cg Company | High shading performance coatings |
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| DE60201527T2 (de) | 2002-07-05 | 2006-02-02 | Agilent Technologies, Inc., Palo Alto | Wärmekompensierte optische Vorrichtung |
| AU2003268049A1 (en) | 2002-07-31 | 2004-02-16 | Cardinal Cg Compagny | Temperable high shading performance coatings |
| TWI329208B (en) * | 2003-06-03 | 2010-08-21 | Oerlikon Trading Ag | Optical substrate for enhanced detectability of fluorescence |
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| RU2626838C2 (ru) * | 2015-09-18 | 2017-08-02 | АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО "ГОСУДАРСТВЕННЫЙ ОПТИЧЕСКИЙ ИНСТИТУТ ИМЕНИ С.И. ВАВИЛОВА" (АО "ГОИ им. С.И. Вавилова) | Светопоглощающее покрытие |
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| CN113050205B (zh) * | 2019-12-27 | 2021-09-21 | 比亚迪股份有限公司 | 黑色材料及其制备方法和应用 |
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1997
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-
1998
- 1998-11-16 US US09/192,368 patent/US6335142B1/en not_active Expired - Fee Related
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- 1998-12-03 EP EP98403031A patent/EP0921419A1/fr not_active Withdrawn
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| US6335142B1 (en) | 2002-01-01 |
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